KR101157382B1 - 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조방법과 중금속 흡착제로서의 응용 - Google Patents

질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조방법과 중금속 흡착제로서의 응용 Download PDF

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Abstract

본 발명은 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조와 중금속 이온의 효율적인 제거로의 응용에 관한 것으로, 질소를 함유한 고분자 단량체를 마이크로에멀젼 중합을 이용하여 금속 이온이 도핑된 고분자 나노입자를 제조한 후, 이를 전구체로 이용하여 특정 온도 범위에서의 탄화과정을 통해 자성을 가지며 질소의 함유량이 높은 탄소나노입자를 제조하는 방법을 제공한다. 또한 중금속 이온의 흡착제로 이용되었을 경우 탄소나노입자 내의 질소 관능기를 통한 높은 중금속 이온의 제거 효율과 자성 탄소나노입자의 자성을 이용한 간편한 회수를 나타냄으로 우수한 분리가능한 중금속 흡착제로의 가능성을 제시하였다.
본 발명에 따르면, 간단하고 저렴한 공정을 이용하여 중금속 이온의 흡착에 효과적인 질소의 포함량이 높은 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 관능기의 추가적인 도입 과정없이 용이하게 제조할 수 있는 장점을 가진다. 더욱이, 본 발명에서 제조될 수 있는 질소를 포함한 자성 탄소 나노입자는 대량 생산이 가능하며, 제조물질의 자성으로 말미암아 탄소나노입자의 회수가 매우 용이하다는 장점을 갖는다.
환경 오염, 중금속 흡착제, 자성 탄소나노입자, 질소, 표면성질

Description

질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조방법과 중금속 흡착제로서의 응용 {Fabrication method of nitrogen-containing magnetic carbon nanoparticles and application to adsorbent for heavy metal ions}
본 발명은 질소를 포함한 고분자 나노물질의 탄화를 이용하여 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 제조하는 방법과 중금속 흡착제로의 응용에 관한 것으로서, 특정 온도 범위에서의 탄화과정을 이용하여 높은 질소 함유 비율을 가지는 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 제조하는 방법을 제시하며, 손쉽게 분리가능하며 높은 중금속 제거효율을 보이는 중금속 흡착제를 제공한다.
탄소나노물질은 일반적으로 1에서 100 나노미터의 크기를 가지는 탄소 물질을 말하며, 벌크 탄소물질에 비해 상대적으로 증가된 표면적으로 인하여 종전의 성질을 탁월하게 개선하고, 탄소 물질 본래의 특성인 기계적, 화학적 안정성 또한 나타내는 물질로서 다양한 물리적, 화학적, 전기적 특성을 보이기 때문에 다양한 분야에서 이용되고 있는 물질이다.
특별히, 탄소 나노물질은 높은 표면적과 우수한 안정성으로 인하여 백금이나 루테늄 계열의 촉매가 첨가된 촉매 지지체 (supported catalyst) 나 유기 염료 (organic dye), 생화학 물질 (biomolecule) 등의 흡착제로의 연구 또한 활발히 진행되고 있다. 또한 최근에 환경오염의 피해와 환경친화적인 방식(LOHAS, Lifestyles of Health and Sustainability)이 주목을 받으면서, 환경오염을 유발하는 물질을 흡착하는 흡착제로도 응용이 되고 있다. 특히, 공업 폐수, 농업 활동, 산업 용수 등에서 배출되는 중금속 이온의 경우, 생체 (biomembrane) 내의 생화학 반응 (biochemical reaction) 등을 방해함으로써, 생태계에 치명적인 영향을 가져다 주므로 중금속 이온을 제거하기 위하여 다양한 구조의 탄소나노물질들이 이용되고 있다. 그러나 일반적인 탄소나노물질의 전자나 분자 수준의 중금속 흡착을 위해서는 나노물질의 표면에 관능기를 도입하는 것이 요구되고 있다. 기존에 탄소 재료에 관능기를 도입하는 방법으로는 산성화 공정 (acidification) 과 추가적인 실란 처리 (silane modification) 를 이용하여 특정한 관능기 (functional group) 를 도입하는 방법이 이용되고 있으나, 산성화 공정이 가지는 공정상의 위험성이 있으며, 산성화 공정의 반응을 통해서 탄소 재료에 수산화 관능기 (hydroxy group) 의 양을 조절하는 것이 어렵기에, 추가적으로 실란처리를 통해서 도입되는 관능기의 양을 효율적으로 조절하는 것이 어려운 단점이 있다.
