KR101157805B1 - Biaxial streched polyester film - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투명성이 우수하면서도 주행성 및 가공성이 향상된 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 하기 식 1을 만족하는 바이모달(Bimodal) 입도분포를 갖는 입자를 포함하며, 기재와 입자간 굴절율 차가 하기 식 2를 만족하는 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a biaxially stretched polyester film having excellent transparency and improved running property and processability, comprising a particle having a bimodal particle size distribution satisfying Equation 1 below, wherein the difference in refractive index between the substrate and the particle is represented by Equation 2 below. It relates to a biaxially stretched polyester film that satisfies.

[식 1][Formula 1]

0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh/Vs0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh / Vs

(D는 Vh와 Vs의 비이며, Vh는 Bimodal 입도분포 중 큰 입도를 나타내는 피크(Peak)의 부피%이고, Vs는 Bimodal 입도분포 중 작은 입도를 나타내는 피크(Peak)의 부피% 이다.)(D is the ratio of Vh to Vs, Vh is the volume percentage of the peak with the largest particle size in the Bimodal particle size distribution, and Vs is the volume percentage of the peak with the smallest particle size in the Bimodal particle size distribution.)

[식 2][Formula 2]

△N ≤ 0.3 ΔN ≤ 0.3

(△N은 이축연신 폴리에스테르의 굴절율과 입자 고유 굴절율의 차이)(ΔN is the difference between the refractive index and the particle intrinsic refractive index of the biaxially stretched polyester)

폴리에스테르 필름, 이축연신, 헤이즈, 주행성 Polyester film, biaxial stretching, haze, runability

Description

이축연신 폴리에스테르 필름{BIAXIAL STRECHED POLYESTER FILM}Biaxially oriented polyester film {BIAXIAL STRECHED POLYESTER FILM}

본 발명은 디스플레이 분야에 사용되는 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 스크래치, 블록킹 등의 주행성 및 가공성이 향상된 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a biaxially stretched polyester film used in the field of display, and relates to a polyester film having improved running property and processability such as scratching and blocking.

폴리에스테르 필름(Polyester film)은 저온에서 고온에 이르는 넓은 온도 범위에서 물성의 안정성이 뛰어나고, 다른 고분자 수지에 비하여 내화학성이 우수하며, 기계적 강도, 표면특성, 두께의 균일성이 양호하여 다양한 용도나 공정조건에서도 뛰어난 적용성을 가지고 있으므로 콘덴서용, 사진필름용, 라벨용, 감압 테이프, 장식용 라미네이트, 트랜스퍼 테이프, 편광판 및 세라믹 시트 등에 적용되고 있으며, 최근 고속화 및 자동화 추세에 부응하여 그 수요가 나날이 증가하고 있는 추세이다.Polyester film has excellent stability of physical properties over a wide temperature range from low temperature to high temperature, excellent chemical resistance compared to other polymer resins, and good mechanical strength, surface properties and thickness uniformity. It has excellent applicability in process conditions, so it is applied to capacitors, photo films, labels, pressure-sensitive tapes, decorative laminates, transfer tapes, polarizers, and ceramic sheets, and the demand is increasing day by day to meet the trend of high speed and automation. The trend is.

통상 필름의 주행성 및 내 스크래치성을 향상시키기 위하여, 고전적으로 수지 내부에 수 나노 ~ 수 마이크로 단위의 입자를 사용한다. 그러나 현재 필름 분야에 각광을 받고 있는 FPD 등의 디스플레이 분야에 상기 입자를 사용한 필름을 적용할 경우, 입자의 광 산란 효과, 기재와 입자간의 굴절률 차이에 의해 헤이즈(haze) 가 증가하는 문제가 있다. 접촉면적의 최소화를 위하여 처방하는 입자의 양이 증가할수록, 이러한 산란효과가 증대되어 헤이즈는 크게 증가한다. Usually, in order to improve the running property and the scratch resistance of a film, particle | grains of several nano-several micro unit are used classically inside resin. However, when the film using the particles is applied to a display field such as FPD, which is currently in the spotlight in the film field, haze increases due to the light scattering effect of the particles and the difference in refractive index between the substrate and the particles. As the amount of particles prescribed for minimizing the contact area increases, the scattering effect is increased, and the haze greatly increases.

이를 해소하기 위해 입자의 사이즈, 분산의 극대화에 대한 많은 연구가 진행되었으나, 그 효과에 있어서는 많은 논란의 여지가 있으며 아직도 고투명성을 요구하는 필름에 있어서는 무입자 처방에 따른 제막기술의 높은 기술 장벽 요구, 후공정에서의 취급 부주의로 인한 불량률 증가 등을 초래한다.In order to solve this problem, much research has been conducted on the maximization of particle size and dispersion, but there is much controversy in its effect, and in the case of the film still requiring high transparency, there is a need for high technical barrier of film forming technology according to the particle-free prescription. As a result, the failure rate may increase due to careless handling in a later process.

