KR101214051B1 - Manufacture method of CNT-Metal homogeneous film for electron field emission ＆ Aerosol deposition device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 CNT(탄소나노튜브)와 금속의 혼합분말을 진공팽창원리로 가속시킨 후(에어로졸 증착법: 이하 AD법) 기재에 충돌시키는 방법을 통하여 전계방출용 (Electron Field Emission) CNT-금속 혼합막을 균일하게 형성시키는 방법 및 이러한 방법 실시를 위한 에어로졸 증착장치에 관한 것이다.
본 발명은 미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성된 가스유입부가 구비된 에어로졸 챔버; 내부에 기재가 배치된 저진공상태의 증착챔버; 및 일단은 상기 에어로졸 챔버와 연통되고 타단은 상기 증착챔버 내에 삽입되어 상기 기재를 향해 개구되어 있는 수송관; 을 포함하여 구성된 에어로졸 증착장치에 의해 (a) CNT-금속 혼합분말에 기계적 충돌에너지를 가하는 전처리 단계; (b) 전처리된 CNT-금속 혼합분말을 상기 에어로졸 챔버에 도입하고, 상기 CNT-금속 혼합분말에 수송가스를 직접 분사하여 에어로졸화시키되, 상기 샤워기 형태의 가스유입부에 의해 수송가스를 에어로졸 챔버의 전 영역에 유입시킴으로써, 에어로졸 챔버 바닥에 CNT-금속 혼합분말이 적층되지 않도록 하는 작업이 함께 시행되는 단계; 및 (c) 상기 에어로졸을 진공팽창원리로 가속하여 상기 수송관을 통해 상기 증착챔버 내부로 토출시킴으로써, 상기 기재에 증착시키는 단계; 로 시행되는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법을 제공한다.The present invention provides a CNT-metal mixed film for field emission by accelerating a mixed powder of CNT (carbon nanotube) and metal by vacuum expansion principle (aerosol deposition method: AD method) and then impinging on a substrate. It relates to a method of uniformly forming and an aerosol deposition apparatus for carrying out such a method.
The present invention includes an aerosol chamber having a gas inlet formed in the form of a shower formed with a plurality of micropores; A low vacuum deposition chamber having a substrate disposed therein; And a transport tube having one end communicating with the aerosol chamber and the other end inserted into the deposition chamber and open toward the substrate. A pretreatment step of applying mechanical collision energy to the CNT-metal mixed powder by an aerosol deposition apparatus configured to include; (b) introducing a pretreated CNT-metal mixed powder into the aerosol chamber, and aerosolizing the CNT-metal mixed powder by directly injecting a transporting gas into the aerosol chamber; Incorporating the entire area, thereby preventing the CNT-metal mixed powder from being deposited on the bottom of the aerosol chamber; And (c) depositing the aerosol on the substrate by accelerating the aerosol with a vacuum expansion principle and discharging the aerosol through the transport tube into the deposition chamber. It provides a method for producing a field emission CNT-metal mixed film implemented by.

Description

전계방출용 ＣＮＴ-금속 혼합막 제조 방법 및 에어로졸 증착장치{Manufacture method of CNT-Metal homogeneous film for electron field emission ＆ Aerosol deposition device}Manufacture method of CNT-metal homogeneous film for electron field emission & Aerosol deposition device

본 발명은 CNT(탄소나노튜브)와 금속의 혼합분말을 진공팽창원리로 가속시킨 후(에어로졸 증착법: 이하 AD법) 기재에 충돌시키는 방법을 통하여 전계방출용 (Electron Field Emission) CNT-금속 혼합막을 균일하게 형성시키는 방법 및 이러한 방법 실시를 위한 에어로졸 증착장치에 관한 것이다.
The present invention provides a CNT-metal mixed film for field emission by accelerating a mixed powder of CNT (carbon nanotube) and metal by vacuum expansion principle (aerosol deposition method: AD method) and then impinging on a substrate. It relates to a method of uniformly forming and an aerosol deposition apparatus for carrying out such a method.

분말을 기재에 코팅하는 방법에 있어서, 용사법은 모재 파우더를 플라즈마 또는 열에너지를 이용하여 고온 활성화 시키고 고온?고압의 압축공기를 노즐을 통하여 분사시켜 기재에 직접적으로 분사시켜 코팅물을 얻는 방법이다. 이러한 용사법은 항공기나 대형 구조물에 대한 세라믹 코팅에 많이 이용되어 왔다. 그러나 폐쇄된 공간에서 방화복을 입고 작업을 해야 하며 소음 공해, 불꽃, 공기오염, 에너지 낭비 문제가 심한 단점이 있다. 최근 용사법을 발전시킨 콜드스프레이(Cold spray) 방법을 이용한 금속 나노입자 코팅법이 많이 각광 받고 있다. 이는 금속나노입자의 직접 배선과 관련이 있으며, 용사법과 비슷하게 압축공기를 노즐을 통하여 분사 시키고 상온에서 금속입자를 고속으로 기재에 부딪혀 코팅물을 생성시킨다. 이때 고압가스를 얻기 위하여 압축가스 용기를 수백도로 가열하지만, 용사법에서와 같은 파우더 활성화 과정을 거치지는 않는다. 이는 증착부의 저항 기체 압력 때문에 초고속 가속력이 필요하므로 독특한 노즐 설계와 고온?고압 압축가스 유지 기술이 필요하고 코팅시 소음 발생 문제가 심하다. In the method of coating the powder on the substrate, the thermal spraying method is a method of obtaining a coating material by activating the substrate powder at high temperature by using plasma or thermal energy and spraying the compressed air of high temperature and high pressure through a nozzle to directly spray on the substrate. This thermal spraying method has been widely used in ceramic coatings for aircraft and large structures. However, work must be done in fireproof clothing in an enclosed space, and there are serious disadvantages of noise pollution, sparks, air pollution and energy waste. Recently, the coating method of metal nanoparticles using the cold spray method, which has been developed by the thermal spraying method, has gained much attention. This is related to the direct wiring of metal nanoparticles, and similarly to the thermal spraying method, compressed air is sprayed through a nozzle and metal particles are hit at a high speed at room temperature to form a coating. At this time, the compressed gas container is heated to several hundred degrees to obtain a high pressure gas, but the powder activation process is not performed as in the thermal spraying method. This requires very high acceleration due to the resistive gas pressure of the deposition part, which requires a unique nozzle design, high temperature and high pressure compressed gas retention technology, and severe noise generation during coating.

