KR101173135B1 - High Frequency Therapy Sytem with Safety Function and Operating Method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고주파 치료 시스템의 동작을 제어하는 제어부; 상기 제어부의 제어를 받아 고주파 전압을 발생하는 고주파 발생부; 상기 고주파 발생부의 일전극에 연결되는 프로브; 상기 고주파 발생부의 타전극에 연결되는 도전부; 상기 도전부와 접지 간에 설치되는 저항; 및 상기 프로브와 도전부를 통하여 제 1 고주파 전압 인가시, 상기 도전부와 상기 저항 간 제 1 노드의 전압을 검출하여 상기 제어부에 제공하는 검출부를 포함하여 구성되는, 안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 에 관한 것이다.The present invention provides a control unit for controlling the operation of the radiofrequency treatment system; A high frequency generator generating a high frequency voltage under the control of the controller; A probe connected to one electrode of the high frequency generator; A conductive part connected to the other electrode of the high frequency generating part; A resistor provided between the conductive portion and the ground; And a detecting unit detecting a voltage of the first node between the conductive unit and the resistor and providing the control unit to the control unit when a first high frequency voltage is applied through the probe and the conductive unit. It is about.

Description

안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 및 그 동작방법{High Frequency Therapy Sytem with Safety Function and Operating Method thereof}High Frequency Therapy Sytem with Safety Function and Operating Method

본 발명은 안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 및 그 동작방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 고주파 치료시 고주파 전압의 방사 오류에 의한 환자의 불필요한 고통을 억제하고 진료자의 부담을 경감시킬 수 있는 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 및 그 동작방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a radiofrequency treatment system having a safety function and a method of operating the same. More particularly, the present invention relates to a function of suppressing unnecessary pain of a patient due to a radiation error of a radiofrequency voltage and reducing burden on a medical practitioner. It relates to a radiofrequency treatment system provided and a method of operation thereof.

인체의 피부조직은 표피와 그 하부의 피하조직으로 구성되며, 각질층을 가지는 상기 표피층은 환경에 대한 생물학적 장벽으로 작용하고, 기저층에는 피부색을 결정하는 멜라닌 세포가 존재한다. 또한 하부의 피하조직은 세포외 단백질인 콜라겐이 지지체 역할을 함으로써 피부의 구조를 유지한다. 콜라겐은 섬유 아세포에 의해 합성되며, 세 개의 폴리펩티드가 나선구조를 이루고 있는 단백질이다.Human skin tissue is composed of the epidermis and the subcutaneous tissue below it, the epidermal layer having a stratum corneum acts as a biological barrier to the environment, the melanin cells that determine the skin color is present in the base layer. In addition, the lower subcutaneous tissue maintains the structure of the skin by the extracellular protein collagen serves as a support. Collagen is synthesized by fibroblasts and is a protein in which three polypeptides form a helix.

상처를 입으면 신체는 복잡한 구제기능을 작동시키게 되는데, 이 중 섬유 아세포(fibroblast)는 피부 아래에 존재하다가 활성화되어 일시적으로 상처부위의 메트릭스(ECM, extra cellular matrix)로 들어가 가능한 빨리 상처를 덮기 위해 콜라겐을 분비한다. 섬유아세포가 메트릭스 주변에서 천천히 이동하면서 섬유를 끌어당겨 재조합하는 과정에서 메트릭스를 점점 단단하게 만들며, 초기에는 부드러운 상태인 메트릭스에 포함된 성장요소 때문에, 섬유아세포가 성장요소에 의해 수축성 단백질을 발현하면서, 어느 시점에 이르면 섬유 아세포는 이동을 멈추고 팝아이(popeye)처럼 강한 수축성 세포로 변하여 메트릭스 내에 정착하여 상처 가장자리를 끌어당기게 되어, 흉터가 생기거나 피부의 표면이 고르지 못하게 된다.When injured, the body activates a complex remedy, of which fibroblasts are present under the skin and are activated to temporarily enter the extra cellular matrix (ECM) to cover the wound as soon as possible. Secrete. As fibroblasts slowly move around the matrix, attracting fibers to recombine the matrix, making the matrix more rigid, and because of the growth factors contained in the matrix that were initially soft, the fibroblasts expressed contractile proteins by the growth factors, At some point, the fibroblasts stop moving and turn into strong contractile cells, such as popeye, that settle in the matrix and attract the wound edges, resulting in scarring or uneven surface of the skin.

이 때, 콜라겐 섬유 조직이 소정의 에너지원에 의해 가열되며, 특정 온도에서 상기 단백질 메트릭스의 물리적 특성의 변성이 일어나게 되며, 메트릭스의 분자결합이 파괴되게 되어 피부의 상태가 고르게되며, 또한 콜라겐층을 활성화시켜 피부의 탄력이 복귀될 수 있다.At this time, the collagen fibrous tissue is heated by a predetermined energy source, degeneration of physical properties of the protein matrix occurs at a specific temperature, molecular binding of the matrix is broken, and the condition of the skin is evened, and also the collagen layer is removed. Activation can restore the elasticity of the skin.

