KR100888659B1 - 기판처리장치 - Google Patents
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- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Abstract
Description
Claims (13)
- 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 내에 배치되어 기판을 지지하는 지지부재;상기 지지부재의 상부에 상기 지지부재와 나란하게 제공되는 샤워헤드;상기 샤워헤드를 지지하며, 상기 샤워헤드를 승강하여 상기 샤워헤드와 상기 지지부재 사이의 거리를 조절하는 승강부재;상기 내부공간에 소스가스를 공급하는 가스공급유닛; 및상기 내부공간에 전계를 형성하여 상기 소스가스로부터 플라스마를 생성하는 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 챔버는,상기 지지부재가 제공되며, 상기 플라스마에 의해 공정이 이루어지는 공정챔버; 및상기 공정챔버의 상부에 제공되며, 상기 플라스마가 생성되는 생성챔버를 구비하며,상기 샤워헤드는 상기 공정챔버 상에 제공되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제2항에 있어서,상기 승강부재의 상단은 상기 생성챔버의 상부에 연결되고, 상기 승강부재의 하단은 상기 샤워헤드에 연결되며,상기 샤워헤드는 원판 형상인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 샤워헤드는,내측에 내측분사구가 형성되는 제1 링;상기 제1 링을 감싸며 상기 제1 링으로부터 이격되어 상기 제1 링의 외측에 배치되는 제2 링; 및상기 제1 링과 상기 제2 링을 연결하는 연결부재를 포함하되,상기 제1 링과 상기 제2 링의 사이에 외측분사구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 샤워헤드는 상기 제1 링의 내측에 형성된 상기 내측분사구 상에 상기 제1 링으로부터 이격되도록 배치되는 제3 링을 더 포함하며,상기 제3 링의 내측에는 최내측분사구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제5항에 있어서,상기 제3 링은 상기 연결부재를 통하여 상기 제1 및 제2 링과 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제6항에 있어서,상기 제3 링은 상기 연결부재로부터 착탈가능한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 샤워헤드는 상기 제1 링과 상기 제2 링의 사이에 형성된 상기 외측분사구 상에 상기 제1 및 상기 제2 링으로부터 이격되도록 배치되는 제4 링을 더 포함하며,상기 제4 링의 외측에는 최외측분사구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제8항에 있어서,상기 제4 링은 상기 연결부재를 통하여 상기 제1 및 제2 링과 연결되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제9항에 있어서,상기 제4 링은 상기 연결부재로부터 착탈가능한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 샤워헤드는 상기 제1 링의 중심과 동일한 중심을 가지는 원판 형상의 중심판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제11항에 있어서,상기 연결부재는 상기 중심판으로부터 반경외측방향으로 연장되는 복수의 연결바들을 구비하며,상기 연결바들은 상기 중심판의 중심을 기준으로 등각을 이루는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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