KR101223877B1 - Ultra Slim Panel Manufacturing System - Google Patents
Ultra Slim Panel Manufacturing System Download PDFInfo
- Publication number
- KR101223877B1 KR101223877B1 KR1020110022302A KR20110022302A KR101223877B1 KR 101223877 B1 KR101223877 B1 KR 101223877B1 KR 1020110022302 A KR1020110022302 A KR 1020110022302A KR 20110022302 A KR20110022302 A KR 20110022302A KR 101223877 B1 KR101223877 B1 KR 101223877B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- display panel
- etching
- thickness
- panel
- ultra
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
본 발명은 디스플레이 패널과 같은 패널을 초박판으로 에칭하는 기술에 관한 것으로, 대면적의 패널의 표면 조도, 두께 균일도와 투명성을 양호하게 하면서도 생산성 있게 하고자 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 디스플레이 패널을 알칼리 용액에 초기세정하고, 다운플로우 식으로 에칭 속도를 21μm/분을 상한으로 하여 표면 조도를 양호하게 에칭하며, 최종세정하고 난 다음, 표면을 비젼으로 검사하고, 비접촉식으로 두께를 검사하며, 취약성 보강을 위해 보호필름을 부착하여, 이후 공정을 실시하게 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for etching a panel such as a display panel with an ultra-thin plate, and is intended to improve productivity and to improve surface roughness, thickness uniformity and transparency of a large area panel.
According to the present invention, the display panel is initially washed with an alkaline solution, the surface roughness is well etched with an etching rate of 21 μm / min as an upper limit by a downflow method, and after the final cleaning, the surface is visually inspected, It provides a method of manufacturing ultra-thin panels to check the thickness in a non-contact manner, to attach a protective film for reinforcing fragility, and to carry out the subsequent process.
Description
본 발명은 디스플레이 패널과 같은 패널을 초박판으로 에칭(슬리밍)하는 기술에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 유리기판 위에 발광소자를 형성하고 봉지유리기판으로 봉지공정을 마친 디스플레이 패널의 두께를 줄여 초박판으로 에칭하는 기술에 관한 것이다. The present invention relates to a technique for etching (sliming) a panel such as a display panel with an ultra-thin plate, and more particularly, to form a light emitting device on a glass substrate and to reduce the thickness of the display panel that has been encapsulated with an encapsulating glass substrate. It is related with the technique of etching by thin plate.
디스플레이 패널의 전체 두께를 좀 더 얇게 하여 경박단소화하는 슬리밍 가공은 주로 유리기판으로 구성된 패널을 에칭 용액으로 에칭하여 이루어지고 있다. 초박형 디스플레이 패널의 에칭 방식은 액침(dip) 방식, 스프레이 방식 및 다운플로우(down flow) 방식이 있으며, 대면적 패널을 초박형으로 하기 위해서는 불량률이 적고 양산성이 좋은 다운플로우 방식이 유리하게 적용되고 있다. The slimming process of thinning and thinning the overall thickness of the display panel is made by etching a panel mainly composed of glass substrates with an etching solution. The etching method of the ultra-thin display panel includes a dip method, a spray method, and a downflow method, and in order to make the large area panel ultra-thin, a downflow method having a low defect rate and good productivity is advantageously applied. .
그러나 점점 더 대면적화되고 있는 패널의 크기와 이러한 대면적 패널을 전체적으로 균일한 표면으로 투명성을 유지하도록 슬리밍 하는 공정은 좀 더 세밀한 에칭 조건을 구성할 필요가 있고, 대면적을 초박형으로 가공하는 공정에서 취약성으로 인한 스크래치 발생이나 파손의 위험을 줄일 수 있는 조치 또한 요구된다. However, the size of panels that are becoming increasingly large and the process of slimming these large-area panels to maintain transparency on an overall uniform surface need to configure more detailed etching conditions, and in the process of making ultra-sized large areas Measures are also required to reduce the risk of scratching or breaking due to vulnerabilities.
따라서 본 발명의 목적은 대면적 디스플레이 패널의 초박판화하는 데 있어서, 패널 전면에 대해 표면 균일도, 두께 균일도, 투명성을 확보하고, 취약성을 보강할 수 있는 초박판 패널 제조 시스템을 제공하고자 하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to provide an ultra-thin panel manufacturing system capable of securing surface uniformity, thickness uniformity, and transparency and reinforcing fragility in the ultra-thin display panel of a large area.