탄소나노튜브(이하, 'CNT'라 함) 막을 BLU(Back Light Unit), FED(Field Emission Display), 면발광원, X-ray 소스 등의 캐소드 전극 위에 형성시킨 전계방출 에미터를 제조하는 방법으로는 CVD(Chemical vapor deposition)법이 있다. CVD법은 촉매를 캐소드 전극 위에 형성시키고 기판을 가열하여 하이드로 카본 전구체가 열적-화학적 작용에 의해 깨지면서 촉매부에서 CNT가 자라도록 하는 방법이다. 대부분의 CNT들은 촉매부에서 자라나 캐소드에 수직으로 성장하게 된다. 그러나 수직 성장된 CNT들은 쓰러지기 쉬우며, 촉매 공정 추가 및 고가 CVD 장비 기술이 요구되는 단점이 있다.A method of manufacturing a field emission emitter in which a carbon nanotube (hereinafter referred to as 'CNT') film is formed on a cathode electrode such as a back light unit (BLU), a field emission display (FED), a surface light emitting source, and an X-ray source. CVD (Chemical Vapor Deposition) method. The CVD method is a method in which a catalyst is formed on a cathode electrode and a substrate is heated so that the CNTs grow in the catalyst portion while the hydrocarbon precursor is broken by thermal-chemical action. Most CNTs grow in the catalyst section and grow perpendicular to the cathode. However, vertically grown CNTs are prone to collapse and have the disadvantage of requiring additional catalytic process and expensive CVD equipment techniques.

한편, CNT에 대한 화학적 처리를 통하여 액상에 분산시키거나 폴리머 혹은 포토 레지스트(Photo resist)에 혼합한 후 캐소드에 코팅하는 방법은 매우 저렴하여 현재 많은 회사에서 이용되고 있다. 특히 CNT-Ag 고분산 페이스트를 제작하고 전극위에 스크린프린팅 한 후 열처리하여 CNT 전계방출 에미터를 형성하는 기술은 현재 산업적으로 가장 많이 이용되고 있는 기술이다. 여기서 Ag는 전극과 CNT 사이에서 전기적?물리적 바인더 역할을 한다. 그러나 이 역시 고온 소결처리 및 페이스트의 잔존 유기물들은 여전히 해결해야 되는 문제로 남아 있다.Meanwhile, a method of dispersing in a liquid phase through chemical treatment of CNTs, or mixing a polymer or a photo resist and coating the cathode is very inexpensive and is currently used by many companies. In particular, CNT-Ag high-dispersion paste manufacturing, screen printing on the electrode and heat treatment to form a CNT field emission emitter technology is currently the most used technology in the industry. Ag serves as an electrical and physical binder between the electrode and the CNT. However, this too, the high temperature sintering and the remaining organic matter of the paste still remains a problem to be solved.

본 발명에서 사용되는 에어로졸 증착(AD) 기술은 진공팽창원리에 기초를 두며 그 근간은 기초과학분야에서 많이 이용되고 있는 클러스터 빔 소스에 근원을 둔다. 초음속 클러스터 소스는 기체를 펄스 혹은 초단파로 진공상태의 챔버에 분사함으로서 103 ~ 104 m/s를 가속력을 얻는다. 이에 비해 에어로졸 증착법은 좀 더 무거운 파우더를 쓰기 때문에 클러스터 소스와 같은 엄청난 가속력을 얻지는 못하지만 아음속에서도 좋은 증착막을 얻어 낼 수 있다. 한 예로서 4nm분말의 에어로졸 증착 방법이 있다(Huh et. al. Appl. Phys. Lett. 91, 093118, 2007). 이 논문에는 진공팽창원리에 의하여 4nm의 입자가 약 200m/s로 가속되어 실리콘 기판위에 충돌하여 입자-기판간, 입자-입자간 직접적인 결합이 이루어지는 내용이 소개되어 있다. 에어로졸 증착방법은 용사법이나 콜드스프레이법에 비하여 매우 조용하고 CVD, PVD, 용사법, 콜드스프레이법에 비하여 친환경 에너지 절약 공정 기술이다. 또한 클러스터 소스와는 달리 저진공 기술로 구현이 가능하다.
The aerosol deposition (AD) technique used in the present invention is based on the principle of vacuum expansion and its roots are based on cluster beam sources that are widely used in the basic sciences. Supersonic cluster sources achieve accelerations of 10 3 to 10 4 m / s by spraying gases into the chamber in a vacuum or pulsed state. Aerosol deposition, on the other hand, uses heavier powders, so it does not gain tremendous acceleration like a cluster source, but it can produce a good deposition film even at subsonic speeds. An example is a 4 nm powder aerosol deposition method (Huh et. Al. Appl. Phys. Lett. 91, 093118, 2007). This paper introduces the fact that 4nm particles are accelerated to about 200m / s by the vacuum expansion principle and collide on the silicon substrate, so that the direct bonding between particle-substrate and particle-particle is achieved. The aerosol deposition method is much quieter than the thermal spraying method or the cold spray method and is an environmentally friendly energy saving process technology compared to the CVD, PVD, thermal spraying method and the cold spray method. Unlike the cluster source, it can be implemented with low vacuum technology.

본 발명은 CNT-금속 혼합분말을 진공팽창원리로 가속시킨 후(AD법 적용) 전극 위에 충돌시키는 방법을 통하여 전계방출막(Electron Field Emission)을 제조하기 위한 것이다. AD법은 박막 형성을 위한 매우 일반적이고 간단한 방법임에도 불구하고(도 1 참조), CNT분말과 금속분말을 동시에 사용하여 박막을 형성시킬 때에는 심각한 공정상의 문제점이 발생한다. 즉, CNT-금속 혼합분말을 에어로졸화 시키는 챔버를 별도로 구비해야 되는데, 대표적으로 다음과 같은 두 가지의 문제점이 발생한다.
The present invention is to produce an Electron Field Emission (Electron Field Emission) method by accelerating the CNT-metal mixed powder by the vacuum expansion principle (applied by the AD method) and then impinged on the electrode. Although the AD method is a very general and simple method for forming a thin film (see FIG. 1), serious process problems occur when forming a thin film using a CNT powder and a metal powder simultaneously. That is, a separate chamber for aerosolizing the CNT-metal mixed powder should be provided separately. The following two problems typically occur.

