KR101154571B1 - Solar cell module and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

태양전지 모듈 및 이의 제조방법이 개시된다. 실시예에 따른 태양전지는 기판 상에 적층된 후면전극, 광 흡수층 및 전면전극층을 포함하는 태양전지 셀; 및 상기 전면전극층 상에 형성되고, 저온 소성 페이스트 조성물로 형성된 버스 바를 포함한다. 따라서, 상기 태양전지 셀 상에 저온 소성의 페이스트 조성물에 의하여 버스 바가 형성되어 면저항 및 투광성을 향상시킬 수 있다. Disclosed are a solar cell module and a method of manufacturing the same. A solar cell according to an embodiment includes a solar cell including a back electrode, a light absorbing layer, and a front electrode layer stacked on a substrate; And a bus bar formed on the front electrode layer and formed of a low temperature baking paste composition. Therefore, a bus bar is formed on the solar cell by the paste composition of low temperature baking, thereby improving sheet resistance and light transmittance.

태양전지, 버스 바 Solar cell, bus bar

Description

태양전지 모듈 및 이의 제조방법{SOLAR CELL MODULE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}SOLAR CELL MODULE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

실시예는 태양전지 모듈에 관한 것이다. An embodiment relates to a solar cell module.

광전 변환 효과를 이용하여 빛 에너지를 전기 에너지로 변환하는 태양광 발전 모듈은 지구 환경의 보전에 기여하는 무공해 에너지를 얻는 수단으로 널리 사용되고 있다.The photovoltaic module that converts light energy into electrical energy using the photoelectric conversion effect is widely used as a means of obtaining pollution-free energy that contributes to the preservation of the global environment.

태양 전지의 광전 변환 효율이 개선됨에 따라, 태양광 발전 모듈을 구비한 많은 태양광 발전 시스템이 주거 용도뿐만 아니라, 상업 건물의 외부에 설치되기에 이르렀다.As photovoltaic conversion efficiency of solar cells is improved, many solar power systems with photovoltaic modules have been installed outside of commercial buildings as well as in residential applications.

일광으로부터 전력을 발생시키는 태양 전지를 구비하는 태양광 발전 모듈로 부터 발생된 전력을 외부로 출력시키기 위해, 양 전극 및 음 전극의 기능을 하는 버스 바들이 태양광 발전 모듈에 배치된다. In order to output the power generated from the photovoltaic module having a solar cell that generates power from daylight to the outside, bus bars serving as positive and negative electrodes are disposed in the photovoltaic module.

버스 바는 솔더 금속(solder metal)을 이용한 열융착 방법에 의하여 태양전지에 부착될 수 있다.The bus bar may be attached to the solar cell by a thermal fusion method using solder metal.

이러한 버스 바는 비교적 넓은 접착 면적이 필요하여 열처리 작업이 많고, 접촉저항이 높기 때문에 태양전지의 광 기전력 특성을 저하시킬 수 있다. Such a bus bar requires a relatively large adhesive area, so that a lot of heat treatment work and high contact resistance can reduce the photovoltaic characteristics of the solar cell.

또한, 버스 바가 태양전지의 투명전극층을 통하여 그 모양이 그대로 노출되므로 미관을 해치는 요인으로 작용할 수 있다. In addition, since the shape of the bus bar is exposed through the transparent electrode layer of the solar cell as it is, it may act as a factor that damages the aesthetics.

실시예에서는 향상된 외관 및 발전효율을 가지는 태양전지 모듈 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다. Embodiments provide a solar cell module having an improved appearance and power generation efficiency and a method of manufacturing the same.

실시예에 따른 태양전지 모듈은, 기판 상에 적층된 후면전극, 광 흡수층 및 전면전극층을 포함하는 태양전지 셀; 및 상기 전면전극층 상에 형성되고, 저온 소성 페이스트 조성물로 형성된 버스 바를 포함한다. A solar cell module according to an embodiment includes a solar cell including a back electrode, a light absorbing layer, and a front electrode layer stacked on a substrate; And a bus bar formed on the front electrode layer and formed of a low temperature baking paste composition.

실시예에 따른 태양전지 모듈의 제조방법은, 기판 상에 후면전극, 광 흡수층 및 전면전극층을 포함하는 태양전지 셀을 형성하는 단계; 상기 태양전지 셀의 전면전극층과 접속되도록 저온 소성 페이스트 조성물을 코팅하여 버스 바를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 버스 바는 실버(Ag), 구리(Cu), 티타늄(Ti) 또는 이들의 합금으로 구성된 페이스트 조성물로 형성되는 것을 포함한다. A method of manufacturing a solar cell module according to an embodiment includes forming a solar cell including a back electrode, a light absorbing layer, and a front electrode layer on a substrate; Forming a bus bar by coating a low temperature baking paste composition to be connected to the front electrode layer of the solar cell, wherein the bus bar is made of silver (Ag), copper (Cu), titanium (Ti), or an alloy thereof. It is formed of a paste composition.

실시예에 따른 태양전지 모듈 및 이의 제조방법은, 태양전지 상에 저온 소성 페이스트로 형성된 버스 바가 형성될 수 있다.In the solar cell module and the method of manufacturing the same according to the embodiment, a bus bar formed of a low temperature baking paste may be formed on the solar cell.

따라서, 태양전지의 면저항 및 투광성을 향상시킬 수 있다.Therefore, the sheet resistance and light transmittance of the solar cell can be improved.

또한, 상기 버스 바가 실버 페이스트를 사용한 저온 소성공정에 의하여 형성되므로, 태양전지 셀의 전면전극의 손상을 최대한 방지할 수 있다. In addition, since the bus bar is formed by a low temperature baking process using silver paste, damage to the front electrode of the solar cell can be prevented to the maximum.

또한, 상기 버스 바와 전면전극의 밀착력 향상에 의한 접촉저항을 낮추어 태 양전지 모듈의 효율을 향상시킬 수 있다. In addition, it is possible to improve the efficiency of the solar cell module by lowering the contact resistance by improving the adhesion of the bus bar and the front electrode.

또한, 상기 버스 바가 단일층으로 형성되고, 그 형태를 조절할 수 있으므로 미관을 향상시킬 수 있다. In addition, since the bus bar is formed in a single layer, the shape of the bus bar can be adjusted, thereby improving aesthetics.

또한, 상기 버스 바는 스크린 프린팅과 같은 자동화 공정에 의하여 생산 가능하므로 생산성을 향상시킬 수 있다. In addition, the bus bar can be produced by an automated process such as screen printing, thereby improving productivity.

실시 예의 설명에 있어서, 각 기판, 막, 전극, 홈, 층 또는 바 등이 각 기판, 막, 전극, 홈, 층 또는 바 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여(indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.In the description of the embodiment, each substrate, film, electrode, groove, layer or bar is formed on or under the substrate, film, electrode, groove, layer or bar. In the case of what is described as being to be taken, "on" and "under" include both being formed "directly" or "indirectly" through other components. In addition, the upper or lower reference of each component is described with reference to the drawings. The size of each component in the drawings may be exaggerated for the sake of explanation and does not mean the size actually applied.

도 1은 실시예에 따른 태양전지 모듈을 도시한 평면도이다. 도 2는 스크린 프린팅에 사용되는 스크린 메쉬를 도시한 평면도이다. 도 3은 도 1의 A-A'선에 대한 단면도이다. 1 is a plan view illustrating a solar cell module according to an embodiment. 2 is a plan view showing a screen mesh used for screen printing. 3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1.

도 1을 참조하여, 태양전지 모듈은 태양전지 어레이(10) 및 버스 바(170)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the solar cell module includes a solar cell array 10 and a bus bar 170.

상기 태양전지 어레이(10)는 CIGS계 태양전지, 실리콘 계열 태양전지, 염료감응 계열 태양전지, Ⅱ-Ⅵ 족 화합물 반도체 태양전지 또는 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도 체 태양전지 일 수 있다.The solar cell array 10 may be a CIGS-based solar cell, a silicon-based solar cell, a dye-sensitized solar cell, a II-VI compound semiconductor solar cell, or a III-V compound semiconductor solar cell.

상기 태양전지 어레이(10)는 유리기판과 같은 투명한 기판(100) 상에 배치될 수 있다. The solar cell array 10 may be disposed on a transparent substrate 100 such as a glass substrate.

상기 태양전지 어레이(10)는 복수 개의 태양전지 셀(C1,C2...Cn)을 포함한다. 상기 태양전지 셀(C1,C2...Cn)은 분리패턴(T)에 의하여 분리되어 있다. The solar cell array 10 includes a plurality of solar cells C1, C2 ... Cn. The solar cells C1, C2 ... Cn are separated by a separation pattern T.

상기 태양전지 어레이(10)는 스트라이프(stripe) 형태로 배치될 수 있다. 또한, 상기 태양전지 어레이(10)는 매트릭스(matrix) 형태 등 다양한 형태로 배치될 수 있다. The solar cell array 10 may be arranged in a stripe shape. In addition, the solar cell array 10 may be arranged in various forms such as a matrix (matrix) form.

상기 버스 바(170)는 제1 버스 바(171) 및 제2 버스 바(172)를 포함한다.The bus bar 170 includes a first bus bar 171 and a second bus bar 172.

상기 제1 버스 바(171)는 상기 태양전지 어레이(10) 중 한쪽 끝의 태양전지 셀(C1)의 상면과 접촉하고, 상기 제2 버스 바(172)는 상기 태양전지 어레이(10) 중 다른 한쪽 끝의 태양전지 셀(Cn)의 상면과 접촉할 수 있다. The first bus bar 171 contacts the top surface of the solar cell C1 at one end of the solar cell array 10, and the second bus bar 172 is the other of the solar cell arrays 10. It may be in contact with the top surface of the solar cell (Cn) of one end.

상기 버스 바(170)는 상기 태양전지 셀(C1)과 접하도록 형성되고, 상기 기판(100)에 형성된 홀(180)을 통해서 상기 기판(100) 후면의 정션 박스(미도시)와 연결될 수 있다. The bus bar 170 may be formed to be in contact with the solar cell C1 and may be connected to a junction box (not shown) on the rear surface of the substrate 100 through a hole 180 formed in the substrate 100. .

상기 버스 바(170)는 도전체이며, 저온 소성 페이스트(metal paste)일 수 있다. 즉, 상기 버스 바(170)는 100~150℃에서 소성 가능한 페이스트 조성물 일 수 있다.The bus bar 170 may be a conductor, and may be a low-temperature baking paste. That is, the bus bar 170 may be a paste composition capable of baking at 100 to 150 ° C.

상기 버스 바(170)의 비저항은 두께 5~15㎛이고, 너비 1~4mm 기준 하에서 3 ×10-6~ 5×10-6Ω㎝ 이하일 수 있다. The specific resistance of the bus bar 170 may be 5 to 15 μm in thickness, and may be 3 × 10 −6 to 5 × 10 −6 Ωcm or less under a width of 1 to 4 mm.

예를 들어, 상기 버스 바(170)는 은(Ag)과 같은 금속일 수 있다. For example, the bus bar 170 may be a metal such as silver (Ag).

상기 버스 바(170)는 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅, 오프셋 프린팅, 실크 스크린 프린팅으로 형성될 수 있다. The bus bar 170 may be formed by screen printing, inkjet printing, offset printing, or silk screen printing.

예를 들어, 상기 페이스트 조성물을 스크린 프린팅으로 패턴을 인쇄한 후 100~150℃의 온도에서 열처리하여 상기 버스 바(170)을 형성할 수 있다. For example, after the pattern is printed on the paste composition by screen printing, the bus bar 170 may be formed by heat treatment at a temperature of 100 to 150 ° C.

구체적으로, 상기 버스 바(170)를 스크린 프린팅에 의하여 형성할 경우 도 2에 도시된 것과 같은 스크린 메쉬(200)를 사용할 수 있다. Specifically, when the bus bar 170 is formed by screen printing, the screen mesh 200 as shown in FIG. 2 may be used.

상기 스크린 메쉬(200)는 제1 개구부(210) 및 제2 개구부(220)를 포함한다. 상기 제1 및 제2 개구부(210,220)의 형태는 버스 바(170)의 형태에 따라서 다양한 형태로 패터닝 할 수 있다.The screen mesh 200 includes a first opening 210 and a second opening 220. The first and second openings 210 and 220 may be patterned in various forms according to the shape of the bus bar 170.

상기 스크린 메쉬(200)를 태양전지 어레이(10) 상에 위치시킨다. 그리고, 금속 페이스트를 상기 스크린 메쉬(200)의 제1 및 제2 개구부(210,220)에 도포한 후 롤러로 인쇄한다. The screen mesh 200 is positioned on the solar cell array 10. Then, the metal paste is applied to the first and second openings 210 and 220 of the screen mesh 200 and then printed with a roller.

이후, 적외선 장치 및 오븐과 같은 열처리 장치에서 100~150℃의 온도 및 1~30분 동안 열처리 공정을 진행하여 상기 버스 바(170)를 형성할 수 있다. Thereafter, the bus bar 170 may be formed by performing a heat treatment process at a temperature of 100 to 150 ° C. and 1 to 30 minutes in a heat treatment apparatus such as an infrared apparatus and an oven.

특히, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 열처리 공정 진행 시 상기 버스 바(170)를 이루는 금속 페이스트가 상기 전면전극층(150)의 표면으로 확산되어 접합영역(175)이 형성될 수 있다. In particular, as shown in FIG. 11, during the heat treatment process, the metal paste forming the bus bar 170 may be diffused to the surface of the front electrode layer 150 to form a junction region 175.

상기 접합영역(175)에 의하여 상기 전면전극층(150)과 상기 버스 바(170) 간의 밀착력이 향상될 수 있다. The adhesion between the front electrode layer 150 and the bus bar 170 may be improved by the junction region 175.

상기 버스 바(170)가 저온 소성 페이스트 조성물로 형성되어 태양전지 셀과 밀착력을 향상에 의한 접촉저항(Contact Resistance)을 감소시킬 수 있다. The bus bar 170 may be formed of a low temperature baking paste composition to reduce contact resistance by improving adhesion to the solar cell.

상기 버스 바(170)는 저온에서 형성되므로 상기 태양전지 셀의 손상을 방지하고 투광성을 향상시킬 수 있다. The bus bar 170 is formed at a low temperature, thereby preventing damage to the solar cell and improving light transmittance.

상기 버스 바(170)는 스크린 프린팅과 같은 자동화 공정에 의하여 형성되므로 생산성을 향상시킬 수 있다. The bus bar 170 is formed by an automated process such as screen printing, thereby improving productivity.

상기 버스 바(170)는 스크린 프린팅에 의하여 선택적인 영역에만 형성되므로 미관을 향상시킬 수 있다.The bus bar 170 may be formed only in a selective region by screen printing, thereby improving aesthetics.

상기 버스 바(170)는 단일층으로 형성되고 박막화되어, 태양전지 모듈의 미관을 향상시킬 수 있다.The bus bar 170 may be formed as a single layer and thinned to improve aesthetics of the solar cell module.

도 3은 도 1의 A-A'선 단면도로서, 태양전지 셀의 구조를 도시하고 있다.3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1, illustrating the structure of a solar cell.

도 3을 참조하여, 상기 태양전지 셀(C1)은 기판 상에 형성된 후면전극(110), 광 흡수층(120), 버퍼층(130), 고저항 버퍼층(140), 전면전극(150), 접속배선(160) 및 버스 바(170)를 포함한다. Referring to FIG. 3, the solar cell C1 includes a back electrode 110, a light absorbing layer 120, a buffer layer 130, a high resistance buffer layer 140, a front electrode 150, and a connection wiring formed on a substrate. 160 and bus bar 170.

상기 기판(100)은 플레이트 형상을 가지며, 절연체 일 수 있다. The substrate 100 has a plate shape and may be an insulator.

상기 후면전극(110)은 상기 기판(100) 상에 배치된다. 상기 후면전극(110)은 금속등의 도전체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 후면전극은 몰리브덴(Mo)등의 금속일 수 있다. The back electrode 110 is disposed on the substrate 100. The back electrode 110 may be formed of a conductor such as metal. For example, the back electrode may be a metal such as molybdenum (Mo).

또한, 상기 후면전극(110)은 두 개 이상의 층들을 포함할 수 있다. 이때 각각의 층들은 서로 다른 물질로 형성될 수 있다. In addition, the back electrode 110 may include two or more layers. In this case, each layer may be formed of a different material.

상기 광 흡수층(120)은 상기 후면전극(110) 상에 배치된다. The light absorbing layer 120 is disposed on the back electrode 110.

상기 광 흡수층(120)은 Ⅰb-Ⅲb-Ⅵb계 화합물을 포함한다. The light absorbing layer 120 includes an Ib-IIIb-VIb-based compound.

예를 들어, 상기 광 흡수층(120)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In, Ga)Se2, CIGS계) 화합물, 구리-인듐-셀레나이드계(CuInSe2, CIS계) 화합물 또는 구리-갈륨-셀레나이드계(CuGaSe2, CGS계) 화합물을 포함할 수 있다. For example, the light absorbing layer 120 is a copper-indium-gallium-selenide-based (Cu (In, Ga) Se 2 , CIGS-based) compound, a copper-indium-selenide-based (CuInSe 2 , CIS-based) compound Or a copper-gallium-selenide-based (CuGaSe 2 , CGS-based) compound.

상기 버퍼층(130)은 상기 광 흡수층(120) 상에 배치된다. 상기 버퍼층(130)은 황화 카드뮴(CdS)일 수 있다. The buffer layer 130 is disposed on the light absorbing layer 120. The buffer layer 130 may be cadmium sulfide (CdS).

상기 고저항 버퍼층(140)은 상기 버퍼층(130) 상에 배치된다. 상기 고저항 버퍼층(140)은 투명전극층으로 형성될 수 있다. The high resistance buffer layer 140 is disposed on the buffer layer 130. The high resistance buffer layer 140 may be formed as a transparent electrode layer.

상기 전면전극(150)은 상기 고저항 버퍼층(140) 상에 배치된다. 상기 전면전극(150)은 투명하며 도전층이다. The front electrode 150 is disposed on the high resistance buffer layer 140. The front electrode 150 is transparent and a conductive layer.

상기 전면전극(150)은 상기 광 흡수층(120)과 pn접합을 형성하는 윈도우(window)층으로서, 태양전지 전면의 투명전극 기능을 하기 때문에 광투과율이 높고 전기 전도성이 높은 물질로 형성될 수 있다. The front electrode 150 is a window layer forming a pn junction with the light absorbing layer 120. Since the front electrode 150 functions as a transparent electrode on the front of the solar cell, the front electrode 150 may be formed of a material having high light transmittance and high electrical conductivity. .