본 발명은, 디스플레이 패널을 알칼리 용액에 초기세정하는 단계;The present invention comprises the steps of initial washing the display panel in an alkaline solution;
상기 초기세정을 마친 디스플레이 패널을 수직으로 놓고 F+이온을 함유한 에칭 용액을 상기 디스플레이 패널의 위에서 아래로 흘려 두께를 얇게 에칭하는 단계;Placing the display panel after the initial cleaning in a vertical position and flowing an etching solution containing F + ions from the top to the bottom of the display panel to etch thinly;
상기 에칭을 마친 디스플레이 패널을 최종세정하는 단계;Final cleaning the etched display panel;
상기 최종세정을 마친 디스플레이 패널의 표면을 검사하는 단계;Inspecting a surface of the display panel after the final cleaning;
상기 표면 검사를 마친 디스플레이 패널의 두께를 측정하는 단계; 및Measuring a thickness of the surface inspected display panel; And
상기 두께 측정을 마친 디스플레이 패널에 보호필름을 부착하는 단계;를 포함하고,Attaching a protective film to the display panel after the thickness measurement;
상기 에칭하는 단계는, 디스플레이 패널의 두께 에칭 속도를 21μm/분을 상한으로 하여 표면 조도를 제어하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. The etching may provide an ultra-thin panel manufacturing method comprising controlling the surface roughness with a thickness etching rate of the display panel as an upper limit of 21 μm / minute.
또한, 본 발명은, 초박판 패널 제조 방법에 있어서, 상기 초기세정하는 단계 이후, 상기 디스플레이 패널의 한 면에 마스크 필름을 부착하여 상기 에칭 단계에서 디스플레이 패널의 단면만 에칭되게 단면 에칭하고, 에칭 단계 이후 및 최종세정 단계 이전에, 상기 마스크 필름을 물에 불려 박리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. In addition, the present invention, in the ultra-thin panel manufacturing method, after the initial cleaning step, by attaching a mask film on one side of the display panel to etch the end surface so that only the end surface of the display panel in the etching step, etching step Since and before the final cleaning step, it is possible to provide an ultra-thin panel manufacturing method characterized in that it further comprises the step of peeling the mask film in water.
또한, 본 발명은, 초박판 패널 제조 방법에 있어서, 상기 단면 에칭에서, 상기 마스크 필름이 한 면에 부착된 디스플레이 패널 두 개를 상기 마스크 필름이 부착된 면 끼리 서로 접합시켜 두 개의 디스플레이 패널을 함께 단면 에칭하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. In addition, the present invention, in the ultra-thin panel manufacturing method, in the single-sided etching, the two display panels are bonded together by bonding the two display panels with the mask film attached to one side with each other. It is possible to provide an ultra-thin panel manufacturing method characterized by performing a single-sided etching.
또한, 본 발명은, 초박판 패널 제조 방법에 있어서, 상기 최종세정하는 단계는, 디스플레이 패널을 증류수로 스프레이 세정하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. In addition, the present invention, in the ultra-thin panel manufacturing method, the final cleaning step may provide an ultra-thin panel manufacturing method characterized in that it comprises spray cleaning the display panel with distilled water.
또한, 본 발명은, 초박판 패널 제조 방법에 있어서, 상기 디스플레이 패널의 표면을 검사하는 단계는, 비젼(vision)을 사용하여 스크래치 여부를 검사하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. In addition, the present invention, in the ultra-thin panel manufacturing method, the step of inspecting the surface of the display panel, the ultra-thin panel manufacturing method, characterized in that it comprises checking the scratch using a vision (vision) Can provide.
또한, 본 발명은, 초박판 패널 제조 방법에 있어서, 상기 디스플레이 패널의 두께를 측정하는 단계는 레이저 빔을 이용한 자동두께측정장치에 의해 디스플레이 패널의 두께를 비접촉식으로 측정하며 상기 디스플레이 패널을 스테이지에 진공척으로 밀착시켜 측정하는 것을 포함하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. In addition, the present invention, in the ultra-thin panel manufacturing method, the step of measuring the thickness of the display panel is a non-contact measurement of the thickness of the display panel by an automatic thickness measuring device using a laser beam and vacuuming the display panel on the stage It is possible to provide an ultra-thin panel manufacturing method comprising measuring by being in close contact with a chuck.
