KR101005420B1 - Image recording apparatus and image recording method - Google Patents
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Abstract
화상 기록 장치에서는, 각 광 변조 소자에 대응하는 화소열의 화소치가 변화하는 각 변화점에 관해, 묘화 어긋남을 보정하기 위해 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트하는 시프트량이 구해진다. 시프트량이 1개의 화소(71)에 대응하는 기판 상의 영역의 주사 방향의 폭을 넘는 경우에, 당해 시프트량을 당해 폭으로 나눈 값의 정수 부분의 화소수만큼 변화점이 열 방향으로 이동하도록, 대상 화상의 화소(71a)의 화소치가 변경됨과 더불어, 당해 변화점에 대응하는 시프트량이 소수부에 상당하는 값으로 수정된다. 그리고, 변경 후의 대상 화상 및 수정 후의 시프트량에 의거하여 공간 광 변조기를 제어함으로써, 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 거리를 넘어 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트시키면서 화상을 정밀도 좋게 기록하는 것이 실현된다.
In the image recording apparatus, a shift amount for shifting the transition position of the output light amount from the light modulation element is obtained for each change point at which the pixel value of the pixel column corresponding to each light modulation element changes. When the shift amount exceeds the width of the scanning direction of the area on the substrate corresponding to one pixel 71, the target image is moved so that the change point moves in the column direction by the number of pixels of the integer portion of the value obtained by dividing the shift amount by the width. The pixel value of the pixel 71a is changed, and the shift amount corresponding to the change point is corrected to a value corresponding to the fractional part. Then, the spatial light modulator is controlled based on the target image after the change and the shift amount after the correction, so that when the image is recorded, the image is shifted by shifting the transition position of the output light amount from the light modulation element over a distance equivalent to one pixel. Recording with high precision is realized.
Description
본 발명은, 광의 조사에 의해 기록 매체에 화상을 기록하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a technique for recording an image on a recording medium by irradiation of light.
반도체 장치 제조 기술을 이용하여 기판 상에 고정 리본과 가요 리본을 교대로 형성하고, 가요 리본을 고정 리본에 대해 휘어지게 함으로써 회절 격자의 깊이를 변경할 수 있는 회절 격자형의 광 변조 소자가 개발되어 있다. 이러한 회절 격자에서는 홈의 깊이를 변경함으로써 정반사광이나 회절광의 강도가 변화하므로, 광 변조 소자로서 각종 기록 매체에 화상을 기록하는 화상 기록 장치로의 이용이 제안되어 있다.A diffraction grating type optical modulation device has been developed that can change the depth of a diffraction grating by alternately forming a fixed ribbon and a flexible ribbon on a substrate using a semiconductor device manufacturing technique, and bending the flexible ribbon with respect to the fixed ribbon. . In such a diffraction grating, the intensity of the specularly reflected light or the diffracted light changes by changing the depth of the groove, and therefore, use as an image recording apparatus for recording an image on various recording media as an optical modulation element is proposed.
예를 들면, 화상 기록 장치에 복수의 회절 격자형의 광 변조 소자를 설치하여 광을 조사하고, 고정 리본과 가요 리본이 기준면에서부터 같은 높이에 위치하는 상태의 광 변조 소자로부터의 반사광(0차광)을 기록 매체로 인도하며, 가요 리본이 휘어진 상태의 광 변조 소자로부터의 비0차 회절광(주로 1차 회절광)을 차광함으로써, 기록 매체로의 화상 기록이 실현된다.For example, a plurality of diffraction grating type optical modulation elements are provided in the image recording apparatus to irradiate light, and the reflected light from the optical modulation elements with the fixed ribbon and the flexible ribbon located at the same height from the reference plane (zero-light). Is guided to the recording medium and the non-zeroth order diffracted light (mainly primary diffracted light) from the optical modulation element with the flexible ribbon bent is shielded, thereby recording the image onto the recording medium.
일본국 특허공개 2004-4525호 공보(문헌 1)에서는, 이러한 화상 기록 장치에 있어서, 광 변조 소자가 ON-OFF 사이에서 천이하는 타이밍을 보정함으로써, 광 변조 소자가 OFF 상태에서 ON 상태로 천이할 때와 ON 상태에서 OFF 상태로 천이할 때의 비대칭성, 감광 재료마다의 특성의 상이 및 광 변조 소자마다의 조사 영역의 주사 방향의 길이의 상이나 위치의 어긋남에 기인하여 발생하는 묘화 영역의 어긋남을 보정하는 기술이 개시되어 있다.In Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-4525 (Document 1), in such an image recording apparatus, by correcting the timing at which the optical modulation element transitions between ON-OFF, the optical modulation element can transition from the OFF state to the ON state. Asymmetry in transition from ON state to OFF state, difference in characteristics of each photosensitive material, and misalignment of the drawing region caused by misalignment of the length or position in the scanning direction of the irradiation region for each light modulation element. A technique for correcting is disclosed.
그러나, 문헌 1의 화상 기록 장치에서는, 1화소에 상당하는 시간 내에서, 순차적으로 약간의 시간만큼 어긋난 클럭군에서부터 1개의 클럭을 선택함으로써, 당해 클럭에 대응하는 화소의 화소치에 따른 구동 전압이 광 변조 소자에 입력되므로, 1화소에 상당하는 시간을 넘어 천이 타이밍을 시프트(또는, 1화소에 상당하는 거리를 넘어 천이 위치를 시프트)시킬 수 없다.However, in the image recording apparatus of
본 발명은, 광의 조사에 의해 기록 매체에 화상을 기록하는 화상 기록 장치에 적합하고, 기록 매체에 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 거리를 넘어 천이 위치를 시프트시키는 것을 목적으로 하고 있다.This invention is suitable for the image recording apparatus which records an image on a recording medium by irradiation of light, and aims at shifting a transition position beyond the distance equivalent to one pixel when recording an image on a recording medium.
본 발명에 따른 화상 기록 장치는, 광 변조 소자를 갖는 광 변조기와, 상기 광 변조기로부터의 신호광에 의해 화상이 기록되는 기록 매체를 유지하는 유지부와, 상기 유지부를 상기 광 변조기에 대해 상대적으로 이동하여 상기 광 변조 소자로부터의 광이 조사되는 기록 매체 상의 조사 위치를 주사 방향으로 연속적으로 이동하는 이동 기구와, 기록 매체로의 기록 대상인 대상 화상에 있어서, 상기 주사 방향에 대응하는 열 방향으로 복수의 화소가 나열되는 각 화소열이, 각각이 상기 열 방향으로 연속하여 동일한 화소치를 갖는 복수의 화소군의 집합이고, 상기 각 화소열에 있어서 인접하는 2개의 화소군 사이의 위치인 각 변화점에 관해, 화소군의 묘화 어긋남을 보정하기 위해 상기 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트하는 시프트량을 구하여, 상기 시프트량이, 1개의 화소에 대응하는 기록 매체 상의 영역의 상기 주사 방향의 폭을 넘는 경우에, 상기 시프트량을 상기 폭으로 나눈 값의 정수 부분의 화소수만큼 상기 각 변화점이 상기 열 방향으로 이동하도록 상기 대상 화상의 화소의 화소치를 변경함과 더불어, 상기 각 변화점에 대응하는 상기 시프트량을 상기 값의 소수부에 상당하는 값으로 수정하는 연산부 와, 상기 이동 기구에 동기하면서, 변경 후의 상기 대상 화상 및 수정 후의 상기 시프트량에 의거하여 상기 광 변조기를 제어하는 제어부를 구비한다.An image recording apparatus according to the present invention includes an optical modulator having an optical modulation element, a holding portion for holding a recording medium on which an image is recorded by the signal light from the optical modulator, and the holding portion relative to the optical modulator. And a moving mechanism that continuously moves the irradiation position on the recording medium to which the light from the optical modulation element is irradiated in the scanning direction, and a plurality of target images in the column direction corresponding to the scanning direction in the target image to be recorded on the recording medium. Each pixel column in which the pixels are arranged is a set of a plurality of pixel groups each having the same pixel value in succession in the column direction, and each change point is a position between two adjacent pixel groups in the pixel columns. Shift amount for shifting the transition position of the output light amount from the light modulation element in order to correct the writing shift of the pixel group In the case where the shift amount exceeds the width of the scanning direction of the area on the recording medium corresponding to one pixel, the respective change point is equal to the number of pixels of the integer portion of the value obtained by dividing the shift amount by the width. An arithmetic unit that changes the pixel value of the pixel of the target image so as to move in the direction, and corrects the shift amount corresponding to each change point to a value corresponding to a fractional part of the value, while being synchronized with the movement mechanism And a control unit for controlling the light modulator based on the target image after and the shift amount after correction.
본 발명에 의하면, 기록 매체에 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 거리를 넘어 천이 위치를 시프트시킬 수 있다.According to the present invention, when recording an image on a recording medium, the transition position can be shifted beyond a distance equivalent to one pixel.
본 발명의 한 바람직한 형태에서는, 상기 연산부에 있어서, 상기 각 변화점에 대해, 상기 인접하는 2개의 화소군의 화소치의 조합에 의거하여 수정 전의 상기 시프트량이 구해지고, 상기 연산부가, 복수 종류의 2개의 화소치의 조합의 각각에 대한 변화점의 이동량을 나타내는 화소 가공 테이블을 기억하는 제1 테이블 기억부와, 상기 각 화소열의 각 변화점에 있어서의 2개의 화소치의 조합을 이용하여 상기 화소 가공 테이블을 참조함으로써, 상기 각 변화점의 이동량을 취득하여 상기 각 변화점을 상기 열 방향으로 이동하는 화상 변경부와, 상기 복수 종류의 2개의 화소치의 조합의 각각에 대한 수정 후의 시프트량을 나타내는 수정 시프트량 테이블을 기억하는 제2 테이블 기억부와, 상기 각 화소열의 상기 각 변화점에 있어서의 2개의 화소치의 조합을 이용하여 상기 수정 시프트량 테이블을 참조함으로써, 상기 각 변화점에 대한 상기 수정 후의 시프트량을 취득하는 시프트량 취득부를 구비한다. 이와 같이, 화소 가공 테이블 및 수정 시프트량 테이블을 이용함으로써, 1화소에 상당하는 거리를 넘는 천이 위치의 시프트를 용이하게 실현할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, in the calculation unit, the shift amount before correction is determined based on a combination of pixel values of the two adjacent pixel groups with respect to each of the change points, and the calculation unit includes a plurality of types of two. The pixel processing table is constructed by using a combination of a first table storage unit that stores a pixel processing table indicating a shift amount of a change point with respect to each of the combination of two pixel values, and a combination of two pixel values at each change point of each pixel column. By reference, a correction shift amount indicating a shift amount after correction for each of a combination of an image change unit which acquires the shift amount of each change point and moves the shift point in the column direction, and the plurality of types of two pixel values A combination of a second table storage unit for storing a table and two pixel values at the respective change points of the pixel columns; By using reference to the modified shift amount table, and comprising a shift amount obtained for obtaining a shift amount after the modification for each of the change point. Thus, by using the pixel processing table and the correction shift amount table, the shift of the transition position over a distance equivalent to one pixel can be easily realized.
본 발명의 다른 바람직한 형태에서는, 상기 제어부에 있어서, 기록 매체 상의 상기 조사 위치가, 상기 대상 화상의 상기 각 화소열에 있어서의 소정수의 화소에 상당하는 일정한 거리만큼 상기 주사 방향으로 이동할 때마다 베이스 클럭이 발 생하고, 상기 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이가, 인접하는 2개의 베이스 클럭 사이의 베이스 클럭 기간에서 한번만 가능하게 되어 있으며, 변경 후의 상기 대상 화상에 있어서, 각각이 상기 열 방향으로 연속하여 동일한 화소치를 갖는 복수의 화소군 중 가장 화소수가 적은 최소 화소군의 화소수가, 상기 소정수의 화소의 화소수보다 적은 경우에, 상기 연산부가, 상기 일정한 거리를 상기 최소 화소군의 상기 화소수에 상당하는 거리로 단축한다. 이에 의해, 광 변조 소자의 출력 광량의 천이가 베이스 클럭 기간에서 한번만 가능하게 되는 화상 기록 장치에 있어서, 화상의 기록을 정밀도 좋게 행할 수 있다.In another preferred aspect of the present invention, in the controller, a base clock is provided each time the irradiation position on the recording medium moves in the scanning direction by a constant distance corresponding to a predetermined number of pixels in each pixel column of the target image. This occurs, and the transition of the amount of output light from the light modulation element is possible only once in the base clock period between two adjacent base clocks, and in the target image after the change, each is continuous in the column direction. In the case where the number of pixels of the smallest pixel group having the smallest number of pixels among the plurality of pixel groups having the same pixel value is smaller than the number of pixels of the predetermined number of pixels, the calculation unit causes the constant distance to be the number of pixels of the minimum pixel group. Shorten to the equivalent distance. As a result, in the image recording apparatus in which the transition of the output light amount of the optical modulation element is possible only once in the base clock period, the image recording can be performed with high accuracy.
본 발명의 한 국면에서는, 수정 전의 상기 시프트량이, 1개의 화소에 대응하는 기록 매체 상의 영역의 상기 주사 방향의 폭의 반분으로부터 화소군의 묘화 어긋남에 의거한 거리를 증감한 값이기때문에, 광 변조 소자의 출력 광량의 천이 위치를 주사 방향의 양측으로 용이하게 이동시킬 수 있다.In one aspect of the present invention, since the shift amount before correction is a value obtained by increasing or decreasing the distance based on the writing shift of the pixel group from half of the width in the scanning direction of the region on the recording medium corresponding to one pixel, the optical modulation is performed. The transition position of the output light amount of the element can be easily moved to both sides in the scanning direction.
본 발명의 다른 국면에서는, 상기 대상 화상이 런렝스 데이터로서 상기 연산부에 입력되고, 상기 연산부에 있어서, 상기 각 변화점을 이동할 때에, 상기 런렝스 데이터의 런렝스의 길이가 변경된다. 이에 의해, 변화점의 이동을 용이하게 행할 수 있다.In another aspect of the present invention, the target image is input to the calculation unit as run length data, and the length of the run length of the run length data is changed when the respective change points are moved in the calculation unit. Thereby, the change point can be easily moved.
본 발명은, 광 변조기의 광 변조 소자로부터의 광이 조사되는 기록 매체 상의 조사 위치를 주사 방향으로 연속적으로 이동하면서, 상기 광의 조사에 의해 상기 기록 매체에 화상을 기록하는 화상 기록 방법에도 적합하다.The present invention is also suitable for an image recording method of recording an image on the recording medium by irradiation of the light while continuously moving the irradiation position on the recording medium onto which the light from the light modulation element of the optical modulator is irradiated in the scanning direction.
상술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 행하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 명확해진다.The above objects and other objects, features, aspects, and advantages will become apparent from the following detailed description of the invention made with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 화상 기록 장치(1)의 측면도이고, 도 2는 화상 기록 장치(1)의 평면도이다. 화상 기록 장치(1)는, 액정 표시 장치용의 유리 기판(이하, 간단히 「기판」이라고 한다) 상의 감광 재료에 광을 조사하여 화상을 기록하는 장치(패턴 묘화 장치라고도 불린다)이다. 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 화상 기록 장치(1)는, (+Z)측의 주면(91)(이하, 「상면(91)」이라고 한다) 상에 감광 재료의 층이 형성된 기판(9)을 유지하는 기판 유지부(3), 기대(基臺)(11) 상에 설치되어 기판 유지부(3)를 Z방향에 수직인 X방향 및 Y방향으로 이동하는 유지부 이동 기구(2), 기판 유지부(3) 및 유지부 이동 기구(2)에 걸쳐지도록 기대(11)에 고정되는 프레임(12), 및 프레임(12)에 부착되어 기판(9) 상의 감광 재료에 변조된 광을 조사하는 광 조사부(4)를 구비한다. 또, 화상 기록 장치(1)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 유지부 이동 기구(2)나 광 조사부(4) 등의 각 구성을 제어하는 제어부(6)를 구비한다.1 is a side view of an
기판 유지부(3)는, 기판(9)이 놓여지는 스테이지(31), 스테이지(31)를 회전 가능하게 지지하는 지지 플레이트(33) 및 지지 플레이트(33) 상에 있어서, 기판(9)의 상면(91)에 수직인 회전축(321)을 중심으로 하여 스테이지(31)를 회전하는 스테이지 회전 기구(32)를 구비한다.The
유지부 이동 기구(2)는, 기판 유지부(3)를 도 1 및 도 2 중의 X방향(이하, 「부주사 방향」이라고 한다)으로 이동하는 부주사 기구(23), 부주사 기구(23)를 통해 지지 플레이트(33)를 지지하는 베이스 플레이트(24) 및 기판 유지부(3)를 베이스 플레이트(24)와 함께 X방향에 수직인 Y방향(이하, 「주주사 방향」이라고 한다)으로 연속적으로 이동하는 주주사 기구(25)를 구비한다. 화상 기록 장치(1)에서는, 유지부 이동 기구(2)에 의해, 기판(9)의 상면(91)에 평행한 주주사 방향 및 부주사 방향으로 기판 유지부(3)가 이동된다.The holding | maintenance
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 부주사 기구(23)는, 지지 플레이트(33)의 하측(즉, (-Z)측)에 있어서, 스테이지(31)의 주면에 평행하고, 또한 주주사 방향에 수직인 부주사 방향으로 신장되는 리니어 모터(231) 및 리니어 모터(231)의 (+Y)측 및 (-Y)측에 있어서 부주사 방향으로 신장되는 한 쌍의 리니어 가이드(232)를 구비한다. 주주사 기구(25)는, 베이스 플레이트(24)의 하측에 있어서, 스테이지(31)의 주면에 평행한 주주사 방향으로 신장되는 리니어 모터(251), 리니어 모터(251)의 (+X)측 및 (-X)측에 있어서 주주사 방향으로 신장되는 한 쌍의 에어 슬라이더(252) 및 도시 생략의 리니어 스케일을 구비한다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the
도 2에 나타낸 바와 같이, 광 조사부(4)는, 부주사 방향을 따라 등피치로 배열되어 프레임(12)에 부착되는 복수(본 실시 형태에서는, 8개)의 광학 헤드(41)를 구비한다. 또, 광 조사부(4)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 각 광학 헤드(41)에 접속되는 광원 광학계(42) 및 자외광을 출사하는 UV 광원(43) 및 광원 구동부(44)를 구비한다. UV 광원(43)은 고체 레이저이고, 광원 구동부(44)가 구동됨으로써, UV 광원(43)으로부터 예를 들면 파장 355nm의 자외광이 출사되며, 광원 광학계(42)를 통해 광학 헤드(41)로 인도된다.As shown in FIG. 2, the
각 광학 헤드(41)는, UV 광원(43)으로부터의 광을 아래쪽을 향해 출사하는 출사부(45), 출사부(45)로부터의 광을 반사하여 공간 광 변조기(46)로 인도하는 광학계(451), 광학계(451)를 통해 조사된 출사부(45)로부터의 광을 변조하면서 반사하는 공간 광 변조기(46) 및 공간 광 변조기(46)로부터의 변조된 광을 기판(9)의 상면(91)에 설치된 감광 재료 상으로 인도하는 광학계(47)를 구비한다.Each
도 3은, 공간 광 변조기(46)를 확대하여 도시한 도면이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 공간 광 변조기(46)는, 출사부(45)를 통해 조사된 UV 광원(43)으로부터의 광을 기판(9)의 상면(91)으로 인도하는 회절 격자형의 복수의 광 변조 소자(461)를 구비한다. 광 변조 소자(461)는 반도체 장치 제조 기술을 이용하여 제조되고, 격자의 깊이를 변경할 수 있는 회절 격자로 되어 있다. 광 변조 소자(461)에는 복수의 가요 리본(461a) 및 고정 리본(461b)이 교대로 평행하게 배열 형성되고, 복수의 가요 리본(461a)은 배후의 기준면에 대해 개별적으로 승강 이동 가능하게 되며, 복수의 고정 리본(461b)은 기준면에 대해 고정된다. 회절 격자형의 광 변조 소자로서는, 예를 들면, GLV(Grating Light Valve : 그레이팅·라이트·밸브)(실리콘·라이트·머신즈(서니베일, 캘리포니아)의 등록 상표)가 알려져 있다.3 is an enlarged view of the
도 4a 및 도 4b는, 가요 리본(461a) 및 고정 리본(461b)에 대해 수직인 면에 있어서의 광 변조 소자(461)의 단면을 도시한 도면이다. 도 4a에 나타낸 바와 같이 가요 리본(461a) 및 고정 리본(461b)이 기준면(461c)에 대해 동일한 높이에 위치하는(즉, 가요 리본(461a)이 휘어지지 않는) 경우에는, 광 변조 소자(461)의 표 면은 한 면이 되고, 입사광(L1)의 반사광이 0차광(정반사광)(L2)으로서 도출된다. 한편, 도 4b에 나타낸 바와 같이 가요 리본(461a)이 고정 리본(461b)보다 기준면(461c)측으로 휘어져 가요 리본(461a)과 고정 리본(461b)의 높이의 차가 소정의 값이 되는 경우에는, 가요 리본(461a)이 회절 격자의 홈의 바닥면이 되고, 1차 회절광(L3)(또한, 고차 회절광)이 광 변조 소자(461)로부터 도출되어, 0차광(L2)은 소멸된다. 실제의 광 변조 소자(461)에서는, 가요 리본(461a)과 고정 리본(461b)의 높이의 차를 복수 종류로 변경함으로써 0차광(L2)의 강도가 복수 종류로 변경되고, 회절 격자를 이용한 다계조의 광 변조가 행해진다.4A and 4B are cross-sectional views of the
도 1에 나타낸 광 조사부(4)에서는, UV 광원(43)으로부터의 광이 광원 광학계(42)에 의해 선형상 광(광속 단면이 선형상인 광)이 되고, 출사부(45)를 통해 공간 광 변조기(46)의 라인형상으로 배열된 복수의 가요 리본(461a) 및 고정 리본(461b)(도 4a 및 도 4b 참조) 상에 조사된다. 광 변조 소자(461)에서는, 인접하는 각 1개의 가요 리본(461a) 및 고정 리본(461b)을 1개의 리본 쌍으로 하면, 3개 이상의 리본 쌍이 묘화되는 패턴의 하나의 화소에 대응한다. 물론, 광 변조 소자(461)가 1개의 기본 쌍이고, 1개의 리본 쌍이 1개의 화소에 대응하고 있어도 된다.In the
광 변조 소자(461)에서는, 각 공간 광 변조기(46)에 접속되는 변조기 제어부(60)로부터의 신호에 의거하여 패턴의 각 화소에 대응하는 리본 쌍의 가요 리본(461a)이 각각 제어되고, 각 화소에 대응하는 리본 쌍이 복수 종류의 출력 광량(강도)의 0차광을 출사하는 복수 상태의 사이에서 천이 가능하게 된다. 광 변조 소자(461)로부터 출사되는 0차광은 광학계(47)로 인도되고, 비0차 회절광(주로 1차 회절광((+1)차 회절광 및 (-1)차 회절광))은 광학계(47)와는 상이한 방향으로 인도된다. 또한, 미광(迷光)이 되는 것을 방지하기 위해 1차 회절광은 도시를 생략하는 차광부에 의해 차광된다.In the
광 변조 소자(461)로부터의 0차광은, 광학계(47)를 통해 기판(9)의 상면(91)으로 인도되고, 이에 의해, 기판(9)의 상면(91) 상에 있어서 X방향(즉, 부주사 방향)으로 나열되는 복수의 조사 위치의 각각에 변조된 광이 조사된다. 이상과 같이, 광 변조 소자(461)의 각 화소에 대응하는 리본 쌍은 다계조(기판(9) 상에 묘화용의 광이 조사되지 않는 계조를 포함한다)로 기판(9) 상에 광을 조사하는 것이 가능해진다.Zero-order light from the
도 1 및 도 2에 나타낸 화상 기록 장치(1)에서는, 유지부 이동 기구(2)의 주주사 기구(25)에 의해 주주사 방향으로 이동되는 기판(9)에 대해, 광 조사부(4)의 광 변조 소자(461)로부터 변조된 광이 조사된다. 바꿔 말하면, 주주사 기구(25)는, 광 변조 소자(461)로부터 기판(9)으로 인도된 광의 기판(9) 상에 있어서의 조사 영역의 위치(즉, 조사 위치)를, 기판(9)에 대해 상대적으로 또한 연속적으로 주주사 방향으로 이동하는 조사 위치 이동 기구로 되어 있다. 또한, 화상 기록 장치(1)에서는, 기판(9)을 이동하지 않고, 광학 헤드(41)가 주주사 방향으로 이동함으로써 기판(9) 상의 조사 위치가 주주사 방향으로 이동되어도 된다. 화상 기록 장치(1)에서는, 제어부(6)의 변조기 제어부(60)에 의해, 광 변조 소자(461)로부터의 광의 변조가 제어됨으로써, 기판(9)으로의 기록 대상인 화상(이하, 「대상 화상 」이라고 한다)을 나타내는 패턴이 기판(9) 상에 기록된다.In the
도 5는 변조기 제어부(60)의 일부의 구성을 도시한 도면이고, 변조기 제어부(60)에 있어서의 각 광 변조 소자(461)의 구동에 관련된 요소(이하, 「소자 구동 요소(61)」라고 한다)의 일부를 나타내고 있다. 소자 구동 요소(61)는, 레지스터(610, 611), 시프트부(616) 및 D/A 컨버터(612), 및 D/A 컨버터(612)로부터의 출력을 광 변조 소자(461)의 실제의 구동 전압(이하, 「실구동 전압」이라고 한다)으로 변환하는 회로를 갖고, 시프트부(616)는 레지스터(613), 카운터(614) 및 콤퍼레이터(615)를 갖는다.FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a part of the
변조기 제어부(60)는 도시 생략의 클럭 발생부를 더 구비하고, 클럭 발생부에는 주주사 기구(25)의 리니어 스케일로부터의 신호가 입력된다. 그리고, 도 6의 상단에 나타낸 바와 같이, 기판(9) 상에 있어서의 각 광 변조 소자(461)로부터의 광의 조사 위치가 일정한 거리(후술의 화상 기록 시에 설정되는 거리이고, 이하, 「설정 거리」라고도 한다)만큼 주주사 방향(Y방향)으로 이동할 때마다 클럭 발생부에서 베이스 클럭(303)이 발생하며, 도 5에 나타낸 레지스터(610), 및 시프트부(616)의 레지스터(613) 및 카운터(614)에 입력된다. 도 5에서는, 부호 303을 붙인 화살표로 레지스터(610, 613) 및 카운터(614)에 순차적으로 입력되는 베이스 클럭을 나타내고 있다(후술의 딜레이 클럭(304), 구동 전압 데이터(301), 시프트 딜레이수 데이터(302) 및 시프트된 클럭(305)에 있어서 동일).The
또, 클럭 발생부에서는, 도 6의 중단에 나타낸 바와 같이, 설정 거리를 소정수로 등분할한 거리(예를 들면, 10나노미터(nm))만큼 기판(9) 상의 조사 위치가 이 동할 때마다 딜레이 클럭(304)이 발생하고, 카운터(614)에 입력된다. 또한, 주주사 기구(25)에 의한 기판(9)의 주주사 방향으로의 이동 속도는 거의 일정하므로, 도 6의 상단 및 중단의 각각에서는, 가로축을 시간으로 간주하는 것도 가능하다(후술의 도 9, 도 14 내지 도 16, 도 18, 도 19, 도 22 및 도 23에 있어서 동일).In addition, when the clock generation unit moves the irradiation position on the
도 5의 레지스터(610)에는 실구동 전압이 시간과 함께 점차 변화하여 최종적으로 도달하는 목표가 되는 전압(이하, 「목표 구동 전압」이라고 한다)을 나타내는 구동 전압 데이터(301)가 베이스 클럭(303)에 응답하여 순차적으로 입력됨과 더불어, 베이스 클럭(303)에 동기하여 레지스터(610)로부터 구동 전압 데이터(301)가 레지스터(611)에 출력된다. 또, 시프트부(616)의 레지스터(613)에는 광 변조 소자(461)의 동작 위치(동작 타이밍)를 조정하기 위해 이용되는 시프트 딜레이수 데이터(302)가 베이스 클럭(303)에 응답하여 순차적으로 입력된다.In the
콤퍼레이터(615)에는, 베이스 클럭(303)에 동기하여 레지스터(613)로부터 시프트 딜레이수 데이터(302)가 입력된다. 그리고, 딜레이 클럭(304)이 카운터(614)에 입력될 때마다, 카운터(614)에 있어서의 딜레이 클럭(304)의 카운트수가 콤퍼레이터(615)에 출력되며, 시프트 딜레이수 데이터(302)가 나타내는 값과 카운터(614)로부터의 카운트수가 일치하면, 베이스 클럭(303)에 대해 지연된 클럭(이하, 「시프트된 클럭」)(305)이 콤퍼레이터(615)로부터 레지스터(611)로 출력된다. 이에 의해, 레지스터(611)로부터 D/A 컨버터(612)를 경유하여 구동 전압 데이터(301)의 아날로그 신호가 출력된다. 또한, 카운터(614)에 있어서의 딜레이 클럭(304)의 카운트수는 베이스 클럭(303)이 입력될 때마다 리셋된다.The shift
시프트된 클럭(305)마다의 구동 전압 데이터(301)는 광 변조 소자(461)를 1회 구동할 때의 목표 구동 전압에 대응하고 있고, D/A 컨버터(612)로부터의 출력은 전류원(51)에 입력되어 전류로 또한 변환된다. 전류원(51)은 일단이 저항(52)을 통해 고전위(Vcc)측에 접속되고, 타단이 접지된다.The
전류원(51)의 양단은, 접속 패드(53)를 통해 광 변조 소자(461)의 가요 리본(461a) 및 기준면(461c)에 접속된다. 따라서, 구동 전압 데이터(301)가 D/A 컨버터(612) 및 전류원(51)을 통해 전류로 변환되면, 저항(52)에 의한 전압 강하에 의해 양 접속 패드(53) 사이의 실구동 전압으로 변환된다. 이상과 같이, 소자 구동 요소(61)는, 딜레이 클럭(304)에 대응하는 거리를 최소 분해능으로 하면서, 시프트 딜레이수 데이터(302)에 의거하여 광 변조 소자(461)의 동작 위치를 베이스 클럭(303)에 대응하는 위치로부터 시프트시키는(조정하는) 것이 가능하게 되어 있다.Both ends of the
또한, 접속 패드(53) 사이는 부유 용량을 가지므로, 접속 패드(53) 사이의 실제의 구동 전압(실구동 전압)은 접속 패드(53) 사이의 시정수에 따른 변화를 행하여, 시간과 함께 목표 구동 전압으로 향한다.In addition, since the
도 7은 변조기 제어부(60)의 구성을 도시한 블록도이다. 변조기 제어부(60)는, 앞서 기술한 소자 구동 요소(61)에 더하여, 각종 연산을 행하는 CPU 및 각종 정보를 기억하는 메모리를 갖는 주연산부(62) 및 프로그래밍 가능한 전자 회로인 FPGA(Field Programmable Gate Array) 제어 요소(63)(도 7 중에서 파선의 블록으로 나타낸다)를 구비한다. 실제로는, 변조기 제어부(60)에는, 각 광 변조 소자(461) 에 대해 1개의 소자 구동 요소(61) 및 1개의 FPGA 제어 요소(63)가 설치되지만, 도 7에서는 1개의 광 변조 소자(461)에 대응하는 소자 구동 요소(61) 및 FPGA 제어 요소(63)만을 도시하고 있다.7 is a block diagram showing the configuration of the
주연산부(62)는, 화상 기록 시에 이용되는 각종 테이블을 생성하는 테이블 생성부(622) 및 후술의 테이블 생성 시에 테이블의 생성에 관련된 조건을 검출하는 시프트량 초과 검출부(621)를 구비한다. FPGA 제어 요소(63)에서는, 대상 화상의 변경(화소의 가공)에 이용되는 화소 가공 테이블(6311)을 기억하는 메모리(631), 화소 가공 테이블(6311)을 이용하여 대상 화상의 화소의 화소치를 변경하는 화소열 가공부(632) 및 변경 후의 화상을 소자 구동 요소(61)용의 데이터 포맷으로 변환하는 출력 데이터 생성부(633)의 기능이 실현된다.The
또, 각 소자 구동 요소(61)는, 시프트 딜레이수 데이터(302)를 취득하는 수정 시프트량 취득부(618), 구동 전압 데이터(301)를 취득하는 구동 전압 취득부(619) 및 메모리(617)를 갖고, 광 변조 소자(461)마다 준비되는 후술의 수정 시프트량 테이블(6171), 모든 광 변조 소자(461)에서 공통의 기준 위치 어드레스 테이블(6172) 및 묘화 시의 복수 계조의 출사 광량에 대응하는 목표 구동 전압을 나타내는 구동 전압 테이블(6173)이 주연산부(62)로부터 메모리(617)에 입력되어 기억된다.Each
여기에서, 화상 기록 장치(1)에 있어서의 기록 대상인 대상 화상에서는, 주주사 방향에 대응하는 열 방향 및 부주사 방향에 대응하는 행 방향으로 복수의 화소가 배열되어 있고, 후술의 화상 기록(패턴 묘화)에서는, 열 방향으로 나열되는 복수의 화소를 화소열로 하여, 각 광 변조 소자(461)에 의해 1개의 화소열에 대한 묘화가 행해진다. 또, 각 화소열은, 각각이 열 방향으로 연속하여 동일한 화소치를 갖는 복수의 화소군의 집합이 되고(즉, 각 화소열은 각각이 2 이상의 화소의 집합인 복수의 화소군으로 구성되고), 화소열에 있어서 인접하는 2개의 화소군의 사이의 위치가, 광 변조 소자(461)로부터 조사 영역에 조사되는 출력 광량의 천이를 나타내는 변화점이 된다. 본 실시 형태에서는, 대상 화상이 1 내지 4의 4값의 화상인 것으로 하지만, 물론, 5 이상의 계조 레벨을 갖는 화상, 혹은, 2 또는 3의 계조 레벨을 갖는 화상이어도 된다.Here, in the target image which is the recording target in the
각 광 변조 소자(461)의 소자 구동 요소(61)에 접속되는 화소열 가공부(632)에는, 당해 광 변조 소자(461)에 대응하는 화소열의 데이터(이하, 「화소열 데이터」라고 한다)(691)가 런렝스 데이터로서 입력되고, 후술하는 바와 같이 화소 가공 테이블(6311)을 이용하여 화소열 데이터(691)가 가공된다. 그리고, 출력 데이터 생성부(633)에서는, 가공 후의 화소열 데이터(691)가 소자 구동 요소(61)용의 데이터 포맷으로 변환되고, 베이스 클럭(303)이 발생할 때마다 변환 화소 데이터(692)로서 소자 구동 요소(61)에 순차적으로 출력된다.In the pixel
여기에서, 베이스 클럭(303)을 나타내는 도 6의 상단 및 1개의 화소열의 화소를 나타내는 도 6의 하단과 같이, 화상 기록 장치(1)에서는, 인접하는 2개의 베이스 클럭(303) 사이의 기간(이하, 「베이스 클럭 기간」이라고 한다)에 있어서, 대상 화상의 각 화소열에 있어서의 2 이상의 화소(71)(도 6의 하단의 예에서는 4개의 화소(71))가 묘화 제어의 대상이 된다. 바꿔 말하면, 베이스 클럭 기간에서 묘 화 제어의 대상이 되는 화소의 개수를 베이스 클럭간 화소수로 하고, 베이스 클럭 기간에 있어서 광 변조 소자(461)로부터의 광의 조사 위치가 주주사 방향으로 이동하는 설정 거리는, 베이스 클럭간 화소수의 화소(71)에 상당하는 거리(도 6의 상단에서 부호 W를 붙인 화살표로 나타낸 거리)가 된다. 이하의 설명에서는, 도 6의 상단 및 하단에 있어서, 대상 화상의 각 화소(71)의 선두에 대응하는 주주사 방향의 위치(부호 A1을 붙인 화살표료 나타낸 위치)를 당해 화소의 「기준 위치」라고 하고, 인접하는 2개의 기준 위치간의 거리(즉, 설정 거리를 베이스 클럭간 화소수로 나눈 거리이고, 묘화에 있어서의 논리적인 최소 분해능으로 간주할 수 있다)를 「기준 거리」라고 한다. 도 6의 하단에서는, 기준 거리를 부호 T를 붙인 화살표로 나타내고 있다.Here, in the
또, 화상 기록 장치(1)에서는, 도 5에 나타낸 소자 구동 요소(61)의 구성에 있어서 시프트된 클럭(305)이 베이스 클럭 기간에서 한번만 출력되므로, 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이는, 베이스 클럭 기간에서 한번만 가능하게 되어 있으며, 베이스 클럭(303)에 따라 출력되는 변환 화소 데이터(692)는, 도 8에 나타낸 바와 같이, 베이스 클럭 기간에 있어서의 베이스 클럭간 화소수의 화소에 있어서, 직전의 화소로부터 화소치가 변화하는 화소의 번호 및 당해 화소의 화소치(이하, 각각 「변화 화소 번호」 및 「변화 후 화소치」라고 한다)를 나타내는 것으로 되어 있다.In the
예를 들면, 베이스 클럭간 화소수가 4이고, 도 9의 최하단에 나타낸 바와 같이, 어떤 베이스 클럭 기간에 있어서의 4개의 화소(71)(도 9의 최하단에 있어서 굵 은 선의 직사각형으로 둘러싸인 화소(71))에 있어서, 3번째의 화소(71)와 4번째의 화소(71)의 사이에서 화소치가 1에서 2로 변화하는 경우에는(도 9의 최하단에 있어서 화소치가 1인 화소(71)를 백색으로 나타내고, 화소치가 2인 화소(71)에 평행 사선을 긋는다. 도 9의 아래에서부터 2 내지 5단째, 및 도 14 내지 도 16, 도 18, 도 19에 있어서 동일), 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는 각각 4 및 2가 되고, 도 9의 아래에서부터 2단째에 나타낸 바와 같이, 2번째의 화소(71)와 3번째의 화소(71)의 사이에서 화소치가 1에서 2로 변화하는 경우에는, 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는 각각 3 및 2가 되며, 도 9의 아래에서부터 3단째에 나타낸 바와 같이, 1번째의 화소(71)와 2번째의 화소(71)의 사이에서 화소치가 1에서 2로 변화하는 경우에는, 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는 모두 2가 된다.For example, the number of pixels between base clocks is 4, and as shown in the lowermost part of FIG. 9, the four
또, 도 9의 아래에서부터 4단째에 나타낸 바와 같이, 1번째의 화소(71)와 직전의 베이스 클럭 기간에 있어서의 4번째의 화소(71)의 사이에서 화소치가 1에서 2로 변화하는 경우에는, 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는 각각 1 및 2가 되고, 도 9의 아래에서부터 5단째(위에서부터 2단째)에 나타낸 바와 같이, 화소치가 변화하는 화소(71)가 존재하지 않는 경우에는, 변화 화소 번호는 1이 되며, 변화 후 화소치는 직전의 베이스 클럭 기간에 있어서의 마지막 화소의 화소치와 동일해진다. 또한, 변화 화소 번호는, 기준 거리(T)를 단위로 하는 논리적인 좌표치로 간주할 수 있다.As shown in the fourth column from the bottom of Fig. 9, when the pixel value changes from 1 to 2 between the
도 10은 기준 위치 어드레스 테이블(6172)을 도시한 도면이다. 도 10에 나타낸 기준 위치 어드레스 테이블(6172)은, 직전의 베이스 클럭(303)이 발생한 위치 에서부터 1 내지 4번째의 화소의 각각에 대한 기준 위치까지의 주주사 방향의 거리(이하, 「기준 위치 어드레스」라고 한다)를 딜레이 클럭(304)의 카운트수로서 나타내는 테이블로 되어 있다(도 9의 최상단 참조). 도 10에서는, 1 내지 4번째의 화소의 기준 위치 어드레스를 각각 「제1 기준 위치 어드레스」, 「제2 기준 위치 어드레스」, 「제3 기준 위치 어드레스」, 「제4 기준 위치 어드레스」로 기재하고 있다.10 is a diagram showing a reference position address table 6172. The reference position address table 6172 shown in FIG. 10 shows a distance in the main scanning direction from a position where the
도 11은 수정 시프트량 테이블(6171)을 도시한 도면이다. 수정 시프트량 테이블(6171)은, 후술의 보정 테이블을 수정함으로써 생성되는 것이고, 복수 종류의 2개의 화소치의 조합의 각각에 대해 시프트량(후술의 보정 테이블로부터 인도되는 값을 수정(변경)함으로써 얻어지는 값이고, 이하, 「수정 시프트량」이라고 한다)을 나타내는 것으로 되어 있으며, 실제로는, 수정 시프트량은 딜레이 클럭(304)의 카운트수로 표시되어 있다. 도 11에서는, 화소치 M과 화소치 N의 조합에 대한 수정 시프트량을 「화소치 M→N 변화 시 수정 시프트량」으로 기재하고 있다(단, M, N은 1 내지 4). 또한, 수정 시프트량은, 인접하는 2개의 기준 위치 사이의 거리(즉, 기준 거리(T))에 상당하는 카운트수보다 작다.11 is a diagram showing a correction shift amount table 6171. The correction shift amount table 6171 is generated by modifying the correction table described later, and is obtained by correcting (changing) the shift amount (the value delivered from the correction table described later) for each of a combination of two types of two pixel values. Value, hereinafter referred to as " correction shift amount ", and in practice, the correction shift amount is represented by the count number of the
도 7의 수정 시프트량 취득부(618)에서는, 출력 데이터 생성부(633)로부터 베이스 클럭(303)마다 입력되는 변환 화소 데이터(692)의 변화 화소 번호를 이용하여 도 10의 기준 위치 어드레스 테이블(6172)을 참조함으로써, 1개의 기준 위치 어드레스가 특정된다. 또, 수정 시프트량 취득부(618)에서는, 직전의 베이스 클럭(303)에서 입력된 변환 화소 데이터(692)의 변화 후 화소치가 기억되어 있고, 직 전의 변화 후 화소치 및 금회의 변화 후 화소치를 이용하여 도 11의 수정 시프트량 테이블(6171)을 참조함으로써, 1개의 수정 시프트량이 특정된다. 그리고, 특정된 기준 위치 어드레스 및 수정 시프트량(앞서 기술한 바와 같이, 양자는 딜레이 클럭(304)의 카운트수로서 표시되어 있다)을 가산한 값이 시프트 딜레이수로서 구해지고, 도 5의 시프트부(616)의 레지스터(613)에, 시프트 딜레이수 데이터(302)로서 입력된다.In the correction shift
도 12는 구동 전압 테이블(6173)을 도시한 도면이다. 구동 전압 테이블(6173)은 복수 종류의 화소치에 각각 대응하는 목표 구동 전압을 나타내는 테이블로 되어 있고, 도 7의 구동 전압 취득부(619)에서는, 변환 화소 데이터(692)의 변화 후 화소치를 이용하여 구동 전압 테이블(6173)을 참조함으로써, 변화 후 화소치에 대응하는 구동 전압이 특정된다. 도 12에서는, 변화 후 화소치 1 내지 4에 대응하는 구동 전압을 각각 「제1 계조 구동 전압」, 「제2 계조 구동 전압」, 「제3 계조 구동 전압」, 「제4 계조 구동 전압」으로 기재하고 있다. 특정된 구동 전압은 구동 전압 데이터(301)로서 도 5의 레지스터(610)에 입력된다.12 is a diagram showing a drive voltage table 6171. The driving voltage table 6173 is a table indicating target driving voltages corresponding to a plurality of types of pixel values, and the driving
이상과 같이 하여, 도 7의 소자 구동 요소(61)에 있어서 변환 화소 데이터(692)로부터 구동 전압 데이터(301) 및 시프트 딜레이수 데이터(302)가 생성됨으로써, 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량을 변화 후 화소치에 대응하는 계조로 천이시킴과 더불어, 그 천이 위치를 시프트(조정)하는 것이 가능해진다. 또한, 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)의 상세에 대해서는 후술한다.As described above, the
다음에, 화상 기록 장치(1)가 기판(9) 상에 화상을 기록하는 동작에 대해 도 13을 참조하면서 설명한다. 화상 기록 장치(1)에서는, 우선, 각 광 변조 소자(461)에 대해 보정 테이블이 조작자에 의해 준비되고, 도 7의 주연산부(62)에 입력된다(단계 S11). 또한, 도 7에서는 부호 681을 붙인 화살표로 보정 테이블을 나타내고 있다.Next, the operation of the
여기에서, 보정 테이블이란, 각 광 변조 소자(461)에 대응하는 화소열에 있어서의 각 변화점에 관해, 당해 변화점을 사이에 둔 2개의 화소군에 대응하는 기판(9) 상의 2개의 영역(2개의 화소군에 대응하는 패턴이 형성되는 2개의 영역)간의 경계의 주주사 방향의 위치 어긋남(즉, 묘화 어긋남)을 보정하기 위해, 당해 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트하는 시프트량을 나타내는 것이다. 묘화 어긋남의 원인으로서는, 휘어짐량이 변화할 때에 가요 리본(461a)의 상태가 안정될 때까지의 시간이, 당해 변화점을 사이에 둔 2개의 화소군의 화소치의 조합에 따라 상이한 것, 혹은, 당해 광 변조 소자(461)의 조사 영역의 주주사 방향의 길이나 위치(조사 위치)가 다른 광 변조 소자(461)와 상이한 것 등을 들 수 있다. 또한, 보정 테이블은, 예를 들면, 더미 기판에 부주사 방향으로 신장되는 패턴을 실제로 묘화하거나, 혹은, 스테이지(31) 상에 광 검출부를 설치하고, 모든 광 변조 소자(461)로부터의 광의 조사 영역의 주주사 방향의 길이나 위치를 측정함으로써 취득된다.Here, the correction table means two regions (1) on the
표 1에 나타낸 보정 테이블에서는, 주목하고 있는 주목 화소의 직전의(앞쪽에 인접한) 화소의 화소치와, 주목 화소의 화소치(표 1에 있어서, 각각 「직전의 화소치」 및 「현재의 화소치」라고 기재한다)의 모든 조합의 각각에 대해, 「표준 시프트량」, 「선폭 보정 시프트량」 및 「위치 보정 시프트량」이 설정되어 있다. 또한, 표 1에서는, 「직전의 화소치」 및 「현재의 화소치」가 1과 1의 조합, 1과 2의 조합, 2와 1의 조합, 2와 2의 조합인 경우만을 나타내고 있지만, 실제로는, 「직전의 화소치」 및 「현재의 화소치」의 각각이 3 및 4인 조합에 대해서도 「표준 시프트량」, 「선폭 보정 시프트량」 및 「위치 보정 시프트량」이 설정되어 있다.In the correction table shown in Table 1, the pixel value of the pixel immediately preceding (adjacent to) the pixel of interest and the pixel value of the pixel of interest (in Table 1, "the previous pixel value" and "the current pixel", respectively). "Standard shift amount", "line width correction shift amount" and "position correction shift amount" are set for each of all combinations). In addition, although Table 1 shows only the case where "the previous pixel value" and "the present pixel value" are a combination of 1 and 1, a combination of 1 and 2, a combination of 2 and 1, and a combination of 2 and 2, The "standard shift amount", the "line width correction shift amount", and the "position correction shift amount" are set also for the combination of "previous pixel value" and "current pixel value" of 3 and 4, respectively.
(표 1)(Table 1)
도 14는, 보정 테이블에 있어서의 표준 시프트량을 설명하기 위한 도면이다. 도 14의 상단은 베이스 클럭(303)을 나타내고, 중단은 목표 구동 전압을 나타내며, 하단은 화소열을 나타내고 있다. 여기에서는, 도 14의 상단 및 하단에 나타낸 바와 같이 베이스 클럭간 화소수가 4인 것으로 하고, 도 14의 상단에서는, 도 6의 상단과 동일하게, 설정 거리(W)를 베이스 클럭간 화소수로 나눈 기준 거리를 부호 T를 붙인 화살표로 나타내고 있다.14 is a diagram for explaining a standard shift amount in a correction table. The upper part of FIG. 14 shows the
표준 시프트량은, 상술한 묘화 어긋남을 보정할 필요가 없는 경우라도, 출력 광량의 천이 위치를 변화점에 대응하는 위치로부터 조사 위치의 기판(9)에 대한 상 대 이동 방향의 앞쪽(주주사 방향으로의 이동 시의 앞쪽이며, 도 14의 우측)으로 이동시키기 위한 것이다. 예를 들면, 도 14의 중단 및 하단에 나타낸 예에서는, 광 변조 소자(461)에 대한 목표 구동 전압을 화소치 1에 대응하는 제1 계조 구동 전압(V1)으로부터 화소치 2에 대응하는 제2 계조 구동 전압(V2)으로 변경하는 천이 위치가, 화소치 1의 백색 화소(71)로부터 평행 사선을 그은 화소치 2의 화소(71)로의 변화점의 위치(즉, 화소치 2의 화소군의 최초의 화소(71)의 기준 위치(A1a))에 대해, 표준 시프트량인 기준 거리(T)의 1/2배만큼 이동한다. 앞서 기술한 바와 같이, 모든 광 변조 소자(461)의 각각에 대해 보정 테이블이 개별적으로 준비되지만, 모든 보정 테이블의 모든 화소치의 조합에 있어서 표준 시프트량은 같아진다.Even if it is not necessary to correct the drawing shift mentioned above, the standard shift amount is the front of the relative movement direction with respect to the
도 15는, 보정 테이블에 있어서의 선폭 보정 시프트량을 설명하기 위한 도면이다. 선폭 보정 시프트량은, 인접하는 2개의 화소군의 화소치의 조합에 의존하는 묘화 어긋남을 보정하기 위한 것이고, 예를 들면, 변화점에 있어서 화소치가 1에서 2로 변화할 때에는, 표 1을 참조함으로써 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치(예를 들면, 출력 광량의 상승 시간에 의존하는 위치)를 기준 거리(T)의 1/3배만큼 조사 위치의 상대 이동 방향의 앞쪽으로 이동시키는 것을 나타내는 (+(1/3)T)가 특정되고, 이에 의해, 기판(9) 상에 있어서 화소치 1의 화소군에 대응하는 영역과 화소치 2의 화소군에 대응하는 영역의 경계 위치의 어긋남이 보정된다(즉, 화소군의 묘화 어긋남이 보정된다). 또, 변화점에 있어서 화소치가 2에서 1로 변화할 때에는, 표 1을 참조함으로써 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치(예를 들면, 출력 광량의 하강 시간에 의존하는 위치)를 기준 거리(T)의 1/3배만큼 조사 위치의 상대 이동 방향의 뒤쪽으로 이동시키는 것을 나타내는 (-(1/3)T)가 특정되고, 이에 의해, 기판(9) 상에 있어서 화소치 2의 화소군에 대응하는 영역과 화소치 1의 화소군에 대응하는 영역의 경계 위치의 어긋남이 보정된다.15 is a diagram for explaining a line width correction shift amount in a correction table. The line width correction shift amount is for correcting a writing shift that depends on the combination of pixel values of two adjacent pixel groups. For example, when the pixel value changes from 1 to 2 at the change point, the table 1 is referred to. The transition position of the output light quantity from the light modulation element 461 (for example, the position depending on the rise time of the output light quantity) is moved forward of the relative movement direction of the irradiation position by 1/3 times the reference distance T. (+ (1/3) T) indicating that the pattern is to be specified, whereby the boundary position of the region corresponding to the pixel group of
도 15의 위에서부터 2단째에는, 도 14의 중단에 있어서의 목표 구동 전압의 변화(도 15의 위에서부터 3단째에도 동일한 것을 파선으로 나타내고 있다. 후술의 도 16의 위에서부터 4단째에 있어서 동일)에 대해 표 1의 선폭 보정 시프트량에 의한 시프트를 더 추가한 것을 나타내고 있다. 여기에서는, 도 15의 최하단에 나타낸 바와 같이, 인접하는 3개의 화소군의 화소치가 1, 2, 1의 순서대로 변화하고, 중앙의 화소치 2의 화소군의 화소수가 5이므로, 도 15의 위에서부터 2단째에서 광 변조 소자(461)의 목표 구동 전압이 제2 계조 구동 전압(V2)인 거리는, 5개의 화소에 상당하는 거리(기준 거리(T)의 5배)보다 기준 거리(T)의 2/3배만큼 짧아지며, 이에 의해, 화소치 2의 화소군에 대응하는 기판(9) 상의 영역의 주주사 방향의 폭이 보정되게 된다. 이와 같이, 보정 테이블에 있어서의 선폭 보정 시프트량은, 실질적으로는, 각 화소치의 화소군에 대응하는 기판(9) 상의 영역의 주주사 방향의 폭(선폭)을 보정하기 위한 것으로 되어 있다.In the second stage from the top of Fig. 15, the change in the target drive voltage at the interruption in Fig. 14 (the same is shown in the third stage from the top of Fig. 15 by dashed lines. It shows that the shift by the linewidth correction shift amount of Table 1 was added further, Here, as shown in the lowermost part of FIG. 15, the pixel values of the adjacent three pixel groups change in the order of 1, 2, 1, and the number of pixels of the pixel group of the
도 16은, 보정 테이블에 있어서의 위치 보정 시프트량을 설명하기 위한 도면이다. 위치 보정 시프트량은, 광 변조 소자(461)의 조사 위치의 다른 광 변조 소자(461)와의 어긋남(주주사 방향의 어긋남)을 보정하기 위한 것이다. 위치 보정 시프트량은, 각 광 변조 소자(461)에 대해 개별적으로 설정되는 것이고, 2개의 화소의 화소치의 모든 조합에 대해 동일한 값이 설정되어 있다. 예를 들면, 도 15의 위에서부터 2단째에 나타낸 예에 있어서(도 16의 위에서부터 3단째에도 동일한 것을 한 점 쇄선으로 나타내고 있다), 또한, 표 1의 위치 보정 시프트량 (+(1/3)T)에 의한 시프트를 추가하면, 변화점에 있어서 화소치가 1에서 2로 변화하는 경우 및 변화점에 있어서 화소치가 2에서 1로 변화하는 경우의 어디에 있어서나, 도 16의 위에서부터 2단째에 나타낸 바와 같이, 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치가 기준 거리(T)의 1/3배만큼 조사 위치의 상대 이동 방향의 앞쪽((+Y)측)으로 더 이동하게 된다.It is a figure for demonstrating the position correction shift amount in the correction table. The position correction shift amount is for correcting the deviation (deviation in the main scanning direction) of the irradiation position of the
이 경우, 광 변조 소자(461)의 목표 구동 전압을 제1 계조 구동 전압(V1)으로부터 제2 계조 구동 전압(V2)으로 변경하는 위치(즉, 출력 광량의 천이 위치)가, 도 16의 최하단에 나타낸 화소열에 있어서의 화소치 1의 화소(71)로부터 화소치 2의 화소(71)로의 변화점의 위치(화소(71a)의 기준 위치(A1a))에 대해, 기준 거리(T)보다 크고 또한 기준 거리(T)의 2배 이하의 거리만큼 이동하며, 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치의 시프트량이 1화소에 상당하는 거리를 넘는다. 이에 의해, 화소치 1의 화소(71)로부터 화소치 2의 화소(71)로의 변화점(기준 위치(A1a))에 대한 출력 광량의 천이 타이밍이, 당해 변화점이 속하는 베이스 클럭 기간의 다음의 베이스 클럭 기간에 포함되어 버린다. 앞서 기술한 바와 같이, 도 5의 카운터(614)에 있어서의 딜레이 클럭(304)의 카운트수는 베이스 클럭(303)이 입력될 때마다 리셋되므로, 도 1의 화상 기록 장치(1)에서는, 도 16의 최하단에 나타낸 화소열에 의거하여 도 16의 위에서부터 2단째에 나타낸 바와 같은 목표 구동 전압의 변경을 행할 수는 없다.In this case, the position (that is, the transition position of the output light quantity) of the target driving voltage of the
그래서, 이하의 설명에서 상술하는 바와 같이, 화상 기록 장치(1)에서는, 도 16의 최하단에 있어서 굵은 선의 직사각형으로 둘러싸인 화소(71a)의 화소치를 0으로 변경함으로써, 화소치 1로부터 화소치 2로의 변화점을 1화소분만큼 이동(지연)시키는 처리가 행해짐과 더불어, 이동 후의 변화점에 대해 수정된 시프트량을 구하는 처리가 행해진다.Therefore, as described in detail below, in the
화상 기록 장치(1)에 있어서 보정 테이블이 준비되면, 도 7의 주연산부(62)에 의해 화상 기록 동작에서 채용하는 베이스 클럭간 화소수(또는, 설정 거리)가 결정되고(단계 S12), 당해 베이스 클럭간 화소수가 출력 데이터 생성부(633)에 입력됨과 더불어, 당해 베이스 클럭간 화소수에 따른 기준 위치 어드레스 테이블(6172)이 소자 구동 요소(61)에 입력된다. 실제로는, 단계 S12의 처리는, 화상 기록 장치(1)에 대해 미리 설정되어 있는 베이스 클럭간 화소수(이하, 「초기 베이스 클럭간 화소수」라고 한다)를 변경하는지의 여부가 확인되고, 변경하는 것이 확인된 경우에, 실제로 사용하는 베이스 클럭간 화소수를 결정하는 처리로 되어 있으며, 여기에서는, 초기 베이스 클럭간 화소수가 5로서 설정되어 있고, 소정의 처리에 의해 4로 변경되는 것으로 한다. 단계 S12의 처리의 상세에 대해서는 후술한다.When the correction table is prepared in the
이어서, 주연산부(62)에서는, 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)의 생성에 따른 처리가 행해진다. 우선, 도 7의 시프트량 초과 검출부(621)에서는, 표 1에 있어서의 2개의 화소치의 각 조합에 있어서 표준 시프트량, 선폭 보정 시프트량 및 위치 보정 시프트량을 가산함으로써, 표 2에 나타낸 바와 같이 합계 시프트량이 구해진다(단계 S13).Subsequently, in the
(표 2)(Table 2)
이어서, 상이한 2개의 화소치의 모든 조합(표 2에서는, 화소치 1과 화소치 2의 조합 및 화소치 2와 화소치 1의 조합)에 있어서 합계 시프트량이 1화소에 상당하는 기준 거리(T)를 넘는 것이 존재하는지의 여부가 확인된다. 여기에서는, 직전의 화소치 및 현재의 화소치가 각각 1 및 2인 조합만에 있어서, 합계 시프트량이 기준 거리(T)의 (+7/6)배가 되어 기준 거리(T)의 1배보다 크고 또한 2배 이하가 되는 것이 확인된다. 그리고, 테이블 생성부(622)에서는, 직전의 화소치 및 현재의 화소치가 각각 1 및 2인 조합에 있어서 「화소 가공수」를 (+1)로 하고, 다른 조합에 있어서 「화소 가공수」를 0으로 하여, 표 3에 나타낸 화소 가공 테이블(6311)이 생성된다.Subsequently, in all combinations of two different pixel values (in Table 2, the combination of
(표 3)(Table 3)
화소 가공수는, 인접하는 2개의 화소군의 사이의 변화점의 이동량을 나타내는 것이고, 표 3의 화소 가공 테이블(6311)에서는, 화소치 1로부터 화소치 2로 변화하는 변화점에 대해 화소 가공수가 (+1)이 됨으로써, 당해 변화점을 1화소분만큼 지연시키는 화소열의 가공이 지시되며, 다른 화소치의 조합에 대해서는 화소 가공수가 0이 됨으로써 화소의 가공을 행하지 않는 것이 지시되게 된다. 화소 가공 테이블(6311)은, 도 7의 FPGA 제어 요소(63)의 메모리(631)에 입력되어 기억된다(단계 S14). 또한, 합계 시프트량이 기준 거리(T)의 α배(단, α는 1 이상의 정수)보다 크고 또한 (α+1)배 이하가 되는 경우에는, 화소 가공수는 α가 된다.The pixel processing number indicates the amount of shift of the change point between two adjacent pixel groups, and in the pixel processing table 6311 of Table 3, the pixel processing number is used for the change point that changes from the
테이블 생성부(622)에서는, 합계 시프트량이 기준 거리(T)보다 커져 화소 가공수가 0 이외가 된 화소치의 조합에 있어서, 대응하는 화소 가공수에 기준 거리(T)를 곱한 값이 구해지고, 합계 시프트량으로부터 당해 값을 뺀 값(즉, 기준 거리(T)의 β배로서 표시되는 합계 시프트량에 있어서의 β의 소수부에 기준 거리(T)를 곱한 값)이 수정 시프트량으로서 구해진다. 또, 합계 시프트량이 기준 거리(T)보다 작은 화소치의 조합에 대해서는 합계 시프트량이 그대로 수정 시프트량이 된다. 따라서, 표 2의 예에서는, 직전의 화소치 및 현재의 화소치가 각각 1 및 2인 조합에 있어서 수정 시프트량이 기준 거리(T)의 (+1/6)배가 되고, 다른 화소치의 조합에 대해서는 합계 시프트량이 그대로 수정 시프트량이 되어, 표 4에 나타낸 수정 시프트량 테이블(6171)이 생성된다. 수정 시프트량 테이블(6171)은 도 7의 소자 구동 요소(61)의 메모리(617)에 입력되어 기억된다(단계 S15). 또한, 동일한 2개의 화소치의 조합에 있어서 합계 시프트량이 기준 거리(T)를 넘는 것이 존재하는 경우에는, 기준 거리(T)의 β배로서 표시되는 합계 시프트량에 있어서의 β의 소수부에 기준 거리(T)를 곱한 값이 수정 시프트량이 된다. 또, 실제로는, 수정 시프트량은, 딜레이 클럭(304)의 분해능에 상당하는 시프트량의 정수배에 가까운 값으 로 변경되고, 앞서 기술한 바와 같이, 딜레이 클럭(304)의 카운트수인 시프트 딜레이수를 소자 구동 요소(61)에서 부여하는 것이 가능해지고 있다.In the
(표 4)(Table 4)
이상과 같이 하여, 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)이 준비되면, 기판(9)의 주주사 방향으로의 일정 속도로의 이동이 개시됨과 더불어(단계 S16), 제어부(6)가 갖는 도시 생략의 화상 메모리에 기억된 대상 화상의 데이터가 변조기 제어부(60)에 입력된다. 앞서 기술한 바와 같이, 도 7의 변조기 제어부(60)에서는, 각 화소열 가공부(632)에 대응하는 화소열 데이터(691)가 입력된다.As described above, when the pixel processing table 6311 and the correction shift amount table 6171 are prepared, the movement of the
화소열 가공부(632)에서는, 도 16의 최하단에 나타낸 바와 같이, 인접하는 3개의 화소군의 화소치가 각각 1, 2, 1인 경우, 최초의(도 16의 좌측의) 화소치 1의 백색 화소군과 화소치 2의 평행 사선을 그은 화소군의 사이의 변화점에 대한 화소 가공수는 표 3의 화소 가공 테이블(6311)을 참조함으로써 (+1)로서 구해지고, 화소치 2의 화소군의 최초의 화소(71a)의 화소치가 1로 변경되어 변화점이 이동(지연)된다. 또, 화소치 2의 화소군과 다음의(도 16의 우측의) 화소치 1의 화소군의 사이의 변화점에 대한 화소 가공수는 0으로서 구해지고, 변화점의 이동은 행해지지 않는다. 또한, 표 3에 나타낸 바와 같이 동일한 화소치를 갖는 화소(71)의 사이에 서는 화소 가공수는 0이 되고, 화소의 가공은 행해지지 않으므로, 화소 가공수는 변화점에 대해서만 영향을 주는 것이 된다.In the pixel
실제로는, 화소열 가공부(632)에서는, 도 17에 나타낸 바와 같이 런렝스 데이터로서 입력되는 화소열의 데이터에 있어서 런렝스의 길이를 변경함으로써, 변화점의 이동이 행해진다. 도 17에서는, 1개의 런렝스를 직사각형(부호 690a, 690b, 690c를 붙인다)으로 도시하고 있다.In practice, the pixel
도 17 중에서 「DATA(n)」이라고 기재한 런렝스(690b)와 직후의 「DATA(n+1)」이라고 기재한 런렝스(690c)의 사이의 위치인 변화점(이하, 「주목 변화점」이라고 한다)에 주목한 경우, 우선, 런렝스(690b)의 화소치 및 직후의 런렝스(690c)의 화소치를 이용하여 화소 가공 테이블(6311)을 참조함으로써 주목 변화점에 대한 화소 가공수가 구해진다. 화소열 가공부(632)에는, 표 5에 나타낸 화소열 데이터(691)의 수정 조건이 미리 기억되어 있고, 예를 들면 런렝스(690b)의 직전의 「DATA(n-1)」이라고 기재한 런렝스(690a)와 런렝스(690b)의 사이의 변화점에 대해 구해진 화소 가공수(표 5 중에서 「DATA(n-1)」에 대한 화소 가공수」라고 기재한다)가 0이고, 주목 변화점에 대해 구해지는 화소 가공수(표 5 중에서 「DATA(n)에 대한 화소 가공수」라고 기재한다)도 0인 경우에는, 런렝스(690b)의 길이의 변경량(표 5 중에서 「DATA(n)에 대한 실제 가공」이라고 기재한다)은 0이 된다.The change point which is a position between the
(표 5)(Table 5)
표 5에 나타낸 바와 같이, 런렝스(690a)와 런렝스(690b)의 사이의 변화점에 대해 구해진 화소 가공수가 0이고, 주목 변화점에 대해 구해지는 화소 가공수가 (+1)인 경우에는, 런렝스(690b)의 길이의 변경량이 (+1)이 된다(즉, 런렝스(690b)가 1화소만큼 길어진다). 또, 런렝스(690a)와 런렝스(690b)의 사이의 변화점에 대해 구해진 화소 가공수가 (+1)이고, 주목 변화점에 대해 구해지는 화소 가공수가 0인 경우에는, 런렝스(690a)가 (+1)만큼 신장됨으로써, 주목 변화점이 1화소만큼 지연되어 있으므로, 런렝스(690b)의 길이의 변경량이 (-1)이 된다(즉, 런렝스(690b)가 1화소만큼 짧아진다). 또한, 런렝스(690a)와 런렝스(690b)의 사이의 변화점에 대해 구해진 화소 가공수가 (+1)이고, 주목 변화점에 대해 구해지는 화소 가공수가 (+1)인 경우에는, 런렝스(690a)가 (+1)만큼 신장됨으로써, 주목 변화점이 1화소만큼 이미 지연되어 있으므로, 런렝스(690b)의 길이의 변경량이 0이 된다.As shown in Table 5, when the pixel processing number obtained for the change point between the run length 690a and the
도 16의 최하단에 나타낸 예에 있어서, 인접하는 3개의 화소군 중 중앙의 화소군의 화소수(런렝스의 길이)가 5인 경우에는, 최초의(도 16의 좌측의) 화소치 1의 백색 화소군과 화소치 2의 평행 사선을 그은 화소군의 사이의 변화점에 대한 화 소 가공수가 (+1)이고, 화소치 2의 화소군과 다음의(도 16의 우측의) 화소치 1의 화소군의 사이의 변화점에 대한 화소 가공수가 0임으로써, 화소치 2의 화소군의 화소수(런렝스의 길이)의 변경량은 (-1)이 되고, 화소치 2의 화소군의 화소수가 4로 변경된다.In the example shown in the lowermost part of FIG. 16, when the number of pixels (the length of run length) of the center pixel group among three adjacent pixel groups is 5, the white of the first pixel value 1 (left side of FIG. 16) is white. The pixel processing number of the point of change between the pixel group and the pixel group in which the
이상과 같이, 화상 기록 장치(1)에서는, 대상 화상 데이터가 런렝스 데이터로서 화소열 가공부(632)에 입력되고, 각 변화점을 이동할 때에, 런렝스 데이터의 런렝스의 길이를 변경함으로써, 변화점의 이동이 용이하게 행해지고, 화소열 데이터(691)가 가공된다(단계 S17). 화소열 가공부(632)의 설계에 따라서는, 대상 화상의 데이터는 런렝스 데이터 이외의 형식으로 표시되어 있어도 된다.As described above, in the
화소열 가공부(632)에 있어서의 화소열 데이터의 가공에 병행하여, 가공 후의 화소열 데이터(의 부분)는, 출력 데이터 생성부(633)에서 복호화되어 베이스 클럭간 화소수마다 구분되고, 앞서 기술한 바와 같이, 베이스 클럭간 화소수의 화소에 있어서 직전의 화소로부터 화소치가 변화하는 화소의 번호 및 당해 화소의 화소치(즉, 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치)를 나타내는 변환 화소 데이터(692)가 생성된다.In parallel with the processing of the pixel string data in the pixel
예를 들면, 도 16의 최하단에 있어서, 화소(71a)의 화소치가 화소열 가공부(632)의 처리에 의해 1로 변경되어 있는(백색 화소로 되어 있는) 것으로 하고, 베이스 클럭(303a)에 대응하는 묘화 시에 참조되는 변환 화소 데이터(692)의 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는, 베이스 클럭(303a, 303b)간의 4개의 화소(71)에 있어서의 변화점의 부존재에 의해 모두 1이 된다(앞서 기술한 바와 같이, 변화점이 존재하지 않는 경우도 변화 화소 번호는 1이 되고, 변화 후 화소치는 직전의 베이스 클럭 기간에 있어서의 마지막 화소의 화소치와 동일해진다). 또, 베이스 클럭(303b)에 대응하는 묘화 시에 참조되는 변환 화소 데이터(692)의 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는, 베이스 클럭(303b, 303c)간의 4개의 화소(71) 중 최초의 화소(최초의 기준 위치)에 있어서의 화소치 1로부터 화소치 2로의 변화점의 존재에 의해, 각각 1 및 2가 되고, 베이스 클럭(303c)에 대응하는 묘화 시에 참조되는 변환 화소 데이터(692)의 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치는, 베이스 클럭(303c, 303d)간의 4개의 화소(71) 중 최초의 화소(최초의 기준 위치)에 있어서의 화소치 2로부터 화소치 1로의 변화점의 존재에 의해, 모두 1이 된다.For example, at the bottom of FIG. 16, the pixel value of the pixel 71a is changed to 1 (to be a white pixel) by the processing of the pixel
그리고, 기판(9)이 베이스 클럭간 화소수에 상당하는 설정 거리만큼 이동할 때마다 발생하는 베이스 클럭(303)에 따라, 변환 화소 데이터(692)가 소자 구동 요소(61)에 출력된다(단계 S18). 소자 구동 요소(61)에서는, 변환 화소 데이터(692)로부터 구동 전압 데이터(301) 및 시프트 딜레이수 데이터(302)를 생성하여(단계 S18a), 광 변조 소자(461)를 제어함으로써, 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트하면서 기판(9) 상에 패턴이 묘화된다(단계 S19).Then, the converted
이 때, 도 16의 최상단에 있어서의 베이스 클럭(303b)에 대응하는 묘화 시에는, 변화 화소 번호 및 변화 후 화소치가 각각 1 및 2가 되는 변환 화소 데이터(692)에 의거하여 1번째의 화소에 대응하는 기준 위치 어드레스(여기에서는 0이 된다)가 특정됨과 더불어, 수정 시프트량이 직전의 변화 후 화소치 및 금회의 변화 후 화소치를 이용하여 (+(1/6)T)로서 특정된다. 이에 의해, 시프트 딜레이수 데이 터(302)가 거리 (+(1/6)T)에 상당하는 카운트수로서 구해지고, 도 16의 위에서부터 2단째에 나타낸 바와 같은 목표 구동 전압의 변경이 실현된다. 또한, 변경 후의 목표 구동 전압은, 변환 화소 데이터(692)의 변화 후 화소치에 의거하여 제2 계조 구동 전압(V2)이 된다.At this time, at the time of drawing corresponding to the base clock 303b at the top of Fig. 16, the first pixel is based on the converted
실제로는, 단계 S18에 있어서의 변환 화소 데이터(692)의 생성 및 소자 구동 요소(61)로의 입력, 및 단계 S18a, S19에 있어서의 변환 화소 데이터(692)에 의거한 패턴의 묘화는 기판(9) 상에 대상 화상을 나타내는 화상의 전체가 기록될 때까지 반복된다(단계 S20). 대상 화상의 전체가 기록되면, 기판(9)의 주주사 방향으로의 이동이 정지되고, 기판(9) 상에 화상을 기록하는 동작이 완료된다(단계 S21).In practice, the generation of the
다음에, 단계 S12에 있어서의 베이스 클럭간 화소수를 결정하는 처리에 대해 설명한다. 도 18은 베이스 클럭(303) 및 화소열을 도시한 도면이다. 도 18의 상단은 베이스 클럭(303)을 나타내고, 중단은 변화점의 이동 전의 화소열을 나타내며, 하단은 변화점의 이동 후의 화소열을 나타내고 있다(후술의 도 19에 있어서 동일). 또한, 도 18의 중단 및 하단에서는, 변화점의 위치를 부호 A2를 붙인 화살표로 나타내고 있다.Next, a process of determining the number of pixels between base clocks in step S12 will be described. 18 is a diagram illustrating a
도 18의 상단 및 중단에 나타낸 바와 같이, 초기 베이스 클럭간 화소수가 5로서 설정되어 있는 경우에는, 대상 화상의 데이터는, 각 화소열에 있어서 연속하여 동일한 화소치를 갖는 각 화소군에 있어서의 화소수가 5 이상으로서 생성되어 있고(논리적인 최소 선폭이 5화소에 상당하는 폭인 것으로 간주할 수 있다), 이에 의해, 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이가 베이스 클럭 기간에서 한번 만 가능하게 되는 화상 기록 장치(1)에 있어서, 화상을 적절히 기록하는 것이 가능하게 되어 있다. 이 경우에, 가령, 도 13의 단계 S17의 화소열 데이터의 가공에 있어서, 변화점을 1화소만큼 지연시키는 처리가 행해지면, 도 18의 하단에 나타낸 바와 같이, 화소수가 4가 되는 화소군(평행 사선을 그은 화소(71)의 집합)이 생성되어 베이스 클럭 기간에서 2개의 변화점이 존재해 버린다.18, when the number of pixels between the initial base clocks is set as 5, the data of the target image has 5 pixels in each pixel group having the same pixel value continuously in each pixel column. An image generated as described above (which can be regarded as a logical minimum line width corresponding to 5 pixels), whereby a transition of the amount of output light from the
따라서, 주연산부(62)에서는, 우선, 표 1의 보정 테이블에 있어서, 각 화소치가 직전의 화소치인 복수의 2개의 화소치의 조합에 있어서의 선폭 보정 시프트량의 최대치로부터, 당해 화소치가 현재의 화소치인 복수의 조합에 있어서의 선폭 보정 시프트량의 최소치를 뺀 값이 최대 줄임량으로서 구해진다. 그리고, 초기 베이스 클럭간 화소수에 상당하는 거리(즉, 초기 베이스 클럭간 화소수에 대응하는 설정 거리)에서 모든 화소치에 대한 최대 줄임량의 최대치를 뺀 값(물리적인 최소 선폭으로 간주할 수 있다)을, 또한 기준 거리(T)로 나눈 값의 정수부가 화소군 최소폭으로서 구해진다.Therefore, in the
표 1의 예에서는, 화소치 1이 직전의 화소치인 경우에 있어서의 선폭 보정 시프트량의 최대치가 기준 거리(T)의 (+1/3)배가 되고, 화소치 1이 현재의 화소치인 경우에 있어서의 선폭 보정 시프트량의 최소치가 기준 거리(T)의 (-1/3)배가 되며, 기준 거리(T)의 (+1/3)배에서 기준 거리(T)의 (-1/3)배를 뺀 값(기준 거리(T)의 (2/3)배)이 최대 줄임량의 모든 화소치에 대한 최대치가 된다. 그리고, 초기 베이스 클럭간 화소수에 상당하는 기준 거리(T)의 5배에서 최대 줄임량의 최대치를 뺀 값(기준 거리(T)의 (13/3)배)을, 또한 기준 거리(T)로 나눈 값의 정수부 4가 화 소군 최소폭으로서 구해진다. 그리고, 도 19의 상단에 나타낸 바와 같이, 베이스 클럭간 화소수가 초기 베이스 클럭간 화소수보다 적은 4로서 결정된다. 이에 의해, 화소열 데이터의 가공에 있어서, 변화점을 1화소만큼 지연시키는 처리가 행해지고, 도 19의 하단에 나타낸 바와 같이, 화소수가 4가 되는 화소군(평행 사선을 그은 화소(71)의 집합)이 생성되는 경우라도, 베이스 클럭 기간에서 2개의 변화점이 존재하는 것이 방지된다.In the example of Table 1, when the
이와 같이, 주연산부(62)에서는, 가공 후의 화소열에 있어서, 각각이 열 방향으로 연속하여 동일한 화소치를 갖는 복수의 화소군 중 가장 화소수가 적은 최소 화소군의 화소수가, 초기 베이스 클럭간 화소수보다 적은 경우에, 설정 거리를 최소 화소군의 화소수에 상당하는 거리로 단축하는 처리가 행해진다. 그리고, 상술한 바와 같이, 출력 데이터 생성부(633)에 있어서 베이스 클럭간 화소수를 4로 하여 변환 소자 데이터(692)가 생성됨으로써, 베이스 클럭 기간에서 2개의 변화점을 존재시키지 않고, 광 변조 소자(461)의 변조에 의한 패턴 묘화가 행해진다.As described above, in the
이상에 설명한 바와 같이, 도 1의 화상 기록 장치(1)에서는, 보정 테이블에 있어서 2개의 화소치의 각 조합에 대해 합계 시프트량을 구함으로써, 실질적으로, 각 광 변조 소자(461)에 대응하는 화소열의 각 변화점에 관해, 화소군의 묘화 어긋남을 보정하기 위해 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트하는 시프트량(수정 전의 시프트량)이 구해진다. 이어서, 합계 시프트량이 기준 거리(T)의 1배보다 커지는 조합에 대해, 기준 거리(T)의 β배로서 표시되는 합계 시프트량에 있어서의 β의 정수부를 화소 가공수로 하고, 소수부에 기준 거리(T)를 곱한 값을 수정 시프트량으로 하여 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)이 작성된다. 이에 의해, 실제의 화상 기록 시에, 각 변화점에 대한 상기 시프트량이 1개의 화소에 대응하는 기판(9) 상의 영역의 주주사 방향의 폭을 넘는 경우에, 당해 시프트량을 당해 폭으로 나눈 값의 정수 부분의 화소수만큼 변화점이 열 방향으로 이동하도록, 대상 화상의 화소의 화소치가 변경됨과 더불어, 당해 변화점에 대응하는 시프트량이 소수부에 상당하는 값으로 수정되게 된다. 그리고, 주주사 기구(25)에 동기하면서 변경 후의 대상 화상 및 수정 후의 시프트량에 의거하여 공간 광 변조기(46)를 제어함으로써, 기판(9)에 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 거리를 넘어 광 변조 소자(461)로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트시키면서 화상을 정밀도 좋게 기록하는 것이 실현된다.As described above, in the
또, 화상 기록 장치(1)에서는, 복수 종류의 2개의 화소치의 조합의 각각에 대해 이동 전의 변화점의 시프트량을 나타내는 복수의 보정 테이블이 모든 광 변조 소자(461)에 대응하여 미리 준비되고, 주연산부(62)에 의해 2개의 화소치의 각 조합에 대한 변화점의 이동량을 나타내는 복수의 화소 가공 테이블(6311) 및 2개의 화소치의 각 조합에 대해 보정 테이블의 값을 수정한 시프트량(수정 시프트량)을 나타내는 복수의 수정 시프트량 테이블(6171)이 복수의 보정 테이블로부터 생성된다. 그리고, 화소열 가공부(632)에 있어서 화소열의 각 변화점에 있어서의 2개의 화소치의 조합을 이용하여 대응하는 화소 가공 테이블(6311)을 참조함으로써, 당해 변화점의 이동량을 취득하여 변화점을 열 방향으로 이동하는 처리가 행해지고, 수정 시프트량 취득부(618)에 있어서 화소열의 각 변화점에 있어서의 2개의 화소치의 조합을 이용하여 대응하는 수정 시프트량 테이블(6171)을 참조함으로써, 당해 변화점의 수정 시프트량을 취득하는 처리가 행해진다. 이에 의해, 화상 기록 장치(1)에서는, 기판(9)에 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 거리를 넘는 천이 위치의 시프트를 용이하게 실현할 수 있다.In addition, in the
여기에서, RIP(Raster Image Processor)에 있어서 대상 화상의 데이터를 생성할 때에, 보정 테이블에 의거하여 미리 변화점을 이동한 화상 데이터를 작성하는 것도 생각할 수 있지만, 이 경우, 보정 테이블의 내용이 변경되면, 화상 데이터를 재차 다시 만들 필요가 발생하여, 화상 기록에 관련된 처리에 요하는 시간이 길어져 버린다.Here, when generating the data of the target image in the RIP (Raster Image Processor), it is also conceivable to create the image data in which the change point is moved in advance based on the correction table. In this case, the contents of the correction table are changed. If necessary, the need to regenerate the image data occurs again, and the time required for processing related to image recording becomes long.
이에 대해, 화상 기록 장치(1)에서는, 보정 테이블의 내용이 변경된 경우여도, 상기와 같이, 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)을 갱신(수정)하기만 하면 되므로, 화상 기록에 관련된 처리에 요하는 시간을 단축하는 것이 가능해진다.On the other hand, even in the case where the contents of the correction table are changed in the
앞서 기술한 바와 같이, 화상 기록 장치(1)에서는, 복수(모두)의 광 변조 소자(461)의 각각에 대해 1개의 소자 구동 요소(61) 및 1개의 FPGA 제어 요소(63)가 설치되므로, 본 실시 형태에서는, 복수의 FPGA 제어 요소(63)에 있어서의 메모리(631)의 집합이 복수의 광 변조 소자(461)에 각각 대응하는 복수의 화소 가공 테이블(6311)을 기억하는 제1 테이블 기억부로 간주되고, 복수의 소자 구동 요소(61)에 있어서의 메모리(617)의 집합이 복수의 광 변조 소자(461)에 각각 대응하는 복수의 수정 시프트량 테이블(6171)을 기억하는 제2 테이블 기억부로 간주된다. 또, 복수의 FPGA 제어 요소(63)에 있어서의 화소열 가공부(632)의 집합이, 각 변화점의 이동량을 취득하여 당해 변화점을 열 방향으로 이동하는 화상 변경부로 간주되고, 복수의 소자 구동 요소(61)에 있어서의 수정 시프트량 취득부(618)의 집합이, 각 변화점에 대한 수정 후의 시프트량을 취득하는 시프트량 취득부로 간주된다.As described above, in the
도 20은, 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 화상 기록 장치(1a)의 구성을 도시한 도면이다. 화상 기록 장치(1a)는 화상 기록용의 광을 출사하는 1개의 광학 헤드(41a) 및 화상이 기록되는 기록 매체(9a)를 외측면에 유지하는 유지부인 유지 드럼(70)을 갖는다. 기록 매체(9a)에는 광학 헤드(41a)에 의한 광의 조사(노광)에 의한 묘화에 의해 화상이 기록된다. 기록 매체(9a)로서는, 예를 들면, 쇄판, 쇄판 형성용의 필름 등이 이용된다. 또한, 유지 드럼(70)으로서 무판 인쇄용의 감광 드럼이 이용되어도 되고, 이 경우, 기록 매체(9a)는 감광 드럼의 표면에 상당하며, 유지 드럼(70)이 기록 매체(9a)를 일체적으로 유지하고 있는 것으로 간주할 수 있다.20 is a diagram showing the configuration of an
유지 드럼(70)은 원통면의 중심축을 중심으로 모터(81)에 의해 회전하고, 이에 의해, 광학 헤드(41a)가 기록 매체(9a)에 대해 주주사 방향으로(후술하는 복수의 광 변조 소자로부터의 광이 조사되는 위치의 배열 방향에 대해 수직인 방향으로) 상대적으로 일정한 속도로 이동한다. 또, 광학 헤드(41a)는 모터(82) 및 볼 나사(83)에 의해 유지 드럼(70)의 회전축에 평행한(주주사 방향에 수직인) 부주사 방향으로 이동 가능해지고, 광학 헤드(41a)의 위치는 인코더(도시생략)에 의해 검출된다. 이와 같이, 모터(81, 82), 볼 나사(83)를 포함하는 이동 기구에 의해, 유 지 드럼(70)의 외측면 및 기록 매체(9a)가, 공간 광 변조기를 갖는 광학 헤드(41a)에 대해 일정한 속도로 주주사 방향으로 상대적으로 이동함과 더불어 주주사 방향에 교차하는 부주사 방향으로도 상대적으로 이동한다. 모터(81, 82) 및 인코더는 제어부(6a)에 접속되고, 제어부(6a)가 모터(81, 82) 및 광학 헤드(41a) 내의 공간 광 변조기로부터의 신호광의 출사를 제어함으로써, 유지 드럼(70) 상의 기록 매체(9a)에 광에 의한 화상 기록이 행해진다.The holding
도 21은 광학 헤드(41a)의 내부 구성의 개략을 도시한 도면이다. 광학 헤드(41a) 내에는, 복수의 발광점을 일렬로 갖는 바 타입의 반도체 레이저인 광원(43a) 및 회절 격자형의 복수의 광 변조 소자를 일렬로 배열하여 갖는 공간 광 변조기(46)가 배치되고, 광원(43a)으로부터의 광은, 렌즈(471)(실제로는, 집광 렌즈, 실린드리컬 렌즈 등에 의해 구성된다) 및 프리즘(472)을 통해 공간 광 변조기(46)로 인도된다. 이 때, 광원(43a)으로부터의 광은 선형상 광(광속 단면이 선형상인 광)이고, 라인형상으로 배열되는 복수의 광 변조 소자 상에 조사된다.21 is a diagram showing an outline of an internal configuration of the
공간 광 변조기(46)의 각 광 변조 소자는, 상기 제1 실시 형태와 동일한 구성인 제어부(6a)의 변조기 제어부(60)(도 20 참조)에 의해 제어된다. 또한, 도 21에서는, 변조기 제어부(60)의 소자 구동 요소(61)를 블록으로 나타내고 있다. 광 변조 소자로부터 출사되는 0차광은 프리즘(472)으로 되돌려지고, 1차 회절광은 프리즘(472)과는 다른 방향으로 인도된다. 또한, 미광이 되는 것을 방지하기 위해 1차 회절광은 도시를 생략하는 차광부에 의해 차광된다.Each optical modulation element of the spatial
각 광 변조 소자로부터의 0차광은 프리즘(472)에서 반사되고, 줌 렌즈(473) 를 통해 광학 헤드(41a) 외의 기록 매체(9a)로 인도되며, 복수의 광 변조 소자의 상이 부주사 방향으로 나열되도록 기록 매체(9a) 상에 형성된다. 줌 렌즈(473)는 줌 렌즈 구동 모터(474)에서 배율이 가변하도록 되어 있으며, 이에 의해, 기록되는 화상의 해상도가 변경된다.Zero-order light from each light modulation element is reflected by the
도 20의 화상 기록 장치(1a)에 있어서도, 도 1의 화상 기록 장치(1)와 동일한 동작으로 기록 매체(9a)에 화상이 기록된다. 이 때, 각 광 변조 소자에 대응하는 화소열의 각 변화점에 관해, 화소군의 묘화 어긋남을 보정하기 위해 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트하는 시프트량이 구해지고, 당해 시프트량이 1개의 화소에 대응하는 기록 매체(9a) 상의 영역의 주주사 방향의 폭을 넘는 경우에, 당해 시프트량을 당해 폭으로 나눈 값의 정수 부분의 화소수만큼 당해 변화점이 이동하도록, 대상 화상의 화소의 화소치가 변경됨과 더불어, 당해 변화점에 대응하는 시프트량이 소수부에 상당하는 값으로 수정된다. 그리고, 기록 매체(9a) 상의 조사 위치를 이동하면서, 변경 후의 대상 화상 및 수정 후의 시프트량에 의거하여 공간 광 변조기(46)를 제어함으로써, 기록 매체(9a)에 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 거리를 넘어 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 위치를 시프트시키는 것이 실현되어, 화상을 정밀도 좋게 기록하는 것이 가능해진다.Also in the
이상, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명해 왔지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것이 아니라, 다양한 변형이 가능하다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible.
도 15의 예에서는, 광 변조 소자(461)에 있어서 목표 구동 전압이 화소치 2에 대응하는 제2 계조 구동 전압(V2)인 거리가 짧아지는 예(도 22의 위에서부터 4 단째 참조)에 대해 서술하였지만, 도 22의 위에서부터 3단째에 나타낸 바와 같이, 목표 구동 전압이 제2 계조 구동 전압(V2)인 거리가 길어지도록 보정 테이블에 있어서의 선폭 보정 시프트량이 결정되어도 된다. 또, 화상 기록 장치(1, 1a)에서는, 광 변조 소자(461)의 천이 위치를 조사 위치의 진행 방향의 앞쪽으로 시프트시키는 것 외에(도 22의 위에서부터 5단째 참조), 도 22의 최하단에 나타낸 바와 같이, 조사 위치의 진행 방향의 뒤쪽으로 시프트시켜도 된다.In the example of FIG. 15, for the example in which the distance of the target driving voltage of the second gray scale driving voltage V2 corresponding to the
이러한 경우여도, 묘화 어긋남의 보정을 행하지 않는 경우의 시프트량인 표준 시프트량을 기준 거리(T)의 1/2배로 설정하고, 1개의 화소에 대응하는 기판(9) 또는 기록 매체(9a) 상의 영역의 주주사 방향의 폭의 반분으로부터 화소군의 묘화 어긋남에 의거한 거리(상기 실시 형태에서는, 선폭 보정 시프트량 및 위치 보정 시프트량)를 증감한 값을, (화소의 가공에 따른) 수정을 행하기 전의 시프트량으로 함으로써, 광 변조 소자(461)의 출력 광량의 천이 위치를 주주사 방향의 양측으로 용이하게 이동시킬 수 있고, 그 결과, 화상을 정밀도 좋게 기록하는 것이 가능해진다.Even in such a case, the standard shift amount, which is the shift amount when the drawing shift is not corrected, is set to 1/2 times the reference distance T, and on the
화상 기록 장치(1, 1a)에서는, 가령 초기 베이스 클럭간 화소수가 1이면, 도 13의 단계 S12의 처리에서 베이스 클럭간 화소수를 초기 베이스 클럭간 화소수보다 적은 수로 결정할 수 없고, 베이스 클럭 기간에 있어서의 복수의 변화점의 존재를 방지할 수 없게 된다. 따라서, 화상 기록 장치(1, 1a)에서는, 도 23의 중단 및 하단에 나타낸 바와 같이 초기 베이스 클럭간 화소수가 4나 2인, 즉, 2 이상인 것이 필요해진다.In the
상기 제1 및 제2 실시 형태에서는, 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)을 이용함으로써, 1화소에 상당하는 거리를 넘는 천이 위치의 시프트를 용이하게 행하는 것이 실현되지만, 각 변화점의 시프트량이 1화소에 상당하는 거리를 넘는 경우에, 당해 시프트량을 당해 거리로 나눈 값의 정수 부분의 화소수만큼 당해 변화점이 이동하도록, 대상 화상의 화소의 화소치가 변경됨과 더불어, 당해 변화점에 대응하는 시프트량이 소수부에 상당하는 값으로 수정되는 것이면, 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)을 이용하지 않고 화상 기록이 행해져도 된다.In the first and second embodiments, it is possible to easily shift the transition position over a distance equivalent to one pixel by using the pixel processing table 6311 and the correction shift amount table 6171, but each change is realized. When the shift amount of the point exceeds the distance corresponding to one pixel, the pixel value of the pixel of the target image is changed so that the change point moves by the number of pixels of the integer portion of the value obtained by dividing the shift amount by the distance, and the change is performed. If the shift amount corresponding to the point is corrected to a value corresponding to the fractional part, image recording may be performed without using the pixel processing table 6311 and the correction shift amount table 6171.
도 1 및 도 20의 화상 기록 장치(1, 1a)에서는, 복수의 광 변조 소자(461)를 갖는 공간 광 변조기(46)가 설치되고, 복수의 광 변조 소자(461)에 의해 대상 화상에 포함되는 서로 상이한 복수의 화소열의 묘화가 행해짐으로써, 화상을 고속으로 기록하는 것이 실현되지만, 화상 기록 장치의 설계에 따라서는, 1개의 광 변조 소자를 갖는 광 변조기가 이용되어도 된다. 이 경우, 1개의 화소열 가공부(632) 및 1개의 수정 시프트량 취득부(618)가 각각 각 변화점의 이동량을 취득하여 당해 변화점을 열 방향으로 이동하는 화상 변경부 및 각 변화점에 대한 수정 후의 시프트량을 취득하는 시프트량 취득부로 간주되고, 동일한 화소 가공 테이블(6311) 및 수정 시프트량 테이블(6171)을 이용하여 복수의 화소열에 대응하는 묘화가 행해진다.In the
화상 기록 장치(1, 1a)에 있어서, 묘화에 있어서의 신호광은 반드시 0차광일 필요는 없고, 1차 회절광이 신호광이어도 된다. 또, 휘어져 있지 않은 상태의 가요 리본(461a)과 고정 리본(461b)의 상대적 위치 관계가 상기 실시 형태와는 달리, 가요 리본(461a)이 휘어진 상태로 0차광이 출사되는 광 변조 소자(461)가 이용되어도 된다. 이들 경우에 있어서도, 광 변조 소자(461)의 동작 타이밍을 시프트함으로써, 적절한 화상 기록이 실현된다.In the
가요 리본(461a) 및 고정 리본(461b)은 띠형상의 반사면으로서 간주할 수 있는 것이면, 엄밀한 의미에서의 리본 형상일 필요는 없다. 예를 들면, 블록 형상의 상면이 고정 리본의 반사면으로서의 역할을 해도 된다.If the
광 변조 소자(461)는 회절 격자형에 한정되지 않고, 예를 들면 액정 셔터 등이어도 된다. 또한, 광 변조 소자(461)는 광을 반사하는 것에도 한정되지 않고, 예를 들면, 레이저 어레이가 광 변조 소자(461)로서의 역할을 해도 된다. 이들 경우에 있어서도 각 소자에 있어서의 묘화 어긋남을 보정함으로써, 적절한 화상 기록이 실현된다.The
또, 2차원의 공간 광 변조기가 채용되어도 되고, 이 경우, 광 변조 소자(461)의 각 1차원의 배열에 대해, 상기 실시 형태에 있어서의 복수의 광 변조 소자(461)에 대한 보정이 적용된다.In addition, a two-dimensional spatial light modulator may be employed, and in this case, correction to the plurality of
도 1 및 도 20의 화상 기록 장치(1, 1a)에서는, 합계 시프트량이 1화소에 상당하는 거리를 넘는 변화점을 검출하고, 당해 변화점을 이동하면서 시프트량을 수정하는 연산부가, 주연산부(62), 복수의 FPGA 제어 요소(63) 및 복수의 소자 구동 요소(61)에 의해 실현되지만, 화상을 고속으로 기록할 필요가 없는 경우에는, 연산부의 기능이 주연산부(62)에 있어서의 연산만에 의해(소프트웨어적으로) 실현되어도 된다.In the
또, 화상 기록 장치(1, 1a)에서는, 기판(9) 및 기록 매체(9a)의 주주사 방향으로의 이동 속도는 거의 일정해지므로, 이상의 설명에 있어서의 거리(또는 위치)의 개념은 시간(또는 시각)으로서 간주하는 것도 가능하다. 이 경우, 연산부에 있어서의 처리에서는, 각 광 변조 소자에 대응하는 화소열의 각 변화점에 관해, 화소군의 묘화 어긋남을 보정하기 위해 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 타이밍을 시프트하는 시프트 시간이 구해지고, 당해 시프트 시간이 1개의 화소의 열 방향의 폭분만큼 조사 위치가 이동하는 시간을 넘는 경우에, 당해 시프트 시간을 화소의 열 방향의 폭에 대응하는 시간으로 나눈 값의 정수부 및 소수부가 구해지며, 정수 부분의 화소수만큼 당해 변화점이 이동하도록, 대상 화상의 화소의 화소치가 변경됨과 더불어, 당해 변화점에 대응하는 시프트 시간이 소수부에 상당하는 시간으로 수정되게 된다. 그리고, 변경 후의 대상 화상 및 수정 후의 시프트 시간에 의거하여 공간 광 변조기를 제어함으로써, 화상을 기록할 때에, 1화소에 상당하는 시간을 넘어 광 변조 소자로부터의 출력 광량의 천이 타이밍을 시프트시키는 것이 실현되어, 화상을 정밀도 좋게 기록하는 것이 가능해진다.Moreover, in the
기판(9) 및 기록 매체(9a)는 광학 헤드(41, 41a)에 대해 상대적으로 이동 가능하면 다른 수법에 의해 이동되어도 된다. 또, 화상의 정보를 유지하는 기록 매체는, 프린트 배선 기판이나 반도체 기판 등의 감광성 재료가 도포된, 혹은, 감광성을 갖는 다른 재료여도 되고, 광의 조사에 의한 열에 반응하는 재료여도 된다.The
발명을 상세하게 묘사해 설명하였지만, 앞서 기술한 설명은 예시적으로 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.Although the invention has been described and described in detail, the foregoing description is by way of example and not restrictive. Accordingly, many modifications and aspects are possible without departing from the scope of the present invention.
도 1은, 제1 실시 형태에 따른 화상 기록 장치의 측면도이다.1 is a side view of the image recording apparatus according to the first embodiment.
도 2는, 화상 기록 장치의 평면도이다.2 is a plan view of the image recording apparatus.
도 3은, 공간 광 변조기를 도시한 도면이다.3 shows a spatial light modulator.
도 4a는, 광 변조 소자의 단면을 도시한 도면이다.4A is a diagram illustrating a cross section of the light modulation element.
도 4b는, 광 변조 소자의 단면을 도시한 도면이다.4B is a view showing a cross section of the light modulation element.
도 5는, 소자 구동 요소의 일부의 구성을 도시한 도면이다.5 is a diagram illustrating a configuration of a part of the element drive element.
도 6은, 베이스 클럭 및 딜레이 클럭을 도시한 도면이다.6 shows a base clock and a delay clock.
도 7은, 변조기 제어부의 구성을 도시한 블록도이다.7 is a block diagram showing the configuration of a modulator controller.
도 8은, 변환 화소 데이터의 구조를 도시한 도면이다.8 is a diagram illustrating a structure of converted pixel data.
도 9는, 변환 화소 데이터를 설명하기 위한 도면이다.9 is a diagram for explaining converted pixel data.
도 10은, 기준 위치 어드레스 테이블을 도시한 도면이다.10 is a diagram showing a reference position address table.
도 11은, 수정 시프트량 테이블을 도시한 도면이다.11 is a diagram illustrating a correction shift amount table.
도 12는, 구동 전압 테이블을 도시한 도면이다.12 is a diagram illustrating a driving voltage table.
도 13은, 기판 상에 화상을 기록하는 동작의 흐름을 도시한 도면이다.13 is a diagram illustrating a flow of an operation of recording an image on a substrate.
도 14는, 표준 시프트량을 설명하기 위한 도면이다.14 is a diagram for explaining a standard shift amount.
도 15는, 선폭 보정 시프트량을 설명하기 위한 도면이다.15 is a diagram for explaining a line width correction shift amount.
도 16은, 위치 보정 시프트량을 설명하기 위한 도면이다.16 is a diagram for explaining the position correction shift amount.
도 17은, 화소열의 데이터 구조를 도시한 도면이다.17 is a diagram showing a data structure of a pixel column.
도 18은, 베이스 클럭 및 화소열을 도시한 도면이다.18 is a diagram illustrating a base clock and a pixel column.
도 19는, 베이스 클럭 및 화소열을 도시한 도면이다.19 is a diagram illustrating a base clock and a pixel column.
도 20은, 제2 실시 형태에 따른 화상 기록 장치의 구성을 도시한 도면이다.20 is a diagram illustrating a configuration of an image recording apparatus according to the second embodiment.
도 21은, 광학 헤드의 내부 구성을 도시한 도면이다.21 is a diagram illustrating an internal configuration of an optical head.
도 22는, 선폭 보정 시프트량 및 위치 보정 시프트량의 다른 예를 도시한 도면이다.22 is a diagram illustrating another example of the line width correction shift amount and the position correction shift amount.
도 23은, 베이스 클럭간 화소수의 다른 예를 도시한 도면이다.23 is a diagram illustrating another example of the number of pixels between base clocks.
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