KR101024323B1 - Apparatus for gas dissolution and reaction - Google Patents

Apparatus for gas dissolution and reaction Download PDF

Info

Publication number
KR101024323B1
KR101024323B1 KR1020100121202A KR20100121202A KR101024323B1 KR 101024323 B1 KR101024323 B1 KR 101024323B1 KR 1020100121202 A KR1020100121202 A KR 1020100121202A KR 20100121202 A KR20100121202 A KR 20100121202A KR 101024323 B1 KR101024323 B1 KR 101024323B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
raw water
pipe
flow path
reaction tank
Prior art date
Application number
KR1020100121202A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
한정호
이승주
Original Assignee
엔엔티시스템즈(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엔엔티시스템즈(주) filed Critical 엔엔티시스템즈(주)
Priority to KR1020100121202A priority Critical patent/KR101024323B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101024323B1 publication Critical patent/KR101024323B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30Injector mixers
    • B01F25/31Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/312Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/70Spray-mixers, e.g. for mixing intersecting sheets of material
    • B01F25/72Spray-mixers, e.g. for mixing intersecting sheets of material with nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F33/00Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
    • B01F33/40Mixers using gas or liquid agitation, e.g. with air supply tubes
    • B01F33/405Mixers using gas or liquid agitation, e.g. with air supply tubes in receptacles having guiding conduits therein, e.g. for feeding the gas to the bottom of the receptacle
    • B01F33/4051Mixers using gas or liquid agitation, e.g. with air supply tubes in receptacles having guiding conduits therein, e.g. for feeding the gas to the bottom of the receptacle with vertical conduits through which the material is being moved upwardly driven by the fluid
    • B01F33/40511Mixers using gas or liquid agitation, e.g. with air supply tubes in receptacles having guiding conduits therein, e.g. for feeding the gas to the bottom of the receptacle with vertical conduits through which the material is being moved upwardly driven by the fluid with a central conduit or a central set of conduits
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22Control or regulation
    • B01F35/221Control or regulation of operational parameters, e.g. level of material in the mixer, temperature or pressure
    • B01F35/2213Pressure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

PURPOSE: An apparatus for gas dissolution and reaction is provided to mix raw water such as seawater, freshwater, and waste water with gas such as oxygen or ozone by generating vortex through pressure difference around a nozzle. CONSTITUTION: Raw water flow in a first pipe. A gas generator generates and supplies gas. An injector mixes raw water of the first pipe(100) with gas of the gas generator(200). In a reaction tank(400), the remixing of the mixed raw water with gas is performed. A circulation leading pipe(500) divides the inside of the reaction tank into an internal flow path and an external flow path. A mixing nozzle(600) sprays the gas and raw water of the injector to the internal flow path. A vortex leading plate(700) induces the raw water and the gas flowing according to the external flow path to the internal flow path. A second pipe(800) discharges the mixed raw water.

Description

가스 용해반응장치{APPARATUS FOR GAS DISSOLUTION AND REACTION} Gas Dissolution Reaction Unit {APPARATUS FOR GAS DISSOLUTION AND REACTION}

본 발명은 가스 용해반응장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 산소, 오존 등과 같은 다양한 가스를 해수, 담수, 폐수 등과 같은 각종 원수에 효과적으로 혼합·용해시킬 수 있는 가스 용해반응장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas dissolution reaction apparatus, and more particularly, to a gas dissolution reaction apparatus capable of effectively mixing and dissolving various gases, such as oxygen and ozone, into various raw waters such as seawater, fresh water, and wastewater.

통상적으로 기체(가스)와 액체의 반응은 기액 계면의 접촉에 의한 확산에 의존하게 되고, 이에 따라 기액 계면의 확대를 위하여 기체의 단위 체적 당 액체의 접촉면적을 극대화하기 위한 다양한 가스 용해반응장치가 개발되었다. 그 중에서 가장 널리 사용되는 가스 용해반응장치는 기포기 또는 산기장치라 불리는 장치로서 작은 기공을 갖는 물체를 액체 속에 위치하게 하여 기포가 생성되도록 함으로써 기체가 기포상태로 액체에 혼합되도록 한다. 이러한 기포기 또는 산기장치는 쉽게 설치될 수 있고 이용하기도 쉬운 장점이 있지만 기액 접촉 전달효율이 비교적 낮아서 간단한 시스템에 제한적으로 사용되는 단점이 있다.Typically, the reaction of gas (gas) and liquid is dependent on the diffusion by the contact of the gas-liquid interface, and accordingly, various gas dissolution reaction apparatuses for maximizing the contact area of the liquid per unit volume of gas for the expansion of the gas-liquid interface are provided. Developed. The most widely used gas dissolution reaction apparatus is a bubbler or an acidic device, in which an object having a small pore is placed in a liquid so that bubbles are generated so that the gas is mixed into the liquid in a bubble state. Such a bubbler or diffuser has an advantage that it can be easily installed and easy to use, but has a disadvantage in that the gas-liquid contact transfer efficiency is relatively low and thus is limited to a simple system.

따라서, 벤츄리관 형태의 인젝터 또는 다양한 형상을 갖는 인라인 스태틱 믹서(in-line static mixer)류를 이용한 가스 용해반응장치가 개발되었고, 이러한 장치는 상술한 기포기 또는 산기 장치와 비교하여 소정의 유속을 필요로 하나 반응기 또는 배관 내에 쉽게 설치될 수 있고, 기액 접촉에 의한 혼합 효율이 양호하므로 산업적으로 많이 사용되고 있다.Therefore, a gas dissolution reaction apparatus using a venturi tube-type injector or in-line static mixers having various shapes has been developed, and such a device requires a predetermined flow rate compared to the bubbler or diffuser device described above. Furnace can be easily installed in one reactor or piping, and because of the good mixing efficiency by gas-liquid contact has been used a lot industrially.