또한, 본 발명은, 초박판 패널 제조 방법에 있어서, 상기 디스플레이 패널에 보호필름을 부착하는 단계는 점착제가 도포 된 3 내지 30 μm 두께의 투명 수지 필름을 디스플레이 패널의 한 면 또는 양면에 부착하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법을 제공할 수 있다. In addition, the present invention, in the ultra-thin panel manufacturing method, the step of attaching the protective film to the display panel is to attach a transparent resin film of 3 to 30 μm thickness of the adhesive is applied to one side or both sides of the display panel. It can provide an ultra-thin panel manufacturing method comprising a.
본 발명에 따르면, 에칭 속도를 조절하여 대면적 디스플레이 패널을 전 면적에 걸쳐 균일한 조도로 초박형화 할 수 있으며, 에칭 이후에도 유리기판으로 이루어진 패널의 투명도를 그대로 유지할 수 있다. According to the present invention, by controlling the etching rate, the large-area display panel can be made extremely thin with uniform illuminance over the entire area, and the transparency of the panel made of the glass substrate can be maintained even after etching.
또한, 본 발명에 따르면, 마스크 필름을 이용하여, 단면 에칭을 두 개의 디스플레이 패널을 한꺼번에 간편히 실행하므로 양산성이 좋다. In addition, according to the present invention, since a single sided etching is easily performed at a time by using a mask film, mass productivity is good.
또한, 본 발명에 따르면, 에칭된 디스플레이 패널의 표면에 스크래치 등의 불량 발생 여부를 비젼으로 검사하고, 디스플레이 패널의 두께를 비접촉식으로 측정하므로 초박형화 된 디스플레이 패널의 파손 염려 없이 품질 검사를 완료할 수 있다. In addition, according to the present invention, by inspecting the surface of the etched display panel defects such as scratches by vision and by measuring the thickness of the display panel non-contact, the quality inspection can be completed without fear of damage to the ultra-thin display panel. have.
또한, 본 발명에 따르면, 에칭된 디스플레이 패널의 한 면 또는 양면에 보호필름을 부착하므로 초박형 패널의 취약성을 보완할 수 있다. Further, according to the present invention, since the protective film is attached to one side or both sides of the etched display panel, it is possible to compensate for the vulnerability of the ultra-thin panel.
도 1은 본 발명의 일실시예를 나타내는 순서도 이다.
도 2는 본 발명의 또 다른 실시예를 나타내는 순서도 이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 다운플로우 방식의 에칭 공정을 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따라 디스플레이 패널의 두께를 비접촉식으로 측정하는 자동두께측정장치의 단면구조도 이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 디스플레이 패널에 보호필름을 부착한 것을 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따라 디스플레이 패널에 마스크 필름을 부착하고 2개의 패널을 함께 에칭하는 것을 나타내는 단면도이다. 1 is a flow chart showing an embodiment of the present invention.
2 is a flow chart showing another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating a downflow etching process according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional structure diagram of an automatic thickness measuring apparatus for measuring the thickness of the display panel in a non-contact manner according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view showing a protective film attached to the display panel according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating attaching a mask film to a display panel and etching the two panels together in accordance with an embodiment of the invention.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
먼저, 디스플레이 패널을 알칼리 용액으로 초기세정한다. 초기세정은 pH 12 내지 13, 50 ℃ 내외의 알칼리 용액에 수 분간 액침하며, 2개의 용액조를 준비하여 상기 액침을 2회 실시한다. 디스플레이 패널을 지그에 로딩하고 알칼리 용액에 2회 액침 한 후, 증류수(DI water)를 이용하여 분사 압력 0.4±0.1kgf/cm2로 스프레이 세정한다. 이와 같은 초기세정은 디스플레이 패널에 잔류하는 이물질을 제거하여 이후 진행될 에칭 공정에서 패널의 균일한 에칭 및 표면의 조도 향상에 기여한다. First, the display panel is initially washed with an alkaline solution. Initial cleaning is immersed in an alkaline solution at pH 12 to 13 and 50 ° C. for several minutes, and two solution baths are prepared to perform the immersion twice. The display panel was loaded into a jig and immersed twice in an alkaline solution, and then sprayed with distilled water (DI water) at a spray pressure of 0.4 ± 0.1 kgf / cm 2 . Spray clean. This initial cleaning removes foreign substances remaining in the display panel, thereby contributing to uniform etching of the panel and improvement of surface roughness in a subsequent etching process.
