KR101206285B1 - Display device capable of adjusting viewing angle and fabrication method the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광시야각과 협시야각을 선택적으로 스위칭할 수 있는 표시장치에 관한 것으로, 영상을 표시하는 표시패널; 및 상기 표시패널에 부착되어, 전기신호의 인가 유무에 따라 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 구현하며, 전기변색물질에 의해 투광영역과 비투광영역으로 구분된 스위칭패널을 포함하여 구성된 표시장치를 제공한다.The present invention relates to a display device capable of selectively switching a wide viewing angle and a narrow viewing angle, comprising: a display panel displaying an image; And a switching panel attached to the display panel and selectively implementing a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode according to whether an electric signal is applied, and including a switching panel divided into a light transmitting region and a non-light emitting region by an electrochromic material. To provide.

광시야각, 협시야각, 표시장치, 전기변색물질 Wide viewing angle, narrow viewing angle, display device, electrochromic material

Description

시야각 조절이 가능한 표시장치 및 그 제조방법{DISPLAY DEVICE CAPABLE OF ADJUSTING VIEWING ANGLE AND FABRICATION METHOD THE SAME}DISPLAY DEVICE CAPABLE OF ADJUSTING VIEWING ANGLE AND FABRICATION METHOD THE SAME}

도 1은 본 발명에 의한 표시장치의 구성을 간략하게 나타낸 도면.Brief Description of the Drawings Fig. 1 is a diagram briefly showing a configuration of a display device according to the present invention.

도 2는 본 발명에 의한 시야각 조절용 스위칭패널을 나타낸 도면.Figure 2 is a view showing a switching panel for adjusting the viewing angle according to the present invention.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 의한 실시예를 나타낸 도면으로, 도 3a는 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 I-I'의 단면도.3A and 3B show an embodiment according to the present invention, FIG. 3A is a plan view, and FIG. 3B is a sectional view taken along the line II ′ of FIG. 3A.

도 4는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view showing another embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b는 본 발명에 의한 다른 실시예를 나타낸 도면으로, 도 5a는 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 II-II'의 단면도.5A and 5B show another embodiment according to the present invention, FIG. 5A is a plan view, and FIG. 5B is a sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 5A.

도 6a 및 도 6b는 본 발명에 의한 또 다른 실시예를 나타낸 도면으로, 도 6a는 평면도이고, 도 6b는 도 6a의 III-III'의 단면도.6A and 6B show another embodiment according to the present invention, FIG. 6A is a plan view, and FIG. 6B is a sectional view taken along line III-III 'of FIG. 6A.

도 7a 및 도 7b는 본 발명에 의한 또 다른 실시예를 나타낸 도면으로, 도 7a는 평면도이고, 도 7b는 도 7a의 IV-IV'의 단면도.7A and 7B show another embodiment according to the present invention, FIG. 7A is a plan view, and FIG. 7B is a sectional view taken along line IV-IV 'of FIG. 7A.

도 8a 및 도 8b는 본 발명에 의한 또 다른 실시예를 나타낸 도면으로, 도 8a는 평면도이고, 도 8b는 도 8a의 V-V'의 단면도.8A and 8B show another embodiment according to the present invention, FIG. 8A is a plan view, and FIG. 8B is a sectional view taken along the line VV 'of FIG. 8A.

도 9a 및 도 9b는 본 발명에 의한 또 다른 실시예를 나타낸 도면으로, 도 9a는 평면도이고, 도 9b는 도 9a의 VI-VI'의 단면도.Figures 9a and 9b show another embodiment according to the present invention, Figure 9a is a plan view, Figure 9b is a cross-sectional view of the VI-VI 'of Figure 9a.

*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for main parts of drawing ***

201, 301, 401, 501, 601: 제1투명기판201, 301, 401, 501, 601: first transparent substrate

202, 302, 402, 502, 602: 제2투명기판202, 302, 402, 502, 602: second transparent substrate

220, 320, 420, 520, 620: 스위칭 패널220, 320, 420, 520, 620: switching panel

211, 311, 411, 511, 611: 투명전극 및 투명전극패턴211, 311, 411, 511, 611: transparent electrode and transparent electrode pattern

235, 335, 435, 535, 635a: 비투광패턴235, 335, 435, 535, 635a: non-light emitting pattern

본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 특히 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 스위칭할 수 있도록 한 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device and a method of manufacturing the same capable of selectively switching a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode.

고화질, 저전력의 평판표시소자(flat panel display device)로서 주로 액정표시소자가 사용되고 있다. 액정표시소자는 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터 기판이 대향하여 균일한 간격을 갖도록 합착되며, 그 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터 기판 사이에 액정층이 형성된다.Liquid crystal display devices are mainly used as flat panel display devices having high quality and low power. The liquid crystal display device is bonded so that the thin film transistor array substrate and the color filter substrate face each other at uniform intervals, and a liquid crystal layer is formed between the thin film transistor array substrate and the color filter substrate.

박막트랜지스터 어레이기판은 화소들이 매트릭스 형태로 배열되며, 그 단위화소에는 박막트랜지스터, 화소전극 및 커패시터가 형성되고, 상기 컬러필터기판은 상기 화소전극과 함께 액정층에 전계를 인가하는 공통전극과 실제 컬러를 구현하는 RGB 컬러필터 및 블랙매트릭스가 형성되어 있다.In the thin film transistor array substrate, pixels are arranged in a matrix form, and a thin film transistor, a pixel electrode, and a capacitor are formed in a unit pixel, and the color filter substrate is a common electrode and an actual color for applying an electric field to the liquid crystal layer together with the pixel electrode. An RGB color filter and a black matrix are formed to implement the.

한편, 상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판의 대향면에는 배향막이 형성되고, 러빙이 실시되어 상기 액정층이 일정한 방향으로 배열되도록 한다. 이때, 액정은 박막트랜지스터 어레이기판의 단위 화소별로 형성된 화소전극과 컬러필터 기판의 전면에 형성된 공통전극 사이에 전계가 인가될 경우에 유전 이방성에 의해 회전함으로써, 단위화소별로 빛을 통과시키거나 차단시켜 문자나 화상을 표시하게 된다. 그러나, 상기와 같은 트위스트 네마틱 모드(twisted nematic mode) 액정표시소자(liquid crystal display device)는 시야각이 좁다는 단점이 있다.On the other hand, an alignment layer is formed on the opposite surface of the thin film transistor array substrate and the color filter substrate, and rubbing is performed so that the liquid crystal layer is arranged in a constant direction. At this time, the liquid crystal is rotated by dielectric anisotropy when an electric field is applied between the pixel electrode formed for each unit pixel of the thin film transistor array substrate and the common electrode formed on the front surface of the color filter substrate, thereby allowing light to pass through or blocked for each unit pixel. Characters or images are displayed. However, the above-described twisted nematic mode liquid crystal display device has a disadvantage in that the viewing angle is narrow.

따라서, 근래에는 시야각을 넓히기 위하여 IPS(in plane switching) 모드(mode), 수직 배향 모드(vertically aligned mode : VA mode), 역방향 러빙(reverse rubbing) 모드, DDTN(domain divided twisted nematic) 모드 등의 다양한 액정표시장치 모드들이 개발되어 왔고, 이를 통해 기존의 TN(twisted nematic) 모드보다 훨씬 넓은 시야각을 가지는 액정표시장치를 확보하였다. 그런데 노트북 PC(notebook personal computer) 등에 사용되는 액정표시장치에 있어서는 보안이나 사생활 보호의 측면에서 오히려 좁은 시야각이 요구되는 경우가 있다. 따라서, 하나의 액정표시장치에서 시야각을 넓게 또는 좁게 조절할 수 있는 방법이 강구될 필요성이 있다.Therefore, in recent years, in order to widen the viewing angle, various methods such as in plane switching (IPS) mode, vertically aligned mode (VA mode), reverse rubbing mode, domain divided twisted nematic (DDTN) mode, etc. Liquid crystal display modes have been developed, thereby obtaining a liquid crystal display having a much wider viewing angle than the conventional twisted nematic (TN) mode. However, a liquid crystal display device used for a notebook personal computer (PC) or the like may require a narrower viewing angle in terms of security and privacy. Therefore, there is a need for a method of controlling the viewing angle to be wide or narrow in one liquid crystal display.

따라서, 본 발명은 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 스위칭할 수 있는 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention provides a display device capable of selectively switching a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode, and a manufacturing method thereof.

기타 본 발명의 목적 및 특징은 이하의 발명의 구성 및 특허청구범위에서 상세히 기술될 것이다.Other objects and features of the present invention will be described in detail in the configuration and claims of the following invention.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 표시장치는 영상을 표시하는 표시패널; 및 상기 표시패널에 부착되어, 전기신호의 인가 유무에 따라 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 구현하며, 전기변색물질에 의해 투광영역과 비투광영역으로 구분된 스위칭패널을 포함하여 구성된다.A display device of the present invention for achieving the above object is a display panel for displaying an image; And a switching panel attached to the display panel to selectively implement a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode according to whether an electric signal is applied, and divided into a transmissive region and a non-transmissive region by electrochromic materials.

상기 투광영역의 폭은 80~100㎛ 이며, 상기 비투광영역의 폭은 20㎛ 이하을 갖는다. 그리고, 상기 비투광영역의 높이에 의해 협시야각이 결정되며, 상기 표시패널은 LCD(Liquid Crystal Display) 패널수도 있다. 이때, 상기 표시패널에 광을 발생시키는 백라이트를 더 포함하여 구성된다.The width of the transmissive area is 80-100 μm, and the width of the non-transmissive area has 20 μm or less. The narrow viewing angle is determined by the height of the non-transmissive area, and the display panel may be a liquid crystal display (LCD) panel. In this case, the display panel further includes a backlight for generating light.

또한, 상기 표시패널은, PDP(Plasma Display Panel)패널, FED(Field Emission Display)패널, EL(Electric Luminescence)패널 및 VFD(Vacuum Fluorescent Display)패널 중의 하나일 수도 있다.The display panel may be one of a plasma display panel (PDP) panel, a field emission display (FED) panel, an electric luminescence (EL) panel, and a vacuum fluorescent display (VFD) panel.

또한, 상기 스위칭패널은, 제1투명기판; 상기 제1투명기판의 전면에 형성된 투명전극층; 상기 투명전극층 상부에 일정간격을 두고 반복적으로 형성되며, 전기변색물질로 이루어진 비투광패턴을 포함하여 구성되며, 상기 비투광패턴을 포함하는 제1투명기판과 합착되는 제2투명기판을 더 포함할 수도 있다. 그리고, 상기 비투광패턴들 사이에 형성된 투광패턴을 더 포함할 수도 있다. 한편, 상기 제1투명기판의 외곽에, 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하여, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 더 포함할 수도 있으며, 상기 비투광패턴에 전도성물질이 도핑될 수도 있다.In addition, the switching panel, the first transparent substrate; A transparent electrode layer formed on the front surface of the first transparent substrate; It is formed repeatedly on the transparent electrode layer at a predetermined interval, including a non-transparent pattern made of an electrochromic material, further comprising a second transparent substrate bonded to the first transparent substrate including the non-transmissive pattern. It may be. The light transmission pattern may further include a light transmission pattern formed between the non-light transmission patterns. The non-transmissive pattern connection line may be further provided on the outer side of the first transparent substrate to electrically connect the non-transmissive patterns to apply an electrical signal to the non-transmissive pattern. This may be doped.

그리고, 상기 제1 및 제2투명기판은 투명한 가요성(flexibe) 필름이거나 제1투명기판일 수도 있다.The first and second transparent substrates may be transparent flexible films or first transparent substrates.

또한, 상기 스위칭패널은, 서로 대향하는 제1투명기판; 상기 제1투명기판 상에 일정간격을 두고 반복적으로 형성된 투명전극패턴; 및 상기 투명전극패턴을 포함하는 기판 전면에 형성된 전기변색층을 포함하여 구성되며, 상기 전기변색층 상부에 부착된 제2투명기판을 더 포함할 수도 있다. 이때, 상기 투명전극패턴과 대응하는 전기변색층에 전도성물질이 도핑될 수도 있다.In addition, the switching panel, the first transparent substrate facing each other; A transparent electrode pattern repeatedly formed at a predetermined interval on the first transparent substrate; And an electrochromic layer formed on the entire surface of the substrate including the transparent electrode pattern, and may further include a second transparent substrate attached to the electrochromic layer. In this case, a conductive material may be doped into the electrochromic layer corresponding to the transparent electrode pattern.

또한, 상기 스위칭패널은, 제1투명기판; 상기 제1투명기판의 전면에 형성된 투명전극층; 상기 투명전극층 전면에 형성된 전기변색층; 및 상기 전기변색층 내에 일정거리를 두고 전도성물질이 반복적으로 도핑된 비투광패턴을 포함하여 구성되며, 상기 비투광패턴을 포함하는 제1투명기판 상부에 부착된 제2투명기판을 더 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1투명기판의 외곽에, 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하여, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 더 포함하여 구성될 수도 있다.In addition, the switching panel, the first transparent substrate; A transparent electrode layer formed on the front surface of the first transparent substrate; An electrochromic layer formed over the transparent electrode layer; And a non-transparent pattern that is repeatedly doped with a conductive material at a predetermined distance in the electrochromic layer, and may further include a second transparent substrate attached to an upper portion of the first transparent substrate including the non-transmissive pattern. have. In addition, the non-transmissive pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outside of the first transparent substrate and applying an electrical signal to the non-transmissive pattern may be further configured.

또한, 상기 스위칭패널은, 제1투명기판; 상기 제1투명기판 상부의 전면에 형성된 전기변색층; 및 상기 전기변색층 내에 일정거리를 두고 전도성물질이 반복적으로 도핑된 비투광패턴을 포함하여 구성되며, 상기 비투광패턴을 포함하는 제1투명기판 상부에 부착된 제2투명기판을 더 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1투명기판의 외곽에, 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하여, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 더 포함하여 구성될 수도 있다.In addition, the switching panel, the first transparent substrate; An electrochromic layer formed on an entire surface of the first transparent substrate; And a non-transparent pattern that is repeatedly doped with a conductive material at a predetermined distance in the electrochromic layer, and may further include a second transparent substrate attached to an upper portion of the first transparent substrate including the non-transmissive pattern. have. In addition, the non-transmissive pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outside of the first transparent substrate and applying an electrical signal to the non-transmissive pattern may be further configured.

또한, 본 발명에 의한 표시장치의 제조방법은, 영상을 표시하는 표시패널을 준비하는 단계; 전기신호 인가 유무에 따라 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 구현하며, 전기변색물질에 의해 투광영역과 비투광영역으로 구분된 스위칭패널을 준비하는 단계; 및 상기 표시패널에 스위칭패널을 부착시키는 단계를 포함하여 이루어진다.In addition, the manufacturing method of the display device according to the present invention comprises the steps of preparing a display panel for displaying an image; Selectively implementing a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode according to whether an electric signal is applied, and preparing a switching panel divided into a light transmitting region and a non-light emitting region by an electrochromic material; And attaching a switching panel to the display panel.

상기 스위칭패널을 준비하는 단계는, 제1투명기판을 준비하는 단계; 상기 제1투명기판 상부의 전면에 투명전극층을 형성하는 단계; 및 상기 투명전극층 상에 전기변색물질을 코팅한 후, 이를 패터닝하여 일정간격을 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지며, 제2기판을 준비하는 단계, 상기 제2기판 상에 일정한 간격을 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제1 및 제2투명기판에 형성된 비투광패턴이 일치되도록 합착하는 두 기판을 합착하는 단계를 더 포함하여 이루어질 수도 있다. 이때, 상기 비투광패턴들 사이에 투광패턴을 형성할 수도 있으며, 투광패턴은 포토아크릴을 사용하여 형성할 수 있다. 그리고, 상기 제1투명기판의 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하고, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 형성하는 단계를 더 포함할 수도 있으며, 상기 비투광패턴에 전도성물질을 도핑하는 단계를 더 포함할 수도 있다.The preparing of the switching panel may include preparing a first transparent substrate; Forming a transparent electrode layer on an entire surface of the first transparent substrate; And coating an electrochromic material on the transparent electrode layer, and then patterning the electrochromic material to form a non-transmissive pattern that is repeatedly disposed at a predetermined interval, preparing a second substrate, and preparing the second substrate. Forming a non-transmission pattern repeatedly disposed at regular intervals on the substrate; And bonding the two substrates bonded together so that the non-transmissive patterns formed on the first and second transparent substrates coincide with each other. In this case, a light transmitting pattern may be formed between the non-light transmitting patterns, and the light transmitting pattern may be formed using photoacryl. The method may further include forming a non-transparent pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns of the first transparent substrate and applying an electrical signal to the non-transmissive pattern. Doping may further comprise doping the material.

또한, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는, 제1투명기판을 준비하는 단계; 상기 제1투명기판 상에 투명한 전도성물질을 증착한 후, 이를 패터닝하여, 상기 제1투명기판 상부에 일정간격을 두고 반복적으로 배치되는 투명전극패턴을 형성하는 단계; 및 상기 투명전극패턴을 포함하는 기판 전면에 전기변색물질을 코팅하여, 전기변색층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 전기변색층 상부에 제1투명기판과 대향하는 제2투명기판을 합착하는 단계를 더 포함할 수도 있다. 그리고, 상기 투명전극패턴과 대응하는 전기변색층에 전도성물질을 도핑하는 단계를 더 포함할 수도 있다.In addition, preparing the switching panel may include preparing a first transparent substrate; Depositing a transparent conductive material on the first transparent substrate and then patterning the transparent conductive material to form a transparent electrode pattern that is repeatedly disposed at a predetermined interval on the first transparent substrate; And forming an electrochromic layer by coating an electrochromic material on the entire surface of the substrate including the transparent electrode pattern, and bonding a second transparent substrate facing the first transparent substrate on the electrochromic layer. It may further comprise the step of. The method may further include doping a conductive material on the electrochromic layer corresponding to the transparent electrode pattern.

또한, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는, 제1투명기판을 준비하는 단계; 상기 제1투명기판 상부의 전면에 투명전극층을 형성하는 단계; 상기 투명전극층 상에 전기변색물질을 코팅하여 전기변색층을 형성하는 단계; 및 상기 전기변색층에 전도성물질을 도핑하여, 일정거리를 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 전기변색층 상부에 제1투명기판과 대향하는 제2투명기판을 합착하는 단계를 더 포함할 수도 있다. 그리고, 상기 제1투명기판의 외곽에 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하고, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어질 수도 있다.In addition, preparing the switching panel may include preparing a first transparent substrate; Forming a transparent electrode layer on an entire surface of the first transparent substrate; Forming an electrochromic layer by coating an electrochromic material on the transparent electrode layer; And forming a non-transmissive pattern repeatedly disposed at a predetermined distance by doping a conductive material to the electrochromic layer, and a second transparent substrate facing the first transparent substrate on the electrochromic layer. It may further comprise the step of bonding. The method may further include forming a non-transmissive pattern connection line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outer periphery of the first transparent substrate and applying an electrical signal to the non-transmissive pattern.

또한, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는, 투명한 제1투명기판을 준비하는 단계; 상기 제1투명기판 상부에 전기변색물질을 코팅하여, 전기변색층을 형성하는 단계; 및 상기 전기변색층에 전도성물질을 도핑하여, 일정거리를 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 제2투명기판을 준비하는 단계; 상기 제1투명기판 상부에 전기변색물질을 코팅하여, 전기변색층을 형성하는 단계; 상기 전기변색층에 전도성물질을 도핑하여, 일정거리를 두고 반복 적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계; 및 상기 비투광패턴이 일치되도록 제1 및 제2기판을 합착하는 단계를 더 포함하여 이루어질 수도 있다. 그리고, 상기 제1 및 제2기판의 외곽에 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하고, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 형성하는 단계를 더 포함할 수도 있다.The preparing of the switching panel may include preparing a transparent first transparent substrate; Coating an electrochromic material on the first transparent substrate to form an electrochromic layer; And forming a non-transmissive pattern repeatedly arranged at a predetermined distance by doping a conductive material to the electrochromic layer, and preparing the second transparent substrate; Coating an electrochromic material on the first transparent substrate to form an electrochromic layer; Doping the electrochromic layer with a conductive material to form a non-transmissive pattern repeatedly arranged at a predetermined distance; And bonding the first and second substrates to match the non-transmission pattern. The method may further include forming a non-transmissive pattern connection line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outer periphery of the first and second substrates and applying an electrical signal to the non-transmissive pattern.

상기한 바와 같이, 본 발명은 전기변색물질을 사용하여 광시야각모드와 협시야각모드를 구현하는 스위칭패널을 형성함으로써, 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 구현할 수 있는 표시장치를 제공한다. 즉, 본 발명의 스위칭패널은 전기신호가 인가되면, 상기 전기변색물질의 색이 변하여, 선택적으로 비투광영역을 형성하게 된다. 따라서, 상기 비투광영역에 의해 시야각이 제한되어 협시야각모드를 구현하며, 전기신호가 인가되지 않을 경우, 상기 스위칭패널은 전면이 투광영역을 형성하고, 표시패널의 원래 시야각을 구현하게 된다.As described above, the present invention provides a display device capable of selectively implementing a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode by forming a switching panel for implementing a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode using an electrochromic material. That is, in the switching panel of the present invention, when the electric signal is applied, the color of the electrochromic material is changed, thereby selectively forming a non-transmissive area. Therefore, the viewing angle is limited by the non-transmissive area to implement a narrow viewing angle mode. When no electric signal is applied, the switching panel forms a transmissive area on the front surface and implements the original viewing angle of the display panel.

이하, 첨부한 도면을 통해 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 구현할 수 있는 표시장치 및 그 제조방법에 대하여 더욱 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, a display device capable of selectively implementing a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 표시장치의 구성을 간략하게 나타낸 것이다.1 briefly illustrates a configuration of a display device according to the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 표시장치(100)는 영상을 표시하는 표시패널(110)과 상기 표시패널(110)의 전방에 배치되어, 협시야각모드와 광시야각모드를 선택적으로 구현하는 스위칭패널(120)를 포함하여 구성된다.As shown in the figure, the display device 100 of the present invention is disposed in front of the display panel 110 and the display panel 110 for displaying an image, to selectively implement the narrow viewing angle mode and wide viewing angle mode It is configured to include a switching panel 120.

상기 표시패널(110)은 LCD(Liquid Crystal Display)패널, PDP(Plasma Display Panel)패널, FED(Field Emission Display)패널, EL(Electric Luminescence)패널 및 VFD(Vacuum Fluorescent Display)패널 중의 하나로 선택될 수 있으며, 이밖에도, 모든 평판표시패널을 적용할 수 있다. 그리고, 상기 LCD(Liquid Crystal Display)패널과 같이 비발광 패널을 표시패널(110)로 사용되는 경우, 상기 표시패널(110)에 광을 발생시키는 백라이트(130)가 별도로 구성되어야 한다.The display panel 110 may be selected from one of a liquid crystal display (LCD) panel, a plasma display panel (PDP) panel, a field emission display (FED) panel, an electric luminescence (EL) panel, and a vacuum fluorescent display (VFD) panel. In addition, all flat panel display panels can be applied. In addition, when the non-light emitting panel is used as the display panel 110, such as an LCD (Liquid Crystal Display) panel, the backlight 130 for generating light on the display panel 110 should be separately configured.

상기 스위칭패널(120)은 전기신호 인가유무에 따라 협시야각모드와 광시야각모드를 선택적으로 구현한다. 즉, 상기 스위칭패널(120)에 전기신호가 인가되지 않을 경우, 상기 스위칭패널(120)은 전영역이 투광영역을 형성하여, 광시야각모드를 구현하며, 전기신호가 인가될 경우, 투광영역과 비투광영역을 선택적으로 형성하여 협시야각모드를 구현하게 된다. 이때, 전기신호의 유무에 따라 투광영역과 비투광영역을 선택적으로 형성하는 것은 전기변색물질을 이용함으로써 가능해진다.The switching panel 120 selectively implements a narrow viewing angle mode and a wide viewing angle mode according to whether an electric signal is applied. That is, when no electrical signal is applied to the switching panel 120, the switching panel 120 forms a light-transmitting area in all areas, thereby implementing a wide viewing angle mode, and when the electric signal is applied, By selectively forming a non-transmissive area to implement a narrow viewing angle mode. At this time, it is possible to selectively form the transmissive region and the non-transmissive region in accordance with the presence or absence of an electrical signal by using an electrochromic material.

일반적으로, 전기변색물질(Electrochromic Materials)은 산화, 환원 반응에 따른 흡수 파장 또는 흡수율의 변화로 가시적으로 색깔, 색의 농담이 변하는 물질로써, 물질의 종류에 따라 무기 전기변색물질과 유기 전기변색물질로 구분된다.In general, electrochromic materials are materials in which the color and color of the color change visually due to changes in absorption wavelengths or absorption rates due to oxidation and reduction reactions. Inorganic electrochromic materials and organic electrochromic materials depending on the type of material Separated by.

무기 전기변색물질로는 WO3, NiOxHy, Nb2O5, V2O5, TiO2, MoO3등이 있으며, 상기 유기 전기변색물질로는 전기변색 전해질용액, 전기변색 고분자등이 있다.Inorganic electrochromic materials include WO 3 , NiO x H y , Nb 2 O 5 , V 2 O 5 , TiO 2 , MoO 3, and the like. The organic electrochromic materials include an electrochromic electrolyte solution and an electrochromic polymer. have.

본 발명에서 사용되는 전기변색물질은 전기신호가 인가됨에 따라, 비투광영역을 형성하는 것으로, 여기서, 비투광영역은 표시패널(110)에 나타낸 이미지를 관찰자가 보지 못하도록 차단되는 영역을 의미하며, 상기 투광영역은 상기 표시패널 (120)에 표시된 이미지를 그대로 볼 수 있도록 투명하게 이루어진 영역을 의미한다. 이때, 상기 비투광영역은 실제로 관찰자가 육안으로 인식하지 못할정도의 폭을 가지고 있으며, 단지, 시야각을 제한하는 역할을 한다. The electrochromic material used in the present invention forms a non-transmissive area as an electric signal is applied, where the non-transmissive area means an area that is blocked from viewing by the viewer of the image shown on the display panel 110. The light transmissive area refers to an area made transparent so that the image displayed on the display panel 120 can be seen as it is. In this case, the non-light-transmitting region actually has a width that is not visible to the viewer, and merely serves to limit the viewing angle.

도 2를 통해 본 발명에 따른 스위칭패널의 광시야각모드 및 협시야각모드의 구동원리를 더욱 상세하게 설명하면, 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 스위칭패널(120)은 제1 및 제2투명기판(131,133)과 상기 두기판(131,133) 사이에 일정한 간격을 두고 격벽형태로 형성된 비투광패턴(135)으로 구성되는데, 상기 비투광패턴(135)은 신호인가에 따라 투광모드 또는 비투광모드를 선택적으로 구현하며, 특히, 신호가 인가될때, 비투광모드를 구현하게 된다. 상기 비투광패턴(135)에 신호가 인가되어 비투광모드를 구현할 경우, 시야각이 좁아지게 된다. 즉, 상기 비투광패턴(135)은 관찰자에 의해서 실질적으로 보여지지는 않지만, 일정한 높이를 가지고 있기 때문에, 측면으로 투과되는 광을 차단하여 시야각을 줄이는 역할을 하게 된다. 반면에, 비투광패턴(135)이 투광모드를 구현할 경우, 상기 비투광패턴(135)은 더 이상 광을 차단하지 못하기 때문에, 시야각이 넓어지게 된다.The driving principle of the wide viewing angle mode and the narrow viewing angle mode of the switching panel according to the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 2, as shown in the drawing. The transparent substrate 131 and 133 and the two substrates 131 and 133 are composed of a non-transmission pattern 135 formed in a partitioned form at a predetermined interval, wherein the non-transmission pattern 135 is a light transmission mode or a non-light transmission mode depending on the signal applied Is implemented selectively, and in particular, when a signal is applied to implement a non-light-transmission mode. When a signal is applied to the non-light emitting pattern 135 to implement a non-light emitting mode, the viewing angle is narrowed. That is, the non-transmissive pattern 135 is not substantially seen by the observer, but because it has a constant height, it serves to reduce the viewing angle by blocking the light transmitted to the side. On the other hand, when the non-transmissive pattern 135 implements the light-transmitting mode, the non-transmissive pattern 135 can no longer block the light, thereby widening the viewing angle.

한편, 상기 비투광패턴(135)의 높이(H)를 조절함에 따라 협시야각을 제어할 수 있으며, H가 높을수록 협시야각모드에서 시야각이 좁아지게 된다. 예를들어, 상기 비투광패턴이 높이(H)는 150㎛ 이상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 비투광패턴(135)은 80~100㎛ 간격마다에 형성될 수 있으며, 상기 비투광패턴(135)의 폭은 20㎛를 초과해선 안된다. 이것은, 협시야각모드에서 상기 비투광패턴(135)이 관찰자에 인지되지 못하도록 하기 위한 것이다.Meanwhile, the narrow viewing angle may be controlled by adjusting the height H of the non-transmission pattern 135, and the higher the H, the narrower the viewing angle in the narrow viewing angle mode. For example, the non-transmissive pattern may have a height H of 150 μm or more. In addition, the non-transmission pattern 135 may be formed at intervals of 80 to 100 μm, and the width of the non-transmission pattern 135 should not exceed 20 μm. This is to prevent the non-transmission pattern 135 from being perceived by the observer in the narrow viewing angle mode.

이와 같이, 본 발명은 소정의 높이를 갖는 격벽형태로 마련되어, 신호인가에 따라 투광모드와 비투광모드를 선택적으로 구현하는 비투광패턴(135)을 적용함으로써, 협시야각과 광시야각을 선택적으로 스위칭한다. 이때, 상기 비투광패턴(135)은 전기변색물질로 형성되어 있으며, 전술한 바와 같이, 상기 전기변색물질은 전기신호를 인가함에 따라, 투광모드와 비투광모드를 선택적으로 구현하게 된다. 따라서, 본 발명에서는 전기변색물질의 이러한 특성을 적용하여 스위칭패널을 고안한 것이다.As described above, the present invention is provided in the form of a partition wall having a predetermined height, and by selectively applying the non-transmission pattern 135 for implementing the light transmission mode and the non-light transmission mode according to the application of the signal, selectively switching the narrow viewing angle and the wide viewing angle do. In this case, the non-transmission pattern 135 is formed of an electrochromic material. As described above, the electrochromic material selectively implements a light emission mode and a non-light emission mode by applying an electric signal. Therefore, the present invention devised a switching panel by applying such characteristics of the electrochromic material.

한편, 상기 비투광패턴(235)은 전기변색물질을 코팅한 후, 패터닝함으로써, 형성할 수 있으며, 신호를 인가하기 위한 별도의 전극이 형성된다. 그리고, 상기 전극은 기판 전면에 걸쳐서 형성되거나, 상기 비투광패턴(235)이 위치하는 영역에만 선택적으로 형성될 수 있다.On the other hand, the non-transmissive pattern 235 may be formed by coating the electrochromic material and then patterning, and a separate electrode for applying a signal is formed. In addition, the electrode may be formed over the entire surface of the substrate, or selectively formed only in a region where the non-transmissive pattern 235 is located.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일실시예에 의한 스위칭패널을 개략적으로 나타낸 것으로, 도 3a는 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 I-I'의 절단하여 나타낸 단면도이다.3A and 3B schematically illustrate a switching panel according to an embodiment of the present invention. FIG. 3A is a plan view, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 3A.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 스위칭패널(220)은 제1투명기판(201)과, 상기 제1투명기판(201) 전면에 형성된 투명전극층(211)과, 상기 투명전극층(211) 상에 일정거리를 두고 소정의 높이를 가지고 형성된 비투광패턴(235)으로 구성된다.As shown in the figure, the switching panel 220 according to the present embodiment includes a first transparent substrate 201, a transparent electrode layer 211 formed on the front surface of the first transparent substrate 201, and the transparent electrode layer 211. The non-transmissive pattern 235 is formed to have a predetermined height on a predetermined distance).

상기 투명전극층(211)은 ITO(indium tin oxide) 또는 IZO(indium zinc oxide)와 같은 투명한 전도성물질을 스퍼터링을 통해 상기 제1투명기판(201) 상에 증착하여 형성할 수 있으며, 상기 비투광패턴(235)은 상기 투명전극층(211) 상에 전기변색물질을 코팅한 후, 포토리소그래피방법을 통해 상기 전기변색물질층을 패터닝함으로써 형성할 수 있다.The transparent electrode layer 211 may be formed by depositing a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) on the first transparent substrate 201 through sputtering, and the non-transparent pattern 235 may be formed by coating an electrochromic material on the transparent electrode layer 211 and then patterning the electrochromic material layer through a photolithography method.

상기 비투광패턴(235)들은 전기신호 인가에 의해 비투광영역(B)을 형성하고, 상기 비투광패턴(235)들 사이에 노출된 투명전극층(211)은 투광영역(T)을 형성하게 된다. The non-transmission patterns 235 form a non-transmission region B by applying an electric signal, and the transparent electrode layer 211 exposed between the non-transmission patterns 235 forms a transmission region T. .

또한, 상기 비투광패턴(235)에 전기신호를 인가하기 위하여, 상기 제1투명기판(201)의 외곽에 상기 비투광패턴(235)을 하나로 연결하는 비투광패턴 연결라인(233)을 형성할 수도 있다. 한편, 상기 비투광패턴(235)에 전도성물질을 도핑함으로써, 전기신호에 의해 더욱 용이하게 변색시켜, 상대적으로 적은 전류로도 투광영역(T)을 형성할 수도 있다.In addition, in order to apply an electrical signal to the non-transmissive pattern 235, a non-transmissive pattern connecting line 233 for connecting the non-transmissive pattern 235 as one outside the first transparent substrate 201 is formed. It may be. On the other hand, by doping the non-transmissive pattern 235 with a conductive material, it is easier to discolor by an electrical signal, thereby forming a light transmitting region (T) with a relatively small current.

상기와 같이 구성된 스위칭패널(220)은, 상기 비투광패턴(235)에 전기신호가 인가되면, 전기변색물질의 특성에 의해 비투광영역(B)이 일정거리를 두고 소정높이로 형성되어, 측면으로 투과되는 광을 차단함으로써, 협시야각모드의 액정표시장치를 구현하게 된다. 반면에, 상기 비투광패턴(235)에 전기신호가 인가되지 않으면, 상기 비투광패턴(235)은 투광영역으로 전환되고, 표시패널의 상부로 투과된 모든광이 상기 스위칭패널(220)에 의해 방해받기 않기 때문에 광시야각모드를 구현하게 된다.In the switching panel 220 configured as described above, when an electrical signal is applied to the non-transmissive pattern 235, the non-transmissive region B is formed at a predetermined height at a predetermined distance due to the characteristics of the electrochromic material. By blocking the light transmitted through, the liquid crystal display device of the narrow viewing angle mode is implemented. On the other hand, when no electrical signal is applied to the non-transmissive pattern 235, the non-transmissive pattern 235 is converted to a light transmitting area, and all the light transmitted through the upper portion of the display panel is switched by the switching panel 220. Since it is not disturbed, it implements wide viewing angle mode.

한편, 상기 비투광패턴(235)을 포함하는 제1투명기판(201) 상에 제2투명기판(202)이 추가로 구성될 수 있으며, 도 4에 도시된 바와 같이, 비투광패턴을 소정의 높이(150㎛)로 형성하기 위해 상기 제2투명기판(202) 상에 비투광패턴(235b)을 형성하고, 이를 제1투명기판(201) 상에 형성된 비투광패턴(235a)과 일치시켜 부착할 수도 있다.On the other hand, the second transparent substrate 202 may be further configured on the first transparent substrate 201 including the non-transparent pattern 235, as shown in FIG. A non-transparent pattern 235b is formed on the second transparent substrate 202 to form a height (150 μm), and is matched with the non-transparent pattern 235a formed on the first transparent substrate 201 to attach it. You may.

또한, 비투광패턴들 사이 즉, 협시야각모드에서 투광영역(T)을 형성하는 영역에 투명패턴을 추가로 형성할 수도 있다.In addition, a transparent pattern may be further formed between the non-transmissive patterns, that is, in the region in which the light transmitting region T is formed in the narrow viewing angle mode.

도 5a 및 도 5b는 투광영역에 투명패턴이 추가로 형성된 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 것으로, 도 5a는 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 II-II'의 단면도이다. 이때, 본 실시예는 투명패턴을 제외한 모든 구성요소가 이전실시예와 동일하며, 동일한 구성에 대한 상세한 설명을 생략하도록 한다.5A and 5B illustrate another embodiment of the present invention in which a transparent pattern is additionally formed in the light-transmitting region. FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 5A. At this time, in the present embodiment, all components except for the transparent pattern are the same as in the previous embodiment, and detailed description of the same configuration will be omitted.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 스위칭패널(320)은, 제1투명기판(301)과, 상기 제1투명기판(301) 전면에 형성된 투명전극층(311)과, 상기 투명전극층(311) 상에 일정거리를 두고 소정의 높이로 형성된 비투광패턴(335)으로 구성되며, 상기 비투광패턴(335)들 사이에는 투명패턴(337)이 형성된다. 이때, 상기 투명패턴(337)은 비투광패턴(335)이 형성된 제1투명기판(301) 상에 포토아크릴(photo acryl)과 같은 투명한 유기물질을 도포한 후, 이를 패터닝함으로써 형성할 수 있다. 이때에도, 상기 제1투명기판(301)의 외곽에 상기 비투광패턴(335)들을 하나로 연결하여 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인(333)을 추가로 구성할 수 있으며, 상기 비투광패턴(335)에 전도성물질을 추가로 도핑할 수도 있다.As shown in the figure, the switching panel 320 according to the present embodiment includes a first transparent substrate 301, a transparent electrode layer 311 formed on an entire surface of the first transparent substrate 301, and the transparent electrode layer ( The non-transmissive pattern 335 is formed to have a predetermined height on the 311, and a transparent pattern 337 is formed between the non-transmissive patterns 335. In this case, the transparent pattern 337 may be formed by coating a transparent organic material such as photo acryl on the first transparent substrate 301 on which the non-transparent pattern 335 is formed, and then patterning the transparent organic material. In this case, the non-transmissive pattern connecting line 333 may be further configured to connect the non-transmissive patterns 335 to one outside of the first transparent substrate 301 to apply an electric signal. 335 may further be doped with a conductive material.

그리고, 상기 투광패턴(337) 및 비투광패턴(335)을 보호하기 위해, 그 상부에 제2투명기판(302)을 추가로 구성할 수도 있다.In order to protect the light transmitting pattern 337 and the non-light transmitting pattern 335, a second transparent substrate 302 may be further formed thereon.

또한, 투명전극을 생략하고, 제1투명기판 상에 비투광패턴만을 형성할 수도 있다.In addition, the transparent electrode may be omitted, and only the non-transparent pattern may be formed on the first transparent substrate.

도 6a 및 도 6b는 투명전극이 생략된 본 발명의 또 다른 실시예를 나타낸 것으로, 도 6b는 도 6a의 III-III'의 단면도이다. 6A and 6B illustrate another embodiment of the present invention in which the transparent electrode is omitted, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line III-III ′ of FIG. 6A.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 스위칭패널(420)은 제1투명기판(401)과 상기 제1투명기판(401) 상에 일정거리를 두고 반복적으로 형성된 비투광패턴(435)으로 구성된다. As shown in the figure, the switching panel 420 according to the present embodiment is a non-transparent pattern 435 repeatedly formed at a predetermined distance on the first transparent substrate 401 and the first transparent substrate 401. It is composed.

이전 실시예들에서와 마찬가지로, 상기 비투광패턴(435)들은 전기신호 인가에 의해 비투광영역(B)을 형성하고, 상기 비투광패턴(435)들 사이에 노출된 제1투명기판(401a)은 투광영역(T)을 형성하게 된다. As in the previous embodiments, the non-transmissive patterns 435 form the non-transmissive region B by applying an electric signal, and the first transparent substrate 401a exposed between the non-transmissive patterns 435. Silver forms a light transmitting area (T).

이때에도, 상기 비투광패턴(435)에 전기신호를 인가하기 위해, 상기 제1투명기판(401)의 외곽에 상기 비투광패턴(435)을 하나로 연결하는 비투광패턴 연결라인(433)을 구성할 수 있다. 그리고, 상기 비투광패턴(435)에 전도성물질을 도핑함으로써, 전기신호에 의해 더욱 민감하도록 하여, 상대적으로 적은 전류로도 원하는 비투광영역을 얻을 수가 있다. 그리고, 상기 비투광패턴(435)을 포함하는 제1투명기판(401) 상에 제2투명기판(402)을 추가로 구성할 수도 잇다.In this case, in order to apply an electrical signal to the non-transmissive pattern 435, a non-transmissive pattern connecting line 433 is formed to connect the non-transmissive pattern 435 to one outside of the first transparent substrate 401. can do. By doping the non-transmissive pattern 435 with a conductive material, the non-transmissive region can be made more sensitive to an electric signal, thereby obtaining a desired non-transmissive region with a relatively small current. The second transparent substrate 402 may be further configured on the first transparent substrate 401 including the non-transparent pattern 435.

또한, 상기 비투광패턴(435)들 사이 즉, 투광영역(T)에 투명한 투명패턴을 추가로 형성할 수도 있다.In addition, a transparent pattern may be further formed between the non-transmissive patterns 435, that is, in the transmissive area T.

도 7a 및 도 7b에 투과영역에 투명패턴이 형성된 본 발명의 또 다른 실시예를 나타낸 것으로, 도 7a는 평면도이고, 도 7b는 도 7a의 IV-IV'의 단면도이다. 7A and 7B illustrate another embodiment of the present invention in which a transparent pattern is formed in a transmissive region. FIG. 7A is a plan view, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line IV-IV 'of FIG. 7A.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 스위칭패널(520)은, 제1투명기판(501)과, 상기 기판 (501) 상에 일정거리를 두고 소정을 높이를 갖는 비투광패턴(515)으로 구성되며, 상기 비투광패턴(515)들 사이에는 투명패턴(517)이 형성된다. 이때, 상기 투명패턴(517)은 비투광패턴(515)이 형성된 기판 상에 포토아크릴(photo acryl)과 같은 투명한 유기물질을 도포한 후, 이를 패터닝함으로써, 형성할 수 있다. 이때에도, 상기 필름의 외곽에 상기 비투광패턴(515)들을 전기적으로 연결하여 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인(533)이 형성될 수도 있으며, 상기 비투광패턴(515)에 전도성물질을 도핑할도 수 있다. As shown in the drawing, the switching panel 520 according to the present embodiment includes a first transparent substrate 501 and a non-transmission pattern 515 having a predetermined height at a predetermined distance on the substrate 501. The transparent pattern 517 is formed between the non-transmissive patterns 515. In this case, the transparent pattern 517 may be formed by coating a transparent organic material such as photo acryl on a substrate on which the non-transmissive pattern 515 is formed and then patterning the transparent organic material. In this case, a non-transmissive pattern connection line 533 may be formed on the outer edge of the film to electrically connect the non-transmissive patterns 515 to apply an electrical signal. Can also be doped.

그리고, 상기 투광패턴(517) 및 비투광패턴(515)을 포함하는 제1투명기판(501) 상에 제2투명기판(502)을 추가로 부착할 수도 있으며, 상기 투광패턴(517)을 비투광패턴(515)과 동일한 전기변색물질로 형성할 수도 있다.In addition, a second transparent substrate 502 may be further attached onto the first transparent substrate 501 including the light transmission pattern 517 and the non-light transmission pattern 515, and the light transmission pattern 517 may be non-attached. It may be formed of the same electrochromic material as the light transmission pattern 515.

도 8a 및 도 8b는 비투광패턴이 전기변색물질로 형성된 본 발명의 또 다른 실시예를 나타낸 것으로, 도 8a는 평면도이고, 도 8b는 도 8a의 V-V'의 단면도이다.8A and 8B illustrate another embodiment of the present invention in which a non-transmissive pattern is formed of an electrochromic material. FIG. 8A is a plan view, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line VV ′ of FIG. 8A.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 스위칭패널(520)은 투명한 제1투명기판(501)과 상기 제1투명기판(501)의 전면에 형성된 전기변색물질층으로 구성되며, 상기 전기변색물층에는 전도성물질이 일정거리를 두고 반복적으로 도핑된 비투광패턴(535a)들 사이(즉, 전도성물질의 도핑이 이루어지지 않은영역)는 투광패턴(535)으로 이루어진다. 본 실시예에서는, 상기 비투광패턴(535a) 및 투광패턴(535)이 동일한 전기변색물질로 형성되나, 상기 변색이 발생되는 전류값이 다르기 때문 에, 투광영역(T)과 비투광영역(B)을 동시에 형성할 수가 있다. 따라서, 본 실시예에서 비투광패턴(535a)에 전도성물질의 도핑은 반드시 이루어져야 한다.As shown in the figure, the switching panel 520 according to the present embodiment is composed of a transparent first transparent substrate 501 and an electrochromic material layer formed on the front surface of the first transparent substrate 501, the electrochromic In the water layer, between the non-transmissive patterns 535a repeatedly doped with a conductive material at a predetermined distance (that is, a region in which the conductive material is not doped) is formed of a transmissive pattern 535. In the present embodiment, the non-transmissive pattern 535a and the transmissive pattern 535 are formed of the same electrochromic material, but because the current value at which the discoloration occurs is different, the light transmitting area T and the non-light emitting area B ) Can be formed at the same time. Therefore, doping of the conductive material to the non-transmissive pattern 535a must be performed in this embodiment.

한편, 전도성물질이 도핑되는 영역에 투명전극패턴을 추가로 형성될 수도 있다. Meanwhile, a transparent electrode pattern may be further formed in the region doped with the conductive material.

도 9a 및 도 9b는 전도성물질이 도핑된 비투광영역에 투명전극패턴이 추가된 본 발명의 또 다른 실시예를 나타낸 것으로, 도 9a는 평면도이고, 도 9b는 도 9a의 VI-VI'의 단면도이다.9A and 9B illustrate another embodiment of the present invention in which a transparent electrode pattern is added to a non-transmissive region doped with a conductive material. FIG. 9A is a plan view and FIG. 9B is a cross-sectional view of VI-VI ′ of FIG. 9A. to be.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의한 스위칭패널(620)은 투명한 제1투명기판(601)과 상기 제1투명기판(601) 상에 일정한 거리를 두고, 반복적으로 형성된 투명전극패턴(611), 상기 투명전극패턴(611) 상에 비투광영역(B)을 형성하는 비투광패턴(635a) 및 투광영역(T)을 형성하는 투광패턴(635)으로 구성된다.As shown in the figure, the switching panel 620 according to the present embodiment is a transparent electrode pattern 611 repeatedly formed at a predetermined distance on the transparent first transparent substrate 601 and the first transparent substrate 601. ), A non-transmissive pattern 635a for forming a non-transmissive region B and a light-transmitting pattern 635 for forming a transmissive region T on the transparent electrode pattern 611.

상기 투명전극패턴(611)은 상기 제1투명기판(601) 상에 ITO(indium tin oxide) 또는 IZO(indium zinc oxide)와 같은 투명한 전도성물질을 스퍼터링방법을 통해 증착함으로써, 형성할 수 있다. 그리고, 상기 비투광패턴(635a)은 상기 투명전극패턴(611)을 포함하는 제1투명기판(601) 전면에 전기변색물질을 코팅한 후, 상기 투명전극패턴(611)과 대응하는 영역에 전도성물질을 도핑함으로써, 코팅할 수 있다.The transparent electrode pattern 611 may be formed by depositing a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) on the first transparent substrate 601 through a sputtering method. The non-transmissive pattern 635a is coated with an electrochromic material on the entire surface of the first transparent substrate 601 including the transparent electrode pattern 611 and then conductive in a region corresponding to the transparent electrode pattern 611. By doping the material, it can be coated.

그리고, 상기 비투광패턴(635a)은 그 하부에 형성된 투명전극패턴(611)에 의해 전기신호를 인가 받게 되며, 상기 제1투명기판의 외곽에 상기 투명전극패턴(611)들을 전기적으로 연결하고, 전기신호를 인가하는 투명전극패턴 연결라인(633) 을 추가로 형성할 수도 있다. 이때에도, 상기 투광패턴(635) 및 비투광패턴(635a)을 포함하는 제1투명기판(601) 상에 제2투명기판(602)을 부착할 수도 있다.In addition, the non-transmissive pattern 635a receives an electrical signal by the transparent electrode pattern 611 formed at a lower portion thereof, and electrically connects the transparent electrode patterns 611 to the outside of the first transparent substrate. A transparent electrode pattern connection line 633 for applying an electric signal may be further formed. In this case, the second transparent substrate 602 may be attached onto the first transparent substrate 601 including the light transmitting pattern 635 and the non-light transmitting pattern 635a.

상기한 바와 같이 구성된 스위칭패널(620)은 비투광영역을 형성하는 비투광패턴(635a)과 투광영역을 형성하는 투광패턴(635)이 모두 전기변색물질로 이루어져 있으나, 상기 비투광패턴(635a)에는 전도성물질이 도핑되어 있기 때문에, 상기 투광패턴(635)에 비해 전기신호에 대한 변색이 더욱 용이하게 발생한다. 즉, 비투광패턴(635a)을 변색시키기 위해 필요한 전류값이 상기 투광패턴(635)을 변색시키기 위해 필요한 전류값보다 적으며, 비록, 비투광패턴(635a) 및 투광패턴(635)이 동일한 전기변색물질로 형성되더라도, 변색이 발생되는 전류값이 다르기 때문에, 투광영역(T)과 비투광영역(B)을 동시에 형성할 수가 있다. In the switching panel 620 configured as described above, the non-transmissive pattern 635a forming the non-transmissive region and the transmissive pattern 635 forming the transmissive region are both made of an electrochromic material. Since the conductive material is doped in, the discoloration of the electrical signal occurs more easily than the light transmission pattern 635. That is, the current value necessary for discoloring the non-transmission pattern 635a is smaller than the current value required for discoloring the light transmission pattern 635, although the non-transmission pattern 635a and the light transmission pattern 635 are the same electricity. Even if it is formed of a color change material, since the current value at which discoloration occurs is different, the light transmitting area T and the non-light emitting area B can be formed simultaneously.

또한, 이전실시예(도 8a 및 도 8b)에 비해 비투광영역(B)을 발생시키는 전류값이 작아져, 소비전력 측면에서도 유리한 잇점이 있다.In addition, compared with the previous embodiment (Figs. 8A and 8B), the current value for generating the non-transmissive area B is smaller, which is advantageous in terms of power consumption.

상기한 바와 같이, 본 발명은 전기변색물질을 시야각 조절판으로 이용한 표시장치를 제공하는 것으로, 상기 전기변색물질이 일정한 거리를 두고, 격벽형태의 비투광영역을 형성하도록 함으로써, 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 스위칭할 수 있도록 한다. 즉, 광시야각모드와 협시야각모드를 스위칭패널은 투광영역과 비투광영역으로 구분되는데, 본 발명에서는 상기 비투광영역을 전기변색물질로 형성함으로써, 신호인가 유무에 따라 시야각전환을 자유롭게 할 수 있도록 한다. As described above, the present invention provides a display device using an electrochromic material as a viewing angle control plate, wherein the electrochromic material is formed at a predetermined distance to form a non-transmissive region in the form of a partition wall, thereby wide viewing angle mode and narrow viewing angle. Allows for selective switching of modes. That is, in the wide viewing angle mode and the narrow viewing angle mode, the switching panel is divided into a light transmitting area and a non-light transmitting area. In the present invention, the non-light transmitting area is formed of an electrochromic material, so that the viewing angle can be freely switched depending on whether a signal is applied or not. do.

본 발명의 기본 개념은 전기변색물질을 이용하여 광시야각모드와 협시각모드 를 스위칭할 수 있는 표시장치에 관한것으로, 본 발명의 상세한 설명에 구체적으로 설명되어 있지 않더라도, 본 발명은 전기변색물질을 이용하여 시야각을 조절하는 모든 표시장치를 포함할 것이다.The basic concept of the present invention relates to a display device capable of switching a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode using an electrochromic material, and although the present invention is not described in detail in the detailed description of the present invention, the present invention relates to an electrochromic material. It will include all the display devices to adjust the viewing angle.

전술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 전기변색물질을 이용함으로, 전기신호의 유무에 따라 자유롭게 시야각을 조절할 수 있는 표시장치를 제공한다.As described above, according to the present invention, by using an electrochromic material, a display device capable of freely adjusting a viewing angle according to the presence or absence of an electrical signal is provided.

Claims (36)

영상을 표시하는 표시패널; 및A display panel displaying an image; And 상기 표시패널에 부착되며, 투광영역과 상기 투광영역 내에서 일정한 간격을 두고 반복적으로 정의되는 비투광영역으로 구분되는 제1투명기판; 상기 제1투명기판의 전면에 형성된 투명전극층; 및 상기 투명전극층의 상부에서, 상기 비투광영역과 대응하는 영역에 격벽 형태를 가지며 전기변색물질로 형성되어, 전기신호의 유무에 따라 투명해지거나 불투명해지는 비투광패턴;을 포함하는 스위칭패널;A first transparent substrate attached to the display panel and divided into a light transmitting region and a non-light emitting region which is repeatedly defined at regular intervals in the light transmitting region; A transparent electrode layer formed on the front surface of the first transparent substrate; And a non-transmissive pattern formed on the upper surface of the transparent electrode layer in a region corresponding to the non-transmissive region and formed of an electrochromic material so as to be transparent or opaque according to the presence or absence of an electrical signal. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치.Display device comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투광영역의 폭은 80~100㎛ 인 것을 특징으로 하는 표시장치.The width of the light emitting area is a display device, characterized in that 80 ~ 100㎛. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비투광영역의 폭은 20㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 표시장치.And the width of the non-transmissive area is 20 μm or less. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비투광패턴의 높이에 의해 협시야각이 결정되는 것을 특징으로 하는 표시장치.A narrow viewing angle is determined by the height of the non-light emitting pattern. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 표시패널은 LCD(Liquid Crystal Display) 패널인 것을 특징으로 하는 표시장치.The display panel is a liquid crystal display (LCD) panel. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 표시패널에 광을 발생시키는 백라이트를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a backlight for generating light in the display panel. 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비투광패턴을 포함하는 제1투명기판에 합착된 제2투명기판을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치.And a second transparent substrate bonded to the first transparent substrate including the non-transmissive pattern. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비투광패턴들 사이에 형성된 투광패턴을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a light transmitting pattern formed between the non-light emitting patterns. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1투명기판의 외곽에, 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하여, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a non-transmissive pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outer side of the first transparent substrate to apply an electrical signal to the non-transmissive pattern. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비투광패턴에 전도성물질이 도핑된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a conductive material doped into the non-transmissive pattern. 영상을 표시하는 표시패널; 및 A display panel displaying an image; And 상기 표시패널에 부착되는 제1투명기판; 상기 제1투명기판 상에 일정간격을 두고 반복적으로 형성된 투명전극패턴; 및 상기 투명전극패턴을 포함하는 제1투명기판 전면에 형성된 전기변색층;을 포함하는 스위칭패널;A first transparent substrate attached to the display panel; A transparent electrode pattern repeatedly formed at a predetermined interval on the first transparent substrate; And an electrochromic layer formed on an entire surface of the first transparent substrate including the transparent electrode pattern. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치.Display device comprising a. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 전기변색층을 포함하는 제1투명기판과 합착된 제2투명기판을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a second transparent substrate bonded to the first transparent substrate including the electrochromic layer. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 투명전극패턴과 대응하는 전기변색층에 전도성물질이 도핑된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a conductive material is doped into the electrochromic layer corresponding to the transparent electrode pattern. 영상을 표시하는 표시패널; 및A display panel displaying an image; And 상기 표시패널에 부착되는 제1투명기판; 상기 제1투명기판 상부의 전면에 형성된 투명전극층; 상기 투명전극층 전면에 형성된 전기변색층; 및 상기 전기변색층 내에 일정거리를 두고 전도성물질이 반복적으로 도핑된 비투광패턴;을 포함하는 스위칭패널;A first transparent substrate attached to the display panel; A transparent electrode layer formed on the entire surface of the first transparent substrate; An electrochromic layer formed over the transparent electrode layer; And a non-transmission pattern doped repeatedly with a conductive material at a predetermined distance in the electrochromic layer. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치.Display device comprising a. 제15항에 있어서, 16. The method of claim 15, 상기 비투광패턴을 포함하는 제1투명기판과 합착된 제2투명기판을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a second transparent substrate bonded to the first transparent substrate including the non-transparent pattern. 제15항에 있어서, 16. The method of claim 15, 상기 제1투명기판의 외곽에, 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하여, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a non-transmissive pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outer side of the first transparent substrate to apply an electrical signal to the non-transmissive pattern. 삭제delete 제15항에 있어서, 16. The method of claim 15, 상기 비투광패턴을 포함하는 제1투명기판과 합착된 제2투명기판을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a second transparent substrate bonded to the first transparent substrate including the non-transparent pattern. 제15항에 있어서, 16. The method of claim 15, 상기 제1투명기판의 외곽에, 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하여, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치.And a non-transmissive pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outer side of the first transparent substrate to apply an electrical signal to the non-transmissive pattern. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 표시패널은, PDP(Plasma Display Panel)패널, FED(Field Emission Display)패널, EL(Electric Luminescence)패널 및 VFD(Vacuum Fluorescent Display)패널 중의 하나인 것을 특징으로 하는 표시장치.The display panel is one of a plasma display panel (PDP) panel, a field emission display (FED) panel, an electric luminescence (EL) panel, and a vacuum fluorescent display (VFD) panel. 영상을 표시하는 표시패널을 준비하는 단계;Preparing a display panel displaying an image; 전기신호 인가 유무에 따라 광시야각모드와 협시야각모드를 선택적으로 구현하며, 전기변색물질에 의해 투광영역과 비투광영역으로 구분된 스위칭패널을 준비하는 단계; 및Selectively implementing a wide viewing angle mode and a narrow viewing angle mode according to whether an electric signal is applied, and preparing a switching panel divided into a light transmitting region and a non-light emitting region by an electrochromic material; And 상기 표시패널에 스위칭패널을 부착시키는 단계를 포함하여 이루어지는 표시장치의 제조방법.Attaching a switching panel to the display panel. 제22항에 있어서, 23. The method of claim 22, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는,Preparing the switching panel, 제1투명기판을 준비하는 단계;Preparing a first transparent substrate; 상기 제1투명기판 상부의 전면에 투명전극층을 형성하는 단계; 및Forming a transparent electrode layer on an entire surface of the first transparent substrate; And 상기 투명전극층 상에 전기변색물질을 코팅한 후, 이를 패터닝하여 일정간격을 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.Coating an electrochromic material on the transparent electrode layer, and then patterning the electrochromic material to form a non-transmission pattern that is repeatedly disposed at a predetermined interval. 제23항에 있어서,24. The method of claim 23, 제2투명기판을 준비하는 단계;Preparing a second transparent substrate; 상기 제2투명기판 상에 전기변색물질을 코팅한 후, 이를 패터닝하여 일정간격을 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계; 및Coating an electrochromic material on the second transparent substrate, and then patterning the electrochromic material to form a non-transmission pattern that is repeatedly disposed at a predetermined interval; And 상기 제1 및 제2투명기판에 형성된 비투광패턴이 일치되도록 합착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And bonding the non-transmissive patterns formed on the first and second transparent substrates to coincide with each other. 제23항 또는 제24항에 있어서, The method of claim 23 or 24, 상기 비투광패턴들 사이에 투광패턴을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And forming a light transmitting pattern between the non-light emitting patterns. 제23항에 있어서,24. The method of claim 23, 상기 제1투명기판의 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하고, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 형성하는 단계를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And electrically connecting the non-transmissive patterns of the first transparent substrate and forming a non-transmissive pattern connection line for applying an electrical signal to the non-transmissive pattern. 제23항에 있어서, 24. The method of claim 23, 상기 비투광패턴에 전도성물질을 도핑하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And doping a conductive material into the non-transmissive pattern. 제22항에 있어서, 23. The method of claim 22, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는,Preparing the switching panel, 제1투명기판을 준비하는 단계;Preparing a first transparent substrate; 상기 제1투명기판 상에 투명한 전도성물질을 증착한 후, 이를 패터닝하여, 상기 제1투명기판 상부에 일정간격을 두고 반복적으로 배치되는 투명전극패턴을 형성하는 단계; 및Depositing a transparent conductive material on the first transparent substrate and then patterning the transparent conductive material to form a transparent electrode pattern that is repeatedly disposed at a predetermined interval on the first transparent substrate; And 상기 투명전극패턴을 포함하는 기판 전면에 전기변색물질을 코팅하여, 전기변색층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 표시장치의 제조방법.And forming an electrochromic layer by coating an electrochromic material on the entire surface of the substrate including the transparent electrode pattern. 제28항에 있어서, The method of claim 28, 상기 전기변색층 상부에 제1투명기판과 대향하는 제2투명기판을 합착하는 단계를 포함하여 이루지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And bonding a second transparent substrate facing the first transparent substrate to the upper portion of the electrochromic layer. 제28항에 있어서, The method of claim 28, 상기 투명전극패턴과 대응하는 전기변색층에 전도성물질을 도핑하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And doping a conductive material into the electrochromic layer corresponding to the transparent electrode pattern. 제22항에 있어서, 23. The method of claim 22, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는,Preparing the switching panel, 제1투명기판을 준비하는 단계;Preparing a first transparent substrate; 상기 제1투명기판 상부의 전면에 투명전극층을 형성하는 단계;Forming a transparent electrode layer on an entire surface of the first transparent substrate; 상기 투명전극층 상에 전기변색물질을 코팅하여 전기변색층을 형성하는 단계;Forming an electrochromic layer by coating an electrochromic material on the transparent electrode layer; 상기 전기변색층에 전도성물질을 도핑하여, 일정거리를 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And forming a non-transmissive pattern repeatedly arranged at a predetermined distance by doping a conductive material to the electrochromic layer. 제31항에 있어서, The method of claim 31, wherein 상기 전기변색층 상부에 제1투명기판과 대향하는 제2투명기판을 합착하는 단계를 포함하여 이루지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And bonding a second transparent substrate facing the first transparent substrate to the upper portion of the electrochromic layer. 제31항에 있어서, The method of claim 31, wherein 상기 제1투명기판의 외곽에 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하고, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And forming a non-transmissive pattern connecting line electrically connecting the non-transmissive patterns to the outer side of the first transparent substrate and applying an electrical signal to the non-transmissive pattern. Way. 제22항에 있어서, 23. The method of claim 22, 상기 스위칭패널을 준비하는 단계는,Preparing the switching panel, 제1투명기판을 준비하는 단계;Preparing a first transparent substrate; 상기 제1투명기판 상부에 전기변색물질을 코팅하여, 전기변색층을 형성하는 단계; 및Coating an electrochromic material on the first transparent substrate to form an electrochromic layer; And 상기 전기변색층에 전도성물질을 도핑하여, 일정거리를 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And forming a non-transmissive pattern repeatedly arranged at a predetermined distance by doping a conductive material to the electrochromic layer. 제34항에 있어서, 35. The method of claim 34, 제2투명기판을 준비하는 단계;Preparing a second transparent substrate; 상기 제2투명기판 상부에 전기변색물질을 코팅하여, 전기변색층을 형성하는 단계;Coating an electrochromic material on the second transparent substrate to form an electrochromic layer; 상기 전기변색층에 전도성물질을 도핑하여, 일정거리를 두고 반복적으로 배치되는 비투광패턴을 형성하는 단계; 및Doping a conductive material to the electrochromic layer to form a non-transmissive pattern repeatedly disposed at a predetermined distance; And 상기 제1 및 제2투명기판의 비투광패턴이 일치되도록 제1 및 제2기판을 합착하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And bonding the first and second substrates together such that the non-transmissive patterns of the first and second transparent substrates coincide with each other. 제34항에 있어서, 35. The method of claim 34, 상기 제1 및 제2기판의 외곽에 상기 비투광패턴들을 전기적으로 연결하고, 상기 비투광패턴에 전기신호를 인가하는 비투광패턴 연결라인을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.And forming a non-transmission pattern connecting line electrically connecting the non-transmission patterns to the outer periphery of the first and second substrates and applying an electrical signal to the non-transmission pattern. Manufacturing method.
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