KR101082604B1 - Wafer transferring robot Arm - Google Patents

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유지환
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한국기술교육대학교 산학협력단
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 이송용 로봇암에 관한 것으로, 그 구성은 로봇암 일측 단부에서 연장되게 구비되어 웨이퍼가 안치될 수 있게 하는 안치대; 상기 안치대 일측 상부에 구비되며 일측이 웨이퍼 외주와 동일한 형태로 곡선진 블록; 상기 블록의 곡선진 위치에 구비되어 상기 웨이퍼를 지지한 상태로 안치대에 웨이퍼를 정렬되게 하는 안내수단;을 포함하여 이루어진다.The present invention relates to a robot arm for wafer transport, the configuration of which is provided to extend from the robot arm one end end to allow the wafer to be placed; A block provided on an upper portion of one side of the settable and curved on one side thereof in the same shape as the outer periphery of the wafer; And a guide unit provided at a curved position of the block to align the wafer to a settable while supporting the wafer.

웨이퍼, 로봇암, 로봇, 얼라인, 정렬 Wafer, Robot Arm, Robot, Align, Align

Description

웨이퍼 이송용 로봇암{Wafer transferring robot Arm}Wafer transferring robot arm

본 발명은 로봇암에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 로봇암에 안치되는 웨이퍼를 손상 없이 정확히 안치될 수 있게 하는 웨이퍼 이송용 로봇암에 관한 것이다.The present invention relates to a robot arm, and more particularly to a wafer transfer robot arm that can be accurately placed without damaging the wafer placed on the robot arm.

일반적으로 반도체 소자를 생산하는 공정은 노광, 식각, 확산, 증착 등의 공정을 선택적으로 수행하는 일련의 과정에 의해서 이루어지고, 확산 및 증착 공정은 고온의 분위기에서 공정가스를 주입하여 실리콘웨이퍼 상에서 반응을 일으켜서 이루어지는 공정이다. 이러한 공정을 진행하기 위한 반도체 제조 설비로 튜브(tube) 형태의 노(furnace) 장비가 많이 사용되는데, 일반적으로 이런 형태의 장비는 대량의 웨이퍼를 한꺼번에 로딩하여 공정을 진행하는 배치(batch) 방식을 적용하고, 반도체 소자의 제조 공정상 박막을 형성하거나 불순물 이온을 확산시키는 장비로 이용되고 있다. 이러한 장비 가운데 종형 확산로(vertical type furnace)가 많이 사용되고 있는데 종형 확산로는 화학기상증착장비로서 고온진공분위기에서 공정챔버로 공정가스를 투입하면 공정가스가 서로 반응하여 반응물질을 형성하면서 동시에 압력이 낮은 공간에서 확산되어 웨이퍼 표면에 박막을 적층하는 현상을 이용한다.In general, a process for producing a semiconductor device is performed by a series of processes that selectively perform processes such as exposure, etching, diffusion, and deposition, and the diffusion and deposition processes are reacted on a silicon wafer by injecting a process gas in a high temperature atmosphere. It is a process made by raising. As a semiconductor manufacturing facility for carrying out such a process, a furnace-type furnace equipment is widely used. In general, this type of equipment uses a batch method in which a large amount of wafers are loaded at a time. It is applied to forming a thin film or diffusing impurity ions in the manufacturing process of a semiconductor device. Among these equipments, vertical type furnaces are used a lot. Vertical type furnaces are chemical vapor deposition equipment. When process gases are introduced into the process chamber in a high temperature vacuum atmosphere, the process gases react with each other to form reactants and at the same time the pressure is increased. It diffuses in a low space and uses the phenomenon of laminating a thin film on the wafer surface.

이러한 웨이퍼를 공정과 공정 간에 이송하기 위한 수단으로 다관절 로봇을 이용하고 있으며, 이 로봇은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 로봇 본체(미도시)와 연결되어 X,Y,Z 방향 이동하는 암(10)과 상기 암(10) 단부에 구비되어 웨이퍼(W)를 안치하는 안치대(20)와 상기 암(10)과 안치대(20)를 연결하는 블록(30)으로 이루어진다. 또한 상기 블록(30)에는 암(10)과 안치대(20) 사이에 구비되어 슬라이딩되는 가압대(31)를 구비하고 있으며, 상기 안치대(20)에는 웨이퍼(W)의 유동을 방지하고 웨이퍼가 암 상에서 정 위치에 정렬될 수 있게 하는 내측 걸림턱(21a)과 외측 걸림턱(21b)이 구비되고, 상기 내측 걸림턱(21a)과 외측 걸림턱(21b)이 마주보는 면은 웨이퍼(W)의 외주와 동일한 곡선을 갖게 되며, 상기 가압대(31) 상단은 상기 내측 걸림턱 상단보다 더 돌출된 상태로 위치하게 된다.The articulated robot is used as a means for transferring the wafer between processes, and the robot is connected to a robot body (not shown) to move in X, Y, and Z directions as shown in FIGS. 1 and 2. The arm 10 and the end of the arm 10 is provided with a support 20 for placing the wafer (W) and the block 30 for connecting the arm 10 and the support 20. In addition, the block 30 is provided with a pressing table 31 which is provided between the arm 10 and the settable 20 to slide, the settable 20 to prevent the flow of the wafer (W) and the wafer Is provided with an inner locking jaw 21a and an outer locking jaw 21b to allow the alignment of the inner locking jaw 21a and the outer locking jaw 21b to the right position on the arm. It will have the same curve as the outer periphery of the), the upper end of the pressure bar 31 is positioned in a more protruding state than the upper end of the inner locking jaw.

이러한 로봇암의 작동을 보면, 웨이퍼(W)가 내측 걸림턱(21a) 측에 걸쳐진 상태가 되게 안치대(20)에 위치시킨 후 상기 암(10)을 도면상의 화살표 방향으로 이동시켜 정지된 상태의 가압대(31)가 블록(30) 내에서 슬라이딩되며 내측 걸림턱(21a)에 걸쳐진 상태의 웨이퍼 일측을 가압시켜 외측 걸림턱(21b) 측으로 웨이퍼를 이동시켜 웨이퍼가 내측 걸림턱(21a)과 외측 걸림턱(21b) 사이에 형성된 안착부(22)에 안착되며 안치대에 정렬되게 하여 정렬된 상태의 웨이퍼가 챔버와 챔버간 이동이나 카세트 측으로의 이송 등 다음 공정을 수행하게 된다.In the operation of the robot arm, the wafer W is placed on the settable 20 such that the wafer W spans the inner locking jaw 21a side, and then the arm 10 moves in the direction of the arrow on the drawing to be stopped. Presser 31 slides in the block 30 and presses one side of the wafer across the inner locking jaw 21a to move the wafer toward the outer locking jaw 21b so that the wafer is connected to the inner locking jaw 21a. The wafers in the aligned state are seated on the seating portions 22 formed between the outer locking jaws 21b to be aligned with the seat posts, and the following processes are performed, such as the movement between the chambers and the chambers, or the transfer to the cassette side.

그러나 상술한 종래의 로봇암은 걸림턱 측에 걸쳐진 상태의 웨이퍼를 가압대를 이용해 가압시켜 안치대에 안착되도록 하고 있어서 걸림턱 상단과 안치대 상면간의 단차진 간격만큼 웨이퍼가 안착부 내로 낙하하며 그 충격으로 손상되는 문제 점이 있었다.However, the above-described conventional robot arm presses the wafer over the latching jaw side using a presser bar so as to be seated on the resttable, so that the wafer falls into the seating portion by the stepped gap between the upper end of the latching jaw and the upper surface of the seating stand. There was a problem of being damaged by the impact.

또한 걸림턱에 걸쳐진 상태의 웨이퍼는 가압대의 가압력에 의해 외측 걸림턱 측으로 이동시 외측 걸림턱을 벗어나 이탈되는 문제점이 있었다.In addition, there is a problem that the wafer in the state spanning the locking jaw is separated from the outer locking jaw when the wafer moves toward the outer locking jaw side by the pressing force of the pressure bar.

그리고 암의 슬라이딩시 안치대에 대해 웨이퍼의 쓸림 현상이 발생하여 마찰로 인한 웨이퍼 손상을 발생시키는 문제점이 있었다.In addition, there is a problem that the wafer damage due to the friction caused by the friction of the wafer generated on the arm rest during sliding of the arm.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 로봇암에 안치되는 웨이퍼를 손상 없이 정확히 안치될 수 있게 하는 웨이퍼 이송용 로봇암을 제고함에 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to improve the wafer transfer robot arm that can be accurately placed without damaging the wafer placed in the robot arm.

본 발명은 앞서 본 목적을 달성하기 위하여 다음과 같은 구성을 가진다.The present invention has the following structure in order to achieve the above object.

본 발명의 웨이퍼 이송용 로봇암은, 로봇암 일측 단부에서 연장되게 구비되어 웨이퍼가 안치될 수 있게 하는 안치대; 상기 안치대 일측 상부에 구비되며 일측이 웨이퍼 외주와 동일한 형태로 곡선진 블록; 상기 블록의 곡선진 위치에 구비되어 상기 웨이퍼를 지지한 상태로 안치대에 웨이퍼를 정렬되게 하는 안내수단;을 포함하여 이루어진다.Wafer transfer robot arm of the present invention, the armrest is provided to extend from one end of the robot arm so that the wafer can be placed; A block provided on an upper portion of one side of the settable and curved on one side thereof in the same shape as the outer periphery of the wafer; And a guide unit provided at a curved position of the block to align the wafer to a settable while supporting the wafer.

또한 상기 안내수단은 핀축을 기준으로 회전되는 몸체 외주에 다수개의 임펠러가 형성되며, 상기 임펠러 끝단은 안치대의 안착부 방향으로 경사지게 형성된다.In addition, the guide means has a plurality of impellers are formed on the outer periphery of the body rotated based on the pin shaft, the end of the impeller is formed to be inclined toward the seating portion of the seat.

그리고 상기 안내수단은 핀축을 기준으로 회전하는 롤러;이다.And the guide means is a roller for rotating based on the pin axis.

또한 상기 안내수단은 고정판과 상기 고정판 단부에서 일정 경사각을 이루며 연장되는 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판으로 이루어져 상기 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판에 의해 웨이퍼를 탄지하며 안치대에 정렬되게 하며, 상기 제1 틸팅판과 제2 틸팅판은 상호 사이각이 직각이 되게 한다.In addition, the guide means is composed of a first tilting plate and a second tilting plate extending at a predetermined inclination angle from the end of the fixed plate and the fixed plate to hold the wafer by the first tilting plate and the second tilting plate to be aligned on the rest frame The angle between the first tilting plate and the second tilting plate may be perpendicular to each other.

그리고 상기 안내수단은 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판이 상호 일정한 경사각을 형성한 상태로 핀축에 의해 회동되며 웨이퍼를 지지시켜 정렬되게 하며, 상기 제1 틸팅판은 상기 제2 틸팅판에 비해 상대적으로 무겁게 형성하며, 상기 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판은 안치대와의 사이에서 탄지되게 하는 탄성체를 구비하게 한다.The guide means is pivoted by a pin shaft in a state where the first tilting plate and the second tilting plate form a constant inclination angle to each other to support and align the wafer, and the first tilting plate is relatively in comparison with the second tilting plate. It is formed to be heavy, and the first tilting plate and the second tilting plate is provided with an elastic body to be held between the rest.

본 발명에 따르면, 로봇암에 안치되는 웨이퍼를 손상 없이 정확히 안치될 수 있게 하는 효과가 있다.According to the present invention, there is an effect that can be accurately placed without damaging the wafer placed in the robot arm.

또한 웨이퍼를 탄지하며 안치될 수 있게 함으로써 웨이퍼에 가해지는 충격을 최소화할 수 있게 하는 효과가 있다.In addition, it is possible to minimize the impact on the wafer by allowing the wafer to be held firmly.

본 발명에 따르면, 웨이퍼 이송용 로봇암은, 로봇암 일측 단부에서 연장되게 구비되어 웨이퍼가 안치될 수 있게 하는 안치대; 상기 안치대 일측 상부에 구비되며 일측이 웨이퍼 외주와 동일한 형태로 곡선진 블록; 상기 블록의 곡선진 위치에 구비되어 상기 웨이퍼를 지지한 상태로 안치대에 웨이퍼를 정렬되게 하는 안내수단;을 포함하여 이루어진다.According to the present invention, the robot arm for wafer transfer includes: a support provided to extend from one end of the robot arm so that the wafer can be placed; A block provided on an upper portion of one side of the settable and curved on one side thereof in the same shape as the outer periphery of the wafer; And a guide unit provided at a curved position of the block to align the wafer to a settable while supporting the wafer.

또한 상기 안내수단은 핀축을 기준으로 회전되는 몸체 외주에 다수개의 임펠러가 형성되며, 상기 임펠러 끝단은 안착부 방향으로 경사지게 형성된다.In addition, the guide means has a plurality of impeller is formed on the outer periphery of the body rotated based on the pin axis, the end of the impeller is formed to be inclined toward the seating portion.

그리고 상기 안내수단은 핀축을 기준으로 회전하는 롤러;이다.And the guide means is a roller for rotating based on the pin axis.

또한 상기 안내수단은 고정판과 상기 고정판 단부에서 일정 경사각을 이루며 연장되는 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판으로 이루어져 상기 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판에 의해 웨이퍼를 탄지하며 안치대에 정렬되게 하며, 상기 제1 틸팅판과 제2 틸팅 판은 상호 사이각이 직각이 되게 한다.In addition, the guide means is composed of a first tilting plate and a second tilting plate extending at a predetermined inclination angle from the end of the fixed plate and the fixed plate to hold the wafer by the first tilting plate and the second tilting plate to be aligned on the rest frame The angle between the first tilting plate and the second tilting plate may be perpendicular to each other.

그리고 상기 안내수단은 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판이 상호 일정한 경사각을 형성한 상태로 핀축에 의해 회동되며 웨이퍼를 지지시켜 정렬되게 하며, 상기 제1 틸팅판은 상기 제2 틸팅판에 비해 상대적으로 무겁게 형성하며, 상기 제1 틸팅판 및 제2 틸팅판은 안치대와의 사이에서 탄지되게 하는 탄성체를 구비하게 한다.The guide means is pivoted by a pin shaft in a state where the first tilting plate and the second tilting plate form a constant inclination angle to each other to support and align the wafer, and the first tilting plate is relatively in comparison with the second tilting plate. It is formed to be heavy, and the first tilting plate and the second tilting plate is provided with an elastic body to be held between the rest.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3 를 참조하여 본 발명의 제1 실시예를 살펴보면, 로봇(미도시)에 구비되는 다수개의 로봇암 중 수평 방향으로 이동하는 로봇암(100) 단부에서 연장되게 돌출된 안치대(110)와, 상기 로봇암(100)과 안치대(110) 측 상부면에 일측면이 웨이퍼(W)의 외주와 동일한 형태로 곡선지게 형성된 블록(120)을 고정하고 있다. 또한 상기 안치대(110)에는 상기 블록(120)이 구비된 타측에 걸림턱(114)이 형성되며, 상기 블록과 걸림턱(114) 사이에 안착부(112)가 웨이퍼(W) 형태를 갖게 형성된다.Looking at the first embodiment of the present invention with reference to Figure 3, the rest of the support (110) protruding from the end of the robot arm 100 to move in a horizontal direction of a plurality of robot arms provided in the robot (not shown) and In addition, one side surface of the robot arm 100 and the support stand 110 is fixed to the block 120 having a curved shape in the same shape as the outer circumference of the wafer (W). In addition, the jaw 114 is formed on the other side where the block 120 is provided, and the seating portion 110 has a wafer W shape between the block and the locking jaw 114. Is formed.

그리고 상기 블록에는 곡선진 측에 회전 가능하게 등간격 배치되는 안내수단(130)을 구비하고 있으며, 상기 안내수단(130)은 몸체(131)를 핀축(132)을 이용해 관통 연결되고, 몸체(131) 외주면에는 방사 형태로 다수개의 임펠러(133)가 연장되어 있다.And the block has a guide means 130 is rotatably arranged at equal intervals on the curved side, the guide means 130 is connected to the body 131 through the pin shaft 132, the body 131 A plurality of impellers 133 extend in a radial form on the outer circumferential surface.

본 발명의 제1 실시예의 작동상태를 보면, 도 4a에 도시된 바와 같이 로봇암(100)을 웨이퍼(W) 측으로 이동시켜 안치대(110) 측에 웨이퍼가 위치되게 한 후 웨이퍼(W)가 안내수단(130) 상부에 걸쳐질 수 있게 한다. 이때 웨이퍼(W)는 다수개 의 임펠러(133) 중 도면상에 기재된 바와 같이 핀축(132)을 기준으로 안착부(112) 측 방향에 걸쳐지는 것이 바람직하다. 이는 임펠러(133)에 걸쳐진 웨이퍼(W)가 웨이퍼의 자중에 의해 임펠러(133)를 회전시켜 웨이퍼(W)가 안착부(112) 내에 자연스럽게 유도될 수 있게 함으로써 웨이퍼(W)의 자유낙하에 의한 손상을 방지할 수 있게 하고 있다.Referring to the operating state of the first embodiment of the present invention, as shown in Figure 4a, the robot arm 100 is moved to the wafer (W) side, so that the wafer is placed on the side stand 110, the wafer (W) Guide means 130 to be spread over. At this time, it is preferable that the wafer W spans the seating portion 112 side of the plurality of impellers 133 based on the pin shaft 132 as described in the drawing. This is because the wafer W spanned by the impeller 133 rotates the impeller 133 by the weight of the wafer so that the wafer W can be naturally guided in the seating portion 112, thereby causing the free fall of the wafer W. To prevent damage.

또한, 도 4b에 도시된 바와 같이 상기 임펠러(133) 끝단에는 안착부(112) 측으로 경사진 경사면(133a)을 형성시켜 임펠러(133)에 걸쳐진 웨이퍼(W)가 경사면(133a)을 따라 안착부(112) 내로 자연스럽게 슬라이딩되며 유도될 수 있게 하고 있다.In addition, as shown in FIG. 4B, the inclined surface 133a inclined toward the seating portion 112 is formed at the end of the impeller 133, so that the wafer W spanning the impeller 133 is located along the inclined surface 133a. Sliding naturally into 112 allows for induction.

도 5는 본 발명의 제2 실시예로서 이를 살펴보면, 로봇(미도시)에 구비되는 다수개의 로봇암 중 수평 방향으로 이동하는 로봇암(200) 단부에서 연장되게 돌출된 안치대(210)와, 상기 로봇암(200)과 안치대(210) 측 상부면에 일측면이 웨이퍼(W)의 외주와 동일한 형태로 곡선지게 형성된 블록(220)을 고정하고 있다. 또한 상기 안치대(210)에는 상기 블록(220)이 구비된 타측에 걸림턱(214)이 형성되며, 상기 블록(220)과 걸림턱(214) 사이에 안착부(212)가 웨이퍼(W) 형태를 갖게 형성된다. 그리고 상기 블록(210)에는 곡선진 면을 따라 등간격 배치되는 롤러 형태의 안내수단(230)을 구비되며, 상기 안내수단(230)은 핀축(232)에 의해 블록(220)에 회전 가능하게 구비된다. 또한 상기 걸림턱(214) 측에는 상기 안내수단(230)을 더 구비시켜 웨이퍼가 안착부 측으로 자연스럽게 유도될 수 있게 하는 것이 가능하다. 즉, 상기 로봇암(200)이 웨이퍼(W) 측으로 이동된 상태에서 상기 웨이퍼(W)가 안내수단(230) 상부에 걸쳐지게 하여 상기 웨이퍼(W)의 자중에 의해 안내수단을 회전시켜 안착부(212) 내로 웨이퍼가 자연스럽게 유도되게 함으로써 안착부 내에 웨이퍼의 안착시 정확하게 되는 것이 가능하게 된다.5 illustrates a second embodiment of the present invention, a support 210 protruding from an end of a robot arm 200 moving in a horizontal direction among a plurality of robot arms provided in a robot (not shown), A block 220 is fixed to the robot arm 200 and the upper surface side of the stabilizer 210 so that one side surface is curved in the same shape as the outer circumference of the wafer W. In addition, the jaw 214 is formed on the other side where the block 220 is provided, and the seating portion 210 has a seating portion 212 between the block 220 and the jaw 214. It is formed to have a shape. In addition, the block 210 is provided with guide means 230 in the form of rollers spaced at equal intervals along the curved surface, and the guide means 230 is rotatably provided in the block 220 by the pin shaft 232. do. In addition, it is possible to further include the guide means 230 on the locking step 214 side so that the wafer can be naturally guided to the seating side. That is, in the state where the robot arm 200 is moved to the wafer (W) side, the wafer (W) over the guide means 230 to rotate the guide means by the weight of the wafer (W) seating portion By naturally inducing the wafer into the 212, it is possible to be accurate upon the seating of the wafer in the seating portion.

도 6은 본 발명의 제3 실시예로서 이를 살펴보면, 로봇(미도시)에 구비되는 다수개의 로봇암 중 수평 방향으로 이동하는 로봇암(300) 단부에서 연장되게 돌출된 안치대(310)와, 상기 로봇암(300)과 안치대(310) 측 상부면에 일측면이 웨이퍼(W)의 외주와 동일한 형태로 곡선지게 형성된 블록(320)을 고정하고 있다. 또한 상기 안치대(310)에는 상기 블록(320)이 형성된 타측에 걸림턱(314)이 형성되며, 상기 블록(320)과 걸림턱(214) 사이에 안착부(312)가 웨이퍼(W) 형태를 갖게 형성된다. 여기서 안내수단(330)은 상기 안치대(310) 또는 블록(320) 중 어느 하나에 고정될 수 있으나 본 발명에서는 안치대(310)에 고정된 상태를 예로서 설명한다. 상기 안내수단(330)는 안치대(310) 상면에 상기 블록(320)과 이웃한 위치에 고정되는 고정판(331)과 상기 고정판 단부에서 탄성력을 갖는 제1 틸팅판(332)과 제2 틸팅판(333)이 상부 방향으로 일정한 경사각을 갖고 경사지게 연장된다. 또한 상기 제1 틸팅판(332)과 제2 틸팅판(333)은 사이각이 직각이 되게 형성되는 것이 바람직하다.6 illustrates a third embodiment of the present invention, a support 310 protruding from an end of a robot arm 300 moving in a horizontal direction among a plurality of robot arms provided in a robot (not shown), The side surface of the robot arm 300 and the resttable 310 is fixed to the block 320 having one side curved in the same shape as the outer circumference of the wafer W. In addition, the jaw 314 is formed on the other side where the block 320 is formed, and the mounting portion 312 is formed between the block 320 and the locking jaw 214 in the form of a wafer (W). It is formed to have. Here, the guide means 330 may be fixed to any one of the mounting frame 310 or the block 320, but in the present invention will be described by way of example fixed to the mounting frame 310. The guide means 330 is a fixing plate 331 fixed to a position adjacent to the block 320 on the upper surface of the support 310 and the first tilting plate 332 and the second tilting plate having an elastic force at the end of the fixing plate 333 extends obliquely with a constant inclination angle in the upward direction. In addition, the first tilting plate 332 and the second tilting plate 333 is preferably formed such that the angle between the right angle.

그리고 도면상에 기재하고 있지는 않지만 상기 걸림턱(314) 측에 안내수단이 구비될 수 있는 것은 주지 사실이다.Although not shown in the drawings, it is well known that the guide means may be provided on the side of the locking step 314.

즉, 상기 로봇암(300)이 웨이퍼(W) 측으로 이동한 상태에서 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이 상기 제2 틸팅판(333) 측에 웨이퍼(W)가 안착될 수 있게 한다. 안착된 웨이퍼는 자중에 의해 제2 틸팅판(333)을 안착부 측으로 다운시키며 제2 틸팅판(333)과 직교하게 위치된 제1 틸팅판(332)을 동시에 업시켜 제2 틸팅판(333)과 제1 틸팅판(332) 사이에 웨이퍼(W)가 위치되게 함으로써 제1 틸팅판(332)과 제2 틸팅판(333)의 탄성력에 의해 안착부에 정확히 안착될 수 있게 함으로써 웨이퍼가 안착부 내에 자연스럽게 유도되며 안착되는 것이 가능하게 된다. 한편 상기 고정판(331)은 안치대에 부착된 상태로 자체 탄성력을 갖고 상기 제1 틸팅판과 제2 틸팅판의 동작시 탄성력을 작용시키게 하고 있다.That is, as shown in FIGS. 7A and 7B while the robot arm 300 moves to the wafer W side, the wafer W may be seated on the second tilting plate 333 side. The seated wafer lowers the second tilting plate 333 to the seating side by its own weight, and simultaneously lifts up the first tilting plate 332 orthogonal to the second tilting plate 333 to the second tilting plate 333. By placing the wafer W between the first tilting plate 332 and the first tilting plate 332, the wafer may be accurately seated on the seating part by the elastic force of the first tilting plate 332 and the second tilting plate 333. It is possible to be naturally induced and seated within. On the other hand, the fixing plate 331 has a self-elastic force in the state attached to the resttable, and the elastic force during the operation of the first tilting plate and the second tilting plate.

여기서 상기 제1 틸팅판(332)은 상기 제2 틸팅판(333)에 비해 상대적으로 무겁게 형성되는 것이 바람직하다. 이는 상기 제2 틸팅판에 웨이퍼가 안착되었을 때 웨이퍼와 제1 틸팅판이 서로 상호 무게 비율에 의해 제2 틸팅판의 다운이 천천히 이루어질 수 있게 하기 위함이며, 더불어 웨이퍼가 제2 틸팅판으로부터 이탈되었을 때 제1 틸팅판의 자중에 의해 제1 틸팅판과 제2 틸팅판이 원위치로 복될 수 있게 하기 위함이다.In this case, the first tilting plate 332 is preferably formed relatively heavy than the second tilting plate 333. This is to allow a slow down of the second tilting plate by the mutual weight ratio of the wafer and the first tilting plate when the wafer is seated on the second tilting plate, and when the wafer is detached from the second tilting plate. This is to allow the first tilting plate and the second tilting plate to be returned to their original positions by the weight of the first tilting plate.

도 8 및 도 9는 본 발명의 제4 실시예로서 이를 살펴보면, 로봇암, 안치대 및 블록은 앞서 설명한 실시예들과 동일한 구성을 하고 있으며, 여기서 안내수단(430)은 안치대 또는 블록 중 어느 하나에 구성될 수 있으나 본 실시예에서는 안치대에 고정된 상태로 설명하도록 한다.8 and 9 illustrate as a fourth embodiment of the present invention, the robot arm, the stand and the block has the same configuration as the above-described embodiments, wherein the guide means 430 is any one of the stand or block It may be configured in one but in the present embodiment will be described in a fixed state to the rest.

도 8을 참조하면, 상기 안내수단(430)은 제1 틸팅판(431)과 제2 틸팅판(432)으로 이루어지며, 상기 제1 틸팅판(431)과 제2 틸팅판(432)은 서로 일정한 경사각을 갖고 형성된다. 또한 상기 제1 틸팅판(431) 제2 틸팅판(432)에 비해 상대적으로 무겁게 형성된다. 즉, 도 9에 도시된 바와 같이 상기 안내수단(430)은 안치대(410)를 일부 함몰시켜 안내수단(430) 측면을 관통 결합하는 핀축(433)에 의해 안치대(410)에 내설되게 하고 있다. 이때 상기 안내수단(430)은 제1 틸팅판(431)이 제2 틸팅판(432)에 비해 상대적으로 무겁게 형성되어 있어 제1 틸팅판의 자중에 의해 제2 틸팅판(432)에 안치대(410)에 대해 경사진 형태로 위치되게 되며, 로봇암을 이용해 안치대를 웨이퍼(W) 측에 이동시켜 웨이퍼(W)가 제2 틸팅판(432)에 걸쳐지게 하면 상기 웨이퍼(W)의 자중에 의해 핀축(433)을 기준으로 제2 틸팅판(432)을 다운되게 함과 동시에 제1 틸팅판(431)이 업되며 웨이퍼(W)가 안치부 내에 자연스럽게 안착될 수 있게 됨으로써 웨이퍼의 손상을 방지할 수 있게 된다. 또한 웨이퍼가 제2 틸팅판으로부터 이탈되었을 때 제1 틸팅판의 자중에 의해 원위치로 복원되는 것이 가능하다.Referring to FIG. 8, the guide means 430 is composed of a first tilting plate 431 and a second tilting plate 432, and the first tilting plate 431 and the second tilting plate 432 are each other. It is formed with a constant angle of inclination. In addition, the first tilting plate 431 and the second tilting plate 432 are relatively heavy. That is, as shown in FIG. 9, the guide means 430 recesses a part of the stand 410 so that the guide means 430 is installed in the stand 410 by a pin shaft 433 coupled to the side of the guide means 430. have. In this case, the guide means 430 has a first tilting plate 431 is formed relatively heavier than the second tilting plate 432, the rest of the first tilting plate 432 on the second tilting plate 432 due to the weight of the first tilting plate ( It is positioned in an inclined form with respect to the 410, by moving the settling to the wafer (W) side using a robot arm so that the wafer (W) over the second tilting plate 432, the weight of the wafer (W) The second tilting plate 432 is down with respect to the pin shaft 433, and the first tilting plate 431 is up, and the wafer W can be naturally seated in the settled portion, thereby preventing damage to the wafer. It can be prevented. It is also possible to restore the original position by the weight of the first tilting plate when the wafer is separated from the second tilting plate.

한편 도면상에 기재되어 있지는 않지만 상기 핀축에 결합된 상태로 상호 제1 틸팅판과 제2 틸팅판을 탄지되게 하는 탄성체를 구비시켜 상기 탄성체로 하여금 제2 틸팅판이 안치대에 대해 항시 경사지게 위치되려고 하는 힘을 형성시켜 웨이퍼가 제2 틸팅판으로부터 이탈되었을 때 제2 틸팅판이 자연스럽게 업될 수 있게 하는 것도 가능하다.On the other hand, although not shown in the drawings, it is provided with an elastic body for holding the first tilting plate and the second tilting plate mutually coupled to the pin shaft to allow the elastic body to be always inclined with respect to the rest platform It is also possible to create a force so that the second tilting plate naturally rises up when the wafer is released from the second tilting plate.

예컨대 본 발명의 실시예들은 웨이퍼를 안내수단을 이용해 안치대에 정확히 안치시키고, 안치시 웨이퍼의 자중에 의해 안착부에 자연스럽게 안내되게 함으로써 웨이퍼의 손상 없이 이송하는 것이 가능하게 하는 구성이다.For example, embodiments of the present invention is configured to accurately transport the wafer to the rest using a guide means, and to be transported without damaging the wafer by allowing the wafer to naturally guide the seat to the seat by the weight of the wafer.

본 발명은 상기에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.The present invention is not limited by the embodiments described above, and various changes and modifications can be made by those skilled in the art, which are included in the spirit and scope of the present invention as defined in the appended claims.

도 1은 종래의 웨이퍼 이송용 로봇을 나타내는 개략도.1 is a schematic view showing a conventional wafer transfer robot.

도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 이송용 로봇의 동작을 나타내는 측면도.Figure 2 is a side view showing the operation of the wafer transfer robot shown in FIG.

도 3은 본 발명의 웨이퍼 이송용 로봇에 따른 제1 실시예를 나타내는 사시도.Figure 3 is a perspective view showing a first embodiment according to the wafer transfer robot of the present invention.

도 4a 및 도 4b는 도 3에 도시된 제1 실시예의 작동상태를 나타내는 작동도.4A and 4B are operation diagrams showing an operating state of the first embodiment shown in FIG.

도 5는 본 발명에 따른 제2 실시예를 나타내는 사시도.5 is a perspective view showing a second embodiment according to the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 제3 실시예를 나타내는 사시도.6 is a perspective view showing a third embodiment according to the present invention;

도 7a 및 도 7b는 도 6에 도시된 제3 실시예의 작동상태를 나타내는 작동도.7A and 7B are operation diagrams showing an operating state of the third embodiment shown in FIG.

도 8 및 도 9는 본 발명에 따른 제4 실시예를 나타내는 개략도.8 and 9 are schematic views showing a fourth embodiment according to the present invention.

Claims (9)

로봇암 일측 단부에서 연장되게 구비되어 웨이퍼가 안치될 수 있게 하는 안치대;A support for extending from one end of the robot arm to allow the wafer to be placed therein; 상기 안치대 일측 상부에 구비되며, 일측면이 웨이퍼 외주와 동일한 형태로 곡선진 블록;A block provided at an upper portion of the one side of the stabilizer and having one side curved in the same shape as the outer periphery of the wafer; 상기 블록의 곡선진 위치에 구비되어 상기 웨이퍼를 지지한 상태로 안치대에 웨이퍼를 정렬되게 하는 안내수단;을 포함하고,And guide means provided at a curved position of the block to align the wafer on a support stand while supporting the wafer. 상기 안내수단은 핀축을 기준으로 회전하는 몸체 외주에 다수개의 임펠러가 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송용 로봇암.The guide means is a wafer transfer robot arm, characterized in that a plurality of impellers are formed on the outer periphery of the body to rotate based on the pin axis. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 임펠러 끝단은 안치대의 안착부 방향으로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송용 로봇암.The impeller end is a robot arm for wafer transfer, characterized in that formed inclined in the direction of the seating portion of the seat. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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