KR100990601B1 - Color filters and method of manufacturing the color filters - Google Patents

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Abstract

본 발명은 컬러필터의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 컬러필터에 관한 것으로서, 구체적으로 상기 컬러필터의 제조방법은 (a) 기판 상에 차광부 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 차광부 패턴이 형성된 기판 상에 수용성 고분자 용액을 코팅하는 단계; (c) 상기 차광부 패턴을 열경화하는 단계; (d) 상기 (c) 단계에 의하여 형성된 수용성 고분자 층을 세정하는 단계; 및 (e) 상기 차광부 패턴에 의하여 구획된 화소부에 잉크를 충진하는 단계를 포함한다. The present invention relates to a method for manufacturing a color filter and a color filter manufactured by the method. Specifically, the method for manufacturing the color filter includes the steps of: (a) forming a light shielding part pattern on a substrate; (b) coating a water-soluble polymer solution on the substrate on which the light shielding portion pattern is formed; (c) thermosetting the light blocking part pattern; (d) cleaning the water-soluble polymer layer formed by step (c); And (e) filling ink into the pixel portion partitioned by the light blocking portion pattern.

컬러필터, 잉크젯, 화소부, 차광부, 수용성 고분자 Color filter, inkjet, pixel part, light shielding part, water soluble polymer

Description

컬러필터 및 컬러필터의 제조방법 {COLOR FILTERS AND METHOD OF MANUFACTURING THE COLOR FILTERS}Color filter and manufacturing method of color filter {COLOR FILTERS AND METHOD OF MANUFACTURING THE COLOR FILTERS}

도 1은 종래 방법을 이용해 컬러필터를 제조하는 공정의 모식도이다.1 is a schematic diagram of a process for producing a color filter using a conventional method.

도 2는 본 발명의 방법을 이용해 컬러필터를 제조하는 공정의 모식도이다.2 is a schematic diagram of a process for producing a color filter using the method of the present invention.

도 3은 잉크가 화소부 내부에 미충진이 발생한 CCD(Charge-Coupled Device) 카메라(×50) 사진이다.3 is a photograph of a charge-coupled device (CCD) camera (× 50) in which ink is not filled in the pixel portion.

도 4는 잉크가 화소부 내부에 균일하게 채워진 CCD 카메라(×50) 사진이다. 4 is a photograph of a CCD camera (× 50) in which ink is uniformly filled in the pixel portion.

본 발명은 컬러필터의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 컬러필터에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 별도의 친잉크층을 구성하는 공정 없이 또한 복잡한 표면 처리 없이 화소부의 친잉크성을 유지함으로써 잉크젯에 의한 컬러필터 제조 시 공정을 단순화하여 비용을 절감할 수 있는 컬러필터의 제조방법 및 이에 의해 제조된 컬러필터에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing a color filter and a color filter produced by the method. More specifically, a method of manufacturing a color filter which can reduce costs by simplifying the process of manufacturing a color filter by inkjet by maintaining the inking property of the pixel portion without a process of forming a separate ink layer and without complicated surface treatment. And it relates to a color filter produced thereby.

일반적으로 반도체 회로소자 및 LCD 등의 디스플레이 장치에 사용되는 미세패턴은 포토레지스트(Photoresist)를 이용한 포토리소그래피(Photolithography)에 의해 형성된다. 도 1은 코팅, 노광, 현상, 세정 및 경화의 단계를 나타내는 포토리소그래피 공정을 나타낸다. 그러나, 포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 패턴을 정밀하게 얻을 수 있는 장점이 있음에도 불구하고, 많은 단계의 공정을 거쳐야 한다는 것과 포토레지스트의 효과를 극대화하기 위해 많은 종류의 재료들이 사용된다는 점, 그리고 코팅 등의 공정에서 많은 양의 포토레지스트가 소모된다는 단점이 있다. 최근에는 이러한 포토리소그래피의 단점을 극복하기 위해 잉크젯 프린팅 방식에 의해 미세패턴을 얻는 기술이 제안되고 있다.In general, micropatterns used in display devices such as semiconductor circuit devices and LCDs are formed by photolithography using photoresist. 1 shows a photolithography process showing the steps of coating, exposure, development, cleaning and curing. However, although photolithography has the advantage of obtaining precisely the desired pattern, it has to go through many steps and many kinds of materials are used to maximize the effect of photoresist, coating, etc. There is a disadvantage that a large amount of photoresist is consumed in the process of. Recently, in order to overcome such disadvantages of photolithography, a technique of obtaining a fine pattern by an inkjet printing method has been proposed.

잉크젯 프린팅에 의한 컬러필터의 제작은 기존의 포토리소그래피 방식에 의해 차광부인 BM(black matrix)을 형성하고, 이 BM을 격벽으로 하여 BM 사이의 화소부에 R, G, B의 잉크를 분사함으로써 가능해 진다. 이때 격벽으로 사용되는 BM이 잉크에 대해 발잉크성을 갖지 못한다면 BM 사이의 화소부에 분사된 잉크가 BM 격벽을 타고 넘어서 인접한 옆의 화소부로 흘러 들어가게 되어 동종 컬러 또는 이종 컬러간 혼색이 발생할 우려가 있다. 따라서 잉크젯 프린팅에서 격벽의 역할을 하게 되는 BM 재료는 잉크에 대한 발잉크성이 상당히 커야만 한다.Production of color filters by inkjet printing is possible by forming a black matrix (BM), which is a light shielding part, by using a conventional photolithography method, and spraying R, G, and B ink on the pixel portion between the BMs using the BM as a partition wall. Lose. At this time, if the BM used as the partition does not have ink repellency against the ink, the ink sprayed on the pixel portion between the BMs flows over the BM partition wall into the adjacent pixel portion, and there is a possibility of mixing of the same or different colors. have. Therefore, the BM material, which serves as a partition in inkjet printing, must have a considerably high ink repellency for ink.