예를 들어, 상기 전면전극층(150)은 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드(Al doped ZnO:AZO) 일 수 있다. For example, the front electrode layer 150 may be aluminum doped zinc oxide (Al doped ZnO: AZO).

상기 버스 바(170)는 상기 전면전극층(150) 상에 배치된다. 상기 버스 바(170)는 태양전지 셀(C1)로부터 발생된 전력을 출력시키기 위한 전극의 역할을 한다. The bus bar 170 is disposed on the front electrode layer 150. The bus bar 170 serves as an electrode for outputting power generated from the solar cell C1.

상기 버스 바(170)는 저온 소성 가능한 페이스트 조성물 일 수 있다. The bus bar 170 may be a paste composition capable of low temperature baking.

예를 들어, 상기 버스 바(170)는 은(Ag) 일 수 있다. For example, the bus bar 170 may be silver (Ag).

상기 버스 바(170)는 스트라이프 형태를 포함하는 다양한 형태로 형성될 수 있다.The bus bar 170 may be formed in various shapes including a stripe shape.

상기 페이스트 조성물로 형성된 상기 버스 바(170)는 상기 전면전극(150)과의 밀착력이 향상되어 접촉저항을 감소시킬 수 있다. The bus bar 170 formed of the paste composition may have improved adhesion to the front electrode 150 to reduce contact resistance.

또한, 상기 전면전극(150)의 투과율 및 면저항이 향상될 수 있다. In addition, transmittance and sheet resistance of the front electrode 150 may be improved.

도 4 내지 도 11은 실시예에 따른 태양전지 모듈의 제조방법을 도시한 단면도들이다. 본 제조방법에 관한 설명은 앞서 설명한 태양전지 모둘에 대한 설명을 참고한다.4 to 11 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the solar cell module according to the embodiment. For the description of the manufacturing method refer to the description of the solar cell module described above.

도 4를 참조하여, 기판(100) 상에 후면전극층(110)이 형성된다. Referring to FIG. 4, the back electrode layer 110 is formed on the substrate 100.

상기 기판(100)은 유리(glass)가 사용될 수 있으며, 세라믹 기판, 금속 기판 또는 폴리머 기판 등도 사용될 수 있다.The substrate 100 may be glass, and a ceramic substrate, a metal substrate, or a polymer substrate may also be used.

예를 들어, 유리 기판으로는 소다라임 유리(sodalime glass) 또는 고변형점 소다유리(high strained point soda glass)를 사용할 수 있다. 금속 기판으로는 스테인레스 스틸 또는 티타늄을 포함하는 기판을 사용할 수 있다. 폴리머 기판으로는 폴리이미드(polyimide)를 사용할 수 있다. For example, soda lime glass or high strained point soda glass may be used as the glass substrate. As the metal substrate, a substrate including stainless steel or titanium may be used. As the polymer substrate, polyimide may be used.

상기 기판(100)은 투명할 수 있다. 상기 기판(100)은 리지드(rigid)하거나 플렉서블(flexible) 할 수 있다.The substrate 100 may be transparent. The substrate 100 may be rigid or flexible.

상기 후면전극층(110)은 금속 등의 도전체로 형성될 수 있다.The back electrode layer 110 may be formed of a conductor such as metal.

상기 후면전극층(110)이 금속으로 형성되므로 직렬저항 특성이 향상되어 전도도를 높일 수 있다. 예를 들어, 상기 후면전극층(110)은 약 500~1500nm의 두께를 가지며 면저항은 0.1~1 Ω/□ 이하일 수 있다. Since the back electrode layer 110 is formed of a metal, the series resistance characteristics may be improved to increase conductivity. For example, the back electrode layer 110 may have a thickness of about 500 to 1500 nm and a sheet resistance of 0.1 to 1 Ω / □ or less.

예를 들어, 상기 후면전극층(110)은 몰리브덴(Mo) 타겟을 사용하여, 스퍼터링(sputtering) 공정에 의해 형성될 수 있다. For example, the back electrode layer 110 may be formed by a sputtering process using a molybdenum (Mo) target.

이는 몰리브덴(Mo)이 가진 높은 전도도, 광 흡수층과의 오믹(ohmic) 접합, Se 분위기 하에서의 고온 안정성 때문이다. This is because of the high conductivity of molybdenum (Mo), ohmic bonding with the light absorbing layer, and high temperature stability under Se atmosphere.

상기 후면전극층(110)인 몰리브덴(Mo) 박막은 전극으로서 비저항이 낮아야 하고, 열팽창 계수의 차이로 인하여 박리현상이 일어나지 않도록 기판에의 점착성이 뛰어나야 한다. The molybdenum (Mo) thin film, which is the back electrode layer 110, must have a low specific resistance as an electrode and have excellent adhesion to a substrate so that peeling does not occur due to a difference in thermal expansion coefficient.

한편, 상기 후면전극층(110)을 형성하는 물질은 이에 한정되지 않고, 나트륨(Na) 이온이 도핑된 몰리브덴(Mo)으로 형성될 수도 있다. The material forming the back electrode layer 110 is not limited thereto, and may be formed of molybdenum (Mo) doped with sodium (Na) ions.

도면에 도시되지는 않았지만, 상기 후면전극층(110)은 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수도 있다. 상기 후면전극층(110)이 복수개의 층으로 형성될 때, 상기 후면전극층(110)을 이루는 층들은 서로 다른 물질로 형성될 수 있다. Although not shown in the drawing, the back electrode layer 110 may be formed of at least one layer. When the back electrode layer 110 is formed of a plurality of layers, the layers constituting the back electrode layer 110 may be formed of different materials.

도 5를 참조하여, 상기 후면전극층(110)에 제1 관통홈(P1)이 형성된다. Referring to FIG. 5, a first through hole P1 is formed in the back electrode layer 110.

상기 제1 관통홈(P1)은 상기 기판(100)의 상면을 선택적으로 노출시킬 수 있다. 상기 제1 관통홈(P1)에 의하여 상기 기판(100) 상에 복수 개의 후면전극(110) 이 형성된다. 즉, 상기 제1 관통홈(P1)에 의하여 각각의 셀에 대응하는 후면전극(110)이 정의된다. 예를 들어, 상기 제1 관통홈(P1)을 기준으로 일측 및 타측에 위치하는 후면전극을 각각 제1 후면전극 및 제2 후면전극이라고 지칭한다. The first through hole P1 may selectively expose the top surface of the substrate 100. A plurality of back electrodes 110 are formed on the substrate 100 by the first through holes P1. That is, the back electrode 110 corresponding to each cell is defined by the first through hole P1. For example, the rear electrodes positioned on one side and the other side of the first through groove P1 are referred to as a first rear electrode and a second rear electrode, respectively.

