KR100880858B1 - Light source sturcture for pcb light exposition apparatus - Google Patents

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Abstract

A structure of the light source of a PCB both sides concurrent exposure device is provided to allow a lamp to be maintained and repaired easily by using the integrated light source part and to improve productivity. A structure of the light source of a PCB both sides concurrent exposure device comprises a light source part(10) which comprises left and right light source parts arranged symmetrically; a pair of left and right lens(20); and an optical system which comprises the second reflection mirrors(32, 34) arranged vertically in the up and down direction between the left and right light source parts for reflecting the beam projected at the lens, and a pair of upper and lower spherical mirrors(36, 38) arranged in the up and down direction at the one part of the left and right light source parts for reflecting the beam reflected af the second reflection mirrors in the facing direction so as to irradiate the beam of the light source part to the upper and lower surfaces of the PCB horizontally arranged between them.

Description

피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조{Light source sturcture for PCB light exposition apparatus} Light source sturcture for PCB light exposition apparatus

본 발명은 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조에 관한 것으로, 보다 상세하게는 피씨비의 양면을 동시에 노광하기 위한 구조를 간소화시켜 장비 원가 절감과 생산성 향상을 기대할 수 있고, 광원을 구성하는 램프의 램프하우스 구조를 통일하여 램프 관리 및 유지 보수가 용이하며, 램프의 조도를 종래에 비하여 향상시킬 수 있도록 된 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조에 관한 것이다. The present invention relates to a PCB double-sided simultaneous exposure machine light source structure, and more particularly, to simplify the structure for simultaneously exposing both sides of the PCB can be expected to reduce equipment cost and productivity, and to improve the lamphouse structure of the lamp constituting the light source The present invention relates to a PCB double-sided simultaneous exposure machine light source structure in which the lamp management and maintenance are uniform, and the illuminance of the lamp can be improved as compared with the conventional one.

일반적으로 사용되는 피씨비(PCB) 노광기는 피시비의 표면에 램프 등의 광원에서 방사되는 빔(beam)을 조사하여 피씨비의 표면을 노광시킴으로써, 피씨비 표면에 미세회로를 구현하게 된다. 최근의 피씨비 노광기는 피씨비에 빔을 조사하기 위한 노광기는 피씨비의 상하면에 동시에 빔을 조사하는 구조로 되어 있다. A PCB exposure machine is generally used to expose a surface of the PCB by irradiating a beam emitted from a light source such as a lamp on the surface of the PCB, thereby implementing a microcircuit on the surface of the PCB. In recent years, an exposure machine for irradiating a beam to a PCB has a structure in which a PCB exposure machine irradiates a beam simultaneously on the upper and lower surfaces of the PCB.

그런데, 종래 노광기의 경우, 피씨비의 상하면에 빔을 조사하기 위해서는 반사 미러와 구면 미러 및 광원부 등을 상하로 별도로 배치해야 하기 때문에, 장비의 구조가 복잡해져 장비의 원가가 상승되는 단점이 있다.However, in the conventional exposure machine, since the reflection mirror, the spherical mirror, the light source unit, and the like must be disposed up and down separately in order to irradiate beams on the upper and lower surfaces of the PC ratio, the structure of the equipment is complicated and the cost of the equipment is increased.

또한, 종래에는 광원을 구성하는 램프를 램프하우스에 의해 지지하게 되는데, 이러한 램프하우스와 기타 주요 부분을 다른 두 가지 타입으로 구비하여 피씨비의 상하면을 동시에 노광하는 구조를 이루기 때문에, 장비의 구조가 복잡해지는 요인이 될 수밖에 없으며, 나아가, 램프의 교체시 등에 번거롭고 시간 소요가 비교적 많이 되므로, 생산성이 저하되는 단점도 있다.In addition, in the related art, the lamp constituting the light source is supported by the lamp house, and the structure of the equipment is complicated because the lamp house and the other main parts are provided in two different types to simultaneously expose the upper and lower surfaces of the PC. In addition, there is a disadvantage in that it becomes a deterioration factor, and furthermore, since it is cumbersome and time-consuming when the lamp is replaced, there is a disadvantage in that productivity is lowered.

