KR100999810B1 - Solar cell and method of fabricating the same - Google Patents

Solar cell and method of fabricating the same Download PDF

Info

Publication number
KR100999810B1
KR100999810B1 KR1020090027878A KR20090027878A KR100999810B1 KR 100999810 B1 KR100999810 B1 KR 100999810B1 KR 1020090027878 A KR1020090027878 A KR 1020090027878A KR 20090027878 A KR20090027878 A KR 20090027878A KR 100999810 B1 KR100999810 B1 KR 100999810B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
buffer layer
layer
solar cell
light absorbing
indium
Prior art date
Application number
KR1020090027878A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100109315A (en
Inventor
윤희경
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020090027878A priority Critical patent/KR100999810B1/en
Publication of KR20100109315A publication Critical patent/KR20100109315A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100999810B1 publication Critical patent/KR100999810B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • H01L31/0749Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type including a AIBIIICVI compound, e.g. CdS/CulnSe2 [CIS] heterojunction solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

태양전지 및 이의 제조방법이 개시된다. 태양전지는 기판; 상기 기판 상에 배치되는 전극층; 상기 전극층 상에 배치되는 광 흡수층; 상기 광 흡수층 상에 배치되며, 인듐 셀레나이드 또는 인듐 설파이드를 포함하는 제 1 버퍼층; 상기 제 1 버퍼층 상에 배치되며, 징크 셀레나이드 또는 징크 설파이드를 포함하는 제 2 버퍼층; 및 상기 제 2 버퍼층 상에 배치되는 윈도우층을 포함한다.A solar cell and a method of manufacturing the same are disclosed. The solar cell is a substrate; An electrode layer disposed on the substrate; A light absorbing layer disposed on the electrode layer; A first buffer layer disposed on the light absorbing layer and including indium selenide or indium sulfide; A second buffer layer disposed on the first buffer layer and including zinc selenide or zinc sulfide; And a window layer disposed on the second buffer layer.

인듐, 설파이드, 셀레나이드, 징크, 버퍼 Indium, sulfide, selenide, zinc, buffer

Description

태양전지 및 이의 제조방법{SOLAR CELL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}SOLAR CELL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

실시예는 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.An embodiment relates to a solar cell and a manufacturing method thereof.

최근 에너지의 수요가 증가함에 따라서, 태양광 에너지를 전기에너지로 변환시키는 태양전지에 대한 개발이 진행되고 있다.Recently, as the demand for energy increases, development of solar cells for converting solar energy into electrical energy is in progress.

특히, 유리기판, 금속 이면 전극층, p형 CIGS계 광 흡수층, 고 저항 버퍼층, n형 창층 등을 포함하는 기판 구조의 pn 헤테로 접합 장치인 CIGS계 태양전지가 널리 사용되고 있다.In particular, CIGS-based solar cells that are pn heterojunction devices having a substrate structure including a glass substrate, a metal back electrode layer, a p-type CIGS-based light absorbing layer, a high resistance buffer layer, an n-type window layer, and the like are widely used.

실시예는 향상된 효율을 가지는 태양전지 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.Embodiments provide a solar cell having improved efficiency and a method of manufacturing the same.

실시예에 따른 태양전지는 기판; 상기 기판 상에 배치되는 전극층; 상기 전극층 상에 배치되는 광 흡수층; 상기 광 흡수층 상에 배치되며, 인듐 셀레나이드 또는 인듐 설파이드를 포함하는 제 1 버퍼층; 상기 제 1 버퍼층 상에 배치되며, 징크 셀레나이드 또는 징크 설파이드를 포함하는 제 2 버퍼층; 및 상기 제 2 버퍼층 상에 배치되는 윈도우층을 포함한다.Solar cell according to the embodiment is a substrate; An electrode layer disposed on the substrate; A light absorbing layer disposed on the electrode layer; A first buffer layer disposed on the light absorbing layer and including indium selenide or indium sulfide; A second buffer layer disposed on the first buffer layer and including zinc selenide or zinc sulfide; And a window layer disposed on the second buffer layer.

일 실시예에 따른 태양전지는 상기 제 2 버퍼층 및 상기 윈도우층 사이에 개재되는 고저항 버퍼층을 포함한다.The solar cell according to an embodiment includes a high resistance buffer layer interposed between the second buffer layer and the window layer.

일 실시예에서, 상기 고저항 버퍼층은 징크 옥사이드를 포함한다.In one embodiment, the high resistance buffer layer comprises zinc oxide.

일 실시예에서, 상기 제 1 버퍼층은 2 eV 내지 2.7 eV의 에너지 밴드갭을 가지고, 상기 제 2 버퍼층은 2.7 eV 내지 3.7 eV의 에너지 밴드갭을 가진다.In one embodiment, the first buffer layer has an energy bandgap of 2 eV to 2.7 eV, and the second buffer layer has an energy bandgap of 2.7 eV to 3.7 eV.

일 실시예에서, 상기 제 1 버퍼층 또는 제 2 버퍼층은 알루미늄 도펀트 또는 은 도펀트를 포함할 수 있다.In one embodiment, the first buffer layer or the second buffer layer may include an aluminum dopant or a silver dopant.

실시예에 따른 태양전지의 제조방법은 기판 상에 전극층을 형성하는 단계; 상기 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 광 흡수층 상에 인듐 셀레나이드 또는 인듐 설파이드를 포함하는 제 1 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 제 1 버퍼 층 상에 징크 셀레나이드 또는 징크 설파이드를 포함하는 제 2 버퍼층을 형성하는 단계; 및 상기 제 2 버퍼층 상에 윈도우층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a solar cell according to an embodiment includes forming an electrode layer on a substrate; Forming a light absorbing layer on the electrode layer; Forming a first buffer layer including indium selenide or indium sulfide on the light absorbing layer; Forming a second buffer layer comprising zinc selenide or zinc sulfide on the first buffer layer; And forming a window layer on the second buffer layer.

실시예에 따른 태양전지는 두 개의 버퍼층을 포함한다. 따라서, 실시예에 따른 태양전지는 하나의 버퍼층을 포함하는 기존의 태양전지보다 더 세분화된 밴드갭 에너지를 가진다.The solar cell according to the embodiment includes two buffer layers. Therefore, the solar cell according to the embodiment has a more detailed bandgap energy than the conventional solar cell including one buffer layer.

따라서, 실시예에 태양전지는 외부의 태양광에 의해서 형성된 전자 및/또는 정공이 전극층 및 윈도우층에 용이하게 수송될 수 있고, 향상된 발전 효율을 가진다.Therefore, in the embodiment, the solar cell can easily transport electrons and / or holes formed by external sunlight to the electrode layer and the window layer, and has an improved power generation efficiency.

실시 예의 설명에 있어서, 각 기판, 막, 전극, 홈 또는 층 등이 각 기판, 전극, 막, 홈 또는 층 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.In the description of the embodiments, it is described that each substrate, film, electrode, groove or layer or the like is formed "on" or "under" of each substrate, electrode, film, groove or layer or the like. In the case, “on” and “under” include both being formed “directly” or “indirectly” through other components. In addition, the upper or lower reference of each component is described with reference to the drawings. The size of each component in the drawings may be exaggerated for the sake of explanation and does not mean the size actually applied.

도 1은 실시예에 따른 태양전지의 일 단면을 도시한 단면도이다. 도 2는 실시예에 따른 태양전지의 각 층별 밴드갭 에너지를 도시한 도면이다.1 is a cross-sectional view showing a cross section of a solar cell according to an embodiment. 2 is a view showing bandgap energy of each layer of the solar cell according to the embodiment.

도 1을 참조하면, 태양전지는 지지기판(100), 이면전극층(200), 광 흡수 층(300), 버퍼층(400), 고저항 버퍼층(500) 및 윈도우층(600)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the solar cell includes a support substrate 100, a back electrode layer 200, a light absorbing layer 300, a buffer layer 400, a high resistance buffer layer 500, and a window layer 600.

상기 지지기판(100)은 플레이트 형상을 가지며, 상기 이면전극층(200), 상기 광 흡수층(300), 버퍼층(400), 고저항 버퍼층(500) 및 상기 윈도우층(600)을 지지한다.The support substrate 100 has a plate shape and supports the back electrode layer 200, the light absorbing layer 300, the buffer layer 400, the high resistance buffer layer 500, and the window layer 600.

상기 지지기판(100)은 절연체일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 유리기판, 플라스틱기판 또는 금속기판일 수 있다. 더 자세하게, 상기 지지기판(100)은 소다 라임 글래스(soda lime glass) 기판일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 투명할 수 있다. 상기 지지기판(100)은 리지드하거나 플렉서블할 수 있다.The support substrate 100 may be an insulator. The support substrate 100 may be a glass substrate, a plastic substrate, or a metal substrate. In more detail, the support substrate 100 may be a soda lime glass substrate. The supporting substrate 100 may be transparent. The support substrate 100 may be rigid or flexible.

상기 이면전극층(200)은 상기 지지기판(100) 상에 배치된다. 상기 이면전극층(200)은 도전층이다. 상기 이면전극층(200)으로 사용되는 물질의 예로서는 몰리브덴(Mo) 등의 금속을 들 수 있다.The back electrode layer 200 is disposed on the support substrate 100. The back electrode layer 200 is a conductive layer. Examples of the material used for the back electrode layer 200 include a metal such as molybdenum (Mo).

또한, 상기 이면전극층(200)은 두 개 이상의 층들을 포함할 수 있다. 이때, 각각의 층들은 같은 금속으로 형성되거나, 서로 다른 금속으로 형성될 수 있다.In addition, the back electrode layer 200 may include two or more layers. In this case, each of the layers may be formed of the same metal, or may be formed of different metals.

상기 광 흡수층(300)은 상기 이면전극층(200) 상에 배치된다. 상기 광 흡수층(300)은 Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ족계 화합물을 포함한다. 예를 들어, 상기 광 흡수층(300)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계) 결정 구조, 구리-인듐-셀레나이드계 또는 구리-갈륨-셀레나이드계 결정 구조를 가질 수 있다.The light absorbing layer 300 is disposed on the back electrode layer 200. The light absorbing layer 300 includes a group I-III-VI compound. For example, the light absorbing layer 300 is copper-indium-gallium-selenide-based (Cu (In, Ga) Se 2; CIGS-based) crystal structure, a copper-indium-selenide-based or copper-gallium-selenide Crystal structure.

상기 광 흡수층(300)의 에너지 밴드갭(band gap)은 약 1eV 내지 1.8eV일 수 있다.The energy band gap of the light absorption layer 300 may be about 1 eV to 1.8 eV.

상기 버퍼층(400)은 상기 광 흡수층(300) 상에 배치된다. 상기 버퍼층(400) 은 제 1 버퍼층(410) 및 제 2 버퍼층(420)을 포함한다.The buffer layer 400 is disposed on the light absorbing layer 300. The buffer layer 400 includes a first buffer layer 410 and a second buffer layer 420.

상기 제 1 버퍼층(410)은 상기 광 흡수층(300) 상에 배치되며, 상기 제 1 버퍼층(410)은 인듐 설파이드 또는 인듐 셀레나이드를 포함한다. 예를 들어, 상기 제 1 버퍼층(410)은 In2S3 또는 In2Se3를 포함할 수 있다.The first buffer layer 410 is disposed on the light absorbing layer 300, and the first buffer layer 410 includes indium sulfide or indium selenide. For example, the first buffer layer 410 may include In 2 S 3 or In 2 Se 3 .

더 자세하게, 상기 제 1 버퍼층(410)은 인듐 설파이드, 인듐 셀레나이드 또는 이들의 혼합물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 버퍼층(410)은 In2S3, In2Se3 또는 이들의 혼합물로 이루어질 수 있다.In more detail, the first buffer layer 410 may be formed of indium sulfide, indium selenide, or a mixture thereof. For example, the first buffer layer 410 may be formed of In 2 S 3 , In 2 Se 3, or a mixture thereof.

상기 제 1 버퍼층(410)은 2 eV 내지 2.7 eV의 에너지 밴드갭을 가질 수 있다.The first buffer layer 410 may have an energy bandgap of 2 eV to 2.7 eV.

상기 제 1 버퍼층(410)의 두께는 약 30㎚ 내지 약 100㎚ 일 수 있다.The first buffer layer 410 may have a thickness of about 30 nm to about 100 nm.

상기 제 2 버퍼층(420)은 상기 제 1 버퍼층(400) 상에 배치되며, 상기 제 2 버퍼층(420)은 징크 설파이드 또는 징크 셀레나이드를 포함한다. 예를 들어, 상기 제 2 버퍼층(420)은 ZnS 또는 ZnSe를 포함할 수 있다.The second buffer layer 420 is disposed on the first buffer layer 400, and the second buffer layer 420 includes zinc sulfide or zinc selenide. For example, the second buffer layer 420 may include ZnS or ZnSe.

더 자세하게, 상기 제 2 버퍼층(420)은 징크 설파이드, 징크 셀레나이드 또는 이들의 혼합물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 버퍼층(420)은 ZnS, ZnSe 또는 이들의 혼합물로 이루어질 수 있다.In more detail, the second buffer layer 420 may be formed of zinc sulfide, zinc selenide, or a mixture thereof. For example, the second buffer layer 420 may be made of ZnS, ZnSe, or a mixture thereof.

상기 제 2 버퍼층(420)은 2.7 eV 내지 3.7 eV의 에너지 밴드갭을 가질 수 있다.The second buffer layer 420 may have an energy bandgap of 2.7 eV to 3.7 eV.

상기 제 2 버퍼층(420)의 두께는 약 30㎚ 내지 약 100㎚ 일 수 있다.The thickness of the second buffer layer 420 may be about 30 nm to about 100 nm.

상기 버퍼층(400)에는 은 및/또는 알루미늄이 도핑될 수 있다. 즉, 상기 제 1 버퍼층(410) 및/또는 상기 제 2 버퍼층(420)에 은 및/또는 알루미늄이 도핑될 수 있다.Silver and / or aluminum may be doped into the buffer layer 400. That is, silver and / or aluminum may be doped into the first buffer layer 410 and / or the second buffer layer 420.

즉, 상기 제 1 버퍼층(410) 및 상기 제 2 버퍼층(420)의 에너지 밴드갭은 상기 은 및/또는 알루미늄 도펀트에 의해서, 조절될 수 있다.That is, the energy band gap of the first buffer layer 410 and the second buffer layer 420 may be controlled by the silver and / or aluminum dopant.

상기 고저항 버퍼층(500)은 상기 고저항 버퍼층(500)은 상기 버퍼층(400) 상에 배치된다. 상기 고저항 버퍼층(500)은 불순물이 도핑되지 않은 징크 옥사이드(i-ZnO)를 포함한다. 상기 고저항 버퍼층(500)의 에너지 밴드갭은 약 3.1eV 내지 3.3eV이다.The high resistance buffer layer 500 and the high resistance buffer layer 500 are disposed on the buffer layer 400. The high resistance buffer layer 500 includes zinc oxide (i-ZnO) that is not doped with impurities. The energy bandgap of the high resistance buffer layer 500 is about 3.1 eV to 3.3 eV.

상기 윈도우층(600)은 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 배치된다. 상기 윈도우층(600)은 투명하며, 도전층이다. 상기 윈도우층(600)으로 사용되는 물질의 예로서는 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드(Al doped ZnO;AZO) 등을 들 수 있다.The window layer 600 is disposed on the high resistance buffer layer 500. The window layer 600 is transparent and is a conductive layer. Examples of the material used as the window layer 600 include aluminum doped ZnO (AZO).

도 2를 참조하면, 상기 버퍼층(400)의 에너지 밴드갭은 계단 형상, 즉, 순차적으로 증가한다. 즉, 상기 버퍼층(400)은 제 1 버퍼층(410) 및 제 2 버퍼층(420)으로 구분되기 때문에, 순차적인 에너지 밴드갭을 가진다.Referring to FIG. 2, the energy band gap of the buffer layer 400 increases stepwise, that is, sequentially. That is, since the buffer layer 400 is divided into the first buffer layer 410 and the second buffer layer 420, the buffer layer 400 has a sequential energy band gap.

따라서, 상기 버퍼층(400)을 통하여, 전자가 용이하게 수송될 수 있고, 실시예에 따른 태양전지는 향상된 효율을 가진다.Therefore, electrons can be easily transported through the buffer layer 400, and the solar cell according to the embodiment has improved efficiency.

즉, 황화 카드뮴만으로 이루어진 버퍼층(400)을 가지는 기존 태양전지와 비교하여, 실시예에 따른 태양전지는 향상된 효율을 가진다.That is, compared with the conventional solar cell having a buffer layer 400 made of only cadmium sulfide, the solar cell according to the embodiment has improved efficiency.

도 3 내지 도 5는 실시예에 따른 태양전지를 제조하기 위한 공정을 도시한 단면도들이다. 본 제조방법에서는 앞서 설명한 태양전지를 참고하여 설명한다.3 to 5 are cross-sectional views illustrating a process for manufacturing a solar cell according to an embodiment. This manufacturing method will be described with reference to the solar cell described above.

도 3을 참조하면, 지지기판(100) 상에 스퍼터링 공정에 의해서 몰리브덴 등과 같은 금속이 증착되고, 이면전극층(200)이 형성된다. 상기 이면전극층(200)은 공정 조건이 서로 다른 두 번의 공정들에 의해서 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, a metal such as molybdenum is deposited on the support substrate 100 by a sputtering process, and the back electrode layer 200 is formed. The back electrode layer 200 may be formed by two processes having different process conditions.

상기 지지기판(100) 및 상기 이면전극층(200) 사이에는 확산 방지막과 같은 추가적인 층이 개재될 수 있다.An additional layer such as a diffusion barrier may be interposed between the support substrate 100 and the back electrode layer 200.

도 4를 참조하면, 상기 이면전극층(200) 상에 광 흡수층(300), 제 1 버퍼층(410), 제 2 버퍼층(420) 및 고저항 버퍼층(500)이 차례로 형성된다.Referring to FIG. 4, the light absorbing layer 300, the first buffer layer 410, the second buffer layer 420, and the high resistance buffer layer 500 are sequentially formed on the back electrode layer 200.

상기 광 흡수층(300)은 스퍼터링 공정 또는 증발법 등에 의해서 형성될 수 있다.The light absorbing layer 300 may be formed by a sputtering process or an evaporation method.

예를 들어, 상기 광 흡수층(300)을 형성하기 위해서 구리, 인듐, 갈륨, 셀레늄을 동시 또는 구분하여 증발시키면서 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계)의 광 흡수층(300)을 형성하는 방법과 금속 프리커서 막을 형성시킨 후 셀레니제이션(Selenization) 공정에 의해 형성시키는 방법이 폭넓게 사용되고 있다.For example, copper, indium, gallium, selenide-based (Cu (In, Ga) Se 2 ; CIGS-based) while evaporating copper, indium, gallium, and selenium simultaneously or separately to form the light absorbing layer 300. The method of forming the light absorbing layer 300 and the method of forming the metal precursor film by the selenization process are widely used.

금속 프리커서 막을 형성시킨 후 셀레니제이션 하는 것을 세분화하면, 구리 타겟, 인듐 타겟, 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정에 의해서, 상기 이면전극(200) 상에 금속 프리커서 막이 형성된다.When the metal precursor film is formed and selenization is subdivided, a metal precursor film is formed on the back electrode 200 by a sputtering process using a copper target, an indium target, and a gallium target.

이후, 상기 금속 프리커서 막은 셀레이제이션(selenization) 공정에 의해서, 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계)의 광 흡수층(300)이 형성된다.Subsequently, the metal precursor film is formed of a copper-indium-gallium-selenide-based (Cu (In, Ga) Se 2 ; CIGS-based) light absorbing layer by a selenization process.

이와는 다르게, 상기 구리 타겟, 인듐 타겟, 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 상기 셀레니제이션 공정은 동시에 진행될 수 있다.Alternatively, the copper target, the indium target, the sputtering process using the gallium target, and the selenization process may be performed simultaneously.

이와는 다르게, 구리 타겟 및 인듐 타겟 만을 사용하거나, 구리 타겟 및 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 셀레니제이션 공정에 의해서, CIS계 또는 CIG계 광 흡수층(300)이 형성될 수 있다.Alternatively, the CIS-based or CIG-based optical absorption layer 300 can be formed by using only a copper target and an indium target, or by a sputtering process and a selenization process using a copper target and a gallium target.

이후, 상기 광 흡수층(300) 상에 인듐 셀레나이드 또는 인듐 설파이드가 증착되어 상기 제 1 버퍼층(410)이 형성된다.Thereafter, indium selenide or indium sulfide is deposited on the light absorbing layer 300 to form the first buffer layer 410.

상기 제 1 버퍼층(410)은 화학 용액 성장법(chemical bath depositon;CBD), 화학 기상 증착(chemical vapor deposition;CVD) 공정, 스프레이법 또는 물리 기상 증착(physical vapor deposition;PVD) 공정에 의해서 형성될 수 있다.The first buffer layer 410 may be formed by a chemical bath deposit (CBD), a chemical vapor deposition (CVD) process, a spray method, or a physical vapor deposition (PVD) process. Can be.

예를 들어, 제 1 버퍼층(410)은 CBD 공정에 의해서, 인듐 설페이트 및 싸이오 우레아(thio urea)를, 또는 인듐 아세테이트 화합물 및 싸이오 우레아(thio urea)를, 암모니아를 수용액에서, 70~80도에서, 반응하여 형성할 수 있다. 암모니아 대신 TEA(트리에탄올아민)을 사용하거나, TEA 및 암모니아를 동시에 사용하여 상기 제 1 버퍼층(410)이 형성될 수 있다.For example, the first buffer layer 410 may be formed of indium sulfate and thio urea, or an indium acetate compound and thio urea, and ammonia in an aqueous solution by using a CBD process. In the figure, it can be formed by reaction. The first buffer layer 410 may be formed using TEA (triethanolamine) instead of ammonia, or simultaneously using TEA and ammonia.

또한, 상기 제 1 버퍼층(410)에는 은 및/또는 알루미늄이 도핑될 수 있다.In addition, silver and / or aluminum may be doped into the first buffer layer 410.

이후, 상기 제 1 버퍼층(410) 상에 징크 셀레나이드 또는 징크 설파이드가 증착되어 상기 제 2 버퍼층(420)이 형성된다.Thereafter, zinc selenide or zinc sulfide is deposited on the first buffer layer 410 to form the second buffer layer 420.

상기 제 2 버퍼층(420)은 CBD, CVD 공정, 스프레이법 또는 PVD 공정에 의해 서 형성될 수 있다.The second buffer layer 420 may be formed by a CBD, a CVD process, a spray method, or a PVD process.

예를 들어, 제 2 버퍼층(420)은 CBD 공정을 이용하여 형성할 수 있는데, 징크 설페이트 및 암모니아 싸이오 우레아를 암모니아 또는 하이드라진 등에서 반층시켜서 형성될 수 있다.For example, the second buffer layer 420 may be formed using a CBD process, and may be formed by semi-layering zinc sulfate and ammonia thiourea in ammonia or hydrazine.

또한, 상기 제 2 버퍼층(420)에는 은 및/또는 알루미늄이 도핑될 수 있다.In addition, silver and / or aluminum may be doped into the second buffer layer 420.

이후, 상기 제 2 버퍼층(420) 상에 징크 옥사이드가 스퍼터링 공정 등에 의해서 증착되고, 상기 고저항 버퍼층(500)이 형성된다.Thereafter, zinc oxide is deposited on the second buffer layer 420 by a sputtering process, and the high resistance buffer layer 500 is formed.