상기 제1 관통홈(P1)은 레이져 스크라이빙(Laser scribing)에 의해서 패터닝된다. 상기 제1 관통홈(P1)의 폭은 50~70㎛일 수 있다.The first through hole P1 is patterned by laser scribing. The first through hole P1 may have a width of about 50 μm to about 70 μm.

이러한 후면전극(110)들은 스트라이프 형태 또는 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. The back electrodes 110 may be arranged in a stripe shape or a matrix shape.

도 6을 참조하여, 상기 후면전극(110) 상에 광 흡수층(120), 버퍼층(130) 및 고저항 버퍼층(140)이 순차적으로 형성된다. 또한, 상기 광 흡수층(120)은 상기 제1 관통홈(P1)에 채워진다. Referring to FIG. 6, the light absorbing layer 120, the buffer layer 130, and the high resistance buffer layer 140 are sequentially formed on the back electrode 110. In addition, the light absorbing layer 120 is filled in the first through hole P1.

상기 광 흡수층(120)은 Ⅰb-Ⅲb-Ⅵb계 화합물을 포함한다. The light absorbing layer 120 includes an Ib-IIIb-VIb-based compound.

예를 들어, 상기 광 흡수층(120)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In, Ga)Se2, CIGS계) 화합물, 구리-인듐-셀레나이드계(CuInSe2, CIS계) 화합물 또는 구리-갈륨-셀레나이드계(CuGaSe2, CGS계) 화합물을 포함할 수 있다. For example, the light absorbing layer 120 is a copper-indium-gallium-selenide-based (Cu (In, Ga) Se 2 , CIGS-based) compound, a copper-indium-selenide-based (CuInSe 2 , CIS-based) compound Or a copper-gallium-selenide-based (CuGaSe 2 , CGS-based) compound.

상기 광 흡수층(120)을 형성하기 위해서, 구리타겟, 인듐 타겟 및 갈륨 타겟을 사용하여, 상기 후면전극(110) 상에 CIG계 금속 프리커서막(precusor)막이 형성된다. In order to form the light absorbing layer 120, a CIG-based metal precursor film is formed on the back electrode 110 using a copper target, an indium target, and a gallium target.

이후, 상기 금속 프리커서막은 셀레니제이션(selenization) 공정에 의해서 셀레늄(Se)과 반응하여 CIGS계 광 흡수층이 형성된다.Thereafter, the metal precursor film reacts with selenium (Se) by a selenization process to form a CIGS-based light absorbing layer.

또한, 상기 광 흡수층(120)은 구리(Cu), 인듐(In), 갈륨(Ga), 셀레나이드(Se)를 동시증착법(co-evaporation)에 의해 형성할 수도 있다. In addition, the light absorbing layer 120 may form copper (Cu), indium (In), gallium (Ga), selenide (Se) by co-evaporation.

예를 들어, 상기 광 흡수층(120)은 1000~2000nm의 두께로 형성될 수 있다. For example, the light absorbing layer 120 may be formed to a thickness of 1000 ~ 2000nm.

상기 광 흡수층(120)은 외부의 광을 입사받아, 전기 에너지로 변환시킨다. 상기 광 흡수층(120)은 광전효과에 의해서 광 기전력을 생성한다.The light absorbing layer 120 receives external light and converts the light into electrical energy. The light absorbing layer 120 generates photo electromotive force by the photoelectric effect.

이후, 상기 광 흡수층(120) 상에 황화 카드뮴(CdS)이 스퍼터링 공정 등에 의해서 증착되고, 상기 버퍼층(130)이 형성된다. 상기 버퍼층(130)은 10~100nm의 두께로 형성될 수 있다.Thereafter, cadmium sulfide (CdS) is deposited on the light absorbing layer 120 by a sputtering process, and the buffer layer 130 is formed. The buffer layer 130 may be formed to a thickness of 10 ~ 100nm.

이때, 상기 버퍼층(130)은 n형 반도체 층이고, 상기 광 흡수층(120)은 p형 반도체 층이다. 따라서, 상기 광 흡수층(120) 및 버퍼층(130)은 pn접합을 형성한다. In this case, the buffer layer 130 is an n-type semiconductor layer, the light absorbing layer 120 is a p-type semiconductor layer. Accordingly, the light absorbing layer 120 and the buffer layer 130 form a pn junction.

상기 버퍼층(130) 상에 징크 옥사이드(i-ZnO)가 스퍼터링 공정 등에 의해서 증착되고, 상기 고저항 버퍼층(140)이 형성된다. 상기 고저항 버퍼층(140)은 10~100nm의 두께로 형성될 수 있다.Zinc oxide (i-ZnO) is deposited on the buffer layer 130 by a sputtering process, and the high resistance buffer layer 140 is formed. The high resistance buffer layer 140 may be formed to a thickness of 10 ~ 100nm.

도 7을 참조하여, 상기 광 흡수층(120), 버퍼층(130) 및 고저항 버퍼층(140)을 관통하는 제2 관통홈(P2)이 형성된다. 상기 제2 관통홈(P2)은 제2 후면전극(110)의 일부를 노출시킬 수 있다. Referring to FIG. 7, a second through hole P2 penetrating the light absorbing layer 120, the buffer layer 130, and the high resistance buffer layer 140 is formed. The second through hole P2 may expose a portion of the second back electrode 110.

상기 제2 관통홈(P2)은 상기 제1 관통홈(P1)에 인접하여 형성될 수 있다. 상기 제2 관통홈(P2)은 팁 등의 기계적인 장치 또는 레이져 장치 등에 의해서 패터닝될 수 있다.The second through hole P2 may be formed adjacent to the first through hole P1. The second through hole P2 may be patterned by a mechanical device such as a tip or a laser device.

예를 들어, 상기 제2 관통홈(P2)의 폭은 70~90㎛ 일 수 있다. 또한, 상기 제1 관통홈(P1)과 상기 제2 관통홈(P2) 사이의 갭(G1)은 60~100㎛ 일 수 있다.For example, the width of the second through hole P2 may be 70 to 90 μm. In addition, the gap G1 between the first through hole P1 and the second through hole P2 may be 60 to 100 μm.

도 8을 참조하여, 상기 고저항 버퍼층(140) 상에 전면전극층(150)이 형성된다. 상기 제2 관통홈(P2)의 내부에도 상기 전면전극층(160)을 이루는 물질이 채워지게 되고, 접속배선(160)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 8, the front electrode layer 150 is formed on the high resistance buffer layer 140. A material forming the front electrode layer 160 may also be filled in the second through hole P2, and a connection wiring 160 may be formed.

따라서, 상기 제2 후면전극(110)과 상기 전면전극층(150)은 상기 접속배선(160)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있다. Therefore, the second rear electrode 110 and the front electrode layer 150 may be electrically connected by the connection wiring 160.

상기 전면전극층(150)은 알루미늄(Al), 알루미나(Al2O3), 마그네슘(Mg), 갈륨(Ga) 등의 불순물을 포함하는 아연계 산화물 또는 ITO(Indium Tin Oxide)로 형성될 수 있다. The front electrode layer 150 may be formed of zinc oxide or indium tin oxide (ITO) including impurities such as aluminum (Al), alumina (Al 2 O 3 ), magnesium (Mg), and gallium (Ga). .

예를 들어, 상기 전면전극층(150)은 스퍼터링 공정을 진행하여 알루미늄 또는 알루미나로 도핑된 산화 아연으로 형성하여, 낮은 저항값을 갖는 전극을 형성할 수 있다. For example, the front electrode layer 150 may be formed of zinc oxide doped with aluminum or alumina by a sputtering process to form an electrode having a low resistance value.

즉, 상기 전면전극층(150)은 상기 광 흡수층(120)과 pn접합을 형성하는 윈도우(window)층으로서, 태양전지 전면의 투명전극 기능을 하기 때문에 광투과율이 높고 전기 전도성이 높은 산화 아연(ZnO)으로 형성된다. That is, the front electrode layer 150 is a window layer that forms a pn junction with the light absorbing layer 120. Since the front electrode layer functions as a transparent electrode on the front of the solar cell, zinc oxide (ZnO) having high light transmittance and high electrical conductivity is provided. Is formed.

예를 들어, 상기 전면전극층(150)은 약 100~1000nm의 두께로 형성될 수 있다. 또한, 상기 전면전극층(150)은 약 10~30 Ω/□의 면저항을 가지고 있으며,80~90%의 투광도를 가질 수 있다. For example, the front electrode layer 150 may be formed to a thickness of about 100 ~ 1000nm. In addition, the front electrode layer 150 has a sheet resistance of about 10 to 30 Ω / □, and may have a light transmittance of 80 to 90%.

도 9를 참조하여, 상기 전면전극층(150), 고저항 버퍼층(140), 버퍼층(130) 및 광 흡수층(120)을 관통하는 제3 관통홈(P3)이 형성된다. 상기 제3 관통홈(P3)은 상기 제2 후면전극(110)의 일부를 노출시킬 수 있다. 9, a third through hole P3 penetrating the front electrode layer 150, the high resistance buffer layer 140, the buffer layer 130, and the light absorbing layer 120 is formed. The third through hole P3 may expose a portion of the second back electrode 110.

상기 제3 관통홈(P3)은 상기 제2 관통홈(P2)에 인접하여 형성될 수 있다. 상기 제3 관통홈(P3)은 기계적인 장치 또는 레이져 장치 등에 의해서 패터닝 될 수 있다.The third through hole P3 may be formed adjacent to the second through hole P2. The third through hole P3 may be patterned by a mechanical device or a laser device.

예를 들어, 상기 제3 관통홈(P3)의 폭은 70~90㎛ 일 수 있다. 또한, 상기 제2 관통홈(P2)과 상기 제3 관통홈(P3) 사이의 갭(G2)은 60~100㎛ 일 수 있다.For example, the width of the third through hole P3 may be 70 to 90 μm. In addition, the gap G2 between the second through hole P2 and the third through hole P3 may be 60 to 100 μm.

즉, 상기 전면전극층(150)은 패터닝되어, 다수개의 전면전극 및 다수 개의 셀(C1,C2)들을 정의할 수 있다. That is, the front electrode layer 150 may be patterned to define a plurality of front electrodes and a plurality of cells C1 and C2.

도 10을 참조하여, 상기 전면전극(150) 상에 버스 바(170)가 형성된다. Referring to FIG. 10, a bus bar 170 is formed on the front electrode 150.

상기 버스 바(170)는 저온 소성 페이스트 조성물로 형성될 수 있다. The bus bar 170 may be formed of a low temperature baking paste composition.

예를 들어, 상기 버스 바(170)는 100~150℃에서 저온 소성 가능한 금속 페이스트(metal paste)로 형성될 수 있다. 상기 버스 바(170)는 은(Ag), 구리(Cu), 티타늄(Ti) 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다. For example, the bus bar 170 may be formed of a metal paste capable of low temperature baking at 100 to 150 ° C. The bus bar 170 may be formed of silver (Ag), copper (Cu), titanium (Ti), or an alloy thereof.

상기 버스 바(170)를 형성할 때, 상기 전면전극(150)을 이루는 물질인 알루미늄이 도핑된 산화아연(Al doped ZnO)이 재결정화 될 수 있다. 이에 따라, 상기 전면전극(150)의 면저항 및 투과율을 향상시킬 수 있다.When the bus bar 170 is formed, aluminum doped zinc oxide (Al doped ZnO), which is a material constituting the front electrode 150, may be recrystallized. Accordingly, the sheet resistance and transmittance of the front electrode 150 can be improved.

또한, 열처리 공정 시 상기 버스 바(170)를 이루는 금속 페이스트가 상기 전면전극층(150)으로 확산되고 접합영역(175)이 형성될 수 있다. In addition, during the heat treatment process, the metal paste forming the bus bar 170 may be diffused into the front electrode layer 150 to form a junction region 175.

예를 들어, 상기 버스 바(170)는 1~10㎛ 두께, 1-4㎜ 너비에서 5×10-6Ω㎝의 비저항을 가질 수 있다. For example, the bus bar 170 may have a resistivity of 5 × 10 −6 Ωcm at a thickness of 1 to 10 μm and a width of 1 to 4 mm.

일 예로, 스크린 프린팅 공정에 의하여 상기 버스 바(170)를 형성하는 공정은 다음과 같다.As an example, a process of forming the bus bar 170 by a screen printing process is as follows.