아울러, 종래에는 렌즈에 입사되는 빔은 원형이지만 렌즈의 형상으로 사각형으로 이루어져, 렌즈를 통과하는 빔이 소실되기 때문에, 노광 효율이 그만큼 저하되는 단점이 있다. 구체적으로, 렌즈를 통과하는 빔이 대략 20% 정도 소실되므로, 노광 효율이 저하될 수밖에 없는 것이다.In addition, conventionally, the beam incident on the lens is circular, but is made of a rectangle in the shape of the lens, so that the beam passing through the lens is lost, there is a disadvantage that the exposure efficiency is reduced by that much. Specifically, since the beam passing through the lens is lost by about 20%, the exposure efficiency is inevitably deteriorated.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 피씨비 제품의 특성상 시트(Sheet)나 롤(Roll) 방식의 제품 노광 시 생산성 및 제품의 회로 구현에 있어서 중요한 항목인 광학계의 성능 및 구조 설계를 이루어 생산성에 바람직한 영향을 줌으로써 그에 적합한 양면 동시 노광 시스템을 구현할 수 있고, 아울러, 피씨비 제품 경쟁력 확보를 할 수 있도록 된 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조를 제공하고자 하는 것이다.The present invention is to solve the problems described above, the object of the present invention is the optical system which is an important item in the productivity and circuit implementation of the product when the sheet (Sheet) or roll (Roll) type of product exposure due to the characteristics of the product It is to provide a PCB double-sided simultaneous exposure machine light source structure that can implement a double-sided simultaneous exposure system suitable for this by making a performance and structural design to have a desirable effect on productivity, and also secure the competitiveness of PCB products.

또한, 본 발명은 피씨비의 양면을 동시에 노광 가능하도록 일렬 배치하는 설 계 기술과 렌즈 및 미러의 각도 배치를 구현하고, 장비를 콤팩트하게 만들 수 있게 하는 기술을 구현할 수 있도록 된 새로운 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조를 제공하고자 하는 것이다. 즉, 본 발명은 피씨비의 양면 동시 노광의 광학계 구성과 램프의 관리 및 유지 보수에 용이하게 하기 위한 광원부의 기능 통일을 통하여 장비를 종래의 것과 차별화시킨 것이라 할 수 있겠다.In addition, the present invention provides a novel technology for double-sided simultaneous exposure of the PCB to realize the design technology for arranging both sides of the PC to be simultaneously exposed and the technology to implement the angle arrangement of the lens and the mirror, and to make the equipment compact To provide a structure. In other words, the present invention can be said to differentiate the equipment from the conventional one through the optical system configuration of the simultaneous simultaneous exposure of the PCB and the function of the light source unit to facilitate the management and maintenance of the lamp.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따르면, 동일 구조로 이루어져 좌우 대칭으로 배치되어 피씨비(1)에 조사될 빔(4)을 발생 및 집광시키는 광원부(10)와, 상기 광원부(10)에서 방사되는 빔(4)을 각 광원부(10)의 서로 마주하는 방향으로 투사하는 한 쌍의 좌우 렌즈(20)와, 상기 좌우 대칭으로 배치된 광원부(10) 사이에 상하 직립 방향으로 배치되어 상기 렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)을 상하 방향으로 반사시켜 상기 광원부(10)의 일측 위치에 수평하게 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 광원부(10)의 빔(4)을 동시에 조사하는 광학계(30)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조가 제공된다.According to the present invention for solving the above problems, a light source unit 10 having the same structure and arranged symmetrically to generate and condense the beam 4 to be irradiated to the PC1, and radiation from the light source unit 10 The lens 4 is disposed between the pair of left and right lenses 20 for projecting the beams 4 in the mutually opposite directions of the light source units 10 and the light source units 10 arranged in the symmetrical direction, and is disposed in the vertical direction. Optical system for simultaneously irradiating the beam 4 of the light source unit 10 to the upper and lower surfaces of the PCB 1 is horizontally reflected at one position of the light source unit 10 by reflecting the beam 4 projected from the vertical direction ( 30) is provided.

