KR101128669B1 - Touch panel sensor including low resistant line pattern - Google Patents

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Abstract

디스플레이 상에 놓여 대상체의 접촉 위치를 감지하는 터치패널센서는, 투명 절연기판, 투명 절연기판의 일면에서 투명 도전성 재질로 형성되어 나란하게 제공되는 제1 전극패턴, 및 역시 투명 절연기판 상 같은 일면에서 제1 전극패턴과 교차하도록 나란하게 형성되되 제1 전극패턴과 전기적으로 분리되고, 제1 전극패턴과 이격되어 제공되는 복수의 투명 연결부 및 일련의 복수의 투명 연결부 전체를 전기적으로 연결하는 저저항 라인을 포함하는 제2 전극패턴을 포함한다. 상기 터치패널센서는 적층된 제1 전극패턴 일부와 저저항 라인, 그리고 그 주변의 전극패턴을 이용하여 대상체의 접근에 따른 정전용량의 변화를 감지할 수 있으며, 이를 이용하여 대상체의 접촉 위치를 민감하게 감지할 수 있다.The touch panel sensor which is placed on the display and senses a contact position of the object may include a transparent insulating substrate, a first electrode pattern formed side by side with a transparent conductive material on one surface of the transparent insulating substrate, and on the same surface on the transparent insulating substrate. Low resistance lines which are formed in parallel to intersect the first electrode pattern, are electrically separated from the first electrode pattern, and electrically connect the plurality of transparent connecting portions provided apart from the first electrode pattern and the entire series of the plurality of transparent connecting portions. It includes a second electrode pattern comprising a. The touch panel sensor may detect a change in capacitance according to the approach of the object by using a part of the stacked first electrode pattern, a low resistance line, and an electrode pattern around the touch panel sensor, and sense the touch position of the object by using the touch panel sensor. Can be detected.

Description

저저항 라인을 포함하는 터치패널센서{TOUCH PANEL SENSOR INCLUDING LOW RESISTANT LINE PATTERN}TOUCH PANEL SENSOR INCLUDING LOW RESISTANT LINE PATTERN}

본 발명은 터치패널센서에 관한 것으로서, 보다 자세하게는, 정전용량의 변화를 이용하여 대상체의 접촉 위치를 감지할 수 있는 터치패널센서에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel sensor, and more particularly, to a touch panel sensor capable of detecting a contact position of an object using a change in capacitance.

도 1은 종래의 뮤츄얼 방식의 터치패널센서를 설명하기 위한 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a conventional mutual touch panel sensor.

도 1을 참조하면, 종래의 터치패널센서(1)는 하부 절연시트(10) 및 상부 절연시트(20)가 소정 간격 이격되어 접합된다. 하부 절연시트(10) 및 상부 절연시트(20)의 마주보는 면에는 각각 하부 ITO전극(30)과 상부 ITO전극(40)이 상호 수직하게 배열되어 있으며, 하부 ITO전극(30)은 하부 절연시트(10)의 상면에서 가로 방향으로 배향되어 있으며, 상부 ITO전극(40)은 상부 절연시트(20)의 저면에서 세로 방향으로 배향되어 있다.Referring to FIG. 1, the conventional touch panel sensor 1 is bonded to the lower insulating sheet 10 and the upper insulating sheet 20 at predetermined intervals. The lower ITO electrode 30 and the upper ITO electrode 40 are vertically arranged on the opposite surfaces of the lower insulating sheet 10 and the upper insulating sheet 20, and the lower ITO electrode 30 is the lower insulating sheet. The upper ITO electrode 40 is oriented in the horizontal direction on the upper surface of 10, and the upper ITO electrode 40 is oriented in the vertical direction on the bottom surface of the upper insulating sheet 20.

상술한 터치패널센서(1)는 상호 교차하도록 배치되는 하부 ITO전극(10) 및 상부 ITO전극(20)의 각 교차지점마다 각 교차지점의 면적에 대응하는 소정의 정전 용량 즉, 기본 커패시턴스 값이 존재하는데, 신체 일부가 근접하면 상부에 배치된 상부 ITO전극(20)의 면적에 신체 일부의 면적이 더해져 터치 지점에서의 커패시턴스 값이 변경될 수 있다. The touch panel sensor 1 has a predetermined capacitance, that is, a basic capacitance value, corresponding to the area of each intersection at each intersection of the lower ITO electrode 10 and the upper ITO electrode 20 arranged to cross each other. If the body part is close, the area of the body part is added to the area of the upper ITO electrode 20 disposed thereon, so that the capacitance value at the touch point may be changed.

이때, 그 폭이 하부 ITO전극(30)과 비교하여 상대적으로 좁은 상부 ITO전극(20)은 간헐적으로 전류가 제공되는 구동전극(drive line)으로 사용될 수 있으며, 하부 ITO전극(30)은 상부 ITO전극(20)으로 전류가 제공될 때, 신체 일부의 접근 유무에 의해서 변경되는 하부 ITO전극(30)과 상부 ITO전극(20)의 커패시턴스 값의 변화에 의해서 발생하는 출력 신호 즉 전류 값의 차이를 측정하는 센싱전극(sense line)으로 사용될 수 있다.In this case, the upper ITO electrode 20 whose width is relatively narrower than that of the lower ITO electrode 30 may be used as a drive line to which an electric current is intermittently provided, and the lower ITO electrode 30 may be an upper ITO electrode. When the current is supplied to the electrode 20, the difference between the output signal, that is, the current value, generated by the change in the capacitance value of the lower ITO electrode 30 and the upper ITO electrode 20, which is changed by the presence or absence of a part of the body. It can be used as a sensing line to measure.

상술한 바와 같이, 디스플레이 상부에 배치되어, 간헐적으로 전달되는 전류와 같은 입력 신호에 대응하여, 변화되는 출력 신호의 변화를 감지함으로써, 신체 일부의 접촉 위치를 감지하는 방식을 뮤츄얼(mutual) 방식 또는 뮤츄얼 커패시턴스 터치센싱(mutual capacitance touch sensing) 방식이라 한다. As described above, in response to an input signal such as an electric current intermittently transmitted over the display, a method of detecting a contact position of a part of a body by detecting a change in an output signal that is changed is a mutual method. Alternatively, it is referred to as a mutual capacitance touch sensing method.

한편, 하부 ITO전극(20)의 경우에는 그 폭이 상부 ITO전극(40)과 비교할 때, 비교적 넓기 때문에, 그 길이가 다소 길어지더라도 간헐적으로 전달되는 입력 신호 혹은 출력 신호가 충분히 외부의 제어부로 전달시킬 수 있는 저항 값을 갖도록 조절할 수 있다. 여기서, 제어부는 입력 신호를 하부 ITO전극(20) 혹은 상부 ITO전극(40) 어느 한쪽으로 입력하고, 다른 ITO전극으로 출력된 출력 신호를 이용하여 신체 일부의 접촉 위치를 감지하는 역할을 한다. On the other hand, since the width of the lower ITO electrode 20 is relatively wide compared with the upper ITO electrode 40, even if the length is slightly longer, the input signal or the output signal that is transmitted intermittently is sufficiently transferred to the external controller. It can be adjusted to have a resistance value that can be delivered. Here, the controller inputs an input signal to either the lower ITO electrode 20 or the upper ITO electrode 40, and detects a contact position of a part of the body by using an output signal output to the other ITO electrode.

다만, 상부 ITO전극(40)은 하부 ITO전극(20)보다 좁게 형성되기 때문에, 그 길이가 길어질수록 급격한 저항 값의 상승이 발생할 수 있다. 이에, 상부 ITO전극(40)을 길게 하기 어려우며, 이로 인하여 터치패널센서(1)의 전체 면적의 제한이 있을 수 있다.However, since the upper ITO electrode 40 is formed to be narrower than the lower ITO electrode 20, as the length of the upper ITO electrode 40 increases, a sudden increase in resistance may occur. As a result, it is difficult to lengthen the upper ITO electrode 40, which may limit the total area of the touch panel sensor 1.

구체적으로 설명하면, 저항 값은 면적에 반비례하고 그 길이에 비례하기 때문에, 일반적으로 면저항이 큰 ITO 혹은 IZO를 이용한 전극의 경우 전극의 폭 길이와, 전극의 연장 방향에 해당하는 길이가 동일한 비율로 증가할 경우에 유사한 저항 값을 갖게 된다. 즉, 저항 값은 저항체의 폭이 동일할 경우, 그 길이가 증가할수록 저항 값이 증가할 수 있다.Specifically, since the resistance value is inversely proportional to the area and proportional to the length, in general, in the case of an electrode using ITO or IZO having a large sheet resistance, the width length of the electrode and the length corresponding to the extension direction of the electrode are the same. Increasing will result in similar resistance values. That is, when the resistance value is the same width, the resistance value may increase as the length increases.

이러한 점을 고려하여, 종래의 터치패널센서는 하부 ITO전극(20)의 폭을 대략 5mm로 제공하고, 상부 ITO전극(40)의 폭을 300㎛ 정도가 되도록 제공하고 있다. 일반적인 휴대용 단말기에 사용되는 수 인치(inch)정도의 화면 크기를 갖는 디스플레이에 적용되는데, 이때 상부 ITO전극(40)의 경우 수백Ω 정도의 저항 값을 갖는다.In consideration of this point, the conventional touch panel sensor provides a width of the lower ITO electrode 20 to about 5 mm and a width of the upper ITO electrode 40 to be about 300 μm. It is applied to a display having a screen size of a few inches (inch) used in a general portable terminal, wherein the upper ITO electrode 40 has a resistance value of several hundred Ω.

한편, ITO의 저항을 낮추기 위해 상부 ITO전극의 두께를 증가시킬 수 있으나, 이러한 경우 투과도가 저하되는 문제점이 있다. 반대로 상부 ITO전극의 폭을 상술한 300㎛ 이하가 되도록 제조하는 경우에는, 길이 증가에 따른 저항 값이 증가하여 손가락 접촉에 의한 감도가 저하되거나 디스플레이의 크기를 증가시키기 어렵다는 문제에 봉착하게 된다.On the other hand, the thickness of the upper ITO electrode can be increased to lower the resistance of the ITO, but in this case there is a problem that the transmittance is lowered. On the contrary, when the width of the upper ITO electrode is manufactured to be 300 μm or less as described above, the resistance value according to the increase in length increases, thereby causing a problem that the sensitivity due to finger contact is reduced or the size of the display is difficult to increase.

또한, 상부 ITO전극(40)의 저항 값을 줄이기 위하여 그 폭을 넓게 하는 것은, 하부 ITO전극(20)과 상호 작용하여 발생하는 기본 커패시턴스 값을 증가시키기 때문에, 손가락이나 터치 펜에 의한 터치가 있어도 정전용량의 변화 정도가 상대적으로 적게 되고, 그 결과 터치 감도가 감소할 수도 있다는 문제점도 있다.In addition, widening the width of the upper ITO electrode 40 in order to reduce the resistance value increases the basic capacitance value generated by interacting with the lower ITO electrode 20, so that even if there is a touch by a finger or a touch pen, There is also a problem that the degree of change in capacitance is relatively small, and as a result, the touch sensitivity may decrease.

즉, 종래의 상하 모두 ITO전극으로 형성하는 경우, 상부 ITO전극의 폭을 기존 설계보다 넓게 할 수 없는 제약이 있으며, 반대로 좁게 하는 경우에도 문제가 발생한다는 문제점이 있다.That is, when the upper and lower conventional ITO electrode is formed, there is a limitation that the width of the upper ITO electrode cannot be wider than the existing design, and there is a problem that a problem occurs even when it is narrowed.

본 발명은 길이 증가에 따라 저항이 급격히 상승하는 종래 ITO전극의 문제점을 해결하여 길이 증가가 용이하고 대면적 디스플레이에도 적용될 수 있는 터치패널센서를 제공한다. The present invention solves the problem of the conventional ITO electrode in which the resistance rapidly rises as the length increases, thereby providing a touch panel sensor that can be easily increased in length and applied to a large area display.

본 발명은 하나의 기판 또는 필름 상에 서로 교차하는 2개 패턴을 함께 형성할 수 있으며, 종래의 센서보다도 얇으면서도 감도를 향상시킬 수 있는 터치패널센서를 제공한다.The present invention provides a touch panel sensor which can form two patterns crossing each other on one substrate or film together, and which can improve the sensitivity while being thinner than a conventional sensor.

본 발명은 ITO전극을 사용하더라도 금속 등을 소재로 한 저저항 라인을 이용하여 ITO전극의 도전성을 향상시킬 수 있는 터치패널센서를 제공한다.The present invention provides a touch panel sensor that can improve the conductivity of the ITO electrode by using a low resistance line made of metal or the like even when using the ITO electrode.

본 발명의 예시적인 일 실시예에 따르면, 디스플레이 상에 놓여 대상체의 접촉 위치를 감지하는 터치패널센서는, 투명 절연기판, 투명 절연기판의 일면에서 투명 도전성 재질로 형성되어 나란하게 제공되는 제1 전극패턴, 및 역시 투명 절연기판 상 같은 일면에서 제1 전극패턴과 교차하도록 나란하게 형성되되 제1 전극패턴과 전기적으로 분리되고, 제1 전극패턴과 이격되며 투명 도전성 재질로 형성된 복수의 투명 연결부 및 일련의 복수의 투명 연결부 상에 형성되는 저저항 라인을 포함하는 제2 전극패턴을 포함한다. 상기 터치패널센서는 적층된 제1 전극패턴 일부와 저저항 라인, 그리고 그 주변의 전극패턴을 이용하여 대상체의 접근에 따른 정전용량의 변화를 감지할 수 있으며, 이를 이용하여 대상체의 접촉 위치를 민감하게 감지할 수 있다. 또한, 상기 저저항 라인은 제2 전극패턴의 전체적인 저항을 감소시킬 수가 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, a touch panel sensor placed on a display and sensing a contact position of an object is formed of a transparent conductive material on one surface of a transparent insulating substrate and a transparent insulating substrate, and is provided side by side. A plurality of transparent connections and a series of patterns, which are formed side by side to cross the first electrode pattern on the same surface on the transparent insulating substrate, electrically separated from the first electrode pattern, spaced apart from the first electrode pattern, and formed of a transparent conductive material. And a second electrode pattern including low resistance lines formed on the plurality of transparent connection portions of the plurality of transparent connection portions. The touch panel sensor may detect a change in capacitance according to the approach of the object by using a part of the stacked first electrode pattern, a low resistance line, and an electrode pattern around the touch panel sensor, and sense the touch position of the object by using the touch panel sensor. Can be detected. In addition, the low resistance line can reduce the overall resistance of the second electrode pattern.

본 명세서에서 "대상체"는 접촉 위치를 결정하기 위한 수단으로서, 일반적으로 손가락 등의 신체 일부 또는 정전용량 방식의 터치스크린에 적용될 수 있는 스타일러스 펜을 포함할 수 있다. 그 외에도 정전용량 방식의 터치스크린에 적용되어 접촉 위치를 특정할 수 있는 다른 구조 등을 포함할 수도 있다.As used herein, the "object" is a means for determining a contact position, and may include a stylus pen which may be generally applied to a body part such as a finger or a capacitive touch screen. In addition, it may be applied to a capacitive touch screen and may include other structures for specifying a contact location.

본 명세서에서 "투명 절연기판"은 투명 또는 거의 투명에 가까운 필름, 기판 또는 기타 판 구조로서, 재질은 PET나 PC, PE 등의 합성수지 필름이나 유리 기판을 포함할 수 있으며, 기타 실질적으로 투명하면서 굽어짐이 가능한 굴곡 가능한(Flexible) 재질의 기판으로 제공될 수도 있다.As used herein, the term “transparent insulating substrate” refers to a transparent or nearly transparent film, substrate, or other plate structure. The material may include a synthetic resin film or glass substrate such as PET, PC, or PE, and other substantially transparent and bent. The load may be provided as a flexible substrate.

본 명세서에서 저저항 라인은 복수의 투명 연결부 전체를 전기적으로 연결하도록 형성되는데, 이때 저저항 라인은 하나로 연결된 도전체 라인으로 형태로 형성될 수도 있지만, 투명 연결부 상에서는 비연속적으로 분리된 형태로 배열 또는 분포되어 복수의 투명 연결부를 전체적으로 연결할 수도 있다.In the present specification, the low resistance line is formed to electrically connect the entire plurality of transparent connections, wherein the low resistance line may be formed in the form of conductor lines connected to one, but arranged or discontinuously separated on the transparent connection. It may be distributed to connect the plurality of transparent connections as a whole.

제1 전극패턴 및 제2 전극패턴은 투명 절연기판을 기준으로 동일한 면에 형성되며, 제1 및 제2 전극패턴은 투명 절연기판에서 디스플레이를 마주하는 면 또는 디스플레이에 대향하는 면에 형성될 수가 있다. 예를 들어, 투명 절연기판이 강화 유리 기판인 경우 전극패턴들은 기판의 저면에 형성될 수 있으며, 투명 절연기판이 유리 기판의 하부에 별도로 제공되는 경우 전극패턴들은 기판의 상면에 형성될 수가 있다. The first electrode pattern and the second electrode pattern may be formed on the same surface with respect to the transparent insulating substrate, and the first and second electrode patterns may be formed on the surface facing the display or opposite the display on the transparent insulating substrate. . For example, when the transparent insulating substrate is a tempered glass substrate, the electrode patterns may be formed on the bottom surface of the substrate, and when the transparent insulating substrate is separately provided under the glass substrate, the electrode patterns may be formed on the upper surface of the substrate.

제1 전극패턴은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(indium zinc oxide), 탄소나노튜브(CNT), 초박막 금속패턴(<100Å) 등의 투명한 도전성 재질로 형성될 수 있으며, 가로 또는 세로 방향으로 나란히 배열될 수 있다. 바람직하게는 일련의 확장부 및 브릿지부를 포함할 수 있지만, 동일한 폭을 가진 레인(lane) 형상으로 제공될 수도 있다.The first electrode pattern may be formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), carbon nanotube (CNT), or ultrathin metal pattern (<100Å), and may be parallel to each other in a horizontal or vertical direction. Can be arranged. Preferably, it may include a series of extensions and bridges, but may also be provided in a lane shape having the same width.

확장부 및 브릿지부를 이용하여 제1 전극패턴의 폭 변화를 형성하는 경우, 확장부는 사각형, 마름모, 원형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 브릿지부에 비해 상대적으로 넓은 폭으로 형성될 수 있다. 대상체가 접근하지 않은 경우 기본 캐패시턴스는 브릿지부 및 저저항 라인의 교차 부분 치수 및 재질에 의해서 결정되지만, 손가락 등의 대상체가 접근하는 경우 양 브릿지부 사이의 캐패시턴스 변화는 주변의 확장부에 의해서도 영향을 받을 수가 있다. 브릿지부는 약 100~300㎛ 정도의 폭으로 형성될 수 있다.When the width change of the first electrode pattern is formed using the extension part and the bridge part, the extension part may be formed in various shapes such as a square, a rhombus, and a circle, and may be formed in a relatively wider width than the bridge part. If the object is not approached, the basic capacitance is determined by the size and material of the intersection of the bridge and the low resistance line.However, when an object such as a finger approaches, the change in capacitance between both bridges is also affected by the surrounding extension. I can receive it. Bridge portion may be formed in a width of about 100 ~ 300㎛.

제2 전극패턴은 제1 전극패턴과 교차하는 방향으로 형성된다. 바람직하게는 수직하게 교차할 수 있지만, 경우에 따라서 수직 이외의 각도로 교차할 수도 있다. 제2 전극패턴은 브릿지부와 교차하는 저저항 라인을 포함하되, 저저항 라인에 의해서 전기적으로 연결되는 투명 연결부도 포함할 수 있다. 투명 연결부는 제1 전극패턴을 형성하는 투명 도전 패턴과 전기적 및 물리적으로 분리된 영역에 형성될 수 있으며, 저저항 라인에 의해서 일련의 순서로 연결될 수 있다.The second electrode pattern is formed in a direction crossing the first electrode pattern. Preferably, they may cross vertically, but in some cases they may cross at an angle other than vertical. The second electrode pattern may include a low resistance line crossing the bridge portion, and may also include a transparent connection portion electrically connected by the low resistance line. The transparent connection part may be formed in a region electrically and physically separated from the transparent conductive pattern forming the first electrode pattern, and may be connected in a series of orders by a low resistance line.

제1 및 제2 전극패턴에서 교차지점 이외의 확장부에 의해서도 정전용량이 영향을 받을 수 있기 때문에, 제2 전극패턴이 제1 전극패턴에 대해 상부 또는 하부에 형성될 수가 있다. 또한, 약 200㎛ 두께 이상의 접착필름(OCA) 대신, 약 0.1~1.0㎛ 두께의 절연층 또는 절연패턴에 의해서 브릿지부 및 저저항 라인 간의 간격이 유지되기 때문에, 저저항 라인과 교차하는 브릿지부는 확장부보다 현저하게 작은 폭으로 형성되는 것이 바람직할 수 있다. Since the capacitance may be affected by the extension portions other than the intersection points in the first and second electrode patterns, the second electrode pattern may be formed above or below the first electrode pattern. In addition, since the gap between the bridge portion and the low resistance line is maintained by the insulating layer or the insulation pattern having a thickness of about 0.1 to 1.0 μm, instead of the adhesive film (OCA) of about 200 μm or more, the bridge portion crossing the low resistance line is expanded. It may be desirable to have a width significantly smaller than that of the portion.

반대로 저저항 라인은 약 30㎛ 이하의 폭, 바람직하게는 10㎛ 이하의 폭으로 형성되기 때문에, 육안으로 식별이 어려운 두께로 형성될 수 있으며, 그 자체가 불투명한 금속재질로도 형성될 수 있기 때문에 종래의 투명 전극을 사용하는 경우보다 상당히 낮은 저항 값으로 제공될 수 있다. 또한, 저저항 라인에 의한 낮은 저항은 저저항 라인의 두께 조절로 달성될 수 있기 때문에, 터치패널센서의 투명도를 손상시키지 않으면서도 저저항 라인의 두께 증가를 통해 낮은 저항을 충분히 달성할 수가 있다. 참고로, 저저항 라인은 금, 은 및 알루미늄, 니켈, 티타늄 등의 다양한 금속이나 상술한 금속들을 이용한 합금 등을 사용할 수 있다. On the contrary, since the low resistance line is formed to have a width of about 30 μm or less, preferably 10 μm or less, the low resistance line may be formed to a thickness that is difficult to visually identify, and may be formed of an opaque metal material itself. Therefore, it can be provided with a significantly lower resistance value than when using a conventional transparent electrode. In addition, since the low resistance by the low resistance line can be achieved by adjusting the thickness of the low resistance line, the low resistance can be sufficiently achieved by increasing the thickness of the low resistance line without compromising the transparency of the touch panel sensor. For reference, the low resistance line may use various metals such as gold, silver, aluminum, nickel, titanium, or an alloy using the above-described metals.

본 발명의 터치패널센서는 신체 일부의 접촉을 인지하기 위한 전극으로 저저항 라인을 사용함으로써, 전극에서 발생하는 신호의 손실에 의해서 감도가 저하되는 것을 최소화할 수 있으며, 투명전극의 상부에 배치되는 금속전극의 폭을 적절하게 조절하여 외부에서 가시되는 것 또한 방지할 수 있다.The touch panel sensor of the present invention uses a low resistance line as an electrode for recognizing contact of a part of the body, thereby minimizing a decrease in sensitivity due to a loss of a signal generated from the electrode, and is disposed on the transparent electrode. Appropriately adjusting the width of the metal electrode can also be prevented from being visible from the outside.

본 발명의 터치패널센서는 하나의 기판 또는 필름 상에 서로 교차하는 2개 패턴을 함께 형성함으로써, 종래의 센서보다도 얇으면서도 감도를 향상시킬 수 있다. The touch panel sensor of the present invention can improve sensitivity even though it is thinner than a conventional sensor by forming two patterns crossing each other on one substrate or film together.

도 1은 종래의 뮤츄얼 방식의 터치패널센서를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 평면도이다.
도 3 내지 도 5는 도 2의 터치패널센서의 제조과정을 설명하기 위한 부분 확대 사시도들이다.
도 6은 도 2의 터치패널센서의 적층 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 평면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 평면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 부분 확대 사시도다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 부분 확대 사시도다.
1 is a perspective view illustrating a conventional mutual touch panel sensor.
2 is a plan view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 to 5 are partially enlarged perspective views illustrating a manufacturing process of the touch panel sensor of FIG. 2.
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a stacked structure of the touch panel sensor of FIG. 2.
7 is a plan view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.
8 is a plan view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.
9 is a partially enlarged perspective view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.
10 is a partially enlarged perspective view illustrating a touch panel sensor according to an embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited or limited by the embodiments. For reference, in the present description, the same numbers refer to substantially the same elements, and may be described by quoting contents described in other drawings under such a rule, and the contents repeated or deemed apparent to those skilled in the art may be omitted.

도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 평면도이며, 도 3 내지 도 5는 도 2의 터치패널센서의 제조과정을 설명하기 위한 부분 확대 사시도들이다.2 is a plan view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 3 to 5 are partially enlarged perspective views illustrating a manufacturing process of the touch panel sensor of FIG. 2.

도 2 및 도 5를 참조하면, 본 실시예에 따른 터치패널센서(100)는 투명 기판(110), 투명 기판(110) 상에 형성된 제1 전극패턴(120) 및 제2 전극패턴(130), 그리고 제1 전극패턴(120) 및 제2 전극패턴(130) 사이에 개재되는 절연패턴(140)을 포함한다.2 and 5, the touch panel sensor 100 according to the present embodiment includes a transparent substrate 110, a first electrode pattern 120 and a second electrode pattern 130 formed on the transparent substrate 110. And an insulating pattern 140 interposed between the first electrode pattern 120 and the second electrode pattern 130.