특히 본 발명에서 제시하는 폴리에스테르 필름의 경우, 수지 본연의 성질이 다소의 점착성을 가지고 있어 입자를 처방하지 않을 경우 블록킹, 스크래치 등에 취약한 문제를 가지며, 권취 후 정전기에 의한 점착현상이나 고유한 점착성질에 의해 가공성이 크게 저하되는 문제를 가진다.Particularly, in the case of the polyester film proposed in the present invention, the intrinsic properties of the resin have some adhesiveness, and when the particles are not prescribed, the polyester film has a problem that is vulnerable to blocking, scratching, etc. There is a problem in that workability greatly decreases.

본 발명은 폴리에스테르 필름의 점착현상을 경감할 뿐만 아니라, 디스플레이 분야에서 요구되는 투명성이 우수하면서도, 필름 제조공정 중 야기되는 스크래치, 블록킹 등 주행성 및 가공성이 향상된 필름을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a film that not only reduces the adhesion phenomenon of the polyester film, but also has excellent transparency required in the display field, and improves the running and processing properties such as scratching and blocking caused during the film manufacturing process.

본 발명은 하기 식 1을 만족하는 바이모달(Bimodal) 입도분포를 갖는 입자를 포함하며, 기재와 입자간 굴절율 차가 하기 식 2를 만족하는 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a biaxially stretched polyester film comprising particles having a bimodal particle size distribution satisfying the following formula 1, wherein the difference in refractive index between the substrate and the particles satisfies the following formula (2).

[식 1][Formula 1]

0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh/Vs0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh / Vs

(D는 Vh와 Vs의 비이며, Vh는 Bimodal 입도분포 중 큰 입도를 나타내는 피크(Peak)의 부피%이고, Vs는 Bimodal 입도분포 중 작은 입도를 나타내는 피크(Peak)의 부피% 이다.)(D is the ratio of Vh to Vs, Vh is the volume percentage of the peak with the largest particle size in the Bimodal particle size distribution, and Vs is the volume percentage of the peak with the smallest particle size in the Bimodal particle size distribution.)

[식 2][Formula 2]

△N ≤ 0.3 ΔN ≤ 0.3

(△N은 이축연신 폴리에스테르의 굴절율과 입자 고유 굴절율의 차이)(ΔN is the difference between the refractive index and the particle intrinsic refractive index of the biaxially stretched polyester)

본 발명에서 상기 입자는 평균입경이 2 ~ 6㎛인 입자와 평균입경이 0.01 ~ 1㎛인 입자를 혼합하여 사용하거나 또는 이들이 혼합된 입자를 사용하며, 상기 입자는 필름 내에 0.05 ~ 0.2 중량%로 사용하고, 이렇게 제조된 이축연신 폴리에스테르 필름의 헤이즈가 1 ~ 3.5%인 것을 특징으로 한다.In the present invention, the particles are used by mixing the particles having an average particle diameter of 2 ~ 6㎛ and particles having an average particle diameter of 0.01 ~ 1㎛ or using a mixture thereof, the particles are 0.05 to 0.2% by weight in the film It is used, characterized in that the haze of the biaxially stretched polyester film thus prepared is 1 to 3.5%.

이하 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically.

본 발명에서 기재로 사용되는 폴리에스테르는 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬글리콜을 주성분으로 하는 글리콜 성분을 축중합하여 얻어진다. 상기 디카르복실산의 주성분으로는 테레프탈산 또는 그의 알킬에스테르나 페닐에스테르 등을 주로 사용하지만, 그의 일부를 예컨대 이소프탈산, 옥시에톡시 안식향산, 아디핀산, 세바신산, 5-나트륨설포이소프탈산 등의 이관능성 카르본산 또는 그의 에스테르형성 유도체로 치환하여 사용할 수 있다. 또한, 글리콜성분으로는 에틸렌글리콜을 주된 대상으로 하지만, 예컨대 프로필렌 글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸렌글리콜, 1,4-사이클로헥산디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,4-비스옥시에톡시벤젠, 비스페놀, 폴리옥시에틸렌글리콜과 혼합하여 사용할 수도 있으며, 또 적은 함량이라면 일관능성 화합물 또는 삼관능성 화합물을 병용하여도 좋다.The polyester used as a base material in this invention is obtained by condensation polymerization of the acid component which has dicarboxylic acid as a main component, and the glycol component which has alkyl glycol as a main component. Terephthalic acid or its alkyl ester or phenyl ester is mainly used as the main component of the dicarboxylic acid, but a part thereof is, for example, isophthalic acid, oxyethoxy benzoic acid, adipic acid, sebacic acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid. It may be used by substituting with difunctional carboxylic acid or ester forming derivative thereof. As the glycol component, ethylene glycol is mainly used, but for example, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylene glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 1,4-bisoxy It may be used in combination with oxybenzene, bisphenol, polyoxyethylene glycol, or may be used in combination with a monofunctional compound or trifunctional compound if the content is small.