하지만, 이러한 종래 가스 용해반응장치는 기체를 액체에 혼합시키는 점에 중점을 두고 필요한 기체(가스)와의 반응을 별도의 탱크 내에서 장시간 체류시킴으로써 혼합을 유도한다. 따라서 기체와 액체의 효율적인 혼합 및 반응을 위해서는 상당한 시간이 필요하며 반응탱크가 매우 커지는 특징이 있어 비효율적이며 비경제적인 문제점이 있다. However, such a conventional gas dissolution reaction apparatus induces mixing by maintaining the reaction with the required gas (gas) for a long time in a separate tank, focusing on mixing the gas into the liquid. Therefore, a considerable time is required for efficient mixing and reaction of gas and liquid, and the reaction tank is very large, and thus there is an inefficient and inefficient economic problem.

상기와 같은 종래 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 원수가 유입되는 제1 배관; 산소, 오존 등과 같은 가스를 발생시켜 공급하는 가스 발생장치; 상기 제1 배관 및 가스 발생장치와 각각 연결되어 제1 배관을 통해 공급되는 원수와, 가스 발생장치를 통해 공급되는 가스를 혼합시키는 인젝터; 상기 인젝터에서 혼합된 원수와 가스의 재혼합을 위해 구비되는 반응탱크; 상기 반응탱크 내부에 설치되어 반응탱크 내부를 내부 유로와 외부 유로로 구획하는 순환 유도배관; 상기 인젝터에 연결된 상태로 반응탱크 내부에 설치되며, 인젝터에서 공급되는 가스와 원수를 상기 순환 유도배관에 의해 형성되는 내부 유로로 분사함으로써 가스와 원수가 내부 유로와 외부 유로를 연속적으로 순환하며 혼합되도록 하는 혼합노즐; 그리고, 상기 반응탱크에 연결되어 가스와 균일하게 혼합된 원수를 외부로 배출시키는 제2 배관을 포함하여 이루어지는 가스 용해반응장치를 제공한다.The present invention to solve the conventional problems as described above the first pipe inlet raw water; A gas generator for generating and supplying a gas such as oxygen or ozone; An injector connected to the first pipe and the gas generator, respectively, to mix raw water supplied through the first pipe and the gas supplied through the gas generator; A reaction tank provided for remixing raw water and gas mixed in the injector; A circulation induction pipe installed inside the reaction tank to divide the inside of the reaction tank into an inner flow passage and an outer flow passage; It is installed inside the reaction tank in a state connected to the injector, by injecting the gas and raw water supplied from the injector into the inner flow path formed by the circulation induction pipe so that the gas and raw water is continuously circulated and mixed between the inner flow path and the outer flow path. Mixing nozzles; And, it is connected to the reaction tank provides a gas dissolution reaction device comprising a second pipe for discharging the raw water uniformly mixed with the gas to the outside.

본 발명은 혼합노즐을 통해 원수와 가스를 반응탱크 내부로 강하게 분사함으로써 원수와 가스의 1차적인 혼합과 반응을 일으킴과 동시에 반응탱크 내부로 분사된 원수와 가스가 순환 유도배관과 와류 유도판에 의해 반응탱크 내부를 연속적으로 순환하도록 함으로써 단시간 내에 원수와 가스의 균일한 혼합을 가능하게 한다. 또한, 혼합노즐이 강한 압력으로 원수와 가스를 분사하면 혼합노즐 주변에는 압력차가 발생하고, 이러한 압력차에 의해 혼합노즐 주변에는 와류가 발생하므로 원수와 가스의 혼합이 신속하게 이루어질 수 있다.The present invention causes the primary mixing and reaction of the raw water and gas by the strong injection of raw water and gas into the reaction tank through the mixing nozzle and the raw water and gas injected into the reaction tank to the circulation induction pipe and the vortex induction plate As a result, the inside of the reaction tank can be continuously circulated to enable uniform mixing of raw water and gas within a short time. In addition, when the mixing nozzle sprays raw water and gas at a strong pressure, a pressure difference is generated around the mixing nozzle, and vortex is generated around the mixing nozzle due to the pressure difference, so that the mixing of the raw water and the gas can be performed quickly.

도 1은 본 발명에 따른 가스 용해반응장치의 전체적인 구조를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 인젝터의 구조를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 혼합노즐이 반응탱크 내부에 다수대 설치되는 구조를 나타내는 도면이다.
1 is a view showing the overall structure of the gas dissolution reactor according to the present invention.
2 is a view showing the structure of an injector according to the present invention.
3 is a view showing a structure in which a plurality of mixing nozzles according to the present invention are installed in a reaction tank.

이하, 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention, in which the above object can be specifically realized, are described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiment, the same name and the same reference numerals are used for the same configuration and additional description thereof will be omitted below.

도 1은 본 발명에 따른 가스 용해반응장치의 전체적인 구조를 나타내는 도면이다.1 is a view showing the overall structure of the gas dissolution reactor according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 가스 용해반응장치는 크게 제1 배관(100), 가스 발생장치(200), 인젝터(injector)(300), 반응탱크(400), 순환 유도배관(500), 혼합노즐(600), 그리고, 제2 배관(800)을 포함하여 이루어진다.Referring to Figure 1, the gas dissolution reaction apparatus according to the present invention is largely the first pipe 100, gas generator 200, injector (injector) 300, reaction tank 400, circulation induction pipe 500 , The mixing nozzle 600, and the second pipe 800.

상기 제1 배관(100)은 원수가 유입되는 관으로서, 제1 배관(100)에 설치된 가압펌프(P)가 동작을 시작하면 내부로 원수가 유입된다. 제1 배관(100)으로 유입되는 원수는 하천수, 식수로 제공하기 위해 취수한 담수에 한정되지 않고, 오수, 폐수 등 오존처리로 수질이 개선될 수 있는 물 또는 양식장에 사용되는 해수 등 다양한 종류의 물이 대상이 될 수 있다. 또한, 제1 배관(100)에 설치되는 가압펌프(P)는 원심펌프, 축류펌프, 왕복펌프, 회전펌프 등 다양한 형태의 펌프가 적용될 수 있다. The first pipe 100 is a pipe into which raw water flows, and when the pressure pump P installed in the first pipe 100 starts to operate, raw water flows into the inside. The raw water flowing into the first pipe 100 is not limited to fresh water taken to provide river water and drinking water, and various kinds of water such as sewage, wastewater, or seawater used in aquaculture farms where the water quality can be improved by ozone treatment. Water can be the target. In addition, the pressurized pump P installed in the first pipe 100 may have various types of pumps such as a centrifugal pump, an axial pump, a reciprocating pump, and a rotary pump.

