KR100911188B1 - Semiconductor Integrated Circuit - Google Patents
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Abstract
본 발명의 반도체 집적 회로는 적어도 하나의 뱅크; 뱅크의 일외곽에 배치되는 로우계 제어 회로부; 및 파워 라인이 형성되고, 로우계 제어 회로부와 마주하는 뱅크의 외곽에 배치되어 뱅크 내의 센스 앰프를 프리차징시키는 프리차징부를 포함한다.The semiconductor integrated circuit of the present invention comprises at least one bank; A row-based control circuit unit disposed at an outer side of the bank; And a precharging portion formed with a power line and disposed outside the bank facing the row control circuit portion to precharge the sense amplifier in the bank.
프리차징 회로, tRP, 뱅크 Precharging circuit, tRP, bank
Description
도 1은 일반적인 반도체 집적 회로의 회로도,1 is a circuit diagram of a general semiconductor integrated circuit,
도 2는 도 1에 도시한 반도체 집적 회로의 비트 라인쌍의 타이밍도,2 is a timing diagram of a pair of bit lines of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1;
도 3은 본 발명에 따른 반도체 집적 회로의 개략적인 블록도,3 is a schematic block diagram of a semiconductor integrated circuit according to the present invention;
도 4는 도 3에 도시한 반도체 집적 회로의 상세 블록도,4 is a detailed block diagram of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 3;
도 5는 도 4에 도시한 제 n 프리차징부의 상세 회로도,5 is a detailed circuit diagram of an nth precharging unit illustrated in FIG. 4;
도 6은 도 4에 도시한 반도체 집적 회로의 비트 라인쌍의 타이밍도,6 is a timing diagram of a pair of bit lines of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 4;
도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 집적 회로의 개략적인 블록도이다.7 and 8 are schematic block diagrams of a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10: 센스 앰프 어레이 11,111: 센스 앰프10: sense amplifier array 11, 111: sense amplifier
20,200 : 프리차징부 30 : 서브 홀20,200: precharging unit 30: sub-hole
40 : 서브 워드라인 드라이버 어레이40: sub wordline driver array
50 : 서브 워드라인 구동부50: sub word line driver
60 : 셀 어레이 210 : 이퀄라이징부60: cell array 210: equalizing unit
220,230 : 제1,제2 프리차지 전압 제공220,230: Provide first and second precharge voltage
300 : 로우계(row) 제어 회로부300: row control circuit
본 발명은 반도체 집적 회로에 관한 것으로, 구체적으로는 프리차징 회로를 포함하는 반도체 집적 회로에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
도 1은 일반적인 반도체 집적 회로의 블록도이다.1 is a block diagram of a general semiconductor integrated circuit.
도 1에 도시한 반도체 집적 회로는 센스 앰프 드라이버(50), 센스 앰프(11)및 프리차징부(20)로 구성된다.The semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1 is composed of a
상기 센스 앰프 드라이버(50)는 제1,제2 제어 신호(SAN,SAP2) 및 오버드라이빙 신호(SAP1)를 입력받아 상기 센스 앰프(11)에 외부 공급 전압(VDD), 코어 전압(Vcore) 및 접지 전압(VSS)을 공급한다.The
상기 제1 제어 신호(SAN)는 상기 센스 앰프(11)의 엔모스 트랜지스터(NM1,NM2)에 공급되는 접지 전압(VSS)을 공급하기 위한 제어 신호이며, 상기 제2 제어 신호(SAP2)는 상기 센스 앰프(11)의 피모스 트랜지스터(PM1,PM2)에 공급되는 전원 전압인 코어 전압(Vcore)을 공급하기 위한 제어 신호이다. 또한, 상기 오버드라이빙 신호(SAP1)는 상기 센스 앰프(11)에 상기 코어 전압(Vcore)보다 높은 전압 즉, 외부 공급 전압(VDD)을 공급하기 위한 제어 신호이다.The first control signal SAN is a control signal for supplying the ground voltage VSS supplied to the NMOS transistors NM1 and NM2 of the sense amplifier 11, and the second control signal SAP2 is A control signal for supplying a core voltage Vcore, which is a power supply voltage supplied to the PMOS transistors PM1 and PM2 of the sense amplifier 11. In addition, the overdriving signal SAP1 is a control signal for supplying a voltage higher than the core voltage Vcore, that is, an external supply voltage VDD, to the sense amplifier 11.