투명 기판(110)은 PET나 PC, PE 등의 합성수지 필름이나 유리 기판으로 형성될 수 있다. 투명 기판(110)은 LCD나 유기LED 등의 디스플레이 상에 별도로 장착될 수도 있지만, LCD나 유기LED의 모듈을 구성하는 투명 기판이나 필름에 사용되어 디스플레이 모듈과 일체로 제공될 수도 있다. 여기서, 투명 기판(110)의 투명은 적용되는 디스플레이의 용도에 적합한 가독성을 저해하지 않는 한에서 약간의 불투명한 정도를 포함하는 경우도 포함한다고 할 것이다. The transparent substrate 110 may be formed of a synthetic resin film such as PET, PC, or PE, or a glass substrate. Although the transparent substrate 110 may be separately mounted on a display such as an LCD or an organic LED, the transparent substrate 110 may be used in a transparent substrate or a film constituting a module of the LCD or the organic LED and may be integrally provided with the display module. Here, the transparency of the transparent substrate 110 will also include the case of including a slight opacity as long as it does not impair readability suitable for the use of the display to be applied.

또한, 제1 전극패턴(120) 및 제2 전극패턴(130)은 투명 기판(110)의 상면 또는 저면 중 일면에 형성될 수가 있다. 예를 들어, 합성수지 필름으로 제공되는 경우 양 전극패턴은 투명 기판(110)의 상면에 형성되는 것이 일반적이지만, 유리 기판으로 제공되는 경우 양 전극패턴은 투명 기판(110)의 저면에 직접 형성될 수도 있다.In addition, the first electrode pattern 120 and the second electrode pattern 130 may be formed on one surface of the top surface or the bottom surface of the transparent substrate 110. For example, when provided as a synthetic resin film, the positive electrode pattern is generally formed on the upper surface of the transparent substrate 110, but when provided as a glass substrate, the positive electrode pattern may be formed directly on the bottom of the transparent substrate 110 have.

제1 전극패턴(120)은 ITO, IZO, 탄소나노튜브(CNT) 등 투명한 도전성 재질을 이용하여 형성될 수 있으며, 투명 기판(110) 상에서 가로 또는 세로 방향을 따라 나란하게 배열되는 일련의 라인 패턴에 의해서 제공된다. 구체적으로 제1 전극패턴(120)을 위한 라인 패턴은 일 방향을 따라 일렬로 제공되는 확장부(122) 및 브릿지부(124)을 포함한다. 확장부(122) 및 브릿지부(124)는 서로 교대로 형성되어 일렬로 배치되며, 동일 또는 다른 투명 도전성 재질에 의해서 형성될 수가 있다. The first electrode pattern 120 may be formed using a transparent conductive material such as ITO, IZO, carbon nanotubes (CNT), and a series of line patterns arranged side by side in a horizontal or vertical direction on the transparent substrate 110. Provided by In detail, the line pattern for the first electrode pattern 120 includes an extension part 122 and a bridge part 124 provided in a line along one direction. The expansion part 122 and the bridge part 124 are alternately formed and arranged in a row, and may be formed of the same or different transparent conductive materials.

확장부(122)는 브릿지부(124)보다 상대적으로 또는 현저하게 넓은 폭으로 형성되며, 브릿지부(124)는 확장부(122)들의 사이에 형성되어 일련의 확장부(122)를 전기적으로 연결할 수가 있다. 일 예로 약 3.0인치의 디스플레이 및 터치 영역을 갖는 휴대단말기에서, 브릿지부(124)는 약 0.1mm~0.2mm의 폭으로 형성될 때, 확장부(122)는 약 4~6mm의 폭으로 형성될 수가 있으며, 이때 확장부(122)는 브릿지부(124)에 비해 약 20~60배 큰 폭을 가질 수 있다.The extension part 122 is formed to be relatively or significantly wider than the bridge part 124, and the bridge part 124 is formed between the extension parts 122 to electrically connect the series of extension parts 122. There is a number. For example, in a mobile terminal having a display and a touch area of about 3.0 inches, when the bridge portion 124 is formed to have a width of about 0.1 mm to 0.2 mm, the extension portion 122 may be formed to have a width of about 4 to 6 mm. In this case, the expansion unit 122 may have a width about 20 to 60 times larger than that of the bridge unit 124.

확장부(122) 및 브릿지부(124)의 형상은, 도시된 바와 같이, 연속된 사각형을 모티브로 형성될 수 있지만, 그 형상은 마름모, 원형 또는 타원형 등 다양한 도형을 모티브로 할 수가 있다. 또한, 후술하겠지만, 확장부(122) 및 브릿지부(124)는 제2 전극패턴(130)을 위한 투명 연결부(136)과 함께 동일 재질 및 동일 면에 형성될 수 있으며, 상호 최소한의 폭으로 이격되도록 형상이 조화를 이루도록 선택될 수가 있다. 터치패널센서(100)의 저부에 배치된 디스플레이를 구비한 단말기로부터 전자파(EMI)가 출사될 수 있는데, 이렇게 제1 전극패턴(120)과 제2 전극패턴(130)의 투명 연결부(136)에 의해서 최소한의 폭으로 이격되도록 패턴을 설계함으로써, 전자파를 차폐 또는 최대한 차단하는 기능을 수행할 수 있다.The shape of the extension portion 122 and the bridge portion 124, as shown, may be formed of a continuous quadrangular motif, the shape may be a variety of motifs such as rhombus, circle or oval. In addition, as will be described later, the extension part 122 and the bridge part 124 may be formed on the same material and the same surface together with the transparent connection part 136 for the second electrode pattern 130 and spaced apart from each other with a minimum width. The shapes may be chosen to be in harmony as possible. Electromagnetic waves (EMI) may be emitted from a terminal having a display disposed at the bottom of the touch panel sensor 100. Thus, the transparent connection 136 of the first electrode pattern 120 and the second electrode pattern 130 may be emitted. By designing the pattern to be spaced apart to the minimum width by, it can perform the function of shielding or blocking the electromagnetic waves as much as possible.

제1 전극패턴(120)과 적층된 구조를 형성하도록 제2 전극패턴(130)이 형성된다. 제2 전극패턴(130)은 제1 전극패턴(120)의 상부 또는 하부에 형성될 수 있으며, 제1 전극패턴(120)과 전기적으로 분리되도록 형성된다. 이를 위해 제1 전극패턴(120)과 제2 전극패턴(130) 사이에는 절연층 또는 절연패턴(140)이 형성될 수가 있다. The second electrode pattern 130 is formed to form a stacked structure with the first electrode pattern 120. The second electrode pattern 130 may be formed above or below the first electrode pattern 120, and is formed to be electrically separated from the first electrode pattern 120. To this end, an insulating layer or an insulating pattern 140 may be formed between the first electrode pattern 120 and the second electrode pattern 130.

절연층 또는 절연패턴(140)은 일반적으로 절연 박막을 형성하는 SiO2, Si3N4 또는 TiO2 등의 소재를 이용하여 형성될 수 있으며, 다른 증착, 스퍼터링, 도포, 스프레이, 라미네이팅, 접착, 인쇄 등이 가능한 절연 재질을 이용하여 형성될 수가 있다. 또한, 도시된 바와 같이, 증착이나 스퍼터링 후 패턴화 공정을 거쳐 패턴 형상으로 제공될 수도 있지만, 경우에 따라서 패턴화 공정 없이 하나의 절연층으로 제공되거나 패턴을 바로 인쇄하는 공정 등을 통해서 제공될 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 확장부(122), 브릿지부(124) 및 투명 연결부(136)을 패턴으로 형성한 후, 다른 패턴화 공정을 통해서 절연패턴(140)을 형성할 수 있다.The insulating layer or the insulating pattern 140 may be formed using a material such as SiO 2 , Si 3 N 4, or TiO 2 which generally forms an insulating thin film, and may be formed by other deposition, sputtering, coating, spraying, laminating, adhesion, It can be formed using an insulating material that can be printed or the like. In addition, as shown, may be provided in a pattern form through a patterning process after deposition or sputtering, in some cases may be provided as a single insulating layer without a patterning process or through a process of printing a pattern directly. have. As shown in FIG. 4, after the extension part 122, the bridge part 124, and the transparent connection part 136 are formed in a pattern, the insulating pattern 140 may be formed through another patterning process.

제2 전극패턴(130)은 저저항 라인(134) 및 투명 연결부(136)을 포함한다. 투명 연결부(136)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 전극패턴(120)과 동시에 형성될 수가 있다. 투명 연결부(136) 역시 약 0.1~0.2mm의 폭을 가지는 투명 도전성 재질로 형성될 수 있으며, 투명 기판(110)에 형성된 ITO층을 사진식각공정으로 식각한 후 확장부(122) 및 브릿지부(124)와 함께 형성될 수가 있다.The second electrode pattern 130 includes a low resistance line 134 and a transparent connector 136. As illustrated in FIG. 3, the transparent connector 136 may be formed at the same time as the first electrode pattern 120. The transparent connection part 136 may also be formed of a transparent conductive material having a width of about 0.1 mm to 0.2 mm. After the ITO layer formed on the transparent substrate 110 is etched by a photolithography process, the expansion part 122 and the bridge part ( 124 can be formed together.

도 5에 도시된 바와 같이, 저저항 라인(134)는 절연패턴(140) 상에 형성되며, 복수의 투명 연결부(136)의 표면을 통과하면서 투명 연결부(136) 전체를 전기적으로 연결하도록 형성된다. 금이나 은, 알루미늄, 크롬 등의 금속 재질을 이용하여 형성될 수 있으며, 증착이나 스퍼터링 후 패턴화 공정을 통해 형성될 수 있으며, 간단하게는 잉크젯 인쇄 등의 공정을 통해서도 형성될 수가 있다. 저저항 라인(134)는 투명하지 않아 디스플레이를 광학적으로 차단할 수 있으나, 약 30㎛ 이하의 폭으로 형성되도록 하여 육안으로 보이지 않도록 할 수 있으며, 더 바람직하게는 약 10㎛ 이하 또는 수 ㎛의 폭으로 형성하여 어떤 경우에서도 육안으로 확인되지 않도록 할 수도 있다.As shown in FIG. 5, the low resistance line 134 is formed on the insulating pattern 140 and is formed to electrically connect the entire transparent connection part 136 while passing through the surfaces of the plurality of transparent connection parts 136. . It may be formed using a metal material such as gold, silver, aluminum or chromium, may be formed through a patterning process after deposition or sputtering, or may be simply formed through a process such as inkjet printing. The low resistance line 134 may not be transparent and may optically block the display, but may be formed to have a width of about 30 μm or less so that it is not visible to the naked eye, and more preferably, about 10 μm or less or several μm wide. It may be formed so that in no case can it be identified with the naked eye.

또한, 저저항 라인(134)은 직선 형상으로 형성될 수 있지만, 다르게는 곡선 또는 절곡선 형태로 형성될 수도 있고, 변화하는 패턴도 규칙적으로 또는 불규칙적으로 변화할 수도 있다. 불규칙적으로 변화하는 곡선 또는 절곡선의 경우, 외부에서 더 가시화되지 않도록 할 수도 있다.In addition, the low resistance line 134 may be formed in a straight shape, but may be alternatively formed in a curved or bent shape, and the changing pattern may be regularly or irregularly changed. In the case of irregularly changing curves or bends, it may be possible to prevent them from becoming more visible from the outside.

저저항 라인(134)은 외부 장치와의 연결을 위한 베젤(bezel) 부분의 와이어 패턴(150)과 함께 형성될 수 있다. 베젤 부분의 와이어 패턴(150)은 FPCB 등과 연결되기 위해 투명 기판(110)의 일측으로 집중되도록 형성된다. 일반적인 와이어 패턴(150) 역시 금속 재질로 형성되기 때문에 저저항 라인(134)와 동시에 형성되는 것도 가능하며, 이 경우 저저항 라인(134)을 와이어 패턴(150)과 동시에 형성하여 터치패널센서(100)를 제조하는 공정의 수가 현저하게 줄어들 수 있다.The low resistance line 134 may be formed together with the wire pattern 150 of the bezel portion for connection with an external device. The wire pattern 150 of the bezel portion is formed to be concentrated on one side of the transparent substrate 110 to be connected to the FPCB or the like. Since the general wire pattern 150 is also formed of a metal material, the wire pattern 150 may be formed at the same time as the low resistance line 134. In this case, the low resistance line 134 may be simultaneously formed with the wire pattern 150 to form the touch panel sensor 100. ) Can significantly reduce the number of processes.

도 6은 도 2의 터치패널센서의 적층 구조를 설명하기 위한 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a stacked structure of the touch panel sensor of FIG. 2.

도 6을 참조하면, 금속과 같이 빛을 차단 또는 반사하는 재질로 형성되는 저저항 라인(134)은 투명한 투명 기판(110), 브릿지부(124) 및 절연패턴(140) 상에 형성된다. Referring to FIG. 6, the low resistance line 134 formed of a material that blocks or reflects light such as metal is formed on the transparent transparent substrate 110, the bridge part 124, and the insulating pattern 140.

참고로, ITO 등의 투명 도전성 재질은 약 250 Ω/square의 면저항을 가지기 때문에, 약 100~300㎛의 폭과 약 6~8cm의 길이로 패턴을 형성한다면 수백 Ω의 저항을 가진다. 따라서 종래의 ITO 전극을 대면적 디스플레이에 적용하기가 어려우며, 이는 대면적 디스플레이에서 종래의 터치스크린을 적용하기가 어려운 이유가 된다. 하지만, 금속 재질의 저저항 라인(134)은 금속으로 형성되어 제2 전극패턴(130)의 저항을 낮게 유지할 수 있으며, 그 결과 터치패널센서(100)의 감도가 향상될 수 있으며, 대면적 디스플레이에서도 적용이 가능하다.For reference, since a transparent conductive material such as ITO has a sheet resistance of about 250 Ω / square, if a pattern is formed with a width of about 100 to 300 μm and a length of about 6 to 8 cm, it has a resistance of several hundred Ω. Therefore, it is difficult to apply a conventional ITO electrode to a large area display, which is why it is difficult to apply a conventional touch screen in a large area display. However, the low resistance line 134 made of metal may be formed of metal to keep the resistance of the second electrode pattern 130 low, and as a result, the sensitivity of the touch panel sensor 100 may be improved and a large area display may be performed. Application is also possible at.

실질적으로 손가락 등의 접촉이 없을 때, 제1 전극패턴(120) 및 제2 전극패턴(130)에 의한 기본 캐패시턴스 값은 브릿지부(124) 및 저저항 라인(134) 간의 캐패시턴스에 의해서 결정될 수 있다. 종래의 ITO 전극만을 이용한 터치패널센서에서 마주하는 ITO필름 사이에 광학접착필름(OCA)에 개재되며, OCA의 두께, 약 200㎛정도만큼 이격되어 양 전극패턴이 기본 캐패시턴스를 형성하는 반면, 본 실시예에 따른 브릿지부(124) 및 저저항 라인(134)은 절연패턴(140)의 두께, 약 0.1~1.0㎛정도만큼만 이격되어 약 200~1000배 이상의 범위에서 기본 캐패시턴스를 형성하도록 조절할 수 있으며, 이때 브릿지부(124) 및 저저항 라인(134)의 교차 면적을 급격히 감소시켜 기본 캐패시턴스를 원하는 값으로 적절히 조절할 수가 있다. When there is substantially no finger or the like, the basic capacitance value of the first electrode pattern 120 and the second electrode pattern 130 may be determined by the capacitance between the bridge portion 124 and the low resistance line 134. . While interposed between optical ITO films (OCA) between ITO films facing in conventional touch panel sensors using only ITO electrodes, the thickness of the OCA is separated by about 200 μm, so that both electrode patterns form a basic capacitance, while the present embodiment Bridge portion 124 and the low resistance line 134 according to the example can be adjusted to form a basic capacitance in the range of about 200 ~ 1000 times more than the thickness of the insulating pattern 140, about 0.1 ~ 1.0㎛ spaced, At this time, the intersection area between the bridge portion 124 and the low resistance line 134 is drastically reduced, so that the basic capacitance can be appropriately adjusted to a desired value.

브릿지부(124) 및 저저항 라인(134) 간의 교차 면적을 작게 하는 것이 가능하기 때문에, 주변으로 노출되는 확장부(122) 등을 이용하여 정전용량 변화를 민감하게 유지할 수 있으며, 상대적으로 기본 캐패시턴스를 설계 사양에 따라 다양하게 변경할 수 있으며, 전극패턴의 길이를 길게 형성할 수가 있어 대면적 디스플레이에도 용이하게 적용될 수가 있다. 그리고, 브릿지부(124) 및 저저항 라인(134) 간의 교차 면적이 작기 때문에 제2 전극패턴(130)이 제1 전극패턴(120)보다 하부에 형성되어도 기본적으로 정전용량 변화에 따른 접촉 위치 감지가 가능하다.Since the intersection area between the bridge portion 124 and the low resistance line 134 can be made small, the change in capacitance can be maintained sensitively using the extension portion 122 exposed to the surroundings, and the relative capacitance is relatively low. Can be variously changed according to design specifications, and the length of the electrode pattern can be formed long, so that it can be easily applied to a large area display. In addition, since the intersection area between the bridge part 124 and the low resistance line 134 is small, even if the second electrode pattern 130 is formed below the first electrode pattern 120, the contact position is basically detected due to the change in capacitance. Is possible.

또한, 저저항 라인(134)의 두께 조절을 통해 저항을 증가 또는 감소시키는 것이 가능하며, 기본적인 라인의 폭 동일하게 유지되기 때문에 전체적인 투광도에 손실을 주지 않을 수 있다. 즉, 본 실시예에서는 저항을 낮추기 위해 금속의 함량을 늘려도 투광도가 저하되지 않는다는 장점도 기대할 수 있다.In addition, it is possible to increase or decrease the resistance by adjusting the thickness of the low resistance line 134, and because the width of the basic line remains the same, it may not cause a loss in the overall light transmittance. That is, in this embodiment, even if the metal content is increased in order to lower the resistance, the light transmittance does not decrease.

본 실시예에서 저저항 라인(134)은 평면을 기준으로 직선 형태로 형성되어 있지만, 경우에 따라서 규칙적인 또는 불규칙적인 곡선, 절곡선 형태로 제공되어 외부에서 더 가시화되지 않도록 할 수도 있다. In the present embodiment, the low resistance line 134 is formed in a straight line with respect to a plane, but in some cases, it may be provided in a regular or irregular curved or bent form so as not to be more visible from the outside.

또한, 저저항 라인(134) 상에 광흡수부를 더 형성할 수도 있다. 즉, 금속 재질의 저저항 라인(134) 상면에 구리/티타늄(Cu/Ti), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 및 블랙크롬(Black Chrome) 등과 같이 어두운 색이나 빛의 반사를 방지할 수 있는 미세 패턴을 함께 형성함으로써 저저항 라인(134)의 상면이 반짝이는 것을 방지할 수도 있다. 또한, 다르게는 저저항 라인(134) 자체를 상기 구리/티타늄(Cu/Ti), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 및 블랙크롬(Black Chrome) 등과 같이 어두운 색의 금속으로 형성할 수도 있다.In addition, a light absorbing part may be further formed on the low resistance line 134. That is, to prevent reflection of dark colors or light such as copper / titanium (Cu / Ti), molybdenum (Mo), chromium (Cr), and black chrome on the upper surface of the metal low resistance line 134. The upper surface of the low resistance line 134 may be prevented from shining by forming a fine pattern together. Alternatively, the low resistance line 134 itself may be formed of a dark metal such as copper / titanium (Cu / Ti), molybdenum (Mo), chromium (Cr), and black chrome. .

또한, 본 실시예에서는 저저항 라인(134)이 제1 전극패턴(120) 및 투명 연결부(136) 상면에 형성되어 있지만, 다르게는 저저항 라인을 제1 전극패턴 및 투명 연결부의 저면에 형성할 수도 있으며, 이 경우 저저항 라인을 먼저 형성한 후 제1 전극패턴과 교차하는 부분에 절연 패턴을 형성하고, ITO층을 형성하고, ITO층을 패턴 공정으로 식각하여 제1 전극패턴(120) 및 투명 연결부(136)를 형성할 수 있다.In addition, although the low resistance line 134 is formed on the top surface of the first electrode pattern 120 and the transparent connection part 136 in this embodiment, the low resistance line may be formed on the bottom surface of the first electrode pattern and the transparent connection part. In this case, the low resistance line is formed first, and then an insulating pattern is formed on a portion crossing the first electrode pattern, an ITO layer is formed, and the ITO layer is etched by a pattern process to form the first electrode pattern 120 and The transparent connection portion 136 may be formed.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 평면도이다. 7 is a plan view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 실시예에 따른 터치패널센서(200)는 투명 기판(210), 투명 기판(210) 상에 형성된 제1 전극패턴(220) 및 제2 전극패턴(230), 그리고 제1 전극패턴(220) 및 제2 전극패턴(230) 사이에 개재되는 절연패턴(240)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the touch panel sensor 200 according to the present exemplary embodiment may include a transparent substrate 210, a first electrode pattern 220 and a second electrode pattern 230, and a first electrode pattern formed on the transparent substrate 210. The insulating pattern 240 is interposed between the first electrode pattern 220 and the second electrode pattern 230.

투명 기판(210)은 합성수지 필름이나 유리 기판으로 형성될 수 있으며, 제1 전극패턴(220)은 확장부(222) 및 브릿지부(224)를 포함하며, 제2 전극패턴(230)은 저저항 라인(234) 및 투명 연결부(236)을 포함한다. 재질, 구조 및 형성 방법 등은 이전 실시예의 설명 및 도면을 참조할 수 있다.The transparent substrate 210 may be formed of a synthetic resin film or a glass substrate. The first electrode pattern 220 may include an extension part 222 and a bridge part 224, and the second electrode pattern 230 may have a low resistance. Line 234 and transparent connection 236. For materials, structures, and formation methods, reference may be made to the description and drawings of the previous embodiment.

다만, 제2 전극패턴(230)은 일련의 저저항 라인(234) 및 투명 연결부(236)으로 구성되는 패턴 라인을 포함하는데, 본 실시예에서는 복수개의 저저항 라인(234)이 그룹화되어 하나의 전극을 형성하며, 일측이 전기적으로 연결되어 있다. 이전 실시예의 하나의 저저항 라인(134)와 달리, 본 실시예에서는 3개의 저저항 라인(234)이 그룹을 이루며, 상기 1개의 저저항 라인(134)과 대응될 수 있다. 예를 들어, 도 2에서는 약 5mm 간격으로 패턴 라인이 사용된다면, 본 실시예에서는 약 1.7~1.0mm의 균일 간격으로 저저항 라인(234) 및 투명 연결부(236)으로 구성된 패턴 라인이 병렬로 연결된다.However, the second electrode pattern 230 includes a pattern line including a series of low resistance lines 234 and a transparent connection part 236. In the present embodiment, the plurality of low resistance lines 234 are grouped together to form a single line. It forms an electrode and one side is electrically connected. Unlike one low resistance line 134 of the previous embodiment, three low resistance lines 234 are grouped in this embodiment and may correspond to the one low resistance line 134. For example, if the pattern lines are used at intervals of about 5 mm in FIG. 2, in this embodiment, the pattern lines composed of the low resistance lines 234 and the transparent connectors 236 are connected in parallel at uniform intervals of about 1.7 to 1.0 mm. do.

복수개의 저저항 라인(234)이 그룹화되어 복잡한 연산 없이 손가락의 정확한 위치를 바로 계산할 수 있으며, 손가락 접촉 면적에 의한 영향도 바로 적용할 수 있어 감도를 크게 개선할 수 있다. 또한, 복수개의 패턴 라인이 병렬로 연결되고, 같은 그룹 내에서도 저저항 라인(234) 간에 상호 충분한 거리를 두고 이격되어 있기 때문에, 손가락 접촉 시 브릿지부(224) 및 저저항 라인(234) 주변으로 전기장의 우회가 형성되어 정전용량 변화에 따른 감도를 더욱 향상시킬 수가 있다.A plurality of low-resistance lines 234 can be grouped to directly calculate the exact position of the finger without complicated calculations, and the influence of the finger contact area can be directly applied, thereby greatly improving the sensitivity. In addition, since a plurality of pattern lines are connected in parallel and spaced apart from each other by a sufficient distance between the low resistance lines 234 even in the same group, the electric field around the bridge portion 224 and the low resistance lines 234 during finger contact. Bypass can be formed to further improve the sensitivity according to the capacitance change.

정전용량의 변화는 브릿지부 및 저저항 라인(224, 234)의 가장자리 또는 모서리에서 발생하기 때문에 한 전극에서 그룹을 이루는 브릿지부들의 변이 길수록 같은 손가락 접촉이 있어도 정전용량의 변화가 커질 수 있다. 즉, 브릿지부 및 저저항 라인(224, 234)의 오버랩되는 변의 길이에서 터치반응이 대부분 일어나므로 단일 패턴 라인을 이용한 경우보다 병렬로 배치된 복수개의 패턴 라인을 이용한 경우가 보다 민감하게 반응할 수 있다.Since the change in capacitance occurs at the edges or corners of the bridge portion and the low resistance lines 224 and 234, the longer the sides of the bridge portions forming a group at one electrode, the greater the change in capacitance even if the same finger contact exists. That is, since most touch reactions occur at the lengths of overlapping sides of the bridge portion and the low resistance lines 224 and 234, a case where a plurality of pattern lines arranged in parallel may be more sensitive than a case of using a single pattern line. have.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 평면도이다.8 is a plan view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 실시예에 따른 터치패널센서(300)는 투명 기판(310), 투명 기판(310) 상에 형성된 제1 전극패턴(320) 및 제2 전극패턴(330), 그리고 제1 전극패턴(320) 및 제2 전극패턴(330) 사이에 개재되는 절연패턴(340)을 포함한다.Referring to FIG. 8, the touch panel sensor 300 according to the present exemplary embodiment may include a transparent substrate 310, a first electrode pattern 320 and a second electrode pattern 330 formed on the transparent substrate 310, and a first electrode pattern 330. The insulating pattern 340 is interposed between the first electrode pattern 320 and the second electrode pattern 330.

투명 기판(310)은 합성수지 필름이나 유리 기판으로 형성될 수 있으며, 제1 전극패턴(320)은 확장부(322) 및 브릿지부(324)를 포함하며, 제2 전극패턴(330)은 저저항 라인(334) 및 투명 연결부(336)을 포함한다. 재질, 구조 및 형성 방법 등은 이전 실시예의 설명 및 도면을 참조할 수 있다.The transparent substrate 310 may be formed of a synthetic resin film or a glass substrate, and the first electrode pattern 320 includes an extension part 322 and a bridge part 324, and the second electrode pattern 330 has a low resistance. Line 334 and transparent connection 336. For materials, structures, and formation methods, reference may be made to the description and drawings of the previous embodiment.

다만, 도시된 바와 같이, 확장부(322)의 형상은 연속된 원형 또는 타원형을 모티브로 형성될 수 있으며, 투명 연결부(336)은 확장부(322)의 형상에 대응하여 오목한 곡선의 변을 가지는 도형 형상으로 형성될 수가 있다. 저저항 라인(334)은 투명 연결부(336) 상에서 불규칙적으로 절곡된 절곡선 형태로 형성될 수 있다.However, as shown, the shape of the extension 322 may be formed of a continuous circular or oval motif, the transparent connection 336 has a concave curved side corresponding to the shape of the extension 322. It can be formed into a figure shape. The low resistance line 334 may be formed in the shape of a bent line irregularly bent on the transparent connection 336.

제1 전극패턴(320)과 제2 전극패턴(330)의 투명 연결부(336)에 의해서 최소한의 폭으로 이격되도록 패턴을 설계함으로써, 전자파를 차폐하는 기능을 수행할 수도 있으며, 제1 전극패턴(320) 및 투명 연결부(336)의 형상은 전자파 차폐는 물론 정전용량의 변화에 대한 감도를 향상시키기 위해 다양한 형상으로 제공될 수 있다.By designing the pattern to be spaced apart by the minimum width by the transparent connecting portion 336 of the first electrode pattern 320 and the second electrode pattern 330, it is possible to perform the function of shielding electromagnetic waves, the first electrode pattern ( The shape of the 320 and the transparent connector 336 may be provided in various shapes in order to improve electromagnetic shielding as well as sensitivity to changes in capacitance.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 부분 확대 사시도이다.9 is a partially enlarged perspective view illustrating a touch panel sensor according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 터치패널센서는 제1 전극패턴(120)에 형성된 저저항 패턴(160)을 더 포함할 수 있다. 저저항 패턴(160)은 확장부(122) 또는 브릿지부(124) 상에 형성될 수 있으며, 투명 도전성 재질보다 낮은 저항을 가진 재질로 형성될 수 있다. 본 실시예에서 저저항 패턴(160)은 저저항 라인(134)과 동일한 금속 재질로 형성되며, 저저항 라인(134)과 별도로 형성되어 약 0.3㎛의 두께 및 약 10㎛ 이하의 폭으로 형성될 수가 있다. 9, the touch panel sensor according to the present embodiment may further include a low resistance pattern 160 formed on the first electrode pattern 120. The low resistance pattern 160 may be formed on the extension 122 or the bridge 124 and may be formed of a material having a lower resistance than the transparent conductive material. In this embodiment, the low resistance pattern 160 is formed of the same metal material as the low resistance line 134, and is formed separately from the low resistance line 134 to be formed to a thickness of about 0.3 μm and a width of about 10 μm or less. There is a number.

저저항 패턴(160)은 제1 전극패턴(120)을 따라 가로 방향으로 형성될 수 있으며, 저저항 패턴(160)에 의해서 제1 전극패턴(120)의 저항이 상대적으로 감소될 수 있다. 또한, 저저항 패턴(160)은 저저항 라인(134)와 같이 비투광성 특성을 가질 수도 있지만, 100Å이하의 두께로 형성된 금속 박막으로도 제공될 수 있어 상대적으로 투광성을 갖도록 형성될 수도 있다.The low resistance pattern 160 may be formed in the horizontal direction along the first electrode pattern 120, and the resistance of the first electrode pattern 120 may be relatively reduced by the low resistance pattern 160. In addition, although the low resistance pattern 160 may have a non-transparent characteristic like the low resistance line 134, it may also be provided as a metal thin film formed to a thickness of 100 μm or less, and thus may be formed to have a relatively light transmissive characteristic.

저저항 패턴(160)은 직선으로 형성될 수 있지만, 다르게는 곡선 또는 절곡선 형태로 형성될 수 있으며, 곡선 또는 절곡선의 형태도 규칙적 또는 불규칙적 양상으로 형성될 수 있다. 불규칙적으로 형성되는 경우 외부에서 가시화되지 않은 정도를 향상시킬 수 있다.The low resistance pattern 160 may be formed in a straight line. Alternatively, the low resistance pattern 160 may be formed in a curved or bent form, and the curved or bent form may be formed in a regular or irregular shape. If irregularly formed can improve the degree of not visible from the outside.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널센서를 설명하기 위한 부분 확대 사시도다.10 is a partially enlarged perspective view illustrating a touch panel sensor according to an embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 실시예에 따른 터치패널센서는 제1 전극패턴(120)의 표면에 형성된 비연속적인 저저항 패턴(165)을 더 포함할 수 있다. 비연속적인 저저항 패턴(165)은 확장부(122) 또는 브릿지부(124) 상에 형성될 수 있으며, 투명 도전성 재질보다 낮은 저항을 가진 재질로 형성될 수 있다. 앞선 저저항 패턴(160)은 하나로 이어진 금속 라인인 것에 반해, 본 실시예에서의 저저항 패턴(165)은 제1 전극패턴(120) 상면 또는 저면에서 전체적으로 혹은 국부적으로 형성될 수가 있다.Referring to FIG. 10, the touch panel sensor according to the present exemplary embodiment may further include a discontinuous low resistance pattern 165 formed on the surface of the first electrode pattern 120. The discontinuous low resistance pattern 165 may be formed on the extension 122 or the bridge 124 and may be formed of a material having a lower resistance than the transparent conductive material. Whereas the low resistance pattern 160 is a metal line connected to one, the low resistance pattern 165 in the present embodiment may be formed entirely or locally on the top or bottom surface of the first electrode pattern 120.

저저항 패턴(165)은 제1 전극패턴(120)을 따라 특정 방향을 향하도록 형성될 수 있지만, 서로 다른 방향으로 형성될 수가 있다. 또한, 저저항 라인(134)도 투명 연결부(136) 상에 형성될 수 있으며(134-1), 도전성 재질에 혼합된 형태가 아닌 그 표면에 형성되는 상태로 제공될 수가 있다.The low resistance pattern 165 may be formed to face a specific direction along the first electrode pattern 120, but may be formed in different directions. In addition, the low resistance line 134 may also be formed on the transparent connection part 136 (134-1), and may be provided in a state formed on the surface thereof, not in a form mixed with a conductive material.

또한, 저저항 패턴(165) 및 저저항 라인(134-1)은 제1 전극패턴(120) 또는 투명 연결부(136)의 전체적인 저항을 감소시키기 위한 것으로서, 저저항 패턴(165) 및 저저항 라인(134-1)이 분리된 상태로 배열 또는 분포되더라도 바람직하게는 인접한 저저항 패턴(165)의 단부가 겹치거나 수직하게 동일 선 상에서 연결되도록 형성될 수 있다.In addition, the low resistance pattern 165 and the low resistance line 134-1 are for reducing the overall resistance of the first electrode pattern 120 or the transparent connection part 136. Even if 134-1 is arranged or distributed in a separated state, the ends of the adjacent low resistance patterns 165 may be preferably overlapped or vertically connected to the same line.

상호 분리된 복수의 저저항 패턴(165) 및 저저항 라인(134-1)은 규칙적인 배열에 따라 제공될 수도 있지만, 본 실시예에서와 같이, 불규칙적인 양상으로 제공될 수 있으며, 불규칙적으로 형성되는 경우 외부에서 가시화되지 않은 정도를 향상시킬 수 있다.The plurality of low resistance patterns 165 and the low resistance lines 134-1 which are separated from each other may be provided according to a regular arrangement, but may be provided in an irregular manner, as in the present embodiment, and formed irregularly. If so, the degree of non-visualization can be improved.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

100, 200, 300:터치패널센서
110, 210, 310:투명 기판
120, 220, 320:제1 전극패턴
122, 222, 322:확장부
124, 224, 324:브릿지부
130, 230, 330:제2 전극패턴
134, 234, 334:저저항 라인
136, 236, 336:투명 연결부
100, 200, 300 : Touch panel sensor
110, 210, 310 : Transparent board
120, 220, 320: First electrode pattern
122, 222, 322 : Extension
124, 224, 324: Bridge part
130, 230, 330: second electrode pattern
134, 234, 334: Low resistance line
136, 236, 336: transparent connection

Claims (20)

디스플레이 상에 놓여 대상체의 접촉 위치를 감지하는 터치패널센서에 있어서,
투명 절연기판;
상기 투명 절연기판의 일면에서 투명 도전성 재질로 형성되어 나란하게 제공되는 제1 전극패턴; 및
상기 투명 절연기판 상에서 상기 제1 전극패턴과 같은 상기 일면에서 상기 제1 전극패턴과 교차하도록 나란하게 형성되되 상기 제1 전극패턴과 전기적으로 분리되고, 상기 제1 전극패턴과 이격되며 투명 도전성 재질로 형성된 복수의 투명 연결부 및 일련의 상기 복수의 투명 연결부 상에 형성되는 저저항 라인을 포함하는 제2 전극패턴;을 구비하며,
상기 저저항 라인은 상기 제2 전극패턴의 전체적인 저항을 감소시키는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
In the touch panel sensor placed on the display for detecting the contact position of the object,
Transparent insulating substrates;
A first electrode pattern formed of a transparent conductive material on one surface of the transparent insulating substrate and provided side by side; And
It is formed on the transparent insulating substrate to be parallel to the first electrode pattern on the same surface as the first electrode pattern, is electrically separated from the first electrode pattern, spaced apart from the first electrode pattern and made of a transparent conductive material And a second electrode pattern including a plurality of transparent connecting parts formed and low resistance lines formed on the plurality of transparent connecting parts.
The low resistance line reduces the overall resistance of the second electrode pattern.
제1항에 있어서,
상기 제1 전극패턴과 상기 저저항 라인 사이에는 절연층 또는 절연패턴이 형성되어 상기 제1 전극패턴 및 상기 저저항 라인을 전기적으로 분리시키는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
And an insulating layer or an insulating pattern formed between the first electrode pattern and the low resistance line to electrically separate the first electrode pattern and the low resistance line.
제2항에 있어서,
상기 절연층 또는 상기 절연패턴은 SiO2, Si3N4 또는 TiO2를 이용하여 제공되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 2,
The insulating layer or the insulating pattern is a touch panel sensor, characterized in that provided using SiO 2 , Si 3 N 4 or TiO 2 .
제2항에 있어서,
상기 절연층 또는 상기 절연패턴은 0.1~1.0㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 2,
The insulating layer or the insulating pattern is a touch panel sensor, characterized in that formed to a thickness of 0.1 ~ 1.0㎛.
제1항에 있어서,
상기 투명 연결부는 상기 제1 전극패턴과 동일 재질 및 동일 면에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The transparent connection part is a touch panel sensor, characterized in that formed on the same material and the same surface as the first electrode pattern.
제1항에 있어서,
상기 저저항 라인은 직선, 규칙적이거나 불규칙적인 곡선, 또는 규칙적이거나 불규칙적인 절곡선 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The low resistance line is a touch panel sensor, characterized in that formed in the form of a straight line, regular or irregular curve, or regular or irregular bending.
제1항에 있어서,
상기 저저항 라인은 상기 투명 연결부 상에서 상호 분리된 상태로 배열되며 상기 복수의 투명 연결부 전체를 전기적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The low resistance line is arranged in a state separated from each other on the transparent connection portion and the touch panel sensor, characterized in that for electrically connecting the entire plurality of transparent connection.
제7항에 있어서,
상기 저저항 라인이 불규칙적인 배열로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 7, wherein
Touch panel sensor, characterized in that the low resistance line is formed in an irregular arrangement.
제1항에 있어서,
상기 제1 전극패턴은 일 방향을 따라 일렬로 제공되는 복수의 확장부 및 상기 복수의 확장부 사이를 연결하는 복수의 브릿지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The first electrode pattern includes a plurality of extension parts provided in a line along one direction and a plurality of bridge parts connecting the plurality of extension parts.
제9항에 있어서,
상기 제1 전극패턴은, 상기 투명 도전성 재질보다 저항이 낮은 재질로 형성되며, 상기 제1 복수의 확장부 또는 상기 복수의 브릿지부 상에 형성되는 저저항 패턴을 더 포함하고, 상기 저저항 패턴은 상기 제2 전극 패턴과 전기적으로 분리된 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
10. The method of claim 9,
The first electrode pattern may be formed of a material having a lower resistance than the transparent conductive material, and further include a low resistance pattern formed on the first plurality of extension parts or the plurality of bridge parts. The touch panel sensor, characterized in that electrically separated from the second electrode pattern.
제10항에 있어서,
상기 저저항 패턴은 투명 도전성 재질로 형성된 상기 확장부 또는 상기 브릿지부 상에서 직선, 규칙적이거나 불규칙적인 곡선 또는 규칙적이거나 불규칙적인 절곡선 형태로 이어진 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 10,
The low resistance pattern is a touch panel sensor, characterized in that in the form of a straight, regular or irregular curve or regular or irregular bent line on the extension or the bridge portion formed of a transparent conductive material.
제10항에 있어서,
상기 저저항 패턴은 투명 도전성 재질로 형성된 상기 확장부 또는 상기 브릿지부 상에서 상호 분리된 상태로 상기 제1 전극 패턴 상에 배열된 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 10,
And the low resistance pattern is arranged on the first electrode pattern in a state of being separated from each other on the extension part or the bridge part formed of a transparent conductive material.
제1항에 있어서,
상기 브릿지부는 상기 저저항 라인의 상부 또는 하부에 위치한 상태로 적층되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The bridge unit is characterized in that the touch panel sensor is stacked in a state located above or below the low resistance line.
제1항에 있어서,
상기 투명 절연기판은 합성수지 필름 또는 유리 기판인 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The transparent insulation substrate is a touch panel sensor, characterized in that the synthetic resin film or glass substrate.
제1항에 있어서,
상기 디스플레이에 대향하는 상기 저저항 라인의 상면에 형성되는 광흡수부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
And a light absorbing part formed on an upper surface of the low resistance line facing the display.
제15항에 있어서,
상기 광흡수부는 구리/티타늄(Cu/Ti), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 및 블랙크롬(Black Chrome) 중 어느 하나를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
16. The method of claim 15,
The light absorbing unit is formed using any one of copper / titanium (Cu / Ti), molybdenum (Mo), chromium (Cr), and black chrome (Black Chrome).
제1항에 있어서,
상기 저저항 라인은 구리/티타늄(Cu/Ti), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 및 블랙크롬(Black Chrome) 중 어느 하나를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The low resistance line is formed using any one of copper / titanium (Cu / Ti), molybdenum (Mo), chromium (Cr), and black chrome (Black Chrome).
제1항에 있어서,
상기 저저항 라인은 금, 은 및 알루미늄, 니켈, 티타늄과 같은 금속 또는 금속을 이용한 합금을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
The low resistance line is a touch panel sensor, characterized in that formed using a metal, such as gold, silver and metals such as aluminum, nickel, titanium or an alloy using a metal.
제1항에 있어서,
복수개의 상기 저저항 라인이 전기적으로 연결되어 그룹화되어 제공되는 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
The method of claim 1,
And a plurality of the low resistance lines are electrically connected and grouped.
제19항에 있어서,
상기 그룹화된 저저항 라인은 상단, 하단, 중간 부분 또는 이들의 조합이 전기적으로 연결된 것을 특징으로 하는 터치패널센서.
20. The method of claim 19,
The grouped low resistance line is a touch panel sensor, characterized in that the top, bottom, middle portion or a combination thereof is electrically connected.
KR1020100015268A 2009-03-04 2010-02-19 Touch panel sensor including low resistant line pattern KR101128669B1 (en)

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