가스 발생장치(200)는 산소, 오존 등과 같은 가스를 발생시켜 이하, 설명할 인젝터(300)로 공급하는 역할을 한다. 가스 발생장치(200)가 오존가스를 공급할 경우 가스 발생장치(200)는 원료가스인 산소를 이용해 오존가스를 생성시키며, 이때 원료가스인 산소의 공급은 도시하지는 않았지만 일반 이동식 액화산소 또는 산업용 이동식 산소가스 봄베를 통해 이루어진다. The gas generator 200 generates a gas such as oxygen, ozone, and the like, and supplies the gas to the injector 300 to be described below. When the gas generator 200 supplies ozone gas, the gas generator 200 generates ozone gas using oxygen as a raw material gas. In this case, although the supply of oxygen as raw material gas is not shown, general portable liquefied oxygen or industrial mobile oxygen is shown. It takes place through a gas cylinder.

인젝터(300)는 상술한 제1 배관(100) 및 가스 발생장치(200)와 각각 연결되어 제1 배관(100)을 통해 공급되는 원수와, 가스 발생장치(200)를 통해 공급되는 가스를 혼합시킨다. The injector 300 is connected to the first pipe 100 and the gas generator 200 described above, respectively, and mixes the raw water supplied through the first pipe 100 and the gas supplied through the gas generator 200. Let's do it.

도 2는 본 발명에 따른 인젝터의 구조를 나타내는 도면이다.2 is a view showing the structure of an injector according to the present invention.

구체적으로, 상기 인젝터(300)는 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 배관(100)과 연결되어 원수가 유입되는 원수 유입구(310)와, 가스 발생장치(200)로부터 공급되는 가스가 유입되는 가스 유입구(320) 및 혼합된 원수와 가스가 배출되는 출구(330)로 이루어지며, 원수 유입구(310)에서 출구(330)쪽으로 가면서 단면적이 좁아졌다 다시 넓어지는 벤츄리관(venturi tube) 형태로 제작된다. Specifically, as shown in FIG. 2, the injector 300 is connected to the first pipe 100 to receive the raw water inlet 310 through which raw water is introduced, and the gas supplied from the gas generator 200. The gas inlet 320 and the outlet of the mixed raw water and the gas is discharged 330, the cross-sectional area is narrowed while going from the raw water inlet 310 toward the outlet 330 is made in the form of venturi tube (venturi tube) is widened again do.

따라서 인젝터(300) 내부로 유입된 원수는 인젝터(300)의 단면적이 좁은 지역을 통과하면서 유속이 빨라지고, 이때 인젝터(300) 내부 압력은 떨어지므로 가스 유입구(320)를 통해 인젝터(300) 내부로 가스가 흡입되어져 원수와 혼합된다. 이러한 벤츄리관 형태의 인젝터(300)를 이용하여 원수에 가스를 혼합·용해시키는 방식을 사이드 스트림(side stream) 방식이라고 하며, 고농도 오존화 가스를 사용할 경우 오존화 가스의 용해율이 높고, 용해에 필요한 유량이 비교적 적기 때문에, 대용량정수장이나 하수처리장의 오존을 이용하는 고도처리시설에서, 오존가스의 용해장치로 널리 사용되고 있다. 이와 같은 인젝터(300)는 해수 및 오존가스에 의한 산화를 방지하기 위해 테플론(Teflon), 하이파론(Hypalon), 실리콘(Silicon)과 같은 재질로 제작됨이 바람직하다.Therefore, the raw water introduced into the injector 300 flows through a narrow cross-sectional area of the injector 300, and the flow rate is increased, and the pressure inside the injector 300 drops, so that the injector 300 enters the injector 300 through the gas inlet 320. The gas is sucked in and mixed with the raw water. The method of mixing and dissolving gas into raw water using the Venturi tube-type injector 300 is called a side stream method. When using a high concentration of ozonated gas, the dissolution rate of the ozonated gas is high and required for dissolution. Since the flow rate is relatively small, it is widely used as a dissolving device for ozone gas in an advanced treatment facility using ozone in a large capacity water purification plant or a sewage treatment plant. The injector 300 is preferably made of a material such as Teflon, Hypalon, and silicon in order to prevent oxidation by seawater and ozone gas.

한편, 도 1을 다시 참조하면 상기 인젝터(300)의 양단에는 개폐 밸브(341)를 구비하는 바이패스관(by-pass pipe)(340)이 설치된다. 구체적으로, 상기 바이패스관(340)은 제1 배관(100)에서 분기되어 인젝터(300)에서 혼합된 원수와 가스를 혼합노즐(600)로 안내하는 배관(350)에 연결된다. 따라서 바이패스관(340)이 개폐 밸브(341)에 의해 개방되면 제1 배관(100)을 통해 공급되는 원수는 바이패스관(340)과 인젝터(300)로 나뉘어 유입되고, 이때 개폐 밸브(341)에 의한 바이패스관(340)의 개방 정도에 따라 인젝터(300) 내부로 유입되는 원수의 유량이 조절된다. 이와 같이 인젝터(300) 내부로 유입되는 원수의 유량이 조절되면 인젝터(300)를 통과하는 원수의 유속과 함께 인젝터(300) 내부 압력이 조절되므로 결국, 인젝터(300) 내부로 흡입되는 가스의 양이 조절될 수 있다. Meanwhile, referring again to FIG. 1, a bypass pipe 340 including an open / close valve 341 is installed at both ends of the injector 300. Specifically, the bypass pipe 340 is branched from the first pipe 100 is connected to the pipe 350 for guiding the raw water and gas mixed in the injector 300 to the mixing nozzle 600. Therefore, when the bypass pipe 340 is opened by the opening and closing valve 341, the raw water supplied through the first pipe 100 is divided into the bypass pipe 340 and the injector 300, and at this time, the opening and closing valve 341 Flow rate of the raw water flowing into the injector 300 is adjusted according to the opening degree of the bypass pipe 340 by the). As such, when the flow rate of the raw water flowing into the injector 300 is adjusted, the internal pressure of the injector 300 is adjusted together with the flow rate of the raw water passing through the injector 300, and thus, the amount of gas sucked into the injector 300. This can be adjusted.