상기 폴리에스테르 수지는 통상의 중합 방법 즉, DMT중합방법 등의 방법으로 제조가 가능하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한 이밖에도 통상적으로 필름 분야에서 사용되는 첨가제 즉, 피닝(Pinning)제, 대전방지제, 자외선안정제, 방수제, 슬립제 및 열안정제에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 성분을 포함할 수 있다.The polyester resin can be produced by a conventional polymerization method, that is, a method such as DMT polymerization method, but is not limited thereto. In addition, it may include any one or more components selected from additives commonly used in the film field, that is, a pinning agent, an antistatic agent, an ultraviolet stabilizer, a waterproofing agent, a slipping agent, and a thermal stabilizer.

본 발명에서 상기 입자는 필름의 투명도뿐만 아니라 주행성 및 가공성을 결 정하는 중요한 요소로서, 본 발명은 특히 바이모달 형태의 입자를 사용함에 따라 주행성을 만족할 수 있을 정도로 입자를 첨가하면서도 투명도가 우수하며, 가공성이 우수한 필름을 제조할 수 있다.In the present invention, the particles are important factors for determining not only the transparency of the film, but also the runability and processability, and the present invention is excellent in transparency while adding particles to satisfy the runability, in particular, by using bimodal particles. This excellent film can be produced.

구체적으로 본 발명에서 사용되는 입자는 투명성을 만족하기 위해서 하기 식 1을 만족하는 바이모달(Bimodal) 입도분포를 갖도록 입자 함량을 조절하는 것이 좋다.Specifically, the particles used in the present invention may be adjusted to have a bimodal particle size distribution satisfying the following Equation 1 in order to satisfy the transparency.

[식 1][Formula 1]

0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh/Vs0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh / Vs

(D는 Vh와 Vs의 비이며, Vh는 Bimodal 입도분포 중 큰 입도를 나타내는 피크(Peak)의 부피%이고, Vs는 Bimodal 입도분포 중 작은 입도를 나타내는 피크(Peak)의 부피% 이다.)(D is the ratio of Vh to Vs, Vh is the volume percentage of the peak with the largest particle size in the Bimodal particle size distribution, and Vs is the volume percentage of the peak with the smallest particle size in the Bimodal particle size distribution.)

D가 0.3 미만일 경우, 가시광선 반파장 아래의 작은 입자함량이 증가하면서 빛의 투과성이 높아지면서 투명성은 향상되나 주행성 및 가공성이 저하되며, D가 10을 초과하는 경우, 권취특성 및 주행성 등의 가공성은 우수해지나 빛의 산란을 유도하는 큰 입경의 입자가 상대적으로 증가하므로 필름의 투명성이 극히 나빠진다. 따라서 상기 범위를 만족해야만 투명성이 우수하면서도 주행성 및 가공성을 만족할 수 있다.When D is less than 0.3, the small particle content under the half wavelength of visible light increases, the transparency of light is improved as the light transmittance is increased, but the runability and processability are deteriorated. When D exceeds 10, the processability such as winding characteristics and runability Is excellent, but the transparency of the film is extremely poor because of the relatively increased particle size with a large particle size that induces light scattering. Therefore, the above range must be satisfied to be excellent in transparency while satisfying the running property and processability.

특히, Bimodal 입도분포 중 작은 입도를 나타내는 피크 범위는 0.01 ~ 1㎛의 범위를 갖는 입자가 좋고, Bimodal 입도분포 중 큰 입도를 나타내는 피크 범위는 2 ~ 6㎛의 크기를 갖는 입자가 좋다. 즉, 본 발명에서 상기 입자는 평균입경이 2 ~ 6㎛인 입자와 평균입경이 0.01 ~ 1㎛인 입자를 혼합하여 사용하거나, 이들이 혼합된 입자를 사용하는 것이 좋다.Particularly, the peak range showing a small particle size in the Bimodal particle size distribution is preferably a particle having a range of 0.01 to 1 μm, and the peak range showing a large particle size in the Bimodal particle size distribution is a particle having a size of 2 to 6 μm. That is, in the present invention, the particles may be used by mixing particles having an average particle diameter of 2 to 6 µm and particles having an average particle diameter of 0.01 to 1 µm, or using particles mixed with these particles.

또한, 폴리에스테르 기재와 입자간 굴절율 차가 하기 식 2를 만족하는 것을 사용한다.In addition, the thing in which the difference in refractive index between a polyester base material and particle | grains satisfy | fills following formula 2 is used.

[식 2][Formula 2]

△N ≤ 0.3 ΔN ≤ 0.3

(△N은 이축연신 폴리에스테르의 굴절율과 입자 고유 굴절율의 차이)(ΔN is the difference between the refractive index and the particle intrinsic refractive index of the biaxially stretched polyester)

보다 바람직하게는 굴절율 차이가 0.1 ~ 0.3인 것을 사용하는 것이 좋으며, 굴절률 차이가 0.3 을 초과하는 경우, 기재와 입자 계면에서 큰 산란을 일으켜 투명성은 크게 저하되며 흐림도가 상승함으로써 본 발명이 얻고자 하는 투명성이 우수한 이축연신 폴리에스터 필름을 제조할 수 없다.More preferably, it is preferable to use a refractive index difference of 0.1 to 0.3, and when the refractive index difference exceeds 0.3, it causes large scattering at the interface between the substrate and the particle, greatly lowering the transparency and increasing the cloudiness. The biaxially stretched polyester film excellent in transparency cannot be produced.

상기 특징을 만족하는 입자로는 무기입자 또는 유기입자를 사용할 수 있으며, 무기입자로는 실리카, 고령토, 황산바륨 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 상기 유기입자로는 실리콘 수지, 가교 디비닐벤젠 폴리메타아크릴레이트, 가교 폴리메타아크릴레이트, 가교폴리스타이렌수지, 벤조구아나민-포름알데하이드수지, 벤조구아나민-멜라민-포름알데하이드수지, 멜라민-포름알데하이드수지 등의 유기입자를 사용할 수 있으나 이에 제한되지 않는다.As the particles satisfying the above characteristics, inorganic particles or organic particles may be used, and inorganic particles may include silica, kaolin, barium sulfate, and the like, but are not limited thereto. Examples of the organic particles include silicone resins, crosslinked divinylbenzene polymethacrylates, crosslinked polymethacrylates, crosslinked polystyrene resins, benzoguanamine-formaldehyde resins, benzoguanamine-melamine-formaldehyde resins, and melamine-formaldehyde resins. Organic particles such as but may be used, but are not limited thereto.

상기 조건을 만족하는 입도분포를 갖는 입자를 제작할 때 Bimodal 구조가 도입된 단일 입자를 사용할 수 있으며, 혹은 2 가지 이상의 입자종을 상호 혼합하거나, 단일 성분 입자를 분쇄, 원심분리, 혹은 침강 및 정제를 통해 분리시킨 후 재 조합 하는 방법을 사용할 수도 있다.When producing particles having a particle size distribution satisfying the above conditions, a single particle having a bimodal structure can be used, or two or more particle types are mixed with each other, or a single component particle is crushed, centrifuged, or precipitated and purified. Can be separated and then recombined.

본 발명에서 상기 입자는 필름 내에 0.05 ~ 0.2 중량%로 사용하는 것이 더욱 바람직하며, 상기 범위로 사용하는 경우 필름 고유의 권취성 및 이형성이 향상된다. 상기 범위 내에서 헤이즈는 3.5 % 이하를 충족해야 하며, 보다 바람직하게는 1 ~ 3.5 %를 만족해야 본 발명이 목적하는 바를 수행할 수 있다.In the present invention, the particles are more preferably used in the film at 0.05 to 0.2% by weight, and when used in the above range, the inherent winding property and release property of the film are improved. Within this range, the haze should satisfy 3.5% or less, more preferably 1 to 3.5% to accomplish the purpose of the present invention.

상기 제시된 조건을 만족할 경우, 동일 입자 함량에서 현재 사용되는 범용 필름대비 30% 이상의 투명성이 향상 된 필름을 제조할 수 있다.If the above conditions are satisfied, it is possible to produce a film having an improved transparency of 30% or more compared to the general-purpose film currently used in the same particle content.

다음으로 본 발명의 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 필름 제조방법은Next, the method of manufacturing the biaxially stretched polyester film of this invention is demonstrated. Film production method of the present invention

a) 입도분포가 하기 식 1의 바이모달 분포를 갖는 입자를 0.05 ~ 0.2 중량% 첨가하여 폴리에스테르 칩을 제조하는 단계; a) preparing a polyester chip by adding 0.05 to 0.2% by weight of particles having a bimodal distribution having a particle size distribution of Formula 1;

[식 1][Formula 1]

0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh/Vs0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh / Vs

(D는 Vh와 Vs의 비이며, Vh는 Bimodal 입도분포 우측 Peak 지점의 Vol %이고, Vs는 Bimodal 입도분포 좌측 Peak 지점의 Vol % 이다.)(D is the ratio of Vh and Vs, Vh is the Vol% of the peak on the right of the Bimodal particle size distribution, and Vs is the Vol% of the peak on the left of the Bimodal particle size distribution.)

b) 상기 폴리에스테르 칩을 용융압출한 후 급냉하여 폴리에스테르 시트를 제조하는 단계;b) melting and extruding the polyester chip to prepare a polyester sheet;

c) 상기 시트를 기계방향(MD)으로 2 ~ 5배 연신 후, 기계방향의 수직인 폭방향(TD)으로 2 ~ 5배 연신하는 단계; 및c) stretching the sheet 2 to 5 times in the machine direction MD, and then stretching the sheet 2 to 5 times in the vertical width direction TD in the machine direction; And

d) 상기 연신된 필름을 열고정하는 단계;d) heat setting the stretched film;

를 포함한다.It includes.