종전의 중금속 제거에 관한 연구는 주로 화학적 침전법 (chemical sedimentation), 이온교환법 (ion exchange), 막분리 방법 (membrane filtration) 탄소흡착 (carbon adsoption) 등을 통해서 중금속 제거가 이루어지고 있지만, 설비와 운영에 있어서 경제적인 단점과 공정상에 있어서 복잡한 단계로 인하여 단점을 지니고 있다. 최근에 중금속 흡착이 가능한 관능기를 가지는 고분자를 마이크로 입 자 등에 코팅하는 연구가 진행되었지만, 이러한 방법은 회수의 과정이 복잡하다는 단점과 마이크로 사이즈에서 오는 적은 표면적으로 인해 낮은 중금속 제거 효율을 보이고 있다.
따라서, 추가적인 공정 없이 간편한 방법으로 높은 관능기의 비율을 가지며, 손쉽게 회수할 수 있는 자성을 지니는 질소를 포함한 탄소나노입자를 제조하는 것이 효율적인 중금속 이온의 흡착제와 중금속 이온의 독성과 위험을 고려할 때 강력히 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 이러한 종래기술의 문제점들을 일거에 해결하고자 질소를 함유한 고분자 단량체를 마이크로에멀젼 중합(microemulsion polymeriazation)을 이용하여 고분자나노입자를 제조한 후, 특정 온도 범위에서의 탄화과정 (carbonization process)을 이용하여 자성을 가지며 또한 질소의 함유량이 높은 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 데 있다.
또한 본 발명의 또 다른 기술적 과제는 상기 방법으로 제조된 물질이 종래의 기술에 따른 중금속 흡착제에 비하여 우수한 중금속 제거 효율을 가지며, 손쉽게 분리가능한 성질을 가지는 자성 탄소나노입자를 제공하는 데 있다.
본 발명자들은 수많은 실험과 심도있는 연구를 거듭한 끝에, 이제껏 알려진 방법과는 다르게 질소를 함유한 고분자 단량체를 마이크로에멀젼 중합을 이용하여 나노입자를 제조한 후, 특정 온도 범위의 탄화과정을 거쳐 질소의 함유량이 높은 질소가 포함된 자성 탄소나노입자의 제조가 가능함을 확인하고, 제조된 자성 탄소나노입자가 기존에 사용되는 흡착제에 비하여 중금속 제거 효율이 현저히 향상된 것을 발견하고 본 발명에 이르게 되었다.
본 발명은 질소를 함유한 고분자 단량체를 마이크로에멀젼 중합을 이용하여 고분자 나노입자를 제조한 후, 특정 범위의 온도에서 탄화과정을 통해 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 제조하는 것을 내용으로 한다.
본 발명에 따른 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조 방법은,
(A) 질소를 함유한 고분자 단량체를 마이크로에멀젼 중합을 이용하여 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자를 제조하는 단계;
(B) 상기 중합된 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자를 반응물에서 분리하여 건조 및 수거하는 단계; 및
(C) 상기 건조가 완료된 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자를 탄화과정을 거쳐 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 제조하는 단계로 구성되어 있다.