반응탱크(400)는 인젝터(300)에서 혼합된 원수와 가스의 재혼합을 위해 구비되는 장비로서 혼합노즐(600)에서 분사되는 원수와 가스가 일정시간 체류하면서 반응하는 일종의 챔버(chamber)이다.The reaction tank 400 is a device provided for remixing the raw water and the gas mixed in the injector 300 and is a kind of chamber in which the raw water and the gas injected from the mixing nozzle 600 react while staying for a predetermined time.

순환 유도배관(500)은 상기 반응탱크(400) 내부에 설치되어 반응탱크(400) 내부를 내부 유로(410)와 외부 유로(420)로 구획한다. 구체적으로, 상기 순환 유도배관(500)은 반응탱크(400)의 상면 및 하면과 일정간격 이격되도록 반응탱크(400) 내부에 설치되며, 이때 순환 유도배관(500)의 내부 공간이 내부 유로(410)를 형성하고, 순환 유도배관(500)의 외면과 반응탱크(400) 내면 사이의 공간이 외부 유로(420)를 형성한다.The circulation induction pipe 500 is installed inside the reaction tank 400 to partition the inside of the reaction tank 400 into an inner flow passage 410 and an outer flow passage 420. Specifically, the circulation induction pipe 500 is installed inside the reaction tank 400 so as to be spaced apart from the upper and lower surfaces of the reaction tank 400 by a predetermined interval, wherein the inner space of the circulation induction pipe 500 is an internal flow path 410. ) And a space between the outer surface of the circulation induction pipe 500 and the inner surface of the reaction tank 400 forms an outer flow path 420.

혼합노즐(600)은 상기 인젝터(300)에 연결된 상태로 반응탱크(400) 내부에 설치되며, 인젝터(300)에서 공급되는 가스와 원수를 상기 순환 유도배관(500)에 의해 형성되는 내부 유로(410)로 분사함으로써 가스와 원수가 내부 유로(410)와 외부 유로(420)를 순환하며 혼합되도록 한다.The mixing nozzle 600 is installed inside the reaction tank 400 while being connected to the injector 300, and an internal flow path formed by the circulation induction pipe 500 supplies gas and raw water supplied from the injector 300. By spraying to the 410, the gas and raw water are circulated and mixed in the inner flow passage 410 and the outer flow passage 420.

좀더 상세히 설명하면, 원수와 가스가 혼합노즐(600)에서 내부 유로(410)를 향해 일정 각도(

Figure 112010079128372-pat00001
)로 분사되면 원수와 가스는 분사와 동시에 1차적으로 혼합된 후 혼합노즐(600)의 분사압력에 의해 내부 유로(410)를 거쳐 외부 유로(420)로 밀려 들어가게 되며, 이러한 과정이 연속적으로 이루어지면 외부 유로(420)를 따라 흐르던 원수와 가스는 다시 내부 유로(410)로 유입되는 연속적인 순환 유동을 하게 된다. 결국, 혼합노즐(600)에서 분사된 원수와 가스는 반응탱크(400) 내부에서 연속적으로 순환하며 균일하게 혼합되어 가스가 원수에 초미세 버블 형태로 용존된 상태가 된다.In more detail, the raw water and the gas from the mixing nozzle 600 toward the internal flow path 410 at an angle (
Figure 112010079128372-pat00001
When injected into the raw water and the gas is first mixed with the injection at the same time and then pushed into the outer passage 420 through the inner passage 410 by the injection pressure of the mixing nozzle 600, this process is made continuously Raw water and gas that flowed along the outer surface of the ground passage 420 are subjected to continuous circulation flow into the inner passage 410. As a result, the raw water and the gas injected from the mixing nozzle 600 are continuously circulated and uniformly mixed in the reaction tank 400 so that the gas is dissolved in the raw water in the form of ultra fine bubbles.

또한, 혼합노즐(600)이 강한 압력으로 원수와 가스를 분사하면 혼합노즐(600) 주변에는 압력차가 발생하게 되는데, 이러한 압력차에 의해 혼합노즐(600) 주변에는 와류가 발생하여 원수와 가스의 혼합이 촉진된다.In addition, when the mixing nozzle 600 injects raw water and gas at a strong pressure, a pressure difference is generated around the mixing nozzle 600. Due to this pressure difference, a vortex occurs around the mixing nozzle 600, Mixing is promoted.

이와 같이 혼합노즐(600)에서 분사된 원수와 가스의 순환 유동 및 혼합노즐(600) 주변에서 발생하는 압력차는 혼합노즐(600)의 분사압력에 의해 결정되므로 원수와 가스의 혼합을 촉진시키기 위해 혼합노즐(600)의 직경 등을 조절하는 것이 가능하다. As such, the circulating flow of the raw water and the gas injected from the mixing nozzle 600 and the pressure difference generated around the mixing nozzle 600 are determined by the injection pressure of the mixing nozzle 600, so that the mixing of the raw water and the gas is promoted. It is possible to adjust the diameter and the like of the nozzle 600.