상기 광학계(30)는 상기 좌우 광원부(10) 사이에 상하 방향으로 직립 배치되어 상기 렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)을 상하 방향으로 반사시키는 2차 반사미러(32,34)와, 상기 좌우 광원부(10)의 일측 위치에 상하 방향으로 배치되어 상기 2차 반사미러(32,34)에서 반사되는 빔(4)을 서로 마주하는 방향으로 반사시켜 그 사이에 수평 배치된 피씨비(1)의 상하면에 동시에 광원부(10)의 빔(4)을 조사하도록 된 한 쌍의 상하 구면미러(36,38)를 포함하여 구성되며, 상기 2차 반사미러(32,34)는 상기 좌우 광원부(10)의 사이에서 동축적으로 상하로 배치되고, 상기 구면미러(36,38)는 상기 좌우 광원부(10)의 외측 위치에서 동축적으로 상하 배치되도록 구성되어, 상기 상하 구면미러(36,38) 사이에 수평 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 동시에 빔(4)을 조사하여 노광시키도록 된 것을 특징으로 한다.The optical system 30 is disposed vertically between the left and right light source unit 10 in the vertical direction to reflect the beam 4 projected from the lens 20 in the vertical direction, and the The beams 4, which are disposed at one side of the left and right light sources 10 in the up and down direction, are reflected in directions facing each other by reflecting the beams 4 reflected from the secondary reflection mirrors 32 and 34, so as to be horizontally disposed therebetween. And a pair of upper and lower spherical mirrors 36 and 38 configured to irradiate the beam 4 of the light source unit 10 on the upper and lower surfaces simultaneously, and the secondary reflection mirrors 32 and 34 are the left and right light source units 10. Are arranged coaxially up and down between the, and the spherical mirrors 36 and 38 are configured to be coaxially arranged up and down at an outer position of the left and right light source unit 10, between the top and bottom spherical mirrors 36 and 38. The beams 4 are simultaneously irradiated on the upper and lower surfaces of the PCB 1 arranged horizontally, so as to be exposed. Gong.

또한, 본 발명에 의하면, 상기 상부측 구면미러(36)는 상기 광원부(10)의 일측 위치에서 상기 광원부(10) 방향으로 갈수록 상향 경사지도록 배치되고, 상기 하부측 구면미러(38)는 상기 상부측 구면미러(36)와 마주하는 하측 위치에서 상기 광원부(10) 방향으로 갈수록 하향 경사지도록 배치되며, 상기 한 쌍의 렌즈(20)는 각각의 광원부(10)의 빔(4)이 서로 마주하는 방향으로 투사되도록 각 광원부(10)의 전방에 배치되고, 상기 하부측 2차 반사미러(32)는 상기 하부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 하부측 구면미러(38) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되고, 상기 상부측 2차 반사미러(34)는 상기 상부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 상부측 구면미러(38) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조가 제공될 수 있다.In addition, according to the present invention, the upper side spherical mirror 36 is disposed to be inclined upward toward the light source unit 10 from one side position of the light source unit 10, the lower side spherical mirror 38 is the upper It is disposed to be inclined downward toward the light source unit 10 in a lower position facing the side spherical mirror 36, the pair of lenses 20 is the beam 4 of each light source unit 10 facing each other Disposed in front of each light source unit 10 so as to be projected in a direction, and the lower secondary reflecting mirror 32 is disposed so that the beam 4 projected from the lower lens 20 is irradiated and the lower spherical mirror The upper side secondary reflection mirror 34 is disposed to be inclined so that the beam 4 can be reflected in the direction of 38, and the upper side secondary reflection mirror 34 is arranged to irradiate the beam 4 projected from the upper lens 20 and the upper side. The beam 4 may be reflected in the direction of the side spherical mirror 38. A light source PCB double side simultaneous exposure machine structure, characterized in that the obliquely arranged may be provided.

본 발명에 의하면 다음과 같은 효과를 가진 피씨비 양면 동시 노광기 광원기 구조가 제공될 수 있다.According to the present invention can be provided with a PCB double-sided simultaneous exposure machine light source structure having the following effects.

