KR101212084B1 - Method of applying liquid material and method of assembling developer holding unit - Google Patents

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가즈노리 이와모토
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후지제롯쿠스 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류에서의 현상제의 누설을 저감하는 액상 재료 도포 방법, 또는 현상제 유지체 유닛 조립 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention provides a liquid material application method or a method for assembling a developer holder unit which reduces the leakage of the developer upstream of the moving direction of the developer holder surface rather than a portion where the developer removal member and the developer holder contact each other. It aims to do it.

현상제 수용부의 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 하우징에 대해 고정되어 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 노즐을 이동시키는 것으로 해당 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과, 제 1 가장자리에 대하여 현상제 수용부를 사이에 둔 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 하우징에 대해 고정되어 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 노즐을 이동시키는 것으로, 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는다. The developer is removed from the portion corresponding to the support member which is fixed to the housing and supports the developer removal member with respect to the first region outside the first edge located at the longitudinal end side of the developer removal member of the developer accommodating portion. The first application process of applying the liquid material by moving the nozzle toward the contact area between the member and the developer holder, and the second area outside the second edge with the developer accommodating portion between the first edge and the second edge. And a second application process of applying a liquid material by moving the nozzle from a portion corresponding to the support member fixed to the housing to support the developer removal member to a portion where the developer removal member and the developer holder come into contact with each other. .

클리닝 장치, 클리닝 틀, 펠트 부착면, 블레이드, 필름 부재, 탄성층 Cleaning device, cleaning frame, felt attachment surface, blade, film member, elastic layer

Description

액상 재료 도포 방법 및 현상제 유지체 유닛 조립 방법{METHOD OF APPLYING LIQUID MATERIAL AND METHOD OF ASSEMBLING DEVELOPER HOLDING UNIT}Liquid material coating method and developer holder unit assembly method {METHOD OF APPLYING LIQUID MATERIAL AND METHOD OF ASSEMBLING DEVELOPER HOLDING UNIT}

본 발명은 액상으로 도포하여 고화(固化)시키는 액상 재료의 액상 재료 도포 방법, 또는 상기 액상 재료를 도포하여 현상제 유지 유닛을 조립하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid material application method of a liquid material applied by solidification and solidified, or a developer holder unit assembly method of assembling a developer holding unit by applying the liquid material.

특허문헌 1에는 현상제를 수납하는 클리너 용기(1)에 대하여 블레이드(2)를 부착하는 것으로 구성되고, 클리너 용기(1)와 블레이드(2) 사이의 극간(隙間)에 실 재로서 액상 일래스토머(elastomer)를 도포 또는 주입하여 해당 극간을 밀봉하여 이루어지는 토너 카트리지에서, 클리너 용기(1)와 블레이드(2)와의 극간에 액상 일래스토머를 도포하는 경우에, 점도(粘度)에 의한 토출 응답성의 악화, 노즐 선단의 고화물(전(前) 도포시의 잔류)의 유무 등에 의해, 도포 영역에서의 시점과 종점의 도포량이 안정되지 않기 때문에, 도포 영역에서의 시점 및 종점의 범위에서 도포량에 큰 편차가 발생한다는 과제에 대하여, 도포 영역 이외의 장소에서 도포 직전에 토출하여 버리는 방법을 병용하는 것으로, 해당 시점 및 종점의 도포량을 안정시키는 방법과, 용기의 액상 일래스토머의 도포 또는 주입 영역의 시점 부분과 종점 부 분에 중간 도포량보다 다량으로 도포하기 위한 구멍 형상을 형성하여, 그 시점 부분과 종점 부분의 액상 일래스토머 도포량을 중간 영역 부분의 도포량보다도 크게 설정하는 방법이 기재되어 있다.The patent document 1 consists of attaching the blade 2 with respect to the cleaner container 1 which accommodates a developer, and is liquid elasto as the substance between the cleaner container 1 and the blade 2 as a real thing. In a toner cartridge formed by applying or injecting an elastomer to seal the gap, a discharge response due to viscosity in the case of applying a liquid elastomer between the gap between the cleaner container 1 and the blade 2 Due to deterioration of properties and the presence of solidified material at the tip of the nozzle (remaining at the time of pre-coating), the coating amount at the starting point and the end point in the coating area is not stabilized. With respect to the problem that a large deviation arises, the method of discharging immediately before application | coating in a place other than an application | coating area is used together, the method of stabilizing the application | coating amount of the said time point and an end point, and the liquid phase of a container. A hole shape is formed in the starting point and the end point of the application or injection region of the elastomer in a larger amount than the intermediate coating amount, and the liquid elastomer coating amount of the starting point and the end point is set to be larger than that of the intermediate region. The method of making is described.

[특허문헌 1] 일본국 특허공개 2002-162820호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Publication No. 2002-162820

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류에서의 현상제의 누설을 저감하는 액상 재료 도포 방법, 또는 현상제 유지체 유닛 조립 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. This invention is made | formed in view of the said situation, The liquid material application | coating method or image development which reduces the leakage of a developer in the moving direction upstream of the said developer holding body surface rather than the site | part which a developer removal member and a developer holding body contact. It is an object to provide a method for assembling a holding body unit.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액상 재료 도포 방법 중 제 1 액상 재료 도포 방법은, 표면이 이동하는 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 이 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대하여 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 액상 재료 도포 방법으로서,In the liquid material application method of the present invention for achieving the above object, the first liquid material application method is in contact with each other along a direction crossing the moving direction of the developer holder surface on which the surface is moved, The nozzle is removed while discharging a liquid material from the nozzle which is attached to the housing and has a developer accommodating portion for accommodating the developer removed by the developer removing member. As a liquid material applying method for applying this liquid material by moving relative to the housing,

상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,The part corresponding to the support member which is fixed with respect to the said housing and supports the said developer removal member with respect to the 1st area | region outside the 1st edge located in the longitudinal direction end side of the said developer removal member of the said developer accommodating part. A first application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle toward a portion where the developer removing member and the developer holder contact each other;

상기 제 1 가장자리에 대해 상기 현상제 수용부를 사이에 둔 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는 것을 특징으로 한다.The developer from a portion corresponding to a support member that is fixed to the housing and supports the developer removal member with respect to a second region outside the second edge with the developer accommodation portion interposed with the first edge; The nozzle is relatively moved toward a portion where the removal member and the developer holder come into contact with each other, and have a second coating step of applying the liquid material.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액상 재료 도포 방법 중 제 2 액상 재료 도포 방법은, 표면이 이동하는 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 이 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대하여 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 액상 재료 도포 방법으로서,The second liquid material application method of the liquid material application method of the present invention for achieving the above object is in contact with the direction crossing the moving direction of the developer holder surface to which the surface is moved, The nozzle is removed while discharging a liquid material from the nozzle which is attached to the housing and has a developer accommodating portion for accommodating the developer removed by the developer removing member. As a liquid material applying method for applying this liquid material by moving relative to the housing,

상기 현상제 수용부의 지지 부재가 배치된 측에 위치하는 제 3 가장자리보다도 외측에서, 또한 상기 지지 부재가 상기 하우징에 장착되었을 때에 상기 지지 부재와 상기 하우징이 대향하는 제 3 영역에 대하여, 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 3 도포 과정과,From the outside of the third edge located at the side where the support member of the developer accommodating portion is disposed, and when the support member is mounted to the housing, the nozzle is positioned with respect to the third region where the support member and the housing face each other. Relatively moving, the third coating step of applying the liquid material,

상기 제 3 도포 과정에 연속하여 상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,The developer removal member is fixed to the housing with respect to the first region outside the first edge located at the longitudinal end side of the developer removal member of the developer accommodating portion in the third application process. A first application step of applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the supporting member to be supported toward a portion where the developer removing member and the developer holder come into contact;

상기 제 1 가장자리에 대해 상기 현상제 수용부를 사이에 둔 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는 것을 특징으로 한다.The developer from a portion corresponding to a support member that is fixed to the housing and supports the developer removal member with respect to a second region outside the second edge with the developer accommodation portion interposed with the first edge; The nozzle is relatively moved toward a portion where the removal member and the developer holder come into contact with each other, and have a second coating step of applying the liquid material.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액상 재료 도포 방법 중 제 3 액상 재료 도포 방법은, 표면이 이동하는 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 이 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대해 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 액상 재료 도포 방법으로서,The third liquid material application method of the liquid material application method of the present invention for achieving the above object is in contact with each other along the direction crossing the moving direction of the developer holder surface on which the surface is moved, The nozzle is removed while discharging a liquid material from the nozzle which is attached to the housing and has a developer accommodating portion for accommodating the developer removed by the developer removing member. As a liquid material application method for applying this liquid material by moving relative to the housing,

상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,The part corresponding to the support member which is fixed with respect to the said housing and supports the said developer removal member with respect to the 1st area | region outside the 1st edge located in the longitudinal direction end side of the said developer removal member of the said developer accommodating part. A first application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle toward a portion where the developer removing member and the developer holder contact each other;

상기 현상제 수용부의 지지 부재가 배치된 측에 위치하는 제 3 가장자리보다도 외측에서, 또한 상기 지지 부재가 상기 하우징에 장착되었을 때에 상기 지지 부 재와 상기 하우징이 대향하는 제 3 영역에 대하여, 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 3 도포 과정과,From the outside of the 3rd edge located in the side where the support member of the said developer accommodating part is arrange | positioned, and with respect to the 3rd area | region which the said support member and the said housing oppose when the said support member is mounted in the said housing, Relatively moving, the third coating step of applying this liquid material,

상기 제 3 도포 과정에 연속하여 상기 제 1 가장자리에 대해 상기 현상제 수용부를 사이에 둔 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는 것을 특징으로 한다.A support member fixed to the housing and supporting the developer removing member with respect to the second region outside the second edge with the developer receiving portion interposed with respect to the first edge in succession to the third application process. It is characterized by having a 2nd application | coating process of apply | coating this liquid material by moving the said nozzle relatively from the site | part corresponding to to the site | part which the said developer removal member and the said developer holding body contact | connect.

여기에서, 상기 제 1 도포 과정에서 상기 제 1 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 1 이간 과정과, 상기 제 2 도포 과정에서 상기 제 2 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 2 이간 과정을 갖는 것이 바람직하다.Here, after applying the liquid material to the first region in the first application process, the first separation process of placing a relative distance between the nozzle and the housing in the gravity direction, and the second application process in the second application process After applying the liquid material to the two regions, it is desirable to have a second spacing process that puts a relative distance between the nozzle and the housing in the gravity direction.