본 발명에 따른 마이크로에멀젼 중합을 통한 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조방법은 이제껏 보고된 바가 없는 전혀 새로운 방법으로서,
금속 이온이 도핑된 고분자 나노입자의 탄화공정을 통해서 입자 크기 조절이 가능한 질소를 포함한 자성 탄소 나노입자를 용이하게 제조할 수 있는 실험적 조건들을 제공해 준다. 또한 포함된 질소의 양 또한 고분자의 종류, 탄화 온도의 변화에 따라서 효율적으로 조절할 수 있었다. 또한 탄화 공정의 온도를 조절하는 것만으로도 중금속 이온의 제거에 효율적인 질소를 포함한 물질이 제조됨으로써, 이전의 방법에서 문제시되었던 관능기의 도입에 필수적이었던 추가적인 공정을 제거함으로써, 공정 상의 문제점을 해결하였다. 중금속 이온의 흡착에 있어서도 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 중금속 이온의 제거효율은 일반적인 활성탄이나 질소가 포함되지 않은 메조기공 탄소보다 우수한 성능을 보였으며, 특히 자성을 지니고 있기 때문에 용액 상에서 용이하게 회수가 가능하여 중금속 제거 등 환경에 관련된 응용이 가능하다. 제조된 질소를 포함한 자성 탄소나노입자는 향후 산업계, 농업계에 있어서 사용되는 고효율의 차세대 중금속 이온의 흡착제로 이용될 수 있다.
단계 (A) 에서 도입되는 고분자의 단량체의 경우, 질소를 포함하고 있으며, 탄화 공정 (carbonization) 을 통해서 탄소물질로 변화가 가능한 탄소 전구체 (carbon precursor) 로 사용이 가능한 고분자라면 특별히 한정되는 것은 아니며 본 발명에서는 폴리피롤 (polypyrrole), 폴리아닐린 (polyaniline), 폴리아크릴로나이트릴 (polyacrylonitrile), 폴리로다닌 (polyrhodanine) 등이 바람직하다.
상기 마이크로에멀젼 중합에 사용되는 계면활성제(surfactant)는 양이온 계면활성제, 음이온 계면활성제, 비이온 계면활성제 모두가 적용가능하며, 본 발명에서는 양이온 계면활성제인 도데실트리메틸암모니움 브롬(dodecyltrimethylammonium bromide) 일정량을 첨가하여 교반시켰다.
상기 마이크로에멀젼 중합에 필요한 반응 온도로는 1~80 ℃가 바람직하나, 이에 국한되는 것은 아니며, 계면활성제 또는 안정제의 종류나 반응 요구조건에 따라 상기 범위보다 높거나 낮을 수 있다.
상기 반응에 필요한 계면활성제의 양은 물 대비 0.01~20 wt%가 바람직하나, 이에 국한되는 것은 아니며, 계면활성제의 종류에 따라 상기 범위보다 높거나 낮을 수 있다. 0.01 wt% 이하의 경우, 계면활성제가 임계미셀농도(critical micelle concentration)에 미치지 못하여 미셀 구조가 나타나지 않으며, 20 wt% 이상의 경우, 구형의 미셀이 형성되지 않으므로 균일하며 구형의 고분자 나노입자를 얻지 못 한다.
상기 마이크로에멀젼 중합에 사용되는 공동계면활성제(cosurfactant)는 계면활성제의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 비제한적인 예로서는 부탄(butane), 헥산(hexane), 데칸(decane), 부탄올(butanol), 헥산올(hexanol), 데실 알콜(decyl alcohol)과 같은 다양한 종류의 알콜 또는 알칸이 사용될 수 있다.
상기 반응에 필요한 공동계면활성제의 양은 계면활성제 또는 안정제 양 대비 0.1~100 wt%가 바람직하다. 그러나 이에 국한되는 것은 아니며 상기 범위보다 높거나 낮을 수 있다. 본 발명에서 사용되는 공동계면활성제는 계면활성제와 함께 안정되고 균일한 크기의 미셀을 형성하는 역할을 하기 때문에 균일한 크기의 나노입자를 대량으로 얻는데 중요한 요인이 된다.
상기 중합에 사용된 사용되는 금속염은 열처리에 의해 자성을 띌 수 있는 모든 종류를 포함한다. 금속염의 비제한적인 예로는 염화철(III)(FeCl3), 염화철(III) 수화물 (FeCl3(H2O)6), 황산철(III)(Fe2(SO4)3) 등과 같이 금속염과 산화제 역할을 동시에 수행할 수 있는 것들을 물에 용해시켜 사용하는 것이 바람직하다.