먼저, 상기 버스 바(170)를 형성을 위한 저온 소성 페이스트 조성물이 형성된다. First, a low temperature baking paste composition for forming the bus bar 170 is formed.

페이스트 조성물을 얻기 위하여 도전입자인 실버(silver) 분말과 PbO-SiO2계, PbO-SiO2-B2O3계, ZnO-SiO2계, ZnO-B2O3-SiO2계 또는 Bi2O3-B2O3-ZnO-SiO2계 유리분말, 바인더 폴리머 및 솔벤트가 혼합된 유기 비히클을 제조한다. 한편, 도전입자로 사용되는 물질의 예로서는 은, 구리, 티타늄 및 이들의 합금을 들 수 있다. Silver powder and PbO-SiO 2 based, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 based, ZnO-SiO 2 based, ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 based or Bi 2 to obtain a paste composition An organic vehicle is prepared in which an O 3 -B 2 O 3 -ZnO-SiO 2 -based glass powder, a binder polymer, and a solvent are mixed. On the other hand, examples of the material used for the conductive particles include silver, copper, titanium and alloys thereof.

상기 실버분말을 유리분말(frit), 용매인 비이클(vehicle)과 함께 혼합하여 도전성 페이스트의 재료로 사용할 수 있다. 이때 각각의 조성비는 50 내지 85wt%의 실버 분말, 1 내지 20wt%의 유리분말 및 10 내지 48wt%인 비이클이 혼합될 수 있다. The silver powder may be mixed with a glass powder and a vehicle, which is a solvent, to be used as a conductive paste material. In this case, each composition ratio may be 50 to 85wt% silver powder, 1 to 20wt% glass powder and 10 to 48wt% vehicle.

상기 페이스트 조성물은 스크린 프린팅법에 의해 상기 전면전극(150) 상에 프린팅 될 수 있다. 즉, 상기 전면전극(150) 상에 스크린 메쉬(Screen mesh)를 위치시키고 상기 페이스트 조성물을 도포한 후 롤러로 인쇄한다. 이때, 상기 페이스트 조성물은 약 5~50um의 두께로 일정한 압력 및 속도로 프린팅된다.The paste composition may be printed on the front electrode 150 by screen printing. That is, a screen mesh is placed on the front electrode 150, the paste composition is applied, and then printed with a roller. At this time, the paste composition is printed at a constant pressure and speed to a thickness of about 5 ~ 50um.

상기 페이스트 조성물의 비이클 제거를 위해 80 내지 200℃에서 건조되고, 상기 버스 바(170)을 형성할 수 있다. In order to remove the vehicle of the paste composition, the paste may be dried at 80 to 200 ° C. to form the bus bar 170.

상기 버스 바(170)는 저온 소성 페이스트 조성물을 사용한 저온공정에 의하여 형성되므로, 상기 전면전극(150)의 손상을 최대한 방지할 수 있다. Since the bus bar 170 is formed by a low temperature process using a low temperature baking paste composition, damage to the front electrode 150 may be prevented as much as possible.

도 11을 참조하여, 상기 버스 바(170)는 열처리 공정에 의하여 금속물질이 상기 전면전극(150)으로 확산되어 접합영역(175)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 11, in the bus bar 170, a metal material may be diffused into the front electrode 150 by a heat treatment process to form a junction region 175.

따라서, 상기 전면전극(150)과 버스 바(170) 간의 밀착력이 확보되어 더욱 우수한 특성을 확보할 수 있다. Therefore, adhesion between the front electrode 150 and the bus bar 170 may be secured, thereby ensuring more excellent characteristics.

저온 열처리 공정에 의하여 상기 버스 바(170)와 상기 전면전극(150)의 면저항 및 투과율이 향상될 수 있다. By the low temperature heat treatment process, the sheet resistance and transmittance of the bus bar 170 and the front electrode 150 may be improved.

또한, 상기 버스 바(170)와 전면전극(150)의 밀착력 향상에 의한 접촉저항을 낮추어 태양전지 모듈의 효율을 향상시킬 수 있다. In addition, it is possible to improve the efficiency of the solar cell module by lowering the contact resistance by improving the adhesion between the bus bar 170 and the front electrode 150.

또한, 상기 버스 바(170)가 단일층으로 형성되고, 그 형태를 조절할 수 있으므로 미관을 향상시킬 수 있다. In addition, since the bus bar 170 is formed in a single layer, its shape can be adjusted, thereby improving aesthetics.

또한, 상기 버스 바(170)는 스크린 프린팅과 같은 자동화 공정에 의하여 생산 가능하므로 생산성을 향상시킬 수 있다. In addition, the bus bar 170 can be produced by an automated process such as screen printing, thereby improving productivity.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응 용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be understood that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified. And differences relating to these modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

[실험 예]Experimental Example

[표 1]은 버스 바 형성을 위한 실버 페이스트 조성물의 열처리 공정의 실험예이다.Table 1 is an experimental example of a heat treatment process of the silver paste composition for forming a bus bar.

스크린 프린팅법에 의해 실버 페이스트를 전면전극층 상에 코팅한 후 적외선 장치 또는 제1 오븐, 제2 오븐에서 각각 열처리 공정을 진행하였다. 이때, 상기 페이스트 조성물의 두께는 모두 1~10㎛로 동일하게 코팅되었다. After the silver paste was coated on the front electrode layer by the screen printing method, heat treatment was performed in an infrared device, a first oven, and a second oven, respectively. At this time, the thickness of the paste composition was all coated with the same 1 ~ 10㎛.

적외선 장치에서는 120℃에서 2~3분 동안 열처리 공정이 진행되었고, 제1 오븐에서는 150℃에서 10~20분 동안 열처리 공정이 진행되었고, 제2 오븐에서는 150℃에서 20~30분 동안 열처리 공정이 진행되었다. In the infrared device, the heat treatment process was performed at 120 ° C. for 2 to 3 minutes, the heat treatment process was performed at 150 ° C. for 10 to 20 minutes in the first oven, and the heat treatment process was performed at 150 ° C. for 20 to 30 minutes in the second oven. Progressed.

실험 예에 의하면 제2 오븐에서 형성된 버스 바의 비저항이 3×10-6Ω㎝ 로 가장 낮음을 확인할 수 있었다. According to the experimental example, it was confirmed that the specific resistance of the bus bar formed in the second oven was the lowest as 3 × 10 −6 Ωcm.

열처리 장치Heat treatment device 온도Temperature 시간time 페이스트 조성물 두께Paste composition thickness 비 저항Resistivity 적외선 장치(IR)Infrared device (IR) 120℃120 DEG C 2~3분2-3 minutes 1~10㎛1 ~ 10㎛ 5×10-6Ω㎝5 × 10 -6 Ωcm 제1 오븐(Box oven)Box oven 150℃150 ℃ 10~20분10-20 minutes 1~10㎛1 ~ 10㎛ 5×10-6Ω㎝5 × 10 -6 Ωcm 제2 오븐(Box oven)Box oven 150℃150 ℃ 20~30분20-30 minutes 1~10㎛1 ~ 10㎛ 3×10-6Ω㎝3 × 10 -6 Ωcm

도 1은 실시예에 따른 태양전지 모듈을 나타내는 평면도이다.1 is a plan view illustrating a solar cell module according to an embodiment.

도 2는 도 1에 도시된 버스 바를 형성하기 위한 스크린 메쉬의 형태를 예시한 평면도이다. FIG. 2 is a plan view illustrating the shape of a screen mesh for forming the bus bar shown in FIG. 1.

도 3은 도 1의 A-A선 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 4 내지 도 11은 실시예에 따른 태양전지 모듈의 제조공정을 나타내는 단면도이다. 4 to 11 are cross-sectional views showing a manufacturing process of the solar cell module according to the embodiment.

Claims (7)

기판 상에 적층된 후면전극, 광 흡수층, 버퍼층 및 전면전극층을 포함하는 CIGS 태양전지 셀; 및A CIGS solar cell including a back electrode, a light absorbing layer, a buffer layer and a front electrode layer stacked on a substrate; And 상기 전면전극층 상에 형성되고, 100~150℃의 저온 소성 페이스트 조성물로 형성된 버스 바;를 포함하고,And a bus bar formed on the front electrode layer and formed of a low temperature baking paste composition at 100 ° C. to 150 ° C., 상기 페이스트 조성물은 도전입자인 실버(silver) 분말과,The paste composition is a silver powder and the conductive particles, PbO-SiO2계, PbO-SiO2-B2O3계, ZnO-SiO2계, ZnO-B2O3-SiO2계 또는 Bi2O3-B2O3-ZnO-SiO2계 중 적어도 하나의 유리분말과, PbO-SiO 2 -based, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -based, ZnO-SiO 2 -based, ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -based, or Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -ZnO-SiO 2 -based At least one glass powder, 바인더 폴리머 및 솔벤트가 혼합된 유기 비히클 중 적어도 하나를 포함하는 태양전지 모듈. A solar cell module comprising at least one of an organic vehicle in which a binder polymer and a solvent are mixed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 버스 바는 실버(Ag), 구리(Cu), 티타늄(Ti) 또는 이들의 합금으로 구성된 페이스트 조성물로 형성된 태양전지 모듈.The bus bar is a solar cell module formed of a paste composition composed of silver (Ag), copper (Cu), titanium (Ti) or alloys thereof. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 버스 바는 상기 전면전극층 내부로 확산된 접합영역을 더 포함하는 태양전지 모듈. The bus bar further includes a junction region diffused into the front electrode layer. 기판 상에 후면전극, 광 흡수층, 버퍼층 및 전면전극층을 포함하는 CIGS 태양전지 셀을 형성하는 단계;Forming a CIGS solar cell including a back electrode, a light absorbing layer, a buffer layer and a front electrode layer on a substrate; 상기 태양전지 셀의 전면전극층과 접속되도록 100~150℃의 저온 소성 페이스트 조성물을 코팅하여 버스 바를 형성하는 단계를 포함하고,Coating a low temperature baking paste composition at 100 to 150 ° C. to be connected to the front electrode layer of the solar cell, thereby forming a bus bar; 상기 버스 바는 실버(Ag), 구리(Cu), 티타늄(Ti) 또는 이들의 합금으로 구성된 페이스트 조성물로 형성되며,The bus bar is formed of a paste composition composed of silver (Ag), copper (Cu), titanium (Ti), or an alloy thereof. 상기 페이스트 조성물은 도전입자인 실버(silver) 분말과, The paste composition is a silver powder and the conductive particles, PbO-SiO2계, PbO-SiO2-B2O3계, ZnO-SiO2계, ZnO-B2O3-SiO2계 또는 Bi2O3-B2O3-ZnO-SiO2계 중 적어도 하나의 유리분말과, PbO-SiO 2 -based, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -based, ZnO-SiO 2 -based, ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -based, or Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -ZnO-SiO 2 -based At least one glass powder, 바인더 폴리머 및 솔벤트가 혼합된 유기 비히클을 제조하여 얻어지는 태양전지 모듈의 제조방법. A method of manufacturing a solar cell module obtained by manufacturing an organic vehicle in which a binder polymer and a solvent are mixed. 제4항에 있어서, 5. The method of claim 4, 상기 버스 바는 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅, 오프셋 프린팅 및 실크 스크린 프린팅 방법 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 태양전지 모듈의 제조방법. The bus bar is a method of manufacturing a solar cell module is formed by any one of screen printing, inkjet printing, offset printing and silk screen printing method. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 버스 바를 형성하는 단계는, Forming the bus bar, 페이스트 조성물을 형성하는 단계;Forming a paste composition; 상기 태양전지 셀의 상부 표면에 선택적으로 페이스트 조성물을 코팅하는 단계; 및Selectively coating a paste composition on an upper surface of the solar cell; And 상기 저온 소성 물질에 대한 열처리 공정을 진행하는 단계를 포함하고, Performing a heat treatment process for the low temperature calcined material, 상기 열처리 공정은 적외선 장치(IR) 또는 오븐(oven) 사용하여 100~150℃의 온도에서 1~30분 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 모듈의 제조방법.The heat treatment process is a method of manufacturing a solar cell module, characterized in that for 1 to 30 minutes at a temperature of 100 ~ 150 ℃ using an infrared apparatus (IR) or oven (oven). 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 열처리 공정 시 상기 페이스트 조성물이 상기 전면전극층으로 확산되어 접합영역이 형성되는 것을 더 포함하는 태양전지 모듈의 제조방법. The paste composition is a method of manufacturing a solar cell module further comprises forming a junction region by the paste composition to the front electrode layer during the heat treatment step.
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