KR101125857B1 - High frequency treatment apparatus and method for controlling the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 고주파 치료 장치 및 이의 구동 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 치료 전극에 고주파 전원을 인가하고 치료 전극에 대응하는 다수의 대향 전극에는 순차적으로 기준 전원을 제공하여 치료 전극과 다수의 대향 전극 각각의 사이 공간에서 순차적으로 심부열을 발생시킴으로써 치료 목적과 치료하고자 하는 부위의 깊이와 범위에 따라 심부열의 발생 깊이 또는 심부열의 온도를 자유롭게 제어할 수 있는 고주파 치료 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a radiofrequency therapy apparatus and a method of driving the same, and more particularly, a radio frequency power is applied to a treatment electrode, and a plurality of counter electrodes corresponding to the treatment electrode are sequentially supplied with reference power to each of the treatment electrode and the plurality of counter electrodes. The present invention relates to a high frequency treatment apparatus capable of freely controlling the depth of deep heat generation or the temperature of deep heat according to the purpose of treatment and the depth and range of the area to be treated by sequentially generating deep heat in the space therebetween.
고주파, 치료, 심부열, 치료전극, 대향 전극, 스위치 High frequency, treatment, deep heat, treatment electrode, counter electrode, switch
Description
본 발명은 고주파 치료 장치 및 그 제어방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 치료 전극에 고주파 전원을 인가하고 치료 전극에 대응하는 다수의 대향 전극에는 순차적으로 기준 전원을 제공하여 치료 전극과 다수의 대향 전극 각각의 사이 공간에서 순차적으로 심부열을 발생시킴으로써 치료 목적과 치료하고자 하는 부위의 깊이와 범위에 따라 심부열의 발생 깊이 또는 심부열의 온도를 자유롭게 제어할 수 있는 고주파 치료 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a radiofrequency therapy apparatus and a method of controlling the same, and more particularly, a radio frequency power is applied to a therapeutic electrode, and a plurality of opposing electrodes corresponding to the therapeutic electrode are sequentially provided with reference powers, respectively. The present invention relates to a high frequency treatment apparatus capable of freely controlling the depth of deep heat generation or the temperature of deep heat according to the purpose of treatment and the depth and range of the area to be treated by sequentially generating deep heat in the space therebetween.
최근 식생활 문화의 변화와 운동 부족으로 인한 각종 성인병의 발생으로 더욱 건강에 관한 많은 관심을 가지게 되었다. 이에 따라 다양한 기능과 종류의 건강 관련 기기가 개발되어 널리 사용되고 있다. 이러한 기기로 고주파 치료기에 대한 기술 발전이 진행중이다.Recently, due to the change of dietary culture and the occurrence of various adult diseases due to lack of exercise has become a lot of attention to health. Accordingly, various functions and types of health-related devices have been developed and widely used. Advances in technology for radiofrequency therapy devices are underway.
통상 전기 치료란 인체에 직접 전류를 통하게 함으로써 환부를 치료하는 방법으로 전기요법이라고도 하는 것으로, 의료용으로 사용되는 전기치료는 주파수의 파형, 전류의 세기, 적용부위 등에 따라 그 기능이나 용도가 다양하다.In general, the electrotherapy is a method of treating the affected area by directly passing a current through the human body, also called electrotherapy, and the electrotherapy used for medical purposes has various functions and uses depending on the waveform of the frequency, the strength of the current, and the applied area.
이러한 전기 치료 장치는 전기 전달 용법을 통해 생체 내부 온도를 높이고, 이와 동시에 생체 조직의 활력과 연관된 생물학적 현상을 유지시킬 수 있는 혈관확장이 일어날 수 있게 한다. 이를 통해 피의 순환을 증가시키며 영양과 산소의 공급을 개선시키고 세포내 호흡과 독성 분 해산물(catabolin)의 배출을 자극한다. These electrotherapeutic devices allow for vasodilation that can increase the temperature in the living body through electrical delivery regimes and at the same time maintain biological phenomena associated with the vitality of living tissue. This increases blood circulation, improves nutrition and oxygen supply, stimulates intracellular respiration and the release of toxic catabolin.
이러한 전기 치료 장치 중의 하나로 고주파 전원을 이용하여 인체의 심부에 열을 발생하는 고주파 치료 장치가 널리 보급되어 사용되고 있다. 일반적으로 고주파 치료 장치는 고주파 전원을 인체에 통전시켜 투여된 전기에너지를 생체에너지로 전환하고, 전환된 생체에너지를 이용하여 발생된 열을 통하여 지방대사와 근육운동을 촉진시킴으로써 비만치료나 근육강화, 피부관리, 모발촉진 또는 통증완화 등에 사용되는 의료용 기기이다. As one of such electrotherapy devices, a radio frequency treatment device that generates heat in a deep portion of a human body using a high frequency power source has been widely used. In general, the radio frequency treatment device converts electrical energy administered by applying high frequency power to the human body to bioenergy and promotes fat metabolism and muscle movement through heat generated using the converted bioenergy to treat obesity, strengthen muscles, It is a medical device used for skin care, hair promotion or pain relief.
