KR101085135B1 - Liquid Crystal Display Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하부기판 상에 형성된 배선층 하부에 반사층을 형성하여, 배선층에서 반사되는 광을 다시 재반사함으로써 광효율을 향상시킬 수 있는 액정표시소자에 관한 것으로, 본 발명의 액정표시소자는 하부기판 및 상부기판; 상기 하부기판 상에 형성된 배선층; 상기 배선층 하부에 형성되어, 상기 배선층에서 반사된 광을 재반사하기 위한 반사층; 및 상기 하부기판 및 상부기판 사이에 형성된 액정층을 포함한다. The present invention relates to a liquid crystal display device capable of improving the light efficiency by forming a reflective layer under the wiring layer formed on the lower substrate and reflecting light reflected from the wiring layer again. The liquid crystal display device of the present invention includes a lower substrate and an upper substrate. Board; A wiring layer formed on the lower substrate; A reflection layer formed under the wiring layer to reflect back light reflected from the wiring layer; And a liquid crystal layer formed between the lower substrate and the upper substrate.

반사층 Reflective layer

Description

액정표시소자{Liquid Crystal Display Device}Liquid Crystal Display Device

도 1a는 종래 액정표시소자를 구성하는 하부기판의 평면도이다.1A is a plan view of a lower substrate constituting a conventional liquid crystal display device.

도 1b는 도 1a의 A-A라인의 단면도이다. FIG. 1B is a cross-sectional view of the A-A line of FIG. 1A.

도 1c는 도 1a의 B-B라인의 단면도이다. FIG. 1C is a cross-sectional view of the B-B line of FIG. 1A.

도 2a는 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 평면도이다.2A is a plan view of a lower substrate for a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 2b는 도 2a의 A-A라인에 해당하는 액정표시소자의 일 실시예에 따른 단면도이다. FIG. 2B is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an A-A line of FIG. 2A.

도 2c는 도 2a의 A-A라인에 해당하는 액정표시소자의 다른 일 실시예에 따른 단면도이다.FIG. 2C is a cross-sectional view of another exemplary embodiment of the liquid crystal display device corresponding to the A-A line of FIG. 2A.

도 3a는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 평면도이다.3A is a plan view of a lower substrate for a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

도 3b는 도 2a의 B-B라인에 해당하는 액정표시소자의 일 실시예에 따른 단면도이다. 3B is a cross-sectional view of an exemplary embodiment of a liquid crystal display device corresponding to the B-B line of FIG. 2A.

도 3c는 도 2a의 B-B라인에 해당하는 액정표시소자의 다른 일 실시예에 따른 단면도이다. 3C is a cross-sectional view according to another exemplary embodiment of the liquid crystal display device corresponding to the B-B line of FIG. 2A.

<도면의 주요부의 부호에 대한 설명> DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS OF THE DRAWINGS FIG.                 

100: 하부기판 120: 게이트배선100: lower substrate 120: gate wiring

140: 데이트배선 200: 상부기판140: date wiring 200: upper substrate

220: 차광층 300: 반사층220: light shielding layer 300: reflective layer

본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 광효율이 우수한 액정표시소자에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device excellent in light efficiency.

표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display) 중에서 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Among the ultra-thin flat panel displays, where the display screen is only a few centimeters (cm) thick, the liquid crystal display has a low operating voltage, so it has low power consumption and can be used as a portable device. The applications range from spacecraft to aircrafts.

이와 같은 액정표시소자는 서로 소정간격으로 대향하는 하부기판 및 상부기판, 그리고 상기 하부기판 및 상부기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 특히, 액정표시소자는 소자 자체에 발광원이 없기 때문에 상기 하부기판 하부에 광원으로서 백라이트가 추가된다. Such a liquid crystal display device includes a lower substrate and an upper substrate facing each other at predetermined intervals, and a liquid crystal layer formed between the lower substrate and the upper substrate. In particular, the liquid crystal display device does not have a light emitting source in the device itself. A backlight is added as a light source under the lower substrate.

이와 같은 액정표시소자는 전압인가에 의해 상기 액정층의 배향이 변경되고 그에 따라 하부 백라이트에서 출사된 광의 투과도가 조절됨으로써 화상이 재현되게 된다. 따라서, 하부의 백라이트에서 출사된 광이 중간에서 차단될 경우에는 그만큼 액정표시소자의 효율이 떨어지게 된다. In such a liquid crystal display device, the orientation of the liquid crystal layer is changed by applying a voltage, and accordingly, the transmittance of light emitted from the lower backlight is adjusted to reproduce an image. Therefore, when the light emitted from the lower backlight is blocked in the middle, the efficiency of the liquid crystal display device decreases by that much.                         

이하, 도면을 참조로 종래의 액정표시소자에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, a conventional liquid crystal display device will be described with reference to the drawings.

도 1a는 종래 액정표시소자를 구성하는 하부기판의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 A-A라인의 단면도이고, 도 1c는 도 1a의 B-B라인의 단면도이다. FIG. 1A is a plan view of a lower substrate constituting a conventional liquid crystal display, FIG. 1B is a cross-sectional view of the A-A line of FIG. 1A, and FIG. 1C is a cross-sectional view of the B-B line of FIG. 1A.

도 1a에서 알 수 있듯이, 종래 액정표시소자의 하부기판에는 서로 교차되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선(10) 및 데이터배선(20)이 형성되어 있고, 상기 화소영역에 화소전극(30)이 형성되어 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 게이트배선(10) 및 데이터배선(20)의 교차점에 스위칭소자로서 박막트랜지스터가 형성되게 된다. As can be seen in FIG. 1A, a plurality of gate wirings 10 and data wirings 20 are formed on the lower substrate of the conventional liquid crystal display to define a pixel region, and the pixel electrode 30 is formed in the pixel region. Is formed. Although not shown, a thin film transistor is formed as a switching element at the intersection of the gate wiring 10 and the data wiring 20.

보다 구체적으로, 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 투명기판(1)상에 게이트배선(10)이 형성되고, 게이트배선(10) 상부에 게이트절연막(12)이 형성되며, 상기 게이트절연막(12) 상부에 상기 게이트배선(10)과 교차되도록 데이터배선(20)이 형성되고, 데이터배선(20) 상부에 보호막(22)이 형성되며, 보호막(22) 상부에 화소전극(30)이 형성된다. More specifically, referring to FIGS. 1B and 1C, a gate wiring 10 is formed on the transparent substrate 1, a gate insulating film 12 is formed on the gate wiring 10, and the gate insulating film 12 is formed. The data line 20 is formed to cross the gate line 10, the passivation layer 22 is formed on the data line 20, and the pixel electrode 30 is formed on the passivation layer 22. .

여기서, 상기 투명기판(1) 하부에는 백라이트(미도시)가 형성되게 되고, 백라이트로부터 출사된 광이 하부기판을 투과하게 되는데, 하부기판에서는 광이 투과하지 못하는 복수개의 게이트배선(10) 및 데이터배선(20)이 형성되어 있어, 그 만큼 광의 투과율이 떨어져 광효율이 감소되는 단점이 있다. Here, a backlight (not shown) is formed below the transparent substrate 1, and the light emitted from the backlight passes through the lower substrate, and the plurality of gate wirings 10 and the data that do not transmit through the lower substrate are transmitted. Since the wiring 20 is formed, the light transmittance is reduced by that amount, which reduces the light efficiency.

본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명의 목적은 게이트배선 및 데이트배선으로 인한 광효율의 감소를 방지할 수 있는 액정 표시소자를 제공하는 것이다. The present invention has been devised to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of preventing a decrease in light efficiency due to gate wiring and data wiring.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 하부기판 및 상부기판; 상기 하부기판 상에 형성된 배선층; 상기 배선층 하부에 형성되어, 상기 배선층에서 반사된 광을 재반사하기 위한 반사층; 및 상기 하부기판 및 상부기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성된 액정표시소자를 제공한다.The present invention to achieve the above object, the lower substrate and the upper substrate; A wiring layer formed on the lower substrate; A reflection layer formed under the wiring layer to reflect back light reflected from the wiring layer; And it provides a liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer formed between the lower substrate and the upper substrate.

즉, 본 발명은 하부기판 상에 형성된 배선층 하부에 반사층을 형성하여, 배선층에서 반사되는 광을 다시 재반사함으로써 광효율을 증진시키도록 한 것이다. That is, the present invention is to form a reflective layer under the wiring layer formed on the lower substrate, to improve the light efficiency by reflecting again the light reflected from the wiring layer.

이때, 상기 반사층의 일정부분은 상기 배선층과 오버랩되고 상기 반사층의 일정부분을 제외한 다른 일정부분은 배선층 외부로 돌출되도록 형성되는 것이 재반사율을 증진시킬 수 있어 바람직하다.In this case, the predetermined portion of the reflective layer overlaps the wiring layer, and other predetermined portions except for the predetermined portion of the reflective layer may be formed to protrude to the outside of the wiring layer.

또한, 상기 배선층 하면을 엠보싱 처리하면 반사각이 커져 재반사율을 증진시킬 수 있으므로 바람직하며, 또한, 상기 반사층 상면을 엠보싱 처리하면 재반사각이 커져 재반사율을 증진시킬 수 있어 바람직하다. The embossing of the lower surface of the wiring layer is preferable because the reflection angle can be increased to increase the re-reflection, and the embossing of the upper surface of the reflective layer can increase the re-reflection angle, thereby increasing the re-reflection.

또한, 상기 반사층은 배선층으로부터 반사된 광을 재반사하는 역할을 수행하지만, 그와 더불어 반사층으로 인해 광의 투과율이 감소될 수 있다. 따라서, 상기 반사층의 일단을 상부기판 상에 형성되는 차광층의 일단과 일치시키는 것이 광의 투과율 감소를 방지할 수 있어 바람직하다. In addition, the reflective layer serves to reflect back the light reflected from the wiring layer, but with the reflective layer, the light transmittance may be reduced. Therefore, it is preferable to match one end of the reflective layer with one end of the light shielding layer formed on the upper substrate since it is possible to prevent a decrease in the transmittance of light.

또한, 상기 배선층은 게이트배선 및 게이트 배선과 교차 형성되는 데이터배선을 포함하며, 상기 반사층은 상기 게이트배선 또는 상기 데이터배선 하부에 형성 될 수 있다. 상기 반사층이 상기 데이터배선 하부에 형성될 경우는 상기 게이트배선과 동일층에 형성하는 것이 공정추가를 방지할 수 있어 바람직하다.  The wiring layer may include a gate wiring and data wiring crossing the gate wiring, and the reflective layer may be formed below the gate wiring or the data wiring. When the reflective layer is formed below the data line, the reflective layer may be formed on the same layer as the gate line, since it is possible to prevent process addition.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 보다 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, with reference to the drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

제1실시예First embodiment

도 2a는 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 A-A라인에 해당하는 액정표시소자의 일 실시예에 따른 단면도이고, 도 2c는 도 2a의 A-A라인에 해당하는 액정표시소자의 다른 일 실시예에 따른 단면도이다. FIG. 2A is a plan view of a lower substrate for a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2B is a cross-sectional view according to an embodiment of a liquid crystal display device corresponding to an AA line of FIG. 2A, and FIG. 2C is FIG. 2A. According to another embodiment of the liquid crystal display device corresponding to the AA line of the.

도 2a 및 도 2b를 참조하여 본 발명에 따른 액정표시소자를 설명하기로 한다. A liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2A and 2B.

우선, 상부기판(200)에는 광의 누설을 방지하기 위해서 차광층(220)이 형성되어 있고, 상기 차광층(220) 상부에 적색, 녹색 및 청색의 컬러필터층(240)이 형성되어 있고, 상기 컬러필터층(240) 상부에 공통전극(260)이 형성되어 있다. First, the light blocking layer 220 is formed on the upper substrate 200 to prevent light leakage, and the red, green, and blue color filter layers 240 are formed on the light blocking layer 220. The common electrode 260 is formed on the filter layer 240.

그리고, 하부기판(100)에는 게이트배선(120)이 형성되어 있고, 상기 게이트배선(120) 상부에 게이트절연막(110)이 형성되어 있으며, 상기 게이트절연막(110) 상부에 상기 게이트배선(120)과 교차되도록 데이터배선(140)이 형성되어 있다. In addition, a gate wiring 120 is formed on the lower substrate 100, a gate insulating film 110 is formed on the gate wiring 120, and the gate wiring 120 is formed on the gate insulating film 110. The data line 140 is formed to intersect with the data line.

그리고, 상기 데이터배선(140) 상부에 보호막(150)이 형성되어 있고, 상기 보호막(150) 상부에 화소전극(160)이 형성되어 있다. 그리고, 도시하지는 않았지만, 게이트배선(120) 및 데이터배선(140)의 교차점에 스위칭소자로서 박막트랜지스 터가 형성될 수 있다. The passivation layer 150 is formed on the data line 140, and the pixel electrode 160 is formed on the passivation layer 150. Although not shown, a thin film transistor may be formed as a switching element at the intersection of the gate wiring 120 and the data wiring 140.

그리고, 상기 데이터배선(140)의 하부에서, 상기 게이트배선(120)과 동일층에 반사층(300)이 형성되어 있다. 즉, 반사층(300)은 상기 게이트배선(120) 형성시 동시에 형성될 수 있으므로, 별도의 추가 공정 없이 반사층(300) 형성이 가능하다. The reflective layer 300 is formed on the same layer as the gate wiring 120 under the data wiring 140. That is, since the reflective layer 300 may be formed at the same time when the gate wiring 120 is formed, the reflective layer 300 may be formed without an additional process.

상기 반사층(300)은 상기 데이터배선(140)의 좌우 양측 하부에 형성되며, 반사층(300)의 일정부분은 상기 데이터배선(140)과 오버랩되고 다른 일정부분은 상기 데이터배선(140) 외부로 돌출되어 형성되어 반사효율을 증진시킨다. The reflective layer 300 is formed at the lower left and right sides of the data line 140, and a portion of the reflective layer 300 overlaps the data line 140 and another portion protrudes outside the data line 140. Formed to enhance reflection efficiency.

또한, 상기 반사층(300)의 일단은 상기 상부기판(200) 상에 형성되는 차광층(220)의 일단과 일치되도록 형성된다. 상기 차광층(220)은 게이트배선(120) 및 데이터배선(140)으로 광이 누설되는 것을 방지하기 위해 상기 상부기판(200) 상에 형성되는 것으로서, 통상적으로 게이트배선(120) 및 데이터배선(140)의 선폭 보다 소정의 길이만큼 크게 형성되는 것이 일반적이다. 따라서, 본 발명은 상기 반사층(300)을 상기 차광층(220) 외부로 돌출되지 않도록 함으로써, 반사층(300)으로 인해 추가적인 광손실을 방지하면서, 상기 데이터배선(140)에서 반사되는 광을 재반사하여 광효율을 증진시킬 수 있다. In addition, one end of the reflective layer 300 is formed to match one end of the light blocking layer 220 formed on the upper substrate 200. The light blocking layer 220 is formed on the upper substrate 200 to prevent leakage of light to the gate wiring 120 and the data wiring 140, and typically, the gate wiring 120 and the data wiring ( It is generally formed larger than the line width of 140 by a predetermined length. Accordingly, the present invention prevents the reflective layer 300 from protruding outside the light shielding layer 220, thereby preventing the additional light loss due to the reflective layer 300, and re-reflecting the light reflected from the data line 140. The light efficiency can be improved.

한편, 도 2c와 같이, 상기 배선층(140)의 하면이 엠보싱 형상을 가지면, 반사각이 커져 재반사율을 증진시킬 수 있으므로 바람직하다. 또한, 도시하지는 않았지만, 상기 도 2c에서와 달리 상기 배선층(140)의 하면이 엠보싱 형상을 갖는 대신, 상기 반사층(300)의 상면이 엠보싱 형상을 가지면 재반사각이 커져 재반사율을 증진시킬 수 있을 것이다. 물론, 상기 배선층(140)의 하면 및 상기 반사층(300)의 상면 모두가 엠보싱 형상을 갖는 것도 가능하다. On the other hand, as shown in Figure 2c, if the lower surface of the wiring layer 140 has an embossed shape, it is preferable because the reflection angle can be increased to improve the re-reflection rate. In addition, although not shown, in contrast to FIG. 2C, instead of the lower surface of the wiring layer 140 having an embossed shape, if the upper surface of the reflective layer 300 has an embossed shape, the re-reflection angle may be increased to increase the re-reflection rate. . Of course, both the lower surface of the wiring layer 140 and the upper surface of the reflective layer 300 may have an embossed shape.

한편, 상기 하부기판(100) 및 상부기판(200)의 전면에 액정의 초기배향을 위한 배향막이 형성될 수 있고, 상기 양 기판(100, 200)의 사이에 액정층이 형성되게 된다. Meanwhile, an alignment layer for initial alignment of liquid crystals may be formed on the front surfaces of the lower substrate 100 and the upper substrate 200, and a liquid crystal layer may be formed between the substrates 100 and 200.

그 외, 액정표시소자를 구성하는 각각의 구성요소는 당업자에게 자명한 범위내에서 변경실시될 수 있다. In addition, each component constituting the liquid crystal display device may be modified within a range apparent to those skilled in the art.

제2실시예Second embodiment

도 3a는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 B-B라인에 해당하는 액정표시소자의 일 실시예에 따른 단면도이고, 도 3c는 도 3a의 B-B라인에 해당하는 액정표시소자의 다른 일 실시예에 따른 단면도이다. 3A is a plan view of a lower substrate for a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 3B is a cross-sectional view of an LCD device corresponding to the BB line of FIG. 3A, and FIG. 3C is FIG. 3A. According to another embodiment of the liquid crystal display device corresponding to the BB line of.

본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자는 반사층(300)이 데이터배선(140)의 하부에 형성된 것이 아니라 게이트배선(120)의 하부에 형성된 것을 제외하고 전술한 제1실시예에 따른 액정표시소자와 동일하다. 따라서, 동일한 도면부호를 부여하였고, 동일한 부분에 대한 설명은 생략하기로 한다. In the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention, the liquid crystal according to the first exemplary embodiment of the present invention except that the reflective layer 300 is not formed below the data line 140 but is formed below the gate line 120. Same as the display element. Therefore, the same reference numerals are given, and descriptions of the same parts will be omitted.

본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자는 반사층(300)이 게이트배선(120)의 하부에 형성된다. 구체적으로, 하부기판(100) 상에 반사층(300)이 형성되고, 반사층(300)을 포함한 하부기판(100)전면에 절연층(105)이 추가로 형성된다. 그리고, 절연층(105) 상에 게이트배선(120)이 형성된다. In the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention, the reflective layer 300 is formed under the gate wiring 120. Specifically, the reflective layer 300 is formed on the lower substrate 100, and the insulating layer 105 is further formed on the entire surface of the lower substrate 100 including the reflective layer 300. The gate wiring 120 is formed on the insulating layer 105.

상기 반사층(300)은 그 일정부분은 상기 게이트배선(120)과 오버랩되고 다른 일정부분은 상기 게이트배선(120) 외부로 돌출되도록 형성될 수 있으며, 상기 게이트배선(120)의 하면 및/또는 상기 반사층(300)의 상면은 엠보싱 형상을 가질 수 있으며, 상기 반사층(300)의 일단이 상기 상부기판(200) 상에 형성되는 차광층(220)의 일단과 일치될 수 있음은 전술한 바와 동일하다. The reflective layer 300 may be formed such that a portion of the reflective layer 300 overlaps the gate line 120 and another portion of the reflective layer 300 protrudes out of the gate line 120, and / or the lower surface of the gate line 120 and / or the An upper surface of the reflective layer 300 may have an embossed shape, and one end of the reflective layer 300 may coincide with one end of the light blocking layer 220 formed on the upper substrate 200. .

본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상의 범위내에서 당업자에게 자명한 범위까지 변경실시될 수 있을 것이다. The present invention is not limited to the above embodiments, and may be modified to the extent apparent to those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention.

상기와 같은 본 발명의 액정표시소자는 다음과 같은 효과가 있다.The liquid crystal display of the present invention as described above has the following effects.

첫째, 하부기판 상에 형성된 배선층 하부에 반사층을 형성함으로써, 배선층에서 반사되는 광을 다시 재반사하여 광효율을 증진시킬 수 있다. First, by forming a reflective layer under the wiring layer formed on the lower substrate, it is possible to improve the light efficiency by re-reflecting the light reflected from the wiring layer again.

둘째, 배선층 하면이 엠보싱 형상을 갖거나, 반사층 상면이 엠보싱 형상을 가짐으로써 반사율을 증진시킬 수 있다. Second, the reflectivity may be enhanced by the embossing shape of the lower surface of the wiring layer or the embossing shape of the upper surface of the reflective layer.

셋째, 반사층을 데이터배선 하부에 형성할 경우는, 반사층과 게이트배선을 동일층에 형성함으로써 공정추가 없이 반사층의 형성이 가능하다. Third, when the reflective layer is formed below the data wiring, the reflective layer and the gate wiring are formed on the same layer, so that the reflective layer can be formed without additional processing.

Claims (9)

하부기판 및 상부기판;A lower substrate and an upper substrate; 상기 하부기판 상에 형성된 배선층;A wiring layer formed on the lower substrate; 상기 배선층 하부에 형성되어, 상기 배선층에서 반사된 광을 재반사하기 위한 반사층; 및A reflection layer formed under the wiring layer to reflect back light reflected from the wiring layer; And 상기 하부기판 및 상부기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성된 액정표시소자. And a liquid crystal layer formed between the lower substrate and the upper substrate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반사층의 일정부분은 상기 배선층과 오버랩되고, 상기 반사층의 일정부분을 제외한 다른 일정부분은 상기 배선층 외부로 돌출된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And a predetermined portion of the reflective layer overlaps the wiring layer, and other portions except for the predetermined portion of the reflective layer protrude outside the wiring layer. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반사층은 그 상면이 엠보싱 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And the upper surface of the reflective layer has an embossed shape. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 배선층은 그 하면이 엠보싱 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. The wiring layer has a bottom surface thereof having an embossed shape. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부기판 상에 광누설을 차단하기 위한 차광층, 상기 차광층 상부에 컬러필터층, 및 상기 컬러필터층 상부에 공통전극이 형성되어 있고,A light blocking layer for blocking light leakage on the upper substrate, a color filter layer on the light blocking layer, and a common electrode formed on the color filter layer, 상기 차광층의 일단과 상기 하부기판 상의 반사층의 일단이 서로 일치하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. One end of the light blocking layer and one end of the reflective layer on the lower substrate coincide with each other. 제 1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 배선층은 게이트배선, 및 상기 게이트배선 상부에서 상기 게이트배선과 교차되도록 형성되는 데이터배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And wherein the wiring layer includes gate wiring and data wiring formed on the gate wiring so as to intersect with the gate wiring. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 반사층은 상기 데이터배선 하부에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And the reflective layer is formed under the data line. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 반사층은 상기 게이트배선과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. And the reflective layer is formed on the same layer as the gate wiring. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 게이트배선과 상기 반사층 사이에 형성된 절연층 더 포함하는 액정표시소자. And an insulating layer formed between the gate wiring and the reflective layer.
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