KR100970183B1 - Vertical type cleaning apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 버티컬 타입 자동 세정장치에 관한 것으로서, 베이스 내의 상하측면에 위치하여 상측고정브래킷 및 하측고정브래킷이 장착되고, 이 고정브래킷을 통해 지지홀더가 고정 설치되며, 상기 지지홀더 상에 경간서포트를 상하측으로 배치하되 지지홀더에 배치한 미끄럼부시에 연결하며; 상기 상측고정브래킷에 체결된 베어링유니트에 드라이브샤프트를 수평 배치하여 결합하되 구동모터와 연결하고, 상기 드라이브샤프트에는 구동스프로킷이 결합되고 이 구동스프로킷과 상기 하측고정브래킷 상에 결합된 아이들스프로킷에 체인이 결합되며, 상기 체인 상에는 지지샤프트가 체인의 일부분을 형성하도록 수직하게 연결하되 상기 경간서포트를 관통하도록 배치됨과 아울러 너트 체결에 의해 상호 결합시키며; 상기 지지샤프트 상에 레일샤프트를 상하측으로 수평 배치하되 지지샤프트 상에 배치한 지그부시에 연결하고, 레일샤프트 상에 스크린마스크의 로딩 및 고정을 위해 로딩수단을 설치하며; 상기 베이스 내에서 스크린마스크를 향하여 물 및 에어를 분사하도록 설치하되 물의 초고주파 처리를 병행하는 세정수단을 포함하는 기술구성이 개시된다.The present invention relates to a vertical type automatic cleaning device, which is located on the upper and lower side in the base, and the upper fixing bracket and the lower fixing bracket is mounted, the support holder is fixed through this fixing bracket, the span support on the support holder Arranged up and down and connected to the sliding bush disposed in the support holder; The drive shaft is horizontally coupled to the bearing unit fastened to the upper fixing bracket, and coupled to the drive motor, and the drive shaft is coupled to the drive shaft, and the chain is connected to the driving sprocket and the idle sprocket coupled on the lower fixing bracket. Coupled to the support shaft, the support shaft being vertically connected to form part of the chain, and arranged to penetrate the span support, and coupled to each other by a nut fastening; Horizontally arranging the rail shaft on the support shaft vertically and connecting the jig bush disposed on the support shaft, and installing loading means for loading and fixing the screen mask on the rail shaft; A technical configuration is disclosed that includes a cleaning means installed in the base to spray water and air toward the screen mask and performing ultra-high frequency treatment of water.
스크린마스크, 세정, 버티컬타입, 라인노즐, 초고주파 처리, 원스텝, 현상 Screen Mask, Cleaning, Vertical Type, Line Nozzle, Ultra High Frequency Treatment, One Step, Develop
Description
본 발명은 스크린마스크 등의 자동 세정에 사용되는 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원스텝(one step) 공정으로 진행 및 초고주파 처리를 이용하여 세정효율을 높일 수 있도록 함은 물론 제품불량요인을 제거할 수 있도록 하고 처리시간을 줄일 수 있도록 한 버티컬 타입 자동 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus used for automatic cleaning such as a screen mask, and more particularly, to improve cleaning efficiency by using a one-step process and ultra-high frequency treatment, as well as to remove product defects. The present invention relates to a vertical type automatic cleaning device which enables to reduce the processing time.
일반적으로 스크린마스크는 패턴 인쇄에 사용되는 기자재로서 PDP, LCD, EL, FED 등의 정보디스플레이 산업분야와 PCB, 반도체, MLCC 등의 전자부품 산업분야에 적용되고 있으며, 이러한 스크린마스크를 이용한 인쇄기술은 모든 소재에 구애받지 않고 패턴 인쇄를 가능하게 하며, 특히 간판이나 문구, 화장품케이스 등의 생활용품에서부터 전기/전자부품, 액정 DISPLAY, 휴대전화 등의 상업용 부품에까지 다양하게 적용되고 있다.In general, screen masks are used for pattern printing, and are applied to information display industries such as PDP, LCD, EL, and FED, and electronic component industries such as PCB, semiconductors, MLCC, and the like. Pattern printing is possible regardless of all materials, and it is applied to a variety of products from household goods such as signboards, stationery, cosmetic cases, and commercial parts such as electric / electronic parts, liquid crystal displays, and mobile phones.
스크린마스크는 베이스프레임에 망사가 접착처리에 의해 고정되는 구성을 이루고 있으며, 이 스크린마스크의 망사 부분을 통해 인쇄잉크를 기재(substrate) 상 에 도포하여 패턴을 인쇄하게 되는데, 패턴 인쇄에 들어가기 전에 이미지가 깨끗하게 처리될 수 있도록 스크린마스크를 세정하여 오염물질 등 각종 이물질을 제거하는 작업이 필수적으로 선행된다.The screen mask has a structure in which a mesh is fixed to the base frame by an adhesive treatment, and a pattern is printed by applying a printing ink onto a substrate through the mesh portion of the screen mask, before printing the pattern. In order to clean the screen, the screen mask is cleaned to remove various foreign substances such as contaminants.
이와 같은 스크린마스크의 세정작업에는 통상적으로 자동 세정장비가 많이 활용되는데, 종래 스크린마스크의 자동 세정장비를 활용함에 있어 스크린마스크를 수평상태로 하여 세정하는 방식은 스크린마스크의 표면에 세정액이 고이므로 인하여 표면 잔유물이 잔재해서 오히려 스크린마스크를 재오염시키는 문제점이 있었다.Automatic cleaning equipment is generally used for the cleaning of such screen masks. In the conventional automatic cleaning equipment of screen masks, the screen mask is cleaned in a horizontal state because the cleaning liquid is accumulated on the surface of the screen mask. Residual surface residues had a problem of re-contaminating the screen mask rather.
또한, 종래 스크린마스크를 세정액에 디핑(dipping)하여 처리하는 기술은 스크린마스크의 망사 접착처리부분을 약화시키거나 쉽게 떨어지게 하는 등 스크린마스크의 제품불량을 초래하는 문제점이 있었다.In addition, the technique of dipping (dipping) the screen mask into the cleaning solution has a problem of causing a product defect of the screen mask, such as weakening or easily falling off the mesh bonding portion of the screen mask.
나아가, 종래에는 아주 미세한 입자까지 세정 처리하지 못함에 따라 세정효율이 떨어지는 문제점 및 스크린마스크를 단계별로 이동시키고 다단계 및 다조식의 공정을 거쳐야만 세정작업이 완료되는 시스템으로 세정처리에 시간이 많이 소요되는 문제점이 있었다.Furthermore, in the prior art, since the cleaning process cannot be carried out to very fine particles, the cleaning efficiency is reduced, and the screen mask is moved step by step, and the cleaning operation is completed by a multi-step and multi-step process. There was a problem.
한편, 기존의 종래 세정장비는 스크린마스크의 표면 이물질 제거를 위한 전처리작업용으로 한정되고 있으며, 패턴인쇄를 위한 노광 후 현상작업을 하는데 별도의 현상장비를 추가로 설비하여야 하는 문제점이 있었다.On the other hand, the existing conventional cleaning equipment is limited to the pre-treatment work for removing the surface foreign matter of the screen mask, there was a problem that additional development equipment should be additionally installed to perform post-exposure development work for pattern printing.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 원스텝(one step) 공정으로 진행 및 초고주파 처리를 이용하여 세정효율을 높일 수 있도록 함은 물론 처리시간을 줄일 수 있도록 하며, 버티컬 타입으로 하여 세정액에 의해 표면 잔유물이 잔재하거나 스크린마스크가 재오염되는 문제점을 개선할 수 있도록 하고, 세정 처리시 발생되던 스크린마스크의 제품불량 요인을 제거할 수 있도록 한 버티컬 타입 자동 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, to improve the cleaning efficiency by using a one-step process and ultra-high frequency treatment, as well as to reduce the processing time, vertical type The purpose of this invention is to provide a vertical type automatic cleaning device that can improve the problem that surface residues remain or the screen mask is recontaminated by the cleaning liquid, and to eliminate the defects of the screen mask that occurred during the cleaning process. There is this.
또한, 본 발명은 스크린마스크에 대한 세정효율을 높여 인쇄 이미지를 깨끗하게 처리 및 인쇄 품질을 높이는데 기여할 수 있도록 한 버티컬 타입 자동 세정장치를 제공하는데 있다.In addition, the present invention is to provide a vertical type automatic cleaning device that can contribute to increase the cleaning efficiency of the screen mask to clean the printed image and to improve the print quality.
나아가, 본 발명은 전처리 세정작업은 물론 노광 후 현상작업에도 유용하게 활용할 수 있도록 한 버티컬 타입 자동 세정장치를 제공하는데 있다.Furthermore, the present invention provides a vertical type automatic cleaning device which can be usefully used not only for pretreatment cleaning but also for post-exposure development.
본 발명은 베이스 내의 상하측면에 위치하여 상측고정브래킷 및 하측고정브래킷이 고정 장착되고, 상하 대응 위치에 고정된 상측고정브래킷 및 하측고정브래킷을 통해 지지홀더가 수직하게 고정 설치되며, 상기 지지홀더 상에 경간서포트를 상하측으로 배치하되 지지홀더 상에 배치한 미끄럼부시에 연결하며; 상기 상측고정브래킷에 체결된 베어링유니트에 드라이브샤프트를 수평 배치하여 베어링 결합하되 구동모터와 연결하고, 상기 드라이브샤프트에는 구동스프로킷이 결합되고 이 구동스프로킷과 상기 하측고정브래킷 상에 결합된 아이들스프로킷에 체인이 결합되며, 상기 체인 상에는 지지샤프트가 체인의 일부분을 형성하도록 수직하게 연결하되 양측단부가 상기 경간서포트를 관통하도록 배치됨과 아울러 너트 체결에 의해 상호 결합시키며; 상기 지지샤프트 상에 레일샤프트를 상하측으로 수평 배치하되 지지샤프트 상에 배치한 지그부시에 연결하고, 각 레일샤프트 상에 스크린마스크의 로딩 및 고정 배치를 위한 로딩수단을 설치하며; 상기 베이스 내에서 스크린마스크를 향하여 물 및 에어를 분사하도록 설치하되 물의 초고주파 처리를 병행하게 한 세정수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The present invention is located on the upper and lower side in the base and the upper fixing bracket and the lower fixing bracket is fixedly mounted, and the support holder is fixed vertically installed through the upper fixing bracket and the lower fixing bracket fixed to the upper and lower corresponding positions, the support holder above Arranging the span support in the up and down side and connecting to the sliding bush disposed on the support holder; A drive shaft is horizontally arranged in a bearing unit fastened to the upper fixing bracket to be coupled to a bearing, and connected to a drive motor. A driving sprocket is coupled to the drive shaft, and the driving sprocket is coupled to an idle sprocket coupled to the lower fixing bracket. Are coupled to each other, the support shaft being vertically connected to form a part of the chain, the both ends of which are arranged to penetrate the span support, and are mutually coupled by nut fastening; Horizontally arranging the rail shafts vertically on the support shafts, and connecting the jig bushes disposed on the support shafts, and installing loading means for loading and fixing the screen masks on each rail shaft; It is installed to inject water and air toward the screen mask in the base, characterized in that it comprises a cleaning means for performing the ultra-high frequency treatment of water in parallel.
이때, 상기 세정수단은 스크린마스크의 일측면으로 초고주파 처리된 물을 분출하고 물 입자의 분출 가속력을 높이도록 초고주파발진기가 연결되며 물공급탱크로부터 물을 공급받는 라인노즐과; 스크린마스크의 양측면으로 물을 분사할 수 있도록 설치되며 물공급탱크로부터 물을 공급받는 다수의 워터노즐과; 스크린마스크의 양측면으로 에어를 공급할 수 있도록 설치되며 컴프레셔로부터 에어를 공급받는 다수의 에어노즐로 구성되는 것을 특징으로 한다.At this time, the cleaning means comprises a line nozzle connected to the ultra-high frequency oscillator to eject the ultra-high frequency water to one side of the screen mask and to increase the acceleration of the ejection of water particles and to supply water from the water supply tank; A plurality of water nozzles installed to spray water to both sides of the screen mask and receiving water from the water supply tank; It is installed to supply air to both sides of the screen mask, characterized in that consisting of a plurality of air nozzles supplied with air from the compressor.
또한, 상기 물공급탱크에는 온도센서를 설치하고 히터를 내장하여 수온을 조절 및 유지되게 하는 것을 특징으로 한다.In addition, the water supply tank is characterized in that a temperature sensor is installed and a heater is built in to control and maintain the water temperature.
본 발명은 원스텝 공정으로 세정작업을 완료 및 초고주파를 이용한 물의 분사방식 적용으로 아주 미세한 입자의 오염물질까지 제거할 수 있어 세정효율을 높일 수 있으면서 처리시간을 줄일 수 있으며, 세정효율의 향상에 의해 인쇄 이미지 를 깨끗하게 처리 및 인쇄 품질을 높일 수 있다.According to the present invention, the cleaning operation is completed by one-step process and the spraying of water using ultra-high frequency can remove even the very fine particle contaminants, thereby improving the cleaning efficiency and reducing the processing time, and printing by improving the cleaning efficiency. Clean images and increase print quality.
본 발명은 버티컬 구조로 세정액에 의해 표면 잔유물이 잔재하거나 스크린마스크가 재오염되는 문제점을 개선할 수 있고, 세정액이 자연스럽게 흘러내리고 실제 세정이 요구되는 부분으로만 분사하므로 스크린마스크의 접착부분이 떨어져 제품불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다.The present invention can improve the problem that the surface residue remains or the screen mask is recontaminated by the cleaning liquid in a vertical structure, and since the cleaning liquid flows naturally and sprays only to the part requiring the actual cleaning, the adhesive part of the screen mask is dropped. The failure can be prevented from occurring.
또한, 본 발명은 전처리 세정작업은 물론 노광 후 현상작업에도 유용하게 활용할 수 있다.In addition, the present invention can be usefully used not only for pretreatment cleaning but also for post-exposure development.
본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 7에서와 같이, 본 발명의 실시예에 의한 버티컬 자동 세정장치는 베이스(101)가 마련되고, 베이스(101) 내의 상하측면에 각각 위치하여 상측고정브래킷(102) 및 하측고정브래킷(103)이 고정 장착되며, 장치의 이동이 용이하도록 베이스(101)의 하측면에 캐스터(104)가 장착 구비된다.1 to 7, the vertical automatic cleaning device according to an embodiment of the present invention is provided with a
이때, 상측고정브래킷(102)과 하측고정브래킷(103)은 각각 베이스(101)의 좌우측에 이격 배치된다.In this case, the
상하 대응 위치에 고정된 상측고정브래킷(102) 및 하측고정브래킷(103)을 이용하여 봉과 같은 지지홀더(111)를 베이스(101) 내에 수직하게 세워 고정 설치하며 좌우측에 각각 설치하여 지축(支軸)으로서 기능되게 한다.Using the
이때, 한쌍 구조이며 지축으로 기능되게 한 상기 지지홀더(111)와 지지홀 더(111)의 사이에는 수평구조로 경간서포트(112)를 상하측으로 배치하되, 지지홀더(111) 상에 삽입 배치한 미끄럼부시(113)에 양측단을 연결시켜 지지홀더(111) 상에서 상하방향으로 슬라이딩 이동 가능하도록 결합되게 한다.At this time, between the
여기서, 상기 경간서포트(112)와 미끄럼부시(113)는 일체 형성시킴이 바람직하다 할 것이다.Here, the span support 112 and the sliding
상기 상측고정브래킷(102)에는 베어링유니트(121)가 체결되고 이 베어링유니트(121)에 드라이브샤프트(131)를 베어링 결합하여 수평하게 배치하되 회전 가능하도록 구비되며, 베이스(101) 내의 상측에 수평 배치한 상기 드라이브샤프트(131)는 일측단에 구동모터(132)를 결합하여 구동모터(132)로부터 회전동력을 전달받도록 구성된다.A
상기 드라이브샤프트(131)에는 구동스프로킷(133)이 결합되고, 이 구동스프로킷(133)과 상기 하측고정브래킷(103) 상에 결합된 아이들스프로킷(134)에 체인(135)이 결합된다.The
상기 체인(135) 상에는 일부분으로 지지샤프트(136)가 수직하게 결합되어 체인(135)의 일부분을 형성하도록 연결되며, 이 지지샤프트(136)는 그 양측단부가 상기 경간서포트(112)를 관통하도록 배치됨과 아울러 너트(105) 체결에 의해 상호 결합되게 구성함으로써 상기 체인(135)의 구동시 지지샤프트(136)와 함께 상하방향으로 위치 이동이 가능하도록 구성되게 한다.The
상기 지지샤프트(136)와 지지샤프트(136)의 사이에는 수평구조로 레일샤프트(141)가 상하측으로 각각 배치되되 지지샤프트(136) 상에 미끄러짐 가능하도록 배치된 지그부시(142)에 연결되어 결합되며, 상기 상하측에 배치되는 각각의 레일샤프트(141) 상에는 스크린마스크(1)를 장치 상에 로딩(loading)하되 고정 배치하기 위한 로딩수단(150)이 좌우측에 구비되어 사방 배치된다.
이때, 상기 로딩수단(150)은 레일샤프트(141) 상에서 좌우측방향 슬라이드 이동시킴에 의해 좌우 간격을 조정할 수 있게 되고 레일샤프트(141)를 지지샤프트 상에서 상하측방향 이동시킴에 의해 상하 간격을 조정할 수 있게 되는데, 레일샤프트(141)에 슬라이드 이동 가능하도록 결합되고 하부에 스크린마스크(1)의 모서리부분을 안착 지지하도록 안착지지홈(151a)을 형성한 로딩블록(151)과, 상기 로딩블록(151)에 고정 결합되며 상기 로딩블록(151)의 안착지지홈(151a)에 위치된 스크린마스크(1)를 안정되게 지지하기 위한 토글클램프(152)로 구성된다.At this time, the loading means 150 can adjust the left and right spacing by moving the left and right in the slide shaft on the
여기서, 상기 토글클램프(152)는 레버를 포함하는 링크부(152a)와, 상기 링크부(152a)에 결합되는 지지볼트(152b)로 구성된다.Here, the
상기 베이스(101) 내에는 스크린마스크(1)를 향하여 세정용 물 및 건조용 에어를 선택적 또는 동시에 분사할 수 있도록 개별 설치하되 물의 초고주파 처리를 병행하도록 구성함에 의해 스크린마스크(1)의 세정효율을 높일 수 있도록 하며 베이스(101) 내에서 원스텝공정으로 세정이 가능하도록 세정수단(160)이 설치된다.In the
상기 세정수단(160)은 스크린마스크(1)의 일측면으로 초고주파 처리된 물을 분출하고 물 입자의 분출 가속력을 높이도록 초고주파발진기(164)가 연결되며 물공급탱크(165)로부터 물을 공급받는 라인노즐(161)과, 스크린마스크(1)의 양측면으로 물을 분사할 수 있도록 설치되며 물공급탱크(165)로부터 물을 공급받는 다수의 워 터노즐(162)과, 스크린마스크(1)의 양측면으로 에어를 공급할 수 있도록 설치되며 컴프레셔로(166a)부터 에어를 공급받는 다수의 에어노즐(163)로 구성된다.The washing means 160 is connected to the
이때, 상기 라인노즐(161)과 워터노즐(162) 및 에어노즐(163)은 분사효율 및 물을 하측방향으로 흘려보내기 위해 하향으로 경사져 기울기(tilt)를 갖도록 설치함이 바람직하고, 스크린마스크(1)의 실제 인쇄적용부분(망사의 실제 부분)으로만 물이나 에어를 분사하도록 설치함이 바람직하며, 상기 라인노즐(161)은 인쇄를 위해 스크린마스크(1)의 유제가 발라진 인쇄면을 향하도록 설치함이 바람직하다.At this time, the
여기서, 상기 라인노즐(161)에는 물공급탱크(165)와 연결되는 물통(161b)이 구비되고 이 물통(161b)의 양측에 노즐부(161a)와 상기 초고주파발진기(164)가 연결되어 물통(161a) 내에서 초고주파 처리된 물이 라인형 노즐부(161a)를 통해 분출되도록 구성되게 한 것이다.Here, the
상기 라인노즐(161)과 워터노즐(162)측으로 공급하기 위한 물은 펌프(106)의 가동에 의해 이루어지며, 본 세정장치의 전반적인 동작제어 및 동작모드 설정을 위한 컨트롤박스(107)가 베이스(101) 상에 마련된다.Water for supplying to the
상기 에어공급라인은 컴프레셔(166a)에서 압축 생성된 에어를 필터가 내장된 에어드라이어(166b)를 통해 공기중의 수분이나 오염물질을 제거하고 에어 공급시 정압조절을 위해 에어탱크(166c)에 일시 저장하며 에어필터(166d)를 통해 재차 여과한 후 에어노즐(163)로 보내 분사되도록 구성되게 한다.The air supply line temporarily removes water or contaminants in the air through the
또한, 상기 물공급탱크(165)에는 도시하지는 않았으나, 저장되는 물의 수온에 대해 25~30℃의 범주를 유지하도록 온도센서가 설치되고 히터가 내장되며, 이러 한 수온조절의 구성은 스크린마스크의 세정작업은 물론 본 장치를 통하여 스크린마스크의 노광 후 현상작업에도 유용하게 사용할 수 있도록 함과 아울러 동절기에 물이 얼어 세정작업이 어렵게 되는 것을 방지할 수 있도록 하기 위함이다.In addition, although not shown in the
부연하면, 스크린마스크를 이용한 노광과 현상작업에는 최적조건으로 25~30℃의 처리온도가 요구되는데, 30℃를 초과하는 경우 스크린마스크의 인쇄면에 처리된 감광유제가 벗겨지므로 불필요한 부분이 제거되는 문제점이 발생되고 25℃ 미만인 경우 현상 자체가 이루어지지 않는 문제점이 발생하게 된다.In other words, the exposure and development work using the screen mask requires a processing temperature of 25 ~ 30 ℃ as an optimal condition, if the temperature exceeds 30 ℃, the treated emulsion is peeled off the printing surface of the screen mask to remove unnecessary parts If a problem is generated and the temperature is less than 25 ° C., a problem occurs in which the phenomenon itself is not achieved.
한편, 상기 세정수단(160)의 라인노즐(161)과 워터노즐(162) 및 에어노즐(163)이 설치되는 베이스(101) 내 하측부에는 물탱크(171)가 마련되며, 이를 통해 세정 및 현상작업에 사용된 물을 배수 처리하거나 또는 재순환시켜 사용할 수 있도록 구성되게 한다.On the other hand, the
이때, 물을 재순환시켜 재사용하는데 있어서는 여과과정을 거친 후 사용할 수 있도록 구성함이 바람직하다 할 것이다.At this time, it is preferable to configure the recycled water to be used after the filtration process.
이러한 구성으로 이루어진 본 발명에 의한 버티컬 타입 자동 세정장치의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the vertical type automatic cleaning device according to the present invention having such a configuration as follows.
먼저, 스크린마스크(1)를 로딩수단(150)을 이용하여 장치 상에 로딩 및 고정 배치하되 감광유제가 도포된 스크린마스크(1)의 인쇄면이 세정수단(160)의 라인노즐(161)에 향하도록 배치되게 한다.First, the
이때, 사방 배치된 로딩블록(151)의 안착지지홈(151a)에 스크린마스크(1)의 모서리부분을 안착 및 지지되게 한 상태에서 토글클램프(152)를 조작하여 지지볼 트(152b)를 통해 스크린마스크(1)의 앞면을 눌러 지지되게 함으로써 스크린마스크(1)를 장치 상에 안정적으로 고정 배치되게 한다.At this time, by operating the
여기서, 스크린마스크(1)의 고정 배치를 위한 로딩수단(150)은 레일샤프트(141) 상에서 위치이동이 가능하도록 장착되므로 좌우 간격을 조정할 수 있게 되고, 지그부시(142)에 연결된 레일샤프트(141)를 상하방향으로 위치 이동시킴에 의해 상하 간격을 조정할 수 있게 되며, 이러한 위치 조정구조에 의해 스크린마스크(1)를 규격에 관계없이 장치 상에 모두 적용할 수 있게 되는 것이다.Here, the loading means 150 for the fixed arrangement of the
장치 상에 스크린마스크(1)의 고정 배치가 완료되면, 구동모터(132)가 작동되고 이 구동모터(132)의 정역회전에 따라 그 회전동력이 드라이브샤프트(131)에 전달됨에 의해 무한궤도인 체인(135)이 스프로킷(133)(134)에 안내되어 구동되며, 체인(135)의 일부분을 이루는 지지샤프트(136)가 구동모터(132)의 정회전시 하측방향으로 하강하게 되고 이에 결합된 경간서포트(112) 또한 미끄럼부시(113)와의 결합에 의해 지지홀더(111)를 타고 동시에 하강하게 되며, 구동모터(132)의 역회전시 지지샤프트(136)가 상측방향으로 승강하게 되고 경간서포트(112) 또한 지지홀더(111)를 타고 동시에 상승하게 된다.When the fixed arrangement of the
여기서, 장치 상에 입력된 세정작업시간 동안에 로딩수단(150)에 고정 배치된 스크린마스크(1)는 하강동작과 상승동작을 반복적으로 계속 수행하게 되며, 구체적으로 설명하지는 않았으나 센싱에 의해 하강동작과 상승동작의 전환이 이루어지게 된다.Here, the
이렇게 스크린마스크(1)의 하강동작과 상승동작이 반복적으로 수행되는 동안 에 세정수단(160)이 작동되고, 스크린마스크(1)의 실제 인쇄처리부분(망사부분)으로 초고주파 처리된 세정용 물과 크린용 물 및 건조용 에어를 분사함으로써 세정과 건조작업 또는 현상과 건조작업을 실시하게 되며, 컨트롤박스(107)에 설정된 동작모드로 선별 제어된다.The cleaning means 160 is operated while the lowering and raising operations of the
이때, 동절기나 현상작업을 실시하는 경우에는 물공급탱크(165)의 수온을 25~30℃로 조절 및 유지할 수 있도록 하고, 더욱 바람직하게는 26~28℃로 유지되게 한다.At this time, in the case of performing the winter or developing work, the water temperature of the
여기서, 동작모드는 스크린마스크(1)가 PDP용 또는 정밀제판용으로 구별되는 적용용도에 따라 세정효율을 높여 잔상없이 깨끗한 이미지가 인쇄될 수 있도록 하기 위한 최적조건의 제어모드로서, PDP용 처리모드, 정밀제판용 처리모드, 일반제판용 처리모드, 현상모드 등으로 분류할 수 있다.Here, the operation mode is a control mode of the optimal condition for the
일 예로, PDP용 처리모드는 컨트롤박스(107)의 제어에 의해 제1동작으로 라인노즐(161)을 가동시켜 승강되는 스크린마스크(1)의 표면에 초고주파 처리된 물을 분사하여 아주 미세한 입자까지 세정할 수 있도록 하고, 제2동작으로 워터노즐(162)을 가동시켜 보통의 물을 분사함으로써 세정시키며, 제3동작으로 에어노즐(163)을 가동시켜 에어를 분사함에 의해 세정과 함께 건조를 수행할 수 있도록 제어되게 한다.For example, the processing mode for the PDP is to operate the
이때, 라인노즐(161)에서는 물공급탱크(165)로부터 물을 공급받아 물통(161b)에 채우게 되고 물통(161b)측에 연결된 초고주파발진기(164)로부터 발진된 초고주파가 물통(161b) 내부에 채워진 물에 영향을 미쳐 캐비테이션현상에 의한 기 포를 형성시킴과 아울러 물 입자에 가속력을 제공하게 되며, 노즐부(161a)를 통해 가속력을 갖고 기포가 형성된 물을 스크린마스크(1)의 표면으로 분출하게 된다.In this case, the
이에 의해, 스크린마스크(1)의 표면에 부딪히는 초고주파 처리된 물은 기포가 터지면서 스크린마스크(1)에 묻혀있던 오염물질 등의 이물질을 매우 효과적으로 제거하게 되고 가속력을 가지므로 세정에 소요되는 처리시간을 줄일 수 있는 유용함을 갖게 된다. 또한, 스크린마스크(1)에 손상을 주지 않으면서 아주 작은 미세입자까지 제거할 수 있게 된다.As a result, the ultra-high frequency treated water that hits the surface of the
나아가, 에어노즐(163)을 통해서는 필터가 내장된 에어드라이어(166b)를 통해 공기중의 수분이나 오염물질을 제거하고 에어 공급시 정압조절을 위해 에어탱크(166c)에 일시 저장하며 에어필터(166d)를 통해 재차 여과한 에어를 공급하여 분사하므로 재오염의 염려없이 세정과 건조작업까지 깨끗하게 처리할 수 있게 된다.Furthermore, the
도 1은 본 발명에 의한 버티컬 타입 자동 세정장치를 나타낸 정단면도.1 is a front sectional view showing a vertical type automatic cleaning device according to the present invention.
도 2는 본 발명에 의한 버티컬 타입 자동 세정장치를 나타낸 측단면도.Figure 2 is a side cross-sectional view showing a vertical type automatic cleaning device according to the present invention.
도 3은 본 발명에 의한 버티컬 타입 자동 세정장치를 나타낸 평단면도.Figure 3 is a cross-sectional view showing a vertical type automatic cleaning device according to the present invention.
도 4는 본 발명에 있어 세정수단의 상세 구성을 보인 요부 정단면도.Figure 4 is a front sectional view of the main portion showing a detailed configuration of the cleaning means in the present invention.
도 5는 본 발명에 있어 세정수단의 상세 구성을 보인 요부 측단면도.Fig. 5 is a sectional side view showing the main portion showing the detailed configuration of the cleaning means in the present invention.
도 6은 본 발명에 있어 세정수단의 상세 구성을 보인 요부 평단면도.Fig. 6 is a sectional plan view of the main portion showing the detailed configuration of the cleaning means in the present invention.
도 7은 본 발명에 있어 에어공급시스템을 설명하기 위해 나타낸 블록도.Figure 7 is a block diagram showing for explaining the air supply system in the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
101: 베이스 102: 상측고정브래킷101: base 102: upper fixing bracket
103: 하측고정브래킷 107: 컨트롤박스103: lower fixing bracket 107: control box
111: 지지홀더 112: 경간서포트111: support holder 112: span support
113: 미끄럼부시 121: 베어링유니트113: sliding bush 121: bearing unit
131: 드라이브샤프트 132: 구동모터131: drive shaft 132: drive motor
133,134: 스프로킷 135: 체인133,134 sprocket 135: chain
136: 지지샤프트 141: 레일샤프트136: support shaft 141: rail shaft
142: 지그부시 151: 로딩블록142: jig bush 151: loading block
152: 토글클램프 161: 라인노즐152: toggle clamp 161: line nozzle
162: 워터노즐 163: 에어노즐162: water nozzle 163: air nozzle
164: 초고주파발진기 165: 물공급탱크164: ultra-high frequency oscillator 165: water supply tank
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