고주파 전원은 인체조직을 통전할 때 진동 폭이 매우 짧기 때문에, 인체조직으로 통전된 고주파 전원은 인체조직 내에서 이온 운동을 거의 일으키지 않으며 전기화학적 반응 또는 전기 분해 현상도 발생하지 않는다. 이러한 고주파 전원이 인체 내에 통전되면 조직에서 열이 발생하는데, 이를 심부열이라 한다. 이와 같이 심부열이 발생하는 이유는, 고주파의 전기 에너지가 인체조직에 가해지면 전원의 극성이 바뀔 때마다, 조직을 구성하는 분자들이 진동하면서 서로 마찰하게 되어 회전운동, 뒤틀림, 충돌운동에 의해 생체열을 발생시키기 때문이다.Since the high frequency power supply has a very short vibration width when the human tissue is energized, the high frequency power supplied to the human tissue hardly causes ion movement in the human tissue and does not cause an electrochemical reaction or electrolysis. When the high frequency power is energized in the human body, heat is generated in the tissue, which is called deep heat. The reason why deep heat is generated is that whenever high-frequency electric energy is applied to human tissues, whenever the polarity of the power source changes, molecules constituting the tissues vibrate and rub against each other, resulting in rotational, torsional, and collisional movements. This is because it generates heat.
고주파 전원은 인체 내 불편함이나 근육수축을 일으키지 않으면서, 신체 조직 안의 특정부위를 가열할 수 있으며, 발생된 심부열은 조직의 온도를 상승시켜 세포의 기능을 증진시키고 혈류량을 증가시키는 등의 역할을 한다. 그 결과, 인체 의 신진 대사 및 근육 운동이 촉진되어, 비만치료나 근육강화, 피부관리, 모발촉진 또는 통증완화의 효과를 얻을 수 있다.High-frequency power can heat certain parts of body tissues without causing discomfort or muscle contraction in the body, and the deep heat generated increases the temperature of tissues to enhance cell function and increase blood flow. Do it. As a result, the metabolism and muscle movement of the human body are promoted, and the effect of obesity treatment, muscle strengthening, skin care, hair promotion or pain relief can be obtained.
종래 기술1에 따른 고주파 치료 장치를 살펴보면, 고주파 전원을 생성하여 출력하는 본체와, 발생한 고주파 전원을 치료하고자 하는 환부로 인가하는 치료 전극판 및 신체의 일부와 접촉되며 환부로 인가된 고주파 전원을 접촉된 신체 일부로 통전시키는 대향 전극판으로 구성된다.Referring to the radio frequency treatment apparatus according to the related art 1, a main body generating and outputting a high frequency power, a treatment electrode plate for applying the generated high frequency power to the affected part to be treated, and a part of the body are in contact with the high frequency power applied to the affected part. It consists of an opposing electrode plate which energizes a part of the body.
종래 기술1에 따른 고주파 치료 장치에서 치료 전극판과 대향 전극판의 면적은 서로 동일하기 때문에, 치료 전극과 대향 전극 사이에 위치한 인체에서는 동일한 크기의 심부열이 발생한다. 따라서 종래 고주파 치료 장치는 치료 전극과 대향 전극 사이의 인체 내부에서 다양한 온도의 심부열을 발생시키지 못하고, 단일 온도의 심부열만이 발생하게 되었다. 이로 인해 원치 않는 영역에도 높은 온도의 심부열이 제공되며 특정 환부 부위에 심부열을 집중하기 곤란하다는 문제점을 가진다. Since the areas of the treatment electrode plate and the counter electrode plate are the same in the high frequency treatment apparatus according to the related art 1, deep heat of the same size occurs in the human body located between the treatment electrode and the counter electrode. Therefore, the conventional high frequency treatment apparatus does not generate deep heat of various temperatures inside the human body between the treatment electrode and the counter electrode, and only deep heat of a single temperature is generated. As a result, deep heat of a high temperature is provided even in an undesired area, and it is difficult to concentrate deep heat on a specific affected area.
