KR101155987B1 - 부하 매칭을 최적화하기 위한 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치 및 그 제어 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2a 내지 도 2c는 도 1에 도시된 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치에서 용량성 부하에 인가되는 출력 전압 및 출력 전류와, 인버터부로부터 출력되는 펄스 사이의 관계를 설명하는 파형도를 도시한다.
도 3은 도 1에 도시된 제어부의 구체적인 구성도를 도시한다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치에서 출력 전류의 검출 과정을 설명하는 파형도를 도시한다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치의 제어 방법을 설명하는 순서도를 도시한다.
2 : 인버터부 3 : 전류 검출용 인덕터
4 : 펄스 승압부 5 : 용량성 부하
6 : 제어부 7 : 게이트 구동부
61 : 제로크로싱 검출부 62 : 출력전류의 주기 선정부
63 : 펄스폭 기준값 산출부 64 : 펄스폭 제어 모듈
65 : 펄스폭 변조부
Claims (8)
- 상용 교류 전원으로부터의 교류 전압을 직류 전압으로 변환하는 정류부;
상기 정류부를 통해 변환된 직류 전압을 펄스 형태의 교류 전압으로 변조하는 인버터부;
트랜스포머로서 구현되며, 상기 인버터부로부터 출력되는 교류 전압의 전압 레벨을 상기 트랜스포머의 1차측 및 2차측의 권선 비율에 따라 변환하는 펄스 승압부;
피처리 대상물에 대해 플라즈마 반응을 일으키기 위하여, 상기 펄스 승압부로부터 출력되는 전압을 인가받아 플라즈마를 형성하는 용량성 부하;
상기 펄스 승압부로 입력되는 전류를 검출하는 전류 검출용 인덕터;
상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기를 이용하여, 상기 인버터부로부터 출력되는 전압의 펄스폭이 미리 정해진 범위에 포함되도록 하기 위하여, 펄스폭 기준값을 생성하고, 상기 생성된 펄스폭 기준값을 이용하여 출력 전압의 펄스폭을 조절하기 위한 게이트 구동 신호를 생성하는 제어부; 및
상기 제어부에 의해 생성된 게이트 구동 신호를 증폭시켜서 상기 인버터부로 인가하는 게이트 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 미리 정해진 범위는 상기 용량성 부하에 인가되는 출력 전압의 공진 주기의 1/2 내지 1 사이인 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 제어부는,
상기 인버터부로부터 출력되는 전압의 펄스폭이 상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기보다 작을 경우에는 상기 인버터부로부터 출력되는 전압의 펄스폭이 서서히 증가하도록 제어하고,
상기 인버터부로부터 출력되는 전압의 펄스폭이 상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기보다 클 경우에는 상기 인버터로부터 출력되는 전압의 펄스폭이 서서히 감소하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치. - 청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기는 상기 용량성 부하에 흐르는 출력 전류의 주기와 동일한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 제어부는,
상기 인버터부로부터 출력되는 교류 전압의 펄스폭과 상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기의 비교 결과에 따라, 상기 펄스폭을 증가 또는 감소시켜서 펄스폭 기준값을 계산하는 펄스폭 기준값 산출부;
상기 계산된 펄스폭 기준값을 이용하여 적용할 펄스폭을 생성하는 펄스폭 제어 모듈; 및
상기 펄스폭 제어 모듈에 의해 생성된 펄스폭을 이용하여 게이트 구동 신호를 생성하는 펄스폭 변조부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치. - 교류 전압을 직류 전압으로 변환하는 정류부; 상기 정류부를 통해 변환된 직류 전압을 펄스 형태의 교류 전압으로 변조하는 인버터부; 상기 인버터부로부터 출력되는 교류 전압의 전압 레벨을 트랜스포머의 권선 비율에 따라 변환하는 펄스 승압부; 상기 펄스 승압부로부터 출력되는 전압을 인가받아 플라즈마를 형성하는 용량성 부하; 상기 펄스 승압부로 입력되는 전류를 검출하는 전류 검출용 인덕터; 상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기를 이용하여, 펄스폭 기준값을 생성하고, 상기 생성된 펄스폭 기준값을 이용하여 출력 전압의 펄스폭을 조절하기 위한 게이트 구동 신호를 생성하는 제어부; 및 상기 제어부에 의해 생성된 게이트 구동 신호를 증폭시켜서 상기 인버터부로 인가하는 게이트 구동부를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 인버터부로부터 출력되는 교류 전압의 펄스폭과 상기 전류 검출용 인덕터에 의해 검출된 전류의 주기의 비교 결과에 따라, 상기 펄스폭을 증가 또는 감소시켜서 펄스폭 기준값을 계산하는 펄스폭 기준값 산출부; 상기 계산된 펄스폭 기준값을 이용하여 적용할 펄스폭을 생성하는 펄스폭 제어 모듈; 및 상기 펄스폭 제어 모듈에 의해 생성된 펄스폭을 이용하여 게이트 구동 신호를 생성하는 펄스폭 변조부를 포함하도록 구성된 플라즈마 생성용 전원 공급 장치의 제어 방법으로서,
(a) 가장 최종적으로 선정된 펄스폭을 현재의 펄스폭으로서 로드하는 단계;
(b) 현재의 펄스폭이 출력 전류의 1 주기 이상인지를 판단하는 단계;