상기 센스 앰프(11)는 비트 라인쌍(BL,BLB)에 실린 데이터를 감지 및 증폭시킨다. 전원 전극(rto)은 상기 센스 앰프(11)의 전원 전압이 공급되는 단자이고, 접지 전극(sb)은 상기 센스 앰프(11)의 접지 전압(VSS)이 공급되는 단자이다. 상기 센스 앰프(11)는 상기 센스 앰프 드라이버(50)로부터 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)에 상기 전원 전압과 상기 접지 전압(VSS)을 공급받아, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)에 실린 데이터를 증폭시킨다.The sense amplifier 11 senses and amplifies data carried on the bit line pairs BL and BLB. The power electrode rto is a terminal to which the power voltage of the sense amplifier 11 is supplied, and the ground electrode sb is a terminal to which the ground voltage VSS of the sense amplifier 11 is supplied. The sense amplifier 11 receives the power supply voltage and the ground voltage VSS from the
상기 프리차징부(20)는 프리차징 모드에서 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)을 프리차징시킨다. 따라서, 프리차징 모드에서 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)이 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨이 되므로 상기 센스 앰프(11)에 의해 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨로 프리차징된다. 따라서, 상기 프리차징부(20)는 그 다음 액티브 명령시, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)에 실리는 데이터를 증폭시킬 준비를 하게 된다.The
도 2는 도 1에 도시된 반도체 집적 회로의 비트 라인쌍(BL,BLB)의 타이밍도이다.FIG. 2 is a timing diagram of bit line pairs BL and BLB of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1.
도시한 바와 같이, 액티브 명령(ACT)이 입력되면, 비트라인 아이솔레이션 신호의 반전 신호(BISHB) 및 비트라인 이퀄라이제이션 신호의 반전 신호(BLEQB)가 인에이블된다. 또한, 메인 워드라인 신호의 반전 신호(MWLB) 및 서브 워드라인 디코딩 신호의 반전 신호(FXB)가 디스에이블된다. 따라서, 비트라인을 이퀄라이징 및 프리차징을 중지하고, 워드라인이 열리고 셀에 저장된 데이터가 비트라인(BL)에 실린다. 이후, 상기 오버드라이빙 신호(SAP1)의 일정 간격의 펄스로 인에이블되고, 상기 제1,제2 제어 신호(SAN,SAP2)가 순차적으로 인에이블된다. 이에 따라, 상기 외부 공급 전압(VDD), 상기 코어 전압(Vcore) 및 상기 접지 전압(VSS)은 상기 센스 앰프(11)에 공급된다. 이로 인해 상기 센스 앰프(11)는 상기 비트 라인쌍(BL,BLB) 에 실린 데이터를 감지 및 증폭한다. 따라서, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 상기 오버드라이빙 펄스가 상기 센스 앰프(11)에 공급되는 구간에서 코아 전압(Vcore) 이상으로 증폭되다가 상기 제2 제어 신호(SAP2)가 인에이블되는 구간부터 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)의 전압 레벨은 코어 전압(Vcore) 레벨 및 접지 전압(VSS)으로 증폭된다.As illustrated, when the active command ACT is input, the inverted signal BISHB of the bit line isolation signal and the inverted signal BLEQB of the bit line equalization signal are enabled. In addition, the inverted signal MWLB of the main wordline signal and the inverted signal FXB of the sub wordline decoded signal are disabled. Accordingly, the equalization and precharging of the bit line is stopped, the word line is opened, and the data stored in the cell is loaded on the bit line BL. Subsequently, the overdriving signal SAP1 is enabled by a pulse at a predetermined interval, and the first and second control signals SAN and SAP2 are sequentially enabled. Accordingly, the external supply voltage VDD, the core voltage Vcore, and the ground voltage VSS are supplied to the sense amplifier 11. As a result, the sense amplifier 11 senses and amplifies data carried on the bit line pairs BL and BLB. Accordingly, the bit line pairs BL and BLB are amplified by a core voltage Vcore or more in a section in which the overdriving pulse is supplied to the sense amplifier 11, and then the second control signal SAP2 is enabled. The voltage levels of the bit line pairs BL and BLB are amplified to a core voltage Vcore level and a ground voltage VSS.
그 이후, 프리차징 명령(PCG)이 입력되면, 상기 비트라인 아이솔레이션 신호의 반전 신호(BISHB) 및 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호의 반전 신호(BLEQB)가 디스에이블된다. 또한, 메인 워드라인 신호의 반전 신호(MWLB) 및 서브 워드라인 디코딩 신호의 반전 신호(FXB)가 인에이블된다. 또한 상기 오버드라이빙 신호(SAP1) 및 상기 제1,제2 제어 신호(SAN,SAP2)는 디스에이블된다. 따라서, 워드라인이 닫히고 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 이퀄라이징 및 프리차징 동작을 수행한다. 이에 따라 상기 프리차징부(20)는 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)을 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)으로 프리차징시키는 동작을 수행한다. 따라서, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)의 전압 레벨은 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨이 된다. 그 이후, 다음 액티브 명령(ACT)이 실행되면, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 셀에 실린 데이터를 받아 센싱 및 증폭 동작을 수행할 수 있게 된다.After that, when the precharge command PCG is input, the inverted signal BISHB of the bit line isolation signal and the inverted signal BLEQB of the bit line equalization signal are disabled. In addition, the inversion signal MWLB of the main word line signal and the inversion signal FXB of the sub wordline decoding signal are enabled. In addition, the overdriving signal SAP1 and the first and second control signals SAN and SAP2 are disabled. Accordingly, the word line is closed and the bit line pairs BL and BLB perform an equalizing and precharging operation. Accordingly, the
tRP란 액티브 동작 이후, 프리차징 명령이 입력되면 비트 라인쌍(BL,BLB)이 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨로 프리차징되어 다음 액티브 명령을 수행할 때까지 걸리는 시간을 의미한다. After the active operation, tRP refers to the time taken for the bit line pairs BL and BLB to be precharged to the bit line precharge voltage VBLP level after the precharging command is input to perform the next active command.
디램이 발전할수록 상기 tRP 스펙은 감소되는 추세이다. 상기 tRP 특성이 나 쁜 경우, 액티브 명령 이후 프리차징이 원할하게 수행되지 못함으로, 그 다음 액티브 명령이 수행되는 시점은 늦추어지게 된다. 따라서, 디램의 상기 tRP를 감소시키는 방안이 요구된다.As the DRAM evolves, the tRP specification decreases. If the tRP characteristic is bad, precharging may not be performed smoothly after the active command, and the timing of the next active command is delayed. Therefore, a method of reducing the tRP of the DRAM is required.
상기 tRP를 개선하기 위해서는 상기 센스 앰프(11)를 프리차징시키는 상기 프리차징부(20)의 성능을 개선시켜야 한다. 그러기 위해서는 상기 프리차징부(20)를 구성하는 트랜지스터의 면적이나 갯수를 증가시켜서 전류 공급을 빠르게 해야 한다.In order to improve the tRP, the performance of the
그런데 반도체 집적 회로의 집적도가 증대됨에 따라 공정 기술이 발달함에 따라 상기 프리차징부(20)의 면적은 감소될 수밖에 없다. 이로 인해 상기 tRP 특성 개선 요구는 더욱 시급해진다. However, as the degree of integration of semiconductor integrated circuits increases, the area of the
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로 tRP를 개선하면서도 넷다이 및 셀 효율 면에서 감소가 없는 반도체 집적 회로를 제공하는데 목적이 있다.Disclosure of Invention The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit that improves tRP and has no reduction in net die and cell efficiency.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 반도체 집적 회로는 적어도 하나의 뱅크; 상기 뱅크의 일외곽에 배치되는 로우(row)계 제어 회로부; 및 파워 라인이 형성되고, 상기 로우계 제어 회로부와 마주하는 상기 뱅크의 외곽에 배치되어 상기 뱅크 내의 센스 앰프를 프리차징시키는 프리차징부를 포함한다.The semiconductor integrated circuit of the present invention for achieving the above technical problem is at least one bank; A row system control circuit unit disposed at an outer side of the bank; And a precharging unit formed with a power line and disposed outside the bank facing the row control circuit unit to precharge a sense amplifier in the bank.
