KR100917783B1 - Rf device and method of treating plating in the same - Google Patents

Rf device and method of treating plating in the same Download PDF

Info

Publication number
KR100917783B1
KR100917783B1 KR1020070100577A KR20070100577A KR100917783B1 KR 100917783 B1 KR100917783 B1 KR 100917783B1 KR 1020070100577 A KR1020070100577 A KR 1020070100577A KR 20070100577 A KR20070100577 A KR 20070100577A KR 100917783 B1 KR100917783 B1 KR 100917783B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plating
layer
equipment
adhesion
alkali
Prior art date
Application number
KR1020070100577A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20090035341A (en
Inventor
서태원
정현영
Original Assignee
주식회사 에이스테크놀로지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이스테크놀로지 filed Critical 주식회사 에이스테크놀로지
Priority to KR1020070100577A priority Critical patent/KR100917783B1/en
Publication of KR20090035341A publication Critical patent/KR20090035341A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100917783B1 publication Critical patent/KR100917783B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • C22C9/04Alloys based on copper with zinc as the next major constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1689After-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/42Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of light metals
    • C25D5/44Aluminium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

알에프 장비 및 이에 있어서 도금 처리 방법이 개시된다. 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 피도금 소재를 전처리하는 단계(a); 전기 도금 시 밀착력 강화를 위한 도금층을 형성하는 단계(b); 및 상기 밀착력 강화를 위한 도금층에 화이트 브론즈 도금을 수행하는 단계(c)를 포함하되, 상기 밀착력 강화층은 상기 화이트 브론즈의 도금 밀착력을 강화하는 층이다. RF equipment and a plating treatment method are disclosed. (A) pretreating a plated material made of aluminum or an aluminum alloy; (B) forming a plating layer for strengthening adhesion during electroplating; And (c) performing white bronze plating on the plating layer for strengthening the adhesion, wherein the adhesion enhancement layer is a layer for enhancing the plating adhesion of the white bronze.

RF 장비, 화이트브론즈 RF equipment, white bronze

Description

알에프 장비 및 이에 있어서 도금 처리 방법{RF DEVICE AND METHOD OF TREATING PLATING IN THE SAME}RF equipment and plating method therefor {RF DEVICE AND METHOD OF TREATING PLATING IN THE SAME}

본 발명은 RF 장비 및 이에 있어서 도금 처리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 RF 장비의 내식성을 향상시킬 수 있는 RF 장비 도금 처리 방법 및 이에 의한 RF 장비에 관한 것이다. The present invention relates to an RF device and a plating treatment method therefor, and more particularly, to an RF device plating processing method and an RF device thereby improving the corrosion resistance of the RF equipment.

최근, 이동통신, 광통신 및 위성통신 등이 발달함에 따라 RF 신호를 처리하기 위한 필터, 듀플렉서, 도파관 및 기타의 RF 장비들이 대량 생산되어 사용되고 있다. Recently, with the development of mobile communication, optical communication and satellite communication, filters, duplexers, waveguides and other RF equipment for processing RF signals have been mass produced and used.

일반적으로, 마이크로파와 같은 고주파의 RF 신호를 처리하는 경우에는, RF 장비의 표면에 고주파 전류가 최대로 되는 표피 효과(Skin Effect)가 발생되어 RF 장비에 손실을 야기시켰다. 따라서, 고주파 RF 신호를 처리하는 RF 장비(일반적으로, 알루미늄으로 이루어짐)는 이러한 손실을 줄여 원하는 주파수 영역에서 원하는 특성을 얻기 위하여 그의 표면에 대하여 도금 처리, 일반적으로는 은도금 처리를 하였다. 즉, 상기 RF 장비의 표면에는 상기 은도금 처리에 의하여 은피막이 형성되었다. 그러나, 이러한 은피막은 표피 효과로 인한 손실을 감소시킬 수는 있었다. 그러나, 이러한 은피막은 많은 결함을 가지고 있어 부식성 환경에서 손상이 생기는 문제점이 있었다. In general, when processing a high frequency RF signal such as a microwave, a skin effect (maximum) of the high frequency current is generated on the surface of the RF equipment caused a loss in the RF equipment. Therefore, RF equipment (generally made of aluminum) that processes high frequency RF signals has been plated, typically silver plated, on its surface in order to reduce this loss and obtain the desired properties in the desired frequency range. That is, a silver film was formed on the surface of the RF equipment by the silver plating process. However, this silver film could reduce the loss due to the epidermal effect. However, these silver coatings have a number of defects, causing damage in a corrosive environment.

근래에 들어 옥외형 중계기 등과 같이 RF 장비가 실외에 설치되는 경우가 많아지고 있으며 실외에서는 은피막의 결함으로 인해 약한 내식성을 갖는 은도금 장비는 쉽게 부식되고 변질되는 문제점이 있었다. In recent years, RF equipments such as outdoor repeaters are often installed outdoors, and in the outdoor, silver plating equipment having weak corrosion resistance due to defects in silver coating has been easily corroded and deteriorated.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 실외에서 안정적으로 사용할 수 있는 강한 내식성을 가지는 RF 장비의 도금 방법 및 이에 의한 RF 장비를 제안하고자 한다. In order to solve the problems as described above, the present invention is to propose a method for plating RF equipment having a strong corrosion resistance and thereby RF equipment that can be used stably outdoors.

본 발명의 다른 목적은 도금 피막의 결함을 최소화하여 부식성 환경에서 안정적으로 사용할 수 있는 RF 장비의 도금 방법 및 이에 의한 RF 장비를 제안하는 것이다.Another object of the present invention is to propose a plating method of the RF equipment and thereby RF equipment that can be used stably in a corrosive environment by minimizing the defect of the plating film.