초기세정을 마친 다음, 디스플레이 패널은 도 3과 같이 에칭 용액을 패널의 위에서 아래로 흘려 전면적을 균일하게 슬리밍하는 다운플로우 방식으로 에칭된다. After the initial cleaning, the display panel is etched in a downflow manner in which the etching solution flows downward from the top of the panel to uniformly slim the entire area as shown in FIG. 3.
에칭 용액은 불산(HF)과 같이 F+을 포함한 강산 용액을 사용하며, 용액의 농도를 진하게 하면 에칭 속도가 빨라져 생산성이 좋아지나 패널 표면의 조도가 나빠지고 얼룩이 발생하는 문제가 있다. 에칭 속도가 늦어지면 반대로 표면 조도는 향상되나 생산성이 나빠진다. 따라서 디스플레이 패널의 투명도를 해하지 않는 한도 내에서 최대한의 에칭 속도로 에칭하는 것이 유리하다. 본 발명의 경우, 에칭 속도를 10 내지 21μm/분 이하, 바람직하게는 16μm/분 이하로 설정하여 에칭하도록 하였으며, 이와 같은 에칭 속도하에서 에칭된 패널 표면은 조도가 양호하였다. The etching solution contains F + , such as hydrofluoric acid (HF). If a strong acid solution is used and the concentration of the solution is increased, the etching rate is increased to improve productivity, but the roughness of the panel surface is deteriorated and staining occurs. A slower etch rate, in turn, improves surface roughness but worsens productivity. Therefore, it is advantageous to etch at the maximum etching rate without limiting the transparency of the display panel. In the case of the present invention, the etching rate was set to 10 to 21 μm / minute or less, preferably 16 μm / minute or less, and the panel surface etched under such an etching rate had good roughness.
다음, 강산 용액이 잔류하는 디스플레이 패널을 에칭장비에서 에칭 용액이 아닌 증류수를 흘려 강산 용액을 씻어낸 다음, 최종세정한다. Next, the display panel in which the strong acid solution remains is rinsed with distilled water, not the etching solution, from the etching equipment to wash the strong acid solution, and then finally clean the display panel.
상기 디스플레이 패널을 증류수에 10분 이내로 1차 침적하고, 다시 새로운 증류수에 10분 이내로 2차 침적하여 강산용액의 성분을 희석한다.The display panel is first immersed in distilled water within 10 minutes, and then secondly immersed in fresh distilled water within 10 minutes to dilute the component of the strong acid solution.
다음, 디스플레이 패널을 컨베이어에 실어 수평 이송하면서 노즐에 의해 증류수를 스프레이식으로 디스플레이 패널을 전체적으로 세정한다. 증류수의 온도는 45±5℃ 이고, 세정시간은 10분 정도로 하며, 노즐의 분사 압력은 1.5 ± 0.5 kgf/cm2으로 하고, 유리기판의 이송속도는 1.5 내지 2.5 m/min., 바람직하게는 2.0 m/min. 로 하고, 건조구간의 압력은 3 내지 5Kpa, 바람직하게는 4KPa로 한다.Next, the display panel is mounted on a conveyor, and the display panel is thoroughly cleaned by spraying distilled water by a nozzle while horizontally conveying the display panel. The temperature of the distilled water is 45 ± 5 ℃, the cleaning time is about 10 minutes, the injection pressure of the nozzle is 1.5 ± 0.5 kgf / cm 2 , the feed rate of the glass substrate is 1.5 to 2.5 m / min., Preferably 2.0 m / min. The pressure of the drying section is set to 3 to 5 Kpa, preferably 4 KPa.
