KR100985754B1 - Photo resist dispense monitoring system - Google Patents

Photo resist dispense monitoring system Download PDF

Info

Publication number
KR100985754B1
KR100985754B1 KR1020080116203A KR20080116203A KR100985754B1 KR 100985754 B1 KR100985754 B1 KR 100985754B1 KR 1020080116203 A KR1020080116203 A KR 1020080116203A KR 20080116203 A KR20080116203 A KR 20080116203A KR 100985754 B1 KR100985754 B1 KR 100985754B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photosensitive liquid
recipe
information
supply
supply pipe
Prior art date
Application number
KR1020080116203A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100057249A (en
Inventor
김상욱
김광수
김두민
Original Assignee
(주)저스틴비디앤엘
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)저스틴비디앤엘 filed Critical (주)저스틴비디앤엘
Priority to KR1020080116203A priority Critical patent/KR100985754B1/en
Publication of KR20100057249A publication Critical patent/KR20100057249A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100985754B1 publication Critical patent/KR100985754B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/001Filters in combination with devices for the removal of gas, air purge systems
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/12Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)

Abstract

본 발명은 감광액 정량 토출 모니터링 시스템에 관한 것으로서, 레서피 정보를 자이로 부터 입수하여 초기 세팅치를 입력해 놓으면 추후 자동으로 레서피 별로 세팅값이 조절되어지게 됨으로 감광액의 정량 토출여부를 보다 용이하게 모니터링 할 수 있는 효과를 나타내게 된다.The present invention relates to a photosensitive liquid quantitative discharge monitoring system, and when recipe information is obtained from the gyro and the initial setting value is input, the setting value is automatically adjusted for each recipe, so that the quantitative discharge of the photosensitive liquid can be monitored more easily. Effect.

이를 실현하기 위한 본 발명은, 감광액 보관탱크(1)로 부터 감광액을 공급배관(P)을 통해 강제 이송시키기 위한 이송펌프(2), 상기 공급배관(P)을 통해 흐르는 감광액의 이물질을 포집하기 위해 설치된 필터(3), 상기 공급배관(P)의 출구측에 설치되어 감광액의 공급량을 측정하는 유량측정센서(5)의 구성을 포함하고 있는 감광액 공급장치(10)와; 상기 감광액 공급장치(10)로 부터 레서피 정보를 수집하여 중앙제어부(30)로 전달하는 정보 수집부(20)와; 상기 정보 수집부(20)로 부터 레서피 정보를 전달받게 됨과 함께, 레서피별 토출량 및 알람범위를 세팅 입력할 수 있도록 분기 연결되어져 있는 랩탑컴퓨터(40)와; 상기 랩탑컴퓨터(40)에서의 입력된 세팅치를 상기 유량측정센서(5)에서의 측정치와 함께 디스플레이 하는 디스플레이부(50);로 이루어짐을 특징으로 한다.The present invention for realizing this, the transfer pump (2) for forcibly transferring the photosensitive liquid from the photosensitive liquid storage tank (1), to collect the foreign matter of the photosensitive liquid flowing through the supply pipe (P) A photosensitive liquid supplying device (10) comprising a filter (3) installed in order to provide a flow rate sensor (5) installed at an outlet side of the supply pipe (P) to measure a supply amount of the photosensitive liquid; An information collecting unit 20 collecting recipe information from the photosensitive liquid supply device 10 and transferring the recipe information to the central control unit 30; A laptop computer 40 which is connected to receive recipe information from the information collecting unit 20 and is branch-connected to set and input a discharge amount and an alarm range for each recipe; And a display unit 50 for displaying the setting value input from the laptop computer 40 together with the measured value from the flow rate sensor 5.

감광액, 반도체, 정량, 토출, 공급, 모니터링, 레서피 Photoresist, Semiconductor, Quantification, Discharge, Supply, Monitoring, Recipe

Description

감광액 정량 토출 모니터링 시스템{PHOTO RESIST DISPENSE MONITORING SYSTEM}Photosensitive liquid quantitative discharge monitoring system {PHOTO RESIST DISPENSE MONITORING SYSTEM}

본 발명은 감광액 토출 모니터링 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 감광액의 정량 토출을 모니터링 하기 위하여 배관 사이에 센서를 설치한 후 장비의 레서피 정보에 따라 배관내의 용액 흐름을 감지토록 하기 위한 시스템 구성에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive liquid discharge monitoring system, and more particularly, to a system configuration for sensing a solution flow in a pipe according to recipe information of a device after installing a sensor between pipes to monitor the quantitative discharge of the photosensitive liquid. will be.

일반적으로, 반도체 제조공정에서 웨이퍼에 패턴을 형성시키기 위해 감광액 및 현상액을 웨이퍼 표면에 도포하는 도포 공정이 수행된다. 이 도포공정에서 도포용액은 웨이퍼 척의 상부에 안착하여 회전하는 웨이퍼 표면에 공급되며, 공급된 웨이퍼는 원심력에 의해 웨이퍼 표면에 골고루 퍼져나가 웨이퍼 전면을 도포하게 된다. In general, an application process is performed in which a photoresist and a developer are applied to a wafer surface in order to form a pattern on a wafer in a semiconductor manufacturing process. In this coating step, the coating solution is placed on the top of the wafer chuck and supplied to the rotating wafer surface, and the supplied wafer is spread evenly on the wafer surface by centrifugal force to apply the entire surface of the wafer.

한편, 웨이퍼에 도포되어지게 될 감광액은 웨이퍼 상부에서 분사노즐을 통해 분사되어지게 되는데, 이때 감광액의 분사량은 장비의 레서피 정보에 따른 감광액의 종류에 따라 조금씩 상이하게 되며, 작업 공정에 따라 정량의 감광액이 분사되어져야 한다.On the other hand, the photoresist to be applied to the wafer is injected through the injection nozzle on the wafer, wherein the injection amount of the photoresist is slightly different depending on the type of photoresist according to the recipe information of the equipment, the quantitative photoresist according to the work process Should be sprayed.

그러나, 종래에는 이러한 정량 분사를 모니터링 하기 위한 장치가 구성되지 못하였기 때문에 감광액의 공급량이 작업시 마다 조금씩 상이해 지면서 웨이퍼 도포 두께에 영향을 주게 되는 문제점이 있었다.However, in the related art, since the device for monitoring the metering is not configured, there is a problem in that the supply amount of the photosensitive liquid is slightly different at each operation and affects the wafer coating thickness.

또한, 작업자가 원하는 생산품 마다 감광액의 공급량을 다르게 설정해 주어야 하는데, 종래에는 작업자가 매번 원하는 값을 세팅해 주어야 하는 번거로움이 있었다.In addition, the operator has to set the supply amount of the photosensitive liquid differently for each desired product, there is a hassle to have to set the desired value each time the operator.

본 발명은 상기한 종래 기술에서의 문제점을 개선하기 위해 제안된 것으로서, 감광액 공급배관라인상에 감광액의 정량 토출을 모니터링 하기 위한 센서를 설치함과 함께 세팅치가 자동적으로 변화되어지도록 함으로서 장비 운용에 있어서의 작업효율을 향상시키는데 목적이 있다.The present invention has been proposed to improve the above-mentioned problems in the prior art, and by setting a sensor for monitoring the quantitative discharge of the photosensitive liquid on the photosensitive liquid supply pipe line, the setting value is changed automatically in the equipment operation. The purpose is to improve the work efficiency.

상기 목적을 이루기 위한 본 발명은, 감광액이 일정 수위로 보관되어지는 감광액 보관탱크, 상기 감광액 보관탱크로 부터 감광액을 공급배관을 통해 강제 이송시키기 위한 이송펌프, 상기 공급배관을 통해 흐르는 감광액의 이물질을 포집하기 위해 설치된 필터, 상기 공급배관의 출구측에 설치되어 감광액의 공급량을 측정하는 유량측정센서의 구성을 포함하고 있는 감광액 공급장치와; 상기 감광액 공급장치로 부터 레서피 정보를 수집하여 중앙제어부로 전달하는 정보 수집부와; 상기 정보 수집부로 부터 레서피 정보를 전달받게 됨과 함께, 레서피별 토출량 및 알람범위를 세팅 입력할 수 있도록 분기 연결되어져 있는 랩탑컴퓨터와; 상기 랩탑컴퓨터에서의 입력된 세팅치를 상기 유량측정센서에서의 측정치와 함께 디스플레이 하는 디스플레이부;로 이루어짐을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, the photosensitive liquid storage tank in which the photosensitive liquid is stored at a certain level, a transfer pump for forcing the photosensitive liquid from the photosensitive liquid storage tank through the supply pipe, foreign matter of the photosensitive liquid flowing through the supply pipe A photosensitive liquid supply device including a filter provided for collecting, a flow rate measuring sensor installed at an outlet side of the supply pipe and measuring a supply amount of the photosensitive liquid; An information collector for collecting recipe information from the photosensitive liquid supply device and transferring the recipe information to a central controller; A laptop computer which is connected to receive recipe information from the information collection unit and which is branch-connected to set and input a discharge amount and an alarm range for each recipe; And a display unit for displaying the setting value input from the laptop computer together with the measurement value from the flow rate measurement sensor.

이러한 본 발명의 정량 토출 모니터링 시스템은, 레서피 정보를 자이로 부터 입수하여 초기 세팅치를 입력해 놓으면 추후 자동으로 레서피 별로 세팅값이 조절 되어지게 됨으로 감광액의 정량 토출여부를 보다 용이하게 모니터링 할 수 있는 효과를 나타낸다.In the quantitative discharge monitoring system of the present invention, when recipe information is obtained from the gyro and the initial setting value is input, the setting value is automatically adjusted for each recipe later, so that the quantitative discharge of the photosensitive liquid can be monitored more easily. Indicates.

이하, 본 발명의 구체적인 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 살펴보기로 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 실시예에 따른 정량 토출 모니터링 시스템의 전체적인 구성을 도 1 및 도 2를 통해 살펴보면, 감광액의 공급이 이루어지는 감광액 공급장치(10)로 부터 초기 장치 운용 작업자가 입력한 레서피(Recipe:장비가 어떤 대상을 프로세싱하는데 필요한 룰이나 컨트롤데이터) 정보 데이타를 입수하는 정보수집부(20)와, 상기 정보수집부(20)로 부터 수집된 정보를 전달받아 과리하는 중앙제어부(3)와, 상기 정보수집부(20)와 데이터 케이블로 분기 연결되어 수집된 데이타를 전달받는 랩탑컴퓨터(40)와, 상기 랩탑컴퓨터(40)에서의 입력된 세팅치를 상기 유량측정센서(5)에서의 측정치와 함께 디스플레이 하는 디스플레이부(50)로 이루어짐을 알 수 있다.First, referring to the overall configuration of the quantitative discharge monitoring system according to the present embodiment through FIGS. 1 and 2, a recipe (equipment: equipment) inputted by an initial device operator from a photosensitive liquid supply device 10 in which a photosensitive liquid is supplied is provided. Rule or control data necessary for processing a certain object) information collection unit 20 for receiving information data, the central control unit 3 for receiving and collecting the information collected from the information collection unit 20, and the information The laptop computer 40 which is branch-connected by the collecting unit 20 and the data cable and receives the collected data, and the input value from the laptop computer 40 is displayed together with the measured value from the flow measuring sensor 5. It can be seen that the display unit 50 is made.

또한, 감광액 공급장치(10)의 내부 배관라인 구성에 있어서는, 감광액이 일정 수위로 보관되어지는 감광액 보관탱크(1)와, 상기 감광액 보관탱크(1)로 부터 감광액을 공급배관(P)을 통해 강제 이송시키기 위한 이송펌프(2)와, 상기 공급배관(P)을 통해 흐르는 감광액의 이물질을 포집하기 위해 설치된 필터(3)와, 감광액 분사 후 배관라인에 잔여된 감광액을 흡입하기 위한 석벡벨브(4;Suck Back Valve)와, 상기 공급배관(P)의 출구측에 설치되어 감광액의 공급량을 측정하는 유량측정 센서(5)가 순차적으로 연결 구성되어져 있다.In addition, in the internal piping line configuration of the photosensitive liquid supply device 10, the photosensitive liquid storage tank (1) in which the photosensitive liquid is stored at a constant level and the photosensitive liquid from the photosensitive liquid storage tank (1) through the supply pipe (P). Transfer pump (2) for forced transfer, a filter (3) installed to collect the foreign matter of the photosensitive liquid flowing through the supply pipe (P), and a seat back valve for sucking the photosensitive liquid remaining in the piping line after photosensitive liquid injection ( 4; a suck back valve and a flow rate sensor 5 which is provided at the outlet side of the supply pipe P and measures the supply amount of the photosensitive liquid are sequentially formed.

상기 유량측정센서(5)는 디스플레이부(50)와 연결되어 유량 측정치를 디지털 값으로 표시되어지게 된다.The flow rate measuring sensor 5 is connected to the display unit 50 to display the flow rate measurement value as a digital value.

특히, 유량제어센서(5)는 도 3에서와 같이 유로상에는 감광액의 공급상태를 확인하기 위하여 발광부(5a)와 수광부(5b)가 쌍을 이루어 상호 대향되는 위치에 구성되어져 있으며, 일측에는 유량 측정을 위한 유량측정 날개(5c)가 회동 가능하게 설치되어져 있음을 확인할 수 있다. 유량제어 날개(5c)는 프로펠러 형태의 날개가 중심축을 중심으로 회동이 자유로운 상태를 이루는 것으로서, 유로상에 구비되어 유로 흐름에 의해 회전이 이루어짐으로서 날개 회전수에 따라 공급량을 측정하여 이를 디지털 값으로 변환하여 나타낼 수 있게 되어진 것이다.In particular, the flow rate control sensor 5 is configured in a position where the light emitting portion 5a and the light receiving portion 5b are opposed to each other in pairs to check the supply state of the photosensitive liquid on the flow path as shown in FIG. It can be confirmed that the flow measuring blade 5c for the measurement is installed to be rotatable. The flow control blade 5c has a propeller-type blade freely rotatable about a central axis. The flow control blade 5c is provided on a flow path, and is rotated by the flow of the flow path. It can be converted and represented.

이와 같은 구성을 이루는 본 발명 모니터링 시스템의 동작에 따른 작용효과를 살펴보기로 한다.The effects of the operation of the monitoring system of the present invention constituting such a configuration will be described.

먼저, 웨이퍼에 도포되어지게 될 감광액은 감광액 공급장치(10) 내의 감광액 보관탱크(1)에서 일정 수위로 보관되어지고 있는 가운데, 펌프(2) 구동에 의해 공급배관(P)을 통해 공급 분사되어지게 된다.First, while the photoresist to be applied to the wafer is stored at a certain level in the photoresist storage tank 1 in the photoresist supply device 10, the photoresist is supplied and injected through the supply pipe P by driving the pump 2. You lose.

즉, 이때 공급되는 감광액은 필터(3)를 거쳐서 이물질이 포집되어진 후 유량제어센서(5)를 통과하여 공급배관(P) 출구측의 노즐을 통해 분사되어지게 되는데, 상기 유량제어센서(5)를 통과하는 과정에서는 내부에 구성된 유량제어날개(5c)의 회전수 측정에 의해 통과 유량이 감지된 후 측정치가 디지털 값으로 디스플레이부(50)를 통해 표시되어지게 된다.That is, at this time, the photosensitive liquid to be supplied is injected through the nozzle at the outlet of the supply pipe P after the foreign matter is collected through the filter 3 and passed through the flow control sensor 5, the flow control sensor (5) In the process of passing through the flow rate is detected by the rotational speed measurement of the flow control blade (5c) configured therein, the measured value is displayed through the display unit 50 as a digital value.

이에 따라 작업자는 현재 감광액 공급량을 디스플레이부(50)를 통해 확인함으로 해당 감광액에 설정된 범위 내에서 정량 토출이 이루어지고 있는지 여부를 확인할 수 있게 된다.Accordingly, the operator can check the current photosensitive liquid supply amount through the display unit 50 to determine whether the quantitative discharge is performed within the range set for the photosensitive liquid.

한편, 감광액 공급장치(10)와 케이블 연결된 정보수집부(20) 에서는 수집된 장비의 정보(알람정보, 생산 카세트 번호, 웨이퍼 수량, 레서피 번호 등)가 중앙제어부(30)로 전송되어 관리되어지게 되는데, 이때 중앙제어부(30)로 전송되는 데이타 중 필요한 레서피 정보가 별도로 랩탑컴퓨터(40)로 전달되어지게 된다.On the other hand, in the information collecting unit 20 connected to the photosensitive liquid supply device 10, the information (alarm information, production cassette number, wafer quantity, recipe number, etc.) of the collected equipment is transmitted to the central control unit 30 to be managed. At this time, the necessary recipe information of the data transmitted to the central control unit 30 is delivered to the laptop computer 40 separately.

즉, 작업자는 초기 레서피 별로 해당 감광액의 적절한 공급량 및 알람범위를 미리 지정하여 세팅한 후, 감광액 공급장치(10)를 구동시키면 수집된 레서피 정보를 랩탑컴퓨터(40)와 중앙제어부(30)에 함께 전송시켜주게 된다.That is, the operator sets the appropriate supply amount and the alarm range of the corresponding photosensitive liquid for each initial recipe in advance, and then drives the photosensitive liquid supplying device 10 together with the collected recipe information to the laptop computer 40 and the central control unit 30. Will be sent.

이에 따라, 디스플레이부(50)에는 현재 공급되고 있는 감광액의 공급량이 유량제어센서(5)로 부터 전달되어 나타내어짐과 함께, 정량 공급에 필요한 세팅수치가 동시에 디스플레이 되어짐으로서 작업자는 한눈에 공급현황을 모니터링 할 수 있게 되는 것이다.Accordingly, the display unit 50 displays the supply amount of the photosensitive liquid currently being supplied from the flow control sensor 5, and simultaneously displays the setting value required for the fixed quantity supply, thereby allowing the operator to supply the supply status at a glance. You will be able to monitor.

따라서, 본 발명의 모니터링 시스템이 구축되어지면, 감광액의 종류 및 작업자가 원하는 생산품별로 작업자가 초기 입력한 레서피 정보가 중앙제어부(30) 및 랩탑컴퓨터(40)에 저장되어진 상태에서 활용되어지게 됨으로, 이후 작업시에는 레서피 별로 세팅값을 별도로 입력하지 않더라도 저장된 데이타에 의해 자동으로 세탕값이 변하게 됨으로 작업시 마다 매번 원하는 값을 입력해야 했던 종래기술에 비해 작업시간을 단축시킴과 함께 장비 운영의 효율성이 개선되어질 수 있게 됨을 알 수 있다.Therefore, when the monitoring system of the present invention is constructed, the recipe information input by the operator for each type of photoresist and the product desired by the operator is utilized in a state in which the central control unit 30 and the laptop computer 40 are stored. Afterwards, even if you do not input the setting value for each recipe, the washing value is automatically changed by the stored data, thus reducing the working time and efficiency of equipment operation compared to the prior art which had to input the desired value every time. It can be seen that it can be improved.

그리고, 상기에서 본 발명의 특정한 실시 예가 설명 및 도시되었지만 본 발명의 감광액 정량 토출 모니터링 시스템이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 수 있음은 자명한 일이다.In addition, although specific embodiments of the present invention have been described and illustrated above, it will be apparent that the photosensitive liquid quantitative discharge monitoring system of the present invention may be variously modified and implemented by those skilled in the art.

예를 들면, 상기 실시예에서는 특정한 실시예에 따른 시스템 구성이 설명 및 도시되었으나, 이러한 시스템 구성은 필요에 따라 다양한 구성부품이 추가 설치되어질 수 있게 된다.For example, in the above embodiment, a system configuration according to a specific embodiment has been described and illustrated, but such a system configuration may be additionally installed with various components as necessary.

그러나, 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상이나 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 이와 같은 변형된 실시 예들은 본 발명의 첨부된 특허청구범위 내에 포함된다 해야 할 것이다.It should be understood, however, that such modified embodiments are not to be understood individually from the spirit and scope of the invention, and such modified embodiments are intended to be included within the scope of the appended claims.

도 1은 본 발명 감광액 공급장치의 시스템 구성도.1 is a system configuration of the photosensitive liquid supply device of the present invention.

도 2는 본 발명에서의 배관라인 구성도.Figure 2 is a configuration of the pipe line in the present invention.

도 3은 유량제어센서의 내부 상세 구조도.Figure 3 is a detailed structural diagram of the flow control sensor.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 : 감광액 보관탱크 2 : 펌프1: photosensitive liquid storage tank 2: pump

3 : 필터 4 : 석벡밸브(Suck Back Valve)3: Filter 4: Suck Back Valve

5 : 유량제어센서 5a: 발광부5: flow control sensor 5a: light emitting part

5b: 수광부 5c: 유량제어날개5b: light receiving portion 5c: flow control wing

10 : 감광액 공급장치 20 : 정보수집부10: photosensitive liquid supply device 20: information collecting unit

30 : 중앙제어부 40 : 랩탑컴퓨터30: central control unit 40: laptop computer

50 : 디스플레이부50: display unit

P : 공급배관P: Supply piping

Claims (3)

감광액이 일정 수위로 보관되어지는 감광액 보관탱크(1), 상기 감광액 보관탱크(1)로 부터 감광액을 공급배관(P)을 통해 강제 이송시키기 위한 이송펌프(2), 상기 공급배관(P)을 통해 흐르는 감광액의 이물질을 포집하기 위해 설치된 필터(3), 상기 공급배관(P)의 출구측에 설치되어 감광액의 공급량을 측정하는 유량측정센서(5)의 구성을 포함하고 있는 감광액 공급장치(10)와;A photosensitive liquid storage tank (1) in which the photosensitive liquid is stored at a predetermined level, a transfer pump (2) for forcibly transferring the photosensitive liquid from the photosensitive liquid storage tank (1) through the supply pipe (P), and the supply pipe (P) A photosensitive liquid supply device 10 including a filter 3 installed to collect foreign substances in the photosensitive liquid flowing therethrough, and a flow rate measuring sensor 5 installed at an outlet side of the supply pipe P to measure a supply amount of the photosensitive liquid. )Wow; 상기 감광액 공급장치(10)로 부터 레서피 정보를 수집하여 중앙제어부(30)로 전달하는 정보 수집부(20)와;An information collecting unit 20 collecting recipe information from the photosensitive liquid supply device 10 and transferring the recipe information to the central control unit 30; 상기 정보 수집부(20)로 부터 레서피 정보를 전달받게 됨과 함께, 레서피별 토출량 및 알람범위를 세팅 입력할 수 있도록 분기 연결되어져 있는 랩탑컴퓨터(40)와;A laptop computer 40 which is connected to receive recipe information from the information collecting unit 20 and is branch-connected to set and input a discharge amount and an alarm range for each recipe; 상기 랩탑컴퓨터(40)에서의 입력된 세팅치를 상기 유량측정센서(5)에서의 측정치와 함께 디스플레이 하는 디스플레이부(50);A display unit (50) for displaying the setting value input from the laptop computer (40) together with the measurement value from the flow rate sensor (5); 로 이루어짐을 특징으로 하는 감광액 정량 토출 모니터링 시스템.Photosensitive liquid quantitative discharge monitoring system, characterized in that consisting of. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 유량제어센서(5)에는 유로상에 발광부(5a)와 수광부(5b)가 쌍을 이루어 상호 대향되는 위치에 구성되어져 있으며, 일측에는 유량 측정를 위한 유량측정 날개(5c)가 회동 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 감광액 정량 토출 모니터링 시 스템.The flow control sensor 5 has a light emitting portion 5a and a light receiving portion 5b formed in pairs on the flow path so as to face each other, and on one side, a flow measuring vane 5c for measuring flow rate is rotatably installed. Photosensitive liquid metered discharge monitoring system, characterized in that. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 공급배관(P)에는 유량제어센서(5)와 필터(3) 사이의 위치에 감광액 분사 후 배관라인에 잔여된 감광액을 흡입하기 위한 석벡벨브(4)가 구성된 것을 특징으로 하는 감광액 정량 토출 모니터링 시스템.The supply pipe (P) is a photosensitive liquid quantitative discharge monitoring, characterized in that configured to suck the photosensitive liquid remaining in the pipe line after the photosensitive liquid injection in the position between the flow control sensor 5 and the filter (3) system.
KR1020080116203A 2008-11-21 2008-11-21 Photo resist dispense monitoring system KR100985754B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080116203A KR100985754B1 (en) 2008-11-21 2008-11-21 Photo resist dispense monitoring system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080116203A KR100985754B1 (en) 2008-11-21 2008-11-21 Photo resist dispense monitoring system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100057249A KR20100057249A (en) 2010-05-31
KR100985754B1 true KR100985754B1 (en) 2010-10-06

Family

ID=42281044

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080116203A KR100985754B1 (en) 2008-11-21 2008-11-21 Photo resist dispense monitoring system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100985754B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102032065B1 (en) 2018-11-14 2019-11-08 주식회사 지오테크놀로지 The constant amount dispenser device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101648543B1 (en) * 2014-03-28 2016-08-17 (주)하이테크시스템즈코리아 System for coating photoresist for both organic light emitting diode and liquid crystal display

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030048698A (en) * 2001-12-12 2003-06-25 안경대 Apparatus for supplying constant quantity of chemicals for photo process of semiconductor device production and method thereof
KR20060048005A (en) * 2004-05-19 2006-05-18 동경 엘렉트론 주식회사 Coating film forming apparatus and coating film forming method
KR20070029345A (en) * 2005-09-09 2007-03-14 삼성전자주식회사 Apparatus for dispensing photosensitive solution in semiconductor device fabrication equipment
KR20080010657A (en) * 2006-07-27 2008-01-31 주식회사 하이닉스반도체 Photo lithography system and method for photo lithography using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030048698A (en) * 2001-12-12 2003-06-25 안경대 Apparatus for supplying constant quantity of chemicals for photo process of semiconductor device production and method thereof
KR20060048005A (en) * 2004-05-19 2006-05-18 동경 엘렉트론 주식회사 Coating film forming apparatus and coating film forming method
KR20070029345A (en) * 2005-09-09 2007-03-14 삼성전자주식회사 Apparatus for dispensing photosensitive solution in semiconductor device fabrication equipment
KR20080010657A (en) * 2006-07-27 2008-01-31 주식회사 하이닉스반도체 Photo lithography system and method for photo lithography using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102032065B1 (en) 2018-11-14 2019-11-08 주식회사 지오테크놀로지 The constant amount dispenser device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100057249A (en) 2010-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11779952B2 (en) Application device and corresponding application method
US20110192433A1 (en) Chemical delivery data acquisition system
US7944363B2 (en) Apparatus and method of sensing leakage of chemical liquid
TW201135381A (en) Manufacturing execution system with virtual-metrology capabilities and manufacturing system including the same
KR100985754B1 (en) Photo resist dispense monitoring system
US20050191184A1 (en) Process flow control circuit
CN109752057A (en) A kind of pump capacity indirect measurement method, apparatus and system
US20170276981A1 (en) Transfer plate wetting system and alignment liquid transfer system
CN106052018B (en) Central air-conditioner cooling water dosing O&amp;M control system and its control method
CN101634816A (en) Developer control system
CN103975276A (en) Spin development method and device
CN108217571B (en) System and method for detecting anti-cheating oiling machine
CN201100852Y (en) A portable hydraulic failure diagnosis instrument
JPH10189438A (en) Apparatus and method for automatic supply of thinner for semiconductor manufacture
CN203117596U (en) Monitoring system
JPH1076153A (en) Automatic liquid supply device and abnormality detector
JP4223831B2 (en) Maintenance management system
KR101081518B1 (en) Apparatus and method for measuring flow rate of chemical liquid
KR20020054698A (en) Method of monitoring the supply of a wafer coating chemicals and the fluid measuring apparatus therefor
CN106885616A (en) Water meter accuracy detection means
CN205981381U (en) Portable flow measurement equipment calibration platform
JP2010028083A (en) Monitoring system and method of photoresist solution coated volume
KR20020020628A (en) Photoresist output monitoring system
WO2024011762A1 (en) Hydraulic monitoring system
JP2003236732A (en) Oil leak detection device for centralized lubrication device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130930

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140930

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150915

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180921

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190722

Year of fee payment: 10