본 발명의 또 다른 목적은 RF 장비의 커넥터 부분과 본체 부분을 일체로 형성되는 RF 장비에 효과적으로 적용될 수 있는 RF 장비의 도금 방법 및 이에 의한 RF 장비를 제안하는 것이다. Still another object of the present invention is to propose a plating method of RF equipment and RF equipment thereby, which can be effectively applied to RF equipment in which the connector portion and the body portion of the RF equipment are integrally formed.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 피도금 소재를 전처리하는 단계(a); 전기 도금 시 밀착력 강화를 위한 도금층을 형성하는 단계(b); 및 상기 밀착력 강화를 위한 도금층에 화이트 브론즈 도금을 수행하는 단계(c)를 포함하되, 상기 밀착력 강화층은 상기 화이트 브론즈의 도금 밀착력을 강화하는 층인 RF 장비 도금 처리 방법이 제공된다. In order to achieve the object as described above, according to an embodiment of the present invention, the step of (a) pre-treating the plated material consisting of aluminum or aluminum alloy; (B) forming a plating layer for strengthening adhesion during electroplating; And (c) performing white bronze plating on the plating layer for strengthening the adhesion, wherein the adhesion enhancement layer is a layer for enhancing the plating adhesion of the white bronze.

상기 도금 처리 방법은 상기 피도금 소재 및 밀착력 강화층 사이에 내 알칼리성 물질을 도금하여 내알칼리 하지층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. The plating treatment method may further include forming an alkali-based underlayer by plating an alkali resistant material between the material to be plated and the adhesion reinforcing layer.

상기 밀착력 강화를 위한 도금층은 구리 도금법에 의해 형성되는 구리 도금층을 포함할 수 있다. The plating layer for strengthening the adhesion may include a copper plating layer formed by a copper plating method.

상기 내알칼리 하지층은 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도금층을 포함할 수 있다. The alkali resistant base layer may include an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating.

상기 도금 처리 방법은 상기 화이트 브론즈 도금 후 알칼리성과 산성을 반응시켜 도금 포면을 중화하는 단계를 더 포함할 수 있다. The plating method may further include neutralizing the plating surface by reacting alkali and acid after the white bronze plating.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 피도금 소재를 전처리하는 단계(a); 내알칼리성 물질을 도금하여 내알칼리 하지층을 형성하는 단계(b); 및 전기 도금에 의한 화이트 브론즈 도금층을 형성하는 단계(c)를 포함하는 RF 장비 도금 처리 방법이 제공된다. According to another aspect of the invention, the step of (a) pre-treating the plated material consisting of aluminum or aluminum alloy; Plating an alkali resistant material to form an alkali resistant underlayer (b); And (c) forming a white bronze plating layer by electroplating.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상술한 방법들에 의해 도금 처리되고 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 본체가 형성되는 RF 장비가 제공된다. According to another aspect of the present invention, there is provided an RF device which is plated by the above-described methods and the body is formed of aluminum or aluminum alloy.

본 발명은 내식성이 검증된 화이트 브론즈를 도금 재질로 사용함으로써 RF 장비를 실외에서도 안정적으로 사용할 수 있는 장점이 있다. The present invention has the advantage that the RF equipment can be used stably in the outdoor by using the white bronze has been proven corrosion resistance as a plating material.

또한, 본 발명은 도금 피막의 결함을 최소화하여 부식성 환경에서 안정적으로 사용할 수 있으며, 특히 RF 장비의 커넥터 부분과 본체 부분이 일체로 형성되는 RF 장비에 효과적으로 적용될 수 있다. In addition, the present invention can be used stably in a corrosive environment by minimizing the defects of the plating film, in particular can be effectively applied to RF equipment in which the connector portion and the body portion of the RF equipment is integrally formed.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 내 식성 향상을 위한 RF 장비 도금 방법 및 이에 의한 RF 장비를 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the RF equipment plating method and thereby RF equipment for improving the corrosion resistance according to an embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 RF 장비의 일례를 도시한 도면이다. 1 is a diagram illustrating an example of RF equipment to which a plating method according to an embodiment of the present invention is applied.

도 1에는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 RF 장비로서 RF 필터가 도시되어 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법은 도 1에 도시된 RF 필터에 적용되는 것에 한정되지는 않으며 손실 방지 및 내부 보호를 위해 도금이 수행되는 다양한 종류의 RF 장비에 적용될 수 있을 것이다. 예를 들어, RF 필터이외에도 도파관, 듀플렉서, 다이플렉서, 바이어스티 등 다양한 종류의 RF 장비에 적용될 수 있으나, 본 실시예에서는 RF 필터에 적용되는 경우에 대해 설명하기로 하겠으며 동일한 방식으로 다른 종류의 RF 장비에 적용될 수 있다. 1 shows an RF filter as an RF device to which an embodiment of the present invention is applied. The plating method according to an embodiment of the present invention is not limited to that applied to the RF filter shown in FIG. 1 and may be applied to various kinds of RF equipment in which plating is performed for loss prevention and internal protection. For example, in addition to the RF filter, it can be applied to various kinds of RF equipment such as waveguides, duplexers, diplexers, biases, etc., but the present embodiment will be described in the case of applying to the RF filter. It can be applied to RF equipment.