이와는 반대로 BM 사이의 화소부의 기판 표면은 잉크에 대한 발잉크성이 낮아야만 분사된 잉크가 화소부내에서 균일하게 잘 퍼지며, 화소부내 미충진에 의한 빛샘 현상을 없애고 화소부내 또는 픽셀간 단차를 줄일 수 있다. 그러나, 일반적으로 발잉크성이 강한 BM 재료를 사용하여 BM 패턴을 형성하게 되면 포스트-베이킹(post-baking) 과정에 의해 BM 간 화소부의 글래스 기판 표면이 발잉크성을 갖는 BM의 표면과 유사한 정도의 발잉크성을 갖도록 표면이 개질되며, 이로 인해 잉크를 젯팅하여도 화소부 내부에서 잘 퍼지지 않아 미충진이 발생하고 화소부내 또는 화소부간 단차가 심하게 발생하게 된다. 화소부에 잉크가 미충진 상태를 도 3에 예시하였다.On the contrary, the substrate surface of the pixel portion between BMs must have low ink repellency for the ink so that the ejected ink can spread evenly within the pixel portion, eliminating light leakage caused by unfilled pixel portion, and reducing the level difference between the pixel portion or the pixel. have. However, in general, when the BM pattern is formed using a BM material having strong ink repellency, the glass substrate surface of the pixel portion between the BMs is similar to the surface of the BM having ink repellency by a post-baking process. The surface is modified to have ink repellency of the ink, and thus, even though ink is jetted, the surface does not spread well within the pixel portion, so that unfilling occurs, and a step in the pixel portion or between the pixel portions is severely generated. 3 illustrates a state in which the ink is not filled in the pixel portion.

이러한 문제를 해결하기 위해 일본 특허공개공보 제1997-203803호에서는 요부를 친잉크 처리제에 의해 표면 처리하고 볼록한 부분을 발잉크 처리제로 표면 처리하는 방법이 제시되어 있다. 그러나 이 방법은 친잉크 처리제를 처리하면서 발잉크 처리 부분이 영향을 받지 않도록 하거나, 친잉크 처리와 발잉크 처리의 2회의 처리를 별도로 행해야 한다는 문제점이 있었다. In order to solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 1997-203803 discloses a method of surface-treating main parts with a pro-ink treatment agent and surface treatment of convex portions with a repellent ink treatment agent. However, this method has a problem in that the ink repellent treatment portion is not affected while the ink repellent agent is treated, or two separate treatments, the ink repellent ink and the ink repellent ink treatment, are performed.

또 다른 방법으로 대한민국 특허공개공보 제2000-0047958호에서는 습윤성을 변화시킬 수 있는 습윤성 가변층을 가지는 컬러필터를 제시하고 있다. 그러나 이 방법은 차광부인 격벽층과 개구부인 잉크층 외에 습윤성 가변층이라는 별도의 층이 구성되어 제조 공정이 복잡해지는 단점이 있다. As another method, Korean Patent Laid-Open Publication No. 2000-0047958 proposes a color filter having a wettability variable layer that can change wettability. However, this method has a disadvantage in that the manufacturing process is complicated by forming a separate layer called a wettability variable layer in addition to the barrier layer and the ink layer.

또한 일본 특허 공개공보 제2000-258622호에 있어서는 감광층을 패턴 노광하여 노광 부분을 친수성 영역으로 변화시키는 방법이 소개되어 있다. 그러나, 이 방법도 별도의 감광층을 형성하여야 하는 추가적인 공정이 필요하게 된다. In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-258622, a method of pattern exposing a photosensitive layer to change an exposed portion into a hydrophilic region is introduced. However, this method also requires an additional process of forming a separate photosensitive layer.

따라서 본 발명의 목적은 잉크젯 방식에 의해 컬러필터를 제조함에 있어서, 격벽 역할을 하는 차광부의 발잉크성을 유지하면서 차광부 사이의 화소부의 친수성을 유지하여 화소부 내에서의 잉크의 퍼짐성을 향상시켜 화소부내 혹은 화소부간의 혼색이 없고, 미충진에 의한 색빠짐이 없으며, 표면이 균일하면서 화소부내 혹은 화소부간의 단차가 적은 컬러필터를 제조하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 컬러필터를 제공하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to improve the spreadability of the ink in the pixel portion by maintaining the hydrophilicity of the pixel portion between the light shielding portion while maintaining the ink repellency of the light blocking portion serving as a partition wall in manufacturing the color filter by the inkjet method There is provided a method for producing a color filter in the pixel portion or between the pixel portion, no color dropping due to unfilled, uniform surface and small step between the pixel portion or the pixel portion, and the color filter manufactured by the method. It is.

본 발명은,The present invention,

(a) 기판 상에 차광부 패턴을 형성하는 단계;(a) forming a light shielding pattern on the substrate;

(b) 상기 차광부 패턴이 형성된 기판 상에 수용성 고분자 용액을 코팅하는 단계;(b) coating a water-soluble polymer solution on the substrate on which the light shielding portion pattern is formed;

(c) 상기 차광부 패턴을 열경화하는 단계;(c) thermosetting the light blocking part pattern;

(d) 상기 (b) 단계에 의하여 형성된 수용성 고분자 층을 세정하는 단계; 및(d) cleaning the water-soluble polymer layer formed by step (b); And

(e) 상기 차광부 패턴에 의하여 구획된 화소부에 잉크를 충진하는 단계(e) filling ink into a pixel portion partitioned by the light blocking portion pattern

를 포함하는 컬러필터의 제조방법을 제공한다. It provides a method of manufacturing a color filter comprising a.

본 발명은 상기 방법에 의하여 제조된 컬러필터를 제공한다. The present invention provides a color filter manufactured by the above method.

본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치를 제공한다. The present invention provides a display device including the color filter.

이하 본 발명에 대해서 자세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 컬러필터 제조방법은 (a) 기판 상에 차광부 패턴을 형성하는 단계, (b) 상기 (a) 단계에 의하여 차광부 패턴이 형성된 기판 상에 수용성 고분자 용액을 코팅하는 단계, (c) 상기 차광부 패턴을 열경화하는 단계, (d) 상기 (b) 단계에 의하여 형성된 수용성 고분자 층을 세정하는 단계, 및 (e) 상기 차광부 패턴에 의하여 구획된 화소부에 잉크를 충진하는 단계를 포함한다.The method for manufacturing a color filter according to the present invention comprises the steps of (a) forming a light shielding part pattern on a substrate, (b) coating a water-soluble polymer solution on a substrate having the light shielding part pattern formed by the step (a), ( c) thermosetting the light blocking portion pattern, (d) washing the water-soluble polymer layer formed by the step (b), and (e) filling ink into the pixel portion partitioned by the light blocking portion pattern. Steps.