또한 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 집적 회로는 적어도 하나의 뱅 크; 상기 뱅크의 일외곽에 배치되는 로우계 제어 회로부; 및 상기 로우계 제어 회로부측의 뱅크의 가장자리 영역에 배치되어 상기 뱅크 내의 센스 앰프를 프리차징시키는 프리차징부를 포함한다.In addition, a semiconductor integrated circuit according to another embodiment of the present invention is at least one bank; A row-based control circuit unit disposed at an outer side of the bank; And a precharge section disposed in an edge region of a bank on the side of the row system control circuit section for precharging a sense amplifier in the bank.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 집적 회로의 블록도이다.3 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
도시한 것과 같이, 본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 뱅크(100), 로우계 제어 회로부(300) 및 프리차징부(200)를 포함한다.As illustrated, the semiconductor integrated circuit according to the present invention includes a
상기 뱅크(100)는 복수개의 셀 매트로 구성된다. 보다 구체적으로 설명하면 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 뱅크(100)는 N(N은 자연수)행과 M(M은 자연수)열로 배열된 복수의 셀 매트(60), 각 셀 매트(60)에 대응하는 센스 앰프 어레이(10), 상기 셀 매트(60)에 대응하는 서브 워드라인 드라이버 어레이(40) 및 상기 센스 앰프 어레이(10)와 상기 서브 워드라인 드라이버 어레이(40)의 교차 영역에 위치하는 서브홀(30)로 구성된다.The
상기 로우계 제어 회로부(300)는 상기 뱅크(100)의 일측 외곽에 배치된다. 상기 로우계 제어 회로부(300)는 일반적으로 워드라인을 구동하는데 관련된 제어 회로들로 구성된다. 예를 들면, 상기 로우계 제어 회로부(300)는 메인 워드라인 드라이버, 서브 워드라인 디코딩 신호 드라이버, 비트라인 이퀄라이제이션 신호 드라이버 및 비트라인 아이솔레이션 신호 드라이버 등으로 구성된다.The row
상기 프리차징부(200)는 상기 로우계 제어 회로부(300)와 마주하는 상기 뱅 크(100)의 외곽에 배치된다. 여기서, 외곽이라 함은 뱅크(100)의 외부의 영역을 의미한다. 상기 뱅크(100) 내부는 복수의 셀 매트로 구성되기 때문이다. 또한, 상기 프리차징부(200)는 프리차징 모드에서 상기 뱅크(100) 내의 센스 앰프의 전원 전압을 공급하는 전원 전극(rto)과 접지 전압을 공급하는 접지 전극(sb)을 프리차징시킨다. 상기 센스 앰프 어레이(10)는 복수의 상기 센스 앰프를 포함한다. 상기 전원 전압으로 상기 외부 공급 전압(VDD) 및 상기 코어 전압(Vcore)이 있다. The
즉, 도 6에 도시된 바와 같이, 액티브 명령 이후 비트라인 쌍의 전압이 코아 전압(Vcore)과 접지 전압(VSS) 레벨에 있다가 프리차징 명령이 입력되면, 상기 프리차징부(200)는 상기 센스 앰프의 전원 전극(rto)과 접지 전극(sb)의 전압을 프리차징시키는데 이에 따라 비트 라인쌍 또한 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨로 프리차징된다. 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)은 일반적으로 상기 코아 전압(Vcore)의 2분의 1인 값이지만 상기 코아 전압(Vcore) 레벨인 경우도 있다.That is, as shown in FIG. 6, when the voltage of the bit line pair is at the core voltage Vcore and the ground voltage VSS level after the active command, and the precharging command is input, the
본 발명은 tRP를 개선하기 위해 상기 프리차징부(200)의 면적을 확보한 것으로, 그 방법으로 상기 뱅크(100)의 외곽 지역으로서, 상기 로우계 제어 회로부(300)와 마주하는 상기 뱅크(100)의 외곽 지역에 상기 프리차징부(200)를 배치한다. 종래 기술에 따른 반도체 집적 회로에서 프리차징 회로가 배치되는 지역은 그 면적이 제한적이어서, 임의적으로 면적을 넓힐 수 없고, 상기 프리차징 회로의 면적을 넓힐 경우, 다른 회로들을 축소시키는 등의 상당히 큰 손해를 감수해야 한다. 본 발명은 상기 프리차징부(200)의 면적을 확보하기 위해 상당히 면적면에서 여유가 있는 상기 뱅크(100)의 일 외각 지역인 상기 로우계 제어 회로부(300)와 대응되 는 상기 뱅크(100)의 타 외곽 지역에 상기 프리차징부(200)를 추가하였다. 이로 인해 상기 뱅크(100) 내의 센스 앰프에 연결된 비트 라인들의 프리차징 시간을 단축시킴으로써 tRP를 개선할 수 있다.The present invention secures an area of the
상기 프리차징부(200)가 배치되는 영역은 상기 뱅크(100)의 외곽 영역이므로 상대적으로 다른 회로들이 없고, 주로 파워 라인이나 저장 캐패시터들이 배치되는 곳이다. 그러므로, 상기 프리차징부(200)를 형성후 상기 프리차징부(200)의 수직 상부에 상기 파워 라인들을 증착함으로써 상기 파워 라인의 특성에 문제가 없다.Since the region in which the
또한 상기 뱅크(100)의 외곽 지역에 상기 프리차징부(200)를 추가하여도 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)은 상기 뱅크(100) 내의 센스 앰프 어레이에 의해 전 지역에 연결되어 있으므로 tRP 특성의 지역에 따른 특성 차이는 크지 않다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 센스 앰프 어레이(10)의 상기 전원 전극(rto)과 접지 전극(sb)은 상기 뱅크 내의 횡방향으로 배선이 되므로 상기 센스 앰프 어레이(10) 영역을 따라 상기 프리차징부(200)까지 연결된다.In addition, even when the
도 3은 본 발명에 따른 반도체 집적 회로의 개략적인 블록도로서 각각의 구성 요소의 실제적인 크기의 비율과 동일하지 않다. 실제 뱅크 외곽 영역은 도시한 것에 배해 뱅크 면적과 비교하면 적은 면적을 갖고 있으며 도 3은 설명의 편의를 위한 블록도임을 명시한다.3 is a schematic block diagram of a semiconductor integrated circuit according to the present invention, which is not equal to the ratio of the actual size of each component. The actual bank outer area has a smaller area compared to the bank area based on the illustration, and FIG. 3 shows a block diagram for convenience of description.
