KR101156635B1 - 제올라이트 멤브레인을 이용한 정전용량형 ｍｅｍｓ 마이크로폰 및 그 제조 방법 - Google Patents

Abstract

기계적 강도가 우수하면서도 다공성 구조를 가져 내부 응력을 조절하기 쉬운 제올라이트 진동판을 채택해 감도 조절이 용이한 정전용량형 MEMS 마이크로폰 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 정전용량형 MEMS 마이크로폰은 관통홀이 형성된 기판, 상기 관통홀을 덮도록 상기 기판 상에 형성된 제올라이트 진동판, 상기 제올라이트 진동판 상에 형성된 하부 전극, 및 상기 기판에 지지되어 상기 하부 전극 위로 부상되며 복수의 공기유입구를 가지는 상부 전극을 포함한다.

Description

제올라이트 멤브레인을 이용한 정전용량형 ＭＥＭＳ 마이크로폰 및 그 제조 방법 {Capacitance type MEMS microphones using zeolite membrane and method for manufacturing the same}

본 발명은 정전용량형 MEMS(Micro Electro Mechanical System) 마이크로폰 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 방법에 관한 것이다.

전기 통신의 급속한 발전에 따라 음성을 전기적인 신호로 변환하는 마이크로폰은 점점 소형화되어 가고 있다. 최근 들어 미세 장치의 집적화를 위해 사용되는 기술로서 마이크로 머시닝을 이용한 반도체 가공기술이 있다. MEMS라고 불리는 이러한 기술은 반도체 공정 특히 집적회로 기술을 응용한 마이크로머시닝 기술을 이용하여 ㎛ 단위의 초소형 센서나 액츄에이터 및 전기기계적 구조물을 제조할 수 있다. 이러한 마이크로머시닝 기술을 이용하여 제조하는 MEMS 마이크로폰은 초정밀 미세 가공을 통하여 소형화, 고성능화, 다기능화, 집적화가 가능하며, 안정성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.

MEMS 마이크로폰에 관한 연구는 주로 압전형(piezo-type) 및 콘덴서형(condenser-type)으로 나뉘어 이루어지고 있다.

압전형은 압전 물질에 물리적 압력이 가해지는 경우, 압전 물질 양단에 전위차가 발생되는 피에조 효과를 이용하는 것으로, 음성 신호의 압력에 따라 전기적 신호로 변환시키지만 낮은 대역 및 음성대역 주파수 특성이 균일하지 않아 응용 범위에 많은 제한이 있다.

콘덴서형은 정전용량형이라고도 불리는데, 두 전극을 마주 보게 한 콘덴서의 원리를 응용하는 것으로, 마이크로폰의 한 전극은 고정되고 다른 한 전극은 진동판에 형성된다. 진동판에 전달되는 음향으로 인해 진동판에 형성된 전극과 고정 전극간의 거리가 변화하며 그로 인해 진동판에 형성된 전극과 고정 전극간의 정전용량이 변하게 되어 축적 전하가 변하고 그에 따라 전류가 흐르는 방식으로, 안정성과 주파수 특성이 우수하다는 장점을 가진다.

음성 대역의 우수한 주파수 응답 특성 때문에 MEMS 마이크로폰은 대부분 콘덴서형이 사용되어 왔다. MEMS 마이크로폰의 진동판으로 사용되는 물질은 열이나 습도같은 외부 환경에 안정적이며 두께에 비해 기계적 강도가 우수하고 내부 응력을 조절하기 쉬운 물질이어야 한다. 또한 MEMS 공정을 통해 제조되므로 반도체 및 유사 공정에 적용 가능하여야 하며 이를 위해서는 화학적, 열적으로도 안정해야 한다. 또한 진동판이 다공성 구조여야 음압에 의해 진동판이 위아래로 움직일 때 복원력이 좋아지며 공극률(porosity) 정도에 따라 기계적 강도 및 응력이 조절 가능하므로 마이크로폰의 감도를 조절할 수 있게 된다.

그런데, 기존에 진동판으로 사용되는 물질은 폴리실리콘 또는 실리콘 질화막 등이다. 이러한 물질은 저압화학기상증착(LPCVD) 방법을 이용하여 증착하게 되는데 공정 특성상 형성된 막이 다공성 구조를 형성하지 않으며 두께가 너무 얇게 되면 기계적 강도가 떨어지는 단점이 있다.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 기계적 강도가 우수하면서도 다공성 구조를 가져 내부 응력을 조절하기 쉬운 진동판을 채택해 감도 조절이 용이한 정전용량형 MEMS 마이크로폰 및 그 제조 방법을 제공하는 데에 있다.