구체적으로 잉크젯 방법의 적용 시 격벽 역할을 하는 상기 차광부 패턴의 형 성을 기존 포토리쏘그래피 공정으로 수행하는 경우, 기판 상에 발잉크성 재료를 도포하고 프리 베이크, UV 노광, 현상 및 포스트 베이크 과정을 거치게 된다. 특히, 고온의 열처리로 차광부 재료를 경화하는 포스트 베이크 과정을 거치면서 차광부의 발잉크성 성분이 화소부에 영향을 미침으로써 친잉크성을 유지해야 하는 화소부가 발잉크성으로 변화되는 현상이 발생한다. 이와 같은 현상은 차광부 패턴 제조시 차광부 패턴의 발잉크성 물질이 고온의 열처리 중에 빠른 속도로 휘발되는 과정에서 옆에 위치한 화소부에 흡착되어 남아있기 때문으로 추정된다. 또한 포스트 베이크를 수행하지 않고 현상 후 아무런 처리를 하지 않는 경우 이후 토출된 잉크에 의해 차광부 패턴의 경화되지 않은 성분이 잉크의 용제에 녹으면서 차광부 패턴의 형상이 변형될 문제가 있다. Specifically, in the case of forming the light-shielding part pattern serving as a partition wall when applying the inkjet method by a conventional photolithography process, an ink repellent material is coated on a substrate, and a pre-baking, UV exposure, developing and post-baking process is performed. Will go through. In particular, while the post-baking process of curing the light-shielding material by a high temperature heat treatment, the ink-repelling component of the light-shielding portion affects the pixel portion, thereby changing the pixel portion to maintain ink-repellency. Occurs. This phenomenon is presumed to be because the ink-repellent material of the light shielding part pattern is adsorbed and remains at the pixel unit located in the process of volatilization at high speed during high temperature heat treatment during manufacturing of the light shielding part pattern. In addition, when no post-baking is performed and no processing is performed after development, there is a problem in that the shape of the light blocking portion pattern is deformed while the uncured component of the light blocking portion pattern is dissolved in the ink solvent by the ejected ink.

그러나 본 발명에서는, 차광부 패턴을 포스트 베이크 처리하는 단계 이전에 화소부의 발잉크화를 막기 위해 상기 차광부 패턴이 형성된 기판 상에 수용성 고분자 용액을 코팅하는 것을 특징으로 한다. 상기 수용성 고분자 용액의 코팅은 포스트 베이크 처리 과정에서 발생하는 휘발성분이 화소부에 흡착되는 것을 방지하여 경화과정 중에 차광부 패턴의 발잉크성 물질이 화소부에 영향을 주어 흡착물질로 남는 것을 차단할 수 있다. 이로 인해 화소부의 친수성을 유지하여 화소부에 미퍼짐없이 균일하게 잉크를 채울 수 있다. 잉크가 화소부에 균일하게 채워진 상태는 도 4의 사진과 같다.However, in the present invention, the water-soluble polymer solution is coated on the substrate on which the light-shielding portion pattern is formed in order to prevent ink repelling of the pixel portion before the post-baking treatment of the light-shielding portion pattern. The coating of the water-soluble polymer solution may prevent the volatiles generated during the post-baking process from adsorbing to the pixel portion, thereby preventing the ink-repellent material of the light blocking portion pattern from affecting the pixel portion during the curing process and remaining as an adsorbent material. . As a result, the hydrophilicity of the pixel portion can be maintained and ink can be uniformly filled without slipping. The state in which the ink is uniformly filled in the pixel portion is as shown in the photograph of FIG. 4.

상기 (a) 단계는 기판 상에 차광부 패턴을 형성하는 과정이다. 상기 (a) 단계는, (a1) 기판 상에 차광부 재료를 도포하는 단계; (a2) 상기 차광부 재료를 프 리 베이크하는 단계; 및 (a3) 프리 베이크된 차광부 재료를 선택적으로 노광 및 현상하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 차광부 패턴을 형성할 수 있다.Step (a) is a process of forming a light blocking pattern on the substrate. The step (a) may comprise: (a1) applying a light shielding material on the substrate; (a2) prebaking the light blocking material; And (a3) selectively exposing and developing the prebaked light blocking material.

상기 기판으로는 재료에 특별히 한정되지 않으나, 유리 기판, 플라스틱 기판 또는 기타 플렉시블 기판 등을 사용할 수 있으며, 내열성이 강한 투명 유리 기판이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a material as a said board | substrate, A glass substrate, a plastic substrate, another flexible substrate, etc. can be used, A transparent glass substrate with strong heat resistance is preferable.

상기 (a1) 단계에서 기판 상에 차광부 재료를 도포하는 방법은 당기술분야에서 알려진 방법, 예컨대 스핀코팅, 딥코팅 또는 닥터 블레이딩 등에 의해 수행될 수 있다.In the step (a1), the method of applying the light shielding material on the substrate may be performed by a method known in the art, such as spin coating, dip coating, or doctor blading.

상기 차광부 재료는 발잉크성을 갖는 것이 바람직하며, 상기 차광부 재료는 발잉크성을 갖기 위해 발잉크성 성분인 실리콘계 또는 플루오린계 계면활성제를 차광부 형성용 전체 조성물 중 0.01 내지 0.3 중량%를 함유하는 것이 바람직하다Preferably, the light blocking portion material has ink repellency, and the light blocking portion material may contain 0.01 to 0.3 wt.% Of the total composition for forming a light shielding portion using a silicone-based or fluorine-based surfactant which is an ink repellent component in order to have ink repellency. It is desirable to contain

상기 차광부 재료의 차광성 착색 재료로는 카본블랙, 유기안료 혼합형 차광성 착색제, 카본블랙과 유기안료 혼합형 차광성 착색제를 혼합한 하이브리드형 착색재료를 차광부 형성용 조성물의 전체 고형분 중 20 내지 50 중량% 함유하는 것이 바람직하다. As the light-shielding coloring material of the light-shielding part material, a hybrid color material in which carbon black, an organic pigment mixed light-shielding colorant, and carbon black and an organic pigment mixed light-shielding colorant are mixed is used in 20 to 50 of the total solids of the composition for forming the light-shielding part. It is preferable to contain by weight%.

상기 차광부 형성용 조성물은 코팅성을 위해 용매를 포함할 수 있다. The light shielding part composition may include a solvent for coating property.

상기 (a2) 단계에서 프리베이크는 50 내지 150℃에서 10 내지 1000초 동안 수행하는 것이 바람직하다.In the step (a2), the prebaking is preferably performed at 50 to 150 ° C. for 10 to 1000 seconds.