도 4는 도 3에 도시한 상기 뱅크(100)와 상기 프리차징부(200)의 상세 블록도이다.4 is a detailed block diagram of the
상기 뱅크는 N 행과 M 열의 매트릭스로 배열된 복수의 셀 매트(60)(N,M은 자 연수), 각 셀 매트(60)에 대응하는 센스 앰프 어레이(10), 상기 각 셀 매트(60)에 대응하는 서브 워드라인 드라이버 어레이(40) 및 상기 센스 앰프 어레이(10)와 상기 서브 워드라인 어레이(40)의 교차 영역에 위치하는 서브홀(30)로 구성된다.The bank includes a plurality of cell mats 60 (N and M are self-numbered numbers) arranged in a matrix of N rows and M columns, a
상기 프리차징부(200)는 상기 각 행에 대응되는 제1 내지 제N 프리차징부(200-1~200-N)를 포함하며, 제 n 프리차징부(200-n)는 제 n 행에 배치된 셀 매트들의 상기 센스 앰프 어레이(10)의 전원 전압이 공급되는 전원 전극(rto) 라인과 접지 전압(VSS)이 공급되는 접지 전극(sb) 라인을 프리차징시킨다.(n은 1이상이고 상기 N 이하의 자연수) The
즉, 상기 제1 내지 제N 프리차징부(200-1~200-N) 중 하나인 상기 제 n 프리차징부(200-n)는 n 행의 셀 매트들에 대응하는 횡방향의 M 개의 셀 매트에 대응하는 센스 앰프 어레이(10)들에 연결된 상기 전원 전극(rto) 라인과 상기 접지 전극(sb) 라인을 프리차징시킨다. 상기 프리차징부(200)는 일반적인 프리차징 회로로 구현할 수 있다. That is, the nth precharging unit 200-n, which is one of the first to Nth precharging units 200-1 to 200 -N, has M cells in a horizontal direction corresponding to n rows of cell mats. The power electrode rto line and the ground electrode sb line connected to the
즉, 상기 제n 프리차징부(200-n) 하나 마다 횡방향의 모든 센스 앰프의 전원 전극(rto)과 접지 전극(sb)을 프리차징시킨다.That is, each of the nth precharging units 200-n precharges the power electrodes rto and the ground electrodes sb of all sense amplifiers in the transverse direction.
상기 제1 내지 제 n 프리차징부(200-1~200-n)와 상기 전원 전극(rto) 및 상기 접지 전극(sb)의 연결하는 방법은 도 4의 하단에 도시된 센스 앰프(111-n)와 상기 제n 프리차징부(200-n)의 일 실시예를 나타낸 회로도에 도시한 바와 같다. A method of connecting the first to nth precharging units 200-1 to 200-n, the power electrode rto, and the ground electrode sb is a sense amplifier 111-n illustrated in the lower part of FIG. 4. ) And the n-th precharging unit 200-n are shown in the circuit diagram of an embodiment.
상기 서브홀(30) 영역에 서브 프리차징부(31), 비트라인 이퀄라이징 트랜지스터(BLEQ Tr) 및 입출력 스위치(IOSW) 등이 배치된다.A
즉, 본 실시예에서는 상기 프리차징부(200) 외에 상기 서브홀(30) 영역에 상기 전원 전극(rto)과 접지 전극(sb)을 프리차징시키는 서브 프리차징부(31)를 추가로 배치한다. 이에 따라 프리차징 회로의 면적 및 수를 보다 확장시킬 수 있어 tRP 특성을 더 개선할 수 있다.That is, in the present exemplary embodiment, a
본 발명은 상기 프리차징부(200)와 상기 서브 프리차징부(31)를 구비하여 프리차징을 수행함으로써 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)을 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨로 빠르게 프리차징시킬수 있다. 이에 따라, 본 발명은 프리차징을 수행하는 시간이 단축됨으로써 tRP 특성 개선이 가능하다.The present invention includes the
도 5는 도 4에 도시된 상기 제 n 프리차징부(200-n)의 상세 회로도이다.FIG. 5 is a detailed circuit diagram of the nth precharging unit 200-n illustrated in FIG. 4.