(1) CNT분말과 금속분말의 균일한 에어로졸화 문제(이하, '문제1')(1) Uniform aerosolization problem of CNT powder and metal powder (hereinafter 'Problem 1')

이 문제는 CNT의 비중이 금속에 비해 매우 작고, 금속분말의 형상이 구형(求刑)인데 CNT분말의 형상은 선형(線形)으로 되어 있어, 금속분말과 CNT분말의 에어로졸 상태에서의 거동이 매우 다르기 때문에 발생한다. 따라서 단순히 CNT분말과 금속분말의 혼합물을 에어로졸화시키는 경우에는 상분리가 일어나(상층부 CNT, 하층부 금속) CNT가 먼저 에어로졸화 되어 토출되어 버리는 문제가 발생한다(도 2의 좌측 그림 참조). 이런 문제는 소면적상에서는 관측되기 어려울 수 있어 간과되어 왔으며, 인라인 혹은 롤투롤 대면적 코팅시에는 매우 심각하게 발생되어 코팅 초기에는 CNT 위주의 막이 형성되고 코팅 중기부터는 금속위주의 막이 형성되어 대면적상 균일한 CNT 전계방출용 막을 기대하기 어렵다.
The problem is that the specific gravity of CNT is very small compared to metal, and the shape of metal powder is spherical, but the shape of CNT powder is linear, so the behavior of metal powder and CNT powder in aerosol state is very different. It happens because Therefore, when the mixture of the CNT powder and the metal powder is simply aerosolized, phase separation occurs (upper CNT, lower metal), so that the CNT is first aerosolized and discharged (see the left figure of FIG. 2). This problem has been overlooked as it may be difficult to observe in small area, and it is very serious in in-line or roll-to-roll large-area coating, and CNT-based film is formed at the beginning of coating and metal-based film is formed in the middle of coating. It is difficult to expect a CNT field emission membrane.

(2) 에어로졸을 일정 농도로 증착챔버로 배출해야 하는 문제(이하, '문제2')(2) The problem of discharging aerosol to the deposition chamber at a certain concentration (hereinafter 'Problem 2')

CNT-금속 혼합분말 에어로졸을 에어로졸 챔버에서 계속적으로 증착챔버로 보낼 때에는 에어로졸 챔버의 바닥 구석에 분말들이 적층되는 문제가 추가적으로 발생한다(도 3 참조). 즉, 중력과 마찰력의 조화로 인하여 분말이 침강되거나 정체되어 에어로졸 챔버 하단 측면부(에어로졸 챔버의 구석)에 쌓이게 되는 것이다. 이렇게 되면 구석에 쌓여 있던 혼합분말이 간헐적으로 덩어리 채 증착챔버로 토출되어 균일한 CNT-세라믹 혼합막을 얻는데 큰 차질을 빚게 된다. 이러한 현상은 균일한 에어로졸을 만들고 일정 농도의 에어로졸을 증측챔버로 보내는 것을 어렵게 한다.
When the CNT-metal mixed powder aerosol is continuously sent from the aerosol chamber to the deposition chamber, a problem arises in that powders are deposited at the bottom corner of the aerosol chamber (see FIG. 3). In other words, due to the combination of gravity and friction force, the powder is settled or stagnated and accumulated in the lower side of the aerosol chamber (the corner of the aerosol chamber). In this case, the mixed powder accumulated in the corner is intermittently discharged into the deposition chamber with agglomeration, which causes a great obstacle in obtaining a uniform CNT-ceramic mixed film. This phenomenon creates a uniform aerosol and makes it difficult to deliver a certain concentration of aerosol to the thickening chamber.

본 발명은 위의 두 가지 문제점을 해결함으로써, 균일한 CNT-금속 혼합막을 대면적으로 증착시킬 수 있는 장치를 제공함을 그 목적으로 한다.
The present invention solves the above two problems, and an object thereof is to provide a device capable of depositing a uniform CNT-metal mixed film in a large area.

본 발명에서는 전술한 문제의 해결을 위해 다음의 수단을 적용한다.
In the present invention, the following means is applied to solve the above-mentioned problem.

1. 상기 '문제1'의 해결을 위해서는, 에어로졸 증착(AD) 공정 전에 CNT-금속 혼합분말에 기계적인 방법으로 에너지를 가하는 전처리 단계를 수행한다. 상기 전처리 단계로는 1) 볼밀링법과 2) 고속 블레이딩법(Blading : 믹서와 같이 고속으로 회전하는 날(본 발명에서는 5,000~15,000rpm))을 선택적으로 적용할 수 있다. 이러한 전처리 단계에 의해 1) 실타래처럼 꼬여있는 CNT를 절단하여 분산시키는 효과, 2) CNT-금속 혼합분말의 결합력을 향상시키는 효과(CNT가 금속분말을 감싸는 효과도 증대), 3) 균일한 CNT-금속 혼합분말 에어로졸을 형성시키는 효과(도 2의 우측 그림 참조)를 얻을 수 있다.
1. In order to solve the 'problem 1', a pretreatment step of applying energy to the CNT-metal mixed powder by a mechanical method before the aerosol deposition (AD) process is performed. As the pretreatment step, 1) a ball milling method and 2) a high speed blading method (Blading: blades rotating at high speed such as a mixer (5,000 to 15,000 rpm) in the present invention) may be selectively applied. By this pretreatment step 1) cutting and dispersing CNT twisted like a thread, 2) improving the bonding strength of CNT-metal mixed powder (CNT also increases the effect of wrapping metal powder), 3) uniform CNT- The effect of forming the metal mixed powder aerosol can be obtained (see the right figure of FIG. 2).