상기의 기술적 과제를 해결하기 위한, 본 발명에 따른 정전용량형 MEMS 마이크로폰은 관통홀이 형성된 기판, 상기 관통홀을 덮도록 상기 기판 상에 형성된 제올라이트 진동판, 상기 제올라이트 진동판 상에 형성된 하부 전극, 및 상기 기판에 지지되어 상기 하부 전극 위로 부상되며 복수의 공기유입구를 가지는 상부 전극을 포함한다.

본 발명에 따른 정전용량형 MEMS 마이크로폰 제조 방법에서는 기판 상에 제올라이트 진동판을 형성한 다음, 상기 제올라이트 진동판 상에 하부 전극을 형성한다. 상기 기판에 지지되어 상기 하부 전극 위로 부상된 상부 전극을 형성하고, 상기 기판 바닥 일부를 식각하여 관통홀을 형성함으로써 상기 제올라이트 진동판을 상기 기판으로부터 릴리즈(release)시킨다.

상기 제올라이트 진동판은 퓨어 실리카 제올라이트(pure-silica zeolite, PSZ 또는 silicalite)인 것이 바람직하다.

본 발명은 정전용량형 MEMS 마이크로폰 제조에서 진동판으로 사용되는 물질로 제올라이트를 박막 형태로 형성하여 사용하는 것으로, 기계적 강도가 높고 화학적, 열적 안정성이 높으며 합성 방법에 따라 응력 조절이 가능한 제올라이트의 특성을 이용하는 것이다.

제올라이트는 두께에 비해 기계적 강도가 우수하고 내부 응력을 조절하기 쉽기 때문에 MEMS 마이크로폰의 진동판으로 이용하기 매우 적합하다. 또한 다공성 구조이므로 음압에 의해 진동판이 위아래로 움직일 때 복원력이 좋아지며 공극률 정도에 따라 기계적 강도 및 응력이 조절 가능하므로 마이크로폰의 감도를 효과적으로 조절할 수 있게 된다.

뿐만 아니라, 반도체 및 유사 공정에 적용 가능한 스핀-온 공정(spin-on process) 통해 제올라이트를 형성할 수 있어 MEMS 마이크로폰 제조가 용이하다.

도 1은 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰 제조 방법을 보이는 도면이다.
도 3a는 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰 제조 방법 중 하부 전극을 보여주는 평면도이다.
도 3b는 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰 제조 방법 중 상부 전극을 보여주는 평면도이다.
도 3c는 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰 제조 방법 중 관통홀을 보여주는 평면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰 제조 방법 중 상부 전극 형성 단계를 보여주는 도면이다.

이하에서 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.

도 1은 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰의 개략적인 단면도이다.

도 1을 참조하면, MEMS 마이크로폰(10)은 관통홀(H)이 형성된 기판(100), 관통홀(H)을 덮도록 기판(100) 상에 형성된 제올라이트 진동판(110), 제올라이트 진동판(110) 상에 형성된 하부 전극(120), 및 기판(100)에 지지되어 하부 전극(120) 위로 부상되며 복수의 공기유입구(131)를 가지는 상부 전극(130)을 포함한다.

기판(100)의 상부에는 제올라이트 진동판(110)이 형성되어 있고 기판(100) 하부의 일부가 제거되어 형성된 관통홀(H)이 구비됨에 따라 제올라이트 진동판(110)의 일부 하부가 노출되며, 이 노출된 부분이 멤브레인 영역이 되어 전달되는 음향에 따라 진동하게 된다. 제올라이트 진동판(110)의 상부에는 하부 전극(120)이 형성되어 있고, 하부 전극(120)과 일정간격 이격되어 하부 전극(120)을 감싸고, 복수개의 공기유입구(131)가 형성되어 있는 상부 전극(130)이 제올라이트 진동판(110) 상부에 고정되어 있다.

외부의 음향은 MEMS 마이크로폰(10)의 상부 전극(130)에 형성된 공기유입구(131)를 통하여 제올라이트 진동판(110)을 자극시키게 되는데, 이 때 제올라이트 진동판(110) 상부에 있는 하부 전극(120)과 고정된 상부 전극(130) 사이의 간격이 변하게 되고, 결국 정전용량은 변하게 된다. 따라서, 변화된 정전용량을 신호처리용 칩(미도시)에서 전기신호로 바꾸게 되어 외부의 음향을 감지할 수 있게 된다.