단계 (B)에서 중합이 종결된 반응용액은 상온으로 냉각시킨 후, 분별깔대기로 옮겨 중합물을 세척 및 회수하였으며, 상온에서 자연 건조시켜서 순수한 나노입자들을 얻어내었다.
상기 세척에 사용된 용매는 계면활성제 및 공동계면활성제를 잘 용해시킬 수 있는 모든 용매를 포함한다. 용매의 비제한적인 예로는 메탄올(methanol), 에탄 올(ethanol)과 같은 다양한 종류의 알콜이 사용될 수 있다.
단계 (C)에서 제조된 고분자 나노입자들을 질소 또는 아르곤과 같은 불활성 분위기 하에서 가열한 후, 최종 탄화온도에서 0.5~10 시간 동안 온도를 유지하여 탄화물을 얻어내었다.
상기 탄화공정에 필요한 최종 탄화온도는 600~2000 ℃가 바람직하다. 그러나 이에 국한되는 것은 아니며, 고분자의 종류 또는 탄화조건에 따라 상기범위보다 높거나 낮을 수 있다.
상기 반응에 필요한 가열속도는 분당 0.1~50 ℃이며, 탄화시간은 0.5~10 시간이 바람직하다. 그러나 이에 국한되는 것은 아니며, 고분자의 종류에 따라 상기범위보다 높거나 낮을 수 있다.
본 발명은 또한 상기에서 제조된 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 이용하여 효율적인 중금속 이온의 흡착제로의 응용에 관한 것이다. 본 발명이 방법에 의해 제조된 질소를 포함한 자성 탄소나노입자는 높은 표면적을 가지고 있으며, 탄소 구조 내에 높은 분포의 질소 원자를 가지고 있다. 또한 고분자 나노입자의 제조 과정에서 고분자 사슬 내에 도입된 금속 이온은 탄화 과정에서 자성을 띄는 금속 또는 금속 산화물로 전환될 수 있는바, 손쉽게 분리가능한 성질을 제공하는 자성을 부여한다. 특별히 상기 제조물에 포함된 질소는 비공유 전자쌍으로 인하여 중금속 이온과 쉽게 컴플렉스를 이루어 효율적으로 중금속 이온을 흡착할 수 있는 관능기로 이용될 수 있다. 이러한 질소의 함유량는 탄화 과정의 온도, 시간, 고분자의 종류에 따라서 조절될 수 있으며, 특별히 낮은 탄화 온도 등의 낮은 반응성을 가지는 탄화 공정 시, 질소 원소가 탄소 내에 남아 있게 되며, 이를 통해서 질소를 포함한 탄소 구조체를 제조할 수 있다. 낮은 온도의 탄화 공정은 흑연화 성격을 가지는 탄소 구조체 보다는 무정형의 탄소 구조체를 제조하지만, 흡착제로의 응용에 있어서는 무정형의 탄소 구조체도 무방하며, 이러한 결정성 보다는 관능기 혹은 화학적 성질이 흡착에 있어서 더 중요한 요소로 작용하게 된다. 따라서 제조된 질소의 함유량의 높은 질소를 포함한 메조기공 탄소는 탄소 구조 내에 존재하는 질소와 높은 표면적으로 인하여 높은 중금속 이온의 흡착 성능이 우수하다는 장점이 있따. 이러한 성질은 상기의 물질을 높은 중금속 이온 흡착율을 가지는 흡착제로 사용할 수 있음을 나타낸다. 또한 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 다른 응용으로는 촉매, 나노복합체, 전자기파 차단제, 자기공명영상 조영제(MRI contrast agent), 자성 잉크(magnetic ink), 스피커 내에 들어있는 주파수 응답(frequency response) 등에 사용될 수 있을 것으로 예상된다. 그러나, 본 발명에 따른 질소를 포함한 메조기공 탄소는 이 예시적인 용도에 한정됨이 없이 추후 예상되는 다양한 용도에 응용, 적용될 수 있으며, 이들의 용도가 본 발명의 범주를 벗어나는 것은 아니다.