2. 상기 '문제2'의 해결을 위해서는 물리적인 방법을 이용하여 분말이 운동에너지를 잃어 정지되기 전에 외부에서 새로운 물리적 운동에너지를 공급하여 분말원료들이 끊임없이 움직이도록 한다. 위의 '물리적인 방법'으로는 1) 자석의 회전력을 이용한 충돌(도 4 참조) 방법과 2) 가스 샤워기를 통한 블로잉(blowing) 방법(가스충돌, 도 5 참조)을 적용할 수 있다. 이 때, 가스 샤워기는 다양한 방향, 다양한 크기가 가능하며 경우에 따라서는 전원에 의해 회전할 수 있도록 구성하여 가스 분사방향을 제어할 수 있다.
2. In order to solve the problem 2, the powder raw materials are constantly moved by supplying new physical kinetic energy from the outside before the powder loses kinetic energy and stops by using a physical method. As the above 'physical method', 1) a collision (see FIG. 4) using a rotational force of a magnet and 2) a blowing (gas collision) (see FIG. 5) through a gas shower may be applied. At this time, the gas shower can be a variety of directions, various sizes and in some cases can be configured to rotate by the power source can control the gas injection direction.

본 발명을 통해 CNT분말과 금속분말의 균일도가 확보된 대면적 전계방출막을 대면적으로 형성시킬 수 있으므로, 저에너지 비용으로 양질의 CNT BLU, FED, 면발광원, X-ray 소스 제작 등에 다양하게 활용될 수 있다.
Through the present invention, a large area field emission film having a uniformity of CNT powder and metal powder can be formed in a large area, and thus can be variously used for producing high quality CNT BLU, FED, surface light emitting source, X-ray source at low energy cost. Can be.

도 1은 에어로졸 증착장치의 모식도이다.
도 2는 CNT-금속(Ag) 혼합분말에 대한 전처리 단계를 실시하지 않은 경우와 실시한 경우의 에어로졸화 상태에 대한 모식도이다.
도 3은 CNT-금속 혼합분말 에어로졸을 에어로졸 챔버에서 계속적으로 증착챔버로 보낼 때, 시간 경과에 따라 에어로졸 챔버 내에서 발생하는 문제점에 대한 모식도이다.
도 4는 자석회전자가 설치된 에어로졸 챔버의 모식도이다.
도 5는 미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성된 가스유입부가 구비된 에어로졸 챔버의 모식도이다.
도 6은 CNT-Ag 혼합분말을 볼밀링한 후 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 7은 CNT-Ag 혼합분말을 rpm10,000으로 10분간 블레이딩한 후 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 8은 본 발명이 제공하는 방법에 의해 알루미늄 기판에 형성된 CNT-Ag 혼합막의 전자현미경 사진이다.
도 9는 알루미늄 기판에 형성된 CNT-Ag 혼합막의 XRD 패턴을 나타낸 그래프이다.
도 10은 알루미늄 기판에 형성된 CNT-Ag 혼합막의 전계방출 물성을 측정한 데이터를 나타낸 그래프이다.1 is a schematic diagram of an aerosol deposition apparatus.
2 is a schematic diagram of the aerosolization state when the pre-treatment step for the CNT-metal (Ag) mixed powder is not performed and is performed.
FIG. 3 is a schematic diagram of a problem occurring in the aerosol chamber over time when the CNT-metal mixed powder aerosol is continuously sent from the aerosol chamber to the deposition chamber.
4 is a schematic view of an aerosol chamber provided with a magnet rotor.
5 is a schematic view of an aerosol chamber having a gas inlet configured in the form of a shower formed with a plurality of micropores.
6 is an electron micrograph taken after ball milling the CNT-Ag mixed powder.
7 is an electron micrograph taken after mixing the CNT-Ag mixed powder at rpm 10,000 for 10 minutes.
8 is an electron micrograph of a CNT-Ag mixed film formed on an aluminum substrate by a method provided by the present invention.
9 is a graph showing an XRD pattern of a CNT-Ag mixed film formed on an aluminum substrate.
10 is a graph showing data of measuring field emission properties of a CNT-Ag mixed film formed on an aluminum substrate.

본 발명은 미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성된 가스유입부가 구비된 에어로졸 챔버; 내부에 기재가 배치된 저진공상태의 증착챔버; 및 일단은 상기 에어로졸 챔버와 연통되고 타단은 상기 증착챔버 내에 삽입되어 상기 기재를 향해 개구되어 있는 수송관; 을 포함하여 구성된 에어로졸 증착장치에 의해 (a) CNT-금속 혼합분말에 기계적 충돌에너지를 가하는 전처리 단계; (b) 전처리된 CNT-금속 혼합분말을 상기 에어로졸 챔버에 도입하고, 상기 CNT-금속 혼합분말에 수송가스를 직접 분사하여 에어로졸화시키되, 상기 샤워기 형태의 가스유입부에 의해 수송가스를 에어로졸 챔버의 전 영역에 유입시킴으로써, 에어로졸 챔버 바닥에 CNT-금속 혼합분말이 적층되지 않도록 하는 작업이 함께 시행되는 단계; 및 (c) 상기 에어로졸을 진공팽창원리로 가속하여 상기 수송관을 통해 상기 증착챔버 내부로 토출시킴으로써, 상기 기재에 증착시키는 단계; 로 시행되는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법을 제공한다.
The present invention includes an aerosol chamber having a gas inlet formed in the form of a shower formed with a plurality of micropores; A low vacuum deposition chamber having a substrate disposed therein; And a transport tube having one end communicating with the aerosol chamber and the other end inserted into the deposition chamber and open toward the substrate. A pretreatment step of applying mechanical collision energy to the CNT-metal mixed powder by an aerosol deposition apparatus configured to include; (b) introducing a pretreated CNT-metal mixed powder into the aerosol chamber, and aerosolizing the CNT-metal mixed powder by directly injecting a transporting gas into the aerosol chamber; Incorporating the entire area, thereby preventing the CNT-metal mixed powder from being deposited on the bottom of the aerosol chamber; And (c) depositing the aerosol on the substrate by accelerating the aerosol with a vacuum expansion principle and discharging the aerosol through the transport tube into the deposition chamber. It provides a method for producing a field emission CNT-metal mixed film implemented by.

또한, 상기 샤워기 형태의 가스유입부는 전원 공급에 의해 회전하도록 구성되어, 상기 (b)단계에서는 상기 에어로졸 챔버 내에서 수송가스의 회전기류를 형성시킬 수 있다.
In addition, the gas inlet of the shower type is configured to rotate by the power supply, in step (b) may form a rotary airflow of the transport gas in the aerosol chamber.

이 때, CNT와 혼합되는 금속으로는 Ag, Au, Al, Zn, Pd, Sn, Pt, Fe, Co, Ni, W, Mo와 같은 전이금속 또는 란탄계 금속 중 어느 하나를 적용할 수 있다.
At this time, any of the transition metals such as Ag, Au, Al, Zn, Pd, Sn, Pt, Fe, Co, Ni, W, Mo or lanthanum-based metal may be used as the metal mixed with CNT.

아울러, 상기 기재로는 금속기판 또는 투명전도막을 적용할 수 있다.
In addition, the substrate may be a metal substrate or a transparent conductive film.

또한 상기 (a)단계는 볼밀링법 또는 블레이드 회전에 의해 기계적 충돌에너지를 가하는 것을 특징으로 할 수 있다. 특히 상기 블레이드는 5,000~15,000rpm의 속도로 회전시키는 것을 특징으로 할 수 있다.
In addition, the step (a) may be characterized by applying mechanical collision energy by ball milling or blade rotation. In particular, the blade may be characterized by rotating at a speed of 5,000 ~ 15,000rpm.

또한, 본 발명은 가스유입부가 구비된 에어로졸 챔버; 내부에 기재가 배치된 저진공상태의 증착챔버; 및 일단은 상기 에어로졸 챔버와 연통되고 타단은 상기 증착챔버 내에 삽입되어 상기 기재를 향해 개구되어 있는 수송관; 을 포함하여 구성되며, 상기 가스유입부는 미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착장치를 함께 제공한다. 가스 샤워기의 크기 및 방향은 조건에 따라 조절할 수 있으며, 경우에 따라서는 상기 가스 샤워기가 전원 공급에 의해 회전하도록 구성할 수 있다.
In addition, the present invention includes an aerosol chamber having a gas inlet; A low vacuum deposition chamber having a substrate disposed therein; And a transport tube having one end communicating with the aerosol chamber and the other end inserted into the deposition chamber and open toward the substrate. It is configured to include, the gas inlet is provided with an aerosol deposition apparatus, characterized in that configured in the form of a shower formed with a plurality of micropores. The size and direction of the gas shower can be adjusted according to the conditions, and in some cases, the gas shower can be configured to rotate by power supply.

이하에서는 첨부된 도면과 함께 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

전술한 바와 같이 본 발명에서 CNT와 혼용할 수 있는 금속으로는 전이금속 또는 란탄족계열의 금속들이 모두 가능하지만 바람직하게 는탄소와 결합이 가능한 Ag, Au, Al, Zn, Pd, Sn, Pt, Fe, Co, Ni, W, Mo 등을 적용할 수 있으며, 이러한 금속분말들과 CNT의 혼합분말로 이루어진 박막은 계면물성이 좋을 것으로 예상된다. 이하에서는 위 금속 중 Ag(은)를 적용한 실시예를 중심으로 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
As described above, as the metal that can be mixed with CNT in the present invention, all of transition metals or lanthanide series metals may be used, but preferably Ag, Au, Al, Zn, Pd, Sn, Pt, Fe, Co, Ni, W, Mo and the like can be applied, it is expected that the thin film consisting of a mixed powder of these metal powders and CNTs have good interfacial properties. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to an embodiment to which Ag (silver) of the above metal is applied.

CNT-금속 혼합분말에 포함되는 CNT량은 최종적으로 생성되는 막의 물성에 따라 조절할 수 있다. 본 발명에 따른 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법에서는 CNT-금속 혼합분말을 에어로졸화 시키기 전에는 기계적 충돌에너지를 가하는 전처리 단계((a)단계)를 시행한다. 이하에서 설명하는 실시하는 실시예에서는 본 발명의 효과를 극대화 시키기 위하여 CNT와 Ag분말을 대략 1:1 부피비로 혼합한 후 24시간 볼밀링 한 것이다. 24시간 볼밀링 후의 CNT-Ag 혼합분말은 검은색을 띄고, 전자현미경 관찰에 의해 대부분의 CNT가 Ag분말에 달라붙어 있거나 Ag분말을 감싸고 있음을 알 수 있었고, 여간해서는 잘 분리되지 않는 구조로 되어 있음을 알 수 있었다(도 6 참조). 이와 같은 현상은 볼밀링에 의한 기계적 운동 에너지에 의해 CNT가 Ag분말을 감싸게 되었거나, Ag분말사이에 CNT가 끼이거나, Ag분말 표면에 CNT가 눌려붙은 것으로 해석할 수 있으며, 반데르발스 인력의 효과로도 해석될 수 있다.The amount of CNT included in the CNT-metal mixed powder can be adjusted according to the physical properties of the film finally produced. In the method for producing a CNT-metal mixed film for field emission according to the present invention, before aerosolizing the CNT-metal mixed powder, a pretreatment step (step (a)) is performed to apply mechanical collision energy. In the embodiment to be described below in order to maximize the effect of the present invention, CNT and Ag powder is ball milled for 24 hours after mixing in a 1: 1 volume ratio. After 24 hours of ball milling, the CNT-Ag mixed powder was black, and by electron microscopic observation, it was found that most of CNT adhered to Ag powder or wrapped Ag powder. It can be seen that (see Figure 6). This phenomenon can be interpreted as CNT wrapped Ag powder by mechanical kinetic energy by ball milling, CNT stuck between Ag powder, or CNT pressed on Ag powder surface, and the effect of van der Waals attraction Can also be interpreted as

이와 같은 현상은 볼밀링과 같이 외부에서 기계적 충돌에너지를 가할 때 유사하게 발현되므로 통상적인 볼밀링, 비즈볼밀링, 고에너지 볼밀링, 고에너지 믹서 등은 물론, 블레이딩(blading)법을 적용할 수도 있다. 블레이딩법의 경우는 블레이드가 5,000~15,000rpm의 속도로 회전할 때 매우 좋은 효과가 발휘됨을 알 수 있었다. 도 7은 rpm10,000에서 10분간 블레이딩한 후의 CNT-Ag 혼합분말을 촬영한 전자현미경 사진이다.
These phenomena are similarly expressed when mechanical impact energy is applied externally, such as ball milling. Therefore, the conventional ball milling, bead ball milling, high energy ball milling, high energy mixer, etc., as well as the blading method can be applied It may be. In the case of the blading method, the blade is rotated at a speed of 5,000 to 15,000 rpm. FIG. 7 is an electron micrograph of a CNT-Ag mixed powder after blazing at 10,000 rpm for 10 minutes. FIG.

본 발명이 제공하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법에 이용되고, 본 발명의 특허청구범위를 이루기도 하는 에어로졸 증착장치는 도 1에서 보듯이 에어로졸 챔버(10), 증착챔버(20) 및 수송관(30)을 포함하여 구성되어 있다. 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법의 (b)단계 및 (c)단계는 상기 에어로졸 증착장치를 이용하여 시행된다.The aerosol deposition apparatus used in the CNT-metal mixed film manufacturing method for electric field emission provided by the present invention, and also achieves the claims of the present invention, as shown in Figure 1 aerosol chamber 10, the deposition chamber 20 and It is comprised including the transport pipe 30. Steps (b) and (c) of the method for preparing the field emission CNT-metal mixed film are performed using the aerosol deposition apparatus.

상기 에어로졸 챔버(10)에는 볼밀링 또는 블레이딩으로 전처리된 CNT-금속 혼합분말(1)이 도입된다. 상기 에어로졸 챔버(10) 내에는 가스유입부(11)를 통해 수송가스(2)가 분사된다. 상기 가스유입부(11)에는 유량조절부(12)를 장착하여 일정한 양의 수송가스가 공급되도록 할 수 있다. 에어로졸 챔버(10) 바닥에 위치한 CNT-금속 혼합분말에 수송기체가 분사되면, CNT-금속 혼합분말 입자들이 기상으로 날리게 되며 이에 따라 에어로졸(3)이 형성된다((b)단계). 만일 전술한 (a)단계를 거치지 않은 경우에는 도 2의 좌측 그림에서 보이듯이 에어로졸화 될 때 밀도 및 형상의 차이에 의하여 상분리가 일어나며 CNT가 먼저 토출되어 균일한 CNT-금속 혼합막 제조가 불가능하게 된다. 그러나 전술한 (a)단계(볼밀링 또는 블레이딩에 의한 전처리 단계)를 거친 CNT-금속 혼합분말 입자는 도 2의 우측그림에 나타난 바와 같이 CNT-금속(Ag)간 밀착력으로 인하여 균일한 CNT-금속(Ag) 혼합분말 에어로졸이 된다. 위와 같은 전처리 단계는 인라인이나 롤투롤(roll-to-roll) 등과 같은 대면적 연속 코팅시 반드시 필요한 공정 기술이 된다.
The aerosol chamber 10 is introduced with a CNT-metal mixed powder 1 pretreated by ball milling or blading. The transport gas 2 is injected into the aerosol chamber 10 through the gas inlet 11. The gas inlet 11 may be equipped with a flow rate control unit 12 to supply a certain amount of transport gas. When the transport gas is injected into the CNT-metal mixed powder located at the bottom of the aerosol chamber 10, the CNT-metal mixed powder particles are blown to the gas phase, thereby forming an aerosol 3 (step (b)). If the above step (a) is not performed, as shown in the left figure of FIG. 2, phase separation occurs due to a difference in density and shape when aerosolized, and CNTs are first discharged, thereby making it impossible to manufacture a uniform CNT-metal mixed film. do. However, the CNT-metal mixed powder particles which have undergone the above-described step (a) (pretreatment by ball milling or blading) are uniform CNT- due to the adhesion between the CNT-metals (Ag) as shown in the right figure of FIG. It becomes a metal (Ag) mixed powder aerosol. This pretreatment step is a necessary process technology for large area continuous coating such as in-line or roll-to-roll.

위와 같은 (a)단계와 (b)단계를 통해 형성된 CNT-금속 혼합분말 에어로졸(3)은 상기 에어로졸 챔버(10)와 저진공상태의 증착챔버(20)간의 압력차에 의해 수송관(30)을 지나 증착챔버(20)로 고속으로 가속되어 분사되고, 이로써 기재 상에 에어로졸이 기재에 증착되어 전계방출용 CNT-금속 혼합막이 형성된다((c)단계). 상기 증착챔버(20) 내부로 관입된 수송관(30)의 단부 말단에는 단면적과 형상이 다른 여러 가지 분사노즐(31)을 결합시켜 에어로졸의 분사속도를 조절할 수 있다. 고속으로 가속된 상기 에어로졸은 기재(21)에 부딛혀 증착된다. 상기 기재(21)로는 금속기판(실시예에서는 알루미늄 기판을 사용함) 또는 투명전도막을 적용할 수 있다. 상기 기재(21)는 홀더(22)에 고정시키고, 홀더(15)는 높이조절부(16)에 결합시킴으로써 기재(21)와 분사노즐(31) 간의 거리를 조절할 수 있다. 에어로졸(3)이 분사되어 기재에 증착되기 위한 임계속도는 150m/sce 이상이다. 상기 에어로졸(3)이 기재에 증착된 후 남아 있는 증착챔버(20) 내의 가스는 도 1에 도시된 바와 같은 배기부(24)를 통해 배출되도록 할 수 있다.CNT-metal mixed powder aerosol (3) formed through the steps (a) and (b) as described above is a transport pipe 30 by the pressure difference between the aerosol chamber 10 and the deposition chamber 20 in a low vacuum state After passing through the deposition chamber 20 at high speed, the aerosol is deposited on the substrate to form a CNT-metal mixed film for field emission (step (c)). An injection end of the aerosol may be controlled by combining various injection nozzles 31 having different cross-sectional areas and shapes at the end of the transport pipe 30 introduced into the deposition chamber 20. The aerosol accelerated at high speed is deposited upon the substrate 21. As the substrate 21, a metal substrate (in the embodiment, an aluminum substrate is used) or a transparent conductive film may be used. The substrate 21 may be fixed to the holder 22, and the holder 15 may be coupled to the height adjusting unit 16 to adjust the distance between the substrate 21 and the injection nozzle 31. The critical velocity for the aerosol 3 to be injected and deposited on the substrate is 150 m / sce or more. The gas in the deposition chamber 20 remaining after the aerosol 3 is deposited on the substrate may be discharged through the exhaust 24 as shown in FIG. 1.

다만, (b)단계와 (c)단계를 진행해 가면서 에어로졸 챔버(10) 내부의 구석 구석에는 도 3에 도시된 바와 같이 CNT-금속 혼합분말이 쌓이기 시작하며, 이렇게 쌓인 CNT-금속 혼합분말의 부피가 커졌을 때에는 간헐적으로 분말 덩어리 상태의 토출이 일어나기도 하여 균일한 박막 형성에 심각한 문제점을 초래하게 된다.However, as the process proceeds to steps (b) and (c), the CNT-metal mixed powder begins to accumulate in the corners of the interior of the aerosol chamber 10, and thus the volume of the CNT-metal mixed powder thus accumulated. When becomes large, discharge of powder lump state may occur intermittently, and serious problem arises in uniform thin film formation.

이를 해결하기 위해서는 도 4에 도시된 바와 같이 전원에 의해 회전시킬 수 있는 자석회전자(13)를 상기 에어로졸 챔버의 내부 바닥면에 결합시키고, 상기 자석회전자를 회전시킴에 의해 CNT-금속 혼합분말들이 에어로졸 챔버의 구석 구석에 쌓이는 것을 막을 수 있다. 경우에 따라서는 작은 자석 여러 개를 회전자로 설치할 수도 있으며, 긴 막대형 자석 한 개를 회전자로 적용할 수도 있다.In order to solve this problem, as shown in FIG. 4, the magnet rotor 13 which can be rotated by a power source is coupled to the inner bottom surface of the aerosol chamber, and the magnet rotor is rotated to rotate the CNT-metal mixed powder. To prevent them from accumulating in every corner of the aerosol chamber. In some cases, several small magnets may be installed as the rotor, and one long rod magnet may be used as the rotor.

또한, 상기 에어로졸 챔버 내부로 수송가스를 공급하는 가스유입부를 도 5에 도시된 바와 같이 미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성함으로써 에어로졸 챔버 내 구석 구석까지 수송가스를 불어넣어 CNT-금속 혼합분말들이 중력에 의하여 침강되거나 운동에너지를 잃어 정체되는 등의 현상을 막을 수 있다. 이와 같은 형태의 가스유입부는 에어로졸 챔버 상단부나 측면부에 구비되도록 구성할 수 있으며, 경우에 따라서는 바닥부에 구비시켜 둘 수도 있다. 또한, 조건에 따라서는 샤워기형 가스유입부의 크기, 미세공의 크기 및 개수, 수송가스 분사 방향 등을 조절하거나, 경우에 따라서는 상기 샤워기형 가스유입부가 회전되도록 할 수 있다. 이 경우 상기 (b)단계에서는 상기 에어로졸 챔버 내에서 수송가스의 회전기류가 형성되어, CMT-금속 분말들이 에어로졸 챔버 바닥에 적층되지 않게 된다.
In addition, the gas inlet for supplying the transport gas into the aerosol chamber in the form of a shower with a plurality of micropores as shown in Figure 5 by blowing the transport gas to every corner of the aerosol chamber CNT-metal mixed powder to gravity This can prevent phenomena such as settling down or losing kinetic energy. The gas inlet of this type can be configured to be provided at the upper end or side portion of the aerosol chamber, and in some cases may be provided at the bottom. Further, depending on the conditions, the size of the shower-type gas inlet, the size and number of fine pores, the transport gas injection direction, etc. may be adjusted, or in some cases, the shower-type gas inlet may be rotated. In this case, in the step (b), a rotary air stream of a transport gas is formed in the aerosol chamber so that the CMT-metal powders are not laminated to the aerosol chamber bottom.

도 8은 본 발명이 제공하는 방법에 의해 알루미늄 기판에 형성된 CNT-Ag 혼합막의 전자현미경 사진이다. 사진에 나타난 바와 같이 상당량의 CNT들이 Ag막에 혼입되어 있음을 알 수 있고, 볼밀링효과에 의하여 CNT와 Ag가 균일하게 혼합된 막을 얻어낼 수 있었다. 도 9는 알루미늄 기판에 형성된 CNT-Ag 혼합막의 XRD 패턴을 나타낸 것으로서 Al, Ag, CNT 모두가 검출됨을 알 수 있었다. 도 10은 알루미늄 기판에 형성된 CNT-Ag 혼합막의 전계방출 물성을 측정한 데이터이다. 생성막 그대로 측정한 결과(Original(blue))와 테이핑 방법을 통하여 전처리한 결과(Tape method(red))를 비교하였다. 테이핑 방법 처리를 통한 것이 낮은 전압에서 전자가 방출됨을 알 수 있었다. 이는 CNT 팁이 테이핑 방법에 의해서 전극에 수직으로 서는 현상이 증가되었기 때문이다.8 is an electron micrograph of a CNT-Ag mixed film formed on an aluminum substrate by a method provided by the present invention. As shown in the photograph, it can be seen that a significant amount of CNTs are incorporated into the Ag film, and a film in which CNTs and Ag are uniformly mixed can be obtained by the ball milling effect. 9 shows the XRD pattern of the CNT-Ag mixed film formed on the aluminum substrate, it can be seen that all of Al, Ag, CNT is detected. 10 is data of measuring field emission properties of the CNT-Ag mixed film formed on the aluminum substrate. The result of the measurement of the resulting film (Original (blue)) and the result of pretreatment using the taping method (Tape method (red)) were compared. Through the taping method treatment, it can be seen that electrons are emitted at a low voltage. This is because the phenomenon that the CNT tip stands perpendicular to the electrode by the taping method is increased.

추가적으로 본 발명을 통해 제조된 CNT-Ag 혼합막을 400℃ 이하에서 간단히 열처리한 결과 도 10의 결과 값보다 10~20 % 향상된 전계방출 물성을 보였는데, 이는 CNT의 잔해(debris)가 제거되어 막의 계면물성이 향상된 것으로 해석된다.
In addition, when the CNT-Ag mixed membrane prepared through the present invention was simply heat treated at 400 ° C. or lower, the field emission property was improved by 10 to 20% from the result shown in FIG. 10, which removes debris of CNTs and thus interfaces the membrane. It is interpreted that the physical properties are improved.

본 발명은 위에서 언급한 바와 같이 첨부된 도면과 관련하여 설명되었으나 본 발명의 요지를 벗어남이 없는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하며, 다양한 분야에서 사용 가능하다. 따라서 본 발명의 청구범위는 본 발명의 진정한 범위 내에 속하는 수정 및 변형을 포함한다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. Therefore, the claims of the present invention include modifications and variations that fall within the true scope of the present invention.

1 : CNT-금속 혼합분말 2 : 수송가스
3 : 에어로졸 4 : 배출가스
10 : 에어로졸 챔버
11 : 가스유입부 11' : 샤워기형 가스유입부
12 : 유량조절부 13 : 자석회전자
20 : 증착챔버
21 : 기재 22 : 홀더
23 : 높이조절부 24 : 배기부
30 : 수송관
31 : 분사노즐
100 : 에어로졸 증착장치1: CNT-metal mixed powder 2: Transport gas
3: aerosol 4: exhaust gas
10: aerosol chamber
11 gas inlet 11 ': shower-type gas inlet
12: flow rate control unit 13: magnet rotor
20: deposition chamber
21: substrate 22: holder
23: height adjustment 24: exhaust
30: pipeline
31: injection nozzle
100: aerosol deposition apparatus

Claims (8)

미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성된 가스유입부가 구비된 에어로졸 챔버; 내부에 기재가 배치된 저진공상태의 증착챔버; 및 일단은 상기 에어로졸 챔버와 연통되고 타단은 상기 증착챔버 내에 삽입되어 상기 기재를 향해 개구되어 있는 수송관; 을 포함하여 구성된 에어로졸 증착장치에 의해 다음의 각 단계로 시행되는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
(a) CNT-금속 혼합분말에 기계적 충돌에너지를 가하는 전처리 단계;
(b) 전처리된 CNT-금속 혼합분말을 상기 에어로졸 챔버에 도입하고, 상기 CNT-금속 혼합분말에 수송가스를 직접 분사하여 에어로졸화시키되, 상기 샤워기 형태의 가스유입부에 의해 수송가스를 에어로졸 챔버의 전 영역에 유입시킴으로써, 에어로졸 챔버 바닥에 CNT-금속 혼합분말이 적층되지 않도록 하는 작업이 함께 시행되는 단계; 및
(c) 상기 에어로졸을 진공팽창원리로 가속하여 상기 수송관을 통해 상기 증착챔버 내부로 토출시킴으로써, 상기 기재에 증착시키는 단계;
An aerosol chamber having a gas inlet configured in the form of a shower having a plurality of micropores; A low vacuum deposition chamber having a substrate disposed therein; And a transport tube having one end communicating with the aerosol chamber and the other end inserted into the deposition chamber and open toward the substrate. Method for producing a field emission CNT-metal mixed film carried out in each of the following steps by an aerosol deposition apparatus configured to include.
(a) a pretreatment step of applying mechanical collision energy to the CNT-metal mixed powder;
(b) introducing a pretreated CNT-metal mixed powder into the aerosol chamber, and aerosolizing the CNT-metal mixed powder by directly injecting a transporting gas into the aerosol chamber; Incorporating the entire area, thereby preventing the CNT-metal mixed powder from being deposited on the bottom of the aerosol chamber; And
(c) depositing the aerosol on the substrate by accelerating the aerosol with a vacuum expansion principle and discharging the aerosol through the transport tube into the deposition chamber;
제1항에서,
상기 샤워기 형태의 가스유입부는 전원 공급에 의해 회전하도록 구성되어,
상기 (b)단계에서는 상기 에어로졸 챔버 내에서 수송가스의 회전기류를 형성시키는 것을 특징으로 하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
In claim 1,
The gas inlet of the shower type is configured to rotate by power supply,
In the step (b), the CNT-metal mixed film for field emission, characterized in that for forming a rotary air stream of the transport gas in the aerosol chamber.
제1항에서,
상기 금속은 Ag, Au, Al, Zn, Pd, Sn, Pt, Fe, Co, Ni, W 및 Mo 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
In claim 1,
The metal is Ag, Au, Al, Zn, Pd, Sn, Pt, Fe, Co, Ni, W and Mo, characterized in that the field emission CNT-metal mixed film manufacturing method.
제1항에서,
상기 기재는 금속기판 또는 투명전도막인 것을 특징으로 하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
In claim 1,
The substrate is a method for producing a field emission CNT-metal mixed film, characterized in that the metal substrate or a transparent conductive film.
제1항에서,
상기 (a)단계는 볼밀링법에 의해 기계적 충돌에너지를 가하는 것을 특징으로 하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
In claim 1,
The step (a) is a method for producing a field emission CNT-metal mixed film, characterized in that the mechanical impact energy is applied by a ball milling method.
제1항에서,
상기 (a)단계는 블레이드 회전에 의해 기계적 충돌에너지를 가하는 것을 특징으로 하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
In claim 1,
The step (a) is a method for producing a field emission CNT-metal mixed film, characterized in that for applying mechanical impact energy by rotating the blade.
제6항에서,
상기 블레이드는 5,000~15,000rpm의 속도로 회전시키는 것을 특징으로 하는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법.
The method of claim 6,
The blade is a method for producing a field emission CNT-metal mixed film, characterized in that for rotating at a speed of 5,000 ~ 15,000rpm.
가스유입부가 구비된 에어로졸 챔버;
내부에 기재가 배치된 저진공상태의 증착챔버; 및
일단은 상기 에어로졸 챔버와 연통되고 타단은 상기 증착챔버 내에 삽입되어 상기 기재를 향해 개구되어 있는 수송관; 을 포함하여 구성되며,
상기 가스유입부는 미세공이 다수 형성된 샤워기 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착장치.An aerosol chamber having a gas inlet;
A low vacuum deposition chamber having a substrate disposed therein; And
A transport tube having one end in communication with the aerosol chamber and the other end inserted into the deposition chamber and open toward the substrate; And,
The gas inlet is aerosol deposition apparatus, characterized in that configured in the form of a shower formed with a plurality of micropores.
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