KR100919174B1 - Apparatus for removing pollutants using porous filter - Google Patents
Apparatus for removing pollutants using porous filterInfo
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Abstract
Description
본 발명은, 유입수에 포함된 오염성물질을 제거하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 여과판을 이용하여 유입수에 포함된 중금속과 오염물질을 여과한 후, 배출함으로써, 하천이나 지하수의 오염을 방지할 수 있도록 하는 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for removing contaminants contained in influent, and more particularly, by filtering heavy metals and contaminants contained in the influent using a filter plate and then discharging them, thereby preventing contamination of rivers or groundwater. The present invention relates to a contaminant removal device using a porous filter.
일반적으로 오염성물질은 생활하수, 산업폐수 및 축산폐수 등과 같이 배출지점이 뚜렷하고 한정된 점오염원(點汚染源)으로부터 배출되는 점오염성물질과 불특정지역의 농경지, 목초지, 산림지, 건축현장, 광산, 벌채지, 폐기물처리장, 쓰레기매립장, 도심지, 도로 및 산업현장 등과 같이 배출지역이 불특정하고 광범위한 비점오염원(非點汚染源)으로부터 배출되는 비점오염성물질로 나눌 수 있다.In general, pollutants include point pollutants emitted from a defined and limited point source, such as domestic sewage, industrial waste, and livestock waste, and farmland, grassland, forest land, construction sites, mines, logging sites, waste from unspecified areas. Discharge areas can be divided into nonpoint pollutants emitted from a wide range of nonpoint sources, such as treatment plants, landfills, urban areas, roads and industrial sites.
상기의 오염성물질 중 배출지점이 뚜렷하고 한정된 점오염성물질의 경우에는 별도의 정화장치나 폐수처리장치가 설치되어 오염성물질의 정화가 이루어지고 있으나, 비점오염성물질의 경우에는 배출지역이 광범위할 뿐만 아니라 계절간 배출량의 변화가 크고 정량화가 어려우며, 기상조건과 지형 및 지질 등에 영향을 받기 때문에 인위적 조절이 어려울 뿐만 아니라 도시화에 따라 지역의 불투수율의 증가로 인해 지역의 우수유출 특성이 변화하여 수질오염의 원인이 되고 있으므로 비점오염원에 의한 하천 및 지하수의 수질개선을 위해서는 우수유출수에 대한 적극적인 관리가 필요한 실정이다.In the case of point pollutants with a clear discharge point among the pollutants, a separate purifier or wastewater treatment system is installed to purify the pollutants, but in the case of nonpoint pollutants, the discharge area is not only extensive but also seasonal. It is difficult to control artificially because of large changes in the amount of emissions and is difficult to quantify, and is affected by weather conditions, topography and geology. In order to improve the water quality of rivers and groundwater by nonpoint sources, active management of stormwater runoff is required.
상기 비점오염원의 오염성물질을 처리하기 위해 근래에는 특허 제420222호의 강우수 정화장치 및 이에 사용되는 강우수 정화모률이 등록된 바 있다.In order to treat contaminants of the non-point source, the rainfall purification apparatus of Patent No. 420222 and the rainfall purification rate used therein have been registered.
선 등록된 강우수 정화장치 및 이에 사용되는 강우수 정화모듈은, 우수를 수집한 후, 우수에 포함된 오염성물질을 정화모듈에서 정화시켜 배출시키는 이점은 있으나, 오염성물질이 2차 오물수거망을 경유하여 정화카트리지를 통과하는데, 상기 2차 오물수거망을 통과한 오염성물질이 정화카트리지로 흐르지 않고, 정화카트리지에 관통된 복수의 접촉유로를 통해 배출됨으로써 오염성물질의 여과효율이 낮은 문제점이 있었다.The pre-registered rainfall water purification device and the rainfall water purification module used therein have the advantage of collecting and draining the pollutants contained in the rainwater and then purifying them from the purification module, but the pollutants are collected through the secondary sewage network. When passing through the purification cartridge, the contaminant that has passed through the secondary waste collection network does not flow to the purification cartridge, there is a problem that the filtration efficiency of the contaminant is low by being discharged through a plurality of contact passages penetrated through the purification cartridge.
또한, 강우수 오물 침전부에 끝으로 유입되는 우수가 정화카트리지쪽으로 배출되지 못하고 체류됨과 동시에 강우수 오물 침전부에 침전된 침전물 및 부유물과 혼합된 상태로 장기간 잔류되면서 우수가 부폐되어 악취를 발생할 뿐만 아니라 모기 및 파리와 같은 곤충류의 집단 서식지를 제공하게 되는 문제점이 있었다.In addition, rainwater flowing into the end of the rainfall sediment is not discharged to the purification cartridge and remains at the same time as mixed with sediments and suspended matter precipitated in the rainfall sediment, causing rainwater to decay and cause odors. And the problem of providing a colony of insects such as flies.
이에 본 발명은, 상술한 바와 같은 종래의 제반결함을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은, 유입수에 포함된 협잡물을 전처리부에서 처리함과 아울러 협잡물이 제거되어 후처리부로 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질은 자중으로 침전됨과 동시에 다층의 여재에서 유입수에 포함된 오염성물질을 여과시켜 배출함과 동시에 여재를 일정간격 요입되게 형성하여 여과면적을 최대한 넓힘으로써 여과효율을 향상시킬 수 있는 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치를 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned general defects, and an object of the present invention is to treat the contaminants contained in the influent in the pretreatment unit and to include the influent in which the contaminants are removed and supplied to the aftertreatment unit. The precipitated material is precipitated by its own weight, while filtering the pollutants contained in the influent from the multi-layered filter media, and forming the filter media at a certain interval, thereby increasing the filtration area to maximize the filtration efficiency. To provide a contaminant removal device using.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 전처리부와 후처리부로 공급되는 유입수를 여과하여 완전배출시키면서 잔류되지 않도록 하여 전처리부와 후처리부의 건조상태를 유지함으로써, 잔류 유입수에 의한 부폐를 방지함과 아울러 전처리부와 후처리부의 청결을 유지하여 위생적으로 사용할 수 있는 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치를 제공함에 있다.In addition, another object of the present invention is to prevent the inflow of residual influent water by maintaining the dry state of the pre-treatment unit and the post-treatment unit by filtering the influent water supplied to the pre-treatment unit and the post-treatment unit so as not to remain while completely draining. The present invention provides an apparatus for removing contaminants using porous media that can be used hygienically by maintaining cleanliness of the pretreatment unit and the aftertreatment unit.
본 발명 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치는,The contaminant removal device using the porous filter of the present invention,
유입관이 배플에 연접되며, 상기 유입관으로 유입되는 유입수가 배플 내부로 회전되어 유입되도록 하고, 상기 배플의 높이를 유입관과 제1공급관의 위치에 따라 조절하여 협잡물을 제거하는 전처리부와;An inlet pipe connected to the baffle, the inflow water flowing into the inlet pipe is rotated into the baffle, and the pretreatment unit removes contaminants by adjusting the height of the baffle according to the positions of the inlet pipe and the first supply pipe;
상기 전처리부의 제1공급관으로부터 공급되는 유입수가 제2공급관을 통해 후처리조의 바닥면에 퍼지도록 공급하고, 상기 제2공급관을 통해 유입되어 후처리조에 저장되는 유입수에 포함된 오염성물질은 상기 후처리조의 바닥면에 수직으로 구비되면서 여과면적을 넓힐 수 있도록 다수의 요입공간이 요입되는 다층의 여재에서 여과되어 배출관으로 배출되도록 하는 후처리부와;The influent water supplied from the first supply pipe of the pretreatment unit is supplied to spread to the bottom surface of the aftertreatment tank through the second supply pipe, and contaminants contained in the inflow water that flows through the second supply pipe and stored in the aftertreatment tank are treated in the aftertreatment. A post-treatment unit which is provided perpendicular to the bottom surface of the tank and is filtered in a multi-layered media in which a plurality of concave spaces are concave so as to widen the filtration area and is discharged to the discharge pipe;
상기 후처리부로 공급되지 않은 전처리부의 잔류 유입수와 상기 여재의 하부에 수면이 위치하는 후처리부의 잔류 유입수를 여과시켜 배출하도록 하는 여과배출부를 포함하여 구성되며, And a filtration discharge unit for filtering and discharging the residual influent of the pretreatment unit which is not supplied to the aftertreatment unit and the residual influent of the aftertreatment unit in which the water surface is located under the filter medium.
상기 전처리부는,The preprocessing unit,
상기 유입관과 제1공급관이 설치된 전처리조와;상기 전처리조 내부에 유입관과 연접되는 배플과;상기 배플의 설치 높이를 조절하는 높이조절부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 것이다.A pretreatment tank having the inlet pipe and the first supply pipe installed therein; a baffle connected to the inlet pipe inside the pretreatment tank; and a height adjusting unit for adjusting the installation height of the baffle.
본 발명 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치에 의하면, 유입수에 포함된 협잡물을 전처리부의 스크린망에서 처리함과 아울러 협잡물이 제거되어 후처리부로 공급되는 유입수에 포함된 침전성물질은 자중으로 침전됨과 동시에 다층의 여재 및 요입공간을 통해 오염성물질을 여과시켜 배출하므로 여과면적의 넓어짐에 따라 여과효율의 향상시킬 수 있는 이점을 가질 수 있는 것이다.According to the contaminant removal device using the porous media of the present invention, while the contaminants contained in the influent water is treated in the screen network of the pretreatment unit, the contaminants are removed and the precipitated substances contained in the influent supplied to the aftertreatment unit are precipitated to their own weight and at the same time. Since contaminants are filtered and discharged through the multi-layer media and the concave space, the filtration area may have an advantage of improving filtration efficiency.
또한, 본 발명 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치에 의하면, 전처리부와 후처리부로 공급되는 유입수를 여과하여 완전배출시키면서 유입수가 잔류되지 않아 전처리부와 후처리부의 건조상태를 유지함으로써, 잔류 유입수에 의한 부폐를 방지함과 아울러 전처리부와 후처리부의 청결을 유지하여 위생적으로 사용할 수 있는 이점을 가질 수 있는 것이다.In addition, according to the present invention, the contaminant removal apparatus using the porous media, by filtering the inlet water supplied to the pre-treatment unit and the post-treatment unit completely discharged while the influent is not remaining, to maintain the dry state of the pre-treatment unit and the after-treatment unit, In addition to preventing the decay caused by the pre-treatment and post-treatment to maintain the cleanliness can have the advantage that can be used hygienically.
도 1은 본 발명의 정면 구성도1 is a front configuration diagram of the present invention
도 2는 본 발명의 평면 구성도2 is a plan view of the present invention
도 3은 본 발명의 측면 구성도3 is a side configuration diagram of the present invention
도 4은 본 발명의 작동상태도4 is an operating state diagram of the present invention
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<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100: 전처리부 110: 전처리조100: pretreatment unit 110: pretreatment tank
120: 배플 130: 높이조절부120: baffle 130: height adjustment unit
140: 역류방지부재 200: 후처리부140: backflow prevention member 200: post-processing unit
210: 후처리조 220: 제2공급관210: after treatment tank 220: second supply pipe
230: 지지부재 240: 다층의 여재230: support member 240: multilayer media
250: 수직배출관 260: 배출관250: vertical discharge pipe 260: discharge pipe
300: 여과배출부 310: 설치공간300: filtered discharge portion 310: installation space
320: 제2배출관 330: 여과부재320: second discharge pipe 330: filtration member
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 정면 구성도이고, 도 2는 본 발명의 평면 구성도이며, 도 3은 본 발명의 측면 구성도이다.1 is a front configuration diagram of the present invention, FIG. 2 is a plan configuration diagram of the present invention, and FIG. 3 is a side configuration diagram of the present invention.
본 발명 다공성 여재를 이용한 오염성물질 제거장치는, 유입관(111)이 배플(120)에 연접되며, 상기 유입관(120)으로 유입되는 유입수가 배플(120) 내부로 회전되어 유입되도록 하고, 상기 배플(120)의 높이를 유입관(111)과 제1공급관(112)의 위치에 따라 조절하여 협잡물을 제거하는 전처리부(100)가 구성되며, 상기 전처리부(100)의 제1공급관(112)으로부터 공급되는 유입수가 제2공급관(220)을 통해 후처리조(210)의 바닥면에 퍼지도록 공급하고, 상기 제2공급관(220)을 통해 유입되어 후처리조(210)에 저장되는 유입수에 포함된 오염성물질은 상기 후처리조(210)의 바닥면에 수직으로 구비되면서 여과면적을 넓힐 수 있도록 다수의 요입공간(241)이 요입되는 다층의 여재(240)에서 여과되어 배출관(260)으로 배출되도록 하는 후처리부(200)가 구성되고, 상기 후처리부(200)로 공급되지 않은 전처리부(100)의 잔류 유입수와 상기 여재(240)의 하부에 수면이 위치하는 후처리부(200)의 잔류 유입수를 여과시켜 배출하도록 하는 여과배출부(300)를 포함하여 구성되는 것으로, 이를 좀더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The contaminant removing device using the porous media of the present invention, the inlet pipe 111 is connected to the baffle 120, the inflow water flowing into the inlet pipe 120 is rotated into the baffle 120 to be introduced, The height of the baffle 120 is adjusted according to the position of the inlet pipe 111 and the first supply pipe 112 is configured a pre-treatment unit 100 for removing contaminants, the first supply pipe 112 of the pre-treatment unit 100 Inflow water from the supply through the second supply pipe 220 to spread to the bottom surface of the after-treatment tank 210, the inflow water is introduced through the second supply pipe 220 and stored in the after-treatment tank 210 The contaminant contained in the discharge pipe 260 is filtered in the multi-layer media 240 in which a plurality of concave space 241 is concave so as to be provided perpendicular to the bottom surface of the after-treatment tank 210 to widen the filtration area After treatment unit 200 is configured to be discharged to the post-processing unit 200 It is configured to include a filtration discharge unit 300 for filtering and discharging the residual influent of the pre-treatment unit 100 and the residual influent of the after-treatment unit 200 is located in the lower portion of the filter medium 240, This will be described in more detail as follows.
상기 전처리부(100)는, 상기 유입관(111)과 제1공급관(112)이 설치된 전처리조(110)가 구비되고, 상기 전처리조(110) 내부에 유입관(111)과 연접되는 배플(120)이 구비되며, 상기 배플(120)의 설치 높이를 조절하는 높이조절부(130)를 포함하여 구비된다.또한, 상기 배플(120)의 하부에 장착되어 협잡물의 역류를 방지하도록 내측으로 경사진 역류방지부재(140)를 더 포함하여 구비된다.The pretreatment unit 100 is provided with a pretreatment tank 110 in which the inlet pipe 111 and the first supply pipe 112 are installed, and a baffle connected to the inlet pipe 111 in the pretreatment tank 110 ( 120 is provided, and is provided, including a height adjusting unit 130 for adjusting the installation height of the baffle 120. In addition, it is mounted on the lower portion of the baffle 120 is inclined inward to prevent the backflow of contaminants It is further provided with a photographic backflow prevention member (140).
상기 높이조절부(130)는, 상기 배플(120)의 하부에 결합장공(131')이 관통되어 장착되는 제1링크(131)가 구비되고, 상기 제1링크(131)의 결합장공(131')과 결합장공(132')이 연통되게 관통되어 전처리조(110) 바닥면에 고정되는 제2링크(132)가 구비되며, 상기 제1링크(131)의 결합장공(131')과 제2링크(132)의 결합장공(132')에 결합되어 고정하는 고정부재(133)를 포함하여 구비된다.The height adjusting unit 130 is provided with a first link 131 through which the coupling long hole 131 'penetrates and is mounted below the baffle 120, and the coupling long hole 131 of the first link 131 is provided. ') And the coupling long hole (132') is communicated with the second link 132 is fixed to the bottom surface of the pretreatment tank 110, the coupling long hole (131 ') and the first link of the first link 131 It is provided to include a fixing member 133 coupled to and fixed to the coupling hole 132 ′ of the two links 132.
또한, 상기 후처리부(200)는, 상기 전처리부(100)의 제1공급관(112)으로 공급되는 유입수를 수용하는 후처리조(210)가 구비되며, 상기 제1공급관(112)에 결합되어 전처리부(100)의 제1공급관(112)으로 공급되는 유입수가 후처리조(210)의 바닥면에 퍼지도록 공급하는 제2공급관(220)이 구비되고, 상기 후처리조(210)의 바닥면에 고정되어 다층의 여재(240)를 지지하며, 내부에 배출수로(231)가 관통된 지지부재(230)가 구비되고, 상기 후처리조(210)의 바닥면에 고정된 지지부재(230)에 다수의 요입공간(241)이 형성되도록 장착되어 유입수의 오염성물질을 여과하는 다층의 여재(240)가 구비되며, 상기 여재(240)에 감싸지도록 지지부재(230)에 고정되어 여재(240)에서 여과된 여과수를 지지부재(230)의 배출수로(231)로 배출하는 수직배출관(250)이 구비되고, 상기 수직배출관(250)을 통해 배출수로(231)로 공급되는 여과수를 후처리조(210) 외부로 배출하도록 지지부재(230)에 고정되는 배출관(260)을 포함하여 구비된다.In addition, the after-treatment unit 200 is provided with a post-treatment tank 210 for receiving the inflow water supplied to the first supply pipe 112 of the pre-treatment unit 100, is coupled to the first supply pipe 112 A second supply pipe 220 is provided to supply the inflow water supplied to the first supply pipe 112 of the pretreatment unit 100 to the bottom surface of the after-treatment tank 210, and the bottom of the after-treatment tank 210 is provided. It is fixed to the surface to support the multi-layered media 240, the support member 230 through which the discharge passage 231 is provided, and the support member 230 fixed to the bottom surface of the after-treatment tank 210 ) Is provided to form a plurality of concave space 241 is provided with a multi-layered media 240 to filter the contaminants of the influent, it is fixed to the support member 230 to be wrapped in the media (240) media (240) ) Is provided with a vertical discharge pipe 250 for discharging the filtered water in the discharge water passage 231 of the support member 230, through the vertical discharge pipe 250 After the filtered water supplied to the drain water to 231 processing tank 210 to discharge to the outside is provided, including the discharge tube 260 is fixed to the support member 230.
또한, 상기 여과배출부(300)는, 상기 전처리부(100)의 전처리조(110) 바닥면과 후처리부(200)의 후처리조(210) 바닥면이 연통되도록 요입되는 설치공간(310)이 구비되고, 상기 설치공간(310)에 장착되어 잔류 여과수를 배출하도록 다수의 배출공(321)이 타공된 제2배출관(320)이 구비되며, 상기 제2배출관(320)을 감싸 전처리조(110)와 후처리조(210)에 위치한 유입수를 여과하는 여과부재(330)를 포함하여 구비된다.In addition, the filtration discharge unit 300, the installation space 310 is concaved so that the bottom surface of the pretreatment tank 110 and the bottom surface of the post-treatment tank 210 of the after-treatment unit 200 communicate with each other. Is provided, is provided in the installation space 310 is provided with a second discharge pipe 320 is a plurality of discharge holes 321 perforated to discharge the residual filtered water, wrapped around the second discharge pipe 320 pre-treatment tank ( 110 and provided with a filtration member 330 for filtering the influent water located in the after-treatment tank (210).
또한, 상기 전처리부(100)와 후처리부(200)는 일체로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the pretreatment unit 100 and the post-processing unit 200 is preferably formed integrally.
다음은 상기와 같이 구성된 본 발명의 설치 및 작동과정을 설명한다.The following describes the installation and operation of the present invention configured as described above.
먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 전처리부(100)와 후처리부(200)가 일체로 형성되는 전처리조(110)와 후처리조(210) 바닥면의 양단에 여과배출부(300)의 설치공간(310)을 형성하는데, 상기 설치공간(310)은 제2배출관(320)을 수용하도록 하며, 상기 설치공간(310)에 다수의 배출공(미도시)이 타공된 제2배출관(320)을 안착시킨 후, 제2배출관(320)이 회전하지 않도록 한다.First, as shown in FIG. 4, the pre-treatment unit 100 and the post-treatment unit 200 in which the pretreatment unit 110 and the post-treatment tank 210 are formed at both ends of the filtration discharge unit 300. An installation space 310 is formed, and the installation space 310 accommodates the second discharge pipe 320, and the second discharge pipe 320 is provided with a plurality of discharge holes (not shown) in the installation space 310. ) Is seated, so that the second discharge pipe 320 does not rotate.
여기서, 상기 제2배출관(320)은 여과수의 배출이 용이하도록 소정각도 기울어지게 형성하는 것이 바람직하고, 상기 전처리조(110)와 후처리조(210)의 바닥면은, 바닥면의 중앙보다 설치공간(310)이 낮아지도록 경사지게 형성하는 것이 바람직하다.Here, the second discharge pipe 320 is preferably formed to be inclined at a predetermined angle to facilitate the discharge of the filtered water, the bottom surface of the pre-treatment tank 110 and the after-treatment tank 210 is installed from the center of the bottom surface It is preferable to form the inclined so that the space 310 is lowered.
상기 여과배출부(300)가 연통되도록 전처리조(110)와 후처리조(210)에 설치된 전처리부(100)와 후처리부(200)를 지면에 매설된 상태에서 상기 전처리부(100)의 전처리조(110)에 배플(120)을 장착하는데, 상기 전처리조(110)의 바닥면에 높이조절부(130)의 제2링크(132)를 적어도 3개 이상 방사상으로 고정시킨 상태에서 상기 제2링크(132)에 배플(120)의 하부에 고정된 제1링크(131)를 연결한다.Pre-treatment of the pretreatment unit 100 in a state in which the pretreatment unit 100 and the post-treatment unit 200 installed in the pretreatment tank 110 and the post-treatment tank 210 are embedded in the ground so that the filtration discharge unit 300 communicates with each other. The baffle 120 is mounted to the jaw 110, and the second link 132 of the height adjusting unit 130 is radially fixed to the bottom surface of the pretreatment tank 110 in the second state. The first link 131 fixed to the bottom of the baffle 120 is connected to the link 132.
이때, 상기 배플(120)은 전처리조(110)의 유입관(111)과 제1공급관(112)의 위치에 따라 높이를 조절할 수 있으며, 상기 배플(120)의 높이가 조절된 상태에서 상기 제1,2링크(131)(132)의 각 결합장공(131')(132')에 고정부재(133)를 결합하여 배플(120)을 고정시키는데, 상기 고정부재(133)는 볼트와 너트가 바람직하며, 상기 배플(120)의 외주면과 전처리조(110)의 내면을 고정구(미도시)로 더 고정시켜 지지할 수도 있다.At this time, the baffle 120 may adjust the height according to the position of the inlet pipe 111 and the first supply pipe 112 of the pretreatment tank 110, the baffle 120 is adjusted in the state The fixing member 133 is coupled to each of the coupling holes 131 ′ and 132 ′ of the first and second links 131 and 132 to fix the baffle 120. Preferably, the outer circumferential surface of the baffle 120 and the inner surface of the pretreatment tank 110 may be further fixed and supported by a fixture (not shown).
여기서 상기 제1,2링크(131)(132)의 결합장공(131')(132')에 의해 배플(120)의 높이를 미세하게 조절할 수 있으며, 상기 전처리조(110)의 바닥면이 수평을 유지하지 못하여도 각 링크의 높이를 각각 조절하여 배플(120)의 수평을 유지할 수 있는 것이다.Here, the height of the baffle 120 may be finely adjusted by the coupling holes 131 ′ and 132 ′ of the first and second links 131 and 132, and the bottom surface of the pretreatment tank 110 is horizontal. Even if it is not possible to maintain the level of the baffle 120 by adjusting the height of each link, respectively.
또한, 상기 배플(120)이 고정되는 위치는 유입관(111)이 배플(120)의 외주면에 연접되는 위치가 바람직하며, 상기 배플(120)과 후처리조(210)와 연통되도록 제1공급관(112)을 연결한 후, 상기 제1공급관(112)에 제2공급관(220)을 결합하는데, 상기 제2공급관(220)은 'T'자 형상으로 일단부가 후처리조(210) 바닥면을 향하도록 한다.In addition, the position where the baffle 120 is fixed is preferably a position in which the inlet pipe 111 is in contact with the outer peripheral surface of the baffle 120, the first supply pipe to communicate with the baffle 120 and the after-treatment tank 210 After connecting the 112, the second supply pipe 220 is coupled to the first supply pipe 112, the second supply pipe 220 is a 'T' shape, one end of the after-treatment tank 210 bottom surface Face it.
상기 제2공급관(220)이 후처리조(210) 바닥면에 설치되면, 상기 후처리조(210)의 바닥면에 지지부재(230)를 고정시킨 상태에서 상기 지지부재(230)에 배출공(미도시)이 관통된 수직배출관(250)을 고정시켜 수직배출관(250)의 지지부재(230)의 배출수로(231)가 연통되도록 하고, 상기 배출수로(231)와 연통되도록 배출관(260)을 지지부재(230)에 장착한다.When the second supply pipe 220 is installed on the bottom surface of the after-treatment tank 210, the discharge hole to the support member 230 in a state in which the support member 230 is fixed to the bottom surface of the after-treatment tank 210. Fixing the vertical discharge pipe (250) through the (not shown) so that the discharge channel 231 of the support member 230 of the vertical discharge tube 250 is in communication, the discharge tube 260 to communicate with the discharge channel (231). To the support member 230.
상기 지지부재(230)에 고정된 수직배출관(250)은, 공극밀도를 달리하는 다층의 여재(240)에서 수용함과 동시에 상기 다층의 여재(240)를 지지부재(230)에 고정시키며, 상기 다층의 여재(240)에 타공판(242)을 밀착시키면서 상기 타공판(242)을 지지부재(230)에 고정시키면 된다.The vertical discharge pipe 250 fixed to the support member 230 accommodates the multi-layer media 240 having different pore densities and simultaneously fixes the multi-layer media 240 to the support member 230. The perforated plate 242 may be fixed to the support member 230 while keeping the perforated plate 242 in close contact with the multilayer media 240.
이러한 상태에서 도 4에 도시된 바와 같이, 유입수가 전처리부(100)의 유입관(111)을 통해 배플(120) 내부로 유입되면, 상기 유입수는 배플(120)의 다공판의 내체(121)를 통과하여 외체(122) 내면을 따라 회전하면서 와류를 형성함과 동시에 유입수에 포함된 협잡물의 일부는 배플(120)의 다공판 내체(121)에서 여과되나, 상기 유입수의 회전력과 구심력 및 자중에 의해 회전하면서 배플(120)의 하부로 이동한다.In this state, as shown in FIG. 4, when the inflow water is introduced into the baffle 120 through the inflow pipe 111 of the pretreatment unit 100, the inflow water is an inner body 121 of the porous plate of the baffle 120. While passing through the outer body 122 to rotate along the inner surface to form a vortex and at the same time a part of the contaminants contained in the influent is filtered out of the porous plate inner body 121 of the baffle 120, but the rotational force and centripetal force and the weight of the influent While moving by the lower portion of the baffle 120.
이때, 상기 배플(120)의 하부로 이동하는 협잡물은 역류방지부재(140)를 통과하여 배플(120)의 외부인 전처리조(110) 내부로 이동함과 동시에 전처리조(110) 내부로 이동한 협잡물은 역류방지부재(140)가 내부로 경사지게 형성되어 있으므로 배플(120) 내부로 역류하지 못한다.At this time, the contaminants moving to the lower portion of the baffle 120 passes through the backflow prevention member 140 and moves to the pretreatment tank 110 that is outside of the baffle 120 and at the same time the contaminants moved into the pretreatment tank 110. Since the backflow preventing member 140 is inclined inward, the backflow prevention member 140 may not flow back into the baffle 120.
여기서, 전처리조(110) 내부로 유입된 유입수의 일부는, 여과배출부(300)의 여과부재(330)에서 오염성물질이 여과된 후, 배출공(미도시)을 통해 제2배출관(320)으로 배출되며, 상기 제2배출관(320)으로 배출되는 여과수보다 유입수의 유입량이 많음으로 전처리조(110)에 저장되면서 수위가 높아지게 된다.Here, a part of the inflow water introduced into the pretreatment tank 110, after the pollutant is filtered in the filtration member 330 of the filtration discharge unit 300, the second discharge pipe 320 through the discharge hole (not shown) As it is discharged into the pre-treatment tank 110 as the inflow of the inlet water is greater than the filtered water discharged to the second discharge pipe 320, the water level is increased.
상기의 과정으로 협잡물이 제거된 유입수는 배플(120)에 연결된 제1공급관(112)을 경유하여 후처리부(200)의 제2공급관(220)을 통해 후처리조(210)의 바닥면에서 퍼지면서 저장되는데, 상기 후처리조(210)에 저장되는 유입수의 일부는 여과배출부(300)의 여과부재(330)에서 오염성물질이 여과된 후, 제2배출관(320)의 배출공(미도시)을 통해 후처리조(210) 외부로 배출되나, 상기 후처리조(210) 외부로 배출되는 여과수는 소량이다.Inflow water from which the contaminants have been removed is purged from the bottom surface of the after-treatment tank 210 through the second supply pipe 220 of the after-treatment unit 200 via the first supply pipe 112 connected to the baffle 120. Some of the inflow water stored in the after-treatment tank 210 is contaminated material is filtered in the filtration member 330 of the filtration discharge unit 300, the discharge hole of the second discharge pipe 320 (not shown) Is discharged to the outside after the treatment tank 210, the filtered water discharged to the outside of the after-treatment tank 210 is a small amount.
또한 상기 제2배출관(320)으로 배출되어 후처리조(210) 내부로 유입된 대부분의 유입수는 다층의 여재(240)에서 처리하는데, 상기 여과배출부(300)의 여과부재(330)에서 오염성물질이 여과된 후, 제2배출관(320)으로 배출되는 여과수보다 제2배출관(320)으로 유입되는 유입수의 유입량이 많음으로 후처리조(210)에 저장되면서 수위가 높아진다.In addition, most of the inflow water discharged into the second discharge pipe 320 and introduced into the after-treatment tank 210 is treated in the multi-layer media 240, which is contaminated in the filtration member 330 of the filtration discharge unit 300. After the material is filtered, the water level is increased while being stored in the after-treatment tank 210 because the inflow of the inflow water flowing into the second discharge pipe 320 is greater than the filtered water discharged into the second discharge pipe 320.
상기 후처리조(210)로 유입되는 유입수에 포함된 침전성물질은 유입수 내의 수압에 의해 부유하면서 이동한 후, 자중으로 하강하여 후처리조(210) 바닥면에 침전됨과 아울러 상기 유입수에 포함된 오염성물질은 다층의 여재(240)를 감싼 타공판(242)을 통과함과 동시에 다층의 여재(240)를 통해 오염성물질을 여과하는데, 상기 여재(240)의 제1여재는 공극밀도가 넓은 것으로, 1mm 이상의 오염성물질을 여과시키고, 상기 제1여재보다 공극밀도가 조밀한 제2여재는, 1mm 이내의 오염성물질을 여과시키며, 상기 제2여재보다 공극밀도가 더 조밀한 제3여재는, 1㎛ 이내의 오염성물질을 여과시키고, 상기 제3여재보다 공극밀도가 더 조밀한 제4여재는 100㎛ 이하의 미세입자까지 여과시킬 수 있으나, 상기 제1 내지 제4여재는 사용자의 선택 및 유입수의 여과질에 따라 여재의 갯수를 줄이거나 늘릴 수 있는 것이다.The sedimentary material contained in the inflow water flowing into the after-treatment tank 210 moves while floating by the water pressure in the inflow water, and then descends to its own weight to settle on the bottom surface of the after-treatment tank 210 and included in the inflow water. The contaminant passes through the perforated plate 242 wrapping the multi-layer media 240 and at the same time to filter the contaminant through the multi-layer media 240, the first media of the media 240 is a wide pore density, The second filter, which filters contaminants of 1 mm or more and has a higher pore density than the first filter, filters the contaminants within 1 mm, and the third filter, which has a higher pore density than the second filter, has a thickness of 1 μm. Filter the contaminant within, and the fourth filter having a higher pore density than the third filter may filter to fine particles of 100 μm or less, but the first to fourth filters may be filtered by the user and the influent. According to quality The will to increase or decrease the number.
여기서 상기 다층의 여재(240)는 요입공간(241)이 일정간격 형성되어 있으므로 여과면적을 넓힐 수 있을 뿐만 아니라 상기 후처리조(210)에 저장되는 유입수량이 많아 유입수의 수위가 점점 상승하면, 상기 다층의 여재(240)의 여과면적이 넓어지므로 오염성물질을 여과하는 여과량이 향상됨과 아울러 상기 제2공급관(220)을 통해 후처리조(210)의 바닥면에서 퍼지도록 유입수가 공급되어 후처리조(210)에 저장되는 유입수의 유동성을 완화시켜 비교적 정적인 상태를 유지하므로 침전성물질의 침전효과를 증대시킬 수 있는 것이다.In this case, the multi-layer media 240 has a recessed space 241 formed at regular intervals, so that the filtration area can be widened, and the amount of inflow water stored in the after-treatment tank 210 increases. Since the filtration area of the multi-layer media 240 is widened, the amount of filtration for filtering contaminants is improved, and the inflow water is supplied to spread from the bottom surface of the after-treatment tank 210 through the second supply pipe 220 to be post-treated. By reducing the fluidity of the influent water stored in the tank 210 to maintain a relatively static state will be able to increase the precipitation effect of the precipitated material.
상기 다층의 여재(240)에서 오염성물질이 여과된 여과수는 수직배출관(250)의 배출공(미도시)을 통해 지지부재(230)의 배출수로(231)로 공급됨과 동시에 상기 배출수로(231)와 연통된 배출관(260)을 통해 후처리조(210)의 외부로 여과수가 배출된다.The filtered water in which the contaminant is filtered in the multi-layer media 240 is supplied to the discharge channel 231 of the support member 230 through the discharge hole (not shown) of the vertical discharge pipe 250 and the discharge channel 231 at the same time. Filtrate water is discharged to the outside of the after-treatment tank 210 through the discharge pipe 260 communicated with the.
또한, 상기 전처리조(110)로 과다 유입되어 후처리조(210)로 공급되지 않은 잉여 유입수는 유입관(111)과 동일 선상으로 형성된 잉여배출관(113)을 통해 외부로 배출되도록 하며, 상기 잉여배출관(113)은, 후처리조(210)의 상단부에 설치할 수도 있다.In addition, surplus inflow water that is excessively introduced into the pretreatment tank 110 and not supplied to the aftertreatment tank 210 is discharged to the outside through the surplus discharge pipe 113 formed in the same line as the inflow pipe 111, and the surplus The discharge pipe 113 can also be provided in the upper end of the after-treatment tank 210.
또한, 상기 전처리조(110)로부터 유입되는 유입수의 공급이 중단되면, 상기 유입수의 오염성물질이 다층의 여재(240)에서 여과됨과 동시에 오염성물질이 여과된 여과수는 수직배출관(250)을 경유하여 배출관(260)으로 배출되면서 후처리조(210)에 위치한 유입수의 수위가 다층의 여재(240)보다 낮아질 경우, 상기 다층의 여재(240)에서 유입수의 오염성물질을 여과하지 못한다.In addition, when the supply of inflow water flowing from the pretreatment tank 110 is stopped, the contaminants of the inflow water is filtered in the multi-layered media 240 and at the same time the filtered water in which the contaminants are filtered is discharged through the vertical discharge pipe 250. When discharged to 260 and the water level of the inflow water located in the after-treatment tank 210 is lower than the multi-layer media 240, the contaminants of the influent in the multi-layer media 240 can not be filtered.
상기 다층의 여재(240) 보다 유입수의 수위가 낮아져 오염성물질을 다층의 여재(240)에서 여과하지 못할 경우, 후처리조(210)의 경사진 바닥면을 통해 여과배출부(300)의 설치공간(310)으로 이동함과 아울러 유입수의 오염성물질이 여과부재(330)에서 여과된 후, 제2배출관(320)의 배출공(미도시)를 통해 서서히 배출되면서 후처리조(210) 내부에 유입수가 잔류되지 않음으로 후처리조(210) 내부는 건조된 상태를 유지하게 되는 것이다.When the level of influent water is lower than the multi-layer media 240, and contaminants cannot be filtered in the multi-media media 240, the installation space of the filtration discharge unit 300 is inclined through the inclined bottom surface of the after-treatment tank 210. After moving to 310 and the contaminant in the influent water is filtered in the filtration member 330, and gradually discharged through the discharge hole (not shown) of the second discharge pipe 320, the influent water in the after-treatment tank 210 Since the inside of the after-treatment tank 210 does not remain, it is to maintain a dried state.
또한, 상기 전처리조(110)로 유입되어 후처리조(210)로 공급되지 못한 유입수는 여과배출부(300)의 설치공간(330)에 위치한 여과부재(330)에서 여과된 후, 제2배출관(320)의 배출공(미도시)을 통해 서서히 외부로 배출되어 전처리조(110) 내부 유입수가 잔류되지 않음으로 전처리조(110) 내부는 건조된 상태를 유지하게 되는 것이며, 본 발명의 전처리조(110)의 협잡물과 후처리조(210)의 침전성물질 및 다층의 여재(240)에서 여과된 오염성물질은 정기적으로 제거해 주어야 됨을 밝혀둔다.In addition, the inflow water that is introduced into the pretreatment tank 110 and not supplied to the aftertreatment tank 210 is filtered by the filtration member 330 located in the installation space 330 of the filtration discharge unit 300, and then the second discharge pipe. It is gradually discharged to the outside through the discharge hole (not shown) of the 320 to maintain the dried state inside the pretreatment tank 110 as no inflow water inside the pretreatment tank 110, the pretreatment tank of the present invention It is noted that the contaminants of 110 and the contaminants filtered in the aftertreatment tank 210 and the contaminants filtered in the multi-layer media 240 should be removed periodically.
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이상과 같이 본 발명은, 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정되어 해석되어서는 아니되며, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 일실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 발명의 청구범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.As described above, the present invention, although described by the limited embodiments and drawings, terms or words used in the present specification and claims are not limited to the ordinary or dictionary meanings and should not be interpreted, the technical spirit of the present invention It must be interpreted to mean meanings and concepts. Therefore, the configuration shown in the embodiments and drawings described herein are only one embodiment of the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention, various changes within the scope of the claims of the present invention It should be understood that there may be equivalents and variations.
Claims (8)
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| KR1020090007756A KR100919174B1 (en) | 2009-01-30 | 2009-01-30 | Apparatus for removing pollutants using porous filter |
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|---|---|---|---|---|
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2009
- 2009-01-30 KR KR1020090007756A patent/KR100919174B1/en active IP Right Grant
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