상기 (a3) 단계에서 선택적 노광 및 현상은 당기술분야에 알려진 방법을 이용하여 수행할 수 있다. 예컨대, 상기 프리베이크된 차광부 재료를 포토마스크를 이용하여 선택적으로 노광한 후 노광된 부위 또는 비노광된 부위를 현상함으로써 수행될 수 있다.Selective exposure and development in the step (a3) can be carried out using a method known in the art. For example, the prebaked light shielding material may be selectively exposed using a photomask, followed by developing the exposed or unexposed portions.

상기 (a) 단계에서 제조된 차광부 패턴의 두께는 1.1 내지 5㎛인 것이 바람직하며, 광학 밀도는 상기 두께 범위에서 3 내지 6인 것이 바람직하다. 또한 상기 차광부 패턴은 잉크에 대하여 20 내지 60°의 접촉각을 갖는 것이 바람직하다. The thickness of the light blocking part pattern manufactured in step (a) is preferably 1.1 to 5 μm, and the optical density is preferably 3 to 6 in the thickness range. In addition, the light shielding portion pattern preferably has a contact angle of 20 to 60 ° with respect to the ink.

상기 (b) 단계의 수용성 고분자 용액 중 수용성 고분자는 크게 천연고분자 및 천연고분자 유도체와 합성고분자로 구분로 구분할 수 있으며, 천연고분자 및 천연고분자 유도체에는 알기네이트(alginate), 펙틴(pectin) 등의 양이온성 또는 음이온성 다당류와 셀룰로오스, 전분, 키틴, 키토산 등의 다당류를 이용하여 제조된 양이온성 또는 음이온성 다당류계 유도체 및 치환체, 핵산, 타이코산(teichoic acid), 카라기닌(carrageenan), 아가(agar), 검 아랍(gum arab), 젤라틴(gelatin) 또는 리그노설폰산(lignosulfonic acids) 등이 포함된다. 합성고분자에는 비이온성 수용성 고분자로서 폴리(에틸렌옥사이드)(poly(ethylene oxide)), 폴리(프로필렌옥사이드)(poly(propylene oxide)), 폴리옥시메틸렌(polyoxymethylene), 폴리(트리메틸렌옥사이드)(poly(trimethylene oxide)) 및 폴리(테트라메틸렌옥사이드)(poly(tetramethylene oxide)) 등과 같은 폴리옥사이드와 이들의 공중합체, 폴리비닐메틸에테르(poly(vinyl methyl ether))와 같은 폴리에스터(polyether), 폴리(에틸렌이민)(poly(ethylene imine)), 폴리(아크릴산)(poly(acrylic acid)), 폴리아크릴아미드(polyacrylamide), 폴리(메타크릴산)(poly(methacrylic acid)), 폴리메타크릴아미드(polymethacrylamide), 폴리(N,N-디메틸아크릴아미드)(poly(N,N- dimethylacrylamide)), 폴리(N-이소프로필아크릴아미드)(poly(N-isopropylacrylamide)), N-폴리(N-아크릴일글리신아미드)((N-poly(N-acrylylglycinamide)) 및 폴리(N-메타크릴일글리신아미드)(poly(N-methacrylylglycinamide)) 등과 같은 아크릴 폴리머(acrylic polymer)와 이들의 공중합체, 폴리(비닐알콜)(poly(vinyl alcohol)), 폴리(비닐아세테이드)(poly(vinyl acetate)), 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone), 폴리비닐옥사졸리돈(polyvinyloxazolidone) 및 폴리비닐메틸옥사졸리돈(polyvinylmethyloxazolidone) 등과 같은 비닐폴리머(vinyl polymer)가 포함된다. 이온성 수용성 고분자로는 폴리(아크릴산)(poly(acrylic acid)), 폴리(에틸렌이민)(poly(ethylene imine)), 폴리(에틸렌설폰산)(poly(ethylene sulfonic acid)), 폴리(메타아크릴산)(poly(methacrylic acid)), 폴리(포스포릭산)(poly(phosphoric acid)), 폴리(실릭산)(poly(silicic acid)), 폴리(스타이렌설폰산)(poly(styrenesulfonic acid)), 폴리비닐아민(polyvinylamine), 폴리(2-비닐피리딘)(poly(2-vinylpyridine)), 폴리(4-비닐피리딘)(poly(4-vinylpyridine)), 폴리(비닐설폰산)(poly(vinyl sulfuric acid))의 염(salt)와 폴리(디알릴디메틸암모늄클로라이드)(poly(diallyldimethylammonium chloride)), 폴리([디메틸이미노]트리메틸렌(디메틸이미노)-헥사메틸렌디브로마이드))(poly([(dimethylimino)trimethylene(dimethylimino)-hexamethylene dibromide])), 폴리(에틸렌포스포닉산)(poly(ethylenephosphonic acid)), 폴리(말레산)(poly(maleic acid)), 폴리(2-메타크릴로일옥시에탄-1-설폰산)(poly(2-methacryloyloxyethane-1-sulfonic acid)), 폴리(3-메타크릴로일옥시프로판-1-설포닉산)(poly(3-methacryloyloxypropane-1-sulfonic acid)), 폴리(4-비닐벤조산)(poly(4-vinylbenzoic acid)), 폴리4-비닐(벤질트리메틸암모늄염)(poly(4-vinylbenzyltrimethylammonium salts)), 폴리[3-(비닐옥시)프로판-1-설폰산](poly[3-(vinyloxy)propane-1-sulfonic acid]), 폴리(4-비닐페놀)(poly(4-vinylphenol)), 폴리(4-비닐페닐설퍼산)(poly(4-vinylphenyl sulfuric acid)), 폴리(2-비닐피페리딘)(poly(2-vinylpiperidine)), 폴리(4-비닐피페리딘)(poly(4-vinylpiperidine)) 및 폴리(N-비닐숙신아미드산)(poly(N-vinylsuccinamidic acid)) 등이 포함되며, 또한 이온성 및 비이온성 단량체 또는 고분자로부터 얻어진 공중합체가 포함될 수 있다. 다만 본 발명의 범위가 전술한 예들에만 한정되는 것은 아니며, 상기의 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있다. 상기 수용성 고분자 용액은 코팅되는 것이 바람직하며 이때 용매로서 물을 사용할 수 있으나 이에만 한정되는 것은 아니다. 상기 수용성 고분자는 수용성 고분자 용액 총 중량에 대해 1 내지 20중량%를 사용하는 것이 바람직하다. The water-soluble polymer in the water-soluble polymer solution of step (b) can be largely divided into natural polymers and natural polymer derivatives and synthetic polymers, and the cations such as alginate and pectin in the natural and natural polymer derivatives. Cationic or anionic polysaccharide derivatives and substituents prepared using poly or anionic polysaccharides and polysaccharides such as cellulose, starch, chitin and chitosan, nucleic acids, teichoic acid, carrageenan and agar. ), Gum arab, gelatin or lignosulfonic acids. Synthetic polymers include nonionic water-soluble polymers as poly (ethylene oxide), poly (propylene oxide), polyoxymethylene, poly (trimethylene oxide) (poly ( trimethylene oxide) and poly (tetramethylene oxide) and the like and copolymers thereof, and polyethers such as poly (vinyl methyl ether) and poly ( Poly (ethylene imine), poly (acrylic acid), polyacrylamide, poly (methacrylic acid), polymethacrylamide ), Poly (N, N-dimethylacrylamide), poly (N-isopropylacrylamide), N-poly (N-acrylylglycine) Amides) ((N-poly (N-acrylylglycinamide)) and poly (N-methacrylylglycinamide) (poly ( Acrylic polymer such as N-methacrylylglycinamide) and copolymers thereof, poly (vinyl alcohol), poly (vinyl acetate), polyvinylpi Vinyl polymers such as polyvinylpyrrolidone, polyvinyloxazolidone, polyvinylmethyloxazolidone, etc. Ionic water-soluble polymers include poly (acrylic). acid)), poly (ethylene imine), poly (ethylene sulfonic acid), poly (methacrylic acid), poly (phosphoric acid) (poly (phosphoric acid)), poly (silicic acid), poly (styrenesulfonic acid), polyvinylamine, poly (2-vinylpyridine) salts of (poly (2-vinylpyridine)), poly (4-vinylpyridine), poly (vinyl sulfuric acid) salt and poly (diallyldimethylammonium chloride), poly ([dimethylimino] trimethylene (dimethylimino) -hexamethylenedibromide)) (poly ([(dimethylimino) trimethylene ( dimethylimino) -hexamethylene dibromide])), poly (ethylenephosphonic acid), poly (maleic acid), poly (2-methacryloyloxyethane-1- Sulfonic acid) (poly (2-methacryloyloxyethane-1-sulfonic acid)), poly (3-methacryloyloxypropane-1-sulphonic acid) (poly (3-methacryloyloxypropane-1-sulfonic acid)), poly (4 Poly (4-vinylbenzoic acid), poly4-vinyl (benzyltrimethylammonium salts), poly [3- (vinyloxy) propane-1-sulfonic acid] (poly [3- (vinyloxy) propane-1-sulfonic acid]), poly (4-vinylphenol), poly (4-vinylphenyl sulfuric acid) , Poly (2-vinylpiperidine), poly (4-vinylpiperidine) and poly (N-vinylsuccinamidic acid), and the like, and also from ionic and nonionic monomers or polymers. The copolymer obtained can be included. However, the scope of the present invention is not limited only to the examples described above, and one or more compounds selected from the group may be used. Preferably, the water-soluble polymer solution is coated, and water may be used as the solvent, but is not limited thereto. The water-soluble polymer is preferably used 1 to 20% by weight based on the total weight of the water-soluble polymer solution.