도 1에 도시한 구조는 예시적인 것이며, 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰은 도 1에 도시한 것과는 다른 다양한 구조를 취할 수 있다. 어떠한 구조의 MEMS 마이크로폰이든 진동판을 제올라이트로 채택하는 것이 본 발명의 사상이다.

일반적으로 제올라이트란 미소 공극을 갖는 결정화된 알루미노규산염(crystalline aluminosilicates)을 말하며 알루미늄과 실리콘, 산소 원자로 이루어진 사면체(tetrahedron) 형태의 프레임워크(framework) 연결 구조를 띤다. 약 250년 전에 자연적으로 형성된 제올라이트가 발견된 이래로 여러 가지 합성 방법을 통해 다양한 제올라이트를 만들어 오고 있다. 많은 학자들의 연구 결과로 현재 46종의 천연 제올라이트와 200여종의 합성 제올라이트가 알려져 있다. 이들은 결정 구조, 화학 조성, 및 물리화학적 특성 면에서 서로 다르지만, 주변 조건에 따라 그 구조 내에 분자들이 쉽게 드나들 수 있을 만큼 큰 공간을 가지는 미소 공극을 가진다는 점에 공통적인 특징이 있다. 오늘날 제올라이트는 이와 같은 결정 구조상의 특징을 갖는 천연 및 합성 광물들의 군집 명칭으로서 사용된다. 제올라이트는 합성 방법에 따라 내부 공극이 존재하게 되므로 단위면적당 높은 내부 표면적(high internal surface area)을 가지며 낮은 밀도(low density), 높은 흡착력(high adsorption capacity), 열적/화학적 안정성(thermal and chemical stability), 이온 전도성(ion conductivity), 이온 교환 능력(ionic exchange capability) 등을 갖게 되므로 화학반응의 촉매(catalyst in chemical reactions), 흡착제나 이온 교환제, 선택적 분리막(selective membranes), 센서(sensor) 등에 이용되고 있다. 그러나 그 이용은 흡착제, 화학반응의 촉매, 센서의 분리막 등에 한정되어 있고 본 발명에서 제시하는 바와 같이 MEMS 소자에 이용하는 경우는 아직까지 알려진 바 없다.

본 발명은 이러한 제올라이트의 MEMS 마이크로폰의 진동판으로서의 새로운 용도에 대한 발견이다. 본 발명은 특히 합성한 제올라이트를 박막 형태로 형성한 후 멤브레인 형태로 제조하여 이를 정전용량형 MEMS 마이크로폰의 진동판으로 사용한다. 제올라이트는 단단한 결정 구조를 가지므로 기계적으로 강하며 열이나 습도같은 외부 환경에 안정적이다. 두께에 비해 기계적 강도가 우수하고 내부 응력을 조절하기 쉽기 때문에 MEMS 마이크로폰의 진동판으로 이용하기 매우 적합하다. 또한 다공성 구조이므로 음압에 의해 진동판이 위아래로 움직일 때 복원력이 좋아지며 공극률 정도에 따라 기계적 강도 및 응력이 조절 가능하므로 마이크로폰의 감도를 조절할 수 있게 된다. 제올라이트 합성 방법에 따라 제올라이트의 두께를 조절하거나 공극률을 조절하여 응력을 조절하기 용이하므로, 제올라이트는 기존에 MEMS 마이크로폰의 진동판으로 사용하던 폴리실리콘 또는 실리콘 질화막과 같은 물질을 효과적으로 대체할 수 있다.

본 발명에서는 모든 종류의 제올라이트를 제올라이트 진동판(110)으로 이용 가능하다. 특히 퓨어 실리카 제올라이트(pure-silica zeolite, PSZ 또는 silicalite)는 제올라이트 구조를 가지면서 알루미늄이 없는 물질로서 결정화된 구조를 가지면서 균일한 마이크로포어(micropore)를 갖는다. 높은 공극률, 기계적 강도, 열전도율, 열적 안정성, 소수성(hydrophobicity)등의 특징을 가지며 특히 반도체 및 유사 공정에 적용 가능한 스핀-온 공정(spin-on process) 통해 막을 형성할 수 있고 습식 식각같은 방법으로 패턴을 형성할 수 있다는 장점이 있어 현재 반도체 공정에 적합한 물질로 알려져 있다. 따라서, 퓨어 실리카 제올라이트는 본 발명에서와 같이 MEMS 마이크로폰으로 제조시 가장 바람직한 물질이다.