도 5를 참조하면, 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 윈도우층(600)이 형성된다. 상기 윈도우층(600)을 형성하기 위해서, 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 투명한 도전물질이 적층된다. 상기 투명한 도전물질의 예로서는 알루미늄 도핑된 징크 옥사이드 등을 들 수 있다.Referring to FIG. 5, a window layer 600 is formed on the high resistance buffer layer 500. In order to form the window layer 600, a transparent conductive material is stacked on the high resistance buffer layer 500. Examples of the transparent conductive material include aluminum doped zinc oxide and the like.

실시예에 따른 태양전지의 제조방법은 제 1 버퍼층(410) 및 제 2 버퍼층(420)을 형성하여, 향상된 효율을 가지는 태양전지를 제공할 수 있다.In the solar cell manufacturing method according to the embodiment, the first buffer layer 410 and the second buffer layer 420 may be formed to provide a solar cell having improved efficiency.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although described above with reference to the embodiment is only an example and is not intended to limit the invention, those of ordinary skill in the art to which the present invention does not exemplify the above within the scope not departing from the essential characteristics of this embodiment It will be appreciated that many variations and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified. And differences relating to such modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

도 1은 실시예에 따른 태양전지의 일 단면을 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a cross section of a solar cell according to an embodiment.

도 2는 실시예에 따른 태양전지의 각 층별 밴드갭 에너지를 도시한 도면이다.2 is a view showing bandgap energy of each layer of the solar cell according to the embodiment.

도 3 내지 도 5는 실시예에 따른 태양전지를 제조하기 위한 공정을 도시한 단면도들이다.3 to 5 are cross-sectional views illustrating a process for manufacturing a solar cell according to an embodiment.

Claims (6)

기판;Board; 상기 기판 상에 배치되는 전극층;An electrode layer disposed on the substrate; 상기 전극층 상에 배치되는 광 흡수층;A light absorbing layer disposed on the electrode layer; 상기 광 흡수층 상에 배치되며, 인듐 셀레나이드 또는 인듐 설파이드를 포함하는 제 1 버퍼층;A first buffer layer disposed on the light absorbing layer and including indium selenide or indium sulfide; 상기 제 1 버퍼층 상에 배치되며, 징크 셀레나이드 또는 징크 설파이드를 포함하는 제 2 버퍼층; 및A second buffer layer disposed on the first buffer layer and including zinc selenide or zinc sulfide; And 상기 제 2 버퍼층 상에 배치되는 윈도우층을 포함하는 태양전지.A solar cell comprising a window layer disposed on the second buffer layer. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 버퍼층 및 상기 윈도우층 사이에 개재되는 고저항 버퍼층을 포함하는 태양전지.The solar cell of claim 1, further comprising a high resistance buffer layer interposed between the second buffer layer and the window layer. 제 2 항에 있어서, 상기 고저항 버퍼층은 징크 옥사이드를 포함하는 태양전지.The solar cell of claim 2, wherein the high resistance buffer layer comprises zinc oxide. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 버퍼층은 2 eV 내지 2.7 eV의 에너지 밴드갭을 가지고, 상기 제 2 버퍼층은 2.7 eV 내지 3.7 eV의 에너지 밴드갭을 가지는 태양전지.The solar cell of claim 1, wherein the first buffer layer has an energy band gap of 2 eV to 2.7 eV, and the second buffer layer has an energy band gap of 2.7 eV to 3.7 eV. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 버퍼층 또는 제 2 버퍼층은 알루미늄 도펀트 또는 은 도펀트를 포함하는 태양전지.The solar cell of claim 1, wherein the first buffer layer or the second buffer layer comprises an aluminum dopant or a silver dopant. 기판 상에 전극층을 형성하는 단계;Forming an electrode layer on the substrate; 상기 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계;Forming a light absorbing layer on the electrode layer; 상기 광 흡수층 상에 인듐 셀레나이드 또는 인듐 설파이드를 포함하는 제 1 버퍼층을 형성하는 단계;Forming a first buffer layer including indium selenide or indium sulfide on the light absorbing layer; 상기 제 1 버퍼층 상에 징크 셀레나이드 또는 징크 설파이드를 포함하는 제 2 버퍼층을 형성하는 단계; 및Forming a second buffer layer including zinc selenide or zinc sulfide on the first buffer layer; And 상기 제 2 버퍼층 상에 윈도우층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지의 제조방법.Forming a window layer on the second buffer layer manufacturing method of a solar cell.
KR1020090027878A 2009-03-31 2009-03-31 Solar cell and method of fabricating the same KR100999810B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090027878A KR100999810B1 (en) 2009-03-31 2009-03-31 Solar cell and method of fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090027878A KR100999810B1 (en) 2009-03-31 2009-03-31 Solar cell and method of fabricating the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100109315A KR20100109315A (en) 2010-10-08
KR100999810B1 true KR100999810B1 (en) 2010-12-08

Family

ID=43130448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090027878A KR100999810B1 (en) 2009-03-31 2009-03-31 Solar cell and method of fabricating the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100999810B1 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101173402B1 (en) 2011-01-25 2012-08-10 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
WO2013019028A3 (en) * 2011-07-29 2013-05-02 Lg Innotek Co., Ltd. Solar cell and method of fabricating the same
KR101262583B1 (en) 2011-07-29 2013-05-08 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101305603B1 (en) * 2011-11-09 2013-09-09 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101349484B1 (en) 2011-11-29 2014-01-10 엘지이노텍 주식회사 Solar cell module and method of fabricating the same

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130052478A (en) * 2011-11-11 2013-05-22 엘지이노텍 주식회사 Solar cell and method of fabricating the same
KR20130111815A (en) 2012-04-02 2013-10-11 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101897073B1 (en) * 2012-08-23 2018-09-12 엘지이노텍 주식회사 Solar cell and method of fabricating the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100280838B1 (en) 1993-02-08 2001-02-01 이데이 노부유끼 Solar cell
JP2001156001A (en) 1999-11-25 2001-06-08 Sony Corp Semiconductor device and method of manufacturing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100280838B1 (en) 1993-02-08 2001-02-01 이데이 노부유끼 Solar cell
JP2001156001A (en) 1999-11-25 2001-06-08 Sony Corp Semiconductor device and method of manufacturing the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101173402B1 (en) 2011-01-25 2012-08-10 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
WO2013019028A3 (en) * 2011-07-29 2013-05-02 Lg Innotek Co., Ltd. Solar cell and method of fabricating the same
KR101262583B1 (en) 2011-07-29 2013-05-08 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
US9818892B2 (en) 2011-07-29 2017-11-14 Lg Innotek Co., Ltd. Solar cell and method of fabricating the same
KR101305603B1 (en) * 2011-11-09 2013-09-09 엘지이노텍 주식회사 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101349484B1 (en) 2011-11-29 2014-01-10 엘지이노텍 주식회사 Solar cell module and method of fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100109315A (en) 2010-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100999810B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101154786B1 (en) Solar cell apparatus and method of fabricating the same
US20140305505A1 (en) Solar cell and preparing method of the same
KR101091215B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101371859B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR20130052478A (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101428146B1 (en) Solar cell module and method of fabricating the same
KR101283183B1 (en) Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101081270B1 (en) Solar cell and method of fabircating the same
KR101219835B1 (en) Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101210046B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101382898B1 (en) See through type solar cell and fabricating method
KR101081300B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR20100109320A (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101180998B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101283240B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101765924B1 (en) Solar cell apparatus and method of fabricating the same
US20150249171A1 (en) Method of making photovoltaic device comprising i-iii-vi2 compound absorber having tailored atomic distribution
KR101327102B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101210154B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101134892B1 (en) Solar cell and method for fabricating the same
KR101428147B1 (en) Solar cell apparatus and method of fabricating the same
KR101055135B1 (en) Solar cell
KR101610382B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same
KR101081309B1 (en) Solar cell and method of fabricating the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131105

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141106

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151105

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161104

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171107

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181112

Year of fee payment: 9