도 1을 참조하면, 본 발명이 적용되는 알에프(RF) 장비 중 RF 필터는 몸체부(102)와 덮개부(104)를 가지는 외곽 부재, 상기 외곽 부재에 의해 정의되는 내부 영역에 존재하는 내부 부재들(미도시), 입력 커넥터(100), 출력 커넥터(미도시) 및 적어도 하나의 튜닝 볼트(108)를 포함한다. Referring to FIG. 1, an RF filter of RF equipment to which the present invention is applied is an outer member having a body portion 102 and a cover portion 104, and an inner member existing in an inner region defined by the outer member. (Not shown), input connector 100, output connector (not shown) and at least one tuning bolt 108.

상기 외곽 부재는 외부에 노출되는 부분으로서 수분 등과 접촉하며, 그래서 상기 수분에 의해 부식되지 않도록 강한 내식성을 가지는 것이 특히 중요하다. The outer member is in contact with moisture and the like as a part exposed to the outside, so it is particularly important to have strong corrosion resistance so as not to be corroded by the moisture.

입력 커넥터(106)는 외부 장치(미도시)로부터 RF 신호를 수신하는 포트이다. The input connector 106 is a port for receiving an RF signal from an external device (not shown).

상기 출력 커넥터는 RF 장비(100)의 내부에서 필터링(filtering)된 RF 신호를 출력하는 포트이다. 입력 커넥터 및 출력 커넥터는 통상적으로 구리 또는 구리 합금에 의해 몸체가 형성되고 그 위에 화이트 브론즈 도금이 되는 것이 일반적이 다. The output connector is a port for outputting a filtered RF signal inside the RF equipment 100. The input connector and the output connector are typically body formed by copper or copper alloy and then white bronze plated thereon.

튜닝 볼트(104)는 도 1에 도시된 바와 같이 덮개부(104)를 관통하여 RF 필터(100)의 내부로 삽입되며, 필터링을 위한 중심 주파수 및 대역폭을 조정한다. 예를 들어, 튜닝 볼트(104)는 RF 필터(100)의 내부에 형성된 공진기(미도시) 또는 커플링 윈도우에 대응되어 배열되며, 튜닝 볼트가 삽입되는 깊이에 상응하여 중심 주파수 및 대역폭이 가변될 수 있다. The tuning bolt 104 is inserted into the RF filter 100 through the cover 104 as shown in FIG. 1, and adjusts the center frequency and bandwidth for filtering. For example, the tuning bolt 104 is arranged to correspond to a resonator (not shown) or coupling window formed inside the RF filter 100, and the center frequency and bandwidth may be varied according to the depth into which the tuning bolt is inserted. Can be.

도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 RF 장비의 내부를 도시한 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing the inside of the RF equipment to which the plating method according to an embodiment of the present invention is applied.

도 2를 참조하면, 본 실시예의 RF 장비(100)의 내부에는 다수의 월(202)에 의해 정의되는 다수의 캐비티(204) 및 각 캐비티에 수용되는 공진기(206)가 구비된다. Referring to FIG. 2, a plurality of cavities 204 defined by a plurality of walls 202 and a resonator 206 accommodated in each cavity are provided inside the RF equipment 100 of the present embodiment.

각 캐비티 및 이에 수용되는 공진기는 상호 연동하여 입력되는 RF 신호를 공진시키며 RF 신호는 공진 주파수에 상응하는 주파수 대역에서 필터링된다. 여기서, 캐비티를 정의하는 월들 중 하나는 RF 신호의 진행을 위해 오픈되어 커플링 윈도우가 형성된다. Each cavity and the resonator accommodated therein resonate with the input RF signal, and the RF signal is filtered in a frequency band corresponding to the resonance frequency. Here, one of the walls defining the cavity is opened for the progress of the RF signal to form a coupling window.

캐비티 및 공진기의 수는 회로적으로 필터의 폴 수를 의미하며, 필터의 삽입 손실 및 스커트 특성을 고려하여 폴수가 설정된다. 일반적으로 폴 수가 많아질수록 스커트 특성은 좋아지나 삽입 손실은 저하되는 특성이 있다. 즉, 스커트 특성과 삽입 손실은 서로 트레이드 오프(trade off) 관계에 있다. The number of cavities and resonators circuitly means the number of poles of the filter, and the number of poles is set in consideration of the insertion loss and the skirt characteristic of the filter. In general, as the number of poles increases, the skirt characteristics improve, but the insertion loss decreases. That is, the skirt characteristic and insertion loss are in a trade off relationship with each other.

공진기(206)는 모드에 따라 유전체 공진기가 사용될 수도 있으며, 금속 재질 의 공진기가 사용될 수도 있다. The resonator 206 may be a dielectric resonator or a metal resonator according to a mode.

상술한 바와 같은 RF 필터 및 이를 포함하는 RF 장비는 알루미늄 또는 알루미늄 합금에 의해 성형되며, 알루미늄 금속 층 위에 은도금 처리되는 것이 일반적이었다. The RF filter as described above and the RF equipment including the same are generally molded by aluminum or an aluminum alloy, and silver plated on the aluminum metal layer.

종래 기술에서 살펴본 바와 같이, 은도금에 의한 은피막은 많은 결함을 가지고 있어서 부식성 환경에서 사용될 때에는 쉽게 훼손되는 문제점이 있었다.As described in the prior art, the silver coating by the silver plating has a number of defects, there is a problem that is easily damaged when used in a corrosive environment.

본 실시예에서는 이와 같이 알루미늄 또는 알루미늄 합금에 의해 성형되는 RF 장비에 은도금에 비해 내식성을 보다 향상시킬 수 있으며 은도금과 비교할 때 손실 및 PIMD 특성에 있어 차이가 나지 않는 도금 방법을 제안한다. This embodiment proposes a plating method that can improve the corrosion resistance compared to silver plating in RF equipment formed by aluminum or an aluminum alloy as described above, and does not differ in loss and PIMD characteristics when compared with silver plating.