종래 기술1이 가지는 문제점을 극복하기 위하여 종래기술2에 따른 고주파 치료 장치는 치료 전극보다 더 큰 판 형태의 단일 대향 전극을 갖도록 하여 치료 전극과 대향 전극 사이의 인체 내부에서 발생하는 심부열의 온도를 두 전극 사이의 깊이 별로 다르게 하였다. 즉, 치료 전극에서 대향 전극 방향으로 갈수록 심부열이 순차적으로 저하된다. 이를 통해 치료 전극과 인접한 인체 영역의 심부열 온도가 가장 높고, 대향 전극과 인접한 인체 영역의 심부열이 가장 낮게 된다. In order to overcome the drawbacks of the prior art 1, the high frequency therapeutic apparatus according to the
그러나 종래 기술2에 따른 고주파 치료 장치는 치료 전극에서 대향 전극 방향으로 갈수로(즉, 깊이 방향) 심부열의 온도가 낮아짐으로 인해 일정 온도 이상의 심부열이 인체 내부로 깊이 침투하지 못하는 문제점이 있다. However, the high frequency treatment apparatus according to the
또한 종래 기술2에 따른 고주파 치료 장치의 대향 전극판은 단일의 대향 전극으로 구성되어 있어, 치료 목적 또는 치료하고자 하는 부위의 깊이와 범위에 따라 적절하게 심부열의 발생 범위와 발생 깊이를 정확하게 제어하기 곤란하다는 문제점을 가진다. 또한 종래 기술2에 따른 고주파 치료 장치는 치료 전극판 주변에서만 높은 심부열이 발생할 뿐 신체 깊숙한 부위에 높은 심부열을 발생시키지 못한다는 문제점을 가진다.In addition, since the counter electrode plate of the radio frequency treatment apparatus according to the
본 발명이 이루고자 하는 목적은 위에서 언급한 종래 기술1, 2에 따른 고주파 치료 장치가 가지는 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 치료 전극 바로 하측 영역에 심부열을 집중시킬 뿐만 아니라, 일정 온도 이상의 심부열이 인체 내측에 깊이 침투하도록 하여 치료 효과를 증대시킬 수 있는 고주파 치료 장치 및 그 제어방법을 제공하는 것이다.The purpose of the present invention is to solve the problems of the radiofrequency treatment apparatus according to the
본 발명이 이루고자 하는 다른 목적은 대향 전극판이 다수의 대향 전극을 구비하도록 하며 치료 목적, 치료하고자 하는 부위의 깊이 또는 범위에 따라 심부열의 발생 범위 또는 심부열의 발생 깊이에 따른 온도를 자유롭게 제어할 수 있는 고주파 치료 장치 및 그 제어방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a counter electrode plate with a plurality of counter electrodes and to freely control the temperature according to the treatment purpose, the depth of occurrence of the deep heat or the depth of the deep heat in accordance with the depth or range of the area to be treated It is to provide a radiofrequency therapy apparatus and a control method thereof.
본 발명이 이루고자 하는 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 고주파 전원과 기준 전원을 발생시키는 고주파 전원 발생부와, 고주파 전원 발생부에 접속된 치료 전극과, 다수의 대향 전극을 구비하는 대향 전극판과, 다수의 대향 전극 각각을 순차적으로 고주파 전원 발생부에 전기적으로 접속 제어하는 제어부 및 제어부의 제어 명령에 따라 다수의 대향 전극 각각을 순차적으로 고주파 전원 발생부에 전기적으로 접속시키는 스위치부를 포함하며, 다수의 대향 전극 각각의 면적은 치료 전극과 동일한 것을 특징으로 한다. 여기서 다수의 대향 전극 각각의 사이즈는 치료 전극의 사이즈와 동일한 것을 특징으로 한다.In order to achieve the object of the present invention, the high frequency treatment apparatus according to the present invention is provided with a high frequency power generator for generating a high frequency power source and a reference power source, a treatment electrode connected to the high frequency power generator, and a plurality of counter electrodes A control unit for electrically connecting and controlling each of the counter electrode plates and the plurality of counter electrodes sequentially to the high frequency power generation unit, and a switch for electrically connecting each of the plurality of counter electrodes sequentially to the high frequency power generation unit according to a control command of the control unit. And an area of each of the plurality of counter electrodes is the same as the treatment electrode. The size of each of the plurality of counter electrodes is characterized in that the same as the size of the treatment electrode.
대향 전극판은, 다수의 내선을 갖는 베이스판과, 베이스판의 일단에 마련되어 다수의 내선에 각기 접속된 대향 전극 커넥터를 구비하고, 베이스 판의 상측에 다수의 대향 전극이 배치되고, 다수의 대향 전극은 다수의 내선에 각기 접속될 수 있다. The counter electrode plate includes a base plate having a plurality of inner wires, and a counter electrode connector provided at one end of the base plate and connected to the plurality of inner wires, respectively, and on the upper side of the base plate, a plurality of counter electrodes are disposed, The electrodes may be respectively connected to a plurality of extensions.
본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 인체의 일측에 접속된 치료 전극과 치료 전극에 대향 배치된 다수의 대향 전극을 포함하고, 치료 전극에 고주파 전원을 인가하고, 다수의 대향 전극에 순차적으로 기준 전원을 인가하여 치료 전극과 다수의 대향 전극사이 공간에 대향 전극의 개수 만큼의 서로 다른 온도 영역을 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 고주파 치료 장치의 제어방법은, 인체의 일측에 접속된 치료 전극에 대향하여 배치된 다수의 대향 전극들 중 적어도 2개 이상의 대향 전극을 선택하는 단계, 상기 선택한 대향 전극에 기준 전원을 인가하기 위한 순서를 설정하는 단계, 상기 치료 전극을 통해 인체에 고주파 전원을 인가하면서 상기 선택한 대향 전극에 상기 설정한 순서에 따라 순차적으로 기준 전원을 인가하여 상기 치료 전극과 다수의 대향 전극들 사이의 심부열 발생 영역을 가변시키는 단계를 포함한다.The high frequency treatment apparatus according to the present invention includes a treatment electrode connected to one side of a human body and a plurality of counter electrodes disposed opposite to the treatment electrode, applying a high frequency power to the treatment electrodes, and sequentially applying reference power to the plurality of counter electrodes. It is characterized by forming a different temperature region by the number of the counter electrode in the space between the treatment electrode and the plurality of counter electrodes.
According to an aspect of the present invention, there is provided a method of controlling a radiofrequency therapy apparatus, the method including: selecting at least two or more counter electrodes among a plurality of counter electrodes disposed to face a treatment electrode connected to one side of a human body; Setting a procedure for applying a reference power to the counter electrode, applying a high frequency power to the human body through the treatment electrode, and sequentially applying the reference power to the selected counter electrode according to the set order; Varying the deep heat generating region between the opposing electrodes of.
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본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 종래기술에 따른 고주파 치료 장치와 비교하여 다음과 같은 다양한 효과를 가진다.Radiofrequency treatment apparatus according to the present invention has a variety of effects as follows as compared to the radiofrequency treatment apparatus according to the prior art.
첫째, 본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 치료 전극과 이에 대응하는 다수의 대향 전극을 구비하고 있으며 다수의 대향 전극에 각기 순차적으로 고주파 전원에 대응하는 기준 신호를 제공함으로써, 치료 전극 바로 아래 영역에 심부열을 집중시킬 뿐만 아니라 일정 온도 이상의 심부열이 인체 내측에 깊이 침투하도록 하여 치료 효과를 증대시킬 수 있다. First, the radiofrequency treatment apparatus according to the present invention includes a treatment electrode and a plurality of counter electrodes corresponding thereto, and provides a reference signal corresponding to a high frequency power to each of the plurality of counter electrodes sequentially, thereby providing a core portion in an area directly below the treatment electrode. In addition to concentrating heat, deep heat above a certain temperature can be deeply penetrated inside the body, thereby increasing the therapeutic effect.
둘째, 본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 다수의 대향 전극들 중 일부의 대향 전극들만 또는 모든 대향 전극들은 선택적으로 치료 목적에 따라 일정 순서로 순차적으로 활성화시킴으로써, 치료 목적과 치료하고자 하는 부위의 깊이와 범위에 따라 심부열의 발생 깊이와 범위 및 심부열의 온도를 자유롭게 제어할 수 있다. Second, the radiofrequency treatment apparatus according to the present invention selectively activates only some of the opposing electrodes or all the opposing electrodes of the plurality of opposing electrodes sequentially in a predetermined order according to the therapeutic purpose, thereby reducing the depth of treatment and the depth of the area to be treated. According to the range, the depth and range of deep heat generation and the temperature of the deep heat can be freely controlled.
셋째, 본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 치료 전극과 다수의 대향 전극 각각의 사이 공간에서 순차적으로 열을 발생시킬 수 있고, 이때 다수의 대향 전극과 치료 전극의 사이즈를 동일하게 하여 인체 내측에 열이 균일하게 제공되도록할 뿐 아니라 일부 공간에서 열이 급격하게 변화하는 것을 방지할 수 있다. Third, the radio frequency treatment apparatus according to the present invention may sequentially generate heat in a space between the treatment electrode and each of the plurality of counter electrodes, and at this time, the heat may be generated inside the human body by equalizing the sizes of the plurality of counter electrodes and the treatment electrodes. In addition to providing uniformity, it is possible to prevent the rapid change of heat in some spaces.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention in more detail. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. Like numbers refer to like elements in the figures.
도 1은 본 발명에 따른 고주파 치료 장치의 개략적인 사시도이다1 is a schematic perspective view of a radiofrequency therapy apparatus according to the present invention.
도 1을 본 발명에 따른 고주파 치료 장치를 보다 구체적으로 살펴보면, 고주파 치료 장치는 치료 전극 유닛(100), 대향 전극 유닛(200) 및 고주파 발생 유닛(300)으로 구성된다. 고주파 발생 유닛(300)은 고주파 전원과 고주파 전원에 대응하는 기준 전원을 발생시키고 발생한 고주파 전원과 기준 전원을 출력하는 기능을 수행한다. Referring to Figure 1 in more detail with respect to the radiofrequency treatment apparatus according to the present invention, the radiofrequency treatment apparatus is composed of a
치료 전극 유닛(100)은 고주파 발생 유닛(300)에서 발생된 고주파 전원을 치료하고자 하는 환부에 인가하는 기능을 수행하는데, 치료 전극(110), 치료 전극(110)의 적어도 일부를 감싸는 치료 전극 부착부재(120) 및 치료 전극(110)의 일부에서 연장된 치료 전극 커넥터(130)를 구비한다. 치료 전극 커넥터(130)를 통해 치료 전극(100)은 치료 배선부(380)와 접속되며, 치료 배선부(380)는 본체(300)에 전기적으로 접속되어 있어 고주파 발생 유닛(300)에서 발생한 고주파 전원을 치료 전극(110)으로 제공할 수 있다. 바람직하게, 치료 전극 부착부재(120)는 절연성 물질로 제작되며 치료 전극 부착 부재(120)의 표층에는 인체와의 접속을 용이하게 하고 고주파 전원의 전달을 용이하게 할 수 있는 별도의 물질이 부착 또는 도포될 수 있다. The
한편, 대향 전극 유닛(200)은 신체의 일부와 접촉되어 치료하고자 하는 환부로 인가된 고주파 전원을 신체에서 통전시키는 기능을 수행한다. 대향 전극 유닛(200)은 내부에 다수의 내선(미도시)을 갖는 베이스판(220)과, 베이스판(220)의 일단에 마련되어 다수의 내선에 각기 접속된 대향 전극 커넥터(230)와, 베이스판(220)상에 위치하여 다수의 내선에 각기 접속된 다수의 대향 전극(210)를 구비한다. 대향 전극 커넥터(230)를 통해 다수의 대향 전극(210)은 대향 배선부(390)와 접속되며, 대향 배선부(390)는 본체(300)에 전기적으로 접속되어 있어 고주파 발생 유닛(300)에서 발생한 기준 전원이 다수의 대향 전극(210)에 순차적으로 제공된다. On the other hand, the
도 2는 본 발명에 따른 고주파 치료 장치에서 고주파 전원을 발생시키는 고주파 발생 유닛의 기능 블록도이다.2 is a functional block diagram of a high frequency generating unit for generating a high frequency power in the high frequency treatment apparatus according to the present invention.
도 2를 참고로 고주파 발생 유닛(300)에 대해 보다 구체적으로 살펴보면, 고주파 전원과 기준 전원을 발생하는 고주파 전원 발생부(310)와, 고주파 전원 발생부(310)에서 생성된 고주파 전원을 증폭 또는 가변하는 증폭/가변부(320)와, 고주파 전원을 출력하는 출력부(330)와, 스위치부(340)와 이들(310, 320, 330, 340)의 동작을 제어하는 제어부(350) 및 고주파 발생 유닛(300)의 각 구성요소(310, 320, 330, 340, 350)에 필요한 전원을 제공하는 전원부(360)를 구비한다. 전원부(360)는 외부 전원을 인가 받아 이를 고주파 발생 유닛(300)의 구성요소들(310, 320, 330, 340, 350)에서 사용하는 전원으로 변화시키는 전원 변환 수단을 구비할 수 있 다. 도시되지 않았지만, 고주파 발생 유닛(300)에는 사용자의 조작에 의한 사용자 명령을 입력하기 위한 사용자 인터페이스 수단이 마련될 수 있다. Referring to FIG. 2 with reference to FIG. 2, the high
고주파 전원 발생부(310)는 전원부(360)에서 제공되는 전원을 이용하여 고주파 전원과 기준 전원을 생성하는데, 여기서 기준 전원이란 고주파 전원의 크기에 따라 고주파 전원의 극성을 구분할 수 있는 크기의 전원으로 바람직하게 접지 전원이 사용된다. 고주파 전원 발생부(310)는 100kHZ 내지 10MHZ 범위의 고주파 전원을 생성하는 것을 특징으로 한다.The high frequency
증폭/가변부(320)는 고주파 전원 발생부(310)에서 생성된 고주파 전원을 증폭하거나 이의 진폭, 파장을 변화시킨다. 이를 통해 고주파에 의한 인체 손상을 방지할 수 있다. The amplifier /
출력부(330)는 증폭되거나 가변된 고주파 전원을 제1 출력단자(예를 들어 제1 접속 커넥터(370a))를 통해 치료 전극 유닛으로 출력하며, 스위치부(340)와 제2 출력단자(예를 들어 제2 접속 커넥터(370b))를 통해 기준 전원을 대향 전극 유닛(200)으로 출력한다. The
제어부(360)의 제어 동작 하나로, 제어부(360)는 다수의 대향 전극들에 순차적으로 기준 전원이 인가될 수 있도록 스위치부(340)를 제어하는데, 스위치부(340)는 제어부(360)의 제어에 따라 출력부(330)에서 출력된 기준 신호를 제 2 접속 커넥터(370b)를 통해 대향 전극판(200)에 제공한다. 이때, 스위치부(340)는 출력된 기준 신호를 제어부(360)의 제어 신호에 따라 스위칭하여 대향 전극 유닛(200) 내의 다수의 대향 전극(210)에 기준 전원을 순차적으로 제공한다. 즉, 스위치 부(340)는 출력부(330)와 다수의 대향 전극(210) 사이에서 다수의 대향 전극(210) 각각을 순차적으로 출력부(330)에 접속시킨다.In one control operation of the
여기서, 스위치부(340)는 출력부(330)에 접속된 일 고정 단자와, 다수의 대향 전극(210)에 각기 접속된 다수의 스위칭 단자를 구비하고, 이 고정 단자와 스위칭 단자 간을 순차적으로 접속시키는 접속 단자를 구비한다. 이러한 스위치부(340)로 릴레이와 같은 스위칭 소자를 사용할 수 있지만 이에 한정되지 않고, 다양한 종류의 스위치를 사용할 수 있다. 다만 본 발명에서 스위치부(340)에 의해 고주파 전원이 스위칭되므로 고주파에 강한 스위칭 소자를 사용하는 것이 바람직하다. Here, the
제어부(360)의 동작 중 스위치부(340)의 제어 동작을 보다 구체적으로 살펴보면, 치료 목적과 치료하고자 하는 부위의 깊이 또는 범위에 따라 대향 전극판(200)에 장착되어 있는 다수의 대향 전극들 중 적어도 2개 이상의 대향 전극 또는 모든 대향 전극을 선택하고, 선택한 대향 전극에 치료 목적과 치료하고자 하는 부위의 깊이 또는 범위에 따라 기준 전원이 순차적으로 인가되는 순서를 설정 제어한다. 바람직하게, 대향 전극의 선택 또는 선택된 대향 전극에 기준 전원을 순차적으로 인가하는 순서는 사용자 인터페이스부를 통해 입력된 치료 모드를 통해 설정될 수 있다. 여기서 치료 모드란 치료 목적과 치료하고자 하는 부위의 깊이 또는 범위를 기설정한 것으로 치료 모드에 따라 자동으로 대향 전극이 선택되거나 대향 전극에 기준 전원이 순차적으로 인가되는 순서가 정해진다. 제어부(360)는 스위치부(340)의 동작을 제어하기 위한 스위칭 제어 명령을 스위치부(340)로 제공하 며, 스위치부(340)는 스위칭 제어 명령에 따라 출력부(330)와 다수의 대향 전극(210) 사이에서 선택된 다수의 대향 전극(210) 각각을 설정된 순서로 순차적으로 출력부(330)에 접속시킨다.Looking at the control operation of the
도 3은 본 발명에 따른 고주파 치료 장치에서 심부열 발생 상태의 일 예를 나타내는 도면이다.3 is a view showing an example of a deep heat generation state in the radiofrequency treatment apparatus according to the present invention.
도 3을 참조하여 살펴보면, 본 발명에 따른 고주파 치료 장치는 스위치부에 의해 다수의 대향 전극이 순차적으로 고주파 전원 발생부에 접속되기 때문에 대향 전극의 개수에 해당하는 만큼의 서로 다른 온도 영역이 발생한다. Referring to FIG. 3, since the plurality of counter electrodes are sequentially connected to the high frequency power generator by the switch unit, the radio frequency treatment apparatus according to the present invention generates different temperature ranges corresponding to the number of counter electrodes. .
도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에서는 4개의 대향 전극(210)을 구비한다. 즉, 제 1 내지 제 4 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)이 개시되었다. 다수의 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)이 스위치부(240)를 통해 순차적으로 출력부(330)에 접속되어 다수의 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)에 순차적으로 기준 전원이 인가되기 때문에, 치료 전극(110)과 제 1 내지 제 4 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d) 각각 사이 공간에서 순차적으로 심부열이 발생한다. 즉, 예를 들어 치료 전극(110)에는 지속적으로 고주파 전원이 인가되고, 제 1 내지 제 4 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)이 순차적으로 출력부(330)에 접속되어 기준 전원이 인가될 경우를 생각하면 다음과 같다. 처음 제 1 대향 전극(210a)에 기준 전원이 인가되어 치료 전극(110)과 제1 대향 전극(210a) 사이에 심부열이 발생한다. 이어서, 제 2 대향 전극(210b) 내지 제 4 대향 전극(210d)에 기준 전원이 순차적으로 인가되어 치료 전극(110)과 제2 대향 전극(210b) 사이, 제 3 전 극(210c)과 치료 전극(110) 사이 및 제 4 치료 전극(210d)와 치료 전극(110) 사이에 순차적으로 심부열이 발생하게 된다. As shown in FIG. 3, one embodiment of the present invention includes four
이와 같이 발생한 심부열의 발생 영역이 도 3에서와 같이 중첩되며, 신체 내부에서는 서로 다른 4가지 온도를 갖는 심부열 영역이 형성된다. The regions of deep heat generated as described above overlap as shown in FIG. 3, and deep core regions having four different temperatures are formed inside the body.
즉, 가장 높은 온도를 갖는 제 1 심부열 영역은 치료 전극(110)의 바로 아래 영역에 위치하고, 제 1 심부열 영역 보다 낮은 온도를 갖는 제 2 심부열 영역은 제 1 심부열 영역의 표면을 감싸는 형상을 갖는다. 또한, 제 2 심부열 영역 보다 낮은 온도를 갖는 제 3 심부열 영역은 제 2 심부열 영역의 표면을 감싸는 형상을 갖는다. 그리고, 가장 낮은 온도를 갖는 제 4 심부열 영역은 제 3 심부열 영역의 표면을 감싸고 그 일단이 대향 전극(210)에 인접한다. 한편, 치료 전극(110)과 제1 대향 전극(210a) 사이, 치료 전극(110)과 제2 대향 전극(210b) 사이, 치료 전극(110)과 제 3 대향 전극(210c) 사이, 치료 전극(110)과 제 4 치료 전극(210d) 사이에서는 종래기술2와 달리 신체 깊숙한 부위에서 심부열을 순차적으로 발생된다.That is, the first deepest thermal region having the highest temperature is located in the region immediately below the
물론 본 발명의 일 실시예에 따른 대향 전극(210)의 개수는 4개에 한정되지 않고, 이보다 많을 수도 있고 적을 수도 있으며, 대향 전극(210)의 개수에 따라 발생되는 심부열 영역의 개수도 4개 보다 더 많거나 적을 수 있다.Of course, the number of
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 심부열 발생 상태의 일 예를 설명한 것으로, 본 발명이 적용되는 치료 목적, 치료하고자 하는 부위의 깊이와 위치, 치료 방식에 따라 다수의 대향 전극들에 기준 전원을 인가하는 순서를 변경하거나 다수의 대향 전극들 중 기준 전원을 인가하는 대향 전극의 수를 선택하여 심부열의 발 생 영역, 발생 깊이 또는 발생 위치를 제어할 수 있다. 3 is a view illustrating an example of a deep heat generation state according to an embodiment of the present invention, and is based on a plurality of counter electrodes according to a treatment purpose to which the present invention is applied, a depth and a location of a region to be treated, and a treatment method. The generation region, the generation depth, or the generation position of the deep column may be controlled by changing the order of applying the power or selecting the number of the counter electrodes to which the reference power is applied among the plurality of counter electrodes.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 대향 전극 유닛의 평면 개념도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 대향 전극 유닛의 단면 개념도이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예의 변형예에 따른 대향 전극 유닛의 평면 개념도이다. 4 is a plan conceptual view of a counter electrode unit according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional conceptual view of a counter electrode unit according to an exemplary embodiment of the present invention. 6 is a plan conceptual view of a counter electrode unit according to a modified example of the embodiment.
본 발명에 따른 대향 전극 유닛(200)의 일 예는 내부에 다수의 내선(221, 222, 223, 224)을 갖는 베이스판(220)과, 베이스판(220)의 일단에 마련되어 다수의 내선(221, 222, 223, 224)에 각기 접속된 대향 전극 커넥터(230)와, 베이스판(220)상에 위치하여 다수의 내선(221, 222, 223, 224)에 각기 접속된 다수의 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)를 구비한다. An example of the
베이스판(220)의 내측에는 다수의 내선(221, 222, 223, 224)이 위치하는데, 내선(221, 222, 223, 224)의 일단은 대향 전극 커넥터(230)에 접속되며, 내선(221, 222, 223, 224)의 타단은 다수의 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)에 각기 접속되어 있다. 대향 전극 유닛(200)은 대향 전극 커넥터(230)를 통해 대향 배선부(390)에 접속되며, 고주파 발생 유닛(300)에서 발생한 기준 전원을 다수의 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)에 순차적으로 제공할 수 있다.A plurality of
본 실시예에 따른 대향 전극 유닛(200)은 상술한 설명에 한정되지 않고 다양한 구성이 가능하다. 즉, 도 6의 변형예에서와 같이 대향 전극 유닛(200)은 베이스판(220) 상에 다수의 대향 전극(210)이 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 이를 통해 인체의 넓은 면에 대하여 심부열을 발생시킬 수 있다. 또한 치료 목적, 치료하고자 하는 부위의 깊이와 위치에 따라 매트릭스 형태로 배열된 다수의 대향 전극 들(210) 중 일부의 대향 전극(210)만을 조합하여 순차적으로 조합된 대향 전극(210)에 기준 전원을 제공하거나 다수의 대향 전극들(210) 모두에 일정한 순서로 순차적으로 기준 전원을 제공함으로써, 심부열의 온도, 치료 전극과 대향 전극 사이의 인체에서 발생하는 심부열의 발생 깊이에 따른 온도, 심부열의 발생 범위를 자유롭게 제어할 수 있다. The
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 고주파 치료 장치의 동작을 설명하기 위한 파형도이다. 7 is a waveform diagram illustrating the operation of the radiofrequency therapy apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 7을 참고로 고주파 치료 장치에서 인가되는 고주파 전원과 기준 전원의 파형을 보다 구체적으로 살펴보면, 고주파 치료 장치의 동작 중 치료 전극(110)은 고주파 전원 발생부(310)로부터 지속적으로 고주파 전원을 인가받는다. 그러나, 다수의 대향 전극(210) 각각은 고주파 전원 발생부(310)에 순차적으로 접속된다. 이를 통해 순차적으로 고주파 전원에 대응하는 접지 신호를 인가 받는다.Referring to FIG. 7, the waveforms of the high frequency power source and the reference power source applied by the high frequency therapy device are described in detail. During the operation of the high frequency therapy device, the
치료 전극(110)은 제 1 시간(T5) 동안 고주파 전원 발생부(310)에 접속되어 고주파 전원을 인가 받는다. 그리고, 4개의 대향 전극(210a, 210b, 210c, 210d)는 각기 T5의 1/4시간 동안(즉, T1 내지 T4) 고주파 전원 발생부(310)에 접속되어 순차적으로 접지 신호를 인가 받는다.The
즉, T1 시간동안 다수의 대항 전극(210) 중 제 1 대향 전극(210a)이 스위치부(340)에 접속되어 접지 신호를 인가 받고, 나머지 대향 전극(210)은 플로팅된다. 따라서, T1 시간 동안 치료 전극(110)과 제 1 대향 전극(210a)사이 영역에서 심부열이 발생한다. 이어서, T2 시간 동안은 제 2 대향 전극(210b)이 스위치부(340)에 접속되어 접지 신호를 인가 받는다. 따라서, T2 시간 동안은 치료 전극(110)과 제 2 대향 전극(210b)사이 영역에서 심부열이 발생한다. 또한, T3 및 T4 시간 동안에는 각기 제 3 및 제 4 대향 전극(210c, 201d)이 스위치부(340)에 각기 접속되어 접지 신호를 인가 받는다. 이를 통해 T3, T4 시간 동안은 치료 전극(110)과 제 3 대항 전극(210c) 및 치료 전극(110)과 제 4 대항 전극(201d) 각각의 사이 영역에서 심부열이 발생한다. 이를 통해 앞서 언급한 형상의 심부열이 치료 전극(110)과 다수의 대향 전극(210) 사이에서 발생하게 된다. That is, during the time T1, the
상술한 설명에서는 동일 시간 동안 다수의 대향 전극(210)이 고주파 전원 발생부(310)에 접속되어 심부열을 발생시킴에 관해 설명하였다. 이를 통해 인체 내부에 균일한 열을 제공할 수 있게 된다. 하지만, 이에 한정되지 않고, 다수의 대향 전극(210) 각각이 서로 다른 시간 동안 고주파 전원 발생부(310)에 접속되어 접지 신호를 인가 받을 수도 있다. In the above description, a plurality of
물론 본 발명의 실시예에서는 다수의 대항 전극(210) 중 일부의 대항 전극(210) 만을 고주파 전원 발생부(310)에 접속시킬 수도 있다. 예를 들어 4개의 대항 전극(210a, 210b, 210c, 210d) 중 제 2 및 제 3 대항 전극(210b, 210c)만이 순차적으로 고주파 전원 발생부(310)에 접속될 수 있다. 물론 이때, 접속되는 대항 전극의 개수는 이에 한정되지 않고 사용자의 조작에 의해 다양하게 변화할 수 있다. Of course, in the embodiment of the present invention, only some of the
도 8은 본 발명에 따른 고주파 치료 장치의 구동 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.8 is a flowchart illustrating a method of driving a radiofrequency therapy apparatus according to the present invention.
도 8을 참고로 보다 구체적으로 살펴보면, 환자의 환부 위치 또는 치료 목적에 따라 치료 모드를 선택하기 위한 사용자 명령이 입력된다(S1). 환부의 위치 또는 치료 목적에 따라 심부열의 발생 깊이와 범위를 달리하여야 하며, 심부열의 발생 깊이 또는 범위를 설정하는 치료 모드를 선택하기 위한 사용자 명령이 입력된다. 선택된 치료 모드에 따라 다수의 대향 전극들 중 적어도 2개 이상의 일부 대향 전극들 또는 모든 대향 전극들을 선택하고(S3), 선택된 치료 모드에 따라 선택한 대향 전극들에 기준 전원을 순차적으로 인가하는 순서를 설정한다(S5). 설정된 순서에 따라 스위치부를 제어하기 위한 제어 신호를 생성하여 선택된 대향 전극에 설정된 순서에 따라 순차적으로 기준 전원을 인가한다(S7). Looking in more detail with reference to Figure 8, a user command for selecting a treatment mode according to the patient's affected position or treatment purpose is input (S1). According to the location of the affected area or the purpose of treatment, the depth and range of deep fever should be varied, and a user command for selecting a treatment mode for setting the depth or range of deep fever is input. At least two or more of the plurality of opposing electrodes or all the opposing electrodes of the plurality of opposing electrodes are selected according to the selected treatment mode (S3), and the order of sequentially applying the reference power to the selected opposing electrodes according to the selected treatment mode is set. (S5). A control signal for controlling the switch unit is generated according to the set order, and the reference power is sequentially applied to the selected counter electrode in the order set (S7).
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고주파 치료 장치의 개념 사시도를 도시하고 있다.1 is a conceptual perspective view of a radiofrequency therapy apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 본체의 개념 블록도를 도시하고 있다. 2 is a conceptual block diagram of a main body according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 고주파 치료 장치의 심부열 발생 상태의 일 예를 도시하고 있다. 3 illustrates an example of a deep heat generation state of the radiofrequency treatment apparatus according to the present invention.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 대향 전극판의 평면 개념도를 도시하고 있다.4 is a plan view illustrating a counter electrode plate according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5은 본 발명의 일 실시예에 따른 대향 전극판의 단면 개념도를 도시하고 있다. 5 illustrates a cross-sectional conceptual view of a counter electrode plate according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 일 실시예의 변형예에 따른 대향 전극판의 평면 개념도를 도시하고 있다. 6 illustrates a plan view of a counter electrode plate according to a modification of the exemplary embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 고주파 치료 장치의 동작을 설명하기 위한 파형도이다.7 is a waveform diagram illustrating the operation of the radiofrequency therapy apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 고주파 치료 방법의 일 예를 설명하기 위한 흐름도이다 8 is a flowchart illustrating an example of a radiofrequency treatment method according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100 : 치료 전극판 110 : 치료 전극100: treatment electrode plate 110: treatment electrode
200 : 대향 전극판 210 : 대향 전극200: counter electrode plate 210: counter electrode
310 : 고주파 전원 발생부 320 : 스위치부310: high frequency power generation unit 320: switch unit
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090071752A KR101125857B1 (en) | 2009-08-04 | 2009-08-04 | High frequency treatment apparatus and method for controlling the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090071752A KR101125857B1 (en) | 2009-08-04 | 2009-08-04 | High frequency treatment apparatus and method for controlling the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110014011A KR20110014011A (en) | 2011-02-10 |
KR101125857B1 true KR101125857B1 (en) | 2012-04-12 |
Family
ID=43773408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090071752A KR101125857B1 (en) | 2009-08-04 | 2009-08-04 | High frequency treatment apparatus and method for controlling the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101125857B1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101979589B1 (en) | 2018-04-16 | 2019-05-17 | 한성호 | High frequency treatment apparatus |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160303 Year of fee payment: 5 |
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LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |