KR101205724B1 - Apparatus for patterning thin film - Google Patents

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Abstract

기판에 형성된 박막이 손상되는 것을 방지한 박막 패터닝 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 박막 패터닝 장치는, 박막이 하측을 향하게 기판을 뒤집어서 테이블에 로딩하거나, 테이블로부터 언로딩할 때, 압축기에서 분사되는 공기가 기판의 중앙부측을 지지하고, 롤러가 기판의 테두리부측을 지지한다. 그러므로, 기판에 형성된 박막이 손상되는 것이 방지될 뿐만 아니라, 기판이 처짐 등에 의하여 변형되는 것이 방지된다. 따라서, 박막 패터닝 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.A thin film patterning apparatus is disclosed in which a thin film formed on a substrate is prevented from being damaged. In the thin film patterning apparatus according to the present invention, when the thin film is turned downside down and loaded on the table or unloaded from the table, the air injected from the compressor supports the center side of the substrate, and the rollers I support it. Therefore, not only the thin film formed on the substrate is damaged but also the substrate is prevented from being deformed by sagging or the like. Therefore, there is an effect that the reliability of the thin film patterning process is improved.

Description

박막 패터닝 장치{APPARATUS FOR PATTERNING THIN FILM}Thin film patterning device {APPARATUS FOR PATTERNING THIN FILM}

본 발명은 기판에 형성된 박막에 패터닝시 박막이 손상되는 것을 방지하여 박막 패터닝 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 박막 패터닝 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film patterning apparatus capable of improving the reliability of the thin film patterning process by preventing the thin film from being damaged when patterning the thin film formed on the substrate.

솔라셀은 반도체의 성질을 이용하여 태양광을 전기 에너지로 변환시키는 태양 전지로서, 기본적으로 p형 반도체와 n형 반도체의 접합 구조로 이루어진다.A solar cell is a solar cell that converts sunlight into electrical energy using the properties of a semiconductor, and basically consists of a junction structure of a p-type semiconductor and an n-type semiconductor.

솔라셀에 빛이 입사되면, 빛과의 상호 작용에 의해 (-)전하를 띤 전자와 (+)전하를 띤 정공이 발생하며, 전자와 정공이 상호 이동하면서 전류가 흐르는 광기전력 효과(Photovoltaic Effect)가 발생한다. 태양전지를 구성하는 p형 및 n형 반도체 중, 전자는 n형 반도체 쪽으로, 정공은 p형 반도체 쪽으로 끌어 당겨져 각각 n형 반도체 및 p형 반도체와 접합된 전극으로 이동하게 한다. 그리고, 전극을 전선으로 연결하면 전기가 흐르게 되어 전력을 얻을 수 있다.When light is incident on the solar cell, positively-charged electrons and positively-charged holes are generated by the interaction with light, and photovoltaic effect in which current flows while electrons and holes move mutually. ) Occurs. Of the p-type and n-type semiconductors constituting the solar cell, electrons are attracted to the n-type semiconductor and holes are drawn to the p-type semiconductor to move to the electrodes bonded to the n-type semiconductor and the p-type semiconductor, respectively. When the electrodes are connected by wires, electricity flows to obtain power.

일반적으로, 솔라셀은 유리(Glass) 등의 투명 절연 기판에 투명 전극층, 반도체 광전 변환층 및 이면 전극층이 순차적으로 적층된 구조로 이루어진다. 투명 전극층은 SnO2, ITO, ZnO 등의 물질로 형성될 수 있으며, 광전 변환층은 투명 전극층에 적층되는 비정질 반도체의 p층, i층, n층으로 이루어진다. 투명전극층에 사용되는 물질들은 일반적으로 금속에 비해 전기 저항이 크기 때문에, 투명전극층의 저항에 의한 전류 로스(Loss)를 줄이고 원하는 고출력 전압을 얻기 위해 일반적으로 솔라셀은 집적형 박막 솔라셀 패널의 형태로 사용된다.In general, a solar cell has a structure in which a transparent electrode layer, a semiconductor photoelectric conversion layer, and a back electrode layer are sequentially stacked on a transparent insulating substrate such as glass. The transparent electrode layer may be formed of a material such as SnO 2 , ITO, or ZnO, and the photoelectric conversion layer may include p layers, i layers, and n layers of an amorphous semiconductor stacked on the transparent electrode layer. Since the materials used in the transparent electrode layer generally have a higher electrical resistance than the metal, the solar cell is generally in the form of an integrated thin film solar panel in order to reduce current loss caused by the resistance of the transparent electrode layer and to obtain a desired high output voltage. Used as

솔라셀 패널은 복수의 단위 솔라셀이 하나의 패널에 집적된 구조이다. 상세히 설명하면, 솔라셀 패널은 유리의 기판 등에 투명 전극층, 광전 변환층, 이면 전극층을 순차적으로 적층하고, 각 층을 레이저 스크라이빙(Laser Scribing) 방식으로 패터닝(Patterning)하여 복수의 단위 솔라셀을 형성한 후에 이들을 전기적으로 연결한다. 그러면, 복수의 단위 솔라셀이 집적된 솔라셀 패널이 제조된다.The solar cell panel is a structure in which a plurality of unit solar cells are integrated in one panel. In detail, the solar cell panel sequentially laminates a transparent electrode layer, a photoelectric conversion layer, and a back electrode layer on a glass substrate, and patterns each layer by laser scribing. These are electrically connected after they are formed. As a result, a solar panel in which a plurality of unit cells are integrated is manufactured.

솔라셀 패널의 박막은 레이저에 의하여 가공된다. 그런데, 레이저를 박막에 직접 조사하면, 레이저가 조사된 박막과 인접하는 부위의 박막이 손상될 우려가 있다.The thin film of the solar cell panel is processed by a laser. By the way, when the laser is directly irradiated to the thin film, there is a fear that the thin film in the region adjacent to the thin film irradiated with the laser may be damaged.

이로 인해, 기판을 뒤집어서 박막 패터닝 장치로 로딩하고, 기판의 배면에서 레이저를 조사하여 박막을 패터닝 하는 기술이 개발되어 사용되고 있다.For this reason, the technique of inverting a board | substrate, loading it into a thin film patterning apparatus, and irradiating a laser from the back surface of a board | substrate to pattern a thin film is developed and used.

도 1은 종래의 박막 패터닝 장치의 개략 사시도로서, 이를 설명한다.1 is a schematic perspective view of a conventional thin film patterning apparatus, which will be described.

도시된 바와 같이, 테이블(11)이 마련된다. 테이블(11)의 상면 일측 및 타측에는 테이블(11)에 로딩되거나, 테이블(11)로부터 언로딩되는 기판(50)의 일측 및 타측 모서리부측을 지지함과 동시에 기판(50)을 이송시키는 지지/이송부(13)가 설치된다. 이때, 기판(50)은 박막이 형성된 면이 테이블(11)의 상면과 대향하도록, 뒤집혀서 테이블(11)로 로딩되거나, 테이블(11)로부터 언로딩된다.As shown, a table 11 is provided. One side and the other side of the upper surface of the table 11 supports one side and the other edge side of the substrate 50 which is loaded on the table 11 or unloaded from the table 11 and supports / transfers the substrate 50 at the same time. The transfer part 13 is installed. At this time, the substrate 50 is inverted and loaded into the table 11 or unloaded from the table 11 so that the surface on which the thin film is formed faces the upper surface of the table 11.

그리고, 지지/이송부(13) 사이에는 지지/이송부(13)에 지지된 기판(50)을 부상(浮上)시켜 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것을 방지함과 동시에 기판(50)에 형성된 박막이 손상되는 것을 방지하는 플로팅부(15)가 설치된다.The thin film formed on the substrate 50 at the same time prevents the substrate 50 from sagging by its own weight by floating the substrate 50 supported by the support / transfer portion 13 between the support / transfer portions 13. The floating part 15 which prevents this damage is provided.

테이블(11)의 전단부측에는 기판(50)을 로딩 또는 언로딩할 때, 기판(50)의 테두리부측 및 중앙부측을 각각 받쳐서 지지하는 롤러(17a) 및 롤러(17b)가 설치된다. 롤러(17b)는 기판(50)이 처져서 변형되는 것을 방지한다.On the front end side of the table 11, when loading or unloading the substrate 50, rollers 17a and rollers 17b which support and support the edge portion side and the center portion side of the substrate 50, respectively, are provided. The roller 17b prevents the substrate 50 from sagging and deforming.

상기와 같은 종래의 박막 패터닝 장치는, 기판(50)의 중앙부측이 롤러(17b)에 접촉되므로, 기판(50)이 로딩 또는 언로딩될 때, 기판(50)의 중앙부측에 형성된 박막이 손상될 우려가 있다. 이로 인해, 박막 패터닝 공정의 신뢰성이 저하될 우려가 있었다.In the conventional thin film patterning apparatus as described above, since the central portion side of the substrate 50 is in contact with the roller 17b, the thin film formed on the central portion side of the substrate 50 is damaged when the substrate 50 is loaded or unloaded. There is a concern. For this reason, there exists a possibility that the reliability of a thin film patterning process may fall.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은, 기판의 로딩 또는 언로딩시, 기판에 형성된 박막이 손상되는 것을 방지하여 박막 패터닝 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 박막 패터닝 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention, to prevent damage to the thin film formed on the substrate during loading or unloading of the substrate to improve the reliability of the thin film patterning process It is to provide a thin film patterning device that can be.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 박막 패터닝 장치는, 박막이 형성된 기판이 로딩 또는 언로딩되는 테이블; 상기 테이블의 상면에 직선운동가능하게 설치되어 상기 기판을 지지함과 동시에 상기 기판을 이송시키는 지지/이송부; 상기 테이블에 직선운동가능하게 설치되며 상기 박막에 패턴을 형성하는 레이저부; 상기 테이블로 로딩 또는 상기 테이블로부터 언로딩되는 상기 기판의 테두리부측을 지지함과 동시에 공기를 분사하여 상기 기판이 변형되는 것을 방지하는 수단을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a thin film patterning apparatus comprising: a table on which a substrate on which a thin film is formed is loaded or unloaded; A support / transfer unit installed on the upper surface of the table so as to linearly move and support the substrate and simultaneously transport the substrate; A laser unit installed on the table to linearly move and forming a pattern on the thin film; And a means for supporting the edge portion of the substrate loaded into or unloaded from the table and spraying air to prevent deformation of the substrate.

상기 수단은, 공기를 분사하는 압축기; 상기 테이블의 일단부측에 설치되고, 상측으로는 상기 기판이 출입하며, 상기 압축기에서 분사되는 공기가 상기 기판측으로 분사되도록 안내하는 안내부재; 및 상기 안내부재의 양측면에 각각 형성되어 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 롤러를 포함할 수 있다.The means includes a compressor for injecting air; A guide member installed at one end of the table, the guide member guides the substrate to enter and exit the air, and guides the air injected from the compressor to the substrate; And rollers formed on both side surfaces of the guide member to support the edge portion of the substrate.

상기 안내부재의 일면은 경사면으로 형성되고, 상기 압축기에서 분사되는 공기는 상기 안내부재의 경사면을 타고 상기 기판측으로 분사될 수 있다.One surface of the guide member may be formed as an inclined surface, and air injected from the compressor may be injected onto the substrate by riding on the inclined surface of the guide member.

상기 경사면은 외측으로 볼록하게 라운딩질 수 있다.The inclined surface may be rounded outwardly.

상기 안내부재의 하면과 경사면에는 상기 기판측으로 공기가 분사되도록 안내하는 안내로가 형성될 수 있다.Guide surfaces for guiding air to be injected to the substrate may be formed on the lower surface and the inclined surface of the guide member.

상기 안내로는 상기 안내부재의 내측으로 함몰 형성될 수 있다.The guide path may be recessed into the guide member.

상기 안내로는 상기 압축기에서 분사되는 공기의 분사방향과 평행하게 복수개 형성될 수 있다.The guide path may be formed in plural in parallel with the injection direction of the air injected from the compressor.

상기 안내로의 단면(斷面) 형상은 반원형으로 형성될 수 있다.The cross-sectional shape of the guide path may be formed in a semicircular shape.

상기 안내로의 단면 형상은 "∧" 형상으로 형성될 수 있다.The cross-sectional shape of the guide path may be formed in a "∧" shape.

상기 압축기는 상기 테이블의 내측에 설치될 수 있다.The compressor may be installed inside the table.

상기 압축기는 상기 테이블의 외측에 설치될 수 있다.The compressor may be installed outside the table.

본 발명에 따른 박막 패터닝 장치는, 박막이 하측을 향하게 기판을 뒤집어서 테이블에 로딩하거나, 테이블로부터 언로딩할 때, 압축기에서 분사되는 공기가 기판의 중앙부측을 지지하고, 롤러가 기판의 테두리부측을 지지한다. 그러므로, 기판에 형성된 박막이 손상되는 것이 방지될 뿐만 아니라, 기판이 처짐 등에 의하여 변형되는 것이 방지된다. 따라서, 박막 패터닝 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.In the thin film patterning apparatus according to the present invention, when the thin film is turned downside down and loaded on the table or unloaded from the table, the air injected from the compressor supports the center side of the substrate, and the rollers I support it. Therefore, not only the thin film formed on the substrate is damaged but also the substrate is prevented from being deformed by sagging or the like. Therefore, there is an effect that the reliability of the thin film patterning process is improved.

도 1은 종래의 박막 패터닝 장치의 개략 사시도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 패터닝 장치의 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 안내부재와 압축기의 사시도.
도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예들에 따른 안내부재의 사시도.
1 is a schematic perspective view of a conventional thin film patterning device.
2 is a perspective view of a thin film patterning apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of the guide member and the compressor shown in FIG.
4 and 5 are a perspective view of a guide member according to other embodiments of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예의 예시로 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각 개시된 실시예의 각 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are mutually exclusive, but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, specific structures, and features described herein may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. In addition, it is to be understood that the location or arrangement of each component of each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention.

따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이, 면적, 두께 및 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. Like reference numerals in the drawings refer to the same or similar functions throughout the several aspects, length, area, thickness and shape may be exaggerated for convenience.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 박막 패터닝 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, a thin film patterning apparatus according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 박막 패터닝 장치는 레이저가 투과되는 투명한 유리기판 등과 같은 기판의 상면에 반도체층, 절연층 또는 전도층 등과 같은 박막이 형성된 전자소자 및 발전소자의 박막 패터닝에 모두 사용할 수 있다.The thin film patterning apparatus according to the present invention can be used both for thin film patterning of an electronic device and a power generator in which a thin film such as a semiconductor layer, an insulating layer, or a conductive layer is formed on an upper surface of a substrate such as a transparent glass substrate through which a laser is transmitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 패터닝 장치의 사시도이다.2 is a perspective view of a thin film patterning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 패터닝 장치는 테이블(110)을 가진다. 테이블(110)은 외부의 진동이나 충격을 방지할 수 있는 금속재의 프레임으로 마련되는 것이 바람직하며, 신뢰성 있는 패터닝 공정을 위하여 수평으로 설치되는 것이 바람직하다.As shown, the thin film patterning apparatus according to the embodiment of the present invention has a table 110. Table 110 is preferably provided with a metal frame that can prevent external vibration or impact, it is preferable to be installed horizontally for a reliable patterning process.

테이블(110)의 상면 좌측 부위 및 우측 부위에는 동일하게 운동하는 지지/이송부(120)가 대향되게 설치된다. 지지/이송부(120)는 테이블(110)에 로딩되거나, 테이블(110)로부터 언로딩되는 기판(50)의 좌측 모서리부측 및 우측 모서리부측을 지지함과 동시에 기판(50)을 X축 방향으로 이송시킨다.On the upper left side and the right side of the table 110, the support / transfer unit 120 that moves in the same manner is installed to face each other. The support / transfer unit 120 supports the left edge side and the right edge side of the substrate 50 loaded on the table 110 or unloaded from the table 110, and simultaneously transfers the substrate 50 in the X-axis direction. Let's do it.

기판(50)은 박막이 형성된 면이 테이블(11)과 대향하도록, 뒤집혀서 테이블(110)로 로딩되거나, 테이블(110)로부터 언로딩된다.The substrate 50 is inverted and loaded into the table 110 or unloaded from the table 110 so that the surface on which the thin film is formed faces the table 11.

지지/이송부(120) 사이에는 지지/이송부(120)에 지지된 기판(50)을 부상(浮上)시켜 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것을 방지함과 동시에 기판(50)에 형성된 박막이 손상되는 것을 방지하는 플로팅부(130)가 설치된다. 플로팅부(130)에는 소정 압력의 공기를 기판(50)으로 분사하기 위한 분사공(미도시)이 형성된다.Between the support / transporter 120, the substrate 50 supported by the support / transporter 120 is lifted to prevent the substrate 50 from sagging by its own weight and damage the thin film formed on the substrate 50. Floating unit 130 is installed to prevent the. The floating part 130 is provided with injection holes (not shown) for injecting air of a predetermined pressure to the substrate 50.

플로팅부(130)에는 소정 공간(132)이 형성되는데, 이 공간(132)으로는 기판(50)에 형성된 박막을 후술할 레이저부(140)로 패터닝할 때 발생하는 이물질이 수용된다.A predetermined space 132 is formed in the floating unit 130, and foreign matters generated when the thin film formed on the substrate 50 is patterned by the laser unit 140 to be described later are accommodated.

그리고, 기판(50)의 로딩 또는 언로딩시, 기판(50)을 용이하게 로딩 또는 언로딩시키기 위하여, 플로팅부(130)는 승강가능하게 설치될 수 있다.In addition, when loading or unloading the substrate 50, in order to easily load or unload the substrate 50, the floating unit 130 may be installed to be liftable.

테이블(110)에는 기판(50)의 박막에 패터닝을 형성하기 위한 레이저부(140)가 설치된다. 레이저부(140)는 지지/이송부(120)와 독립적으로 Y축 방향으로 이동하며, 지지/이송부(120)와 독립적으로 Z축 방향으로 이동할 수 도 있다.The table 110 is provided with a laser unit 140 for forming pattern on the thin film of the substrate 50. The laser unit 140 may move in the Y-axis direction independently of the support / transfer unit 120 and may move in the Z-axis direction independently of the support / transfer unit 120.

본 발명의 일 실시예에 따른 박막 패터닝 장치의 작용을 설명한다.The operation of the thin film patterning device according to an embodiment of the present invention will be described.

지그(미도시)로 기판(50)을 지지하여 테이블(110)로 로딩한다. 그러면, 기판(50)은 지지/이송부(120)에 지지됨과 동시에 플로팅부(130)에 의하여 부상(浮上)된다. 그 후, 기판(50)은 지지/이송부(120)에 의하여 X축 방향으로 이동되고, 기판(50)에 형성된 박막은 Y축 방향으로 이송되는 레이저부(140)에 의하여 패터닝 된다.The substrate 50 is supported by a jig (not shown) and loaded into the table 110. Then, the substrate 50 is supported by the support / transfer unit 120 and floated by the floating unit 130. Thereafter, the substrate 50 is moved in the X-axis direction by the support / transfer unit 120, and the thin film formed on the substrate 50 is patterned by the laser unit 140 transferred in the Y-axis direction.

기판(50)의 박막에 패터닝이 완료되면, 지지/이송부(120)는 최초의 상태로 복귀되고, 상기 지그에 의하여 테이블(110)로부터 언로딩된다.When the patterning of the thin film of the substrate 50 is completed, the support / transfer part 120 is returned to the original state and unloaded from the table 110 by the jig.

전술한 바와 같이, 기판(50)은 박막이 하측을 향하도록 뒤집힌 상태로, 테이블(110)에 로딩되면서 지지/이송부(120)에 투입되거나, 테이블(110)로부터 언로딩되면서 지지/이송부(120)로부터 배출된다.As described above, the substrate 50 is inverted so that the thin film faces downward, and is loaded into the support / transporter 120 while being loaded onto the table 110, or supported / transporter 120 while being unloaded from the table 110. Is discharged from

본 발명의 일 실시예에 따른 박막 패터닝 장치는 기판(50)이 지지/이송부(120)에 투입되거나, 지지/이송부(120)로부터 배출될 때, 기판(50)에 형성된 박막이 손상되는 것을 방지함과 동시에 공기를 분사하여 기판(50)이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지하는 수단이 마련된다.The thin film patterning apparatus according to an embodiment of the present invention prevents the thin film formed on the substrate 50 from being damaged when the substrate 50 is inserted into the support / transporter 120 or discharged from the support / transporter 120. At the same time, a means for spraying air is provided to prevent the substrate 50 from being deformed by its own weight.

상기 수단을 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 도 2에 도시된 안내부재와 압축기의 사시도이다.The above means will be described with reference to FIGS. 2 and 3. 3 is a perspective view of the guide member and the compressor shown in FIG.

도시된 바와 같이, 상기 수단은 압축기(151), 안내부재(153) 및 롤러(157)(도 2 참조)를 포함한다.As shown, the means comprises a compressor 151, a guide member 153 and a roller 157 (see FIG. 2).

압축기(151)는 테이블(110)의 내측에 설치되어 테이블(110)의 외측으로 소정 압력의 공기를 분사한다. 안내부재(153)는 육면체 형상의 함체로 형성되어 테이블(110)의 전단부측에 설치되며, 안내부재(153)의 상측으로 기판(50)이 출입한다. 안내부재(153)는 압축기(151)에서 분사되는 공기가 기판(50)측으로 분사되도록 안내하고, 기판(50)은 공기의 압력에 의하여 처지는 것이 방지된다.The compressor 151 is installed inside the table 110 to inject air of a predetermined pressure to the outside of the table 110. The guide member 153 is formed of a hexahedral-shaped enclosure and is installed at the front end side of the table 110, and the substrate 50 enters and exits from the guide member 153. The guide member 153 guides the air injected from the compressor 151 to be injected toward the substrate 50, and the substrate 50 is prevented from sagging by the pressure of the air.

압축기(151)에서 안내부재(153)로 공기가 분사되면, 공기는 코안다 효과(Coanda Effect)에 의하여, 안내부재(153)의 표면에 흡착되어 흐른다. 코안다 효과란, 유체의 유동이 점성에 의하여 물체의 곡면을 따라서 흐르는 현상을 말한다. 그러므로, 공기는 안내부재(153)의 표면을 따라 안내부재(153)의 상측에 위치된 기판(50)으로 분사된다. 따라서, 공기의 압력에 의하여 기판(50)이 처지는 등의 변형이 방지된다.When air is injected from the compressor 151 to the guide member 153, the air is adsorbed on the surface of the guide member 153 by the Coanda Effect. The Coanda effect refers to a phenomenon in which a fluid flows along a curved surface of an object due to viscosity. Therefore, air is injected along the surface of the guide member 153 to the substrate 50 located above the guide member 153. Therefore, deformation such as sagging of the substrate 50 due to the pressure of air is prevented.

롤러(157)는 안내부재(153)의 양측면에 각각 복수개 설치되어 기판(50)의 의 테두리부측을 지지한다.A plurality of rollers 157 are provided on both side surfaces of the guide member 153 to support the edge portion of the substrate 50.

안내부재(153)를 따라 흐르는 공기가 기판(50)측으로 더욱 많이 분사되도록 하기 위하여, 안내부재(153)의 전면(前面)은 경사면(153a)으로 형성된다. 즉, 경사면(153a)은 하측에서 상측으로 갈수록 테이블(110)의 하측으로 더 돌출되는 형태로 경사지게 형성된다. 이때, 공기가 더욱 원활하게 기판(50)측으로 분사되도록 하기 위하여 경사면(153a)은 외측으로 볼록하게 라운딩지게 형성된다.In order for the air flowing along the guide member 153 to be injected more toward the substrate 50 side, the front surface of the guide member 153 is formed as the inclined surface 153a. That is, the inclined surface 153a is formed to be inclined to protrude further to the lower side of the table 110 from the lower side to the upper side. At this time, the inclined surface 153a is formed to be convexly rounded outward so that air is more smoothly injected to the substrate 50 side.

압축기(151)가 테이블(110)의 외측에 설치되어 공기를 테이블(110)의 내측으로 분사하고, 안내부재(153)의 경사면(153a)이 테이블(110)의 내측을 향하도록 설치할 수 있음은 당연하다.The compressor 151 may be installed outside the table 110 to inject air into the table 110, and the inclined surface 153a of the guide member 153 may be installed to face the inside of the table 110. Of course.

도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예들에 따른 안내부재의 사시도로서, 도 3과의 차이점만을 설명한다.4 and 5 are perspective views of guide members according to other embodiments of the present invention, and only the differences from FIG. 3 will be described.

도시된 바와 같이, 압축기(151)(도 3 참조)에서 분사되는 공기가 안내부재(154, 155)의 외측으로 누설되지 않고, 기판(50)측으로 더욱 많이 분사되도록 하기 위하여, 안내부재(154, 155)의 하면과 경사면(154a, 155a)에는 안내로(154b, 155b)가 공기의 분사방향과 평행하게 형성된다. 안내로(154b, 155b)는 복수 개 형성된다.As shown in the drawing, in order to allow the air injected from the compressor 151 (see FIG. 3) not to leak to the outside of the guide members 154 and 155 and to be injected more toward the substrate 50, the guide members 154, Guide paths 154b and 155b are formed on the lower surface of the 155 and the inclined surfaces 154a and 155a in parallel with the air jet direction. A plurality of guide paths 154b and 155b are formed.

압축기(151)에서 분사되는 공기는 안내로(154b, 155b)에 유입되어, 안내로(154b, 155b)를 따라 분사되므로, 더욱 많은 공기가 기판(50)측으로 분사된다.Since the air injected from the compressor 151 flows into the guide paths 154b and 155b and is injected along the guide paths 154b and 155b, more air is injected to the substrate 50 side.

안내로(154b, 155b)는 안내부재(154, 155)의 내측으로 각각 함몰 형성되며, 도 4에 도시된 안내부재(154)의 안내로(154b)는 단면(斷面) 형상이 반원형인 것을 보이고, 도 5에 도시된 안내부재(155)의 안내로(155b)는 단면(斷面) 형상이 "∧" 형상인 것을 보인다.The guide paths 154b and 155b are recessed to the inside of the guide members 154 and 155, respectively, and the guide path 154b of the guide member 154 shown in FIG. 4 has a semicircular cross-sectional shape. It is shown that the guide path 155b of the guide member 155 shown in FIG. 5 has a cross-sectional shape of "∧" shape.

본 발명의 실시예들에 따른 박막 패터닝 장치는 박막이 하측을 향하게 기판(50)이 뒤집혀서 테이블(110)에 로딩되고, 테이블(110)로부터 언로딩될 때, 롤러(157)가 기판(50)의 테두리부측을 지지하고, 압축기(151)에서 분사되는 공기가 기판(50)의 중앙부측을 지지하므로, 기판(50)에 형성된 박막이 손상되는 것이 방지될 뿐만 아니라, 기판(50)이 처짐 등에 의하여 변형되는 것이 방지된다. 따라서, 신뢰성이 향상된다.In the thin film patterning apparatus according to the embodiments of the present invention, when the substrate 50 is inverted and loaded on the table 110 so that the thin film faces downward, the roller 157 is unloaded from the table 110. The edge portion of the substrate and the air injected from the compressor 151 supports the center portion of the substrate 50, so that not only the thin film formed on the substrate 50 is damaged but also the substrate 50 is sag or the like. Deformation is prevented. Therefore, reliability is improved.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 예로 들어 도시하여 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다. Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments as described above by way of example, it is not limited to the above embodiments and should be made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Many variations and modifications are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

110: 테이블 120: 지지/이송부
130: 플로팅부 140: 레이저부
151: 압축기 153: 안내부재
157: 롤러
110: table 120: support / transfer unit
130: floating unit 140: laser unit
151: compressor 153: guide member
157: roller

Claims (11)

박막이 형성된 기판이 로딩 또는 언로딩되는 테이블; 상기 테이블의 상면에 직선운동가능하게 설치되어 상기 기판을 지지함과 동시에 상기 기판을 이송시키는 지지/이송부; 상기 테이블에 직선운동가능하게 설치되며 상기 박막에 패턴을 형성하는 레이저부; 상기 테이블의 일측에 설치되어 공기를 분사하는 압축기, 상기 테이블의 일단부측에 설치되고 상측으로는 상기 기판이 출입하며 상기 압축기에서 분사되는 공기가 상기 기판측으로 분사되도록 안내하는 안내부재, 상기 안내부재의 양측면에 각각 형성되어 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 롤러를 가지며 상기 테이블로 로딩 또는 상기 테이블로부터 언로딩되는 상기 기판의 테두리부측을 지지함과 동시에 상기 기판이 변형되는 것을 방지하는 수단을 포함하는 박막 패터닝 장치로서,
상기 안내부재의 일면은 외측으로 볼록하게 라운딩진 경사면으로 형성되고,
상기 압축기에서 분사되는 공기는 상기 안내부재의 경사면을 타고 상기 기판측으로 분사되며,
상기 안내부재의 하면과 상기 경사면에는 상기 안내부재의 내측으로 함몰 형성되어 상기 압축기에서 분사되는 공기가 상기 기판측으로 분사되도록 안내하는 안내로가 형성된 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.
A table on which a substrate on which a thin film is formed is loaded or unloaded; A support / transfer unit installed on the upper surface of the table so as to linearly move and support the substrate and simultaneously transport the substrate; A laser unit installed on the table to linearly move and forming a pattern on the thin film; A compressor installed at one side of the table to inject air, a guide member installed at one end of the table and guided to allow the air to be injected from the compressor to the substrate side, and to guide the air injected from the compressor to the substrate side; A thin film formed on both sides and having rollers for supporting the edge portion of the substrate, the thin film including means for supporting the edge portion of the substrate loaded into or unloaded from the table and preventing deformation of the substrate; As a patterning device,
One surface of the guide member is formed as an inclined surface rounded convex outward,
Air injected from the compressor is injected to the substrate side on the inclined surface of the guide member,
Thin film patterning device, characterized in that formed on the lower surface and the inclined surface of the guide member to guide the guide so that the air injected from the compressor is injected into the substrate side.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 안내로는 상기 압축기에서 분사되는 공기의 분사방향과 평행하게 복수개 형성된 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.
The method of claim 1,
The guide path is a thin film patterning device, characterized in that formed in plurality in parallel with the injection direction of the air injected from the compressor.
제7항에 있어서,
상기 안내로의 단면(斷面) 형상은 반원형인 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.
The method of claim 7, wherein
A thin film patterning device, wherein the cross-sectional shape of the guide path is semicircular.
제7항에 있어서,
상기 안내로의 단면 형상은 "∧" 형상인 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.
The method of claim 7, wherein
The cross-sectional shape of the guide path is a thin film patterning device, characterized in that the "∧" shape.
제1항에 있어서,
상기 압축기는 상기 테이블의 내측에 설치된 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.
The method of claim 1,
And the compressor is installed inside the table.
제1항에 있어서,
상기 압축기는 상기 테이블의 외측에 설치된 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.
The method of claim 1,
The compressor is a thin film patterning device, characterized in that installed on the outside of the table.
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