도 2는 본 발명에 따른 MEMS 마이크로폰 제조 방법을 보이는 도면이다.

도 2를 참조하면, 본 발명을 실시하기 위해 공정 순서에 따라 아래와 같이 설명할 수 있다.

MEMS 마이크로폰을 형성하기 위해 먼저 도 2의 (a)와 같이 기판(100)을 준비한다. 이 때 준비하는 기판(100)은 후속 공정에서 이루어질 제올라이트 진동판을 형성하기 위해 적합한 기판이어야 하며 합성 방법에 따라 보론(B)과 같은 도펀트가 도핑된 p-타입 실리콘 기판을 사용하거나 인(P)과 같은 도펀트가 도핑된 n-타입 실리콘 기판을 선택적으로 사용할 수 있다. 또한 기판의 결정면 방향(orientation)이 <100>, <110> 또는 <111>인 기판들을 선택적으로 사용할 수 있다. 또한 기판(100) 자체를 사용하여도 되고 기판(100) 위에 후속 공정에서 형성할 제올라이트의 단결정화를 위해 크롬(Cr)과 같은 금속층을 형성한 것을 이용할 수도 있다. 기판(100)으로서 바람직하게 두께가 500㎛ 내외이고 결정면 방향이 <100>이며 저항이 5-10Ωcm인 n-타입 실리콘 기판을 사용하는 것이 바람직하나, 이에 부합될 수 있는 다른 기판을 사용해도 무방하다. 그리고 이러한 기판(100)은 적절한 세정을 통해 준비된 것일 수 있다. 예를 들면, 황산(H₂SO₄)과 과산화수소(H₂O2)를 1:2로 희석한 희석액을 사용하여 기판(100)을 세정할 수 있다. 이러한 세정을 통해서 오염물질인 금속 잔류물, 유기물(metal/organic) 등이 기판(100)으로부터 제거된다.

다음, 이러한 기판(100) 상에 제올라이트 진동판(110)을 형성한다. 제올라이트 진동판(110)은 특히 퓨어 실리카 제올라이트의 막으로 형성하는 것이 바람직하다.

먼저 스핀-온 공정(spin-on process)으로 기판(100) 위에 수 백 나노미터 크기의 두께로 막을 형성한 후 이를 결정화시켜 퓨어 실리카 제올라이트의 막으로 형성하는 방법에 의할 수 있다. 기판(100)으로서 결정면 방향이 <100>인 실리콘 기판을 사용하는 경우, 이 기판 위에 형성이 가능한 b-배향(기판에 수직 방향임) 퓨어 실리카 제올라이트는 먼저 나노 파티클 형태로 합성을 하여 원심분리 등을 통해 자기조립(self assembly)된 복합물 멤브레인(composite membrane)을 얻고, 이를 적절한 용매에 분산시킨 후 스핀 코터(spin coater)를 통해 기판(100) 위에 스핀 코팅 방법으로 균일하게 도포하고 나서, 필요한 전처리, 예컨대 실릴레이션(silylation)을 통해 기판(100) 상에 결정화하는 일련의 과정을 통해 형성할 수 있다. 이와 같이 스핀-온 공정을 통해 수열(hydrothermal) 합성하는 방법을 사용하면 공극률 조절이 가능하여 기계적 강도를 조절할 수 있으며 따라서 MEMS 마이크로폰의 진동판으로 사용하기 적합한 응력을 가질 수 있도록 조절할 수 있는 장점이 있다.

스핀-온 공정 이외에 퓨어 실리카 제올라이트의 막을 형성하는 데 이용할 수 있는 방법은 제올라이트 전구체 합성 용액에 기판(100)을 담가 대류 오븐(convection oven)에 넣어 결정화하는 것이다. 예컨대 몰 조성이 0.32 TPAOH(tetrapropylammonium hydroxide)/TEOS(tetraethylorthosilicate)/165H₂O인 제올라이트 전구체 합성 용액을 제조하여 기판(100)을 담그고 이를 대류 오븐에 넣어 결정화한다. 그 후 탈이온수로 헹구고 템플릿(templete)인 테트라프로필암모늄을 하소 공정(calcination)을 통해 제거한다. 이렇게 형성된 결정화된 퓨어 실리카 제올라이트는 두께가 매우 얇은 단일 층 정도이므로 균일하고 원하는 두께가 형성될 때까지 추가 결정 성장 과정을 통해 두께를 조절하게 된다. 이렇게 형성된 퓨어 실리카 제올라이트 층 위에는 막으로 형성되지 못한 결정들이 군데군데 존재할 수 있고 약간의 표면 거칠기가 생기므로 이를 개선하기 위해 폴리싱(polishing) 공정을 실시할 수도 있다.

퓨어 실리카 제올라이트의 막을 형성하는 방법은 앞에 열거한 두 가지 방법 이외에도 합성 방법에 따라 다양하게 형성할 수 있으며, 어떠한 방법에 의하여 형성하든 자유 기립(free standing) 형태로 후속 공정에서 멤브레인으로 존재할 수 있게 하면 된다.

다음에, 제올라이트 진동판(110) 상에 하부 전극에 해당하는 금속을 증착한 후 식각하거나 리프트 오프(lift off) 공정 또는 새도우 마스크 등으로 미리 선택적인 영역에만 금속이 증착되도록 하여 하부 전극(120)을 형성한다. 이 때, 하부 전극(120)은 예컨대 도 3a에 도시한 바와 같은 평면도에 따라 제올라이트 진동판(110) 위에 형성될 수 있다. 도 3a의 IIA-IIA' 절취선이 도 2(a)에 해당한다.

하부 전극(120)은 골드(gold)막이 바람직하며 제올라이트 진동판(110)과의 접착성(adhesion)을 좋게 하기 위해 크롬(chrome)이나 타이타늄(titanium)을 먼저 증착할 수 있다. 예컨대 리프트 오프 공정을 사용할 경우, 하부 전극 패턴을 제외한 나머지 부분을 포토레지스트로 가리는 포토레지스트 패턴을 형성한 후 하부 전극으로 사용할 금속을 열 증착기(thermal evaporator)나 전자빔 증착기(electron beam evaporator)를 사용하여 증착한다. 그 후 아세톤(acetone)과 같은 유기용매를 사용하여 하부 전극 패턴을 제외한 나머지 포토레지스트 패턴을 제거함으로써 하부 전극(120)을 형성하게 된다.

도 3a에 도시한 바와 같이 하부 전극(120)은 제올라이트 진동판(110) 중심부에 그 대부분이 존재하여 실질적으로 멤브레인 영역 상에 위치한다. 하부 전극(120)의 모양은 디자인에 따라 다양하게 변경될 수 있으며, 본 실시예에서는 하부 전극(120)이 멤브레인 영역 상에서는 원형이고 멤브레인 영역 바깥쪽으로 방사상 확장되어 외부 전원과 접촉될 수 있게 사각형의 패드와 일체로 형성된 예를 도시하였다.

다음에 도 2의 (b)에서와 같이 하부 전극(120) 위로 상부 전극(130)을 형성한다. 상부 전극(120)은 음압이 들어오므로 구멍이 뚫리며 인가되는 음압에 변동이 없어야 하므로 단단하게 고정되어야 한다. 따라서, 상부 전극(130)은 기판(100)에 지지되어 하부 전극(120) 위로 부상되며 복수의 공기유입구(131)를 가지도록 형성한다. 이 때, 상부 전극(130)은 예컨대 도 3b에 도시한 바와 같은 평면도에 따라 하부 전극(120) 위로 형성될 수 있다. 도 3b의 IIB-IIB' 절취선이 도 2(b)에 해당한다.

상부 전극(130)은 본 발명에서는 전기도금 방법을 이용하여 Ni이나 Cu와 같은 금속으로 형성하며, 예컨대 도 4와 같은 단계에 따라 형성할 수 있다.

먼저 제올라이트 진동판(110)과 하부 전극(120) 위로 하부 전극(120)과 이격된 부분에 제1 요홈(150)을 갖는 제1 포토레지스트층(140)을 형성하고(도 4(a)), 제1 포토레지스트층(140)과 제1 요홈(150)을 감싸며 금속으로 이루어진 종자층(seed layer)(160)을 형성한다(도 4(b)). 종자층(160) 상부에 제2 포토레지스트층(170)을 형성하는데, 상부 전극을 기판(100)에 고정하며 하부 전극(120) 위로 부상시키기 위한 지지부를 형성하기 위한 제2 요홈(176)을 형성하고, 제1 요홈(150)과 이격된 하부 전극(120) 상측에 공기유입구들을 형성하기 위한 복수개의 작은 제3 요홈(175)을 형성한다(도 4(c)).

이어서, 제2 요홈(176)과 제3 요홈(175)에 Ni이나 Cu의 전해액을 이용해 금속층(180)을 도금한다(도 4(d)). 마지막으로, 상기 제1 및 2 포토레지스트층(140, 170)과 종자층(160)의 일부를 제거하면 복수개의 공기유입구(131)를 가지며, 복수개의 지지부에 지지되어 부상되는 상부 전극(130)이 형성된다(도 4(e)). 여기서, 공기유입구(131)는 부상된 상부 전극(130) 영역에 형성되며, 상부 전극(130)은 상부 전극(130) 내측으로 이격된 제올라이트 진동판(110) 상부의 하부 전극(120)과 콘덴서를 구성한다.

앞의 도 2(a) 공정에 의해 형성된 제올라이트 진동판(110)이 음향에 따라 진동하려면 기판(100)으로부터 릴리즈(release)되어야 하므로, 기판(100)의 바닥 일부를 식각하여 제거하는 방법을 통해 관통홀(H)을 형성하여 제올라이트 진동판(110)을 릴리즈시킨다(도 2의 (c)). 기판(100)으로서 실리콘 기판을 사용한 경우 실리콘 기판을 식각하는 방법은 클로린(chlorine) 계열이나 플로린(fluorine) 계열의 가스를 사용하는 건식 식각 방법과, KOH나 TMAH(tetramethyl ammonium hydroxide)같은 화학액을 사용하는 습식 식각 방법이 있으며, 이를 둘 다 사용할 수 있다. 기판(100)의 관통홀(H)을 통해서 노출된 제올라이트 진동판(110) 부분이 멤브레인 역할을 하게 된다. 관통홀(H)은 전극 디자인 등을 고려하여 형성하며 본 실시예에서는 예컨대 도 3c에 도시한 바와 같은 평면도에 따라 면 형태가 원형이 되도록 형성한다. 도 3c의 IIC-IIC' 절취선이 도 2(c)에 해당한다.

여기서, 제올라이트 진동판(110)을 기판(100)으로부터 릴리즈시키는 단계는 제올라이트 진동판(110)을 기판(100) 상에 형성한 직후 실시하거나, 제올라이트 진동판(110) 상에 하부 전극(120)을 형성한 다음에 실시하거나, 상부 전극(130)을 형성하는 과정 중 예컨대 도 4(d)를 참조한 단계와 도 4(e)를 참조한 단계 사이에 실시하여도 무방하다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.

Claims (6)

1. 삭제
2. 관통홀이 형성된 기판;
   상기 관통홀을 덮도록 상기 기판 상에 형성된 퓨어 실리카 제올라이트(pure-silica zeolite, PSZ 또는 silicalite) 진동판;
   상기 제올라이트 진동판 상에 형성된 하부 전극; 및
   상기 기판에 지지되어 상기 하부 전극 위로 부상되며 복수의 공기유입구를 가지는 상부 전극을 포함하는 MEMS 마이크로폰.
3. 삭제
4. 기판 상에 퓨어 실리카 제올라이트 진동판을 형성하는 단계;
   상기 제올라이트 진동판 상에 하부 전극을 형성하는 단계;
   상기 기판에 지지되어 상기 하부 전극 위로 부상된 상부 전극을 형성하는 단계; 및
   상기 기판 바닥 일부를 식각하여 관통홀을 형성함으로써 상기 제올라이트 진동판을 상기 기판으로부터 릴리즈(release)시키는 단계를 포함하는 MEMS 마이크로폰 제조 방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 제올라이트 진동판을 형성하는 단계는
   나노 파티클 형태로 합성한 퓨어 실리카 제올라이트를 용매에 분산시킨 후 상기 기판 위에 스핀 코팅 방법으로 도포하는 단계; 및
   상기 도포된 퓨어 실리카 제올라이트를 결정화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 마이크로폰 제조 방법.
6. 제4항에 있어서, 상기 제올라이트 진동판을 형성하는 단계는
   TPAOH를 함유하는 제올라이트 전구체 합성 용액에 상기 기판을 담가 열을 가해 퓨어 실리카 제올라이트를 결정화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 마이크로폰 제조 방법.

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