[실시예]
이하 실시예를 참조하여 본 발명의 구체적인 예를 설명하지만, 본 발명의 범주가 그것에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
항온조를 사용하여 3 ℃로 맞추어진 반응조에 80 mL의 증류수를 담은 반응기를 넣고 도데실트리메틸암모늄 브롬을 4 g 첨가하여 교반시켜 미셀을 형성시켰다. 3 g의 데실알콜을 공동계면활성제로서 반응에 도입한 후에, 1 g의 피롤 단량체를 피펫을 사용하여 천천히 적가하였다. 5.6 g의 염화철(III)을 소량의 증류수에 녹인 후, 반응 용기에 첨가하였다. 3 ℃에서 2 시간 정도 교반하며 중합을 진행 시킨 후, 과량의 에탄올을 이용한 세척 과정을 통해서 철(Fe)이 도핑된 고분자 나노입자를 회수하였다.(도면 1) 제조된 나노입자를 탄화로로 옮긴 후, 질소 분위기 하에서 3 ℃/min의 승온 속도로 850 ℃까지 승온하였다. 850 ℃에서 3 시간 동안 유지시킨 후, 자연냉각하여 탄소 나노입자를 얻었다. 전자현미경을 이용하여 분석한 결과, 50 nm 직경의 균일한 자성 탄소 나노입자가 얻어진 것을 관찰하였다. 광전자 분광기(XPS, X-ray Photoelectron Spectrometer)를 통해서 생성된 탄소가 질소를 함유하고 있음을 확인하였다(C1 분석을 통한 C-N 결합(290.9 eV) 확인, N1 분석을 통한 pyridininc-N (398.5 eV) pyrrolic-N (400.55 eV) 결합 확인)(도면 2). 스퀴드 자력측정기를 이용하여 자성을 검사한 결과, 상온에서도 45.7 에르스텟(Oe)의 보자력(coercivity)을 갖는 강자성(ferromagnetism)을 띈다는 것을 확인할 수 있었다(도면 3).
[실시예 2]
실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 자성 탄소 나노입자를 제조하였다. 자성 탄소 나노입자의 대량생산 가능성을 확인하기 위해서 1 L의 증류수, 47.5 g의 도데실트리메틸암모늄 브롬, 37.5 g의 데실알콜, 12.5 g의 피롤 및 70.1 g의 염화철(III)을 사용했다.
전자현미경을 이용하여 분석한 결과, 50 nm 직경의 균일한 자성 탄소 나노입 자가 얻어진 것을 관찰하였다. 광전자 분광기(XPS, X-ray Photoelectron Spectrometer)를 통해서 생성된 탄소가 질소를 함유하고 있음을 확인하였다(C1 분석을 통한 C-N 결합(290.9 eV) 확인, N1 분석을 통한 pyridininc-N (398.5 eV) pyrrolic-N (400.55 eV) 결합 확인). 스퀴드 자력측정기를 이용하여 자성을 검사한 결과, 상온에서도 42.3 에르스텟(Oe)의 보자력을 갖는 강자성을 띈다는 것을 확인할 수 있었다.
[실시예 3]
실시예 1과 동일한 방법을 이용하되, 750 ℃의 탄화온도에서 자성 탄소 나노입자를 제조하였다.
전자현미경을 이용하여 분석한 결과, 50 nm 직경의 자성 탄소나노입자가 얻어진 것을 확인하였다. 광전자 분광기(XPS, X-ray Photoelectron Spectrometer)를 통해서 생성된 탄소가 질소를 함유하고 있음을 확인하였다(C1 분석을 통한 C-N 결합(290.9 eV) 확인, N1 분석을 통한 pyridininc-N (398.5 eV) pyrrolic-N (400.55 eV) 결합 확인). 스퀴드 자력측정기를 이용하여 자성을 검사한 결과, 상온에서도 34.2 에르스텟(Oe)의 보자력을 갖는 강자성을 띈다는 것을 확인할 수 있었다.
[실시예 4]
실시예 1과 동일한 방법을 이용하되, 2.4 g의 데실알콜을 사용하여 자성 탄소 나노입자를 제조하였다.
전자현미경을 이용하여 분석한 결과, 35 nm 직경의 자성 탄소 나노입자가 얻어진 것을 확인하였다. 광전자 분광기(XPS, X-ray Photoelectron Spectrometer)를 통해서 생성된 탄소가 질소를 함유하고 있음을 확인하였다(C1 분석을 통한 C-N 결합(290.9 eV) 확인, N1 분석을 통한 pyridininc-N (398.5 eV) pyrrolic-N (400.55 eV) 결합 확인). 스퀴드 자력측정기를 이용하여 자성을 검사한 결과, 상온에서도 37.8 에르스텟(Oe)의 보자력을 갖는 강자성을 띈다는 것을 확인할 수 있었다.
[실시예 5]
상기 실시예 1에서 제시된 방법에 따라서 제조된 질소가 포함된 자성 탄소나노입자 0.5 g 를 통해 200 ppm 의 수은 용액 20 ml 를 흘리고, 필터를 거쳐 나온 용액을 유도결합플라즈마 (Inductively Coupled Plasma, ICP) 를 통해 수은 이온을 검출하였을 시, 0.1 ppm 의 수은 이온의 농도를 확인하였다. 0.2 ppm 이하의 중금속 이온 용액은 식품의약품안정청에서 규정한 중금속 이온의 허용 농도이며, 수은 이온의 성공적인 제거를 추가적으로 확인하기 위하여 미량의 수은 이온의 존재 시에도, 핑크색에서 녹색으로 색이 변하는 물질인 5, 10, 15, 20-tetraphenylporphine- tetra sulfonic acid (TPPS) 를 이용하여, 필터를 거친 용액이 핑크색임을 볼 수 있었으며, 수은 이온이 질소가 포함된 자성 탄소나노입자를 통해서 성공적으로 제거되었음을 확인할 수 있었다.
[실시예 6]
상기 실시예 2 에서 제조된 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 이용하여 상기 실시예 5 와 마찬가지의 방법을 이용하여 20 ppm 의 납 용액 20 ml 를 흘렸을 때, 용액의 납 이온의 농도가 0.1 ppm 인 것을 확인할 수 있었다.
본 발명에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범 주 내에서 다양한 응용 및 변형을 가하는 것이 가능할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에서 제조된 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자의 주사전자현미경(scanning electron microscopy) 사진이고;
도 2는 본 발명의 실시예 1에서 제조된 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 광전자 분광기(XPS, X-ray Photoelectron Spectrometer)를 통해 측정된 C1(가), N1(나) 결합에너지 분석 그래프이며;
도 3은 본 발명의 실시예 1에서 제조된 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 스퀴드 자력측정기에 의해 측정된 히스테리시스(hysteresis) 곡선이다.

Claims (6)

  1. (A) 질소를 함유한 고분자 단량체를 마이크로에멀젼 중합을 이용하여 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자를 제조하는 단계;
    (B) 상기 중합된 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자를 반응물에서 분리하여 건조 및 수거하는 단계; 및
    (C) 상기 건조가 완료된 나노미터 크기의 구형 고분자 나노입자를 탄화과정을 거쳐 질소를 포함한 자성 탄소나노입자를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, 도입되는 고분자의 단량체의 경우 질소를 포함하고 있으며, 탄화 공정을 통해서 탄소물질로 변화가 가능한 탄소 전구체로 사용이 가능한 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리로다닌인 것을 특징으로 하는 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서, 마이크로에멀젼 중합시 사용되는 계면활성제가 양이온, 음이온 및 비이온 계면활성제인 것을 특징으로 하는 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조 방법.
  4. 제 1항에 있어서, 마이크로에멀젼 중합을 이용하여 금속 이온이 도핑된 고분자 나노입자를 제조 할때 사용하는 금속염이 염화철(III), 염화철(III) 수화물, 황산철(III)중 하나인 것을 특징으로 하는 질소를 포함한 자성 탄소나노입자의 제조 방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 탄화과정 시, 탄화과정의 온도가 500 ℃에서 1000 ℃인 것을 특징으로 하는 질소를 포함한 자성 탄소 나노입자의 제조방법.
  6. 삭제
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