또한, 상기 제 1 도포 과정과 상기 제 1 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, 상기 제 2 도포 과정과 상기 제 2 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것이 바람직하고, 또한 상기 제 1 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, 상기 제 2 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이 에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것도 바람직한 형태이다.Further, between the first application process and the first separation process, a first stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle, and between the second application process and the second separation process, the nozzle It is preferable to have a second stop process for stopping the discharge of the liquid material from the above, and further, while the distance from the nozzle in the direction of gravity between the nozzle and the housing in the first separation process, A first stop process for stopping the discharge of the liquid material and a second stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle while keeping a distance in the gravity direction between the nozzle and the housing in the second separation process; Having a two stop process is also a preferred form.

여기서, 상기 액상 재료가 열가소성 일래스토머인 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the said liquid material is a thermoplastic elastomer.

또한, 상기 열가소성 일래스토머가 핫멜트형 접착제인 것도 바람직한 형태이다.Moreover, it is also a preferable aspect that the said thermoplastic elastomer is a hot melt adhesive.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 현상제 유지체 유닛 조립 방법은, 표면이 이동하는 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 이 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대하여 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포한 후에 상기 현상제 제거 부재를 장착하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법으로서,The developer holder unit assembly method of the present invention for achieving the above object is in contact with each other along a direction crossing the moving direction of the developer holder surface on which the surface moves, and the developer on the developer holder surface is removed. And the nozzle is discharged from the nozzle while discharging the liquid material, which is applied in a liquid state and solidified in a housing having a developer accommodating portion for accommodating the developer removed by the developer removal member, from the nozzle. A method of assembling a developer holder unit in which the developer removal member is mounted after applying the liquid material by moving relatively.

상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,The part corresponding to the support member which is fixed with respect to the said housing and supports the said developer removal member with respect to the 1st area | region outside the 1st edge located in the longitudinal direction end side of the said developer removal member of the said developer accommodating part. A first application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle toward a portion where the developer removing member and the developer holder contact each other;

상기 제 1 가장자리에 대하여 상기 현상제 수용부를 사이에 둔 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 이 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정과,The developer from a portion corresponding to a support member that is fixed to the housing and supports the developer removal member with respect to a second region outside the second edge with the developer accommodation portion interposed with the first edge; A second application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle toward a portion where the removal member and the developer holder contact;

상기 제 1 도포 과정 및 상기 제 2 도포 과정에서 도포한 액상 재료가 고화하기 전에, 상기 현상제 제거 부재를 상기 하우징에 대해 장착하는 현상제 제거 부재 장착 공정을 갖고,And a developer removal member mounting step of mounting the developer removal member to the housing before the liquid material applied in the first application process and the second application process is solidified,

상기 현상제 제거 부재의 상기 액상 재료와 접촉하는 부위의 표면의 10점(点) 평균 거칠기는 상기 제 1 영역 표면 및 제 2 영역 표면의 10점 평균 거칠기에 대하여 높은 것을 특징으로 한다. The ten point average roughness of the surface of the portion of the developer removal member in contact with the liquid material is high relative to the ten point average roughness of the surface of the first region and the surface of the second region.

여기에서, 상기 제 1 도포 과정에서 상기 제 1 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 1 이간 과정과, 상기 제 2 도포 과정에서 상기 제 2 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 2 이간 과정을 갖는 것이 바람직하다.Here, after applying the liquid material to the first region in the first application process, the first separation process of placing a relative distance between the nozzle and the housing in the gravity direction, and the second application process in the second application process After applying the liquid material to the two regions, it is desirable to have a second spacing process that puts a relative distance between the nozzle and the housing in the direction of gravity.

또한, 제 1 도포 과정과 상기 제 1 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, 상기 제 2 도포 과정과 상기 제 2 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것이 바람직하다.Further, between the first application process and the first separation process, a first stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle, and between the second application process and the second separation process, from the nozzle It is preferable to have a 2nd stop process which stops discharge of the said liquid material of the.

또한, 상기 제 1 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, 상기 제 2 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중 력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것도 바람직한 형태이다.In addition, during the first separation process, while stopping the discharge of the liquid material from the nozzle while the distance in the gravity direction between the nozzle and the housing, and in the second separation process It is also a preferable aspect to have a 2nd stop process which stops discharge of the said liquid material from the said nozzle, while leaving the distance in the gravity direction between the said nozzle and the said housing.

여기서, 상기 액상 재료가 열가소성 일래스토머인 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the said liquid material is a thermoplastic elastomer.

또한, 상기 열가소성 일래스토머가 핫멜트형 접착제인 것도 바람직한 형태이다. Moreover, it is also a preferable aspect that the said thermoplastic elastomer is a hot melt adhesive.

청구항 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 하나에 따른 액상 재료 도포 방법에 의하면, 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 도포할 때에, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위를 향해서 노즐을 이동했을 때와 비교하여, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류에서의 현상제의 누설을 저감할 수 있다.According to the liquid material applying method according to any one of claims 1 to 3, the developer is removed from the site where the developer removing member and the developer holder are in contact when applying the liquid material that is applied and solidified in a liquid state. Leakage of the developer in the moving direction upstream of the surface of the developer holder, as compared with when the nozzle is moved toward the portion corresponding to the support member for supporting the member, compared with the portion where the developer removal member contacts the developer holder. Can be reduced.

청구항 제 4 항에 따른 액상 재료 도포 방법에 의하면, 본 발명을 채용하지 않은 경우와 비교하여, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류로의 액상 재료의 도포량을 많게 했을 경우의 형상을 조정할 수 있다.According to the liquid material applying method according to claim 4, the liquid phase upstream of the moving direction of the developer holder body is higher than the site where the developer removal member and the developer holder contact with each other in comparison with the case where the present invention is not employed. The shape at the time of increasing the application amount of a material can be adjusted.

청구항 제 5 항 또는 제 6 항에 따른 액상 재료 도포 방법에 의하면, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류의 토너 누설을 방지하는데 바람직하고, 하우징으로부터 현상제 유지체를 향하여 작아지는 형상을 형성할 수 있다.The liquid material applying method according to claim 5 or 6 is preferable to prevent toner leakage upstream of the moving direction of the surface of the developer holder, rather than a portion where the developer removal member and the developer holder contact each other. The shape which becomes small toward the developer holder from can be formed.

청구항 제 7 항 또는 제 8 항에 따른 액상 재료 도포 방법에 의하면, 액상 재료의 취급이 용이해진다.According to the liquid material applying method according to claim 7, the handling of the liquid material becomes easy.

청구항 제 9 항에 따른 현상제 유지체 유닛 조립 방법에 의하면, 본 발명을 채용하지 않은 경우와 비교하여, 하우징으로부터 현상제 제거 부재를 때어냈을 때에 액상 재료가 현상제 제거 부재에 부착되어 하우징으로부터 이간하기 쉬워지도록 구성할 수 있다.According to the method for assembling the developer holder unit according to claim 9, the liquid material adheres to the developer removal member and is separated from the housing when the developer removal member is removed from the housing as compared with the case where the present invention is not employed. It can be configured to be easy to do.

청구항 제 10 항에 따른 현상제 유지체 유닛 조립 방법에 의하면, 본 발명을 채용하지 않은 경우와 비교하여, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류로의 액상 재료의 도포량을 많게 했을 경우의 형상을 조정할 수 있다.According to the method for assembling the developer holder unit according to claim 10, compared with the case where the present invention is not employed, the direction in which the developer removal member and the developer holder come into contact with the moving direction upstream of the developer holder surface. The shape at the time of increasing the application amount of the liquid material to a furnace can be adjusted.

청구항 제 11 항 또는 제 12 항에 따른 현상제 유지체 유닛 조립 방법에 의하면, 현상제 제거 부재와 현상제 유지체가 접촉하는 부위보다도 상기 현상제 유지체 표면의 이동 방향 상류의 토너 누설을 방지하는데 바람직하고, 하우징으로부터 현상제 유지체를 향하여 작아지는 형상을 형성할 수 있다.The method of assembling the developer holder unit according to claim 11 or 12, which is preferable to prevent toner leakage upstream of the moving direction of the developer holder surface, rather than a portion where the developer removal member and the developer holder contact each other. And the shape which becomes small from the housing toward the developer holder can be formed.

청구항 제 13 항 또는 제 14 항에 따른 액상 재료 도포 방법에 의하면, 액상 재료의 취급이 용이해진다. According to the liquid material application | coating method of Claim 13 or 14, handling of liquid material becomes easy.

이하에 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the Example of this invention is described.

도 1은 화상 형성 장치의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of an image forming apparatus.

도 1에 도시한 화상 형성 장치(1)에서는, 대전 롤(11)에 의해 소정의 전하가 부여되어 화살표 A의 방향으로 회전하는 현상제 유지체의 일례인 감광체 드럼(10)의 표면에, 외부로부터 송신되어 온 화상 데이터에 의거하여 노광기(12)에서 생성된 노광 광이 조사됨으로써 정전잠상이 형성되고, 화살표 C의 방향으로 회전하는 현상 롤(131)을 갖는 현상기(13)에 수용된 토너로 이 정전잠상이 현상된다. 이 현상에 의해 얻어진 현상 상은 도시하지 않은 용지 카세트로부터 인출되어 화살표 B의 방향에 반송되어 온 기록 용지상에, 화살표 D의 방향으로 회전하는 전사 롤(14)에 의해 전사되고, 정착기(15)에 의해 정착됨으로써 기록 용지상에 화상 형성이 행하여진다. 한편, 이 화상 형성 장치(1)는 모노크로 화상 전용기이다.In the image forming apparatus 1 shown in FIG. 1, external charges are applied to the surface of the photoconductive drum 10, which is an example of a developer holder which is provided with a predetermined charge by the charging roll 11 and rotates in the direction of an arrow A. FIG. The exposure light generated by the exposure machine 12 is irradiated on the basis of the image data transmitted from the toner, and the electrostatic latent image is formed, and the toner accommodated in the developer 13 having the developing roll 131 rotating in the direction of the arrow C. The electrostatic latent image is developed. The developing image obtained by this phenomenon is transferred by the transfer roll 14 rotating in the direction of the arrow D onto the recording paper drawn out from the paper cassette (not shown) and conveyed in the direction of the arrow B, and to the fixing unit 15. By the fixing, the image is formed on the recording sheet. On the other hand, this image forming apparatus 1 is a monochrome image exclusive machine.

또한, 도 1에는 감광체 드럼(10)의 기록 용지로의 현상 상의 전사를 끝낸 부분에 접촉하여, 감광체 드럼(10)의 표면에 잔류한 잔류물을 제거하는 클리닝 장치(2)가 도시되어 있다.1, the cleaning apparatus 2 which contacts the part which finished the image transfer of the photosensitive drum 10 to the recording paper, and removes the residue which remained on the surface of the photosensitive drum 10 is shown.

도 2는 클리닝 장치의 일부 정면도이다.2 is a partial front view of the cleaning apparatus.

도 2에는 도 1에 도시된 클리닝 장치(2)를 현상기(13) 측으로부터 감광체 드럼(10)을 넘어서 보았을 경우의, 이 클리닝 장치(2)의 단부(端部)가 도시되어 있다. 클리닝 장치(2)는 좌우 대칭이므로, 이하에서는 여기에 도시한 단부에 대해서만 설명한다.FIG. 2 shows an end portion of the cleaning device 2 when the cleaning device 2 shown in FIG. 1 is viewed beyond the photosensitive drum 10 from the developing device 13 side. Since the cleaning device 2 is symmetrical, only the end portions shown here will be described below.

클리닝 장치(2)는 하우징의 일례로서 클리닝 틀(21), 현상제 제거 부재의 일례로서 블레이드(22), 지지부재의 일례로서 블레이드 지지판(23), 필름 부재(24), 및 펠트 부재(25)를 구비하고 있다.The cleaning device 2 includes a cleaning mold 21 as an example of a housing, a blade 22 as an example of a developer removing member, a blade support plate 23 as an example of a support member, a film member 24 and a felt member 25. ).

블레이드(22)는 선단(221)이 접촉하는 감광체 드럼(10)의 표면에 잔류한 잔 류물을 제거한다.The blade 22 removes residues remaining on the surface of the photosensitive drum 10 that the tip 221 contacts.

블레이드 지지판(23)은 블레이드(22)를 지지하는 금속제의 판재이며, 고정 나사(230)에 의해 클리닝 틀(21)에 고정되어 있다.The blade support plate 23 is a metal plate material which supports the blade 22, and is fixed to the cleaning frame 21 by the fixing screw 230. As shown in FIG.

클리닝 틀(21)은 현상제 수용부의 일례로서, 감광체 드럼(10)의 표면으로부터 제거된 잔류물을 수용하는 오목부 공간을 갖고, 이 오목부 공간의 입구(210a)(도 5 참조)의 가장자리의 일부에, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)이 나사 고정되는 본체부(210) 및 감광체 드럼(10)의 양단을 회전 가능하게 유지하는 유지부(211)를 구비하고 있다. 한편, 본체부(210)에는 블레이드 지지판(23)의 위치 결정에 사용되는 보스(2101)에 더하여, 이 클리닝 틀(21)을 화상 형성 장치(1)에서의 소정 위치에 배치하기 위한 위치 결정에 사용되는 보스(2102)도 구비되어 있다. 한편, 이하에서는 클리닝 틀(21)의 유지부(211)에 감광체 드럼(10)을 조립한다는 표현을 편의상 이용한다. 또한, 상세한 설명은 후술하지만, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)의 클리닝 틀(21)로의 나사 고정은, 클리닝 틀(21)의 입구(210a)의 가장자리에 도포된 실 재(20)(도 7 참조)를 사이에 끼워넣으면서 행하여지고, 이것에 의해 오목부 공간에 수용된 잔류물이 클리닝 틀(21)과 블레이드 지지판(23)의 극간으로부터 누설되지 않도록 되어 있다.The cleaning mold 21 is an example of a developer accommodating portion, and has a recess space for receiving a residue removed from the surface of the photosensitive drum 10, and the edge of the inlet 210a (see FIG. 5) of the recess space. The main body portion 210, to which the blade support plate 23 supporting the blades 22 is screwed, and a holding portion 211 rotatably holding both ends of the photosensitive drum 10 are provided. On the other hand, in addition to the boss 2101 used for positioning the blade supporting plate 23, the main body 210 has a position for positioning the cleaning frame 21 at a predetermined position in the image forming apparatus 1. A boss 2102 to be used is also provided. In addition, below, the expression which assembles the photosensitive drum 10 to the holding part 211 of the cleaning frame 21 is used for convenience. In addition, although detailed description is mentioned later, the screw fixing of the blade support plate 23 which supports the blade 22 to the cleaning frame 21 is the material 20 apply | coated to the edge of the inlet 210a of the cleaning frame 21. (Refer FIG. 7), and the residue accommodated in the recess space is prevented from leaking out between the clearances of the cleaning frame 21 and the blade support plate 23 by this.

펠트 부재(25)는 표면인 펠트층(251)과, 이 펠트층(251)을 지지하는 탄성층(252)(도 8, 9 참조)을 갖고 있고, 탄성층(252)은 클리닝 틀(21)의 유지부(211)에 유지된 상태의 감광체 드럼(10)에 의해 약간 눌려 찌그러지는 두께로 되어 있다. 이것에 의해, 펠트층(251)은 감광체 드럼(10)에 밀착되고, 잔류물의 누설이 방지되고 있다.The felt member 25 has the felt layer 251 which is a surface, and the elastic layer 252 (refer FIG. 8, 9) which supports this felt layer 251, The elastic layer 252 has the cleaning frame 21 It is set to the thickness which is slightly pressed and crushed by the photosensitive drum 10 of the state hold | maintained by the holding part 211 of (). Thereby, the felt layer 251 is in close contact with the photosensitive drum 10, and the leakage of the residue is prevented.

또한, 이 펠트 부재(25)는 클리닝 장치(2)의 중앙 측으로 돌출한 볼록부(250)를 갖고 있다. 도 2에는 볼록부(250)의 측면과, 펠트 부재(25)의 볼록부(250) 이외의 부분의 클리닝 블레이드 측의 측면이 클리닝 블레이드(22)의 모서리에 덧붙여 있는 상태가 도시되어 있다. 한편, 여기에서는 감광체 드럼(10)과의 접촉 부분에 펠트층(251)을 사용했지만, 감광체 드럼(10)과의 접촉 부분에 사용하는 재료로서는, 마찰 계수가 작은 재료라면 펠트 재에 한정되는 것은 아니다. 또한, 펠트 부재(25)의 볼록부(250)에 대한 상세한 설명은 후술한다.Moreover, this felt member 25 has the convex part 250 which protruded to the center side of the cleaning apparatus 2. In FIG. 2, the side surface of the convex part 250 and the side of the cleaning blade side of the parts other than the convex part 250 of the felt member 25 are added to the edge of the cleaning blade 22 is shown. In addition, although the felt layer 251 was used for the contact part with the photosensitive drum 10 here, as a material used for the contact part with the photosensitive drum 10, if it is a material with a small coefficient of friction, it will be limited to a felt material. no. In addition, the detail of the convex part 250 of the felt member 25 is mentioned later.

필름 부재(24)는 폴리우레탄제의 시트 모양의 것이고, 선단(241)이 클리닝 틀(21)의 유지부(211)에 유지된 상태의 감광체 드럼(10)에 접촉하는 것으로, 블레이드(22)의 반대 측으로부터의 잔류물의 누설이 방지된다.The film member 24 is a sheet-like thing made of polyurethane, and the tip 22 is contacted with the photosensitive drum 10 in the state hold | maintained at the holding part 211 of the cleaning frame 21, and the blade 22 Leakage of residues from the opposite side of is prevented.

도 3은 블레이드를 지지하는 블레이드 지지판을 나타낸 도면이다.3 is a view showing a blade support plate for supporting the blade.

도 3에는 클리닝 장치(2)의 클리닝 틀(21)에 나사 고정되기 전의, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)이 도시되어 있고, 여기에서는 클리닝 틀(21)에 나사 고정된 상태에서 클리닝 틀(21)과 대향하는 측의 면을 위로 향한 상태에서 도시되어 있다. 한편, 도 3에는 도 2에 도시된 고정 나사(230)가 관통하는 구멍(23a)과, 클리닝 틀(21)의 보스(2101)가 관통하는 구멍(23b)이 설치되어 있는 상태가 도시되어 있다.FIG. 3 shows a blade support plate 23 for supporting the blades 22 before being screwed to the cleaning mold 21 of the cleaning device 2, where the screw support plate 23 is screwed to the cleaning mold 21. It is shown with the surface on the side opposite to the cleaning mold 21 facing up. 3 shows a state in which a hole 23a through which the fixing screw 230 shown in FIG. 2 penetrates, and a hole 23b through which the boss 2101 of the cleaning mold 21 penetrates are provided. .

블레이드 지지판(23)의 클리닝 틀(21)에 나사 고정된 상태에서는, 클리닝 틀(21)과 대향하는 측의 면에 클리닝 틀(21)의 입구(210a)의 가장자리 부분의 10 점(点) 평균 거칠기 Rz보다도 10점 평균 거칠기 Rz가 높은 조면(粗面) 부분(231)이 설치되어 있고, 도 3에는 이 조면 부분(231)이 사선으로 도시되어 있다. 도 3에 사선으로 도시되어 있는 조면 부분(231)은 이 블레이드 지지판(23)이 클리닝 틀(21)에 나사 고정될 때에 클리닝 틀(21)의 입구(210a)의 가장자리에 도포되어 있는 실 재(20)(도 7 참조)와 접촉한다.In a state where the screw is fixed to the cleaning mold 21 of the blade support plate 23, the average of 10 points of the edge portion of the inlet 210a of the cleaning mold 21 is on the surface on the side opposite to the cleaning mold 21. A rough surface portion 231 having a ten-point average roughness Rz higher than the roughness Rz is provided, and this rough surface portion 231 is shown by an oblique line in FIG. 3. The roughened portion 231 shown in diagonal lines in FIG. 3 is a material applied to the edge of the inlet 210a of the cleaning mold 21 when the blade support plate 23 is screwed into the cleaning mold 21 ( 20) (see FIG. 7).

도 4는 도 3에 도시되는 블레이드 지지판의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the blade support plate shown in FIG.

도 4에는 도 3에 도시되는 블레이드 지지판(23)의 A-A' 단면을, 도 3에 도시되는 구멍(23a, 23b) 측으로부터 본 경우가 도시되어 있다. 이렇게, 블레이드 지지판(23)의, 실 재(20)가 접촉하는 조면 부분(231)의 10점 평균 거칠기 Rz를 클리닝 틀(21)의 입구(210a)의 가장자리 부분의 10점 평균 거칠기 Rz보다도 높게 하고, 실 재(20)가 고화(固化)하기 전에 조면 부분(231)과 실 재(20)를 접촉시킴으로써, 사용이 끝난 클리닝 장치(2)를 분해하여 블레이드 지지판(23)을 클리닝 틀(21)로부터 떼어낼 때에는, 실 재(20)가 클리닝 틀(21)이 아닌 블레이드 지지판(23)에 부착되기 쉬운 상태로 구성되어 있다.In FIG. 4, the case where A-A 'cross section of the blade support plate 23 shown in FIG. 3 is seen from the side of the hole 23a, 23b shown in FIG. Thus, the ten point average roughness Rz of the roughening part 231 which the material 20 contacts the blade support plate 23 is higher than the ten point average roughness Rz of the edge part of the inlet 210a of the cleaning frame 21. Then, by contacting the rough surface portion 231 and the material 20 before the material 20 is solidified, the used cleaning device 2 is disassembled to replace the blade support plate 23 with the cleaning frame 21. ), The seal 20 is configured to be easily attached to the blade support plate 23 instead of the cleaning mold 21.