도 5에 도시한 바와 같이, 상기 제 n 프리차징부(200-n)는 이퀄라이징부(210-n), 제1 프리차지 전압 제공부(220-n) 및 제2 프리차지 전압 제공부(230-n)로 구성된다.As shown in FIG. 5, the n-th precharge unit 200-n includes an equalizing unit 210-n, a first precharge voltage providing unit 220-n, and a second precharge
상기 제 n 프리차징부(200-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)가 인에이블됨에 따라 상기 전원 전극(rto) 라인과 상기 접지 전극(sb) 라인을 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)으로 프리차징시킨다.As the bit line equalization signal BLEQ is enabled, the n th precharger 200-n may connect the power electrode rto line and the ground electrode sb line to the bit line precharge voltage VBLP. Precharge
상기 이퀄라이징부(210-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)에 따라 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)을 연결한다. 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)는 액티브 동작시 로우가 되고, 프리차징 동작시 하이가 된다. 상기 이퀄라이징부(210-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)에 따라 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)을 연결 또는 차단하는 스위칭 소자에 의 해 구현할 수 있다. The equalizing unit 210-n connects the power supply electrode rto and the ground electrode sb according to the bit line equalization signal BLEQ. The bit line equalization signal BLEQ goes low in active operation and goes high in precharging operation. The equalizing unit 210-n may be implemented by a switching element connecting or disconnecting the power electrode rto and the ground electrode sb according to the bit line equalization signal BLEQ.
상기 이퀄라이징부(210-n)는 게이트에 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)를 입력받고, 드레인과 소스에 각각 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)에 연결된 트랜지스터로 구성된다. 따라서, 프리차징 동작시, 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)가 하이가 되므로, 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)의 전압은 동일하게 된다.The equalizing unit 210-n is configured to receive a bit line equalization signal BLEQ at a gate thereof, and a transistor connected to the power electrode rto and the ground electrode sb at a drain and a source, respectively. Therefore, during the precharging operation, the bit line equalization signal BLEQ becomes high, so that the voltages of the power electrode rto and the ground electrode sb are the same.
상기 제1 프리차지 전압 제공부(220-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)에 따라 비트라인 프리차지 전압(VBLP)을 상기 전원 전극(rto)에 공급한다. 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)은 상기 코어 전압(Vcore)의 2분의 1 레벨이다. 상기 제1 프리차지 전압 제공부(220-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)에 따라 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)을 상기 전원 전극(rto)에 공급 또는 차단하는 스위칭 소자에 의해 구현할 수 있다.The first precharge voltage providing unit 220-n supplies a bit line precharge voltage VBLP to the power electrode rto according to the bit line equalization signal BLEQ. The bit line precharge voltage VBLP is a half level of the core voltage Vcore. The first precharge voltage providing unit 220-n may be implemented by a switching element that supplies or blocks the bit line precharge voltage VBLP to the power electrode rto according to the bit line equalization signal BLEQ. Can be.
상기 제1 프리차지 전압 제공부(220-n)는 게이트에 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)를 입력받고, 드레인과 소스에 각각 상기 전원 전극(rto)과 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)에 연결된 것을 특징으로 하는 트랜지스터로 구성된다. 따라서, 프리차징 동작시, 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)가 하이가 되므로, 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)이 상기 전원 전극(rto)에 공급된다.The first precharge voltage providing unit 220-n receives the bit line equalization signal BLEQ at a gate thereof, and supplies the bit line equalization signal BLEQ to a drain and a source, respectively, to the power electrode rto and the bit line precharge voltage VBLP. It is composed of a transistor characterized in that the connection. Therefore, during the precharging operation, the bit line equalization signal BLEQ becomes high, so that the bit line precharge voltage VBLP is supplied to the power electrode rto.
상기 제2 프리차지 전압 제공부(220-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)에 따라 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)을 상기 접지 전극(sb)에 공급한다.The second precharge voltage providing unit 220-n supplies the bit line precharge voltage VBLP to the ground electrode sb according to the bit line equalization signal BLEQ.
상기 제2 프리차지 전압 제공부(220-n)는 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)에 따라 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)을 상기 접지 전극(sb)에 공급 또는 차단하는 스위칭 소자에 의해 구현할 수 있다.The second precharge voltage providing unit 220-n may be implemented by a switching element supplying or blocking the bit line precharge voltage VBLP to the ground electrode sb according to the bit line equalization signal BLEQ. Can be.
상기 제2 프리차지 전압 제공부(220-n)는 게이트에 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)를 입력받고, 드레인과 소스에 각각 상기 접지 전극(sb)과 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)에 연결된 트랜지스터로 구성된다. 따라서, 프리차징 동작시, 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호(BLEQ)가 하이가 되므로, 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)이 상기 접지 전극(sb)에 공급된다.The second precharge voltage providing unit 220-n receives the bit line equalization signal BLEQ at a gate thereof, and applies the ground line sb and the bit line precharge voltage VBLP to a drain and a source, respectively. It consists of connected transistors. Therefore, during the precharging operation, the bit line equalization signal BLEQ becomes high, so that the bit line precharge voltage VBLP is supplied to the ground electrode sb.
이로써, 프리차징 동작시, 상기 이퀄라이징부(210-n)는 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb) 의 전압을 이퀄라이징하고, 상기 제1 프리차지 전압 제공부(220-n)와 상기 제2 프리차지 전압 제공부(230-n)는 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)에 각각 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)을 공급한다. 본 발명은 상기 프리차징부(200)를 상기 서브홀(30) 영역 외에 상기 뱅크(100) 외곽 영역에도 구비함으로써, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 보다 빠르게 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨에 도달함으로써 tRP를 개선할 수 있다.Thus, during the precharging operation, the equalizing unit 210-n equalizes the voltages of the power electrode rto and the ground electrode sb, and the first precharge voltage providing unit 220-n and the first precharging voltage. The second precharge voltage providing unit 230-n supplies the bit line precharge voltage VBLP to the power electrode rto and the ground electrode sb, respectively. According to an exemplary embodiment of the present invention, the
또한, 본 발명은 상기 뱅크(100) 외곽의 여유 있는 영역에 배치됨으로써, 상기 프리차징부(200)를 구성하는 트랜지스터의 사이즈의 제한을 비교적 적게 받으므로 상기 트랜지스터의 사이즈를 크게 하는 등의 방법으로 상기 프리차징 특성을 최적화할 수 있다. 이에 따라 본 발명은 우수한 프리차징 특성의 프리차징부(300)를 구현할 수 있다.In addition, the present invention is disposed in a marginal area outside the
도 6은 도 4에 도시한 반도체 집적 회로의 비트 라인쌍의 타이밍도이다.FIG. 6 is a timing diagram of a bit line pair of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 4.
도시한 바와 같이, 액티브 명령(ACT)이 입력되어 수행되는 액티브 동작은 종래 기술과 본 발명에서 동일한 특성을 갖는다. 즉, 비트라인 아이솔레이션 신호의 반전 신호(BISHB) 및 비트라인 이퀄라이제이션 신호의 반전 신호(BLEQB)가 인에이블되고, 메인 워드라인 신호의 반전 신호(MWLB) 및 서브 워드라인 디코딩 신호의 반전 신호(FXB)가 디스에이블된다. 따라서, 워드라인이 열리고 셀에 저장된 데이터가 비트라인(BL)에 실린다. 이후, 상기 오버드라이빙 신호(SAP1)의 일정 간격의 펄스로 인에이블되고, 상기 제1,제2 제어 신호(SAN,SAP2)가 순차적으로 인에이블됨으로써, 상기 외부 공급 전압(VDD), 상기 코어 전압(Vcore) 및 상기 접지 전압(VSS)은 상기 센스 앰프(111)에 공급된다. 이로 인해 상기 센스 앰프(111)는 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)에 실린 데이터를 감지 및 증폭한다. 따라서, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 상기 오버드라이빙 펄스가 상기 센스 앰프(111)에 공급되는 구간에서 코아 전압(Vcore) 이상으로 증폭되다가 상기 제2 제어 신호(SAP2)가 인에이블되는 구간부터 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)의 전압 레벨은 코어 전압(Vcore) 레벨 및 접지 전압(VSS)으로 증폭된다.As shown, an active operation performed by inputting an active command ACT has the same characteristics in the prior art and the present invention. That is, the inverted signal BISHB of the bit line isolation signal and the inverted signal BLEQB of the bit line equalization signal are enabled, and the inverted signal MWLB of the main word line signal and the inverted signal FXB of the sub word line decoded signal. Is disabled. Thus, the word line is opened and data stored in the cell is loaded on the bit line BL. Subsequently, the overdriving signal SAP1 is enabled by a pulse at a predetermined interval, and the first and second control signals SAN and SAP2 are sequentially enabled, thereby providing the external supply voltage VDD and the core voltage. Vcore and the ground voltage VSS are supplied to the
본 발명은 다음의 이유에 의해 프리차징 모드에서 종래 기술보다 우수한 tRP 특성을 갖는다.The present invention has superior tRP characteristics than the prior art in the precharging mode for the following reason.
상기 비트라인 아이솔레이션 신호의 반전 신호(BISHB) 및 상기 비트라인 이퀄라이제이션 신호의 반전 신호(BLEQB)가 디스에이블되고, 메인 워드라인 신호의 반전 신호(MWLB) 및 서브 워드라인 디코딩 신호의 반전 신호(FXB)가 인에이블된다. 또한 상기 오버드라이빙 신호(SAP1) 및 상기 제1,제2 제어 신호(SAN,SAP2)는 디스에이블된다. 따라서, 워드라인이 닫히고 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)은 이퀄라이징 및 프리차징 동작을 수행한다. 이에 따라 상기 프리차징부(200)는 상기 전원 전극(rto)과 상기 접지 전극(sb)을 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP)으로 프리차징시키는 동작을 수행한다. 이때 종래 기술에 비해 본 발명은 상기 프리차징부(200)의 면적이 종래 기술에 비해 면적이 넓은 곳에 배치되어 최적화된 상기 프리차징부(200)를 구현할 수 있다. 특히, 상기 프리차징부는 종래 기술에 비해 더 큰 트랜지스터로 구현할 수 있다. 따라서, 상기 프리차징부(200)는 프리차징하는 시간이 단축된다. 따라서, 상기 비트 라인쌍(BL,BLB)의 전압 레벨은 상기 비트라인 프리차지 전압(VBLP) 레벨이 된다. The inverted signal BISHB of the bit line isolation signal and the inverted signal BLEQB of the bit line equalization signal are disabled, the inverted signal MWLB of the main word line signal, and the inverted signal FXB of the sub word line decoded signal. Is enabled. In addition, the overdriving signal SAP1 and the first and second control signals SAN and SAP2 are disabled. Accordingly, the word line is closed and the bit line pairs BL and BLB perform an equalizing and precharging operation. Accordingly, the
즉, 본 발명(S1)은 상기 프리차징부(200)를 상기 뱅크(100) 외곽 영역에 추가로 더 구비함으로써 프리차징 속도가 개선되어, 종래 기술에 따른 반도체 집적 회로의 비트라인 파형도(S2)에 비해 빠른 프리차징 동작을 수행함을 알 수 있다.That is, the present invention S1 further includes the
또한, 본 발명의 다른 실시예는 도 7에 도시한 바와 같이 상기 프리차징부(200)의 배치 영역을 상기 로우계 제어 회로부(300)측의 상기 뱅크(100)의 가장자리에 배치하는 것이다. 경우에 따라서, 상기 로우계 제어 회로부(300)측의 상기 뱅크(100)의 일 외곽에 여유있는 공간이 생긴다. 이 공간에 상기 프리차징부(200)를 배치함으로써 프리차징부(200)의 면적을 확보하여 tRP 특성 개선이 가능하다.In addition, according to another exemplary embodiment of the present invention, an arrangement area of the
또한, 본 발명의 다른 실시예는 도 8에 도시한 바와 같이, 상기 프리차징부(200)의 배치 영역을 상기 로우계 제어 회로부(300)의 마주하는 상기 뱅크(100) 의 외곽 영역에 배치하는 것과 함께 추가로 상기 로우계 제어 회로부(300)측의 상기 뱅크(100)의 가장자리에 보조 프리차징부(400)를 배치하는 것이다. 이에 따라 상기 tRP 특성 개선이 보다 향상될 수 있다.In addition, according to another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, the arrangement area of the
본 발명은 4 뱅크 구조를 예를 들어 설명하였지만, 뱅크 수에 제한되지 않고 적용될 수 있다.Although the present invention has been described by taking a four bank structure as an example, the present invention can be applied without being limited to the number of banks.
또한, 본 발명은 상기 로우계 제어 회로부(300)가 종방향으로 배치된 구조로 설명하였지만, 상기 로우계 제어 회로부(300)가 횡방향으로 배치되면 상기 프리차징부(200)는 상기 뱅크(100)의 상단 또는 하단 외곽에 배치될 수 있다.In addition, the present invention has been described as a structure in which the row-based
이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. As such, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the above-described embodiments are to be understood as illustrative in all respects and not as restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.
본 발명에 따른 반도체 집적 회로는 셀 효율과 넷 다이를 유지하면서 상대적으로 여유가 있는 뱅크의 외곽 영역에 특성이 우수한 프리차징 회로를 부가함으로써 빠른 프리차징 동작을 수행할 수 있고 이로 인해 tRP 특성을 개선하는 효과가 있다.The semiconductor integrated circuit according to the present invention can perform a fast precharging operation by adding an excellent precharging circuit to a relatively marginal area of the bank while maintaining cell efficiency and net die, thereby improving tRP characteristics. It is effective.
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KR100702767B1 (en) * | 2005-12-05 | 2007-04-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | Local databus precharge circuit for high speed operation of semiconductor memory device |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060038578A (en) * | 2004-10-30 | 2006-05-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | Memory bank structure |
KR100702767B1 (en) * | 2005-12-05 | 2007-04-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | Local databus precharge circuit for high speed operation of semiconductor memory device |
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