또한, 수용성 고분자 용액의 차광부 패턴 상의 코팅성을 향상시키기 위하여 수계에 사용되는 계면활성제 등의 첨가제를 수용성 고분자 용액 총 중량에 대해 0.01 내지 0.3중량% 사용할 수 있다. In addition, in order to improve the coating property on the light-shielding portion pattern of the water-soluble polymer solution, additives such as a surfactant used in an aqueous solution may be used in an amount of 0.01 to 0.3% by weight based on the total weight of the water-soluble polymer solution.

본 발명의 수용성 고분자 용액은 당업계에서 알려진 방법으로 코팅할 수 있다. 구체적으로 바코더, 스핀코터 또는 슬릿 코터 등으로 코팅할 수 있으며 바람직하게는 슬릿 코터를 이용하여 코팅할 수 있다. 상기 코팅된 수용성 고분자 용액을 발잉크성 차광부 패턴이 형성된 기판 상에 코팅시 특별히 한정되지 않으나 1 내지 5㎛의 두께로 코팅하는 것이 바람직하다. 이때 코팅된 수용성 고분자 용액은 코팅 두께에 따라 차광부 패턴 및 화소부에 모두 코팅될 수도 있으나, 차광부 패턴의 발잉크성으로 인해 차광부 패턴 상에는 남아 있지 않으면서 화소부에만 채워지게 된다. The water soluble polymer solution of the present invention can be coated by methods known in the art. Specifically, it may be coated with a bar coder, a spin coater or a slit coater, and may be preferably coated using a slit coater. When the coated water-soluble polymer solution is coated on the substrate on which the ink repellent light shielding pattern is formed, it is not particularly limited, but is preferably coated with a thickness of 1 to 5 μm. At this time, the coated water-soluble polymer solution may be coated on both the light blocking portion pattern and the pixel portion according to the coating thickness, but due to the ink repellency of the light blocking portion pattern, the water soluble polymer solution is only filled in the pixel portion without remaining on the light blocking portion pattern.

상기 (c) 단계는 상기 차광부 패턴을 열경화하는 단계로, 상기 수용성 고분자 용액으로 코팅된 발잉크성 차광부 패턴이 있는 기판을 200 내지 250℃에서 10 내지 200분 동안 포스트-베이킹한다. 상기 포스트-베이킹에 의하여 차광부 패턴의 표면은 발잉크성을 그대로 유지하면서 차광부 패턴 사이의 화소부는 박막의 수용성 고분자 층이 형성된다. Step (c) is a step of thermosetting the light shielding pattern, and post-baking the substrate having the ink repellent light shielding pattern coated with the water-soluble polymer solution at 200 to 250 ° C. for 10 to 200 minutes. By the post-baking, the surface of the light blocking portion pattern maintains ink repellency while the pixel portion between the light blocking portion patterns is formed with a water-soluble polymer layer of a thin film.

상기 (d) 단계는 상기 (b) 단계에 의하여 형성된 수용성 고분자 층을 세정하는 단계로 상기 박막의 수용성 고분자 층을 현상액이나 물로 세정할 수 있다. 따라서 차광부 패턴 표면의 발잉크성을 유지하면서 상기 수용성 고분자 층이 채워져 있던 화소부는 친수성을 갖는 차광부 기판을 제조할 수 있다. In the step (d), the water-soluble polymer layer formed by the step (b) may be washed, and the water-soluble polymer layer of the thin film may be washed with a developer or water. Accordingly, the pixel portion filled with the water-soluble polymer layer while maintaining the ink repellency of the surface of the light blocking portion pattern can manufacture a light blocking portion substrate having hydrophilicity.

상기 (e) 단계는 상기 차광부 패턴에 의하여 구획된 화소부에 잉크를 충진하는 단계로, 2종 이상의 잉크, 예컨대 R, G, B의 3종 잉크를 동시에 또는 연속적으로 충진할 수 있다. 상기 잉크는 광경화성 또는 열경화성 잉크를 사용할 수 있다. 상기 잉크 충진은 잉크젯 방법에 의하여 수행되는 것이 바람직하다.In the step (e), the ink is filled in the pixel portion partitioned by the light blocking portion pattern, and two or more kinds of inks, for example, three kinds of inks, such as R, G, and B, may be simultaneously or continuously filled. The ink may use a photocurable or thermosetting ink. The ink filling is preferably performed by an inkjet method.

각 잉크를 잉크젯 방법에 의해 화소부에 토출하면, 본 발명의 방법에 따라 형성된 차광부 패턴은 발잉크성을 띠고 화소부는 친잉크성을 띠고 있으므로, 토출 된 잉크는 화소부 내에서 균일하게 퍼지며 또한 차광부 패턴보다 높게 볼록하게 도포될 수 있다.When each ink is discharged to the pixel portion by the inkjet method, the light-shielding portion pattern formed according to the method of the present invention has ink repellency and the pixel portion has an ink repellency, so that the ejected ink spreads uniformly in the pixel portion. It may be applied convexly higher than the light shielding pattern.

이 과정에서 토출된 잉크는 발잉크성인 차광부 패턴을 타고 넘지 않으므로 각 잉크마다의 별도의 후처리 공정 없이 세 잉크의 연속 토출이 가능하며, 필요에 따라 각 잉크 토출 후 또는 모든 잉크 토출 후 잉크에 대해 광경화 또는 열경화를 수행할 수 있다. Since the ink discharged in this process does not cross the ink repellent shading pattern, three ink can be continuously discharged without a separate post-treatment process for each ink. Photocuring or thermosetting may be performed.

광경화형 잉크의 경우에는 각 잉크 토출 후 또는 모든 잉크 토출 후 50 내지 150℃의 온도에서 10 내지 2000초 동안 프리베이크(pre-bake)를 실시하고, 40 내지 300 mJ/cm2의 노광량으로 노광을 한 뒤 200 내지 250℃의 온도에서 10 내지 200분 동안 고온 열경화를 실시할 수 있다. 열경화형 잉크의 경우에는 각 잉크 토출 후 또는 모든 잉크 토출 후 50 내지 150℃의 온도에서 10 내지 2000초 동안 프리베이크(pre-bake)를 실시한 뒤, 별도의 노광 공정 없이 200 내지 250℃의 온도에서 10 내지 200분 동안 고온 열경화를 실시할 수 있으며, 열경화형과 광경화형을 혼합된 잉크에 대해서도 상기의 공정을 수행할 수 있다. In the case of the photocurable ink, pre-bake is carried out for 10 to 2000 seconds at a temperature of 50 to 150 ° C after each ink discharge or after all ink discharges, and exposure is performed at an exposure dose of 40 to 300 mJ / cm 2 . After the high temperature thermal curing may be carried out for 10 to 200 minutes at a temperature of 200 to 250 ℃. In the case of the thermosetting ink, after pre-bake for 10 to 2000 seconds at 50 to 150 ° C. after each ink discharge or after all ink discharges, the temperature is 200 to 250 ° C. without a separate exposure process. High temperature heat curing may be performed for 10 to 200 minutes, and the above process may be performed with respect to an ink mixed with a thermosetting type and a photo curing type.

본 발명은 상기 방법에 의하여 제조된 컬러필터를 제공한다. The present invention provides a color filter manufactured by the above method.

이와 같이 제조된 컬러필터는 별도의 친잉크층을 구성하는 공정 없이, 또한 복잡한 표면 처리 없이 화소부의 친잉크성을 유지함으로써 잉크 충진시 혼색과 색 빠짐, 미충진, 얼룩이 없고 표면이 균일한 컬러필터의 제조가능하며 공정을 단순화하여 비용 절감에 기여할 수 있다. The color filter manufactured as described above maintains the inking properties of the pixel portion without the process of forming a separate inking layer and without complicated surface treatment, so that no color mixture, color dropout, unfilled, uneven color and uniform surface are filled during ink filling. It is manufacturable and can reduce costs by simplifying the process.

본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 표시 장치를 제공한다.The present invention provides a display device including the color filter.

본 발명에 따른 표시 장치는 전술한 본 발명에 따른 컬러필터를 포함하는 것을 제외하고는 당기술 분야에 알려진 구성을 가질 수 있다. The display device according to the present invention may have a configuration known in the art, except for including the color filter according to the present invention described above.

실시예Example 1 One

감광성 수지 조성물 1000 중량부에 대해 착색제로 카본 블랙 65 중량부, 알칼리 가용성 수지바인더로 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산의 공중합체(산가 110 KOH ㎎/g, 몰비 70/30, Mw = 30,000) 29 중량부, 및 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산의 공중합체에 알릴글리시딜 에테르가 부가된 중합체(산가 80 KOH ㎎/g, Mw = 22,000) 70 중량부, 관능성 모노머로 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 50 중량부, 광중합 개시제로 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모폴리노페닐)부틸-1-온 20 중량부, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 10 중량부, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논 5 중량부, 및 머캅토벤조티아졸 5 중량부, 첨가제로 분산제인 폴리에스테르계 분산제 9 중량부 및 발잉크성을 부여하기 위한 레벨링제로 플루오린계 계면활성제 1 중량부, 용매로 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 440 중량부, 에톡시에틸 프로피오네이트 290 중량부를 혼합하였다. 그 다음, 상기 혼합물을 5 시간 동안 교반하여 블랙 매트릭스 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Copolymer of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid (acid value 110 KOH mg / g, molar ratio 70/30, Mw = 65 parts by weight of carbon black as colorant and alkali-soluble resin binder with respect to 1000 parts by weight of photosensitive resin composition) 30,000) 29 parts by weight, and 70 parts by weight of a polymer having an allylglycidyl ether added to the copolymer of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid (acid value 80 KOH mg / g, Mw = 22,000), a functional monomer Rhodipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight, 20 parts by weight of 2-benzyl-2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butyl-1-one as a photopolymerization initiator, 2,2'- 10 parts by weight of bis (o-chlorophenyl) -4,4,5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 5 parts by weight of 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, and mer 5 parts by weight of captobenzothiazole, 9 parts by weight of a polyester-based dispersant as a dispersant, and 1 part by weight of a fluorine-based surfactant as a leveling agent for imparting ink repellency, solvent 440 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate and 290 parts by weight of ethoxyethyl propionate were mixed. Then, the mixture was stirred for 5 hours to prepare a black matrix photosensitive resin composition.

수용성 고분자 용액은 수용성 고분자 용액 1000 중량부에 대해 폴리메타크릴산 소디움염(알드리찌, Mn=4,000, Mw=6,500) 10 중량부를 2차 증류수 990 중량부와 혼합하여 1.0중량%의 수용액으로 제조하였다.The water-soluble polymer solution was prepared by mixing 10 parts by weight of polymethacrylic acid sodium salt (Aldrich, Mn = 4,000, Mw = 6,500) with 990 parts by weight of secondary distilled water based on 1000 parts by weight of the water-soluble polymer solution. It was.

상기와 같이 제조한 감광성 수지 조성물 용액을 유리에 스핀 코팅하고, 약 100 ℃로 2 분 동안 전열 처리하여 약 2.4 ㎛ 두께의 도막을 형성하였다. 그 다음, 실온에서 냉각한 후, 포토마스크를 이용하여 고압수은 램프 하에서 100 mJ/㎠의 에너지로 노광시켰다. 상기 노광된 기판을 25 ℃의 온도에서 0.04 %의 KOH 수용액에서 스프레이 방식으로 현상한 후, 순수로 세정하고 에어블로잉(air blowing)에 의해 건조시켰다. 차광성 패턴이 형성된 유리 기판 위에 슬릿 코터를 이용하여 수용성 고분자 용액을 2.0 ㎛의 두께로 균일하게 도포한 후, 220 ℃의 컨벡션 오븐에서 30 분간 포스트베이크(post-bake)하였다. The photosensitive resin composition solution prepared as described above was spin coated onto glass and subjected to an electrothermal treatment at about 100 ° C. for 2 minutes to form a coating film having a thickness of about 2.4 μm. Then, after cooling at room temperature, it was exposed with an energy of 100 mJ / cm 2 under a high pressure mercury lamp using a photomask. The exposed substrate was developed by spraying in a 0.04% aqueous KOH solution at a temperature of 25 ° C., washed with pure water and dried by air blowing. The water-soluble polymer solution was uniformly applied to a thickness of 2.0 μm using a slit coater on the glass substrate on which the light-shielding pattern was formed, and then post-baked in a convection oven at 220 ° C. for 30 minutes.

상기와 같이 수득한 도막에서 차광성 패턴의 도막 두께는 2.0 ㎛ 이고, 광학밀도가 4.3으로 우수한 차광성을 나타내었으며, 화소부내에 형성된 수용성 고분자 층의 두께는 0.2 ㎛ 이었다. In the coating film obtained as described above, the coating film thickness of the light-shielding pattern was 2.0 μm, and the optical density was 4.3, which showed excellent light blocking property, and the thickness of the water-soluble polymer layer formed in the pixel portion was 0.2 μm.

상기와 같이 수득한 도막에서 화소부 내에 형성된 수용성 고분자 층은 25 ℃의 온도에서 순수를 이용하여 스프레이 방식으로 세정하였으며, 이를 에어블로잉에 의해 건조하였다.In the coating film obtained as described above, the water-soluble polymer layer formed in the pixel portion was cleaned by spray using pure water at a temperature of 25 ° C., and dried by air blowing.

잉크젯 방법에 의해 각 화소부에 분사된 적색 잉크는 잉크 조성물 1000 중량부에 대해 착색제로 피그먼트레드 #254 43중량부, 피그먼트레드 #177 13중량부, 피그먼트옐로우 #139 9중량부, 알칼리 가용성 수지바인더로 벤질(메타)아크릴레이트와 (메타)아크릴산이 70:30의 몰비로 형성된 공중합체에 알릴글리시딜 에테르가 부가된 중합체(Mw = 24,000) 38 중량부, 관능성 모노머로 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 75 중량부, 아조아마이드계 열중합개시제 5 중량부, 첨가제로 분산제인 폴리에스테르계 분산제 23 중량부, 레벨링제로 플루오린계 계면활성제 0.4 중량부, 용매로 부틸 카비톨 아세테이트 650 중량부, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 63 중량부, 메톡시 프로판올 60 중량부, 및 부틸 셀로솔브 아세테이트 15 중량부를 혼합하였으며, 상기 혼합물을 5 시간 동안 교반하여 잉크젯용 잉크 조성물을 제조하였다.The red ink ejected to each pixel part by the inkjet method was 43 parts by weight of Pigment Red # 254, 13 parts by weight of Pigment Red # 177, 9 parts by weight of Pigment Yellow # 139 with a colorant based on 1000 parts by weight of the ink composition. 38 parts by weight of a polymer having allylglycidyl ether added (Mw = 24,000) to a copolymer in which benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid were formed in a molar ratio of 70:30 using a soluble resin binder, and dipenta as a functional monomer. 75 parts by weight of erythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of azoamide-based thermal polymerization initiator, 23 parts by weight of polyester-based dispersant as a dispersant, 0.4 part by weight of fluorine-based surfactant as a leveling agent, 650 parts by weight of butyl carbitol acetate as a solvent 63 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, 60 parts by weight of methoxy propanol, and 15 parts by weight of butyl cellosolve acetate were mixed. Was prepared in the ink-jet ink composition was stirred for 5 hours.

상기와 같이 제조된 적색 잉크는 발잉크성을 가지면서 잉크의 퍼짐성이 개선된 화소부에 잉크젯 방법에 의해 분사되었다. 이때, 각 화소부에서 미충진이나 색빠짐의 현상 없이 원하는 색상을 균일하게 얻기 위해 필요한 잉크의 분사되는 양 혹은 방울 수는 35 내지 40 방울이 적절하였다.The red ink prepared as described above was ejected by the inkjet method to the pixel portion having ink repellency and improved spreadability of the ink. In this case, 35 to 40 drops were appropriate for the amount of ejected ink or the number of droplets required for uniformly obtaining a desired color without the phenomenon of unfilled or discolored color in each pixel portion.

도 4은 모든 과정이 종료된 후 잉크가 균일하게 채워져 있는 모습을 나타냈다.4 shows that the ink is uniformly filled after all the processes are completed.

비교예Comparative example 1  One

수용성 고분자의 코팅 및 세정 단계를 수행하지 않은 것을 제외하고는 실시예와 동일하게 실시하였다.The same procedure as in Example was conducted except that the coating and washing step of the water-soluble polymer was not performed.

도 3에 나타난 것처럼 잉크가 퍼지지 않고 뭉쳐서 전체 화소부 내부를 균일하게 채울 수 없게 되었다. As shown in FIG. 3, the ink did not spread and aggregated to uniformly fill the entire pixel portion.

본 발명에서는 잉크젯 프린팅 방식에 의해 컬러필터를 제조함에 있어서, 격벽 역할을 하는 차광부의 발잉크성은 유지하면서도 차광부 패턴 사이의 화소부의 친수성을 유지하여 화소부 내에서의 잉크의 펴짐성을 향상시켜 화소부내 혹은 화소 부간 혼색이 없고, 미충진에 의한 색빠짐이 없으며, 표면이 균일하면서 화소부내 혹은 화소부간 단차가 적은 컬러필터를 제조할 수 있다.In the present invention, in manufacturing a color filter by an inkjet printing method, while maintaining ink repellency of the light blocking portion serving as a partition wall while maintaining the hydrophilicity of the pixel portion between the light blocking portion pattern to improve the spreadability of the ink in the pixel portion It is possible to manufacture a color filter in which there is no color mixing in the pixel portion or between pixel portions, no color dropping due to unfilling, and the surface is uniform and the level difference between the pixel portion and the pixel portion is small.

Claims (11)

(a) 기판 상에 차광부 패턴을 형성하는 단계;(a) forming a light shielding pattern on the substrate; (b) 상기 차광부 패턴이 형성된 기판 상에 수용성 고분자 용액을 코팅하는 단계;(b) coating a water-soluble polymer solution on the substrate on which the light shielding portion pattern is formed; (c) 상기 차광부 패턴을 열경화하는 단계;(c) thermosetting the light blocking part pattern; (d) 상기 (b)단계에 의하여 형성된 수용성 고분자를 세정하는 단계; 및(d) washing the water-soluble polymer formed by step (b); And (e) 상기 차광부 패턴에 의하여 구획된 화소부에 잉크를 충진하는 단계(e) filling ink into a pixel portion partitioned by the light blocking portion pattern 를 포함하는 컬러필터의 제조방법. Method of manufacturing a color filter comprising a. 청구항 1에 있어서, 상기 차광부 패턴의 광학밀도는 1.1 내지 5 ㎛ 두께에서 3 내지 6이고 상기 차광부 패턴의 잉크에 대한 접촉각은 20 내지 60°인 것인 컬러필터의 제조방법. The method of claim 1, wherein the light blocking part pattern has an optical density of 3 to 6 at a thickness of 1.1 to 5 μm, and a contact angle with respect to the ink of the light blocking part pattern is 20 to 60 °. 청구항 1에 있어서, 상기 차광부 재료는 실리콘계 또는 플루오린계 계면활성제를 차광부 형성용 전체 조성물 중 0.01 내지 0.3 중량%이고, 상기 차광부 재료의 차광성 착색 재료로는 카본블랙, 유기안료 혼합형 차광성 착색제, 카본블랙과 유기안료 혼합형 차광성 착색제를 혼합한 하이브리드형 착색재료를 차광부 형성용 조성물의 총 고형분 중 20 내지 50 중량% 함유하는 것인 컬러필터의 제조방법.The light shielding material according to claim 1, wherein the light shielding part material comprises a silicone-based or fluorine-based surfactant in an amount of 0.01 to 0.3% by weight in the total composition for forming the light shielding part. A method for producing a color filter comprising 20 to 50% by weight of the total solid content of the composition for forming a light shielding portion of a hybrid type of colorant, a carbon black and an organic pigment mixed light-shielding colorant. 청구항 1에 있어서, 상기 수용성 고분자 용액 중 수용성 고분자는 양이온성 또는 음이온성 다당류와 양이온성 또는 음이온성 다당류계 유도체 및 치환체, 핵산, 타이코산, 카라기닌, 아가, 검 아랍, 젤라틴, 리그노설폰산, 비이온성 수용성 합성고분자 및 이들의 공중합체, 이온성 합성고분자 및 이들의 공중합체, 이온성 및 비이온성 단량체 또는 고분자로부터 얻어진 공중합체로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는 것인 컬러필터의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the water-soluble polymer in the water-soluble polymer solution is cationic or anionic polysaccharides and cationic or anionic polysaccharide derivatives and substituents, nucleic acids, tycoic acid, carrageenan, agar, gum Arab, gelatin, lignosulfonic acid, A color filter comprising at least one compound selected from the group consisting of nonionic water-soluble synthetic polymers and copolymers thereof, ionic synthetic polymers and copolymers thereof, and copolymers obtained from ionic and nonionic monomers or polymers. Manufacturing method. 청구항 1에 있어서, 상기 수용성 고분자 용액 총 중량에 대해 수용성 고분자는 1 내지 20 중량%인 것인 컬러필터의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the water-soluble polymer is 1 to 20% by weight based on the total weight of the water-soluble polymer solution. 청구항 1에 있어서, 상기 (b) 단계에 의해 코팅된 수용성 고분자 용액의 코팅층의 두께가 1 내지 5 ㎛인 것인 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the thickness of the coating layer of the water-soluble polymer solution coated by the step (b) is 1 to 5 ㎛. 청구항 1에 있어서, 상기 (e) 단계는 2 종 이상의 잉크를 동시에 또는 연속적으로 충진하는 것인 컬러필터의 제조방법. The method of claim 1, wherein step (e) is to fill two or more kinds of inks simultaneously or sequentially. 청구항 1에 있어서, 상기 (e) 단계에서 잉크 충진은 잉크젯 방법에 의하여 수행하는 것인 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the ink filling in the step (e) is performed by an inkjet method. 청구항 1에 있어서, 상기 잉크는 광경화성 또는 열경화성 잉크인 것인 컬러 필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the ink is a photocurable or thermosetting ink. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 하나의 방법에 의하여 제조된 컬러필터. The color filter manufactured by the method of any one of Claims 1-9. 청구항 10의 컬러필터를 포함하는 표시장치.A display device comprising the color filter of claim 10.
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