본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 은도금을 사용하지 않고 화이트 브론즈 도금을 통해 내식성을 향상시키면서 RF 장비에 필요한 PIMD 특성을 만족시킬 수 있는 도금 방법에 제안된다. 종래에 있어서, 화이트 브론즈 도금은 피도금 물질이 주로 구리 합금인 경우에만 적용되었으나, 본 발명의 실시에에서는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 본체가 구성되는 RF 장비에 적용될 수 있는 화이트 브론즈 도금법이 개시된다. According to a preferred embodiment of the present invention, a plating method capable of satisfying PIMD characteristics required for RF equipment while improving corrosion resistance through white bronze plating without using silver plating is proposed. Conventionally, white bronze plating has been applied only when the material to be plated is mainly copper alloy, but in the practice of the present invention, a white bronze plating method is disclosed that can be applied to RF equipment in which a body is composed of aluminum or an aluminum alloy.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 RF 장비의 도금층을 도시한 도면이다. 3 is a diagram illustrating a plating layer of RF equipment to which a plating method according to an embodiment of the present invention is applied.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 도금층은 피도금 소재(300), 내알칼리 하지층(302), 밀찰력 강화층(304) 및 화이트 브론즈 도금층(306)을 포함한다. Referring to FIG. 3, a plating layer to which a plating method according to an embodiment of the present invention is applied may include a material to be plated 300, an alkali-resistant base layer 302, a reinforcement layer 304, and a white bronze plating layer 306. It includes.

피도금 소재(300)는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지며 다이캐스팅 등과 같은 성형 방식에 의해 성형된다. The to-be-plated material 300 is made of aluminum or an aluminum alloy and is formed by a molding method such as die casting.

내알칼리 하지층(302)은 하지 도금 작업에 의해 형성되는 층이며 내알킬리성을 가지는 소재로 이루어진다. 내알칼리 하지층(302)은 피도금 소재 위에 형성되는 화이트 브론즈 도금층(306)의 화이트 브론즈가 알칼리성을 가지고 이러한 알칼리성으로 인해 피도금 소재(300)가 손상되는 것을 방지하기 위한 층이다. 내알칼리 하지층(302)은 내알칼리성을 가지되 피도금 소재(300) 및 밀찰력 강화층(304)과의 밀착력을 고려하여 재질이 선택될 수 있을 것이다. The alkali resistant underlayer 302 is a layer formed by underplating, and is made of a material having alkyl resistance. The alkali-resistant base layer 302 is a layer for preventing the damage of the plated material 300 due to the alkali of the white bronze of the white bronze plated layer 306 formed on the material to be plated. The alkali-resistant base layer 302 may have alkali resistance but may be selected in consideration of adhesion to the material to be plated 300 and the lubricity-strengthening layer 304.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 무전해 니켈 도금법이 내알칼리 하지층 형성을 위해 사용될 수 있다. 무전해 니켈 도금이 이용될 경우, 내알칼리성을 가짐과 동시에 밀착성을 향상시키면서 도금시 발생하는 결함(defect)을 줄일 수 있는 장점이 있다. 그러나, 본 발명의 내알칼리 하지층(302)이 무전해 니켈에 한정되는 것은 아니며, 내알칼리성을 가지면서 밀착력을 만족시킬 수 있는 어떠한 재료의 도금도 적용될 수 있을 것이다. According to one embodiment of the present invention, an electroless nickel plating method may be used for forming an alkali-resistant base layer. When electroless nickel plating is used, it has an advantage of reducing alkali defects and improving defects while plating. However, the alkali-resistant base layer 302 of the present invention is not limited to electroless nickel, and plating of any material capable of satisfying adhesion while having alkali resistance may be applied.

밀착력 강화층(304)은 최외곽층인 화이트 브론즈 도금층(306)과의 도금 밀착력 강화를 위해 형성되는 층이다. 화이트 브론즈 도금은 전기 도금 방식으로 이루어지며, 밀착력 강화층(304)은 전하에 의한 도금 밀착성을 강화시키며 화이트 브론즈 도금층의 버퍼층으로서의 기능을 한다.The adhesion reinforcing layer 304 is a layer formed to reinforce the plating adhesion with the outermost white bronze plating layer 306. The white bronze plating is performed by an electroplating method, and the adhesion reinforcing layer 304 enhances the plating adhesion by charge and functions as a buffer layer of the white bronze plating layer.

또한, 밀착력 강화층은 최외곽 도금층인 화이트 브론즈 도금층(306)에서 RF 장비의 형상에 의한 전하 편차를 보완하여 도금 결함(defect)을 줄여주는 기능 을 한다. In addition, the adhesion reinforcing layer serves to reduce the plating defect (defect) by supplementing the charge deviation due to the shape of the RF device in the white bronze plating layer 306, the outermost plating layer.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 구리 도금법에 의해 형성되는 구리 도금층이 밀착력 강화층으로 사용될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, a copper plating layer formed by the copper plating method may be used as the adhesion reinforcing layer.

화이트 브론즈는 구리, 아연 및 주석으로 이루어지는 합금으로서 부식 시 아연이 가장 먼저 부식되고, 그 다음에 주석이 부식되며, 마지막으로 구리가 부식되는 특징이 있다. 결국, 화이트 브론즈 도금층에서 어느 정도 부식이 진행되었을 때 화이트 브론즈 도금층에는 구리 성분만이 존재하게 되며, 이때 밀착력 강화층은 화이트 브론즈층에서 가장 마지막까지 존재하는 구리 성분과 유사한 재질로 이루어지는 것이 계속적인 밀착력 유지에 유리한 바, 구리 도금층이 밀착력 강화층으로 이용되는 것이 바람직하다. White bronze is an alloy consisting of copper, zinc and tin, characterized by the fact that zinc is corroded first, then tin is corroded, and finally copper is corroded. As a result, when the corrosion of the white bronze plated to some extent, only the copper component is present in the white bronze plated layer, wherein the adhesion reinforcement layer is made of a material similar to the copper component present in the last of the white bronze layer. It is preferable that the copper plating layer is used as the adhesion reinforcing layer because it is advantageous for the holding.

화이트 브론즈 도금층(306)은 내식성 향상을 위한 도금층으로 내식성이 검증된 화이트 브론즈를 1A/dm2의 전류 밀도 및 3.8V 정도의 전압에서 공정하여 도금층을 형성할 수 있다. 화이트 브론즈 도금층(306)은 피도금 소재인 알루미늄 또는 알루미늄 합금층에는 화이트 브론즈의 알칼리성 및 밀착력 문제로 인해 도금이 되기 어려우나 하부에 내알칼리 하지층 및 밀착력 강화층을 형성함으로써 알루미늄 및 알루미늄 합금이 피도금 소재인 RF 장비에도 적절하게 도금이 이루어질 수 있다. The white bronze plating layer 306 is a plating layer for improving corrosion resistance. The white bronze plating layer may be formed by processing white bronze, which has been tested for corrosion resistance, at a current density of about 1 A / dm 2 and a voltage of about 3.8V. The white bronze plating layer 306 is difficult to be plated on the aluminum or aluminum alloy layer, which is the material to be plated, due to alkali and adhesion problems of white bronze, but the aluminum and aluminum alloys are plated by forming an alkali-resistant base layer and an adhesion reinforcing layer below. Plating can also be appropriately applied to RF equipment as a material.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 내식성 향상을 위한 RF 장비 도금 방법의 전체적인 흐름을 도시한 순서도이다. Figure 4 is a flow chart showing the overall flow of the RF equipment plating method for improving the corrosion resistance according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 먼저 전처리 작업이 수행된다(단계 400). 전처리 작업은 적절한 도금이 이루어질 수 있도록 피도금 소재의 이물질을 제거하고 도금 대상면을 균일하게 하는 작업을 의미한다. Referring to FIG. 4, first, a preprocessing operation is performed (step 400). Pre-treatment operation means removing foreign substances from the material to be plated and making the surface to be plated uniform so that proper plating can be performed.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전처리 과정을 도시한 순서도로서, 도 5를 참조하여 전처리 과정을 상세히 살펴보도록 한다. FIG. 5 is a flowchart illustrating a pretreatment process according to an embodiment of the present invention, with reference to FIG. 5.

도 5를 참조하면, 전처리의 첫 번째 작업으로 초음파 탈지 작업이 수행된다(단계 500). 탈지 작업은 피도금 소재에 부착된 이물질이나 유기물 등을 제거하기 위한 공정이다. 피도금 소재 표면에 이물질이 부착되면 도금 밀착 불량의 원인이 되고 불균일한 도금층이 형성되기 때문에 이를 제거하는 과정이 수행된다. Referring to FIG. 5, an ultrasonic degreasing operation is performed as the first operation of the pretreatment (step 500). Degreasing is a process for removing foreign matter or organic matter attached to the material to be plated. If foreign matter adheres to the surface of the material to be plated, it causes a poor plating adhesion and a non-uniform plating layer is formed, thereby removing the process.

초음파 탈지 작업이 완료되면 에칭 작업이 수행된다(단계 502). 에칭 작업은 용제탈지나 초음파 탈지 공정 후에도 남이 있는 이물질이나 유기물 등을 제거하고, 소재와 도금층 사이의 밀창 강도를 향상시키기 위한 것이다. 에칭 작업은 100 ~ 150g/L의 농도를 가지는 에칭제에서 40 내지 60초 정도의 시간동안 수행될 수 있다. When the ultrasonic degreasing operation is completed, an etching operation is performed (step 502). The etching operation is to remove foreign substances, organic matters, etc. remaining after the solvent degreasing or the ultrasonic degreasing step, and to improve the strength between the material and the plating layer. The etching operation may be performed in an etchant having a concentration of 100 to 150 g / L for a time of about 40 to 60 seconds.

에칭 작업이 완료되면, 디스머트 작업이 수행된다(단계 504). 디스머트 작업은 에칭 작업 후 피도금 소재 표면상에 발생한 금속 불순물염의 흑색 피막을 제거함과 동시에 알칼리성화된 소재를 강산으로 중성화하여 도금 밀착성을 향상시키기 위한 작업이다. 디스머트 과정은 약 60% 정도의 농도를 가지는 활성화액세어 5 내지 10초 정도 수행될 수 있다. When the etching operation is complete, a desmut operation is performed (step 504). The desmuting operation is to remove the black film of the metal impurity salt generated on the surface of the plated material after the etching operation and to neutralize the alkalized material with a strong acid to improve the plating adhesion. The desmut process may be performed for about 5 to 10 seconds with an activation accessory having a concentration of about 60%.

피도금 소재에 대한 전처리 작업이 완료되면, 피도금 소재에 대한 징케이트 처리 작업이 수행된다(단계 402). Once the pretreatment work for the material to be plated is completed, a gating process for the material to be plated is performed (step 402).

징케이트 처리는 금속 또는 금속 합금에 전해 또는 무전해 도금을 직접할 수 있도록 도금 처리하는 방법으로서, 내알카리층(302)이 형성되기 전에 피도금 소재(300)의 표면에 행해진다.The zincating process is a plating process so that electrolytic or electroless plating can be directly performed on a metal or metal alloy, and is performed on the surface of the material to be plated 300 before the alkali-resistant layer 302 is formed.

징케이트 처리에 의해 피도금 소재 위에 형성되는 도금층에 의해 산화되지 않을 수 있고, 피도금 소재(300)와 내알카리층(302) 사이의 밀착성이 향상될 수 있다.It may not be oxidized by the plating layer formed on the material to be plated by the zinc coating process, and the adhesion between the material to be plated 300 and the alkali-resistant layer 302 may be improved.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 징케이트 처리는 30도 내외의 온도에서 20초 내지 40초 정도 행해질 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the zincate treatment may be performed for about 20 to 40 seconds at a temperature of about 30 degrees.

징케이트 처리가 수행되면, 하지 도금층 형성을 위한 도금이 수행된다(단계 402). 하지 도금층은 화이트 브론즈 도금을 피도금 소재에 적절한 밀착력을 가지고 안정적으로 도금하고 피도금 소재를 보호하는 역할을 하는 도금층이다. When the gating process is performed, plating for forming the underlying plating layer is performed (step 402). The base plated layer is a plated layer that serves to plate the white bronze plating stably with proper adhesion to the material to be plated and to protect the material to be plated.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 하지 도금 방법의 상세한 과정을 도시한 순서도이다. 6 is a flowchart illustrating a detailed process of the underlying plating method according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 무전해 니켈 도금 과정이 수행된다. 여기서, 무전해 니켈 도금은 1940년대 미국에서 최초로 시도된 방법으로서, 외부로부터 어떠한 전기를 사용하지 않은 채 촉매 방법을 사용하여 니켈을 피도금 소재(300) 위에 도금하는 방법을 의미한다. 이러한 무전해 니켈 도금은 치환 도금과 화학환원도금으로 나누어질 수 있으나, 일반적으로는 화학환원도금이 상기 무전해 니켈 도금으로서 사용된다. Referring to FIG. 6, an electroless nickel plating process is performed. Here, electroless nickel plating is a method first attempted in the United States in the 1940's, and means a method of plating nickel on the plated material 300 using a catalytic method without using any electricity from the outside. Such electroless nickel plating may be divided into substitution plating and chemical reduction plating, but chemical reduction plating is generally used as the electroless nickel plating.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 4.6 내지 5.2g/L의 농도를 가지는 니켈 용액 에서 약 30분 동안 무전해 니켈 도금 과정이 수행될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, an electroless nickel plating process may be performed for about 30 minutes in a nickel solution having a concentration of 4.6 to 5.2 g / L.

무전해 니켈 도금이 수행된 후 수세 작업이 수행되며(단계 602), 수세 작업은 도금 과정 중 부착된 이물질 제거를 위해 수세 탱크에서 수행될 수 있다. After the electroless nickel plating is performed, a washing operation is performed (step 602), and the washing operation may be performed in a washing tank for removing foreign matter attached during the plating process.

무전해 니켈 도금이 완료되면, 구리 도금이 수행된다(단계 604). 구리-스트라이크 도금은 30 내지 50g/L의 농도를 가지는 CuCN 용액에서 약 1분 내지 3분의 시간동안 수행될 수 있으며 전기 도금 방식에 의해 수행된다. Once the electroless nickel plating is complete, copper plating is performed (step 604). Copper-strike plating may be performed in a CuCN solution having a concentration of 30-50 g / L for a time of about 1 minute to 3 minutes and is performed by an electroplating method.

구리 도금이 완료되면 청화동 작업이 수행된다(단계 606). 청화동 작업은 80 내지 100g/L의 농도를 가지는 CuCN 용액에서 수행될 수 있다. When copper plating is completed, a bluish copper operation is performed (step 606). The clarification copper operation may be performed in a CuCN solution having a concentration of 80-100 g / L.

하지 도금 작업이 완료되면, 화이트 브론즈 도금 작업이 수행된다(단계 406). When the base plating operation is completed, a white bronze plating operation is performed (step 406).

화이트 브론즈 도금은 밀착력 강화층 역할을 하는 구리 도금층상에 처리되며, 전기 도금 방식으로 도 처리된다. 전기 도금 방식은 도금 대상 금속을 음극으로 하고 전착시키고자 하는 금속을 양극으로 하여 전착시키고자 하는 금속의 이온을 함유한 전해액 속에 넣고 통전하여 전해함으로써 금속 이온이 대상 물질의 표면에 전해석출되는 것을 이용하는 도금 방식이다. White bronze plating is processed on the copper plating layer which serves as an adhesion reinforcing layer, and is also treated by an electroplating method. The electroplating method utilizes electrolytic deposition of metal ions on the surface of the target material by placing the metal to be plated as a cathode and using a metal to be electrodeposited in an electrolyte containing ions of the metal to be electrodeposited and energized. Plating method.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 구리 7.5 ~ 9.5g/L, 주석 30 ~ 40 g/L, 아연 0.8 ~ 12g/L의 농도를 가지는 화이트 브론즈를 구성하는 재료의 용액을 이용하여 1.0 ~ 1.2A/dm2의 전류 밀도로 전기 도금처리된다. 이때, 전하액으로 KCN 및 KOH가 사용될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, 1.0 to 1.2 A using a solution of a material constituting white bronze having a concentration of 7.5 to 9.5 g / L copper, 30 to 40 g / L tin, and 0.8 to 12 g / L zinc. Electroplated at a current density of / dm2. In this case, KCN and KOH may be used as the charge solution.

화이트 브론즈는 알루미늄 합금 및 은에 비해 염수에 의한 내식성이 뛰어나 며, 구리를 bal. 로 한 화이트 브론즈는 아연이 갈바닉(galvanic)에 의하여 구리를 보호해주고 다음으로 Tin이 구리를 보호해줌으로써 부식에 견디는 시간이 길다. White bronze has better corrosion resistance by brine than aluminum alloy and silver, and bale copper. The white bronze has a long time to resist corrosion by zinc protecting copper by galvanic and then Tin protecting copper.

화이트 브론즈 도금 작업이 완료되면, 중화 작업이 수행된다(단계 408). 중화 작업은 도금 후 도금막의 안정성을 위하여 강알칼리성과 산성을 반응시켜 도금 표면의 중화를 통해 변색 및 부식을 방지하기 위한 작업이다. When the white bronze plating operation is completed, a neutralization operation is performed (step 408). Neutralization work is to prevent discoloration and corrosion through neutralization of plating surface by reacting strong alkali and acid for stability of plating film after plating.

특히, 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법은 커넥터가 일체형으로 형성되는 RF 장비에 효과적으로 적용될 수 있을 것이다. 커넥터가 일체형으로 형성될 경우 커넥터에 대해 별도로 화이트 브론즈 도금을 할 필요 없이 커넥터와 본체에 대해 일괄적으로 본 발명의 실시예에 따른 화이트 브론즈 도금을 수행함으로써 한번의 도금 처리로 도금 작업을 완료할 수 있는 장점이 있다. In particular, the plating method according to an embodiment of the present invention may be effectively applied to RF equipment in which the connector is integrally formed. When the connector is formed in one piece, the plating operation can be completed by one plating process by performing white bronze plating on the connector and the body in a batch without the need for white bronze plating on the connector separately. There is an advantage.

도 7은 종래의 은도금에 의한 RF 장비의 염수분무 실험 후의 상태를 도시한 도면이며, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 도금 처리된 RF 장비의 염수분무 실험 후의 상태를 도시한 도면이다. 7 is a view showing a state after the salt spray experiment of the conventional RF plating of the RF equipment, Figure 8 is a view showing a state after the salt spray experiment of the plating RF equipment according to an embodiment of the present invention.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. Preferred embodiments of the present invention described above are disclosed for purposes of illustration, and those skilled in the art having ordinary knowledge of the present invention will be able to make various modifications, changes, additions within the spirit and scope of the present invention, such modifications, changes and Additions should be considered to be within the scope of the following claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 RF 장비의 일례를 도시한 도면.1 is a view showing an example of RF equipment to which the plating method according to an embodiment of the present invention is applied.

도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 RF 장비의 내부를 도시한 단면도.Figure 2 is a cross-sectional view showing the inside of the RF equipment to which the plating method according to an embodiment of the present invention is applied.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금 방법이 적용되는 RF 장비의 도금층을 도시한 도면.3 is a view showing a plating layer of the RF equipment to which the plating method according to an embodiment of the present invention is applied.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 내식성 향상을 위한 RF 장비 도금 방법의 전체적인 흐름을 도시한 순서도.Figure 4 is a flow chart showing the overall flow of the RF equipment plating method for improving the corrosion resistance according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전처리 과정을 도시한 순서도.5 is a flowchart illustrating a pretreatment process according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 하지 도금 방법의 상세한 과정을 도시한 순서도.Figure 6 is a flow chart showing a detailed process of the underlying plating method according to an embodiment of the present invention.

도 7은 종래의 은도금에 의한 RF 장비의 염수분무 실험 후의 상태를 도시한 도면.Figure 7 is a view showing a state after the salt spray experiment of the conventional RF plating silver equipment.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 도금 처리된 RF 장비의 염수분무 실험 후의 상태를 도시한 도면8 is a view showing a state after the salt spray experiment of the plating RF equipment according to an embodiment of the present invention

Claims (12)

알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 피도금 소재를 전처리하는 단계(a); 및(A) pretreating a plated material made of aluminum or an aluminum alloy; And 전기 도금 시 밀착력 강화를 위한 도금층을 형성하는 단계(b); 및(B) forming a plating layer for strengthening adhesion during electroplating; And 상기 밀착력 강화를 위한 도금층에 화이트 브론즈 도금을 수행하는 단계(c)를 포함하되, 상기 밀착력 강화를 위한 도금층은 상기 화이트 브론즈의 도금 밀착력을 강화하는 층인 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. (C) performing a white bronze plating on the plating layer for strengthening the adhesion, wherein the plating layer for strengthening the adhesion is a layer for enhancing the plating adhesion of the white bronze. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 피도금 소재 및 밀착력 강화를 위한 도금층 사이에 내 알칼리성 물질을 도금하여 내알칼리 하지층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. RF plating the method of claim 1, further comprising the step of plating the alkaline material between the plated material and the plating layer for strengthening the adhesion to form an alkali-resistant base layer. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 밀착력 강화를 위한 도금층은 구리 도금법에 의해 형성되는 구리 도금층을 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. The plating layer for strengthening the adhesion strength RF equipment plating treatment method characterized in that it comprises a copper plating layer formed by a copper plating method. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 내알칼리 하지층은 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도 금층을 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. And the alkali-resistant base layer comprises an electroless nickel plated layer formed by electroless nickel plating. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화이트 브론즈 도금 후 알칼리성과 산성을 반응시켜 도금 포면을 중화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. And neutralizing the plating surface by reacting alkali and acid after the white bronze plating. 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 피도금 소재를 전처리하는 단계(a); 및(A) pretreating a plated material made of aluminum or an aluminum alloy; And 내알칼리성 물질을 도금하여 내알칼리 하지층을 형성하는 단계(b); 및Plating an alkali resistant material to form an alkali resistant underlayer (b); And 전기 도금에 의한 화이트 브론즈 도금층을 형성하는 단계(c)를 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. And (c) forming a white bronze plating layer by electroplating. 제6항에 있어서, The method of claim 6, 상기 내알칼리 하지층 및 상기 화이트 브론즈 도금층 사이에 상기 화이트 브론즈의 밀착력 강화를 위한 밀착력 강화층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. And forming an adhesion force reinforcing layer for strengthening the adhesion of the white bronze between the alkali-resistant base layer and the white bronze plating layer. 제6항에 있어서, The method of claim 6, 상기 내알칼리 하지층은 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도금층을 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. And the alkali-resistant base layer comprises an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 밀착력 강화층은 구리 도금법에 의해 형성되는 구리 도금층을 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. The adhesion strength enhancement layer is RF equipment plating treatment method comprising a copper plating layer formed by a copper plating method. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 화이트 브론즈 도금 후 알칼리성과 산성을 반응시켜 도금 포면을 중화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 장비 도금 처리 방법. And neutralizing the plating surface by reacting alkali and acid after the white bronze plating. 제1항 내지 제10 항중 어느 한 항의 방법에 의해 도금 처리되고 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 본체가 형성되는 RF 장비. RF equipment which is plated by the method of any one of claims 1 to 10 and the body is formed of aluminum or an aluminum alloy. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 RF 장비는 커넥터와 본체가 일체형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 RF 장비. The RF equipment is RF equipment, characterized in that the connector and the body is formed integrally.
KR1020070100577A 2007-10-05 2007-10-05 Rf device and method of treating plating in the same KR100917783B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070100577A KR100917783B1 (en) 2007-10-05 2007-10-05 Rf device and method of treating plating in the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070100577A KR100917783B1 (en) 2007-10-05 2007-10-05 Rf device and method of treating plating in the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090035341A KR20090035341A (en) 2009-04-09
KR100917783B1 true KR100917783B1 (en) 2009-09-21

Family

ID=40760797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070100577A KR100917783B1 (en) 2007-10-05 2007-10-05 Rf device and method of treating plating in the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100917783B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102052361B1 (en) * 2019-03-05 2019-12-05 정희열 A manufacturing method of electric or electronic connector using DIE casting material made up of aluminum alloy

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970704577A (en) * 1994-07-26 1997-09-06 라스케비셔스 레오 Metal finishing process
KR980012369A (en) * 1996-07-31 1998-04-30 문정환 Plating method of semiconductor lead frame
KR20000051998A (en) * 1999-01-28 2000-08-16 김계형 Method of Silver-plating Microwave Band Pass Cavity Filter Products
KR100854683B1 (en) 2004-12-13 2008-08-27 주식회사 케이엠더블유 Plating method of radio frequency filter

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970704577A (en) * 1994-07-26 1997-09-06 라스케비셔스 레오 Metal finishing process
KR980012369A (en) * 1996-07-31 1998-04-30 문정환 Plating method of semiconductor lead frame
KR20000051998A (en) * 1999-01-28 2000-08-16 김계형 Method of Silver-plating Microwave Band Pass Cavity Filter Products
KR100854683B1 (en) 2004-12-13 2008-08-27 주식회사 케이엠더블유 Plating method of radio frequency filter

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090035341A (en) 2009-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20100102902A1 (en) Method for manufacturing rf device and rf device manufactured by the same
US10212824B2 (en) Gold-plating etching process for 5G communication high-frequency signal boards
KR100917783B1 (en) Rf device and method of treating plating in the same
CN1871377A (en) Magnesium or magnesium alloy product and method for producing same
US5098534A (en) Composition and method for electrolytically stripping silver
CN113930828B (en) Magnesium-aluminum composite material, preparation method thereof and metal product
KR100321802B1 (en) Method of Silver-plating Microwave Band Pass Cavity Filter Products
US20100200417A1 (en) Method and Apparatus for Electrodeposition in Metal Acoustic Resonators
KR100960005B1 (en) Plating Method of RF Devices and RF Devices Produced by the Method
KR100948264B1 (en) Rf device and method of treating plating in the same
CN114214679B (en) Cyanide-free bright silver plating solution and electroplating method
KR100917625B1 (en) Rf device and method of treating plating in the same
CN216891228U (en) Electroplating protective structure
CN111424297A (en) Surface metallization process of 5G antenna oscillator
EP0010989B1 (en) Method of plating aluminium
WO2022154781A1 (en) Housings for electronic devices
KR100854683B1 (en) Plating method of radio frequency filter
US5096546A (en) Process for treating surface of copper foil
KR100662791B1 (en) Apparatus for plating part in wireless communication product and method for plating part using the same
US20040094424A1 (en) Graphite metal coating
KR100494034B1 (en) Surface treatment method of the products for wireless communication systems
KR102317783B1 (en) Anodizing zig
US20230259179A1 (en) Housings for electronic devices
KR20100064857A (en) Plating method for telecommunication connector
Pearson Pretreatment of aluminium for electrodeposition

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120822

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130828

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140827

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150819

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160823

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170821

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180822

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190827

Year of fee payment: 11