KR101009319B1 - Polynorbornenedicarboximide film modified with trifluoromethoxyphenyl and Organic light-emitting device using the same - Google Patents
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Abstract
이미드의 N 위치가 트라이플루오르메톡시페닐로 치환된 폴리노보넨디카르복시이미드 기판으로 하여 그 위에 성막된 인듐주석산화물(ITO), 및 상기 인듐주석산화물(ITO) 위에 순차로 증착된 정공수송층, 전자수송층, 및 음극을 포함하는 유기전기발광소자가 개시된다.Indium tin oxide (ITO) deposited on a polynorbornenedicarboxyimide substrate in which the N position of the imide is substituted with trifluoromethoxyphenyl, and a hole transport layer and electrons sequentially deposited on the indium tin oxide (ITO) An organic electroluminescent device comprising a transport layer and a cathode is disclosed.
TFMONDI, 폴리노보넨디카르복시이미드, 내열, 투과도, 굴절률 TFMONDI, polynorbornene dicarboxyimide, heat resistance, transmittance, refractive index
Description
본 발명은 투명하고 고내열성이며 낮은 굴절률과 유전율을 가지는 트라이플루오로메톡시페닐을 포함하는 폴리노보넨디카르복시이미드 필름 및 이를 적용한 유기전기발광소자에 관한 것이다.The present invention relates to a polynorbornene dicarboxyimide film comprising trifluoromethoxyphenyl which is transparent, high heat resistance, and has a low refractive index and dielectric constant, and an organic electroluminescent device using the same.
최근 휘거나, 구부리거나, 말아도 디스플레이 성능의 손실이 없이 제 기능을 발휘할 수 있는 유연 디스플레이가 차세대 디스플레이로서 많은 연구가 이루어지고 있다. 이러한 유연한 디스플레이의 기판은 내열성이 높고, 투명하며, 낮은 수분 투과도의 성질이 요구된다. Recently, a lot of research is being conducted on flexible displays that can be functioned without bending, bending, or rolling without loss of display performance. Substrates of such flexible displays require high heat resistance, transparency, and low moisture permeability.
고분자 소재는 열에 약하다는 단점을 가지지만 투명하고 유연하며 가볍고 다른 소재에 비하여 가격이 저렴하다는 장점이 있어 향후 유연 디스플레이 재료로서 각광받고 있다. 고분자 유연 기판재료로서 내열성이 향상된 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 투명성이 매우 우수하며 내열성도 우수한 폴리카보네이트(PC) 필름, 폴리카보네이트보다 내열성이 우수한 폴리에테르설폰(PES)을 유연 기판으로 사용하 기 위하여 많은 연구가 진행되고 있으며, 또한 폴리이미드(PI), 사이클릭올레핀코폴리머(COC), 폴리아릴레이트(PAR)도 사용이 검토되고 있다. Polymeric materials have the disadvantage of being weak to heat, but they are gaining attention as flexible display materials in the future because they are transparent, flexible, light, and cheaper than other materials. As polymer flexible substrate material, polyethylene naphthalate (PEN) film with improved heat resistance, polycarbonate (PC) film with excellent transparency and heat resistance, and polyether sulfone (PES) with better heat resistance than polycarbonate are used as flexible substrate. Many studies have been conducted for this purpose, and the use of polyimide (PI), cyclic olefin copolymer (COC), and polyarylate (PAR) is also being considered.
그러나, 상기의 고분자들은 고내열성, 높은 투명성, 및 낮은 수분 투과도를 모두 만족시키지는 못하고 있다.However, the above polymers do not satisfy all of high heat resistance, high transparency, and low moisture permeability.
한편, 대한민국 공개특허공보 제1989-0000559호에서는, 이미드의 N-위치가 페닐로 치환된 폴리노보넨디카르복시이미드의 합성을 제시하고 있다. 하지만 상기 물질은 우수한 기체 선택적인 막으로서의 가능성만 연구되었고, 아직까지 광학적 특성 및 이의 유연한 유기전기발광소자의 기판으로서의 응용에 대해서는 언급된 적이 없다. On the other hand, Korean Patent Publication No. 1989-0000559 discloses the synthesis of polynorbornene dicarboxyimide in which the N-position of the imide is substituted with phenyl. However, the material has only been studied for its potential as an excellent gas-selective film, and has not yet been mentioned for its optical properties and its application as a substrate for flexible organic electroluminescent devices.
유연한 유기전기발광소자의 효율을 높이기 위해서는 소자를 구성하는 각 층들의 굴절률이 낮아야 한다. 특히 외부효율은 거의 기판의 굴절률에 의존하기 때문에 높은 외부효율을 가지기 위해서 유리보다 낮은 굴절률의 기판이 필요하다.In order to increase the efficiency of the flexible organic electroluminescent device, the refractive index of each layer constituting the device should be low. In particular, since the external efficiency almost depends on the refractive index of the substrate, a substrate having a lower refractive index than glass is required to have a high external efficiency.
본 발명의 목적은 기존의 투명한 고분자 필름보다 높은 내열성과 높은 투과도, 그리고 낮은 굴절률을 가지는 트라이플루오르메톡시페닐기를 포함하는 폴리노보넨디카르복시이미드 필름 및 그를 적용한 유기전기발광소자를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a polynorbornene dicarboxyimide film having a trifluoromethoxyphenyl group having a higher heat resistance, higher transmittance, and a lower refractive index than a conventional transparent polymer film, and an organic electroluminescent device using the same.
상기의 목적은, 고내열성이며 낮은 굴절률과 유전율을 갖는 유기전기발광소자의 기판으로 적용하기 위한 트라이플루오로메톡시페닐을 포함하는 폴리노보넨디카르복시이미드에 의해 달성된다.The above object is achieved by polynorbornene dicarboxyimide containing trifluoromethoxyphenyl for application as a substrate of an organic electroluminescent device having high heat resistance and low refractive index and dielectric constant.
또한, 상기의 목적은, 이미드의 N 위치가 트라이플루오르메톡시페닐로 치환된 폴리노보넨디카르복시이미드 기판으로 하여 그 위에 성막된 인듐주석산화물(ITO) 또는 산화아연, 및 상기 인듐주석산화물(ITO) 또는 산화아연 위에 순차로 증착된 정공수송층, 전자수송층, 및 음극을 포함하는 유기전기발광소자에 의해 달성된다.In addition, the above object is an indium tin oxide (ITO) or zinc oxide formed on a polynorbornene dicarboxyimide substrate in which the N position of the imide is substituted with trifluoromethoxyphenyl, and the indium tin oxide (ITO). Or an organic electroluminescent device comprising a hole transport layer, an electron transport layer, and a cathode sequentially deposited on zinc oxide.
상기의 폴리노보넨디카르복시이미드는, 엔도 이성질체인 노보넨디카르복실릭안하이드라이드를 엑소 이성질체로 전환시키는 제 1 단계; 엑소 이성질체의 노보넨무수디카르복실릭산을 N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드로 합성시키는 제 2 단계; 및 N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드를 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드)로 합성시키는 제 3 단계를 통하여 제작될 수 있다.The polynorbornene dicarboxyimide is a first step of converting the nordonene dicarboxylic anhydride which is an endo isomer into an exo isomer; A second step of synthesizing norbornene anhydride dicarboxylic acid of exo isomer with N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide; And a third step of synthesizing N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide into poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide).
상기 제 1 단계는, 엔도 이성질체인 노보넨디카르복실릭안하이드라이드를 질소 분위기 하에서 220℃ 이상으로 가열시킨 후, 120℃까지 천천히 식히는 단계; 120℃가 되었을 때, 폴리노보넨디카르복실릭안하이드라이드에 클로로벤젠을 첨가하는 단계; 혼합물을 상온으로 식힌 후 결정을 여과하고 세척한 후 건조하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 트라이플루오르메톡시페닐기를 포함한다.The first step is a step of heating the norbornene dicarboxylic anhydride iso isomer is at least 220 ℃ under a nitrogen atmosphere, then slowly cooled to 120 ℃; At 120 ° C., adding chlorobenzene to the polynorbornenedicarboxylic anhydride; After the mixture is cooled to room temperature, the crystals are filtered, washed, and dried to include trifluoromethoxyphenyl groups.
상기 제 2 단계는, 엑소 이성질체의 노보넨무수디카르복실릭산을 톨루엔에 충분히 용해시키는 단계; 노보넨무수디카르복실릭산 용액에 4-트라이플루오르메톡시아닐린을 첨가하여 교반시키는 단계; 상기 교반되면서 현탁액이 형성되면 여과 및 건조시켜 아믹산을 생성하는 단계; 상기 아믹산을 무수소듐아세테이트, 무수초산 용매에서 교반, 환류시키고, 메탄올로 재결정시키는 단계를 포함한다.The second step is a step of sufficiently dissolving norbornene anhydride dicarboxylic acid of the exo isomer in toluene; Adding and stirring 4-trifluoromethoxyaniline to the norbornene anhydride dicarboxylic acid solution; Filtering and drying the suspension to form amic acid when the suspension is formed; The amic acid is stirred, refluxed in sodium acetate anhydrous, acetic anhydride solvent, and recrystallized with methanol.
바람직하게, 상기 아믹산, 무수소듐아세테이트, 및 무수초산의 몰 비는 7 : 4 : 64이다.Preferably, the molar ratio of the amic acid, sodium acetate anhydride, and acetic anhydride is 7: 4: 64.
상기 제 3 단계는, N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드를 질소 분위기에서 디클로로에탄 용매에 용해시키는 단계; 질소 분위기에서 에틸바이닐이서를 첨가하여 반응을 정지시키는 단계; 상온에서 메탄올을 첨가하여 고체화시키는 단계; 및 상기 고분자를 클로로포름에 용해시키고, 염산을 첨가하는 단계를 포함할 수 있다.The third step comprises the steps of dissolving N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide in a dichloroethane solvent in a nitrogen atmosphere; Stopping the reaction by adding ethylvinyl ether in a nitrogen atmosphere; Solidifying by adding methanol at room temperature; And dissolving the polymer in chloroform and adding hydrochloric acid.
바람직하게, 상기 N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드의 용해시에 중합 개시제를 첨가할 수 있다.Preferably, a polymerization initiator may be added at the time of dissolving the N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide.
여기서, 상기 중합개시제는 루테늄 촉매일 수 있다.Here, the polymerization initiator may be a ruthenium catalyst.
이상에서 설명했듯이, 본 발명에 따른 고분자는 매우 투명하며, 열적으로도 안정하며, 낮은 굴절률과 유전율을 가진다. 인듐주석산화물을 상기 고분자 필름에 성막 하였을 때, 온도에 따라서 그 성능이 증가하였고, 결과적으로 높은 이득 지수를 가짐으로써, 전기적, 광학적 특성이 우수하다는 것을 알 수 있었다. As described above, the polymer according to the present invention is very transparent, thermally stable, and has a low refractive index and dielectric constant. When indium tin oxide was deposited on the polymer film, its performance increased with temperature, and as a result, it was found that the electrical and optical properties were excellent by having a high gain index.
또한, 상기 고분자를 기판으로 사용하여 유기발광소자를 제작하였을 때, 유리를 기판으로 사용하여 소자를 제작하였을 때와 성능 면에서 거의 차이가 없었고, 휘어져 유연한 상태에서도 소자의 발광이 양호하게 구현됨을 알 수 있었다. 이는 상기 고분자가 유연한 유기발광소자의 기판으로 충분히 이용가능하다는 것을 증명한 것이고, 뿐만 아니라 웨이브가이드를 비롯하여 높은 열적 안정성과 투명성을 요구하는 광학소자 산업 분야에 유용하게 쓰일 것이라 기대된다.In addition, when the organic light emitting device was manufactured using the polymer as a substrate, there was almost no difference in performance compared to when the device was manufactured using glass as the substrate. Could. This proved that the polymer can be sufficiently used as a substrate of a flexible organic light emitting device, and is expected to be useful in the optical device industry requiring high thermal stability and transparency as well as wave guides.
이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
본 발명의 발명자들은 폴리노보넨디카르복시이미드를 이용, 이미드의 N-위치에 트라이플루오르메톡시페닐을 치환하여 고내열성과 높은 투명성 그리고 낮은 굴절률을 가지는 고분자 필름을 제조하고, 이를 기판으로 하여 온도에 따라 양극재료인 인듐 산화물(ITO)을 성막하였고, 이를 이용하여 유기전기발광소자를 제작하였다. 스퍼터링하기 위한 인듐주석산화물(ITO) 타겟은, 90wt% 산화인듐(In2O3)과 10wt% 산화주석(SnO2)으로 된 것을 사용하였다.The inventors of the present invention, using polynorbornene dicarboxyimide to substitute trifluoromethoxyphenyl at the N-position of the imide to produce a polymer film having high heat resistance, high transparency and low refractive index, using the substrate as a substrate As a result, indium oxide (ITO), which is an anode material, was formed and an organic electroluminescent device was manufactured using the same. As the indium tin oxide (ITO) target for sputtering, those made of 90 wt% indium oxide (In 2 O 3 ) and 10 wt% tin oxide (SnO 2 ) were used.
[실시예][Example]
<이미드의 N 위치에 트라이플루오르메톡시페닐기를 포함하는 폴리노보넨디카르복시이미드의 합성><Synthesis of polynorbornene dicarboxyimide containing trifluoromethoxyphenyl group at N position of imide>
엔도 이성질체인 Endo isomer chain 노보넨디카르복실릭안하이드라이드의Of norbornene dicarboxylic anhydride 엑소Exo 이성질체로의 전환 Conversion to isomers
엔도 이성질체인 노보넨디카르복실릭안하이드라이드를 2구 둥근 플라스크에 넣고 내부를 질소 분위기로 만든다. 220℃에서 2시간 정도 가열시킨 후, 120℃까지 천천히 식힌다. 120℃가 되었을 때, 폴리노보넨디카르복실릭안하이드라이드의 1/2 몰 비로 클로로벤젠을 첨가한다. 상온으로 식힌 후 흰색 결정을 여과하고 메탄올로 세척 후 60℃ 진공오븐에서 건조한다. Endonene dicarboxylic anhydride, an endo isomer, is placed in a two-necked round flask to bring the inside into a nitrogen atmosphere. After heating at 220 ° C. for about 2 hours, the mixture is slowly cooled to 120 ° C. When the temperature reaches 120 ° C., chlorobenzene is added in a 1/2 molar ratio of polynorbornenedicarboxylic anhydride. After cooling to room temperature, the white crystals are filtered off, washed with methanol and dried in a vacuum oven at 60 ° C.
N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드의 합성 Synthesis of N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide
엑소 이성질체의 노보넨무수디카르복실릭산을 톨루엔에 충분히 녹인다. 이때, 용매의 농도는 4 ~ 5중량%가 되도록 한다. 반응물인 4-트라이플루오르메톡시아닐린은 노보넨 단량체의 동 몰수에 5 ~ 10% 과량으로 하여 노보넨무수디카르복실릭산 용액에 한 방울씩 떨어뜨리며 50℃에서 3시간 교반하여 반응시킨다. 현탁액이 만들어지면 여과하고 건조시킨다. 얻어진 아믹산은 무수소듐아세테이트와 함께 무수초산 용매에서 2시간 교반, 환류시킨다. 이때 아믹산, 무수소듐아세테이트, 무수초산의 몰 비는 바람직하게는 7 : 4 : 64가 되도록 한다. 상온으로 식힌 후 얻어진 결정은 물로 여러 번 세척하고 메탄올로 2번 재결정한다.The norbornene anhydride dicarboxylic acid of the exo isomer is fully dissolved in toluene. At this time, the concentration of the solvent is to be 4 to 5% by weight. 4-trifluoromethoxyaniline, the reactant, is added in 5-10% excess of the same number of moles of norbornene monomer, dropwise dropwise into norbornene anhydride dicarboxylic acid solution, and reacted by stirring at 50 ° C for 3 hours. Once the suspension is made, it is filtered and dried. The obtained amic acid is stirred and refluxed with anhydrous acetic acid solvent for 2 hours with sodium anhydride. At this time, the molar ratio of amic acid, sodium acetate anhydride and acetic anhydride is preferably 7: 4: 64. After cooling to room temperature, the obtained crystals are washed several times with water and recrystallized twice with methanol.
폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드)의 합성Synthesis of Poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide)
N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드를 디클로로에탄 용매에 완전히 녹인다. 이때 용매의 농도는 20중량%이다. 중합 개시제로는 루테늄 촉매가 쓰인다. 루테늄 촉매는 [화학식 1]과 같다. 개시제는 N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드의 1/100 몰 비로 첨가하고, 60℃에서 4시간 교반한다. 상기 반응은 반드시 질소 분위기에서 반응되어야 한다. 중합은 질소 분위기에서 에틸바이닐이서를 첨가함으로써 정지된다. 상온으로 식힌 후, 중합된 용액을 과량의 메탄올에 흘려 고체화시키고, 고분자를 클로로포름에 녹이고, 1노르말 농도의 염산을 몇 방울 첨가한다. 다시 메탄올에 흘려 고체화시키고, 40℃ 진공오븐에서 건조시킨다. 이러한 과정을 2 ~ 3번 거치면 순수한 고분자를 얻을 수 있다. N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide is dissolved completely in dichloroethane solvent. At this time, the concentration of the solvent is 20% by weight. Ruthenium catalyst is used as a polymerization initiator. Ruthenium catalyst is the same as [Formula 1]. The initiator is added at a 1/100 molar ratio of N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide and stirred at 60 ° C for 4 hours. The reaction must be reacted in a nitrogen atmosphere. The polymerization is stopped by adding ethylvinyl ether in a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, the polymerized solution is poured into excess methanol to solidify, the polymer is dissolved in chloroform, and a few drops of 1 normal hydrochloric acid are added. It was again poured into methanol to solidify and dried in a vacuum oven at 40 ° C. After this process two or three times, a pure polymer can be obtained.
<폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 제조><Production of Poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) Film>
상기 고분자를 5중량%로 극성 비양자성 용매인 N,N-디메틸아세트아마이드에 녹이면 고농도의 용액을 얻을 수 있다. 이 용액을 깨끗한 유리판에 붓고, 오븐에서 충분히 건조시켜 투명한 필름을 얻는다. 얻어진 투명한 필름을 도 1에 나타내었다.When the polymer is dissolved in 5% by weight of N, N-dimethylacetamide, which is a polar aprotic solvent, a high concentration solution can be obtained. This solution is poured into a clean glass plate and dried sufficiently in an oven to obtain a transparent film. The obtained transparent film is shown in FIG.
<투명전극 성막 및 유기전기발광소자 제작><Transparent electrode film formation and organic electroluminescent device fabrication>
이미드의 N 위치가 트라이플루오르메톡시페닐로 치환된 폴리노보넨디카르복시이미드를 기판으로 하여 R.F. 마그네트론 스퍼터링을 이용, 양극재료인 인듐주석산화물(ITO)을 성막한다. 성막 조건은 80W의 R.F.전력, 120㎚의 인듐주석산화물(ITO) 두께, 아르곤 기체의 압력은 1.0Pa, 타겟과 기판과의 거리는 50㎜로 한다. 성막 온도는 25℃, 100℃, 150℃, 200℃로 한다.The polynorbornene dicarboxyimide in which the N position of the imide was substituted with trifluoromethoxyphenyl was used as a substrate. Indium tin oxide (ITO), a cathode material, is formed by using magnetron sputtering. The film forming conditions were 80 W of R.F. power, 120 nm of indium tin oxide (ITO) thickness, the pressure of argon gas was 1.0 Pa, and the distance between the target and the substrate was 50 mm. Film-forming temperature shall be 25 degreeC, 100 degreeC, 150 degreeC, and 200 degreeC.
여기서, 인듐주석산화물(ITO) 대신에 산화아연(ZnO)이 적용될 수도 있다.Here, zinc oxide (ZnO) may be applied instead of indium tin oxide (ITO).
앞서 제조된 인듐주석산화물(ITO) 필름 위에 열증착법을 이용, 유연한 유기전기발광소자를 제조하였다. 내부의 유기물질은 가장 흔하게 쓰이는 것으로, 정공수송층에는 N,N'-디페닐-N,N'-(3-메틸페닐)-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디아민(TPD)을 50㎚ 증착하고, 여기에 발광층이자 전자수송층 역할을 하는 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토) 알루미늄(Alq3)을 70㎚의 두께로 각각 증착하였다. 마지막으로 음극재료인 알루미늄을 100㎚ 증착하여 유기전기발광소자를 제작하였다.A flexible organic electroluminescent device was manufactured by thermal evaporation on an indium tin oxide (ITO) film prepared above. The organic material in the interior is most commonly used, and in the hole transport layer, N, N'-diphenyl-N, N '-(3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine (TPD ) Was deposited to 50 nm, and tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq 3) serving as a light emitting layer and an electron transporting layer was deposited to a thickness of 70 nm, respectively. Finally, 100 nm of aluminum, a cathode material, was deposited to fabricate an organic electroluminescent device.
<폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 특성><Characteristics of Poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) Film>
도 2는 TA Instrument 사의 TGA (Q50 Q Series)로 열적 안정성을 측정한 결과를 나타내고, 도 3은 열기계 분석기(SEIKO TMA 320)를 통하여 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion)를 측정한 결과를 나타낸다. Figure 2 shows the result of measuring the thermal stability by TGA (Q50 Q Series) of TA Instrument, Figure 3 shows the result of measuring the coefficient of thermal expansion (Coefficient of Thermal Expansion) through a thermomechanical analyzer (SEIKO TMA 320).
이상의 열적 특성을 표 1에 나타내었다. The above thermal characteristics are shown in Table 1.
유리전이온도는 230℃, 분해 온도는 440℃, 열팽창계수가 50 ~ 200에서 109ppm/℃로 열적 안정성이 좋으며, 이전의 폴리노보넨과 비교해 월등히 뛰어나다. 이는 폴리노보넨디카르복시이미드기의 N-위치에 트라이플루오르메톡시페닐과 같은 큰 그룹이 도입되면서 분자 사슬의 회전과 이동성을 감소시키기 때문이다. The glass transition temperature is 230 ℃, the decomposition temperature is 440 ℃, and the thermal expansion coefficient is 50 ~ 200 to 109ppm / ℃, and the thermal stability is good, and it is superior to the previous polynorbornene. This is because a large group such as trifluoromethoxyphenyl is introduced at the N-position of the polynorbornenedicarboxyimide group to reduce the rotation and mobility of the molecular chain.
도 4를 통해 상기 고분자의 광학적 특성을 UV-Vis 스펙트럼(U-2010, HITACHI)으로 확인하여 보았다. 상기 고분자는 가시광선 영역인 400 ~ 700㎚에서 90% 이상의 투과도를 보이고 있다. 따라서 상기 고분자는 매우 투명하다고 볼 수 있다. 4, the optical properties of the polymer were confirmed by UV-Vis spectra (U-2010, HITACHI). The polymer shows a transmittance of 90% or more in the visible
표 2는 Prism coupler에 의해 측정된 굴절률과 유전상수의 결과이다. Table 2 shows the results of the refractive index and the dielectric constant measured by the Prism coupler.
레이저(He-Ne) 소스는 632.8㎚ 파장을 사용하였고 1㎽에서 작동한다. in-plane 과 out-of-plane 값은 측정값 nxy와 nz에 의해 계산되었고, Δ는 복굴절률 값으로 nxy-nz의 식에 의해 계산되었다. nb 는 nxy와 nz의 평균값이다. εxy 와 εZ는 In-plane 과 Out-of-plane의 유전상수 값으로 맥스웰 방정식(ε=n2 )에 의해 계산되었다. εb 는 ε xy와 εz의 평균값이다. The laser (He-Ne) source used a 632.8 nm wavelength and operates at 1 Hz. The in-plane and out-of-plane values were calculated by the measured values n xy and n z , and Δ was the birefringence value calculated by the formula of n xy -n z . n b is the mean of n xy and n z . ε xy And εZ is Maxwell's equation for the in-plane and out-of-plane of the Maxwell's equation (ε = n 2 Calculated by ε b is the average of ε xy and ε z .
샘플은 실리콘 웨이퍼 위에 스핀 코팅을 하였으며, 필름의 두께는 15±1㎛이다. 굴절률은 1.533으로 기본적인 디바이스에 쓰이는 유리의 굴절률보다 낮으며, 맥스웰 방정식에 의해 구해진 유전 상수는 2.350으로 다른 고분자 투명 필름에 비해 낮다. 따라서 디바이스의 외부효율을 결정하는 기판의 굴절률이 낮기 때문에 유리로 디바이스를 구현하였을 때보다 높은 외부 효율을 보일 것이라 기대된다. 이러한 낮은 굴절률은 분자의 구조가 대부분 환 구조를 가지며, 플루오르기를 포함하기 때문에 분자의 전자 밀도가 낮아지기 때문이다. The sample was spin coated onto a silicon wafer and the film thickness was 15 ± 1 μm. The refractive index is 1.533, which is lower than that of glass used in basic devices, and the dielectric constant obtained by Maxwell's equation is 2.350, which is lower than that of other polymer transparent films. Therefore, since the refractive index of the substrate that determines the external efficiency of the device is low, it is expected that the external efficiency will be higher than when the device is made of glass. This low index of refraction is due to the fact that the molecular structure of the molecule is mostly ring-shaped, and the electron density of the molecule is lowered because it contains fluorine groups.
본 발명에서는, 광각 x-선 회절(WAXD)을 사용하여 개발된 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드)의 결정을 도 5를 통해 확인하였다. igku 회절기(Model Rigaku Minflex)의 CuKa 방사능(파장=1.54Å) 소스는 50kv 그리고 40mA에서 작동한다. 2θ의 스캔 자료는 1.2°~ 40°의 범위에서 0.01°간격과 스캔 속도 1.0°(2θ)/min로 수집하였다. In the present invention, crystals of poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) developed using wide-angle x-ray diffraction (WAXD) were identified through FIG. 5. The CuKa radiation (wavelength = 1.54 GHz) source of the igku diffractometer (Model Rigaku Minflex) operates at 50kv and 40mA. Scan data of 2θ were collected at intervals of 0.01 ° and scan speed of 1.0 ° (2θ) / min in the range of 1.2 ° to 40 °.
상기 고분자는 반결정성을 보이고 있고, 20˚부근의 결정 피크를 통해 체인 간의 거리(d value)를 Bragg(nλ=2dsinθ) 방정식으로 구할 수 있다. 체인 간의 거리는 4.8Å이다. 문헌에 의하면, 이미드의 N-위치를 싸이클로펜틸로 치환하였을 경우 4.9Å, 싸이클로헥실로 치환하였을 경우 5.0Å으로 크기가 큰 그룹으로 치환되었을 때 체인 간의 간격이 커지는 것을 알 수 있다. 체인 간의 간격이 커질수록 체인 간의 분자 밀도가 커지고 이는 유전상수를 낮추는 요인이 된다. The polymer is semicrystalline, and the distance between the chains (d value) can be obtained by Bragg (nλ = 2dsinθ) through a crystal peak near 20 °. The distance between the chains is 4.8 Å. According to the literature, when the N-position of the imide is replaced with a group having a size of 4.9 kV when substituted with a cyclopentyl and 5.0 kPa when substituted with a cyclohexyl, the inter-chain spacing increases. As the spacing between the chains increases, the molecular density between the chains increases, which lowers the dielectric constant.
도 6은 상기 고분자의 표면을 원자 힘 현미경(Atomic Force Microscope, Nanoscope Ⅲa)으로 측정한 결과이다. 반결정성인 상기 고분자는 표면의 평균제곱거칠기(RMS) 값이 0.5㎚로 매우 낮은 것을 확인할 수 있었다. 고분자가 기판으로 쓰일 때, 표면의 매끈한 정도는 인듐주석산화물(ITO)의 성막에 매우 중요한 요인이 될 수 있다. 6 is a result of measuring the surface of the polymer by atomic force microscope (Atomic Force Microscope, Nanoscope IIIa). The semi-crystalline polymer was found to have a very low mean square roughness (RMS) value of 0.5 nm. When the polymer is used as a substrate, the smoothness of the surface can be a very important factor in the formation of indium tin oxide (ITO).
<폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름 위에 성막 된 인듐주석산화물(ITO)의 특성><Characteristics of Indium Tin Oxide (ITO) Formed on Poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) Film>
UV-visible 스펙트로미터(U-2010, HITACHI)를 이용하여 인듐주석산화물(ITO)이 성막된 고분자 필름의 광학적인 특성을 알아보았다. 도 7에 의하면, 인듐주석산화물이 성막된 고분자 필름의 가시광선영역에서의 투과도가 85% 이상으로 나타난다. 200℃에서 ITO를 성막하였을 경우 90% 이상이다. 도 8에 의하면, 성막 온도가 증가할수록 평균 투과도가 증가함을 알 수 있다. The optical properties of polymer films in which Indium Tin Oxide (ITO) was deposited were investigated using UV-visible spectrometer (U-2010, HITACHI). According to FIG. 7, the transmittance in the visible light region of the polymer film on which the indium tin oxide is formed is shown to be 85% or more. It is 90% or more when ITO is formed at 200 ° C. Referring to FIG. 8, it can be seen that the average transmittance increases as the deposition temperature increases.
광각 X-선 회절(WAXD)을 사용하여 투명한 상기 고분자 필름에 성막된 인듐주석산화물(ITO)의 구조적인 특성을 평가하였다. Rigaku 회절기(Model Rigaku Minflex)의 CuKa 방사능(파장=1.54Å) 소스는 30kv 그리고 15mA에서 작동한다. 2θ의 스캔 자료는 25°~ 65°범위에서 0.01°간격과 스캔속도 1°/min으로 수집하였다. 도 9에서는 각각 25℃, 100℃, 150℃, 및 200℃의 온도에서의 결정 특성을 보이고 있다. 전형적인 배향인 (222), (400), (440), (622)에서 다결정을 보이고 있으며, 온도가 증가함에 따라 배향의 강도가 증가하는 것을 볼 수 있다. 이는 결정성과 그레인 크기의 증가를 의미한다. Wide angle X-ray diffraction (WAXD) was used to evaluate the structural properties of indium tin oxide (ITO) deposited on the transparent polymer film. The CuKa radiation (wavelength = 1.54 GHz) source of the Rigaku diffractometer (Model Rigaku Minflex) operates at 30kv and 15mA. Scan data of 2θ were collected at intervals of 0.01 ° and scan speed of 1 ° / min over a range of 25 ° to 65 °. 9 shows crystal characteristics at temperatures of 25 ° C., 100 ° C., 150 ° C., and 200 ° C., respectively. Typical orientations (222), (400), (440), and (622) show polycrystals, and the strength of the orientation can be seen to increase with increasing temperature. This means an increase in crystallinity and grain size.
전기적인 특성은 면저항 측정기(four point probe, CHANGMIN TECH)로 측정을 하였다. 온도가 증가함에 따라 전기적인 면저항이 좋아지는 것을 도 10에서 확인하였다. 이는 인듐주석산화물(ITO) 필름에 캐리어 농도가 증가하였기 때문이다. 즉, 그레인 경계로부터 인듐 지역으로의 주석원자들의 확산이 증가하였고, 3가의 인듐원자로 주석 원자들의 주게로서의 역할이 온도의 증가에 따라 효과적이라는 것이다. The electrical properties were measured with a sheet resistance meter (CHANGMIN TECH). It was confirmed in FIG. 10 that the electrical sheet resistance improved with increasing temperature. This is because the carrier concentration is increased in the indium tin oxide (ITO) film. That is, the diffusion of tin atoms from the grain boundary into the indium region increased, and the role of the tin atoms as the trivalent indium atoms as the main donors is effective with increasing temperature.
기판으로서의 전기적, 광학적인 종합적 성질은 이득 지수(Figure of Merit)라는 값을 통해서 설명된다. 이는 투명 전극의 활용성과 안정성을 나타내는 중요한 지표가 된다. 여기서 이득지수는 문헌에 나와 있는 방법에 의해 계산되었다. (D. B. Fraser, H. D. Cook [J. Electochem. Soc., 119, 1368 (1972)]과 G. Haacke [J. Appl. Phys., 47, 4086 (1976)]) 표 3을 통하여 온도의 증가에 따라 그 값이 좋아지는 것을 확인할 수 있으며, 일반적인 폴리이미드 기판에 비해 높은 평균 투과율을 가지며 결과적으로 높은 이득 지수를 가지는 것을 알 수 있다. The overall electrical and optical properties of the substrate are explained by the figure of Merit. This is an important indicator of the utility and stability of the transparent electrode. Here, the gain index was calculated by the method described in the literature. (DB Fraser, HD Cook [J. Electochem. Soc., 119, 1368 (1972)] and G. Haacke [J. Appl. Phys., 47, 4086 (1976)]). It can be seen that the value is improved, it has a high average transmittance compared to the general polyimide substrate, and as a result has a high gain index.
Poly (TFMONDI)
Poly (TFMONDI)
<유기전기발광소자의 성능과 안정성><Performance and Stability of Organic Electroluminescent Device>
유기발광소자는 150℃에서 제작된 투명전극 위에 상기에서 언급한 방법에 의해 제작하였다. 도 11에서는 전압에 대한 전류밀도와 빛의 밝기값을 각각 보여준다. 도 12에서는 150℃의 성막 온도에서 제작된 소자의 EL 스펙트럼을 보이고 있으며, 최대값을 보일 때의 파장은 525㎚이다. 이는 Alq3를 발광물질로 사용했을 때의 전형적인 값이며, 전자와 홀의 재결합이 주로 Alq3 층에서 일어난다는 것을 말한다. The organic light emitting device was manufactured by the above-mentioned method on the transparent electrode manufactured at 150 ℃. 11 shows current density and brightness of light with respect to voltage, respectively. In Fig. 12, the EL spectrum of the device fabricated at a film formation temperature of 150 deg. C is shown. The wavelength when the maximum value is shown is 525 nm. This is a typical value when Alq3 is used as a luminescent material, and recombination of electrons and holes occurs mainly in the Alq3 layer.
소자를 휘었을 때에도, 초록색 빛이 명확하게 나는 것을 확인하였고, 어떠한 전기적인 튐 현상 또한 발견되지 않았다. 이는 유리를 기판으로 사용하여, 같은 온도와 같은 두께로 인듐주석산화물(ITO)를 성막하고 유기발광소자를 제작하였을 때의 결과와 동일하다. 따라서 본 발명의 고분자 필름이 유연한 유기발광소자의 기판으로 사용되어도 소자의 성능과 안정성에 아무런 영향을 주지 않는다는 것을 확인할 수 있었다.When the device was bent, it was confirmed that green light appeared clearly, and no electric shock was found. This is the same as the result when the indium tin oxide (ITO) was formed at the same temperature and the same thickness using glass as the substrate and the organic light emitting device was manufactured. Therefore, even if the polymer film of the present invention is used as a substrate of a flexible organic light emitting device it could be confirmed that no effect on the performance and stability of the device.
이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 당업자의 수준에서 다양한 변경을 가할 수 있음은 물론이다. 따라서, 본 발명의 권리범위는 상기한 실시 예에 한정되어 해석될 수 없으며, 이하에 기재되는 특허청구범위에 의해 해석되어야 한다.In the above description, the embodiment of the present invention has been described, but various changes can be made at the level of those skilled in the art. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited to the above embodiment, but should be interpreted by the claims described below.
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도 1은 유연하며 매우 투명한 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름을 나타내는 사진이다.1 is a photograph showing a flexible and highly transparent poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film.
도 2는 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 열적 안정성을 나타내는 그래프이다.2 is a graph showing the thermal stability of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film.
도 3은 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 열팽창계수를 나타내는 그래프이다.3 is a graph showing the coefficient of thermal expansion of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film.
도 4는 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 투과도를 나타내는 그래프이다.4 is a graph showing the transmittance of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film.
도 5는 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드)의 결정을 광각 X-선 회절(WAXD)로 측정한 그래프이다.5 is a graph of crystals of poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) measured by wide-angle X-ray diffraction (WAXD).
도 6은 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드)의 표면을 원자 힘 현미경으로 측정한 이미지이다.6 is an image of the surface of poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) measured by atomic force microscope.
도 7은 인듐주석산화물(ITO)을 성막한 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드)필름의 성막 온도에 따른 투과도를 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the transmittance according to the film formation temperature of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film on which indium tin oxide (ITO) was formed.
도 8은 인듐주석산화물(ITO)을 성막한 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 성막 온도에 따른 평균 투과도를 나타내는 그래프이다.FIG. 8 is a graph showing average transmittance according to film formation temperature of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film on which indium tin oxide (ITO) was formed.
도 9는 인듐주석산화물(ITO)을 성막한 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 성막 온도에 따른 광각 X-선 회절(WAXD) 그래프이다.FIG. 9 is a wide-angle X-ray diffraction (WAXD) graph of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film on which indium tin oxide (ITO) is deposited, according to a film formation temperature.
도 10은 인듐주석산화물(ITO)을 성막한 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름의 성막 온도에 따른 면저항을 나타내는 그래프이다.FIG. 10 is a graph showing sheet resistance according to film formation temperature of a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film on which indium tin oxide (ITO) was formed.
도 11은 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름을 기판으로 하여 제작한 유기발광소자의 전류밀도 및 빛의 밝기를 나타내는 그래프이다.FIG. 11 is a graph showing current density and brightness of light of an organic light emitting device manufactured by using a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film as a substrate.
도 12는 폴리(N-트라이플루오르메톡시페닐노보넨디카르복시이미드) 필름을 기판으로 하여 제작한 유기발광소자의 발광 그래프이다.FIG. 12 is a light emission graph of an organic light emitting device manufactured by using a poly (N-trifluoromethoxyphenylnorbornenedicarboxyimide) film as a substrate.
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