디스플레이 패널은 에칭 전 1.0 내지 1.4 mm 두께를 가지나 에칭 후 0.4 내지 0.8 mm를 가지며, 에칭 후 디스플레이 패널의 표면에 스크래치 등이 있는지를 검사할 필요가 있다. 디스플레이 패널에 스크래치가 있으면 불량으로 처리하여야 하며, 이는 이후 모듈 공정 등에서 추가적인 문제를 일으키고 궁극적으로 제품 불량이 되어 많은 노력과 비용을 들인 제품을 폐기해야 하므로 사전에 색출될 필요가 있기 때문이다. The display panel has a thickness of 1.0 to 1.4 mm before etching but has a thickness of 0.4 to 0.8 mm after etching, and it is necessary to check whether there is a scratch or the like on the surface of the display panel after etching. If there is a scratch on the display panel, it must be treated as defective, because it needs to be extracted in advance because it causes additional problems in the module process and ultimately becomes a defective product, which requires a lot of effort and cost.
따라서 본 발명은 비젼(vision)을 통해 디스플레이 패널 표면 전체를 검사하여 스크래치 여부를 검사한다. Therefore, the present invention examines the entire surface of the display panel through vision to check for scratches.
스크래치가 발생하지 않았다 하더라도 디스플레이 패널의 두께가 전 면적에 걸쳐 균일하게 에칭되었는지를 확인할 필요가 있다. 두께가 본래 의도했던 수준이 아닌 경우, 재 에칭하거나 폐기될 필요가 있기 때문이다. Even if no scratch occurs, it is necessary to check whether the thickness of the display panel is uniformly etched over the entire area. If the thickness is not originally intended, it may need to be reetched or discarded.
따라서 본 발명은 에칭된 디스플레이 패널의 두께를 측정하여 허용 공차 ±15μm를 벗어나는 것을 색출한다.Accordingly, the present invention measures the thickness of the etched display panel to find out that it is outside the tolerance of ± 15 μm.
이미 초박판으로 에칭된 디스플레이 패널은 매우 취약하므로 일반적인 접촉식 측정기인 마이크로미터 등의 사용은 측정 공정에서 많은 파손율을 나타낼 수 있으므로 비접촉식 자동두께측정기로 두께를 측정한다. 본 발명자들에 의해 제안된 자동두께측정기는 도 4에 도시되어 있다. Display panels already etched with ultra-thin plates are very fragile, so the use of micrometers, such as general contact measuring devices, can show a large breakage rate in the measurement process, so the thickness is measured by a non-contact automatic thickness meter. The automatic thickness gauge proposed by the inventors is shown in FIG. 4.
대면적 초박판이라는 특성을 고려하여 디스플레이 패널을 스테이지에 밀착하되, 파손 위험이 적은 진공 척(vacuum chuck)을 이용한다(도 4의 상). 진공 펌프로 스테이지에 뚫어놓은 기공을 통해 디스플레이 패널을 흡착하고, 여러 지점에서 레이저 빔을 조사하여 디스플레이 패널의 두께 d를 측정한다. 직접적으로 측정되는 길이는 도 4에서 보듯이 레이저 빔 발생기로부터 디스플레이 패널의 표면까지의 거리인 a0 및 b0이나 미리 컴퓨터에 입력된 상하로 배치된 레이저 빔 발생기 간의 거리 D에서부터 측정된 a0 및 b0를 뺄셈하여 디스플레이 패널의 두께 d를 측정할 수 있다. 이러한 자동두께측정시스템은 레이저 빔 조사부와 컴퓨터를 연동하여 디스플레이 패널의 두께 d를 자동으로 계산하고 모니터에 결과치를 디스플레이하게 하여 편리하게 사용할 수 있다. The display panel is closely attached to the stage in consideration of a large area ultra thin plate, and a vacuum chuck having a low risk of breakage is used (Fig. 4). The display panel is adsorbed through pores drilled in the stage by a vacuum pump, and the thickness d of the display panel is measured by irradiating a laser beam at various points. The length measured directly is a 0 and b 0 , which are distances from the laser beam generator to the surface of the display panel as shown in FIG. 4, or a 0 and measured from the distance D between the laser beam generators arranged up and down previously input to the computer. The thickness d of the display panel may be measured by subtracting b 0 . This automatic thickness measurement system can be used conveniently by interlocking the laser beam irradiation unit and the computer to automatically calculate the thickness d of the display panel and display the result on the monitor.
상기와 같은 공정을 마친 초박판 디스플레이 패널은 이후 절단 가공 등을 거치게 되며, 이때 그 취약성으로 인해 파손율이 높다. 따라서 취약성 보완, 즉, 강도를 보강할 수 있는 조치로서 도 5와 같이 보호필름을 부착한다. 즉, 두께 3 내지 30 μm, 바람직하게는 5 내지 15 μm 의 수지 필름에 10 μm 전후로 점착제가 도포된 보호필름을 디스플레이 패널의 한 면 또는 양면에 부착하여 기존의 절단기로 절단되면서도 스크래치나 파손의 위험을 줄인다. 수지는 PET(polyethylene terephthalate), PE(polyethylene), PP(polypropylene), PO(polyolefine)중 어느 하나로 구성된 것이다. 상기 보호필름은 투명하기 때문에 부착된 상태로 제품으로 출하될 수 있다. After completing the above process, the ultra-thin display panel is subjected to a cutting process, etc. At this time, the breakage rate is high due to its vulnerability. Therefore, the protective film is attached as shown in Figure 5 as a measure to supplement the vulnerability, that is, to strengthen the strength. That is, a protective film coated with a pressure-sensitive adhesive around 10 μm on a resin film having a thickness of 3 to 30 μm, preferably 5 to 15 μm, may be attached to one or both sides of the display panel to be cut or damaged even with a conventional cutter. Reduce The resin is composed of any one of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), polypropylene (PP), and polyolefine (PO). Since the protective film is transparent, it can be shipped as a product attached.
이와 같은 초박판 패널 제조 시스템에 의해, 대면적 디스플레이 패널의 전면에 걸쳐 조도와 두께가 균일하고 스크래치 불량이 없으며, 취약성이 보완된 초박판 패널을 높은 생산성으로 제조할 수 있다.By such an ultra thin panel manufacturing system, it is possible to manufacture a super thin panel with high uniformity and thickness uniformly over the entire surface of the large-area display panel, free from scratches, and to compensate for fragility.
본 발명의 또 다른 실시예는 도 2에서 나타낸 디스플레이 패널의 단면 에칭에 대한 것이다. Yet another embodiment of the present invention is for the cross-sectional etching of the display panel shown in FIG.
즉, 경우에 따라서는 디스플레이 패널 중 한 면만을 에칭하기도 하는데, 이러한 경우, 나머지 한 면을 에칭되지 않게 하는 방안으로 여러 가지 보호층 형성방법이 있으나, 효과의 확실성과 제조단가 절감을 고려해 본 발명에서는 에칭을 요하지 않는 면에 마스크 필름을 부착한다. That is, in some cases, only one side of the display panel is etched. In this case, there are various methods of forming a protective layer as a method of preventing the other side from being etched. The mask film is attached to the surface which does not require etching.
마스크 필름의 재질은 PVC(polyvinyl chloride), PO(polyolefine), PE(polyethylene) 및 PET(polyethylen terephthalate) 중 어느 하나로 할 수 있고 필름의 한 면에는 점착제가 도포 되어있다. 마스크 필름의 두께는 80 μm 내외로 하는 것이 안정된 부착 및 박리 용이성에 있어 유리하다.The material of the mask film may be any one of PVC (polyvinyl chloride), PO (polyolefine), PE (polyethylene) and PET (polyethylen terephthalate) and the adhesive is applied to one side of the film. The thickness of the mask film is about 80 μm, which is advantageous in terms of stable adhesion and peeling ease.
단면 에칭의 경우, 생산성 향상을 위해, 도 6과 같이 마스크 필름이 부착된 두 개의 디스플레이 패널의 마스크 부착면을 서로 접합하여 하나의 지그에 고정하여 한번에 두 개의 디스플레이 패널을 에칭한다. In the case of the single-sided etching, in order to improve productivity, the mask attaching surfaces of the two display panels to which the mask films are attached are bonded to each other and fixed to one jig to etch two display panels at once.
에칭 이후, 50 ℃ 정도의 증류수에 수 분간 불리면 마스크 필름은 쉽게 박리된다. 이후, 표면 검사 공정, 두께측정 및 보호필름 부착 등을 상술한 바와 동일하게 실시한다. After etching, the mask film is easily peeled off if it is poured into distilled water at about 50 ° C. for several minutes. Thereafter, the surface inspection process, the thickness measurement and the protective film is carried out in the same manner as described above.
이와 같이 하여 대면적 디스플레이 패널의 초박판화 공정을 표면 조도, 투명도 등의 고품격을 유지하게 하면서도 생산성 있게 실시할 수 있다.
In this way, the ultra-thin process of the large-area display panel can be performed with high productivity while maintaining high quality such as surface roughness and transparency.
본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.
It is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiment, but is capable of many modifications and variations within the scope of the appended claims. It is self-evident.
도면부호 없음No reference sign
Claims (7)
상기 초기세정을 마친 디스플레이 패널을 수직으로 놓고 F+이온을 함유한 에칭 용액을 상기 디스플레이 패널의 위에서 아래로 흘려 두께를 얇게 에칭하는 단계;
상기 에칭을 마친 디스플레이 패널을 최종세정하는 단계;
상기 최종세정을 마친 디스플레이 패널의 표면을 검사하는 단계;
상기 표면 검사를 마친 디스플레이 패널의 두께를 측정하는 단계; 및
상기 두께 측정을 마친 디스플레이 패널에 보호필름을 부착하는 단계;를 포함하고,
상기 에칭하는 단계는, 디스플레이 패널의 두께 에칭 속도를 21μm/분을 상한으로 하여 표면 조도를 제어하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 초박판 패널 제조 방법. Initial cleaning the display panel with an alkaline solution;
Placing the display panel after the initial cleaning in a vertical position and flowing an etching solution containing F + ions from the top to the bottom of the display panel to etch thinly;
Final cleaning the etched display panel;
Inspecting a surface of the display panel after the final cleaning;
Measuring a thickness of the surface inspected display panel; And
Attaching a protective film to the display panel after the thickness measurement;
The etching may include controlling the surface roughness by setting the thickness etching rate of the display panel to an upper limit of 21 μm / minute.
The method of claim 6, wherein the attaching the protective film to the display panel comprises attaching a 3-30 μm-thick transparent resin film on one or both sides of the display panel to which the adhesive is applied. Panel manufacturing method.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020110022302A KR101223877B1 (en) | 2011-03-14 | 2011-03-14 | Ultra Slim Panel Manufacturing System |
| CN201110391330.4A CN102674698B (en) | 2011-03-14 | 2011-11-25 | Manufacture system of an ultra-thin panel |
| TW100143437A TWI506002B (en) | 2011-03-14 | 2011-11-25 | Method of manufacturing ultra slim panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020110022302A KR101223877B1 (en) | 2011-03-14 | 2011-03-14 | Ultra Slim Panel Manufacturing System |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120104726A KR20120104726A (en) | 2012-09-24 |
| KR101223877B1 true KR101223877B1 (en) | 2013-01-17 |
Family
ID=46807335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020110022302A KR101223877B1 (en) | 2011-03-14 | 2011-03-14 | Ultra Slim Panel Manufacturing System |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101223877B1 (en) |
| CN (1) | CN102674698B (en) |
| TW (1) | TWI506002B (en) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003088817A (en) * | 2001-05-22 | 2003-03-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | Method for cleaning surface of substrate |
| KR20060020057A (en) * | 2004-08-30 | 2006-03-06 | 삼성전자주식회사 | Rinsing appraratusand etching apparatus having the same |
| KR100675732B1 (en) * | 1999-12-16 | 2007-01-29 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Apparatus for polishing liquid crystal device and method for polishing the same |
| KR20100025219A (en) * | 2008-08-27 | 2010-03-09 | 동우 화인켐 주식회사 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
| KR100971373B1 (en) * | 2010-01-15 | 2010-07-20 | 노바테크인더스트리 주식회사 | A protecting method of a flat panel display and a protecting film attached flat panel display for preventing scratch |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW467953B (en) * | 1998-11-12 | 2001-12-11 | Mitsubishi Gas Chemical Co | New detergent and cleaning method of using it |
| JP2006337266A (en) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | Detection method of glass substrate film thickness and method for forming thin film of glass substrate |
| KR100732019B1 (en) * | 2006-02-17 | 2007-06-25 | (주)지원테크 | Apparatus of etching a glass substrate |
| KR100835745B1 (en) * | 2006-12-29 | 2008-06-09 | 최찬규 | Method for slimming glass |