또한 상기 폴리에스테르필름과 입자간 굴절율 차가 하기 식 1을 만족하며, 평균입경이 2 ~ 6㎛인 입자와 평균입경이 0.01 ~ 1㎛인 입자를 혼합하여 사용하는 것이 더욱 바람직하다.In addition, the polyester film and the difference in refractive index between the particles satisfy the following formula 1, it is more preferable to use a mixture of particles having an average particle diameter of 2 ~ 6㎛ and particles having an average particle diameter of 0.01 ~ 1㎛.

[식 1][Formula 1]

△N ≤ 0.3 ΔN ≤ 0.3

(△N은 이축연신 폴리에스테르의 굴절율과 입자 고유 굴절율의 차이)(ΔN is the difference between the refractive index and the particle intrinsic refractive index of the biaxially stretched polyester)

상기 c)단계에서 기계방향(MD)으로 연신 시 온도 범위가 85 ~ 150℃인 것이 바람직하며, 상기 d) 단계에서 열고정 시 온도 범위가 220 ~ 250℃인 것이 바람직하다. Preferably, the temperature range is 85 to 150 ° C. at the time of drawing in the machine direction MD in step c), and the temperature range is 220 to 250 ° C. at the time of heat setting in step d).

제조방법에 대하여 보다 구체적으로 설명하면, When explaining the manufacturing method in more detail,

본 발명은 상기 폴리에스테르계 수지의 중합 중에 무기입자를 투입하여 칩으로 제조하는 것이 바람직하나 이에 한정되는 것은 아니다.In the present invention, it is preferable to prepare an inorganic particle during the polymerization of the polyester-based resin to prepare a chip, but the present invention is not limited thereto.

상기 제조된 칩(Chip)을 260 ~ 300℃의 온도조건으로 용융압출하며, 다이(Die)를 통해 토출된 용융물을 대형 롤(Roll)로써 급냉하고, 기계방향(MD)으로 2 ~ 5배 연신하고, 다시 기계방향의 수직인 폭방향(TD)으로 2 ~ 5배 연신한 필름을 220 ~ 250℃ 조건에서 열처리 한 후 권취하여 필름을 얻는다.The manufactured chip is melt-extruded at a temperature of 260 to 300 ° C., the melt discharged through a die is quenched with a large roll, and stretched 2 to 5 times in the machine direction MD. Then, the film stretched 2 to 5 times in the vertical width direction (TD) in the machine direction is heat-treated at 220-250 ° C. and then wound to obtain a film.

상기 공정 중 투명성이 우수한 필름을 제조하기 위해서는 기계방향(MD) 연신 시 연신 결정화 지점 근방의 연신비 조건과 85 ~ 150℃의 온도범위에서, 주연신 구 간에 고온 연신온도를 부여함으로써 결정성이 낮고 수지-입자 밀착력이 우수한 종연신 시트를 얻을 수 있다. 상기 온도 조건의 적용 근거는 필름 표면의 입자-기재간 공극의 발생을 방지하기 위해서는 기재와의 친화력이 높은 입자를 선정함은 물론, 연신 응력에 의한 입자-기재간 계면 파괴가 발생할 수 있는 문제를 차단하는데 있다. 특히 주연신 구간의 온도를 고온 설정하는 것을 특징으로 하는데, 연신온도가 85℃ 이하일 때는 쉬이트에서 냉연신이 발생하여 쉬이트가 백탁해질 수 있으며, 연신온도가 150℃ 이상일 경우, 열분해에 의한 황변 및 물성 저하가 발생할 소지가 있다. 따라서 수지의 물성 저하가 일어나지 않을 만큼의 고온 조건에서 필름을 연신함으로써 투명성을 향상시킬 수 있다.In order to manufacture a film having excellent transparency during the above process, the crystallinity is low and the resin is lowered by giving a high stretching temperature between the main stretching sections in the stretching ratio condition near the stretching crystallization point in the machine direction (MD) and a temperature range of 85 to 150 ° C. -Longitudinal stretched sheet excellent in particle adhesion can be obtained. In order to prevent the occurrence of particle-substrate voids on the surface of the film, the reason for applying the temperature condition is to select particles having a high affinity with the substrate, as well as the problem that the interfacial-substrate breakdown may occur due to stretching stress. To block. In particular, the temperature of the main draw section is set to a high temperature, when the draw temperature is below 85 ℃ cold drawing occurs in the sheet may cause the sheet to become cloudy, when the draw temperature is 150 ℃ or more, yellowing and There may be a decrease in physical properties. Therefore, transparency can be improved by extending | stretching a film in high temperature conditions in which the physical property fall of resin does not occur.

또한 상기의 온도범위에서 연신을 함과 동시에 계면 파괴 및 입자주변 수지의 변형을 최소화 할 수 있는 연신비의 선정이 중요하다. 고배율 연신을 실시할 때 연신 응력이 증가하여 필름 내부 입자의 변형 및 파괴를 초래할 수 있으며, 기재-입자간 상용성이 저하 될 경우에는 연신에 의해 계면 파괴가 발생하여 공극이 발생함으로써 산란이 극대화된다. 이를 방지하기 위해서 종연신 공정에서 2 ~ 5배 연신하는 것이 좋고, 가장 좋기로는 2 ~ 4배 종연신 처리하면 계면 파괴 및 수지와의 공극 발생을 효과적으로 차단할 수 있다.In addition, it is important to select a draw ratio that can minimize stretching at the same time as the temperature range and at the same time to minimize the interface breakage and deformation of the resin surrounding the particles. When high magnification stretching is performed, the stretching stress may increase, which may cause deformation and destruction of particles in the film. When the compatibility between substrate and particles decreases, interfacial fracture occurs due to stretching, and voids are generated to maximize scattering. . In order to prevent this, it is preferable to stretch 2 to 5 times in the longitudinal stretching process, and most preferably, 2 to 4 times longitudinal stretching can effectively block interfacial breakage and void generation with the resin.

본 발명에 따른 이축연신 폴리에스테르 필름은 입자를 다량 투입하여 필름 표면의 접촉면적을 감소시켜 가공 중 발생할 수 있는 스크래치에 대한 저항성이 높으며, 입자의 입경을 바이모달(Bimodal) 분포로 분산시킴으로써 디스플레이에서 요 구하는 투명성을 만족하고, 헤이즈가 3.5% 이하인 우수한 필름을 제공할 수 있다.The biaxially stretched polyester film according to the present invention has a high resistance to scratches that may occur during processing by reducing the contact area of the film surface by adding a large amount of particles, and by dispersing the particle size of the particles in a bimodal distribution in the display It can satisfy | fill the required transparency and can provide the excellent film with a haze of 3.5% or less.

이하는 본 발명의 구체적인 설명을 위하여 일예를 들어 설명하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

본 실시예에서 사용한 측정방법은 다음과 같다.The measuring method used in the present Example is as follows.

1) 입자의 평균입경 측정: 1) Average particle size measurement of particles:

평균입경은 입도분포 측정기(베크만-콜터, LS13 320)을 사용하여 측정하였으며, Bimodal Point의 좌측 Peak 를 중심으로 Vs 라 하며, 같은 방법으로 우측 Peak 를 중심으로 Vh라 하였다. 이의 비를 환산한 D를 산출하여 최적의 결과를 산출하였다.The average particle size was measured using a particle size distribution analyzer (Beckman-Coulter, LS13 320), and Vs was centered on the left peak of the bimodal point, and Vh was centered on the right peak in the same manner. The optimum result was calculated by calculating D in terms of its ratio.

2) 헤이즈(Haze) 측정:  2) Haze measurement:

측정방법은 ASTM D-1003을 기준으로 측정하였으며, 폴리에스테르 필름을 변부 2개소, 중심부 1개소에서 무작위로 7 개 부분을 추출한 후 각 5cm × 5cm 크기로 절편하여 헤이즈 측정기(니혼덴쇼쿠 NDH 300A)에 넣고 555nm 파장의 빛을 투과시켜 하기의 식으로 계산한 후 최대/최소값을 제외한 평균값을 산출하였다.The measuring method was measured based on ASTM D-1003, and the polyester film was randomly extracted from 7 parts at 2 sides and 1 center, and then sliced into 5cm x 5cm sized haze measuring instruments (Nihonden Shoku NDH 300A). It was added to the light of 555nm wavelength and calculated by the following equation to calculate the average value except the maximum / minimum value.

헤이즈 (%) = (전체산란광/전체투과광) × 100Haze (%) = (total scattered light / total transmitted light) × 100

3) 스크래치 측정: 3) Scratch Measurement:

입자 함량 및 입도분포에 따른 필름의 스크래치 정도를 측정하기 위해 헤이돈 사의 Surface Property Tester를 사용하여 스크래치 및 표면 저항력 측정을 실 시하였다. 폴리에스테르 필름을 변부 2개소, 중심부 1개소에서 무작위로 3개 부분을 추출한 후, 각 10cm × 20 cm 로 절편하여 본 측정기에 놓고 영점을 맞춘 후 임의로 마찰시켜 스크래치를 제조한 후, 주행 시 왕복이 시작되는 초기 부하지점의 값을 산출하고 스크래치 발생 부위를 금(Gold)을 증착한 후, 증착 전 후 스크래치 형태를 100 배 현미경으로 평가하여 Gold 증착 전 스크래치 가 없으면 ○, Gold 증착 후 스크래치가 없으면 △, Gold 증착 후에도 스크래치가 발견되면 X로 표시하였다. 측정조건은 다음과 같다.In order to measure the degree of scratch of the film according to the particle content and particle size distribution, the scratch and the surface resistance were measured using the Surface Property Tester of Haydon. 3 parts of polyester film were randomly extracted from 2 edges and 1 center, and then cut into 10cm × 20cm, placed on the measuring device, zeroed and randomly rubbed to produce scratches. Calculate the initial loading point value, deposit gold on the scratch-producing area, and evaluate the scratch form before and after deposition by 100 times microscope. ○ If there is no scratch before gold deposition, if there is no scratch after gold deposition △ If a scratch is found after the gold deposition, it is marked with an X. The measurement conditions are as follows.

하중: 5gLoad: 5g

주행속도: 500 mpmTravel Speed: 500 mpm

측정길이: 50 mmMeasuring length: 50 mm

반복회수: 50 회Repeat count: 50 times

필름 접촉면 재질 및 형상: 세라믹 볼(Ceramic Ball)Film Contact Material and Geometry: Ceramic Ball

[실시예1] [Example 1]

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

1000g의 디메틸테레프탈레트, 576g의 에틸렌글리콜, 폴리에스테르 수지 함량 대비 300ppm의 마그네슘 아세테이트, 400ppm의 트리메틸 포스페이트를 반응기에 넣고 메탄올을 유출시키면서 에스테르교환반응을 시켰다. 에스테르 교환반응이 끝난 후 생성물에 입자A(실리카, 평균입경 3㎛, 굴절률 = 1.46, △n 0.21) 및 입자B(실리카, 평균입경50nm, 굴절율 = 1.47 Δn = 0.2)를 폴리에스터 수지 대비 0.05 중량% 함량으로 에틸렌글리콜 슬러지 형태로 첨가하되, Bimodal Point를 적용하여 D 값을 5.0으로 조절하고 진공 하에서 축중합반응을 시켜 고유점도가 0.60인 폴리에스테르 칩을 얻었다. 1000g of dimethyl terephthalate, 576g of ethylene glycol, and 300ppm of magnesium acetate, 400ppm of trimethyl phosphate were added to the reactor, and transesterification was carried out while methanol was discharged. Particle A (silica, average particle diameter 3㎛, refractive index = 1.46, Δn 0.21) and particle B (silica, average particle diameter 50nm, refractive index = 1.47 Δn = 0.2) were added to the product after the transesterification reaction. The ethylene glycol sludge was added in the form of%, but Bimodal Point was applied to adjust the D value to 5.0 and subjected to condensation polymerization under vacuum to obtain a polyester chip having an intrinsic viscosity of 0.60.

상기 폴리에스테르 칩을 280℃로 용융압출한 후 대형롤로써 급냉하여 폴리에스테르 시트를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 시트를 110℃에서 3배 종방향 연신하고 130℃에서 4배 횡방향 연신한 후 250℃에서 열처리하여 두께가 25㎛인 폴리에스테르 필름 1을 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 필름의 헤이즈, 표면스크래치 등을 측정한 후 하기 표 1에 나타내었다.The polyester chip was melt-extruded at 280 ° C. and then quenched with a large roll to obtain a polyester sheet. The obtained polyester sheet was stretched 3 times in the longitudinal direction at 110 ° C., stretched 4 times in the horizontal direction at 130 ° C., and then heat treated at 250 ° C. to obtain a polyester film 1 having a thickness of 25 μm. After measuring the haze, surface scratches, etc. of the obtained polyester film, it is shown in following Table 1.

[실시예 2 ~ 3] [Examples 2 to 3]

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, 입자함량을 수지 대비 0.07 중량% 함량으로 변경 적용한 후 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.The experiment was performed in the same manner as in Example 1, but the particle content was changed to 0.07% by weight relative to the resin, and then used as shown in Table 1 to obtain a polyester film.

[실시예 4 ~ 5] [Examples 4 to 5]

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, 입자함량을 수지 대비 0.1 중량% 함량으로 변경 적용한 후 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻 었다.The experiment was performed in the same manner as in Example 1, but changed to a content of 0.1% by weight relative to the resin, and then used as shown in Table 1 to obtain a polyester film.

[실시예 6] [Example 6]

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, 입자C(실리카, 평균입경3㎛, 굴절율 = 1. 47, Δn=0.24) 를 첨가하고, 입자함량을 수지 대비 0.07 중량% 함량으로 변경 적용한 후 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.Experiment in the same manner as in Example 1, except that the particle C (silica, average particle diameter 3㎛, refractive index = 1. 47, Δn = 0.24) is added, the particle content is changed to 0.07% by weight relative to the resin and then applied It used like Table 1 and obtained the polyester film.

[실시예 7] Example 7

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, 입자D(실리카, 평균입경3㎛, 굴절율 = 1. 47, Δn=0.26) 를 첨가하고, 입자함량을 수지 대비 0.06 중량% 함량으로 변경 적용한 후 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.Experiment in the same manner as in Example 1, except that the particle D (silica, average particle diameter 3㎛, refractive index = 1. 47, Δn = 0.26) is added, the particle content is changed to 0.06% by weight relative to the resin and then applied It used like Table 1 and obtained the polyester film.

[비교예 1] Comparative Example 1

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, 입자A(평균입경3㎛, 굴절율 = 1.46 Δn = 0.21)만을 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.The experiment was performed in the same manner as in Example 1, except that Particle A (average particle diameter: 3 µm, refractive index = 1.46 Δn = 0.21) was used as in Table 1 below to obtain a polyester film.

[비교예 2] Comparative Example 2

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, D값을 0.2로 조절하여 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.The experiment was carried out in the same manner as in Example 1, but the D value was adjusted to 0.2 to obtain a polyester film using Table 1 below.

[비교예 3]Comparative Example 3

폴리에스테르 필름의 제조Preparation of Polyester Film

상기 실시예 1의 방법과 동일하게 실험하되, D값을 12로 조절하여 하기 표 1과 같이 사용하여 폴리에스테르 필름을 얻었다.The experiment was carried out in the same manner as in Example 1, but the D value was adjusted to 12 to obtain a polyester film using the following Table 1.

표 1. 사용된 입자와 폴리에스테르 필름의 물성표Table 1. Physical Properties of Particles and Polyester Films Used

Figure 112008046790020-pat00001
Figure 112008046790020-pat00001

상기 표에서 보이는 바와 같이 본 발명에서 바이모달 형태의 입자를 사용한 결과 비교예 1과 동일함량으로 사용한 실시예 2 및 3에서 헤이즈가 보다 낮은 광특성이 우수한 필름을 제조할 수 있음을 알 수 있었다.As shown in the table, as a result of using the bimodal particles in the present invention, it was found that in Examples 2 and 3 used in the same amount as in Comparative Example 1, a film having excellent optical properties with lower haze could be prepared.

또한 입도분포가 본 발명의 범위를 벗어난 비교예 2의 경우 헤이즈는 낮으나, 스크래치가 발생하며 세라믹 볼(Ceramic Ball) 마찰 시 초기 부하가 실시예 대비 높은 것을 알 수 있었다. 실시예 1과 비교할 때, 동일 함량에서도 입경이 작은 입자를 다량 처방할 경우, 입자에 의한 산란은 크게 감소하나 필름 접촉면적 감소의 효과에는 크게 기여하지 않는다는 것을 알 수 있었다.In addition, in the case of Comparative Example 2 in which the particle size distribution was outside the scope of the present invention, the haze was low, but scratches occurred, and it was found that the initial load was higher when the ceramic ball was rubbed. Compared with Example 1, it was found that when a large amount of particles having a small particle size were prescribed even at the same content, scattering caused by the particles was greatly reduced, but it did not contribute significantly to the effect of reducing the film contact area.

또한 비교예 3의 경우 실시예 2, 3과 대비 시 헤이즈가 매우 높은 것을 알 수 있었다.In addition, in the case of Comparative Example 3, it was found that the haze was very high compared to Examples 2 and 3.

Claims (5)

평균입경이 2 ~ 6㎛인 큰 입자와 평균입경이 0.01 ~ 1㎛인 작은 입자를 혼합하여 사용하며, 상기 평균입경이 2 ~ 6㎛인 큰 입자와 평균입경이 0.01 ~ 1㎛인 작은 입자의 함량이 같거나 또는 큰 입자의 함량이 높게 하여 하기 [식 1]을 만족하는 바이모달(Bimodal) 입도분포를 갖는 입자를 0.05 ~ 0.2 중량%로 포함하며, 기재와 입자간 굴절율 차가 하기 [식 2]를 만족하고, 헤이즈가 1 ~ 3.5%인 이축연신 폴리에스테르 필름.A large particle having an average particle diameter of 2 to 6 µm and a small particle having an average particle diameter of 0.01 to 1 µm are mixed and used, wherein the large particles having an average particle diameter of 2 to 6 µm and small particles having an average particle diameter of 0.01 to 1 µm are used. It contains 0.05 to 0.2% by weight of particles having a bimodal particle size distribution satisfying the following [Formula 1] by having a high content of the same or larger particles, and the refractive index difference between the substrate and the particle ] And a biaxially stretched polyester film having a haze of 1 to 3.5%. [식 1][Formula 1] 0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh/Vs0.3 ≤ D ≤ 10, D = Vh / Vs (D는 Vh와 Vs의 비이며, Vh는 Bimodal 입도분포 중 큰 입자를 나타내는 피크(Peak)의 부피%이고, Vs는 Bimodal 입도분포 중 작은 입자를 나타내는 피크(Peak)의 부피% 이다.)(D is the ratio of Vh to Vs, Vh is the volume percentage of the peak representing the larger particles in the Bimodal particle size distribution, and Vs is the volume percentage of the peak representing the smaller particles in the Bimodal particle size distribution.) [식 2][Formula 2] △N ≤ 0.3 ΔN ≤ 0.3 (△N은 이축연신 폴리에스테르의 굴절율과 입자 고유 굴절율의 차이)(ΔN is the difference between the refractive index and the particle intrinsic refractive index of the biaxially stretched polyester) 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 필름은 기계방향(MD)으로 연신 시 온도 범위가 85 ~ 150℃ 이며, 2 ~ 5배 연신하여 제조하는 이축연신 폴리에스테르 필름.The film has a temperature range of 85 to 150 ° C. at the time of stretching in the machine direction (MD), and a biaxially stretched polyester film prepared by stretching 2 to 5 times.
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