상기의 원리를 이용하여, 종래에는 피부의 주름제거 및 리프팅을 위해 피부표면을 냉각시키고, 여기에 레이져, 광선 또는 고주파 등의 에너지를 하부 피하조직에 이르도록 조사하여, 피하조직의 온도를 상승시킴으로써 조직의 리모델링을 하는 방법이 제시되고 있다.By using the above principle, conventionally by cooling the skin surface for wrinkle removal and lifting of the skin, by irradiating energy such as laser, light or high frequency to the lower subcutaneous tissue, by raising the temperature of the subcutaneous tissue A method for remodeling an organization is presented.

특히, 고주파 전류는 인체 조직을 통전할 때 진동 폭이 매우 짧기 때문에 이온 운동을 거의 야기하지 않으며, 전기화학적 반응 또는 전기분해현상을 일으키지 않는다. 고주파의 전기 에너지가 조직에 가해지면 전류의 방향이 바뀔 때마다 조직을 구성하는 분자들이 진동하면서 서로 마찰하게 되어 생체열을 발생시키게 된다. 또한 이러한 고주파는 다른 전류 형태와 달리 감각신경 및 운동신경을 자극하지 않고, 인체 내 불편함이나 근수축을 일으키지 않으며, 열에너지를 발생할 수 있는 장점이 있고, 이러한 열 에너지는 또한 세포의 기능을 증진시키고 혈류량을 증가시키는 추가 효과를 유도할 수 있다.In particular, the high frequency current causes very little ionic motion because the vibration width is very short when energizing human tissue, and does not cause electrochemical reaction or electrolysis. When high-frequency electrical energy is applied to the tissues, the molecules constituting the tissues vibrate and rub against each other whenever the direction of current changes, thereby generating bioheat. In addition, the high frequency, unlike other current forms, does not stimulate the sensory and motor nerves, does not cause discomfort or muscle contraction in the human body, there is an advantage that can generate heat energy, this heat energy also enhances the function of the cell It may induce additional effects of increasing blood flow.

피부과 치료에 있어서, 고주파는 여드름 치료, 주름 리프팅(lifting), 여드름에 의한 흉터 치료, 피부 보충제(filler)의 주입 등 다양한 분야에서 널리 사용되고 있다.In dermatology treatment, high frequency is widely used in various fields such as acne treatment, wrinkle lifting, scar treatment by acne, injection of skin fillers and the like.

그런데, 종래의 피부 치료용 고주파 치료시스템에서는 의사가 환자에게 고주파 치료를 시행함에 있어 프로브가 환자의 환부에 올바르게 삽입되었는지의 여부는 의사의 경험과 주관적인 판단에만 달려 있었다. 이에 따라 경우에 따라서는 프로브가 환자의 환부에 정상적으로 삽입이 되지도 않은 경우임에도 프로브를 통하여 고주파 전압이 인가됨으로 인해, 환자에게 고주파 방사 오류에 따른 고통을 야기시키고 나아가서는 진료자에게도 불필요한 추가 부담을 안기는 문제점이 있었다.
However, in the conventional high frequency treatment system for skin treatment, whether the probe is correctly inserted into the affected part of the patient when the doctor performs the high frequency treatment on the patient depends only on the experience and subjective judgment of the doctor. Accordingly, in some cases, even when the probe is not properly inserted into the affected part of the patient, the high frequency voltage is applied through the probe, causing the patient to suffer from the high frequency radiation error, and thus unnecessarily additional burden on the practitioner. There was a problem holding.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 고주파 치료시 고주파 전압의 방사 오류에 의한 환자의 불필요한 고통을 억제하고 진료자의 부담을 경감시킬 수 있는 안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 및 그 동작방법을 제공하는 데 있다.
Accordingly, the present invention is to provide a radiofrequency treatment system and a method of operating the same having a safety function to suppress unnecessary pain of the patient due to the radiation error of the radiofrequency voltage during the radiofrequency treatment and to reduce the burden on the caregiver. There is.

본 발명의 일 양태에 따르면, 고주파 치료 시스템의 동작을 제어하는 제어부; 상기 제어부의 제어를 받아 고주파 전압을 발생하는 고주파 발생부; 상기 고주파 발생부의 일전극에 연결되는 프로브; 상기 고주파 발생부의 타전극에 연결되는 도전부; 상기 도전부와 접지 간에 설치되는 저항; 및 상기 프로브와 도전부를 통하여 제 1 고주파 전압 인가시, 상기 도전부와 상기 저항 간 제 1 노드의 전압을 검출하여 상기 제어부에 제공하는 검출부를 포함하여 구성되는, 고주파 치료 시스템이 제공된다.According to an aspect of the invention, the control unit for controlling the operation of the radiofrequency treatment system; A high frequency generator generating a high frequency voltage under the control of the controller; A probe connected to one electrode of the high frequency generator; A conductive part connected to the other electrode of the high frequency generating part; A resistor provided between the conductive portion and the ground; And a detection unit configured to detect a voltage of the first node between the conductive unit and the resistor and provide the control unit to the controller when a first high frequency voltage is applied through the probe and the conductive unit.

본 발명에서, 상기 제어부는 상기 검출부가 검출한 상기 제 1 노드의 전압이 미리 설정된 기준전압 이상인 경우에만, 상기 고주파 발생부가 고주파 전압을 발생하기 위한 고주파 샷모드(shot mode)에 진입하도록 제어하는 것이 바람직하다. 상기 고주파 치료 시스템은 상기 제 1 노드와 상기 제어부 간 경로 상에 설치되는 스위칭부를 더 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명에서, 상기 제어부는 상기 검출부가 검출한 상기 제 1 노드의 전압이 상기 기준전압 이상이 되면 상기 스위칭부를 개방하는 것이 바람직하다. 본 발명에서, 상기 제어부는 상기 고주파 샷모드가 완료되면 상기 스위칭부를 턴온하는 것이 바람직하다. 본 발명에서, 상기 고주파 샷모드는 메인 샷과 적어도 하나의 보조 샷을 포함하고, 상기 메인샷은 상기 고주파 샷모드 동안 첫번째로 고주파 전압을 인가하는 샷이고, 상기 메인샷의 제 2 고주파 전압의 출력은 상기 보조 샷의 제 3 고주파 전압의 출력보다 10 ~ 40V 더 높은 것이 바람직하다. 본 발명에서, 상기 프로브는 상기 고주파 샷모드를 설정하기 위한 설정 버튼을 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명에서, 상기 제 1 고주파 전압으로는 5~10V, 0.8~1.2MHz의 고주파 전압이 사용되는 것이 바람직하다.
In the present invention, the controller controls the high frequency generator to enter a high frequency shot mode for generating a high frequency voltage only when the voltage of the first node detected by the detector is equal to or greater than a preset reference voltage. desirable. The radio frequency treatment system may further include a switching unit installed on a path between the first node and the control unit. In the present invention, it is preferable that the control unit opens the switching unit when the voltage of the first node detected by the detection unit becomes equal to or greater than the reference voltage. In the present invention, the control unit preferably turns on the switching unit when the high frequency shot mode is completed. In the present invention, the high frequency shot mode includes a main shot and at least one auxiliary shot, and the main shot is a shot for applying a high frequency voltage first during the high frequency shot mode, and outputting a second high frequency voltage of the main shot. Is preferably 10 to 40V higher than the output of the third high frequency voltage of the auxiliary shot. In the present invention, the probe preferably includes a setting button for setting the high frequency shot mode. In the present invention, it is preferable that a high frequency voltage of 5 to 10V and 0.8 to 1.2 MHz is used as the first high frequency voltage.

본 발명의 다른 양태에 따르면, 안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템의 동작 방법에 있어서, 상기 고주파 치료시스템은 제어부, 상기 제어부의 제어를 받아 프로브와 도전부를 통하여 고주파 전압을 공급하는 고주파 발생부, 상기 도전부와 접지 간에 설치되는 저항, 및 상기 도전부와 상기 저항 간 제 1 노드의 전압을 검출하는 검출부를 포함하고, 상기 동작 방법은 상기 고주파 발생부가 상기 프로브와 도전부를 통하여 제 1 고주파 전압을 인가하는 단계; 상기 검출부가 상기 제 1 노드의 전압을 검출하는 단계; 상기 제 1 노드의 전압이 미리 설정된 기준전압 이상인 경우, 고주파 전압을 발생하기 위한 고주파 샷모드(shot mode)에 진입하는 단계를 포함하는, 고주파 치료 시스템의 동작방법이 제공된다. 본 발명에서, 상기 고주파 치료시스템은 상기 제 1 노드와 상기 제어부 간 경로 상에 설치되는 스위칭부를 더 포함하고, 상기 제 1 노드의 전압이 상기 기준전압 이상인 경우, 상기 고주파 샷모드 진입 전 상기 제어부가 상기 스위칭부를 개방하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명에서, 상기 제 1 고주파 전압으로는 5~10V, 0.8~1.2MHz의 고주파 전압이 사용되는 것이 바람직하다.
According to another aspect of the present invention, in the operating method of the radio frequency treatment system having a safety function, the radio frequency treatment system is a high frequency generator for supplying a high frequency voltage through the probe and the conductive unit under the control of the control unit, the A resistor provided between the conductive portion and the ground, and a detecting portion for detecting the voltage of the first node between the conductive portion and the resistance, The operation method includes the high frequency generator is applied a first high frequency voltage through the probe and the conductive portion Making; Detecting, by the detector, a voltage of the first node; When the voltage of the first node is greater than or equal to a predetermined reference voltage, a method of operating a radio frequency treatment system is provided, comprising entering a high frequency shot mode for generating a high frequency voltage. In the present invention, the radio frequency treatment system further includes a switching unit installed on a path between the first node and the controller, and when the voltage of the first node is equal to or greater than the reference voltage, the controller before entering the high frequency shot mode. It is preferable to further include the step of opening the switching unit. In the present invention, it is preferable that a high frequency voltage of 5 to 10V and 0.8 to 1.2 MHz is used as the first high frequency voltage.

본 발명에 따른 안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 및 그 동작방법은 고주파 치료 시스템에서 프로브가 환자의 환부에 올바르게 삽입된 경우에만 고주파 전압이 인가되도록 함으로써, 고주파 치료시 고주파 전압의 방사 오류에 의한 환자의 불필요한 고통을 억제하고 진료자의 부담을 경감시킬 수 있는 효과가 있다.
Radiofrequency treatment system with a safety function and a method of operation thereof according to the present invention by applying a radiofrequency voltage only when the probe is correctly inserted into the affected part of the patient in the radiofrequency treatment system, the patient due to the radiation error of the radiofrequency voltage during radiofrequency treatment There is an effect that can suppress unnecessary pain and reduce the burden on the caregiver.

도 1은 본 발명에 의한 일 실시예에 따른 고주파 치료시스템의 구성을 도시한 것이다.
도 2는 본 실시예에 따른 고주파 치료 시스템을 환자에 적용하였을 때의 등가 회로를 나타낸 것이다.
도 3은 본 실시예에 따른 고주파 치료 시스템의 동작방법을 나타낸 흐름도이다.
Figure 1 shows the configuration of a radiofrequency treatment system according to an embodiment of the present invention.
2 shows an equivalent circuit when the radiofrequency treatment system according to the present embodiment is applied to a patient.
3 is a flowchart illustrating a method of operating the radiofrequency treatment system according to the present embodiment.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 이들 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 권리 보호 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. These embodiments are only for illustrating the present invention, and the scope of rights of the present invention is not limited by these embodiments.

도 1은 본 발명에 의한 일 실시예에 따른 고주파 치료시스템의 구성을 도시한 것이고, 도 2는 본 실시예에 따른 고주파 치료 시스템을 환자에 적용하였을 때의 등가 회로를 나타낸 것이며, 도 3은 본 실시예에 따른 고주파 치료 시스템의 동작방법을 나타낸 흐름도이다. 이를 참조하여 본 실시예를 설명하면 다음과 같다. Figure 1 shows the configuration of a radio frequency treatment system according to an embodiment of the present invention, Figure 2 shows an equivalent circuit when the radio frequency treatment system according to the present embodiment is applied to a patient, Figure 3 A flowchart illustrating a method of operating a radiofrequency therapy system according to an embodiment. Referring to this embodiment will be described as follows.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 고주파 치료 시스템은 고주파 치료 시스템의 동작을 제어하는 제어부(110); 제어부(110)의 제어를 받아 고주파 전압을 발생하는 고주파 발생부(120); 고주파 발생부(120)의 일전극에 연결되는 프로브(130); 고주파 발생부(120)의 타전극에 연결되는 도전판(140); 상기 도전판(140)과 접지 간에 설치되는 저항(R10); 프로브(130)와 도전판(140)를 통하여 상기 고주파 전압 인가시, 상기 도전판(140)과 저항(R10) 간 노드(A10)의 전압을 검출하여 제어부(110)에 제공하는 검출부(150); 및 노드(A10)와 제어부(110) 간 경로 상에 설치되는 스위칭부(160)를 포함하여 구성될 수 있다.
As shown in FIG. 1, the radio frequency treatment system according to the present embodiment includes a control unit 110 for controlling an operation of the radiofrequency treatment system; A high frequency generator 120 generating a high frequency voltage under the control of the controller 110; A probe 130 connected to one electrode of the high frequency generator 120; A conductive plate 140 connected to the other electrode of the high frequency generator 120; A resistor (R10) installed between the conductive plate 140 and the ground; When the high frequency voltage is applied through the probe 130 and the conductive plate 140, the detection unit 150 detects a voltage of the node A10 between the conductive plate 140 and the resistor R10 and provides it to the controller 110. ; And a switching unit 160 installed on a path between the node A10 and the control unit 110.

이와 같이 구성된 본 실시예의 작용 및 동작을 도 1 내지 도 3을 참조하여 구체적으로 설명한다.The operation and operation of this embodiment configured as described above will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3.

일반적으로 인체는 전류가 흐를 수 있고 일정한 임피던스 성분을 가지고 있는 도전체라고 할 수 있다. 따라서, 도 1에 도시된 바와 같이 고주파 치료 시스템의 도전판(140)을 환자의 등 부위에 접촉을 시킨 상태에서 프로브(130)를 환자의 피부, 특히 환부에 삽입한 후 고주파 전압을 인가하게 되면, 환자의 인체는 임피던스 성분으로서 역할을 하게 되어 고주파 전류가 인체를 통하여 흐르게 된다. 도 2는 환자의 인체에 고주파 인가시의 고주파 치료시스템과 인체 간의 등가회로도를 나타낸 것이다. 통상적으로, 5~10V, 1MHz의 고주파 전압의 인가시 인체는 대략 50Ω 정도의 임피던스 역할을 하게 되며, 본 실시예에서는 이러한 성질을 이용하며 이는 이하에서 설명된다.In general, the human body can be said to be a conductor that can flow current and has a constant impedance component. Therefore, as shown in FIG. 1, when the conductive plate 140 of the radio frequency treatment system is in contact with the back of the patient, the probe 130 is inserted into the skin of the patient, particularly the affected part, and then a high frequency voltage is applied. In addition, the human body of the patient acts as an impedance component so that a high frequency current flows through the human body. Figure 2 shows an equivalent circuit diagram between the radiofrequency treatment system and the human body when applying a high frequency to the human body of the patient. Typically, when the high frequency voltage of 5 ~ 10V, 1MHz, the human body acts as an impedance of about 50 Hz, this embodiment uses this property, which will be described below.

도 3에 도시된 바와 같이, 먼저 제어부(110)의 제어를 받는 고주파 발생부(120)가 프로브(130)와 도전판(140)을 통하여 인체(200)에 제 1 고주파 전압을 인가한다(S301). 제 1 고주파 전압으로는 상술한 5~10V, 0.8~1.2MHz(바람직하게는 1MHz)의 고주파 전압이 사용된다. 이 때, 만약 프로브(130)가 환자의 환부에 정확하게 또는 올바르게 삽입이 된 경우에는, 환자의 인체는 상술한 바와 같이 약 50Ω 정도의 임피던스(Z10) 역할을 하게 되어 도 2의 등가회로가 형성된다.As shown in FIG. 3, first, the high frequency generator 120 under the control of the controller 110 applies the first high frequency voltage to the human body 200 through the probe 130 and the conductive plate 140 (S301). ). As the first high frequency voltage, a high frequency voltage of 5 to 10 V and 0.8 to 1.2 MHz (preferably 1 MHz) is used. At this time, if the probe 130 is correctly or correctly inserted into the affected part of the patient, the human body of the patient serves as the impedance Z10 of about 50 kHz as described above to form the equivalent circuit of FIG. .

이어서, 검출부(150)는 노드(A10)의 전압을 검출한다(S302). 이 때 스위칭부(160)는 턴온되어 있기 때문에, 검출부(150)가 노드(A10)의 전압을 검출할 수 있다. 상술한 바와 같이, 프로브(130)가 환부에 정확하게 삽입되어 있다면 인체(200)는 약 50Ω 정도의 임피던스(Z10)가 되므로, 노드(A10)의 전압은 대략 상기 임피던스(Z10)와 저항(R10)에 의해 전압 분배된 전압이 형성된다. Next, the detector 150 detects the voltage of the node A10 (S302). In this case, since the switching unit 160 is turned on, the detector 150 may detect the voltage of the node A10. As described above, if the probe 130 is correctly inserted into the affected part, the human body 200 has an impedance Z10 of about 50 Hz, so that the voltage of the node A10 is approximately the impedance Z10 and the resistance R10. The voltage divided voltage is formed by this.

다음으로, 제어부(110)는 노드(A10)의 전압이 미리 설정된 기준전압 이상인지 여부를 판단하여(S303), 만약 그렇다면 단계(S304)를 거쳐 고주파 전압을 발생하기 위한 고주파 샷모드(shot mode)로 진행하되, 만약 그렇지 않다면 동작을 완료한다. 즉, 만약 상기에서 프로브(130)가 환자의 환부에 정확하게 삽입이 되어 있지 않은 상태라면 도 2의 임피던스(Z10)를 통한 회로 경로는 생성되지 않을 것이기 때문에, 노드(A10)의 전압은 거의 접지단의 전압과 같아질 것이다. 하지만, 만약 프로브(130)가 환자의 환부에 정확하게 삽입이 되어 있는 상태라면 도 2의 임피던스(Z10)를 통한 회로 경로가 생성될 것이기 때문에, 노드(A10)의 전압은 대략 상기 임피던스(Z10)와 저항(R10)에 의해 전압 분배된 전압이 될 것이다. 따라서, 제어부(110)는 검출부(150)가 검출한 노드(A10)의 전압의 크기가 미리 설정된 기준전압 이상이 되는지 여부를 확인함으로써, 프로브(130)가 환부에 정확하게 삽입이 되어 있는지 여부를 판단할 수 있다. 상기에서 저항(R10)의 저항값은 시스템에 따라 사용자가 자유롭게 선택할 수 있으며, 그에 따라 상기 기준전압도 시스템에 따라 변경될 수 있다.Next, the controller 110 determines whether the voltage of the node A10 is equal to or greater than a preset reference voltage (S303), and if so, through the step S304, a high frequency shot mode for generating a high frequency voltage. If not, complete the operation. In other words, if the probe 130 is not correctly inserted into the affected part of the patient, since the circuit path through the impedance Z10 of FIG. 2 will not be generated, the voltage of the node A10 is almost grounded. Will be equal to the voltage of However, if the probe 130 is correctly inserted into the affected part of the patient, since the circuit path through the impedance Z10 of FIG. 2 will be generated, the voltage of the node A10 is approximately equal to the impedance Z10. It will be the voltage divided by the resistor R10. Accordingly, the controller 110 determines whether the probe 130 is correctly inserted into the affected part by checking whether the magnitude of the voltage of the node A10 detected by the detector 150 is equal to or greater than a preset reference voltage. can do. The resistance value of the resistor R10 may be freely selected by the user according to the system, and the reference voltage may also be changed according to the system.

다음으로, 노드(A10)의 전압이 상기 기준전압 이상인 경우, 고주파 샷모드 진입하기 전에 제어부(110)는 스위칭부(160)를 개방한다(S304). 그 이유는, 고주파 치료용으로 인가되는 고주파 전압은 통상적으로 40~100V 정도의 전압으로서 상기 제 1 고주파 전압보다는 훨씬 더 높으며 더 이상 노드(A10)의 전압을 검출할 필요가 없기 때문에 해당 경로를 개방하기 위한 것이다.Next, when the voltage of the node A10 is equal to or greater than the reference voltage, the controller 110 opens the switching unit 160 before entering the high frequency shot mode (S304). The reason is that the high frequency voltage applied for the high frequency treatment is typically about 40 to 100V, which is much higher than the first high frequency voltage and no longer needs to detect the voltage of the node A10, thus opening the corresponding path. It is to.

이어서, 제어부(110)는 고주파 전압을 발생하기 위한 고주파 샷모드(shot mode)에 진입한다(S305). 이 고주파 샷모드는 치료용 고주파 전압을 인가하는 모드를 의미하며, 이 모드에서 진료자가 고주파 인가를 위한 풋스위치 등을 조작하면 치료용 고주파가 인가된다. 이 때, 고주파 샷모드는 메인 샷(main shot)과 적어도 하나의 보조 샷(sub-shot 또는 side shot)을 포함한다. 메인 샷은 상기 고주파 샷모드 동안 첫번째로 고주파 전압을 인가하는 샷으로서, 피부 환부 등의 염증을 치료하는 주된 역할을 담당하는 샷이다. 그리고, 보조 샷은 메인 샷 이후에 적어도 한 번 이상 고주파 전압을 인가하는 샷으로서 메인 샷에 의해 치료된 환부를 안정시키는 역할을 수행하는 샷이다. 보조 샷으로는 통상적으로 40V ~100V의 고주파 전압이 인가되며, 메인샷의 고주파 전압의 출력은 상기 보조 샷의 고주파 전압의 출력보다 10 ~ 40V 더 높은 것을 특징으로 한다.Subsequently, the controller 110 enters a high frequency shot mode for generating a high frequency voltage (S305). The high frequency shot mode refers to a mode in which a high frequency voltage for treatment is applied. In this mode, a high frequency for treatment is applied when a doctor operates a footswitch for applying high frequency. In this case, the high frequency shot mode includes a main shot and at least one sub shot or a side shot. The main shot is the first shot to apply a high frequency voltage during the high frequency shot mode, and is a shot that plays a main role in treating inflammation such as skin lesions. The auxiliary shot is a shot for applying a high frequency voltage at least once after the main shot, and serves to stabilize the affected area treated by the main shot. A high frequency voltage of 40V to 100V is typically applied as the auxiliary shot, and the output of the high frequency voltage of the main shot is 10 to 40V higher than that of the high frequency voltage of the auxiliary shot.

다음으로, 고주파 샷모드가 완료(S306)되면 제어부(110)가 상기 스위칭부(160)를 턴온시킨다(S307). 즉 고주파 샷모드가 완료되어 프로브(130)가 환부에서 이탈되면 다시 스위칭부(160)를 턴온시킴으로써 상기 단계(S301)을 재개할 수 있도록 시스템을 다시 준비시킨다.Next, when the high frequency shot mode is completed (S306), the controller 110 turns on the switching unit (160) (S307). That is, when the high frequency shot mode is completed and the probe 130 is separated from the affected part, the system is prepared again to resume the step S301 by turning on the switching unit 160 again.

한편, 본 실시예에서 프로브(130)는 상기 고주파 샷모드를 설정하기 위한 설정 버튼(미도시)을 포함하며, 이는 사용자의 편의성을 높이기 위한 것이다.
On the other hand, in the present embodiment, the probe 130 includes a setting button (not shown) for setting the high frequency shot mode, which is intended to increase user convenience.

이와 같이, 본 발명에 따른 안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템 및 그 동작방법은 고주파 치료 시스템에서 프로브가 환자의 환부에 올바르게 삽입된 경우에만 고주파 전압이 인가되도록 함으로써, 고주파 치료시 고주파 전압의 방사 오류에 의한 환자의 불필요한 고통을 억제하고 진료자의 부담을 경감시킬 수 있다.
As described above, the radiofrequency treatment system having a safety function and a method of operating the same according to the present invention allow the radiofrequency voltage to be applied only when the probe is correctly inserted into the affected part of the patient in the radiofrequency treatment system, thereby causing a radiation error of the radiofrequency voltage during the radiofrequency treatment. It can suppress unnecessary pain of the patient and reduce the burden on the practitioner.

110 : 제어부
120 : 고주파 발생부
130 : 프로브
140 : 도전판
150 : 검출부
160 : 스위칭부
200 : 환자
110:
120: high frequency generator
130: probe
140: conductive plate
150: detector
160: switching unit
200: patient

Claims (13)

안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템에 있어서,
고주파 치료 시스템의 동작을 제어하는 제어부;
상기 제어부의 제어를 받아 고주파 전압을 발생하는 고주파 발생부;
상기 고주파 발생부의 일전극에 연결되는 프로브;
상기 고주파 발생부의 타전극에 연결되는 도전부;
상기 도전부와 접지 간에 설치되는 저항; 및
상기 프로브와 도전부를 통하여 제 1 고주파 전압 인가시, 상기 도전부와 상기 저항 간 제 1 노드의 전압을 검출하여 상기 제어부에 제공하는 검출부를 포함하여 구성되는, 고주파 치료 시스템.
In a high frequency treatment system with a safety function,
A control unit controlling an operation of the radiofrequency treatment system;
A high frequency generator generating a high frequency voltage under the control of the controller;
A probe connected to one electrode of the high frequency generator;
A conductive part connected to the other electrode of the high frequency generating part;
A resistor provided between the conductive portion and the ground; And
And a detector configured to detect a voltage of the first node between the conductor and the resistor and provide the controller to the controller when a first high frequency voltage is applied through the probe and the conductor.
제 1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 검출부가 검출한 상기 제 1 노드의 전압이 미리 설정된 기준전압 이상인 경우에만, 상기 고주파 발생부가 고주파 전압을 발생하기 위한 고주파 샷모드(shot mode)에 진입하도록 제어하는, 고주파 치료 시스템.
The method of claim 1,
And the controller controls the high frequency generator to enter a high frequency shot mode for generating a high frequency voltage only when the voltage of the first node detected by the detector is equal to or greater than a preset reference voltage.
제 2항에 있어서,
상기 제 1 노드와 상기 제어부 간 경로 상에 설치되는 스위칭부를 더 포함하는, 고주파 치료 시스템.
The method of claim 2,
And a switching unit installed on a path between the first node and the control unit.
제 3항에 있어서,
상기 제어부는 상기 검출부가 검출한 상기 제 1 노드의 전압이 상기 기준전압 이상이 되면 상기 스위칭부를 개방하는, 고주파 치료 시스템.
The method of claim 3, wherein
And the control unit opens the switching unit when the voltage of the first node detected by the detection unit becomes equal to or higher than the reference voltage.
제 4항에 있어서,
상기 제어부는 상기 고주파 샷모드가 완료되면 상기 스위칭부를 턴온하는, 고주파 치료시스템.
The method of claim 4, wherein
And the control unit turns on the switching unit when the high frequency shot mode is completed.
제 2항에 있어서,
상기 고주파 샷모드는 메인 샷과 적어도 하나의 보조 샷을 포함하고,
상기 메인샷은 상기 고주파 샷모드 동안 첫번째로 고주파 전압을 인가하는 샷이고, 상기 메인샷의 제 2 고주파 전압의 출력은 상기 보조 샷의 제 3 고주파 전압의 출력보다 10 ~ 40V 더 높은, 고주파 치료시스템.
The method of claim 2,
The high frequency shot mode includes a main shot and at least one auxiliary shot,
The main shot is a shot for applying a high frequency voltage first during the high frequency shot mode, and the output of the second high frequency voltage of the main shot is 10 to 40 V higher than the output of the third high frequency voltage of the auxiliary shot. .
제 6항에 있어서,
상기 프로브는 상기 고주파 샷모드를 설정하기 위한 설정 버튼을 포함하는, 고주파 치료시스템.
The method according to claim 6,
The probe includes a setting button for setting the high frequency shot mode.
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 고주파 전압으로는 5~10V, 0.8~1.2MHz의 고주파 전압이 사용되는, 고주파 치료 시스템.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
The high frequency treatment system is a high frequency voltage of 5 ~ 10V, 0.8 ~ 1.2MHz is used as the first high frequency voltage.
안전 기능을 구비한 고주파 치료 시스템의 동작 방법에 있어서,
상기 고주파 치료시스템은 제어부, 상기 제어부의 제어를 받아 프로브와 도전부를 통하여 고주파 전압을 공급하는 고주파 발생부, 상기 도전부와 접지 간에 설치되는 저항, 및 상기 도전부와 상기 저항 간 제 1 노드의 전압을 검출하는 검출부를 포함하고,
상기 동작 방법은
상기 고주파 발생부가 상기 프로브와 도전부를 통하여 제 1 고주파 전압을 인가하는 단계;
상기 검출부가 상기 제 1 노드의 전압을 검출하는 단계;
상기 제 1 노드의 전압이 미리 설정된 기준전압 이상인 경우, 고주파 전압을 발생하기 위한 고주파 샷모드(shot mode)에 진입하는 단계를 포함하는, 고주파 치료 시스템의 동작방법.
In the operating method of the radio frequency treatment system with a safety function,
The high frequency treatment system includes a control unit, a high frequency generation unit supplying a high frequency voltage through a probe and a conductive unit under control of the control unit, a resistor provided between the conductive unit and the ground, and a voltage of the first node between the conductive unit and the resistor. It includes a detection unit for detecting,
The operation method
The high frequency generator applying a first high frequency voltage through the probe and the conductive unit;
Detecting, by the detector, a voltage of the first node;
And entering a high frequency shot mode for generating a high frequency voltage when the voltage of the first node is greater than or equal to a preset reference voltage.
제 9항에 있어서,
상기 고주파 치료시스템은 상기 제 1 노드와 상기 제어부 간 경로 상에 설치되는 스위칭부를 더 포함하고,
상기 제 1 노드의 전압이 상기 기준전압 이상인 경우, 상기 고주파 샷모드 진입 전 상기 제어부가 상기 스위칭부를 개방하는 단계를 더 포함하는, 고주파 치료 시스템의 동작방법.
The method of claim 9,
The radio frequency treatment system further includes a switching unit installed on a path between the first node and the control unit.
And when the voltage of the first node is equal to or greater than the reference voltage, the control unit opening the switching unit before entering the high frequency shot mode.
제 10항에 있어서,
상기 고주파 샷모드가 완료되면 상기 제어부가 상기 스위칭부를 턴온시키는 단계를 더 포함하는, 고주파 치료시스템의 동작방법.
The method of claim 10,
And turning on the switching unit by the control unit when the high frequency shot mode is completed.
제 9항에 있어서,
상기 고주파 샷모드는 메인 샷과 적어도 하나의 보조 샷을 포함하고,
상기 메인샷은 상기 고주파 샷모드 동안 첫번째로 고주파 전압을 인가하는 샷이고, 상기 메인샷의 제 2 고주파 전압의 출력은 상기 보조 샷의 제 3 고주파 전압의 출력보다 10 ~ 40V 더 높은, 고주파 치료시스템의 동작방법.
The method of claim 9,
The high frequency shot mode includes a main shot and at least one auxiliary shot,
The main shot is a shot for applying a high frequency voltage first during the high frequency shot mode, and the output of the second high frequency voltage of the main shot is 10 to 40 V higher than the output of the third high frequency voltage of the auxiliary shot. How to operate.
제 9항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 고주파 전압으로는 5~10V, 0.8~1.2MHz의 고주파 전압이 사용되는, 고주파 치료 시스템의 동작방법.

The method according to any one of claims 9 to 12,
The high frequency voltage of 5 ~ 10V, 0.8 ~ 1.2MHz is used as the first high frequency voltage, the operation method of the high frequency treatment system.

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