| CN101310974B (en) * | 2007-05-21 | 2010-08-25 | 北京京东方光电科技有限公司 | Film peeling device and method |
| CN101868428A (en) * | 2007-11-19 | 2010-10-20 | 旭硝子株式会社 | Method for etching glass substrate |
| KR100868228B1 (en) * | 2007-12-04 | 2008-11-11 | 주식회사 켐트로닉스 | Etchant composition for glass substrate |
| KR101104271B1 (en) * | 2009-09-04 | 2012-01-11 | 주식회사 네패스 | The etching method for ultra-thin glass of display panel |
-
2011
- 2011-03-14 KR KR1020110022302A patent/KR101223877B1/en not_active IP Right Cessation
- 2011-11-25 TW TW100143437A patent/TWI506002B/en not_active IP Right Cessation
- 2011-11-25 CN CN201110391330.4A patent/CN102674698B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100675732B1 (en) * | 1999-12-16 | 2007-01-29 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Apparatus for polishing liquid crystal device and method for polishing the same |
| JP2003088817A (en) * | 2001-05-22 | 2003-03-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | Method for cleaning surface of substrate |
| KR20060020057A (en) * | 2004-08-30 | 2006-03-06 | 삼성전자주식회사 | Rinsing appraratusand etching apparatus having the same |
| KR20100025219A (en) * | 2008-08-27 | 2010-03-09 | 동우 화인켐 주식회사 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
| KR100971373B1 (en) * | 2010-01-15 | 2010-07-20 | 노바테크인더스트리 주식회사 | A protecting method of a flat panel display and a protecting film attached flat panel display for preventing scratch |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102674698B (en) | 2015-01-14 |
| TW201302648A (en) | 2013-01-16 |
| TWI506002B (en) | 2015-11-01 |
| CN102674698A (en) | 2012-09-19 |
| KR20120104726A (en) | 2012-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101620375B1 (en) | Manufacturing Method of Ultra-Thin Type Glass Plate Including Laminating and Cutting Process | |
| US9488857B2 (en) | Method of strengthening an edge of a glass substrate | |
| US9768107B2 (en) | Method of providing a flexible semiconductor device and flexible semiconductor device thereof | |
| KR20170120710A (en) | Measuring device and method for measuring layer thicknesses and defects in a wafer stcak | |
| KR20130051139A (en) | Method for cutting tempered glass | |
| KR20170103855A (en) | Glass-carrier assembly and method for processing flexible glass sheet | |
| JP2013237159A (en) | Glass film laminate and method of manufacturing the same | |
| KR102254291B1 (en) | Method for manufacturing glass film laminate, glass film laminate, and method for manufacturing electronic device | |
| KR101104271B1 (en) | The etching method for ultra-thin glass of display panel | |
| KR101223877B1 (en) | Ultra Slim Panel Manufacturing System | |
| CN104465528A (en) | Method for manufacturing flexible substrate and flexible substrate prefabricated assembly | |
| TWI448774B (en) | Plate stacked structure and method for forming the same | |
| KR102097486B1 (en) | Method for manufacturing display device | |
| CN207474423U (en) | Collodion silk detection device | |
| KR20150016883A (en) | Laminated glass structure and manufacturing method of antiglare glass | |
| KR101274096B1 (en) | Method for evacuating bubble | |
| JP2015000846A (en) | Reinforced glass processing system | |
| KR200469125Y1 (en) | An Automatic thickness measurement system of a display panel | |
| JP6727551B2 (en) | Method for manufacturing glass laminate and method for manufacturing electronic device | |
| KR20120119641A (en) | Method for coating of adhensive for lcd and cover glass | |
| KR101084257B1 (en) | Method of manufacturing organic light emitting diode display | |
| CN107706125B (en) | Rubber thread detection device | |
| US20140011299A1 (en) | Manufacturing apparatus and method of liquid crystal panel | |
| JPH02257633A (en) | Preservation of face of semiconductor substrate | |
| JP2003066397A (en) | Method for manufacturing display panel |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161007 Year of fee payment: 4 |
|
| R401 | Registration of restoration | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |