KR101079739B1 - Heating device for facial massage - Google Patents
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Abstract
본 발명은 얼굴 마사지용 온열 장치에 관한 것이다. 상기 얼굴 마사지용 온열 장치는, 중앙에 사람의 머리가 삽입될 수 있는 환형 구조로 형성되며, 중앙과 마주보는 내측면의 일정 위치에 원적외선 방출구와 음이온 방출구가 형성되고, 원적외선 방출구와 대향되는 위치에 머리 안착대가 형성되어 있는 본체부; 열이 가해지면 원적외선을 방출하는 물질로 이루어지고, 상기 본체부의 내부에 고정되되 상기 본체부의 원적외선 방출구와 인접한 위치에 고정 장착되는 원적외선 방출편; 상기 원적외선 방출편의 일면에 장착되는 열선; 음이온 발생 장치; 상기 열선 및 음이온 발생 장치로 전원을 제공하는 전원부; 상기 전원부의 구동을 제어하여 원적외선/음이온 방출량과 원적외선/음이온 방출 시간을 제어하는 제어부; 를 구비하여, 본체부의 머리 안착대를 향해 원적외선 및 음이온을 방출한다.The present invention relates to a heating device for facial massage. The facial massager is formed in an annular structure in which a human head can be inserted in the center, and a far infrared ray outlet and an anion outlet are formed at a predetermined position on the inner side facing the center, and are opposed to the far infrared ray outlet. A main body portion having a head restraint formed therein; A far infrared ray emitting piece made of a material that emits far infrared rays when heat is applied, and fixed to an inside of the main body portion and fixedly mounted at a position adjacent to the far infrared ray emitting port of the main body portion; A heating wire mounted on one surface of the far infrared ray emitting piece; Negative ion generating device; A power supply unit providing power to the heating wire and anion generator; A control unit controlling the driving of the power supply unit to control the far infrared ray / anion emission amount and the far infrared ray / anion emission time; To provide far-infrared and negative ions toward the head restraint of the body portion.
Description
본 발명은 얼굴 마사지용 온열 장치에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 사용자의 얼굴을 마사지하거나 찜질하기 위하여, 얼굴에 마사지용 팩이나 찜질용 팩을 도포한 상태에서 얼굴을 향해 원적외선과 음이온을 방출하여 마사지나 찜질의 효과를 증대시킬 수 있는 얼굴 마사지용 온열 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a heating device for facial massage, and more specifically, to massage or steam a user's face, by massaging far infrared rays and negative ions toward the face in a state where a massage pack or a pack for steaming is applied to the face. B relates to a heating device for facial massage that can increase the effect of poultice.
종래의 마스크 마사지용 팩이나 마스크 찜질용 팩은 부직포의 일면에 소정의 점도를 갖는 화장품 등이 도포된 구조로 이루어지며, 이를 얼굴의 표면에 밀착시켜 화장품의 유효 성분이 피부로 스며들도록 한다. 이러한 구조의 종래의 마스크 마사지용 팩이나 찜질용 팩은 피부에 영양 제공이나 보습의 효과를 제공하기는 하나, 이는 피부의 표면에만 영향을 미치고 피부 깊숙이 전달하지는 못하는 단점이 있다. Conventional mask massage packs or mask packs for packs are made of a structure coated with a cosmetic having a predetermined viscosity on one side of the nonwoven fabric, it is in close contact with the surface of the face so that the active ingredient of the cosmetics into the skin. Conventional mask massage packs or packs for packs of this structure provide nutrition or moisturizing effect to the skin, but this affects only the surface of the skin and does not deliver deeply into the skin.
한편, 원적외선은 적외선 중에서도 인체에 가장 유익한 파장인 5.7 ~ 10 ㎛을 갖는 전자파의 일종으로, 가시광선보다 더욱 긴 장파장측에 나타나며, 특히 강한 열 작용을 갖는 방사선을 말한다. 장파장을 갖는 원적외선은 피부의 심층까지 침투하여 세포를 촉진시켜 체온을 높이게 된다. 이러한 특성을 갖는 원적외선이 사람의 체내에 흡수됨에 따라, 체내 온도를 상승시키고, 각종 유독성 물질, 노폐물, 중금속류가 땀과 함께 다량 방출되어 체질이 건장한 알카리성으로 개선될 뿐만 아니라 여러가지 병을 치료하기도 한다. 또한, 육체와 정신의 긴장을 이완시켜 주기 때문에 성인병의 원인이 되는 스트레스 해소에도 효과가 있다. 이와 같이 원적외선의 온열 효과는 피부 깊숙히 전달되어 혈류 증가와 대사 활동을 증진시키게 되고, 그 결과 신진 대사와 혈액 순환이 촉진되어 땀을 통해 노폐물을 배출시키게 된다.On the other hand, far infrared rays are a kind of electromagnetic waves having a wavelength of 5.7 ~ 10 ㎛, which is the most beneficial to the human body among infrared rays, appearing on the longer wavelength side longer than visible light, and particularly refers to radiation having a strong thermal action. Far-infrared rays with long wavelengths penetrate deep into the skin to promote cells and increase body temperature. As far-infrared rays having such characteristics are absorbed into the human body, the temperature of the body is increased, and various toxic substances, waste products, and heavy metals are released with sweat, improving not only the health of the constitution but also various diseases. In addition, because it relaxes the physical and mental tension is also effective in relieving the stress that causes the adult disease. As such, the thermal effect of far infrared rays is transmitted deep into the skin to promote blood flow and metabolic activity. As a result, metabolism and blood circulation are promoted to release waste products through sweat.
한편, 원적외선의 파장이 피하조직까지 깊이 열로 전달되어 혈액 순환을 원할히 함으로써, 원적외선에 의해 조사된 세포와 피부는 혈액순환을 순조롭게 해서 피부를 회복 또는 완화시킬 수 있게 된다. 따라서, 피부나 인체로 원적외선을 제공하기 위한 다양한 장치들이 제안되고 있다. On the other hand, the wavelength of the far infrared rays are transmitted to the subcutaneous tissue deeply to facilitate blood circulation, thereby allowing the cells and the skin irradiated by the far infrared rays to smooth the blood circulation and recover or alleviate the skin. Therefore, various apparatuses for providing far infrared rays to the skin or human body have been proposed.
한편, 음이온은 세포의 신진대사를 촉진하고 활력을 증진시키며, 피를 맑게 하고 신경안정과 피로회복, 식용 증진에 효과가 있어 '공기의 비타민'이라고도 불리운다. 또한, 공기중에 존재하는 여러가지 오염 물질인 담배연기, 아황산가스, 질소산화물, 일산화탄소, 오존 및 각종 유기물질은 양이온을 형성하고 있는데, 음이온은 이러한 양이온들을 중화 침전시켜 제거하므로, 공기를 깨끗하고 신선하게 유지해준다. 그 외에도, 음이온은 먼지를 중화시키거나 제거하고 살균 작용도 하며, 인체에 흡수되어 뇌의 α파의 활동을 증가시켜 걱정과 긴장을 완화시키는 자율 신경 조절 작용을 하며, 이온화된 칼슘을 증가시키고 엔도르핀, 엔케피린이라는 물질을 발생시켜 통증 완화 작용도 함께 한다. On the other hand, negative ions are also called 'air vitamins' because they promote the metabolism of cells, promote vitality, clear blood, and improve nerve stability, fatigue recovery, and food consumption. In addition, various pollutants in the air, such as tobacco smoke, sulfur dioxide, nitrogen oxides, carbon monoxide, ozone, and various organic substances form cations. The anion neutralizes and removes these cations so that the air is clean and fresh. Keep it. In addition, negative ions neutralize, remove, and disinfect dust, and are absorbed by the human body to increase the activity of the α waves in the brain, thereby regulating autonomic nerves to relieve anxiety and tension, increasing ionized calcium and endorphins. It also produces a substance called enkephyrin, which also works to relieve pain.
따라서, 본 출원인은 마사지 팩이나 찜질용 팩을 사용하여 피부에 영양 제공이나 보습 효과를 도모함과 동시에, 원적외선의 온열 효과도 함께 제공하여 마사지의 효과를 극대화시킬 수 있는 방안을 제안하고자 한다.
Therefore, the present applicant intends to propose a method of maximizing the effect of massage by providing nutrition or moisturizing effect on the skin using a massage pack or pack for poultice, and also providing a thermal effect of far infrared rays.
전술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 얼굴에 마사지 팩이나 찜질용 팩을 할 때 원적외선과 음이온을 함께 제공할 수 있는 간편한 구조의 얼굴 마사지용 온열 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention for solving the above problems is an object of the present invention to provide a thermal massage device for a facial massage of a simple structure that can provide a combination of far-infrared rays and negative ions when the massage pack or pack for the pack.
전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치는, 중앙에 사람의 머리가 삽입될 수 있는 환형 구조로 형성되며, 중앙과 마주보는 내측면의 일정 위치에 원적외선 방출구가 형성되고, 원적외선 방출구와 대향되는 위치에 머리 안착대가 형성되어 있는 본체부; 열이 가해지면 원적외선을 방출하는 물질로 이루어지고, 상기 본체부의 내부에 고정되되 상기 본체부의 원적외선 방출구와 인접한 위치에 고정 장착되는 원적외선 방출편; 상기 원적외선 방출편의 일면에 장착되는 열선; 상기 열선으로 전원을 제공하는 전원부; 상기 전원부의 구동을 제어하여 원적외선 방출량과 원적외선 방출 시간을 제어하는 제어부; 를 구비하여, 본체부의 머리 안착대를 향해 원적외선을 방출한다.The heating device for a facial massage according to a feature of the present invention for achieving the above-described technical problem is formed in an annular structure in which a human head can be inserted in the center, and the far-infrared emitter at a predetermined position of the inner side facing the center. Is formed, the main body portion is the head restraint is formed in a position opposite to the far infrared emitting port; A far infrared ray emitting piece made of a material that emits far infrared rays when heat is applied, and fixed to an inside of the main body portion and fixedly mounted at a position adjacent to the far infrared ray emitting port of the main body portion; A heating wire mounted on one surface of the far infrared ray emitting piece; A power supply unit providing power to the hot wire; A control unit controlling the driving of the power supply unit to control the far infrared ray emission amount and the far infrared ray emission time; Equipped with a far infrared ray toward the head restraint of the main body portion.
전술한 특징에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치에 있어서, 상기 본체부는 원적외선 방출구와 일정 거리 이격된 위치의 내측면에 음이온 방출구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하며, 상기 얼굴 마사지용 온열 장치는 상기 본체부의 내부에 음이온을 생성하여 방출하는 음이온 발생 장치부를 더 구비하고, 상기 음이온 발생 장치부로부터 방출되는 음이온은 상기 본체부의 음이온 방출구를 통해 제공하는 것이 바람직하다. In the warm massage device for a facial according to the above features, the main body portion is characterized in that the negative ion outlet is formed on the inner surface of the position spaced apart from the far infrared emitter opening a predetermined distance, the warmer for facial massage is the main body portion It is preferable to further provide an anion generating device unit for generating and discharging anion therein, the anion released from the anion generating device unit is provided through an anion discharge port of the body portion.
전술한 특징에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치에 있어서, 상기 얼굴 마사지용 온열 장치는 중앙을 향하도록 배치된 원적외선 램프를 더 구비하는 것이 바람직하다. In the thermal massage device for a facial massage according to the above features, it is preferable that the facial massage device further comprises a far-infrared lamp disposed to face the center.
전술한 특징에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치에 있어서, 상기 얼굴 마사지용 온열 장치는, 사전에 설정된 음성 메시지 정보들이 저장되어 있는 데이터 저장부; 음성 메시지 정보를 재생하는 음성 재생부; 및 스피커;를 더 구비하고, 상기 제어부는 사전에 설정된 조건에 따라 얼굴 마사지용 온열 장치의 구동 상태를 알리는 음성 메시지 정보를 데이터 저장부로부터 판독하고, 판독된 음성 메시지 정보를 음성 재생부를 통해 재생시켜 스피커로 출력하는 것이 바람직하다. A warming device for a facial massage according to the above features, the warming device for a facial massage, comprising: a data storage unit for storing preset voice message information; A voice reproducing unit reproducing voice message information; And a speaker, wherein the controller reads voice message information indicating a driving state of the facial massage warmer from the data storage unit according to a preset condition, and reproduces the read voice message information through the voice reproducing unit. It is preferable to output to a speaker.
본 발명의 다른 특징에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치는, 중앙에 사람의 머리 부분이 삽입될 수 있는 환형 구조로 형성되며, 내측면의 일정 위치에 머리 안착대가 형성되어 있는 본체부; 상기 본체부의 중앙을 향하도록 본체부의 내측면에 장착되되, 본체부의 머리 안착대와 마주보는 위치의 내측면에 장착되는 원적외선 램프; 상기 원적외선 램프로 전원을 제공하는 전원부; 상기 전원부의 구동을 제어하여 원적외선 램프의 구동 세기와 구동 시간을 제어하는 제어부; 를 구비하여, 본체부의 머리 안착대를 향해 원적외선을 방출한다. Warmer for facial massage according to another aspect of the present invention, the body portion is formed in an annular structure that can be inserted into the human head portion in the center, the main body portion is formed with a head restraint at a predetermined position of the inner surface; A far-infrared lamp mounted on an inner side of the main body so as to face the center of the main body and mounted on an inner side of the main body facing the head restraint; A power supply unit providing power to the far infrared lamp; A control unit controlling the driving intensity and driving time of the far-infrared lamp by controlling the driving of the power supply unit; Equipped with a far infrared ray toward the head restraint of the main body portion.
전술한 특징에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치에 있어서, 상기 본체부는 원적외선 램프와 일정 거리 이격된 위치의 내측면에 음이온 방출구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하며, 상기 얼굴 마사지용 온열 장치는 상기 본체부의 내부에 음이온을 생성하여 방출하는 음이온 발생 장치부를 더 구비하고, 상기 음이온 발생 장치부로부터 방출되는 음이온은 상기 본체부의 음이온 방출구를 통해 제공하는 것이 바람직하다. In the warm massage device for a facial according to the above feature, the main body portion is characterized in that the negative ion outlet is formed on the inner surface of the position spaced apart from the far infrared lamp, a predetermined distance, the warming device for facial massage is the body portion It is preferable to further provide an anion generating device unit for generating and discharging anion therein, the anion released from the anion generating device unit is provided through an anion discharge port of the body portion.
본 발명에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치는 사용자의 머리를 삽입하는 구조로 이루어져 용이하게 사용할 수 있다. 특히, 사용자가 마스크 마사지용 팩이나 마스크 찜질용 팩을 얼굴에 도포한 상태에서 머리를 얼굴 마사지용 온열 장치에 삽입함으로써, 원적외선과 음이온이 방출되는 분위기에서 자연스럽게 마사지나 찜질을 할 수 있다. 그 결과, 원적외선과 음이온에 의하여 영양 제공 및 피부 보습 효과를 증대시켜 마사지나 찜질의 효과를 극대화시킬 수 있게 된다. The warming device for a facial massage according to the present invention is made of a structure for inserting the user's head can be used easily. In particular, by inserting the head into the facial massager in the state in which the user applied the mask massage pack or the mask pack for the face to the face, it is possible to naturally massage or steam in an atmosphere where far infrared rays and negative ions are released. As a result, it is possible to maximize the effect of massage or poultice by increasing the nutritional and skin moisturizing effect by far infrared rays and anions.
도 1의 (a)는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치를 도시한 사시도이며, (b)는 뒷면에서 본 사시도이다.
도 2의 (a)는 도 1의 얼굴 마사지용 온열 장치의 측면도이며, (b)는 A-A 방향을 따라 절개하여 도시한 단면도이다.
도 3의 (a)는 도 1의 얼굴 마사지용 온열 장치의 정면도이며, (b)는 A-A 방향을 따라 절개하여 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치의 내부 회로도를 도시한 블록도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치를 사용하는 상태를 예시적으로 도시한 것이다. Figure 1 (a) is a perspective view showing a heating device for a facial massage according to a preferred embodiment of the present invention, (b) is a perspective view seen from the back.
FIG. 2A is a side view of the heating device for facial massage of FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the AA direction.
FIG. 3A is a front view of the facial massager of FIG. 1, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the AA direction.
Figure 4 is a block diagram showing the internal circuit diagram of the heating device for a facial massage according to an embodiment of the present invention.
5 exemplarily illustrates a state of using a facial massage warmer according to a preferred embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치의 구조 및 동작에 대하여 구체적으로 설명한다. 본 발명에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치는 중앙을 향해 원적외선과 음이온을 방출함으로써, 얼굴 마사지용 온열 장치의 중앙에 놓여진 사람의 안면으로 직접 원적외선과 음이온을 제공할 수 있게 된다. 특히, 사람의 안면에 마스크형 찜질팩이나 마사지 팩이 놓여진 상태에서, 온열 장치가 원적외선 및 음이온을 제공함으로써, 얼굴에 대한 마사지나 찜질의 효과를 극대화시킬 수 있게 된다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the structure and operation of the facial massager heating apparatus according to an embodiment of the present invention. The warming device for a facial massage according to the present invention emits far infrared rays and negative ions toward the center, thereby providing the far infrared rays and negative ions directly to the face of a person placed in the center of the warming device for the facial massage. In particular, in a state where the mask-type poultice pack or massage pack is placed on the face of the person, the warmer provides far infrared rays and negative ions, thereby maximizing the effect of massage or poultice on the face.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치를 도시한 사시도이다. 도 2의 (a)는 도 1의 얼굴 마사지용 온열 장치의 측면도이며, (b)는 A-A 방향을 따라 절개하여 도시한 단면도이다. 도 3의 (a)는 도 1의 얼굴 마사지용 온열 장치의 정면도이며, (b)는 A-A 방향을 따라 절개하여 도시한 단면도이다. 도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치의 내부 회로도를 도시한 블록도이다. 1 is a perspective view showing a warming device for a facial massage according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 2A is a side view of the facial massager of FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the A-A direction. FIG. 3A is a front view of the facial massager of FIG. 1, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the A-A direction. Figure 4 is a block diagram showing the internal circuit diagram of the heating device for a facial massage according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치(1)는 중앙으로 사람의 머리부분이 삽입되어 놓여질 수 있는 환형 구조의 본체부(100), 본체부의 내부에 장착되는 원적외선 방출편(110), 음이온 발생 장치(120), 전원부(130), 발열부(140), 원적외선 램프(150), 원적외선 스위치(160), 음이온 스위치(170), 데이터저장부(180), 음성 정보 재생부(182) 및 스피커(184) 및 제어부(190)를 구비한다. 이하, 전술한 각 구성요소들의 구조 및 동작에 대하여 구체적으로 설명한다. 1 to 4, the heating device for
상기 본체부(100)는 중앙 부분에 빈 공간이 형성된 환형 구조로 이루어지며, 중앙 부분의 빈 공간('a')은 사람의 머리 부분이 삽입되어 놓여질 수 있는 정도의 크기로 형성된다. 상기 본체부(100)의 하부에는 바닥등에 쉽게 안착될 수 있도록 하는 받침대(102)를 더 구비할 수 있다. 상기 본체부(100)는 내측면에 원적외선 방출구(104) 및 음이온 방출구(106)가 형성되어 있다. 원적외선 방출구(104)를 통해 원적외선 방출편(110)으로부터 온열 장치(1)의 밖으로 원적외선이 방출되며, 음이온 방출구(106)를 통해 음이온 발생 장치(120)로부터 온열 장치(1)의 밖으로 음이온이 방출된다. 특히, 상기 본체부(100)는 원적외선 방출구(104)와 대향되는 위치에 머리 안착대(105)를 구비하여, 사용시 머리 안착대(105)에 놓여지는 사용자의 얼굴을 향해 원적외선이 다량 방출되도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 음이온 방출구(106)는 원적외선 방출구의 양 측면으로부터 일정 거리 이격된 이치에 형성하여, 원적외선 방출시 본체부의 중앙 부분을 전체적으로 음이온 분위기를 제공하는 것이 바람직하다. The
한편, 본체부(100)의 정면에는 원적외선 및 음이온의 방출 여부를 알려주는 동작 표시등(108)을 구비하고, 본체부의 뒷면에는 본체부 내부의 열을 외부로 방출시킬 수 있는 열 방출구(109)를 구비한다. 여기서, 동작 표시등 및 열 방출구의 위치는 다양하게 변경가능하다. 또한, 상기 본체부는 전원선이 연결될 수 있는 전원잭(107)을 구비한다. On the other hand, the front of the
상기 원적외선 방출편(110)은 천연옥, 황토, 백토, 세라믹(맥반석), 게르마늄 등과 같이 원적외선을 방출하는 물질들로 이루어진 판이나 플레이트로 구성된다. 원적외선 방출편(110)은 본체부의 내부에 장착되는데, 본체부의 원적외선 방출구(104)와 인접하게 장착함으로써, 원적외선이 원적외선 방출구를 통해 본체부의 밖으로 방출되도록 한다. The far infrared
발열부(140)는 열선으로 구성되며 원적외선 방출편(110)의 일면과 접하도록 배치한다. 발열부에 의하여 원적외선 방출편에 열이 인가됨에 따라, 원적외선 방출편으로부터 원적외선이 방출된다. The
음이온 발생 장치(120)는 탄소 섬유 또는 동판, 이들에 전원을 인가할 수 있는 전극으로 이루어지고, 전극에 고압을 인가함에 따라 음이온을 발생하게 된다. 음이온 발생 장치(120)는 본체부의 음이온 방출구(106)와 인접한 곳에 장착되어 음이온 방출구를 통해 음이온을 방출하게 된다. The negative
원적외선 램프(150)는 원적외선의 파장을 방출하는 램프로 구성되며, 강화 유리의 표면에 붉은색의 비카드늄 코팅 처리하여 대부분의 가시광선을 차단함으로써 눈부심을 방지하는 것이 바람직하다. Far-
원적외선 스위치(160) 및 음이온 스위치(170)는 각각 원적외선 및 음이온을 방출시키기 위한 스위치들이다. 상기 제어부(190)는 원적외선 스위치 및 음이온 스위치들의 온/오프에 따라 얼굴 마사지용 온열 장치를 구동하게 된다. 데이터 저장부(180)는 구동 상태를 알려주는 음성 메시지 정보 등이 사전에 저장 및 등록된다. 음성 정보 재생부(182)는 제어부의 제어하에 음성 메시지들을 재생하여 스피커(184)로 출력한다. 예컨대, 제어부(190)는 온열 장치의 구동을 종료하는 메시지를 데이터 저장부로부터 판독하여 음성 정보 재생부(182)를 통해 재생하여 스피커로 출력함으로써, 사용자에게 온열 장치의 구동 종료를 알려주게 된다. The far
한편, 상기 제어부(190)는 타이머(도시되지 않음)의 설정된 시간이 종료되면, 발열부(140) 및 음이온 발생 장치(120)의 구동을 종료하고 스피커를 통해 구동 종료를 안내한다. Meanwhile, when the set time of the timer (not shown) ends, the
상기 제어부는 원적외선 스위치가 온되면, 발열부로 전원을 인가하여 원적외선 방출편으로부터 원적외선이 방출되도록 한다. 이때 발열부는 온도 제어를 위한 바이메탈과 연결되어, 사전에 설정된 온도를 일정하게 유지하도록 한다. 또한, 원적외선 스위치가 온되면, 원적외선 램프(150)도 함께 구동함으로써, 사용자로 하여금 원적외선이 방출되는 것을 시각적으로 인식할 수 있도록 함과 동시에 원적외선의 방출량을 증대시키는 것이 바람직하다. When the far infrared switch is turned on, the control unit applies power to the heat generating unit so that far infrared rays are emitted from the far infrared emitting piece. At this time, the heating unit is connected to the bimetal for temperature control, so as to maintain a predetermined temperature constant. In addition, when the far-infrared switch is turned on, the far-
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 온열 장치를 사용하는 상태를 예시적으로 도시한 단면도이다. 도 5를 참조하면, 본체부의 중앙 부분에 사용자의 머리를 배치한 후 원적외선 및/또는 음이온을 방출하게 된다. 5 is a cross-sectional view illustrating an exemplary state of using a heating apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. Referring to Figure 5, after placing the user's head in the central portion of the main body to emit far infrared rays and / or negative ions.
본 발명에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치는 사용자의 얼굴에 마사지용 팩이나 찜질용 팩을 도포한 상태에서 사용함으로써 마사지나 찜질의 효과를 극대화시킬 수 있게 된다. 따라서, 본 발명에 따른 얼굴 마사지용 온열 장치는 미용 분야에 널리 사용될 수 있다. The warming device for a facial massage according to the present invention can maximize the effect of massage or poultice by using the massage pack or poultice pack on the user's face. Therefore, the heating device for facial massage according to the present invention can be widely used in the field of beauty.
1 : 얼굴 마사지용 온열 장치
100 : 본체부
110 : 원적외선 방출편
120 : 음이온 발생 장치
130 : 전원부
140 : 발열부
150 : 원적외선 램프
160 : 원적외선 스위치
170 : 음이온 스위치
180 : 데이터저장부
182 : 음성 정보 재생부
184 : 스피커
190 : 제어부
104 : 원적외선 방출구
106 : 음이온 방출구
108 : 동작 표시등
109 : 열 방출구1: warmer for facial massage
100: main body
110: far infrared emitting piece
120: negative ion generating device
130: power supply
140: heating unit
150: far infrared lamp
160: far infrared switch
170: anion switch
180: data storage
182: voice information playback unit
184: Speaker
190:
104: far infrared ray emitting port
106: negative ion outlet
108: operation indicator
109 heat release port
Claims (7)
열이 가해지면 원적외선을 방출하는 물질로 이루어지고, 상기 본체부의 내부에 고정되되 상기 본체부의 원적외선 방출구와 인접한 위치에 고정 장착되는 원적외선 방출편;
상기 원적외선 방출편의 일면에 장착되는 열선;
상기 열선으로 전원을 제공하는 전원부;
상기 전원부의 구동을 제어하여 원적외선 방출량과 원적외선 방출 시간을 제어하는 제어부;
를 구비하여, 본체부의 머리 안착대를 향해 원적외선을 방출하는 것을 특징으로 하는 얼굴 마사지용 온열 장치.The main body is formed in an annular structure that can be inserted into the human head in the center, the far infrared emitter is formed at a predetermined position of the inner surface facing the center, the head portion is formed in a position opposite to the far infrared emitter;
A far infrared ray emitting piece made of a material that emits far infrared rays when heat is applied, and fixed to an inside of the main body portion and fixedly mounted at a position adjacent to the far infrared ray emitting port of the main body portion;
A heating wire mounted on one surface of the far infrared ray emitting piece;
A power supply unit providing power to the hot wire;
A control unit controlling the driving of the power supply unit to control the far infrared ray emission amount and the far infrared ray emission time;
Is provided, the facial device for heating the facial massage, characterized in that to emit far infrared toward the head restraint.
상기 얼굴 마사지용 온열 장치는 상기 본체부의 내부에 음이온을 생성하여 방출하는 음이온 발생 장치부를 더 구비하고, 상기 음이온 발생 장치부로부터 방출되는 음이온은 상기 본체부의 음이온 방출구를 통해 제공하는 것을 특징으로 하는 얼굴 마사지용 온열 장치. The method of claim 1, wherein the main body portion is characterized in that the negative ion outlet is formed on the inner surface of the position spaced apart from the far infrared emitter by a predetermined distance,
The facial massager is further provided with an anion generating unit for generating and discharging anion inside the body portion, the anion emitted from the anion generating unit portion is provided through the anion outlet of the body portion Warmer for facial massage.
상기 본체부의 중앙을 향하도록 본체부의 내측면에 장착되되, 본체부의 머리 안착대와 마주보는 위치의 내측면에 장착되는 원적외선 램프;
상기 원적외선 램프로 전원을 제공하는 전원부;
상기 전원부의 구동을 제어하여 원적외선 램프의 구동 세기와 구동 시간을 제어하는 제어부;
를 구비하여, 본체부의 머리 안착대를 향해 원적외선을 방출하는 것을 특징으로 하는 얼굴 마사지용 온열 장치.A main body portion formed in an annular structure into which a human head portion can be inserted in the center and having a head restraint formed at a predetermined position on an inner side thereof;
A far-infrared lamp mounted on an inner side of the main body so as to face the center of the main body and mounted on an inner side of the main body facing the head restraint;
A power supply unit providing power to the far infrared lamp;
A control unit controlling the driving intensity and driving time of the far-infrared lamp by controlling the driving of the power supply unit;
Is provided, the facial device for heating the facial massage, characterized in that to emit far infrared toward the head restraint.
상기 얼굴 마사지용 온열 장치는 상기 본체부의 내부에 음이온을 생성하여 방출하는 음이온 발생 장치부를 더 구비하고, 상기 음이온 발생 장치부로부터 방출되는 음이온은 상기 본체부의 음이온 방출구를 통해 제공하는 것을 특징으로 하는 얼굴 마사지용 온열 장치. The method of claim 4, wherein the main body portion is characterized in that the negative ion outlet is formed on the inner surface of the position spaced apart from the far infrared lamp, a predetermined distance,
The facial massager is further provided with an anion generating unit for generating and discharging anion inside the body portion, the anion emitted from the anion generating unit portion is provided through the anion outlet of the body portion Warmer for facial massage.
사전에 설정된 음성 메시지 정보들이 저장되어 있는 데이터 저장부;
음성 메시지 정보를 재생하는 음성 재생부; 및
스피커;를 더 구비하고,
상기 제어부는 사전에 설정된 조건에 따라 얼굴 마사지용 온열 장치의 구동 상태를 알리는 음성 메시지 정보를 데이터 저장부로부터 판독하고, 판독된 음성 메시지 정보를 음성 재생부를 통해 재생시켜 스피커로 출력하는 것을 특징으로 하는 얼굴 마사지용 온열 장치.
The warming device according to any one of claims 1 and 4, wherein
A data storage unit for storing preset voice message information;
A voice reproducing unit reproducing voice message information; And
It further comprises a speaker;
The controller reads voice message information indicating a driving state of the facial massager heating device from the data storage unit according to a preset condition, and reproduces the read voice message information through the voice reproducing unit and outputs it to the speaker. Warmer for facial massage.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100017276A KR101079739B1 (en) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | Heating device for facial massage |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100017276A KR101079739B1 (en) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | Heating device for facial massage |
Publications (2)
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|---|---|
| KR20110097433A KR20110097433A (en) | 2011-08-31 |
| KR101079739B1 true KR101079739B1 (en) | 2011-11-08 |
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ID=44932460
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|---|---|---|---|
| KR1020100017276A KR101079739B1 (en) | 2010-02-25 | 2010-02-25 | Heating device for facial massage |
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| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101079739B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101429523B1 (en) * | 2012-11-23 | 2014-08-18 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Facial fomentation device for both coldness and warmth having peltier element |
Citations (2)
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| JP2004167204A (en) | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Shogo Nasu | Massage appliance |
| KR100745190B1 (en) | 2006-03-15 | 2007-08-01 | 김현진 | Apparatus for massaging which can be put on a finger |
-
2010
- 2010-02-25 KR KR1020100017276A patent/KR101079739B1/en not_active IP Right Cessation
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| JP2004167204A (en) | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Shogo Nasu | Massage appliance |
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| KR101429523B1 (en) * | 2012-11-23 | 2014-08-18 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Facial fomentation device for both coldness and warmth having peltier element |
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| KR20110097433A (en) | 2011-08-31 |
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