도 5는 클리닝 틀을 나타내는 도면이다.5 is a view showing a cleaning mold.

도 5에는 블레이드 지지판(23), 펠트 부재(25), 및 필름 부재(24)가 본체부(210)에 부착되기 전 상태의 클리닝 틀(21)이 도시되어 있고, 여기에서는 잔류물을 수용하는 오목부 공간의 입구(210a)가 노출된 상태가 도시되어 있다. 한편, 도 5에서는 오목부 공간의 입구(210a)의 가장자리를 형성하는 각 가장자리 부분에 부호 A에서 부호 D까지를 붙이고 있지만, 이것은 이하에서 행하는 설명의 편의 때문 에 붙여진 것이며, 클리닝 틀(21)에 실제로 붙여져 있는 것은 아니다. 또한, 부호 A에서 부호 D까지 중, 부호 A에서 부호 C까지가 붙여진 가장자리 부분에 대하여 실 재(20)가 도포된다.FIG. 5 shows the blade support plate 23, the felt member 25, and the cleaning mold 21 in a state before the film member 24 is attached to the main body portion 210, where the residue containing the residue is contained. The state in which the inlet 210a of the recess space is exposed is shown. In Fig. 5, reference numerals A to D are attached to the respective edge portions forming the edges of the inlet portion 210a of the recess space, but these are attached for the convenience of explanation, which will be described below, It is not actually attached. Moreover, the real 20 is apply | coated with respect to the edge part with which the code | symbol A to the code | symbol C was attached | subjected from code | symbol A to code | symbol D.

여기서, 본 실시예에서의 제 1 영역인 가장자리 부분 B 및 본 실시예에서의 제 2 영역인 가장자리 부분 C는, 감광체 드럼(10) 표면의 이동 방향에 대략 직교하고 있는 감광체 드럼(10)의 축 방향에서, 오목부 개구의 입구(210a)를 형성하는 가장자리를 형성하고 있는 부위에 따른 영역뿐만 아니라, 본 실시예와 같이 해당 가장자리를 형성하고 있는 부위와 블레이드(22)의 감광체 드럼(10)의 축 방향에서의 단부(端部) 사이의 영역을 가리키고, 본 실시예에서의 제 3 영역인 가장자리 부분 A는 블레이드 지지판(23)이 배치된 측에서 오목부 개구의 입구(210a)를 형성하는 가장자리를 형성하고 있는 부위에 따른 영역뿐만 아니라, 본 실시예와 같이 해당 가장자리를 형성하고 있는 부위보다도 오목부 공간에 대하여 외측에서, 또한 블레이드 지지판(23)과 클리닝 틀(21)이 대향하고 있는 영역을 가리키고, 가장자리 부분 D는 필름 부재(12)가 배치된 측에서 오목부 개구의 입구(210a)를 형성하는 가장자리를 형성하고 있는 부위에 따른 영역뿐만 아니라, 본 실시예와 같이 해당 가장자리를 형성하고 있는 부위와 필름 부재(12) 사이의 영역을 가리킨다.Here, the edge part B which is a 1st area | region in this embodiment and the edge part C which is a 2nd area | region in this embodiment are the axis | shafts of the photosensitive drum 10 substantially orthogonal to the moving direction of the photosensitive drum 10 surface. Direction, as well as the region along the portion forming the edge forming the inlet 210a of the recess opening, as well as the portion forming the edge as in this embodiment, and the photosensitive drum 10 of the blade 22. The edge part A which is the area | region between the edge part in an axial direction, and is the 3rd area | region in this embodiment is the edge which forms the inlet 210a of the recess opening in the side in which the blade support plate 23 is arrange | positioned. The blade support plate 23 and the cleaning mold 21 are located on the outer side with respect to the concave space as well as the region according to the portion where the cross section is formed. Pointing to the facing area, the edge portion D, as well as the area along the portion forming the edge forming the inlet 210a of the recess opening at the side where the film member 12 is disposed, as well as the corresponding edge as in the present embodiment The area | region between the site | part which forms the and the film member 12 is pointed out.

여기에서 클리닝 장치(2)의 조립 방법에 대하여 도 5 내지 도 9를 참조하면서 간단히 설명한다.Here, the assembly method of the cleaning apparatus 2 is demonstrated easily, referring FIGS. 5-9.

도 6은 클리닝 장치의 조립 방법의 흐름을 나타내는 도면이다.6 is a view showing the flow of the assembling method of the cleaning apparatus.

도 6에는, 스텝 S1으로서, 액상으로 도포되어 고화하여, 부재 사이의 간극을 메우는 실 부재(20)가 도 5에 도시된 클리닝 틀(21)의 개구(210a)의 가장자리를 형성하는 가장자리 부분 A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C에 도포된다. In Fig. 6, as step S1, an edge portion A in which a seal member 20 which is applied in a liquid phase and solidifies and fills the gap between the members forms an edge of the opening 210a of the cleaning mold 21 shown in Fig. 5. , Edge portion B, and edge portion C are applied.

다음에, 스텝 S2로서, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)이 클리닝 틀(21)에 나사 고정되어 고정된다. 이 단계에서, 입구(210a)의 가장자리 중 가장자리 부분 A, 및 가장자리 부분 B와 가장자리 부분 C의 각 일부가, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)에 덮인 상태가 되어, 입구(210a)는 도 5에 도시된 상태와 비교하여 좁아진 상태가 된다.Next, as step S2, the blade support plate 23 which supports the blade 22 is screwed and fixed to the cleaning die 21. At this stage, the edge portion A of the edge of the inlet 210a, and each portion of the edge portion B and the edge portion C, are covered with the blade support plate 23 supporting the blade 22, so that the inlet 210a is provided. Is narrowed compared with the state shown in FIG.

도 7은 클리닝 틀의 좁아진 입구를 나타내는 도면이다. 또한, 도 7에서는 입구(210a)의 가장자리 중, 부재에 덮여서 보이지 않는 부분의 가장자리에 대하여는 2점 쇄선으로 나타내고, 가장자리 부분에 도포된 실 재(20) 중, 부재에 덮여서 보이지 않는 부분의 실 재(20)에 대해서는 점선으로 나타내고 있다.7 is a view showing a narrowed entrance of the cleaning mold. In FIG. 7, the edge of the part of the inlet 210a covered by the member is shown by a dashed-dotted line, and the part of the material 20 which is applied to the edge part is covered by the member and is not visible. The real 20 is shown by the dotted line.

도 7에는 도 3에 도시된 입구(210a)가 블레이드(22) 등에 덮여서 좁아진 상태를 나타내고 있다.FIG. 7 shows a state in which the inlet 210a shown in FIG. 3 is covered with the blade 22 and narrowed.

또한, 도 7에는 입구(210a)의 가장자리를 구성하는 가장자리 부분 A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C에 도포되어 있는 실 재(20) 중, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)에 덮여 있는 부분의 실 재(20)가, 블레이드(22)를 지지하는 블레이드 지지판(23)의 클리닝 틀(21)에의 고정에 의해 눌려 찌그러져 펴져 있는 상태가 도시되어 있다. 여기서, 도 6으로 돌아가 설명을 계속한다.7, the blade support plate 23 which supports the blade 22 among the materials 20 applied to the edge part A, the edge part B, and the edge part C which comprise the edge of the entrance part 210a is shown in FIG. The state in which the seal | sticker part 20 of the covered part is pressed and crushed by the fixation to the cleaning mold 21 of the blade support plate 23 which supports the blade 22 is shown. Here, the description returns to FIG. 6 and continues.

다음에, 스텝 S3으로서, 펠트 부재(25)가 펠트 부착면(2103)(도 5 참조)에 부착된다. 또한, 스텝 S4로서, 가장자리 부분 D에 필름 부재(24)가 부착된다. 여 기에서는 필름 부재(24)의 하부가 도시하지 않은 양면 테이프에 의해 가장자리 부분 D에 부착된다. 또한, 가장자리 부분 A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C는 동일 면상에 존재하는 데에 대하여, 이 가장자리 부분 D는 그 면과 교차하는 면 위에 존재한다. 또한, 스텝 S5로서, 클리닝 틀(21)의 유지부(211)에 감광체 드럼(10)이 조립된다.Next, as a step S3, the felt member 25 is attached to the felt attaching surface 2103 (see FIG. 5). In addition, the film member 24 is attached to the edge part D as step S4. Here, the lower part of the film member 24 is attached to the edge part D by the double-sided tape which is not shown in figure. Further, the edge portion A, the edge portion B, and the edge portion C are on the same plane, whereas the edge portion D is on the plane that intersects the plane. In addition, as a step S5, the photosensitive drum 10 is assembled to the holding part 211 of the cleaning mold 21.

도 8은 클리닝 틀의 유지부에 감광체 드럼이 조립된 상태를 나타내는 도면이다. 또한, 도 8에서는 번잡함을 회피하기 위해 필름 부재(24)의 도시는 생략되어 있다.8 is a view showing a state where the photosensitive drum is assembled to the holding portion of the cleaning mold. In addition, in FIG. 8, illustration of the film member 24 is abbreviate | omitted in order to avoid the complexity.

도 8에는, 가장자리 부분 B를 도 7 중 화살표 X 방향에서 보았을 경우가 도시되어 있고, 여기에는 펠트 부재(25)가 양면 테이프(26)에 의해 펠트 부착면(2103)에 부착되어 있는 상태가 도시되어 있다. 상술한 바와 같이, 클리닝 틀(21)의 유지부(211)에 감광체 드럼(10)이 조립되었을 때에는 펠트 부재(25)의 탄성층(252)은 다소 압축되기 때문에, 펠트층(251)은 감광체 드럼(10)에 밀착한다. 또한, 이때 가장자리 부분 B에 도포되어 있는 실 재(20)도 양면 테이프(26)와 가장자리 부분 B 사이에서 압축된다. 또한, 도 8에서는 도 2에서 설명한 펠트 부재(25)의 볼록부(250)가 펠트 부착면(2103)보다도 클리닝 장치(2)의 중앙 측으로 돌출되어 있는 상태가 도시되어 있다.In FIG. 8, the case where the edge part B is seen from the arrow X direction in FIG. 7 is shown, Here, the state which the felt member 25 is attached to the felt attachment surface 2103 by the double-sided tape 26 is shown. It is. As described above, since the elastic layer 252 of the felt member 25 is somewhat compressed when the photosensitive drum 10 is assembled to the holding portion 211 of the cleaning mold 21, the felt layer 251 is a photosensitive member. It comes in close contact with the drum 10. In this case, the material 20 applied to the edge portion B is also compressed between the double-sided tape 26 and the edge portion B. In addition, in FIG. 8, the convex part 250 of the felt member 25 demonstrated in FIG. 2 has shown the state which protruded toward the center side of the cleaning apparatus 2 rather than the felt attachment surface 2103. As shown in FIG.

도 9는 감광체 드럼이 조립된 클리닝 부재의 단면도이다.9 is a cross-sectional view of the cleaning member in which the photosensitive drum is assembled.

도 9에는 도 8 중 일점 쇄선으로 도시한 단면을 화살표 Y 방향으로 보았을 경우가 도시되어 있고, 가장자리 부분 D에 양면 테이프(26)에 의해 부착되어 있는 필름 부재(24)의 선단(241)이 펠트 부재(25) 측으로 말려 있는 모양이 도시되어 있다.In FIG. 9, the cross section shown by the dashed-dotted line in FIG. 8 is shown in the arrow Y direction, and the tip 241 of the film member 24 attached by the double-sided tape 26 to the edge part D is felt. The shape rolled up to the member 25 side is shown.

또한, 도 9에는 사선으로 도시되는 실 재(20)가 클리닝 틀(21)과, 클리닝 틀(21)에 고정되는 또는 부착된 부재와의 사이를 간극 없이 메우고 있는 상태를 나타내고 있다.In addition, FIG. 9 shows a state in which the material 20 shown by the diagonal lines fills the gap between the cleaning mold 21 and the member fixed or attached to the cleaning mold 21 without a gap.

이상이, 클리닝 장치(2)의 조립 방법의 대략적인 흐름이다.The above is the approximate flow of the assembling method of the cleaning apparatus 2.

여기서, 이 클리닝 장치(2)에서는, 감광체 드럼(10)에 클리닝 블레이드(22)의 선단(221)을 접촉시켜, 감광체 드럼(10)의 표면으로부터 마찰하여 회수한 잔류물을 클리닝 틀 밖으로 누설되지 않도록, 입구(210a)의 가장자리를 구성하는 가장자리 부분 A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C에의 실 재(20)의 도포에 대해서 고안이 행하여져 있다. 이하에서는, 도 6의 스텝 S1에 도시되는 가장자리 부분A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C에의 실 재(20)의 도포 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Here, in this cleaning apparatus 2, the tip 221 of the cleaning blade 22 is brought into contact with the photosensitive drum 10, and the residue recovered by friction from the surface of the photosensitive drum 10 is not leaked out of the cleaning frame. In order to prevent this, the application is made to the application of the material 20 to the edge portion A, the edge portion B, and the edge portion C constituting the edge of the inlet 210a. Below, the application content of the material 20 to the edge part A, the edge part B, and the edge part C shown by step S1 of FIG. 6 is demonstrated in detail.

도 10은 실 재의 도포 방법을 나타내는 도면이다. 이하에서 도시된 실 재의 도포 방법이 본 발명의 액상 재료 도포 방법의 제 1 실시예이다.10 is a view showing a coating method of the actual material. The application method of the reality shown below is a first embodiment of the liquid material application method of the present invention.

도 10에는 간략화된 클리닝 틀(21)과, 액상으로 도포되어 고화된 액상 재료의 일례인 열가소성 일래스토머로 구성되는 실 재(20)를 노즐(301)로부터 토출하는 실 재 토출 장치(300)가 도시되어 있다. 이 열가소성 일래스토머는 가열 상태에서는 액상이고 온도가 내려감으로써 고화하는, 소위 핫멜트형 접착제로서의 기능을 행한다. 그 외의 액상 재료로서는 폴리스틸렌계 재료, 폴리우레탄계 재료, 폴리우레아계 재료를 들 수 있다.10 shows a simplified cleaning mold 21 and a real discharging device 300 for discharging a material 20 composed of a thermoplastic elastomer which is an example of a liquid material applied and solidified in a liquid state from a nozzle 301. Is shown. This thermoplastic elastomer functions as a so-called hot melt adhesive, which is liquid in the heated state and solidifies by lowering temperature. Examples of other liquid materials include polystyrene-based materials, polyurethane-based materials, and polyurea-based materials.

또한, 도 10에는 클리닝 틀(21)에 대한 실 재(20)의 도포에 따른 노즐(301)의 이동 궤적이 도시되어 있다. 또한, 도 10에는, 도 5에 도시된 입구(210a)의 도시는 생략되어 있다. 또한, 도 10에서는, 클리닝 틀(21) 입구(210a)의 가장자리 중 가장자리 부분 A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C를 포함하는 면을 도 10에 도시하는 XYZ축에서 X-Y 면에 평행한 면인 것으로서 설명을 계속한다.10 shows the movement trajectory of the nozzle 301 according to the application of the seal 20 to the cleaning mold 21. In addition, illustration of the entrance 210a shown in FIG. 5 is abbreviate | omitted in FIG. In addition, in FIG. 10, the surface containing the edge part A, the edge part B, and the edge part C among the edges of the inlet 210a of the cleaning container 21 is a plane parallel to an XY plane in the XYZ axis | shaft shown in FIG. Continue the explanation.

도 10의 (a)에는, 도 5에 도시한 입구(210a)의 가장자리 중 가장자리 부분 B에, 제 1 시점 S1으로부터 제 1 종점 D1에 걸쳐서, 즉 도 10에서의 Y축과 평행하게 노즐(301)의 선단을 이동시켜서 실 재(20)를 도포한 상태가 도시되어 있다.In FIG. 10A, the nozzle 301 extends from the first time point S1 to the first end point D1, that is, parallel to the Y axis in FIG. 10, to the edge portion B of the edge of the inlet 210a shown in FIG. 5. The state where the material 20 is applied by moving the tip of the head) is shown.

도 10의 (b)에는, 가장자리 부분 B에 실 재(20)의 도포를 종료한 후, 노즐(301)이 Z축에 대하여 소정의 각도 θ(도 11의 (b) 참조)를 유지한 채, Y-Z면과 평행한 면 상을 이동하고, 제 1 종점으로부터 떨어져 제 1 경유점 T1까지 이동한 상태가 도시되어 있다.In FIG. 10B, after the application of the material 20 to the edge portion B is finished, the nozzle 301 maintains a predetermined angle θ (see FIG. 11B) with respect to the Z axis. The state which moved on the surface parallel to YZ plane, and moved to the 1st waypoint T1 away from a 1st end point is shown.

도 10의 (c)에는, 제 1 종점 D1으로부터 제 1 경유점 T1까지 이간한 노즐(301)의 선단이 Y축과 평행하게 제 2 경유점 T2로 이동한 후, 또한 Z축과 평행하게 제 2 시점 S2까지 이동한 상태가 도시되어 있다.In FIG. 10C, after the distal end of the nozzle 301 spaced apart from the first end point D1 to the first waypoint T1 moves to the second waypoint T2 in parallel with the Y axis, and further parallel with the Z axis. The state moved to 2 time point S2 is shown.

도 11은 도 10의 (a)에서 도 1O의 (c)에 도시한 노즐의 이동을, 도 1O에 도시한 X축에 대하여 마이너스 방향으로 본 상태를 나타내는 도면이다.FIG. 11: is a figure which shows the state which looked at the movement of the nozzle shown to (c) of FIG. 10 (a) in FIG. 10A in the minus direction with respect to the X-axis shown in FIG.

도 11의 (a)에는 노즐(301)의 선단이 제 1 시점 S1으로부터 제 1 종점 D1까지 Y축과 평행하게 이동한 상태가 도시되고, 도 11의 (b)에는 노즐(301)의 선단이 Y-Z면과 평행한 면 상을 Z축에 대하여 소정의 각도 θ을 유지한 채, 제 1 종점 D1으로부터 제 1 경유점 T1까지 이동한 상태가 도시되어 있다. 도 11의 (c)에는 노즐(301)의 선단이 Y축과 평행하게 제 2 경유점 T2로 이동한 상태가 도시되고, 도 11의 (d)에는 노즐(301)의 선단이 제 2 경유점 T2로부터 제 2 시점 S2로 이동한 상태가 도시되어 있다. 도 10으로 돌아가서 설명을 계속한다.FIG. 11A illustrates a state in which the tip of the nozzle 301 is moved in parallel with the Y axis from the first time point S1 to the first end point D1. In FIG. 11B, the tip of the nozzle 301 is shown in FIG. The state which moved from the 1st end point D1 to the 1st waypoint T1 is shown, maintaining the predetermined angle (theta) on the surface parallel to a YZ plane with respect to a Z axis | shaft. FIG. 11C shows a state where the tip of the nozzle 301 has moved to the second waypoint T2 in parallel with the Y axis, and in FIG. 11D, the tip of the nozzle 301 has a second waypoint. The state which moved from T2 to 2nd time point S2 is shown. Returning to FIG. 10, the explanation is continued.

도 10의 (d)에는, 도 11의 (d)에 도시된 바와 같이, 제 2 시점 S2로 이동한 노즐(301)의 선단이, 그 후 X축과 평행하게 이동하여 가장자리 부분 A로의 실 재(20)의 도포를 행한 후, 제 3 경유점 T3를 경유하여 가장자리 부분 C에의 실 재(20)의 도포를 제 2 종점 D2를 향하여, 즉 도 10에서의 Y축과 평행하게 이동하여 행한 상태가 도시되어 있다. 이와 같이, 클리닝 장치(2)의 조립에서는 입구(210a)의 가장자리 중 가장자리 부분 B 및 가장자리 부분 C에 대한 실 재(20)의 도포가, 함께 가장자리 부분 A측으로부터 가장자리 부분 D측을 향하여(도 10에서의 상측에서 하측을 향하여) 노즐(301)의 선단을 이동시켜서 행하여진다. 이것은 노즐(301)로부터의 실 재(20)의 토출 개시 시와 토출 종료 시의 토출량에는 차이가 있기 때문에, 이들 가장자리 부분 B와 가장자리 부분 C에 대한 실 재의 도포를, 한쪽은 가장자리 부분 A측으로부터 가장자리 부분 D측을 향해서 노즐(301)의 선단을 이동시키고, 다른 쪽은 가장자리 부분 D측으로부터 가장자리 부분 A측을 향하여 노즐(301)의 선단을 움직였을 경우에, 가장자리 부분 B와 가장자리 부분 C에서의 실 재의 도포량이 달라져 버리는 것을 방지하기 위함이다.In FIG. 10D, as shown in FIG. 11D, the tip of the nozzle 301 moved to the second time point S2 is moved to the edge portion A by moving in parallel with the X axis thereafter. After the application of (20), the state where the application of the material 20 to the edge portion C via the third waypoint T3 is moved toward the second end point D2, that is, parallel to the Y axis in FIG. Is shown. Thus, in the assembly of the cleaning apparatus 2, the application of the material 20 to the edge portion B and the edge portion C of the edges of the inlet 210a is together from the edge portion A side toward the edge portion D side (Fig. The tip of the nozzle 301 is moved from the upper side to the lower side at 10). This is because the amount of discharge at the start of discharge and the end of discharge of the material 20 from the nozzle 301 is different. Therefore, the application of the material to these edge portions B and C is applied from one edge portion A side. When the tip of the nozzle 301 is moved toward the edge portion D side, and the other end is moved from the edge portion D side toward the edge portion A side, the edge portion B and the edge portion C This is to prevent the actual coating amount from changing.

또한, 클리닝 장치(2)의 조립에서는 가장자리 부분 C로의 실 재(20)의 도포 가, 가장자리 부분 A의 실 재의 도포에 이어서 실 재의 토출을 일단 정지시키지 않고 행하여지고 있다. 이 때문에, 가장자리 부분 A 및 가장자리 부분 C 각각에 대한 실 재의 도포를, 실 재 토출의 일단 정지를 사이에 끼워서 2회로 나누어 행하는 경우에 비하여, 가장자리 부분 A와 가장자리 부분 C의 경계에서의 실 재의 분포량의 변화가 억제되고 있다.In the assembly of the cleaning apparatus 2, the application of the material 20 to the edge portion C is performed without stopping the discharge of the material once following the application of the material of the edge portion A. FIG. For this reason, the amount of distribution of the material at the boundary between the edge part A and the edge part C, as compared with the case where the application of the material to each of the edge part A and the edge part C is divided into two by sandwiching one end of the actual discharge therebetween. The change of is suppressed.

도 10의 (e)에는, 가장자리 부분 C로의 실 재(20)의 도포를 종료한 후, Y-Z면과 평행한 면 상을 Z축에 대하여 소정의 각도 θ를 유지한 채, 제 2 종점 D2로부터 제 4 경유점 T4까지 노즐(301)이 이동한 상태를 도시하고 있다. 이와 같이, 클리닝 장치(2)의 조립에서는 가장자리 부분 A 및 가장자리 부분 C 각각에 대한 실 재 도포의 종점인 제 1 종점 D1 및 제 2 종점 D2로부터, 이들 종점에 대응하는 경유점인, 가장자리 부분 A로부터 보아 좌우 대칭인 제 1 경유점 T1 및 제 4 경유점 T4를 향해서 노즐(301)의 선단이 이간된다. 또한, 이들 제 1 종점 D1 및 제 2 종점 D2에서, 즉 가장자리 부분 A로부터 보아 좌우 대칭인 위치에서 실 재의 토출이 정지되어 있으므로, 이 제 1 종점 D1 부근 및 제 2 종점 D2 부근에서의 실 재의 도포량은 거의 같아짐과 동시에, 제 1 종점 D1에서의 실 재의 뱅크와 제 2 종점 D2에서의 실 재의 뱅크는, 가장자리 부분 A로부터 볼 때 각각 클리닝 틀 측에서 감광체 드럼 측에 걸쳐서 점점 작아지는 형상이 된다.In FIG. 10 (e), after application | coating of the material 20 to the edge part C is complete | finished, from the 2nd end point D2, maintaining the predetermined angle (theta) with respect to a Z axis on the surface parallel to a YZ plane, The state where the nozzle 301 has moved to the 4th way point T4 is shown. Thus, in the assembly of the cleaning apparatus 2, the edge part A which is a waypoint corresponding to these end points from the 1st end point D1 and the 2nd end point D2 which are the end points of the actual application | coating to each of the edge part A and the edge part C, respectively. The tip of the nozzle 301 is spaced apart from the left and right symmetrical first waypoint T1 and the fourth waypoint T4 as seen from above. Further, since the discharge of the material is stopped at these first end points D1 and the second end point D2, i.e., at positions symmetrically viewed from the edge portion A, the amount of application of the material at the vicinity of the first end point D1 and near the second end point D2. Are substantially the same, and the bank of the material at the first end point D1 and the bank at the second end point D2 become smaller in shape across the photosensitive drum side at the cleaning mold side, respectively, as viewed from the edge portion A. .

도 12는 실 재 토출 장치의 실 재 토출 및 위치에 대한 제어의 흐름을 나타내는 도면이다.12 is a view showing a flow of control on actual discharge and position of the actual discharge device.

도 12에는, 지시를 받아서 노즐(301)로부터의 실 재의 토출 개시 및 정지를 행하는 실 재 토출 장치(300), 클리닝 틀(21)을 소정의 자세로 유지하는 클리닝 틀 유지대, 및 실 재 토출 장치(300)를 유지하고 입력된 3차원 좌표값에 따라 이 실 재 도포 장치(300)를 이동시키는 이동 암을 구비한 자동 실 재 도포 장치에서 실행되는 루틴 플로 차트가 도시되어 있다. 또한, 클리닝 틀 유지대에 유지된 클리닝 틀(21)에 대해서, 제 1 시점 S1, 제 1 종점 D1, 제 1 경유점 T1, 제 2 경유점 T2, 제 2 시점 S2, 제 3 경유점 T3, 제 2 종점 D2, 및 제 4 경유점 T4 각각의, 이 노즐(301)의 선단 홈(home) 포지션에 대한 상대적인 3차원 좌표 위치, 및 각 점 간의 상대적인 3차원 좌표 위치는 이미 등록되어 있는 것으로 설명을 계속한다.In FIG. 12, the actual discharge apparatus 300 which starts and stops discharge of the substance from the nozzle 301 in response to an instruction | indication, the cleaning container holder which hold | maintains the cleaning mold 21 in a predetermined attitude | position, and actual discharge A routine flow chart is shown which is executed in an automatic application device having a moving arm which holds the device 300 and moves this application device 300 in accordance with the input three-dimensional coordinate values. Further, with respect to the cleaning mold 21 held by the cleaning mold holder, the first time point S1, the first end point D1, the first waypoint T1, the second waypoint T2, the second timepoint S2, the third waypoint T3, The three-dimensional coordinate position relative to the tip home position of this nozzle 301 of each of the second end point D2 and the fourth waypoint T4 is described as already registered. Continue.

도 12에 도시된 스텝 S11에서는, 실 재 도포 작업의 개시 신호를 받고, 실 재 토출 장치(300)의 노즐(301)의 선단을 도시 생략한 홈 포지션으로부터 제 1 시점 S1까지 이동시킨다. 스텝 S12에서는, 노즐(301) 선단의 제 1 시점 S1으로의 도달을 기다려, 실 재 토출 장치(300)에 대하여 실 재의 토출 개시를 지시함과 동시에, 노즐(301) 선단의 제 1 시점 S1으로부터 제 1 종점 D1을 향한 이동을 지시한다. 스텝 S13에서는, 노즐(301)의 선단이 제 1 종점 D1에 도달하면 즉시 실 재(20)의 토출 정지를 지시한다. 이와 같이, 제 1 종점 D1으로의 도달 직후에 실 재(20)의 토출을 정지시킴으로써, 실 재(20)의 토출 정지가 지시된 후에도 노즐 중의 실 재가 토출되기 때문에 제 1 종점 D1에서는 실 부재가 두꺼워진다. 스텝 S14에서는, 제 1 종점 D1에 도달한 노즐(301)의 선단을 제 1 종점 D1으로부터 제 1 경유점 T1으로 이동시킨 후, 제 1 경유점 T1으로부터 제 2 경유점을 거쳐서 제 2 시점 S2를 향하여 이동시킨다. 스텝 S15에서는, 노즐(301) 선단의 제 2 시점 S2로의 도달을 기다려, 실 재 토출 장치(300)에 대하여 실 재의 토출 개시를 지시함과 동시에, 노즐(301) 선단의 제 2 시점 S2로부터 제 3 경유점 T3를 경유한 제 2 종점 D2를 향한 이동을 지시한다. 스텝 S16에서는, 노즐(301) 선단이 제 2 종점 D2에 도달하면 즉시 실 재(20)의 토출 정지를 지시한다. 스텝 S17에서는, 제 2 종점 D2에 도달한 노즐(301)의 선단을 제 2 종점 D2로부터 제 4 경유점 T4를 향해서 이동시킨다.In step S11 shown in FIG. 12, the start signal of the actual coating operation is received, and the tip of the nozzle 301 of the actual discharge device 300 is moved from the home position, not shown, to the first time point S1. In step S12, it waits for reaching the 1st time point S1 of the front-end | tip of the nozzle 301, instruct | indicates the actual discharge apparatus 300 to start discharging a real, and from the 1st time point S1 of the front-end | tip of the nozzle 301 The movement toward the first end point D1 is indicated. In step S13, when the tip of the nozzle 301 reaches the first end point D1, the discharge stop of the actual 20 is immediately instructed. In this way, by immediately discharging the material 20 immediately after reaching the first end point D1, since the material in the nozzle is discharged even after the discharge stop of the material 20 is instructed, the seal member is removed at the first end point D1. Thickening In step S14, after moving the front-end | tip of the nozzle 301 which reached | attained the 1st end point D1 from the 1st end point D1 to the 1st waypoint T1, the 2nd time point S2 is passed through the 2nd waypoint from the 1st waypoint T1. Move towards In step S15, it waits for reaching the 2nd time point S2 of the tip of the nozzle 301, instruct | indicates the actual discharge apparatus 300 to start discharging a real thing, and is made from the 2nd time point S2 of the tip of the nozzle 301, and is made. 3 Instructs the movement toward the second end point D2 via the waypoint T3. In step S16, when the tip of the nozzle 301 reaches the second end point D2, the discharge stop of the real 20 is immediately instructed. In step S17, the front-end | tip of the nozzle 301 which reached | attained the 2nd end point D2 is moved toward from the 2nd end point D2 toward the 4th way point T4.

다음으로, 본 발명의 액상 재료 도포 방법의 제 2 실시예에 대하여 설명한다.Next, a second embodiment of the liquid material applying method of the present invention will be described.

제 2 실시예의 실 재 도포 방법과 제 1 실시예의 실 재 도포 방법 사이의 차이점은, 가장자리 부분 B 및 가장자리 부분 C에 대한 실 재의 도포에서, 실 재의 토출 정지 타이밍이므로, 이하에서는 이점에 대해서만 설명한다.The difference between the actual application method of the second embodiment and the actual application method of the first embodiment is the timing of discharge stop of the actual in the application of the actual to the edge portion B and the edge portion C, and therefore only the advantages will be described below. .

도 13은 실 재 토출 장치의 실 재 토출 및 위치에 대한 제어의 흐름을 나타내는 도면이다.FIG. 13 is a diagram showing the flow of control over actual discharge and position of the actual discharge device. FIG.

도 13에 도시한 스텝 S21에서는, 실 재 도포 작업의 개시 신호를 받고, 실 재 토출 장치(300) 노즐(301)의 선단을 도시 생략한 홈 포지션으로부터 제 1 시점 S1까지 이동시킨다. 스텝 S22에서는, 노즐(301) 선단의 제 1 시점 S1으로의 도달을 기다려, 실 재 토출 장치(300)에 대하여 실 재의 토출 개시를 지시함과 동시에, 노즐(301) 선단의 제 1 시점 S1으로부터 제 1 종점 D1을 향한 이동을 지시한다. 스텝 S23에서는, 제 1 종점 D1에 도달한 노즐(301) 선단의 제 1 종점 D1 및 제 2 경유점 T2를 경유하는 제 2 시점 S2로의 이동을 지시한다. 스텝 S24에서는, 노 즐(301) 선단이 제 1 경유점 T1에 도달하기 전의 제 1 종점 D1의 경유로부터 소정 시간 T 경과 후에 실 재의 토출 정지를 지시한다. 이와 같이, 제 1 종점 D1 후에 실 재의 토출을 정지시킴으로써 제 1 종점 D1에서의 실 부재의 뱅크는 커진다.In step S21 shown in FIG. 13, the start signal of the actual application | coating operation | movement is received, and the front-end | tip of the nozzle 301 of the actual discharge apparatus 300 is moved to the 1st viewpoint S1 from the home position which is not shown in figure. In step S22, it waits for reaching the 1st time point S1 of the front-end | tip of the nozzle 301, instruct | indicates the actual discharge apparatus 300 to start discharging a real, and from the 1st time point S1 of the front-end | tip of the nozzle 301 The movement toward the first end point D1 is indicated. In step S23, movement to the 2nd time point S2 via the 1st end point D1 and the 2nd waypoint T2 of the front-end | tip of the nozzle 301 which reached | attained the 1st end point D1 is instruct | indicated. In step S24, the discharging stop of the actual body is instructed after a predetermined time T has passed from the end of the nozzle 301 via the first end point D1 before reaching the first waypoint T1. In this way, the bank of the seal member at the first end point D1 becomes large by stopping the discharge of the material after the first end point D1.

여기에서, 도 14는 제 2 실시예의 실 재 도포 방법에서 제 1 종점에서의 실 재의 뱅크를 나타내는 도면이다.Here, FIG. 14 is a diagram showing a bank of the material at the first end point in the actual application method of the second embodiment.

도 14에는 제 1 실시예의 실 재 도포 방법에서 제 1 종점에서의 실 재의 뱅크를 나타내는 도 11의 (b)에 대응하는 도면이 도시되어 있고, 여기에는 도 11의 (b)에 도시하는 실 재(20)의 뱅크보다도 큰 뱅크가 도시되어 있다. 이것에 의해, 필름 부재(24)나 펠트 부재(25)의 볼록부(250) 주변으로의 실 재(20)의 충전이 더 고밀도로 된다. 도 13으로 돌아가 설명을 계속한다.Fig. 14 shows a view corresponding to Fig. 11B showing the bank of the material at the first end point in the actual application method of the first embodiment, which is shown in Fig. 11B. A bank larger than the bank of 20 is shown. As a result, the filling of the material 20 around the convex portion 250 of the film member 24 or the felt member 25 becomes more dense. Returning to FIG. 13, the description is continued.

스텝 S25에서는, 노즐(301) 선단의 제 2 시점 S2로의 도달을 기다려, 실 재 토출 장치(300)에 대하여 실 재의 토출 개시를 지시함과 동시에, 노즐(301) 선단의 제 2 시점 S2로부터 제 3 경유점 T3를 경유하는 제 2 종점 D2를 향한 이동을 지시한다. 스텝 S26에서는, 제 2 종점 D2에 도달한 노즐(301) 선단의 제 2 종점 D2로부터 제 4 경유점 T4를 행한 이동을 지시한다. 스텝 S27에서는, 노즐(301) 선단이 제 4 경유점 T4에 도달하기 전의, 노즐(301) 선단이 제 2 종점 D2를 경유하고 나서 소정 시간 T 경과 후에 실 재(20)의 토출 정지를 지시한다.In step S25, it waits for reaching the 2nd time point S2 of the tip of the nozzle 301, instruct | indicates the actual discharge apparatus 300 to start discharging a real thing, and is made from the 2nd time point S2 of the tip of the nozzle 301. 3 Instructs the movement toward the second end point D2 via the waypoint T3. In step S26, the movement which performed the 4th via point T4 from the 2nd end point D2 of the front-end | tip of the nozzle 301 which reached the 2nd end point D2 is instruct | indicated. In step S27, before the tip of the nozzle 301 reaches the fourth passing point T4, the discharge stop of the actual 20 is instructed after a predetermined time T has passed after the tip of the nozzle 301 passes through the second end point D2. .

이상에서 설명한 바와 같이, 제 2 실시예의 실 재 도포 방법에서는 제 1 종점 D1 및 제 2 종점 D2를 이간한 후에 실 재(20)의 토출을 정지시킴으로써, 제 1 종점 D1 및 제 2 종점 D2에서의 실 부재(20)의 뱅크가 같은 도포량으로, 또한 의도 적으로 크게 됨과 동시에, 제 1 종점 D1에서의 실 재의 뱅크와, 제 2 종점 D2에서의 실 재의 뱅크는, 가장자리 부분 A로부터 볼 때 각각 클리닝 틀 측으로부터 감광체 드럼 측에 걸쳐 점점 작아지는 형상이 된다.As described above, in the actual coating method of the second embodiment, the discharge of the material 20 is stopped after the first end point D1 and the second end point D2 are separated from each other so that the first end point D1 and the second end point D2 are stopped. While the bank of the seal member 20 becomes the same application amount and is intentionally large, the bank of the seal at the first end point D1 and the bank of the seal at the second end point D2 are respectively cleaned when viewed from the edge portion A. It becomes a shape becoming small gradually from the frame side to the photosensitive drum side.

또한, 이상에서 설명한 실시예에서는, 연속하는 도포 영역에 대해서는 실 재(20)의 도포를 연속으로 행하는 것이 바람직하기 때문에, 가장자리 부분 A 및 가장자리 부분 C로의 실 재(20)의 도포를, 실 재 토출의 일단 정지를 사이에 끼우지 않고 연속하여 행하는 예를 들어 설명하였지만, 가장자리 부분 A 및 가장자리 부분 C로의 실 재(20)의 도포를, 실 재 토출의 일단 정지를 사이에 끼워 2회로 나누어 행하여도 본 발명의 기본적인 효과는 감소되지 않는다.In addition, in the embodiment described above, since it is preferable to apply the material 20 continuously to the continuous application area, the application of the material 20 to the edge portion A and the edge portion C is carried out. Although an example in which the discharge is continuously performed without interposing one end of the discharge has been described above, the application of the material 20 to the edge portion A and the edge portion C may be performed by dividing the discharge of the actual discharge into two portions with one end of the actual discharge. The basic effect of the present invention is not reduced.

또한, 가장자리 부분 A, 가장자리 부분 B, 및 가장자리 부분 C에 대하여 열가소성 일래스토머로 구성되는 실 재(20)를 이용하고 있지만, 가장자리 부분 C에 대하여 우레탄 등으로 구성되는 실 재를 이용하여도 본 발명의 기본적인 효과는 감소되지 않는다. In addition, although the material 20 which consists of thermoplastic elastomers with respect to the edge part A, the edge part B, and the edge part C is used, the present invention also uses the material which consists of urethane etc. with respect to the edge part C. The basic effect of is not reduced.

도 1은 화상 형성 장치의 개략적인 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of an image forming apparatus.

도 2는 클리닝 장치의 일부 정면도.2 is a partial front view of the cleaning apparatus.

도 3은 블레이드를 지지한 블레이드 지지판을 나타내는 도면.3 is a view showing a blade support plate supporting the blade.

도 4는 도 3에 도시되는 블레이드 지지판의 단면도.4 is a cross-sectional view of the blade support plate shown in FIG.

도 5는 클리닝 틀을 나타내는 도면.5 shows a cleaning mold.

도 6은 클리닝 장치의 조립 방법의 흐름을 나타내는 도면.6 is a view showing a flow of a method of assembling a cleaning device.

도 7은 클리닝 틀의 좁아진 입구를 나타내는 도면.7 shows a narrowed opening of the cleaning mold.

도 8은 클리닝 틀의 유지부에 감광체 드럼이 조립된 상태를 나타내는 도면.8 is a view showing a state in which a photosensitive drum is assembled to a holding part of a cleaning mold;

도 9는 감광체 드럼이 조립된 클리닝 장치의 단면도.9 is a sectional view of a cleaning device in which a photosensitive drum is assembled;

도 10은 실 재의 도포 방법을 나타내는 도면.10 is a view showing a coating method of a seal.

도 11은 도 1O의 (a) 내지 도 1O의 (c)에 도시되는 노즐의 이동을 도 1O에 도시한 X축에 대해서 마이너스 방향으로 본 상태를 나타내는 도면.FIG. 11 is a view showing a state in which the movement of the nozzle shown in FIGS. 10A to 10C is viewed in the negative direction with respect to the X axis shown in FIG.

도 12는 실 재 토출 장치의 실 재 토출 및 위치에 대한 제어의 흐름을 나타내는 도면.12 is a view showing a flow of control on actual discharge and position of a real discharge device.

도 13은 실 재 토출 장치의 실 재 토출 및 위치에 대한 제어의 흐름을 나타내는 도면.Fig. 13 is a diagram showing the flow of control over actual discharge and position of the actual discharge device.

도 14는 제 2 실시예의 실 재 도포 방법에서 제 1 종점에서의 실 재의 뱅크를 도시하는 도면. Fig. 14 is a diagram showing a bank of seal at the first end point in the seal application method of the second embodiment.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

1 : 화상 형성 장치1: image forming apparatus

2 : 클리닝 장치2: cleaning device

20 : 실(seal) 재20: seal ash

21 : 클리닝 틀21: cleaning frame

210 : 본체부210: main body

210a : 입구210a: entrance

211 : 유지부211: holding part

2103 : 펠트 부착면2103: felt attachment surface

22 : 블레이드22: blade

221 : 선단(先端)221: tip

23 : 블레이드 지지판23: blade support plate

230 : 고정 나사230: set screw

231 : 조면(粗面) 부분231: rough surface portion

24 : 필름 부재24: film member

241 : 선단241 tip

25 : 펠트 부재25: felt member

250 : 볼록부250: convex

251 : 펠트층251: felt layer

252 : 탄성층252: elastic layer

Claims (14)

현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 상기 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화(固化)하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대하여 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 액상 재료 도포 방법으로서,A developer removal member for contacting along a direction crossing the moving direction of the developer holder surface and removing the developer on the developer holder surface is mounted, and accommodates the developer removed by the developer removal member. A liquid material application method for applying the liquid material by moving the nozzle relative to the housing while discharging a liquid material applied in a liquid state and solidifying to a housing having a developer accommodating portion from the nozzle. 상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부(端部) 측에 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,The developer removal member is fixed to the housing with respect to the first region outside the first edge of the developer accommodation portion located at the longitudinal end side of the developer removal member of the developer accommodation portion. A first application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the support member to support the portion toward the contact portion of the developer removal member and the developer holder; 상기 제 1 가장자리에 대해 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향으로 상기 현상제 수용부를 사이에 두고 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.The development is fixed to the housing with respect to a second area outside the second edge of the developer accommodating portion, which is positioned with the developer accommodating portion interposed in the longitudinal direction of the developer removing member with respect to the first edge. Having a second application process for applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the support member for supporting the first removal member toward the contact portion of the developer removal member and the developer holder; A liquid material application method characterized by the above-mentioned. 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 상기 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대하여 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 액상 재료 도포 방법으로서,A developer removal member for contacting along a direction crossing the moving direction of the developer holder surface and removing the developer on the developer holder surface is mounted, and accommodates the developer removed by the developer removal member. A liquid material application method for applying the liquid material by moving the nozzle relative to the housing while discharging a liquid material applied in a liquid state to a housing having a developer accommodating part and solidifying from the nozzle, 상기 현상제 수용부의 지지 부재가 배치된 측에 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 3 가장자리의 외측이고, 또한 상기 지지 부재가 상기 하우징에 장착되었을 때에 상기 지지 부재와 상기 하우징이 대향하는 제 3 영역에 대하여, 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 3 도포 과정과,Outside of the third edge of the developer accommodating portion located on the side where the support member of the developer accommodating portion is disposed, and in a third region in which the support member and the housing face each other when the support member is mounted to the housing. A third application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle, 상기 제 3 도포 과정에 연속하여 상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,The first region outside the first edge of the developer accommodating portion positioned on the longitudinal end side of the developer removing member of the developer accommodating portion continuously to the third coating process, and is fixed relative to the housing and A first application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the support member supporting the developer removal member toward a portion where the developer removal member and the developer holder come into contact; 상기 제 1 가장자리에 대해 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향으로 상기 현상제 수용부를 사이에 두고 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.The development is fixed to the housing with respect to a second area outside the second edge of the developer accommodating portion, which is positioned with the developer accommodating portion interposed in the longitudinal direction of the developer removing member with respect to the first edge. Having a second application process for applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the support member for supporting the first removal member toward the contact portion of the developer removal member and the developer holder; A liquid material application method characterized by the above-mentioned. 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 상기 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재가 장착되고, 상기 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대해 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 액상 재료 도포 방법으로서, A developer removal member for contacting along a direction crossing the moving direction of the developer holder surface and removing the developer on the developer holder surface is mounted, and accommodates the developer removed by the developer removal member. A liquid material application method for applying the liquid material by moving the nozzle relative to the housing while discharging a liquid material applied in a liquid state and solidifying to a housing having a developer accommodating portion from the nozzle, 상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,A support that is fixed to the housing and supports the developer removing member with respect to a first region outside the first edge of the developer receiving portion located on the longitudinal end side of the developer removing member of the developer receiving portion. A first application step of applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the member toward a portion where the developer removing member and the developer holder contact each other; 상기 현상제 수용부의 지지 부재가 배치된 측에 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 3 가장자리의 외측이고, 또한 상기 지지 부재가 상기 하우징에 장착되었을 때에 상기 지지 부재와 상기 하우징이 대향하는 제 3 영역에 대하여, 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 3 도포 과정과,Outside of the third edge of the developer accommodating portion located on the side where the support member of the developer accommodating portion is disposed, and in a third region in which the support member and the housing face each other when the support member is mounted to the housing. A third application process of applying the liquid material by relatively moving the nozzle, 상기 제 3 도포 과정에 연속하여 상기 제 1 가장자리에 대해 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향으로 상기 현상제 수용부를 사이에 두고 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.With respect to the second area outside of the second edge of the developer accommodating portion, which is positioned with the developer accommodating portion interposed in the longitudinal direction of the developer removing member with respect to the first edge in the third application process, The liquid material is applied by relatively moving the nozzle from the portion corresponding to the support member fixed to the housing to support the developer removal member toward the contact portion of the developer removal member and the developer holder. It has a 2nd application | coating process to carry out, The liquid material application method characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 제 1 도포 과정에서 상기 제 1 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 1 이간(離間) 과정과, After applying the liquid material to the first region in the first coating step, a first separation step of placing a relative distance between the nozzle and the housing in a gravity direction; 상기 제 2 도포 과정에서 상기 제 2 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 2 이간 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.And after applying the liquid material to the second region in the second coating process, a second separation step of placing a relative distance between the nozzle and the housing in a gravity direction. 제 4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제 1 도포 과정과 상기 제 1 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지(停止) 과정과, A first stop process for stopping the discharging of the liquid material from the nozzle between the first application process and the first separation process, 상기 제 2 도포 과정과 상기 제 2 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.And a second stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle between the second application process and the second separation process. 제 4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제 1 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, A first stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle while keeping a distance in the gravity direction between the nozzle and the housing in the first separation process; 상기 제 2 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.And a second stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle while keeping a distance in the gravity direction between the nozzle and the housing in the second separation process. . 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 액상 재료가 열가소성 일래스토머(elastomer)인 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.The liquid material application method, characterized in that the liquid material is a thermoplastic elastomer (elastomer). 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 열가소성 일래스토머가 핫멜트형 접착제인 것을 특징으로 하는 액상 재료 도포 방법.And the thermoplastic elastomer is a hot melt adhesive. 현상제 유지체 표면의 이동 방향에 교차하는 방향을 따라 접촉하고, 상기 현상제 유지체 표면의 현상제를 제거하는 현상제 제거 부재에 의해 제거된 현상제를 수용하는 현상제 수용부를 갖는 하우징에 액상으로 도포되어 고화하는 액상 재료를 노즐로부터 토출시키면서 상기 노즐을 상기 하우징에 대하여 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포한 후에 상기 현상제 제거 부재를 장착하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법으로서,A liquid phase is placed in a housing having a developer accommodating portion contacting along a direction crossing the moving direction of the developer holder surface and accommodating the developer removed by the developer removal member for removing the developer on the developer holder surface. A method of assembling a developer holder unit for mounting the developer removing member after applying the liquid material by moving the nozzle relative to the housing while discharging the liquid material applied and solidified from the nozzle. 상기 현상제 수용부의 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향 단부 측에 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 1 가장자리보다도 외측의 제 1 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 1 도포 과정과,A support that is fixed to the housing and supports the developer removing member with respect to a first region outside the first edge of the developer receiving portion located on the longitudinal end side of the developer removing member of the developer receiving portion. A first application step of applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the member toward a portion where the developer removing member and the developer holder contact each other; 상기 제 1 가장자리에 대하여 상기 현상제 제거 부재의 길이 방향으로 상기 현상제 수용부를 사이에 두고 위치하는 상기 현상제 수용부의 제 2 가장자리보다도 외측의 제 2 영역에 대하여, 상기 하우징에 대해 고정되어 상기 현상제 제거 부재를 지지하는 지지 부재에 대응하는 부위로부터 상기 현상제 제거 부재와 상기 현상제 유지체가 접하는 부위를 향하여 상기 노즐을 상대적으로 이동시키는 것으로, 상기 액상 재료를 도포하는 제 2 도포 과정과,The development is fixed to the housing with respect to a second area outside the second edge of the developer accommodating portion, which is positioned with the developer accommodating portion interposed in the longitudinal direction of the developer removing member with respect to the first edge. A second application step of applying the liquid material by relatively moving the nozzle from a portion corresponding to the support member for supporting the second removal member toward a portion where the developer removal member and the developer holder contact each other; 상기 제 1 도포 과정 및 상기 제 2 도포 과정에서 도포한 액상 재료가 고화하기 전에, 상기 현상제 제거 부재를 상기 하우징에 대해 장착하는 현상제 제거 부재 장착 공정을 갖고,And a developer removal member mounting step of mounting the developer removal member to the housing before the liquid material applied in the first application process and the second application process is solidified, 상기 현상제 제거 부재의 상기 액상 재료와 접촉하는 부위의 표면의 10점(点) 평균 거칠기는 상기 제 1 영역 표면 및 상기 제 2 영역 표면의 10점 평균 거칠기에 대하여 높은 것을 특징으로 하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법. The ten point average roughness of the surface of the portion of the developer removal member in contact with the liquid material is high relative to the ten point average roughness of the surface of the first region and the surface of the second region. How to assemble a sieve unit. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 1 도포 과정에서 상기 제 1 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 1 이간 과정과,A first separation process of applying a liquid material to the first region in the first coating process and then placing a relative distance between the nozzle and the housing in a gravity direction; 상기 제 2 도포 과정에서 상기 제 2 영역에 액상 재료를 도포한 후에, 중력 방향에서의 상기 노즐과 상기 하우징과의 상대적인 거리를 두는 제 2 이간 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법.And after applying the liquid material to the second region in the second coating process, having a second separation process in which a relative distance between the nozzle and the housing in a gravity direction is provided. . 제 10 항에 있어서,11. The method of claim 10, 상기 제 1 도포 과정과 상기 제 1 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, A first stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle between the first application process and the first separation process, 상기 제 2 도포 과정과 상기 제 2 이간 과정 사이에서, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법.And a second stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle between the second application process and the second separation process. 제 10 항에 있어서,11. The method of claim 10, 상기 제 1 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 1 정지 과정과, A first stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle while keeping a distance in the gravity direction between the nozzle and the housing in the first separation process; 상기 제 2 이간 과정에서 상기 노즐과 상기 하우징과의 중력 방향에서의 거리를 두고 있는 사이에, 상기 노즐로부터의 상기 액상 재료의 토출을 정지시키는 제 2 정지 과정을 갖는 것을 특징으로 하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법.And a second stop process for stopping the discharge of the liquid material from the nozzle while keeping a distance in the gravity direction between the nozzle and the housing in the second separation process. How to assemble the unit. 제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 12, 상기 액상 재료가 열가소성 일래스토머인 것을 특징으로 하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법.And the liquid material is a thermoplastic elastomer. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 열가소성 일래스토머가 핫멜트형 접착제인 것을 특징으로 하는 현상제 유지체 유닛 조립 방법. And the thermoplastic elastomer is a hot melt adhesive.
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