한편, 상기 반응탱크(400) 내부 둘레면에는 순환 유도배관(500)의 상측으로 연장되는 와류 유도판(700)이 설치될 수 있다. 상기 와류 유도판(700)은 순환 유도배관(500)에 의해 형성되는 외부 유로(420)를 가로막는 형태로 순환 유도배관(500)의 상측으로 연장되므로 외부 유로(420)를 따라 유동하는 원수와 오존가스는 와류 유도판(700)에 막혀 내부 유로(410)로 재차 유입된다. 이와 같이 와류 유도판(700)에 의해 외부 유로(420)를 따라 유동하는 원수와 가스가 내부 유로(410)로 안내되면 원수와 가스의 순환 유동이 빠르게 일어나 원수와 가스의 혼합이 촉진된다.On the other hand, the inner circumferential surface of the reaction tank 400 may be provided with a vortex induction plate 700 extending to the upper side of the circulation induction pipe 500. The vortex flow guide plate 700 extends above the circulating induction pipe 500 in the form of blocking the outer flow path 420 formed by the circulation induction pipe 500, so that the raw water and ozone flowing along the outer flow path 420. The gas is blocked by the vortex guide plate 700 and flows back into the internal flow path 410. As such, when the raw water and the gas flowing along the outer flow path 420 are guided to the inner flow path 410 by the vortex guide plate 700, the circulating flow of the raw water and the gas occurs quickly to promote the mixing of the raw water and the gas.

또한, 상기 순환 유도배관(500)에는 외부 유로(420)를 따라 이동하는 원수와 가스가 내부 유로(410)로 재차 유입되도록 하는 홀(510)이 적어도 하나 형성되는 것이 바람직하다. 순환 유도배관(500)에 형성되는 홀(510)은 외부 유로(420)를 따라 이동하는 원수와 가스를 내부 유로(410)로 신속히 유입시켜 원수와 가스의 순환 유동이 빠르게 일어나도록 함으로써 원수와 가스의 혼합을 촉진시키는 역할을 한다.In addition, it is preferable that at least one hole 510 is formed in the circulation induction pipe 500 so that the raw water and the gas moving along the external flow path 420 are introduced again into the internal flow path 410. The hole 510 formed in the circulating induction pipe 500 rapidly introduces raw water and gas moving along the external flow path 420 into the internal flow path 410 so that the circulating flow of raw water and gas occurs quickly. It serves to promote the mixing of.

도 3은 본 발명에 따른 혼합노즐이 반응탱크 내부에 다수대 설치되는 구조를 나타내는 도면이다.3 is a view showing a structure in which a plurality of mixing nozzles according to the present invention are installed in a reaction tank.

한편, 도 3에 도시된 바와 같이 가스와 혼합시킬 원수의 양에 따라 반응탱크(400) 내부에는 다수대의 혼합노즐(600a,600b)이 설치될 수 있으며, 이 경우 원수와 가스의 효율적인 혼합을 위해 각 혼합노즐(600a,600b)별로 홀(510a,510b)을 구비하는 순환 유도배관(500a,500b)과 와류 유도판(700a,700b)이 별도로 설치될 수 있다. 물론, 와류 유도판(700a,700b)은 원수와 가스의 순환 유동을 촉진시키기 위한 장치이므로 반응탱크(400)의 크기 등에 따라 제거될 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 3, a plurality of mixing nozzles 600a and 600b may be installed in the reaction tank 400 according to the amount of raw water to be mixed with gas. In this case, for efficient mixing of raw water and gas, The circulating induction pipes 500a and 500b and the vortex induction plates 700a and 700b having holes 510a and 510b for each mixing nozzle 600a and 600b may be separately installed. Of course, the eddy current guide plate (700a, 700b) is a device for promoting the circulating flow of raw water and gas can be removed according to the size of the reaction tank (400).

마지막으로, 제2 배관(800)은 반응탱크(400)에 연결되어 가스와 균일하게 혼합된 원수를 외부로 배출시킨다. 이때, 제2 배관(800)을 통해 외부로 배출되는 원수는 산소가스와 혼합된 상태의 산소 용존수이거나 양식장 배관 등의 세정을 위해 오존이 용해된 오존 용존수일 수도 있으며, 또한 폐수나 담수에 오존가스를 혼합시켜 정수처리한 물일 수 있다. 따라서 원수의 사용목적 등에 따라 제2 배관(800)은 양식장 배관이나 물탱크 등에 직접 연결될 수 있다. 이 경우, 가스가 용해된 상태의 원수는 제2 배관(800)을 통해 양식장이나 물탱크 등 필요한 곳으로 직접 공급된다. Finally, the second pipe 800 is connected to the reaction tank 400 to discharge the raw water uniformly mixed with the gas to the outside. At this time, the raw water discharged to the outside through the second pipe 800 may be oxygen dissolved water mixed with oxygen gas or ozone dissolved water in which ozone is dissolved for cleaning the farm pipe, and ozone in waste water or fresh water. The water may be mixed with water and purified. Therefore, the second pipe 800 may be directly connected to the farm pipe or the water tank according to the purpose of use of the raw water. In this case, the raw water in a gas-dissolved state is directly supplied to a necessary place such as a farm or a water tank through the second pipe 800.

이러한 제2 배관(800)에는 가스가 원수에 용해된 상태를 유지할 수 있도록 반응탱크(400)의 압력을 일정한 값으로 유지시키는 압력유지 밸브(810)가 설치됨이 바람직하다. 헨리의 법칙(Henry's law)에 의하면 기체가 액체에 용해될 때 그 용해량은 기체의 압력에 비례하므로 반응탱크(400)의 압력을 증가시키면 원수에 보다 많은 양의 가스가 용해된다. 따라서 산소와 같이 물에 잘 용해되지 않는 가스를 원수에 용해시키고자 할 경우 압력유지 밸브(810)를 이용해 반응탱크(400)의 내부 압력을 일정 이상으로 유지시킴으로써 산소 가스가 원수에 미세 버블형태로 충분히 용존될 수 있도록 한다.The second pipe 800 is preferably provided with a pressure maintaining valve 810 to maintain the pressure of the reaction tank 400 to a constant value so that the gas is dissolved in the raw water. According to Henry's law, when a gas is dissolved in a liquid, the amount of dissolution is proportional to the pressure of the gas, so that increasing the pressure of the reaction tank 400 dissolves a larger amount of gas in the raw water. Therefore, in order to dissolve gas that is not easily dissolved in water, such as oxygen, in raw water, the oxygen gas is maintained in a fine bubble form in the raw water by maintaining the internal pressure of the reaction tank 400 at a predetermined level or more using the pressure maintaining valve 810. Make sure that it is sufficiently dissolved.

또한, 제2 배관(800)에는 원수에 용해되지 않은 기체를 외부로 빼내는 기액 분리기(900)가 설치될 수 있다.(도 1참조) 기액 분리기(900)는 원심분리를 이용하여 원수에 용해되지 않은 기체를 분리시키는 장치로서, 원수를 회전시키면 원수에 용해되지 않은 기체는 회전중심으로 모이는 원리를 이용해 기체를 제2 배관(800) 외부로 빼내어 불필요한 가스가 제2 배관(800) 내부에 남지 않게 하고, 또한 가압펌프(P) 등으로 가스가 유입되는 것을 방지하는 역할을 한다.In addition, the second pipe 800 may be provided with a gas-liquid separator 900 for extracting the gas not dissolved in the raw water to the outside. (See FIG. 1) The gas-liquid separator 900 is not dissolved in raw water by centrifugation. As a device for separating undesired gas, when the raw water is rotated, the gas which is not dissolved in the raw water is drawn to the outside of the second pipe 800 by using the principle of gathering at the center of rotation so that unnecessary gas does not remain inside the second pipe 800. And, it also serves to prevent the gas flow into the pressure pump (P) or the like.

미설명 부호 P1은 제1 배관(100)에 설치되는 압력계이며, 미설명부호 P2는 인젝터(300)와 혼합노즐(600)을 연결하는 배관(350)에 설치되는 압력계이며, P3는 제2 배관(800)에 설치되는 압력계이다.  Reference numeral P1 is a pressure gauge installed in the first pipe 100, reference numeral P2 is a pressure gauge installed in the pipe 350 connecting the injector 300 and the mixing nozzle 600, P3 is a second pipe. It is a pressure gauge installed in 800.

상기 P1에 의해 측정되는 압력은 가압펌프(P)의 토출압력을 나타내며, P1 값이 정해진 값보다 높거나 낮으면 제1 배관(100)으로 유입되는 원수의 양이 정해진 양보다 많거나 적다는 것을 의미하므로 가압펌프(P)의 토출압력을 제어하여 정해진 양의 원수가 제1 배관(100)으로 유입되도록 할 수 있다. The pressure measured by the P1 represents the discharge pressure of the pressure pump P. If the P1 value is higher or lower than the predetermined value, the amount of raw water flowing into the first pipe 100 is greater or less than the predetermined amount. Therefore, by controlling the discharge pressure of the pressure pump (P) can be a predetermined amount of raw water to be introduced into the first pipe (100).

상기 P2에 의해 측정되는 압력은 혼합노즐(600)로 공급되는 원수와 가스의 압력을 나타내며, P2의 값이 높거나 낮으면 바이패스관(340)의 개폐 밸브(341)를 개방시키거나 폐쇄시켜 혼합노즐(600)로 정해진 양만큼의 원수와 가스가 공급되도록 할 수 있다.The pressure measured by the P2 represents the pressure of the raw water and the gas supplied to the mixing nozzle 600. When the value of P2 is high or low, the on / off valve 341 of the bypass pipe 340 is opened or closed. The mixing nozzle 600 may be supplied with a predetermined amount of raw water and gas.

상기 P3에 의해 측정되는 압력은 제2 배관(800)을 따라 이동하는 원수의 압력 즉, 제2 배관(800)과 연결된 반응탱크(400)의 압력을 의미하므로 P3 값에 따라 이미 설명한 압력조절 밸브(810)의 개방여부를 결정할 수 있다. 구체적으로, P3 값이 정해진 값보다 낮아 가스가 원수에 충분히 용해되지 못한다고 판단되면 압력조절 밸브(810)를 폐쇄시켜 제2 배관(800)과 연결된 반응탱크(400)의 압력을 증가시키고, P3 값이 정해진 값보다 높아 가스의 용존농도가 지나치게 높아지면 압력조절 밸브(810)를 개방시켜 반응탱크(400)의 압력이 정해진 압력값까지 낮아지도록 한다.The pressure measured by P3 means the pressure of the raw water moving along the second pipe 800, that is, the pressure of the reaction tank 400 connected to the second pipe 800, and thus the pressure regulating valve described above according to the P3 value. It may be determined whether 810 is open. Specifically, when it is determined that the P3 value is lower than the predetermined value and the gas is not sufficiently dissolved in the raw water, the pressure control valve 810 is closed to increase the pressure of the reaction tank 400 connected to the second pipe 800 and the P3 value. If the dissolved concentration of the gas is too high higher than the predetermined value, the pressure control valve 810 is opened to lower the pressure of the reaction tank 400 to the predetermined pressure value.

이와 같은 본 발명에 따른 가스 용해반응장치는 혼합노즐(600)을 통해 원수와 가스를 반응탱크(400) 내부로 강하게 분사함으로써 원수와 가스의 1차적인 혼합과 반응을 일으킴과 동시에 반응탱크(400) 내부로 분사된 원수와 가스가 순환 유도배관(500)과 와류 유도판(700)에 의해 반응탱크(400) 내부를 연속적으로 순환하도록 함으로써 단시간 내에 원수와 가스의 균일한 혼합을 가능하게 한다. Such a gas dissolution reaction apparatus according to the present invention by causing a strong injection of raw water and gas into the reaction tank 400 through the mixing nozzle 600 causes the primary mixing and reaction of the raw water and gas and at the same time the reaction tank (400) By allowing the raw water and gas injected into the reaction tank 400 to be continuously circulated by the circulation induction pipe 500 and the vortex induction plate 700, uniform mixing of the raw water and the gas can be performed within a short time.

그리고, 혼합노즐(600)이 강한 압력으로 원수와 가스를 분사하면 혼합노즐(600) 주변에는 압력차가 발생하고, 이러한 압력차에 의해 혼합노즐(600) 주변에는 와류가 발생하므로 원수와 가스의 혼합이 신속하게 이루어질 수 있다.When the mixing nozzle 600 injects raw water and gas at a strong pressure, a pressure difference occurs around the mixing nozzle 600, and due to the pressure difference, a vortex occurs around the mixing nozzle 600. This can be done quickly.

또한, 상술한 바이패스관(340), 압력조절 밸브(810), 그리고 각종 압력계(P1,P2,P3)를 이용해 원수와 가스의 양을 일정하게 조절하는 것이 가능하므로 원수의 사용목적에 따라 원수에 용해되는 가스의 농도를 정확하게 제어하는 것이 가능하다.In addition, since the above-described bypass pipe 340, pressure control valve 810, and various pressure gauges (P1, P2, P3) it is possible to constantly adjust the amount of raw water and gas according to the purpose of use of raw water It is possible to accurately control the concentration of the gas dissolved in the.

이상에서 상세히 설명된 본 발명은 그 범위가 전술된 바에 한하지 않고, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진자가 용이하게 변경 또는 치환할 수 있는 것이 본 발명의 범위에 해당함은 물론이고, 그 균등물 또한 본 발명의 범위에 포함된다.The present invention described in detail above is not limited to the above-described range, and those of ordinary skill in the art may easily change or replace the scope of the present invention, as well as equivalents thereof. Also included within the scope of the present invention.

100: 제1 배관 2000: 가스 공급장치
300: 인젝터 310: 원수 유입구
320: 가스 유입구 330: 출구
341: 개폐 밸브 400: 반응탱크
500: 순환 유도배관 510,510a,510b: 홀
600,600a,600b: 혼합노즐 700,700a,700b: 와류 유도판
800: 제2 배관 810: 압력조절 밸브
900: 기액 분리기 P1,P2,P3: 압력계
100: first pipe 2000: gas supply device
300: injector 310: raw water inlet
320: gas inlet 330: outlet
341: on-off valve 400: reaction tank
500: circulation induction pipe 510,510a, 510b: hole
600,600a, 600b: Mixed nozzle 700,700a, 700b: Vortex guide plate
800: second pipe 810: pressure regulating valve
900: gas-liquid separator P1, P2, P3: pressure gauge

Claims (6)

원수가 유입되는 제1 배관;
가스를 발생시켜 공급하는 가스 발생장치;
상기 제1 배관 및 가스 발생장치와 각각 연결되어 제1 배관을 통해 공급되는 원수와, 가스 발생장치를 통해 공급되는 가스를 혼합시키는 인젝터;
상기 인젝터에서 혼합된 원수와 가스의 재혼합을 위해 구비되는 반응탱크;
상기 반응탱크 내부에 설치되어 반응탱크 내부를 내부 유로와 외부 유로로 구획하는 순환 유도배관;
상기 인젝터에 연결된 상태로 반응탱크 내부에 설치되며, 인젝터에서 공급되는 가스와 원수를 상기 순환 유도배관에 의해 형성되는 내부 유로로 분사함으로써 가스와 원수가 내부 유로와 외부 유로를 연속적으로 순환하며 혼합되도록 하는 혼합노즐;
상기 반응탱크 내부 둘레면에서 순환 유도배관의 상측으로 연장되어 외부 유로를 따라 유동하는 원수와 가스가 내부 유로로 다시 유입되도록 하는 와류 유도판 그리고,
상기 반응탱크에 연결되어 가스와 균일하게 혼합된 원수를 외부로 배출시키는 제2 배관을 포함하여 이루어지는 가스 용해반응장치.
A first pipe into which raw water flows;
A gas generator for generating and supplying gas;
An injector connected to the first pipe and the gas generator, respectively, to mix raw water supplied through the first pipe and the gas supplied through the gas generator;
A reaction tank provided for remixing raw water and gas mixed in the injector;
A circulation induction pipe installed inside the reaction tank to divide the inside of the reaction tank into an inner flow passage and an outer flow passage;
It is installed inside the reaction tank in a state connected to the injector, by injecting the gas and raw water supplied from the injector into the inner flow path formed by the circulation induction pipe so that the gas and raw water is continuously circulated and mixed between the inner flow path and the outer flow path. Mixing nozzles;
A vortex induction plate extending from the inner circumferential surface of the reaction tank to an upper side of the circulating induction pipe so that raw water and gas flowing along the outer flow path flow back into the inner flow path;
And a second pipe connected to the reaction tank for discharging the raw water uniformly mixed with the gas to the outside.
삭제delete 원수가 유입되는 제1 배관;
가스를 발생시켜 공급하는 가스 발생장치;
상기 제1 배관 및 가스 발생장치와 각각 연결되어 제1 배관을 통해 공급되는 원수와, 가스 발생장치를 통해 공급되는 가스를 혼합시키는 인젝터;
상기 인젝터에서 혼합된 원수와 가스의 재혼합을 위해 구비되는 반응탱크;
상기 반응탱크 내부에 설치되어 반응탱크 내부를 내부 유로와 외부 유로로 구획하며, 상기 외부 유로를 따라 이동하는 원수와 가스가 내부 유로로 재차 유입되도록 하는 적어도 하나의 홀을 구비하는 순환 유도배관;
상기 인젝터에 연결된 상태로 반응탱크 내부에 설치되며, 인젝터에서 공급되는 가스와 원수를 상기 순환 유도배관에 의해 형성되는 내부 유로로 분사함으로써 가스와 원수가 내부 유로와 외부 유로를 연속적으로 순환하며 혼합되도록 하는 혼합노즐; 그리고,
상기 반응탱크에 연결되어 가스와 균일하게 혼합된 원수를 외부로 배출시키는 제2 배관을 포함하여 이루어지는 가스 용해반응장치.
A first pipe into which raw water flows;
A gas generator for generating and supplying gas;
An injector connected to the first pipe and the gas generator, respectively, to mix raw water supplied through the first pipe and the gas supplied through the gas generator;
A reaction tank provided for remixing raw water and gas mixed in the injector;
A circulation induction pipe installed inside the reaction tank to divide the inside of the reaction tank into an inner flow path and an outer flow path, and having at least one hole for allowing the raw water and the gas moving along the outer flow path to flow back into the inner flow path;
It is installed inside the reaction tank in a state connected to the injector, by injecting the gas and raw water supplied from the injector into the inner flow path formed by the circulation induction pipe so that the gas and raw water is continuously circulated and mixed between the inner flow path and the outer flow path. Mixing nozzles; And,
And a second pipe connected to the reaction tank for discharging the raw water uniformly mixed with the gas to the outside.
제1 항 또는 제3 항에 있어서,
상기 제2 배관에는 가스가 원수에 용해된 상태를 유지할 수 있도록 반응탱크의 압력을 일정한 값으로 유지시키는 압력유지 밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 용해반응장치.
The method according to claim 1 or 3,
The second pipe is a gas dissolution reactor, characterized in that the pressure holding valve for maintaining the pressure of the reaction tank to a constant value so that the gas dissolved in the raw water can be maintained.
제1 항 또는 제3 항에 있어서,
상기 인젝터는 해수 및 오존가스에 의한 산화를 방지하기 위해 테플론(Teflon), 하이파론(Hypalon), 또는 실리콘(Silicon) 재질로 제작되는 것을 특징으로 하는 가스 용해반응장치.
The method according to claim 1 or 3,
The injector is a gas dissolution reactor, characterized in that made of Teflon (Teflon), Hypalon (Hypalon), or silicon (Silicon) material to prevent oxidation by sea water and ozone gas.
제1 항 또는 제3 항에 있어서,
상기 인젝터의 양단에는 개폐 밸브를 구비하는 바이패스관이 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 용해반응장치.
The method according to claim 1 or 3,
Gas dissolution reaction device, characterized in that the bypass pipe is provided with an on-off valve at both ends of the injector.
KR1020100121202A 2010-12-01 2010-12-01 Apparatus for gas dissolution and reaction KR101024323B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100121202A KR101024323B1 (en) 2010-12-01 2010-12-01 Apparatus for gas dissolution and reaction

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100121202A KR101024323B1 (en) 2010-12-01 2010-12-01 Apparatus for gas dissolution and reaction

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101024323B1 true KR101024323B1 (en) 2011-03-23

Family

ID=43939314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100121202A KR101024323B1 (en) 2010-12-01 2010-12-01 Apparatus for gas dissolution and reaction

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101024323B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101842450B1 (en) 2018-01-04 2018-05-14 해성엔지니어링 주식회사 Continuous circulating wastewater reusing system using ceramic membrane
KR101894870B1 (en) 2018-04-03 2018-09-04 (주) 워터챌린저 Operation and management system for micro nano bubble water production equipment
KR102299975B1 (en) * 2021-02-09 2021-09-09 전영수 Advanced processing device based on OH radical generation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002512877A (en) * 1998-04-28 2002-05-08 ライフ インターナショナル プロダクツ インコーポレイティッド Oxygenator, method for oxygenating liquid by the oxygenator, and application thereof
KR200354665Y1 (en) * 2004-03-19 2004-06-30 조현준 Devic for manufacturing of gas/liguid mixing ozone solution watar
JP2009255039A (en) * 2008-03-24 2009-11-05 Daikin Ind Ltd Gas dissolving vessel
JP2009297679A (en) * 2008-06-17 2009-12-24 Hokukon Co Ltd Water treatment apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002512877A (en) * 1998-04-28 2002-05-08 ライフ インターナショナル プロダクツ インコーポレイティッド Oxygenator, method for oxygenating liquid by the oxygenator, and application thereof
KR200354665Y1 (en) * 2004-03-19 2004-06-30 조현준 Devic for manufacturing of gas/liguid mixing ozone solution watar
JP2009255039A (en) * 2008-03-24 2009-11-05 Daikin Ind Ltd Gas dissolving vessel
JP2009297679A (en) * 2008-06-17 2009-12-24 Hokukon Co Ltd Water treatment apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101842450B1 (en) 2018-01-04 2018-05-14 해성엔지니어링 주식회사 Continuous circulating wastewater reusing system using ceramic membrane
KR101894870B1 (en) 2018-04-03 2018-09-04 (주) 워터챌린저 Operation and management system for micro nano bubble water production equipment
KR102299975B1 (en) * 2021-02-09 2021-09-09 전영수 Advanced processing device based on OH radical generation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101834909B1 (en) Ozone Water Treatment System Using Lower Energy
KR100954454B1 (en) Apparatus for dissolving oxygen
KR101936073B1 (en) An Automatic Chlorine Injection Device
KR100916709B1 (en) Powerless Mixing Apparatus Within Pipe
KR101024323B1 (en) Apparatus for gas dissolution and reaction
KR101163089B1 (en) Air dossoving tube and dissolved air injection type flotation tank
KR100951578B1 (en) Ozone water treatment system using lower energy
JP5682904B2 (en) High concentration dissolved water generating apparatus and high concentration dissolved water generating system
KR101200290B1 (en) Air dossolving tube and dissolved air injection type flotation tank
JP5218948B1 (en) Gas dissolver
JPH1066962A (en) Sewage treating device
CN107500424A (en) A kind of multiphase flow diffuses air-dissolving apparatus
KR20150019682A (en) Ozone contact water purification device
KR102369944B1 (en) Micro bubble nozzle and micro bubble generator comprising same
RU156526U1 (en) INSTALLATION FOR MIXING LIQUIDS IN TANKS
CN113302161B (en) Device for injecting a fluid into a liquid, method for cleaning said device and effluent treatment plant
KR101370327B1 (en) The dissolution method and apparatus for carbon dioxide at low pressure
KR20200142963A (en) Gas dissolution apparatus and micro bubble generator comprising same
JP2005185874A (en) Turbid sewage purifier
JP5058383B2 (en) Liquid processing apparatus and liquid processing method
KR101208753B1 (en) Water purification apparatus of closed waterarea in river
CN206529306U (en) A kind of defoaming device for being used to handle livestock breeding wastewater
KR200292647Y1 (en) Submersible Aerator
KR20150085862A (en) GAS AND Liquid MIXING DEVICE FOR WATER TREATMENT
RU207722U1 (en) Device for mixing coagulum with water

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140305

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150316

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160316

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170307

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180313

Year of fee payment: 8