(c) 상기 (b) 단계에서, 현재의 펄스폭이 출력 전류의 1 주기 이상인 것으로 판단된 경우, 펄스폭 기준값 산출부에 의해 펄스폭을 감소시켜서 펄스폭 기준값을 계산하고, 펄스폭 제어 모듈에 의해 상기 계산된 펄스폭 기준값을 이용하여 새롭게 적용할 펄스폭을 생성하고, 상기 생성된 펄스폭을 이용하여 인버터부에서의 교류 전압의 펄스폭을 결정하기 위한 게이트 구동 신호를 생성하는 단계;
(d) 상기 (b) 단계에서, 현재의 펄스폭이 출력 전류의 1 주기보다 작은 것으로 판단된 경우, 펄스폭 기준값 산출부에 의해 펄스폭을 증가시켜서 펄스폭 기준값을 계산하고, 펄스폭 제어 모듈에 의해 상기 계산된 펄스폭 기준값을 이용하여 새롭게 적용할 펄스폭을 생성하고, 상기 생성된 펄스폭을 이용하여 인버터부에서의 교류 전압의 펄스폭을 결정하기 위한 게이트 구동 신호를 생성하는 단계; 및
(e) 상기 (c) 및 (d) 단계들의 수행 후에, 새롭게 적용될 펄스폭이 출력 전류의 미리 정해진 주기인지를 판단하고, 새롭게 적용될 펄스폭이 출력 전류의 미리 정해진 주기가 아닌 경우에는 상기 (b) 단계 내지 (d) 단계를 반복하도록 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치의 제어 방법. - 청구항 6에 있어서,
상기 미리 정해진 주기는 출력 전류의 주기의 2/3인 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치의 제어 방법. - 청구항 6에 있어서,
상기 출력 전류의 주기로서, 전류 검출용 인덕터에 의해 검출되는 펄스 승압부의 입력단에 흐르는 전류의 주기가 이용되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치의 제어 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100083780A KR101155987B1 (ko) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | 부하 매칭을 최적화하기 위한 대기압 플라즈마 생성용 전원 공급 장치 및 그 제어 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120020268A KR20120020268A (ko) | 2012-03-08 |
KR101155987B1 true KR101155987B1 (ko) | 2012-06-18 |
Family
ID=46128880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101155987B1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106527299B (zh) * | 2016-06-06 | 2023-07-07 | 清华大学深圳国际研究生院 | 一种小型化触屏高压脉冲电源 |
KR101924689B1 (ko) * | 2016-07-15 | 2019-02-28 | 연세대학교 산학협력단 | 이차원 나노 물질의 처리 장치 및 방법 |
KR102136024B1 (ko) * | 2019-02-11 | 2020-07-20 | 주식회사 에이아이이 | 고전압 부싱 어셈블리 및 이를 구비하는 대기압 플라즈마 전원장치 |
KR102172868B1 (ko) * | 2019-11-07 | 2020-11-02 | 광운대학교 산학협력단 | 플라즈마 방출 다이오드 소자 |
WO2024144184A1 (ko) * | 2022-12-27 | 2024-07-04 | 주식회사 알에프피티 | 매치리스 플라즈마 소스 및 그 동작 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100791952B1 (ko) | 2006-10-02 | 2008-01-04 | 이엔테크놀로지 주식회사 | 준펄스의 특성을 가진 상압 플라즈마 발생용 전원장치 및그 제어방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100791952B1 (ko) | 2006-10-02 | 2008-01-04 | 이엔테크놀로지 주식회사 | 준펄스의 특성을 가진 상압 플라즈마 발생용 전원장치 및그 제어방법 |
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---|---|
KR20120020268A (ko) | 2012-03-08 |
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A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20100830 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
PG1501 | Laying open of application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20120518 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20120607 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20120608 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160307 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160307 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
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R401 | Registration of restoration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160607 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160607 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |