KR100923291B1 - Method for coating DLCDiamond like carbon film with nitriding hardening on the vane of air compressor by low temperature PECVD - Google Patents

Method for coating DLCDiamond like carbon film with nitriding hardening on the vane of air compressor by low temperature PECVD Download PDF

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Abstract

본 발명은 저가의 소재를 사용하면서 제품 생산에 필요한 제조공정을 최소화하여 제품의 가격경쟁력을 확보하고, 표면조도, 마찰계수, 밀착력, 내식성을 갖도록 한 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법에 관한 것이다.The present invention uses low-cost materials to minimize the manufacturing process required for the production of the product to secure the price competitiveness of the product, low temperature nitriding and DLC coating method of the air compressor vanes to have surface roughness, friction coefficient, adhesion, corrosion resistance It is about.

이를 위해, 챔버 내부의 압력을 0.1torr 이하로 유지시키고, 온도를 450℃ 이하로 유지시킨 채, 상기 챔버 내부에 N2와 H2를 투입하면서 기재 표면에 질화층을 형성하고, 챔버 내부에 Ar을 투입하면서 기재에 펄스형 바이어스 전압을 인가하여 기재 표면을 활성화하며, 챔버의 압력을 2torr 이하로 유지시키고, 온도를 400℃ 이하로 낮춘 후, 상기 챔버 내부에 Ar과 H2와 탄화수소계 화합물과 TMS 및 NH3를 투입하여 기재 표면에 DLC층을 코팅하는 것을 특징으로 한다.To this end, while maintaining the pressure inside the chamber to 0.1torr or less, while maintaining the temperature at 450 ℃ or less, while forming a nitride layer on the surface of the substrate while N 2 and H 2 in the chamber, Ar inside the chamber While applying a pulsed bias voltage to the substrate to activate the surface of the substrate, the pressure of the chamber is maintained at 2torr or less, the temperature is lowered below 400 ℃, Ar and H 2 and a hydrocarbon compound and It is characterized in that the DLC layer is coated on the surface of the substrate by adding TMS and NH 3 .

상기한 구성에 따라, 베인의 소재를 저가의 소재를 사용하고, 제품 제조 공정을 간소화시켜 제품의 가격경쟁력을 확보하고, 질화층 및 탄소계 DLC층 코팅을 통해 경도를 높게 하면서도 표면조도가 우수한 제품을 생산하며, 제품의 내식성 및 윤활성, 그리고 내구성과 수명을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.According to the above configuration, the material of the vane is made of low-cost material, the product manufacturing process is simplified, the price competitiveness of the product is secured, and the hardness is increased through the nitride layer and carbon-based DLC layer coating, and the product has excellent surface roughness. It has the effect of maximizing the corrosion resistance and lubricity, durability and life of the product.

에어컴프레서, 베인, 질화층, DLC층, 질소, 저온. Air compressors, vanes, nitride layers, DLC layers, nitrogen, low temperature.

Description

에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법{Method for coating DLC(Diamond like carbon) film with nitriding hardening on the vane of air compressor by low temperature PECVD}Method for coating DLC (Diamond like carbon) film with nitriding hardening on the vane of air compressor by low temperature PECVD}

본 발명은 DLC 코팅방법에 관련된 것으로, 보다 상세하게는 저가의 소재를 사용하면서 제품 생산에 필요한 제조공정을 단순화 및 최소화하여 제품의 가격경쟁력을 확보하고, 질화층 및 DLC층을 형성하여 표면조도와 마찰계수 및 밀착력이 우수하고, 내식성을 갖도록 한 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법을 제공하는 데 있다.The present invention relates to a DLC coating method, and more particularly, by using a low-cost material, simplifying and minimizing the manufacturing process required for the production of the product to secure price competitiveness of the product, and forming a nitride layer and a DLC layer to obtain a surface roughness. It is to provide a low temperature nitriding and DLC coating method of the air compressor vane excellent in the coefficient of friction and adhesion, and corrosion resistance.

일반적으로, 자동차의 에어컴프레서에 사용되는 베인의 경우에는 표면 경도 외에 고속의 회전에 의해 하우징과 간극이 극히 적기 때문에 정밀도의 문제와 함께 내식성 및 윤활특성 등이 요구되고 있다. 이러한, 베인과 같은 부품은 장기간 지속적으로 사용되는 부품으로서, 부품이 마모되거나 윤활성의 저하시 소음발생과 더불어 압축효율이 떨어지게 되므로, 에어컨디셔닝의 성능이 저하되고 결국 에너지 손실로 이어지게 된다.In general, in the case of vanes used in automobile air compressors, the gap between the housing and the housing is extremely small due to the high speed rotation in addition to the surface hardness, so that corrosion resistance and lubrication characteristics are required along with precision problems. Such a vane is a part that is continuously used for a long time, and the compression efficiency decreases with noise generation when the part is worn or the lubricity decreases, and thus, the performance of the air conditioning is degraded and eventually leads to energy loss.

기존 베인의 경우 통상 도 1에 도시한 바와 같은 공정을 통해 생산이 되고 있다. 즉, 하이스 강종 등의 소재를 정밀가공하고 이를 열처리가공한 후, 폴리싱 가공을 통해 연마한다. 그리고, 질화처리 후 래핑을 통해 연마하여 경면을 만들고 다시 산질화시키며 오일습윤과정을 거쳐 제품을 생산한다. 이 외에 다른 생산방법으로 하이스의 면을 깨끗하게 연마 후 PVD공정을 활용하여 CrN코팅을 5~7㎛정도 실시하여 사용하기도 한다.Conventional vanes are usually produced through a process as shown in FIG. 1. That is, after precision processing of heat-treated steel materials and the like and heat treatment, it is polished through polishing. Then, after nitriding, polishing is performed through lapping to make a mirror surface, oxynitride again, and produce a product through an oil wetting process. In addition, the surface of the hiss is polished by another production method, and then the CrN coating is applied by using a PVD process of about 5 ~ 7㎛.

그러나, 이와 같은 방법을 통해 생산되는 베인의 경우, 하우징과 마모에 의해 리크가 발생할 수 있는 문제가 있고, 또한 여름철 사용시 수분이 베인의 표면에 남아 있다가 냉매가스에 의한 부식으로 이어져 제품의 수명이 저하되는 문제도 있다. 더욱이, 도 2에 도시한 바와 같이 제품의 밀착력이 나쁘고, 제품 생산시 드랍닛에 의해 형성된 순수 Cr의 계면을 따라 부식이 발생되는 문제도 있다.However, in the case of vanes produced through such a method, there is a problem that leakage may occur due to the housing and abrasion, and also in the summer use, moisture remains on the surface of the vanes, leading to corrosion by the refrigerant gas, resulting in a long service life. There is also a problem of deterioration. Furthermore, as shown in FIG. 2, the adhesion of the product is poor, and there is a problem that corrosion occurs along the interface of pure Cr formed by the drop net during production.

특히, 제품 생산을 위한 제조공정이 복잡하고, 제품 생산을 위해 사용되는 소재로 고가의 하이스 강종이 사용되므로, 소재의 지속적인 가격 상승으로 인해 제품의 단가가 상승하게 되고, 이로 인해 제품의 가격경쟁력이 떨어지는 폐단이 발생하였다.In particular, since the manufacturing process for the production of the product is complicated and expensive high-grade steel grade is used as the material used for the production of the product, the unit price of the product increases due to the continuous increase in the price of the material, which leads to a price competitiveness of the product. Falling lungs occurred.

한편, 경도 특성과 윤활특성에 있어 대부분 표면경화 열처리를 통하여 특성을 부여하고 있으며, 대부분 질화처리를 통하여 표면경도 및 윤활성을 향상시키고 있다. 질화처리는 가스질화, 이온질화, 염욕질화 방법이 있지만, 이들 질화처리는 화합물층 형성에 따른 표면조도의 저하 및 그로 인한 후가공 공정의 발생에 따른 생산비용의 부담으로 이어진다. 또한 부품의 물성을 추가적으로 극대화 시키기 위하여 아크 이온 플레이팅(Arc Ion Plating), 이온 임플랜테이션(Ion Implantation), 마그네틱 스퍼터링(Magnetic sputtering)법 및 CVD법에 의한 코팅을 적용하는데 질화처리시 생성된 화합물 층으로 인하여 코팅 막의 밀착력 저하를 가져오기 때문에 후가공 공정이 필수적이다.On the other hand, in terms of hardness and lubrication properties, most of them are given through surface hardening heat treatment, and most of them are improved in surface hardness and lubricity through nitriding treatment. Nitriding treatments include gas nitriding, ion nitriding, and salt bath nitriding. However, these nitriding treatments lead to a reduction in surface roughness due to compound layer formation and a burden on production costs due to the occurrence of post-processing. In addition, in order to further maximize the physical properties of the component, the coating layer by arc ion plating, ion implantation, magnetic sputtering and CVD is applied to the compound layer formed during nitriding. Due to this brings about a decrease in adhesion of the coating film is a post-processing process is essential.

DLC(Diamond Like Carbon)코팅의 경우, 내화학성, 윤활성 등과 함께 비교적 높은 코팅 경도를 갖게 되므로, 그 특성을 활용할 경우 부품의 기계적 특성을 향상시킬 수 있게 된다. 그러나 상기한 DLC코팅은 제조공정이 복잡하고, 생산단가가 비싸 적용이 어려우며, 무엇보다 적용되는 소재가 제한된다는 큰 단점이 있었다.DLC (Diamond Like Carbon) coating has a relatively high coating hardness along with chemical resistance and lubricity, so that the mechanical properties of the parts can be improved by utilizing the characteristics. However, the DLC coating has a large disadvantage that the manufacturing process is complicated, the production cost is difficult to apply, and above all, the material to be applied is limited.

또한, 대부분의 DLC 코팅 제작 공정이 아크 이온 플레이팅(Arc Ion Plating), 이온 임플랜테이션(Ion Implantation), 마그네틱 스퍼터링(Magnetic sputtering)법 등으로 제작됨으로, 공정 내에서 코팅이 이온의 직진성에 영향을 받아 코팅도 방향성을 가진다는 문제가 있다. 이에, 상기한 문제를 해결하기 위해, 제품의 형상이 복잡한 경우에는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)법으로 DLC 코팅을 수행하고 있으나, 밀착력과 수명에 있어서 문제점이 대두되고 있고, 외국에 비해 국내의 PECVD법 기술력은 다소 미비한 실정에 있다.In addition, since most DLC coating fabrication processes are made by Arc Ion Plating, Ion Implantation, Magnetic Sputtering, etc., the coating affects the linearity of ions in the process. There is a problem that the coating also has a directivity. In order to solve the above problems, DLC coating is performed by using PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) when the shape of the product is complicated, but problems in adhesion and life have arisen. PECVD technology is somewhat incomplete.

본 발명은 전술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 저가의 소재를 사용하면서 제품 생산에 필요한 제조공정을 단순화 및 최소화므로 제품의 단가를 줄여 가격경쟁력을 향상시킬 수 있도록 한 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법을 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, and by using a low-cost material to simplify and minimize the manufacturing process required for the production of the product to reduce the unit cost of the product to improve the price competitiveness The present invention provides a low temperature nitriding of a die vane and a DLC coating method.

본 발명의 다른 목적은 질소를 이용 질화층을 형성하고, 내식성 및 윤활성이 우수한 탄소계의 DLC 코팅층을 형성하여 표면조도와 마찰계수 및 밀착력이 우수하고, 내식성을 갖도록 한 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법을 제공하는 데 있다.It is another object of the present invention to form a nitride layer using nitrogen, and to form a carbon-based DLC coating layer having excellent corrosion resistance and lubricity, thereby providing excellent surface roughness, coefficient of friction, adhesion, and low temperature nitriding of air compressor vanes. And DLC coating method.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은, 챔버 내부의 압력을 0.1torr 이하로 유지시키고, 온도를 450℃ 이하로 유지시킨 채, 상기 챔버 내부에 N2와 H2를 1:3의 비율로 투입하면서 기재 표면에 질화층을 형성하는 공정과; 챔버 내부에 Ar을 투입하면서 기재에 10~30분 동안 펄스형 바이어스 전압을 인가하여 기재 표면을 활성화하는 스퍼터링공정과; 챔버의 압력을 2torr 이하로 유지시키고, 온도를 400℃ 이하로 낮춘 후, 상기 챔버 내부에 Ar과 H2와 탄화수소계 화합물과 TMS 및 NH3를 투입하여 기재 표면에 DLC층을 코팅하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the configuration of the present invention for achieving the above object, the pressure inside the chamber is maintained at 0.1torr or less, and the temperature is maintained at 450 ° C or lower, while N 2 and H 2 are 1: 3 in the chamber. Forming a nitride layer on the surface of the substrate while charging at a ratio; A sputtering process of activating the surface of the substrate by applying a pulsed bias voltage to the substrate for 10 to 30 minutes while introducing Ar into the chamber; Maintaining the pressure of the chamber at 2torr or less, lowering the temperature to 400 ° C or lower, and injecting Ar, H 2 , a hydrocarbon compound, TMS, and NH 3 into the chamber to coat the DLC layer on the surface of the substrate. Characterized in that.

상기한 과제 해결수단을 통해 본 발명은, 베인의 소재를 고가의 하이스를 사용하지 않고, 저가의 소재를 사용하여 소재비용을 확실하게 낮추며, 제품 제조 공정을 간소화시켜 제품의 가격경쟁력을 확보할 수 있는 효과가 있다.Through the above problem solving means, the present invention, without the use of expensive high hess, the low cost of the material can be surely lowered the material cost, the product manufacturing process can be simplified to secure the price competitiveness of the product It has an effect.

더욱이, 저온에서의 질화층 형성을 통해 경도를 기존의 하이스 강보다 높게 하면서도 표면조도가 우수한 제품을 생산하고, 저온의 탄소계 DLC층 코팅을 통해 제품의 내식성 및 윤활성을 향상시킴과 아울러 제품의 내구성과 수명을 극대화시킬 수 있는 효과도 있다.Furthermore, by forming a nitride layer at low temperature, it produces a product with superior surface roughness while making hardness higher than that of a conventional high-speed steel, and improves the corrosion resistance and lubricity of the product by coating a carbon-based DLC layer at low temperature, as well as durability of the product. It also has the effect of maximizing life expectancy.

또한, 경도 및 내열, 윤활특성의 극대화를 통해 생산비용의 절감과 전체적인 생산효율 증대 및 수명을 향상시킬 수 있으며, 베인이 장착된 에어컴프레서의 경우 고속에서 조용하고 마모 및 부식을 방지할 수 있는 효과도 있다.In addition, by maximizing hardness, heat resistance, and lubrication characteristics, it is possible to reduce production costs, increase overall production efficiency, and improve lifespan.In the case of air compressor equipped with vane, it is quiet at high speed and prevents wear and corrosion. There is also.

본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법은, 질화층 형성공정(P10)과, 스퍼터링공정(P20)과, DLC층 코팅공정(P30)으로 구성된다.The low temperature nitriding and DLC coating method of the air compressor vane of the present invention comprises a nitride layer forming step (P10), a sputtering step (P20), and a DLC layer coating step (P30).

먼저, 질화층 형성공정(P10)에서는 챔버(40) 내부에 DLC층(30)과의 밀착성 향상을 위해 N2를 포함한 반응가스를 투입하여 고진공 저온도에서 질화처리함으로써, 챔버 내부에 투입된 기재(10) 표면에 질화층(20)을 형성한다.First, in the nitride layer forming process P10, a reaction gas containing N 2 is added to the chamber 40 to improve adhesion to the DLC layer 30, and the substrate is introduced into the chamber by nitriding at a high vacuum low temperature. 10) The nitride layer 20 is formed in the surface.

도 3 내지 도 5를 통해 보다 상세하게 설명하면, 챔버 내부에 코팅하고자 하는 기재(10)를 장입한 후, 진공펌프(41)를 이용하여 챔버(40)의 압력을 0.05~0.1torr로 승압 유지시키고, 온도를 450℃ 이하로 유지시킨 채, 상기 챔버(40) 내부에 가스 인입장치부(42)를 통해 N2 100sccm, H2 300sccm으로 1:3의 비율로 투입하면서 60~120분 동안 상기 기재(10) 표면에 밀착력 향상을 위한 질화층(20)을 코팅한다. 이때, 상기 챔버 내부는 고진공 상태를 유지하고 내부에 N2를 투입함으로써, 기재(10) 표면을 상태로 질화처리할 수 있게 된다.3 to 5, after loading the substrate 10 to be coated in the chamber, the pressure of the chamber 40 is maintained at 0.05 to 0.1 torr using the vacuum pump 41. And while maintaining the temperature below 450 ℃, while entering the inside of the chamber 40 in the ratio of 1: 2 N 2 100sccm, H 2 300sccm through the gas inlet unit 42 for 60 to 120 minutes The nitride layer 20 is coated on the surface of the substrate 10 to improve adhesion. In this case, the inside of the chamber is maintained in a high vacuum state and N 2 is introduced into the inside, thereby allowing the surface of the substrate 10 to be nitrided in a state.

여기서, 상기 기재(10)는 열처리 후 경도가 다소 낮은 STD11종과 이에 상응하는 DC51종 계열의 금속 중 어느 하나를 선정하여 기존의 하이스 강종에 비해 단가가 낮은 소재를 사용한다. 이와 같은 기재(10)는 상기한 질화처리 공정 이 전에 정밀가공과 열처리 후, 폴리싱 가공하여 챔버에 장입하게 된다.Here, the substrate 10 uses a material having a lower unit cost than the existing high-speed steel by selecting any one of the STD11 type and the DC51 type metal corresponding to the hardness slightly after heat treatment. Such substrate 10 is charged to the chamber by polishing after precision processing and heat treatment before the nitriding treatment.

스퍼터링공정(P20)은 기재(10) 표면을 활성화하고 기재(10) 표면의 질화물을 제거하기 위한 것으로, 챔버 내부에 Ar 50sccm을 투입하면서 1000V의 전압에서 기재(10)에 10~30분 동안 파워서플라이(43)를 통해 10~20㎾의 펄스형 바이어스 전압을 인가하여 기재(10) 표면을 활성화한다.The sputtering process (P20) is for activating the surface of the substrate 10 and removing nitride from the surface of the substrate 10. The sputtering process (P20) powers the substrate 10 at a voltage of 1000 V for 10-30 minutes while introducing Ar 50 sccm into the chamber. A pulsed bias voltage of 10-20 mA is applied through the supply 43 to activate the surface of the substrate 10.

DLC층 코팅공정(P30)에서는 상기 챔버(40) 내부에 내식성과 이형성 및 윤활성 향상을 위한 반응가스와 함께 NH3를 투입하여 상기 기재(10) 표면에 분체가 발생하지 않고 경도가 향상된 DLC(Diamond Like Carbon)층을 코팅한다.In the DLC layer coating process (P30) by adding NH 3 with the reaction gas for improving the corrosion resistance and mold release properties and lubricity inside the chamber 40, the powder is not generated on the surface of the substrate 10, the hardness is improved DLC (Diamond Like Carbon) layer.

보다 상세하게 설명하면, 챔버(40) 내부의 압력을 1.8~2torr로 유지시키고, 온도를 400℃ 이하로 낮춘 후, 상기 챔버(40) 내부에 가스 인입장치부(42)를 통해 Ar 400sccm과 H2 400sccm과 탄화수소계 화합물과 TMS 5sccm 및 NH3를 투입하여 기재(10) 표면에 DLC층(30)을 코팅한다.In more detail, the pressure inside the chamber 40 is maintained at 1.8 to 2 torr, the temperature is lowered to 400 ° C. or lower, and the Ar 400sccm and H are formed through the gas inlet unit 42 inside the chamber 40. 2 400sccm, a hydrocarbon compound, TMS 5sccm and NH 3 is added to coat the DLC layer 30 on the surface of the substrate (10).

여기서, 상기 탄화수소계 화합물로는 C2H2, CH4, C6H6 등이 사용될 수 있으나, 이 외에도 다른 탄화수소계 화합물이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 CH4가 사용되는 것이 적절하고, 약 600sccm이 투입된다. 그리고, 상기 NH3는 상기 탄화수소계 화합물이 투입되는 부피를 기준으로 하여 약 1.3~5% 비율만큼 투입되는 것으로 약 15sccm이 투입된다.Here, as the hydrocarbon-based compound, C 2 H 2 , CH 4 , C 6 H 6 and the like may be used, but other hydrocarbon-based compounds may be used. Preferably, CH 4 is appropriately used. 600 sccm is added. The NH 3 is added in an amount of about 1.3 to 5% based on the volume of the hydrocarbon compound, and about 15 sccm is added thereto.

이와 같이 코팅되는 DLC에 대해 간략하게 살펴보면, DLC는 1970년경 미국의 한 과학자에 의해 흑연을 원료로 Ion-beam 증착법에 의해 carbon막을 생성케 되었는데 다이아몬드와 매우 유사한 성질을 갖음으로 해서 DLC(Diamond Like Carbon)라고 하게 되었다.In brief, the coated DLC was produced by a scientist in the United States around the 1970s by using an ion-beam evaporation method of graphite as a raw material, which is very similar to diamond. It was said.

이러한, DLC는 Amorphous 구조로서 구조적으로는 다이아몬드 결정과는 다르지만 특성적으로는 다이아몬드와 매우 가까운 물질이다. 아울러 상기한 DLC가 종래의 TiN, TiCN 등의 경질막과 비교시 현저하게 다른 점은, 마찰계수가 매우 낮은 표면을 갖는 것이라 할 수 있다.DLC is an amorphous structure, which is structurally different from diamond crystals, but is very close to diamond. In addition, the DLC is remarkably different from conventional hard films such as TiN and TiCN, which can be said to have a very low friction coefficient surface.

한편, 본 발명의 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법 전반에 걸쳐 사용되는 펄스형 바이어스 전압으로는 DC, Pulse DC, RF를 모두 포함하게 되는데, 상기한 펄스형 바이어스 전압은 주파수, Duty, 양전압의 3개 변수를 가변하여 유지할 수 있게 된다. On the other hand, the pulsed bias voltage used throughout the low temperature nitriding and DLC coating method of the air compressor vane of the present invention includes all DC, Pulse DC, RF, the pulsed bias voltage is frequency, Duty The three variables of positive voltage can be kept variable.

여기서, 상기 주파수(펄스 주파수)는 기본적으로 음전압의 펄스를 주기적으로 내보내는 시간에 따른 파형의 수를 의미하고, Duty는 동 주파수에 음전압 및 양전압의 인가시간을 의미하는 것으로, 특히 Pulsed DC 전원의 경우에는 인가 주파수 1kHz~1000kHz 범위 내에서 변화하여 음전압의 폭인 Duty 변화를 주어 공정을 실시할 수 있고, 그 이상의 주파수에서도 공정의 실시가 가능하다.Here, the frequency (pulse frequency) basically means the number of waveforms according to the time to periodically discharge the pulse of negative voltage, Duty refers to the application time of the negative voltage and positive voltage to the same frequency, in particular Pulsed DC In the case of the power supply, the process can be carried out by changing the applied frequency within a range of 1 kHz to 1000 kHz to give a duty change which is the width of the negative voltage.

그리고, 절연체막인 상기 DLC층(30)을 코팅하기 위해서는 대칭 및 비대칭 펄스를 인가해야 하고 비대칭 펄스는 0~500V 범위의 양전압을 변화하여 공정을 실시하며, 그 이상의 양전압을 인가할 수 있다.In order to coat the DLC layer 30, which is an insulator film, symmetrical and asymmetrical pulses should be applied, and asymmetrical pulses may be subjected to a process by changing a positive voltage in a range of 0 to 500V, and a positive voltage higher than that may be applied. .

이와 같이 구성된 본 발명의 작용 및 효과를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and effect of the present invention configured as described in detail as follows.

본 발명의 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법을 통해 기재(10)에 DLC층(30)을 코팅하기 위해서는, 챔버 내부에 기재(10)를 내장한 상태에서 챔버 내부의 압력을 0.1torr 이하로 유지하고, N2와 H2를 1:3의 비율로 총 400sccm의 유량을 챔버 내부에 투입하여, 450℃이하의 온도에서 질화처리한다. 그리고, 상기한 질화처리는 전력 10㎾, 500V의 저전압 고밀도의 플라즈마공정을 활용하여 약2시간 동안 기재(10) 표면에 60~100㎛의 고경도 질화층(20)을 형성함으로써, DLC층(30)과의 밀착력을 향상시키는 조건을 갖추게 된다.In order to coat the DLC layer 30 on the substrate 10 through the low temperature nitriding and DLC coating method of the air compressor vane of the present invention, the pressure inside the chamber is set to 0.1 when the substrate 10 is embedded in the chamber. Maintaining below torr, a total flow rate of 400 sccm in a ratio of 1: 3 of N 2 and H 2 is introduced into the chamber and nitriding is performed at a temperature of 450 ° C. or lower. In addition, the nitriding treatment is performed by forming a high hardness nitride layer 20 having a thickness of 60 to 100 μm on the surface of the substrate 10 for about 2 hours by using a low voltage high density plasma process having a power of 10 kV and 500 V. The condition which improves the adhesive force with 30) is provided.

여기서, 챔버 내부는 서서히 가열하되, 기재(10)로 사용되는 STD11종 및 DC51종 계열 금속의 열팽창을 고려하여 최소한의 가열이 되도록 450℃ 이하의 저온 상태에서 질화처리를 실시하는 것이다.Here, the inside of the chamber is gradually heated, but the nitriding treatment is performed at a low temperature of 450 ° C. or less to minimize heating in consideration of thermal expansion of the STD11 and DC51 series metals used as the substrate 10.

이 후, 챔버 내부에 Ar 약 50sccm의 유량을 투입하여 분위기를 바꾸면서 10~30분 동안 스퍼터링공정(P20)을 실시한다.Thereafter, the sputtering process (P20) is performed for 10 to 30 minutes while changing the atmosphere by introducing a flow rate of about 50 sccm of Ar into the chamber.

그리고, 챔버 내부의 온도를 400℃ 이하로 낮춘 후, Ar 400sccm과 H2 400sccm과 CH4 600sccm과 TMS 5sccm 및 NH3 15sccm을 투입하여 기재(10) 표면에 고경도 내식성의 DLC층(30)을 코팅하게 됨으로써, 상기 DLC층(30)을 통해 베인 제품은 내식성 및 내구성의 특성을 발휘하고 소음을 줄이며, 수명을 향상시킬 수 있게 된다.Then, after lowering the temperature inside the chamber to 400 ° C. or less, Ar 400sccm and H 2 400sccm, CH4 600sccm, TMS 5sccm and NH 3 15sccm were added to coat the hardened corrosion resistant DLC layer 30 on the surface of the substrate 10. By doing so, the vane product through the DLC layer 30 can exhibit the characteristics of corrosion resistance and durability, reduce noise, and improve the life.

특히, 본 발명의 코팅방법은 베인의 소재를 고가의 하이스를 사용하지 않고, 저가의 소재를 사용하여 소재비용을 약 1/4정도 낮추며, 제품 제조 공정을 간소화시켜 제품의 가격경쟁력을 확보할 수 있게 된다.In particular, the coating method of the present invention can reduce the material cost by about a quarter by using a low-cost material without using expensive vanes, and can simplify the product manufacturing process to secure the price competitiveness of the product Will be.

더욱이, 본 발명은 저전압 고밀도 플라즈마 상태에서 질소를 투입하여 나노 질화를 실시하고, 그 위에 성능이 우수한 저온 디엘씨공정을 접목시키므로, 고품질 복합표면개질공정이 되어 고속에서도 조용하고 마모 및 부식이 되지 않는 고품질의 베인 제품을 생산할 수 있는 것이다.Furthermore, the present invention performs nano-nitridation by injecting nitrogen in a low-voltage high-density plasma state, and combines the low-temperature DLC process with excellent performance thereon, resulting in a high quality composite surface modification process, which is quiet at high speed and does not wear and corrode. High quality vane products can be produced.

도 6은 본 발명을 통해 형성된 질화층(20)의 경도 프로 파일을 나타낸 것으로, 기존의 하이스의 경도가 850~900HV인 것에 비해 질화만 실시한 베인의 표면경도는 도시한 바와 같이 1100HV를 나타내고, 도시하지는 않았으나 기존의 산질화시 약 1000~1050HV에 비해 본 발명을 통해 코팅 처리된 베인의 최종 표면 경도는 1800~2000HV의 경도를 갖게 된다.Figure 6 shows the hardness profile of the nitride layer 20 formed through the present invention, the surface hardness of the vane subjected to nitriding only shows a hardness of 1100HV as shown, compared to the hardness of the conventional highs 850 ~ 900HV, Although not yet, the final surface hardness of the vane coated through the present invention compared to about 1000 ~ 1050HV when the oxynitride has a hardness of 1800 ~ 2000HV.

그리고, 도 7은 본 발명에 의한 코팅방법을 통해 코팅된 제품의 마찰면과 마찰계수를 나타낸 것이고, 도 8은 본 발명에 의한 코팅방법을 통해 코팅된 제품의 내식 시험결과를 나타낸 것으로, 마찰 계수가 매우 낮아 우수한 윤활성능을 발휘할 수 있고, 표면에 미세한 마모흔이 나타나긴 하나 분체가 전혀 없이 매끄러운 것을 확인할 수 있다. 또한, 내식성은 기존의 일반 DLC공정이나 산질화공정에 비해 약 10000배 이상 향상되고, 부식전위 역시 노블한 것을 알 수 있어 제품의 성능을 혁신적으로 향상시킬 수 있게 된다.And, Figure 7 shows the friction surface and coefficient of friction of the product coated through the coating method according to the invention, Figure 8 shows the corrosion resistance test results of the product coated through the coating method according to the invention, the friction coefficient It is very low and can exhibit excellent lubrication performance, it can be seen that the fine abrasion traces on the surface, but without the powder at all smooth. In addition, the corrosion resistance is about 10000 times higher than the conventional DLC process or oxynitride process, and the corrosion potential is also known to be noble, thereby improving the performance of the product.

이처럼, 본 발명의 코팅방법은 경도 및 내열, 윤활특성을 극대화시킴으로써, 생산비용의 절감과 전체적인 생산효율 증대 및 수명향상을 확보할 수 있으며, 더 나아가서는 동일한 특성이 요구되는 기계부품의 응용 및 적용이 가능하고, 이는 곧 생산효율의 증대와 제품의 내구성 향상으로 이어질 수 있게 된다.As described above, the coating method of the present invention can maximize the hardness, heat resistance, and lubrication characteristics, thereby reducing the production cost, increasing the overall production efficiency, and improving the lifespan, and furthermore, the application and application of the mechanical parts requiring the same characteristics. This is possible, which in turn can lead to increased production efficiency and improved product durability.

한편, 본 발명은 NH3 가스 첨가를 통해 DLC층(30)을 코팅하므로, 공정 중 분체가 형성되지 않아 코팅 표면의 조도가 높고, DLC층(30)과의 우수한 밀착력을 확보할 수 있게 된다. 이에, 도 9에서는 본 발명의 밀착력 평가를 실험하여, 경도 압자에 의한 결합력 테스트와, 스크레치 테스트한 실험결과 사진(이미지)을 각각 도시하였다.On the other hand, since the present invention coats the DLC layer 30 through the addition of NH 3 gas, powder is not formed during the process, so the roughness of the coating surface is high and excellent adhesion to the DLC layer 30 can be ensured. Thus, in FIG. 9, the adhesion evaluation of the present invention was tested, and the binding test by the hardness indenter and the test result photograph (image) of the scratch test were respectively shown.

즉, 도 9에 도시된 실험사진은, 질화층 형성공정(P10)의 조건으로 압력 0.01torr, 온도 450℃ 하에서 N2 100sccm, H2 300sccm을 투입하여 질화처리하였고, DLC층 코팅공정(P30)의 조건으로 압력 2torr 이하, 온도 400℃ 이하에서 Ar 400sccm, H2 400sccm, CH4 600sccm, TMS 5sccm, NH3 15sccm을 투입하여 DLC층(30)을 코팅하였다.That is, the experimental photograph shown in FIG. 9 was nitrided with N 2 100 sccm and H 2 300 sccm under a pressure of 0.01 torr and a temperature of 450 ° C. under the conditions of the nitride layer forming process (P10), and DLC layer coating process (P30). The DLC layer 30 was coated by adding Ar 400sccm, H 2 400sccm, CH 4 600sccm, TMS 5sccm, NH 3 15sccm at a pressure of 2torr or less and a temperature of 400 ° C or less.

이러한 조건으로 코팅된 기재(10)에 경도 압자에 의한 결합력 테스트 결과 도시된 바와 같이, 압자 주변이 벗겨지거나 크랙이 발생하지 않고 깨끗한 압흔 이미지를 나타내고 있음을 알 수 있고, 또한 스크레치 테스트 결과 도시된 바와 같이 코팅된 막이 뜯겨지지 않음을 알 수 있는 바, 밀착력이 우수함을 확인할 수 있는 것이다.As shown in the result of the bonding test by the hardness indenter on the substrate 10 coated under these conditions, it can be seen that the surroundings of the indenter are not peeled off or cracks are generated and the clean indentation image is shown. It can be seen that the coated film is not torn off, the adhesion is excellent.

상기한 바와 같은 실험 결과를 통해, 본 발명은 질화처리를 통한 질화층(20) 형성으로 밀착력이 향상됨은 물론, 이때 반응 생성물에 의한 분체가 전혀 없어 생산성이 우수하고 제품의 불량률을 현저하게 떨어뜨릴 수 있는 장점이 있다.Through the experimental results as described above, the present invention improves the adhesion by forming the nitride layer 20 through the nitriding treatment, as well as there is no powder by the reaction product at this time, it is excellent in productivity and significantly lower the defective rate of the product. There are advantages to it.

즉, 도 10은 본 발명에 의해 DLC층(30)이 증착 코팅된 베인 이미지와 코팅처리전 이미지를 나타낸 것으로써, 공정 중 분체의 생성을 방지하여 매끄럽고 광택이 나는 표면을 갖는 제품을 확보할 수 있고, 그에 따라 우수한 성능의 산업 생산 부품을 제조할 수 있음을 확인할 수 있다.That is, FIG. 10 shows the vane image coated with the DLC layer 30 and the pre-coating image according to the present invention, thereby preventing the formation of powder during the process to ensure a product having a smooth and glossy surface. As a result, it can be confirmed that industrial production parts having excellent performance can be manufactured.

한편, 본 발명은 상기한 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.On the other hand, the present invention has been described in detail only with respect to the specific examples described above it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, it is natural that such variations and modifications belong to the appended claims. .

도 1은 종래 기술에 의한 베인의 생산공정을 나타낸 블록도,1 is a block diagram showing a vane production process according to the prior art,

도 2는 종래 기술에 의해 코팅된 기재에 경도 압자에 의한 결합력 테스트와, 스크레치 테스트에 의한 결과를 각각 나타낸 사진,Figure 2 is a photograph showing the results of the bonding test by the hardness indenter and the scratch test to the substrate coated by the prior art, respectively,

도 3은 본 발명의 디엘씨 코팅방법을 순차적으로 나열한 블록도,Figure 3 is a block diagram sequentially listing the DL coating method of the present invention,

도 4는 본 발명에 사용된 코팅장치를 개략적으로 도시한 모식도,Figure 4 is a schematic diagram schematically showing a coating apparatus used in the present invention,

도 5는 본 발명의 코팅방법을 통해 코팅된 구조를 개략적으로 도시한 사시도,Figure 5 is a perspective view schematically showing a structure coated by the coating method of the present invention,

도 6은 본 발명에 의해 코팅된 질화층의 경도 프로파일을 나타낸 그래프,6 is a graph showing the hardness profile of the nitride layer coated by the present invention,

도 7은 본 발명에 의해 코팅된 기재의 마찰 실험결과에 따른 마찰면과 마찰계수를 나타낸 사진,7 is a photograph showing the friction surface and coefficient of friction according to the friction test results of the substrate coated by the present invention,

도 8은 본 발명에 의해 코팅된 기재의 내식 실험결과를 나타낸 그래프,8 is a graph showing the results of the corrosion resistance of the substrate coated by the present invention,

도 9는 본 발명에 의해 코팅된 기재에 경도 압자에 의한 결합력 테스트와, 스크레치 테스트에 의한 실험결과를 각각 나타낸 사진,9 is a photograph showing the test results of the bonding test by the hardness indenter and the scratch test to the substrate coated by the present invention, respectively;

도 10은 본 발명에 의해 코팅된 실제 제품 사진과 코팅 전의 제품 사진,10 is a real product picture and a product picture before coating by the present invention,

*도면중 주요 부호에 대한 설명** Description of Major Symbols in Drawings *

10 : 기재 20 : 질화층10 base material 20 nitride layer

30 : DLC층 40 : 챔버30: DLC layer 40: chamber

41 : 진공펌프 42 : 가스 인입장치부41: vacuum pump 42: gas inlet device

43 : 파워서플라이 P10 : 질화층 형성공정43: power supply P10: nitride layer forming process

P20 : 스퍼터링공정 P30 : DLC층 코팅공정P20: Sputtering Process P30: DLC Layer Coating Process

Claims (3)

챔버(40) 내부의 압력을 0.1torr 이하로 유지시키고, 온도를 450℃ 이하로 유지시킨 채, 상기 챔버 내부에 N2와 H2를 1:3의 비율로 투입하면서, STD11종과 DC51종 계열의 금속 중 어느 하나로 이루어진 기재(10) 표면에 질화층(20)을 형성하는 공정(P10)과;While maintaining the pressure inside the chamber 40 at 0.1torr or less and maintaining the temperature at 450 ° C or less, N 2 and H 2 were introduced into the chamber at a ratio of 1: 3, and the STD11 and DC51 types were Forming a nitride layer 20 on the surface of the substrate 10 made of any one of metals (P10); 챔버 내부에 Ar을 투입하면서 기재(10)에 10~30분 동안 펄스형 바이어스 전압을 인가하여 기재(10) 표면을 활성화하는 스퍼터링공정(P20)과;A sputtering process (P20) for activating the surface of the substrate 10 by applying a pulsed bias voltage to the substrate 10 for 10 to 30 minutes while introducing Ar into the chamber; 챔버(40)의 압력을 2torr 이하로 유지시키고, 온도를 400℃ 이하로 낮춘 후, 상기 챔버(40) 내부에 Ar과, H2와, 탄화수소계 화합물과, TMS, 및 NH3를 투입하되, 상기 NH3는 탄화수소계 화합물이 투입되는 부피를 기준으로 1.3~5% 비율만큼 투입하여 기재(10) 표면에 DLC층(30)을 코팅하는 공정(P30)을 포함하는 것을 특징으로 하는 에어컴프레서용 베인의 저온 질화 및 디엘씨 코팅방법.After maintaining the pressure of the chamber 40 at 2torr or lower and lowering the temperature to 400 ° C or lower, Ar, H 2 , a hydrocarbon compound, TMS, and NH 3 are introduced into the chamber 40, The NH 3 is an air compressor, characterized in that it comprises a step (P30) of coating the DLC layer 30 on the surface of the base material 10 by a ratio of 1.3 to 5% based on the volume of the hydrocarbon compound is added. Low temperature nitriding of vane and DLC coating method. 삭제delete 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112899639B (en) * 2019-12-04 2022-08-19 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 Diamond-like carbon film preparation device and preparation method
CN115404458A (en) * 2022-08-26 2022-11-29 晓睿真空设备(嘉兴)有限公司 Stainless steel surface treatment process for improving durability of driving shaft

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950023735A (en) * 1994-01-07 1995-08-18 김은영 Adhesion Enhancement of Diamond Hard Carbon Film
JPH11264393A (en) * 1998-03-18 1999-09-28 Sanyo Electric Co Ltd Vane and refrigerant compressor using the same
JP2005001231A (en) * 2003-06-11 2005-01-06 Toyo Tire & Rubber Co Ltd Rubber continuous kneading extruder
US20060078677A1 (en) 2004-06-25 2006-04-13 Won Tae K Method to improve transmittance of an encapsulating film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950023735A (en) * 1994-01-07 1995-08-18 김은영 Adhesion Enhancement of Diamond Hard Carbon Film
JPH11264393A (en) * 1998-03-18 1999-09-28 Sanyo Electric Co Ltd Vane and refrigerant compressor using the same
JP2005001231A (en) * 2003-06-11 2005-01-06 Toyo Tire & Rubber Co Ltd Rubber continuous kneading extruder
US20060078677A1 (en) 2004-06-25 2006-04-13 Won Tae K Method to improve transmittance of an encapsulating film

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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