첫째, 피씨비의 양면을 동시에 노광 가능하도록 일렬 배치하는 설계 기술과 렌즈 및 미러의 각도 배치를 구현하고, 장비를 콤팩트하게 만들 수 있게 하는 기술을 구현할 수 있으며, 나아가, 콤팩한 구조를 통하여 피씨비의 양면을 동시에 노광시킬 수 있으므로, 피씨비 제품의 생산성이 향상되는 효과가 있다.First, the design technology for arranging both sides of the PC to be exposed at the same time, the angle arrangement of the lens and the mirror, and the technology to make the equipment compact can be implemented. Furthermore, the two sides of the PC through the compact structure can be implemented. Can be exposed at the same time, there is an effect that the productivity of the PC product is improved.

둘째, 광원인 램프를 램프하우스에 수용하여 지지하는 구조를 구현함에 있어 램프하우스를 일원화된 구조를 통일하여 구비할 수 있으므로, 램프의 관리 및 유지 보수가 용이한 효과가 있다. 즉, 피씨비의 상하면 광원이 되는 광원부를 일원화된 구조로 구현하므로, 램프의 유지 관리 및 보수 등이 용이한 효과를 기대할 수 있는 것이다.Second, in implementing the structure of accommodating and supporting the lamp as a light source in the lamp house, the lamp house may be provided in a unified structure, thereby easily managing and maintaining the lamp. That is, since the light source unit that becomes the upper and lower surfaces of the PC ratio is implemented in a unified structure, it is possible to expect easy effects such as maintenance and repair of the lamp.

셋째, 램프의 조도 효율 측면을 고려하여 램프로부터 입사되는 빔을 투사하는 렌즈(20)의 구조를 원형에 가깝게 구현함으로써, 종래에 비하여 램프 빔의 조도 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 구체적으로, 종래에 비하여 렌즈를 통과하는 빔의 조도 효율을 대략 20% 정도 향상시키는 효과가 있으며, 이로 인해, 종래에 비하여, 노광 효율이 향상되는 장점을 기대할 수 있다.Third, by implementing the structure of the lens 20 for projecting the beam incident from the lamp in consideration of the illuminance efficiency aspect of the lamp close to the circular, there is an effect that can improve the illuminance efficiency of the lamp beam compared to the conventional. Specifically, compared with the conventional art, the illumination efficiency of the beam passing through the lens is improved by about 20%. As a result, it is expected that the exposure efficiency is improved compared to the conventional art.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1실시예의 평면도, 도 2는 도 1에 도시된 주요부의 구조를 개념적으로 보여주는 사시도, 도 3은 도 1의 A 방향 측면도, 도 4는 도 1의 B 방향 측면도, 도 5는 본 발명의 주요부인 렌즈의 사시도이다.1 is a plan view of a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view conceptually showing the structure of the main part shown in FIG. 1, FIG. 3 is a side view of the A direction of FIG. 1, FIG. 4 is a side view of the B direction of FIG. 5 is a perspective view of a lens which is an essential part of the present invention.

도시된 본 발명은 동일 구조로 이루어져 좌우 대칭으로 배치되어 피씨비(1)에 조사될 빔(4)을 발생 및 집광시키는 광원부(10)와, 이 광원부(10)에서 방사되는 빔(4)을 각 광원부(10)의 서로 마주하는 방향으로 투사하는 한 쌍의 좌우 렌즈(20)와, 이 좌우 대칭으로 배치된 광원부(10) 사이에 상하 직립 방향으로 배치되어 렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)을 상하 방향으로 반사시켜 광원부(10)의 일측 위치에 수평하게 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 광원부(10)의 빔(4)을 동시에 조사하는 광학계(30)로 구성된다. According to the present invention, the light source unit 10 having the same structure and disposed symmetrically to generate and condense the beam 4 to be irradiated to the PC 1 and the beam 4 emitted from the light source unit 10 are each angled. A beam 4 projected from the lens 20 by being disposed in the vertical direction between the pair of left and right lenses 20 projecting in the mutually opposite directions of the light source unit 10 and the light source units 10 arranged in the symmetrical direction. It is composed of an optical system 30 for simultaneously irradiating the beam (4) of the light source unit 10 to the upper and lower surfaces of the PC (1) arranged horizontally at one side position of the light source unit 10 by reflecting in the vertical direction.

즉, 본 발명은 빔(4)을 발생 및 집광시키는 램프(12), 반구형 반사미러(14), 콜드미러(16)의 광원부(10)와, 빔(4)의 분포 및 효율을 향상시키기 위한 렌즈(20), 그리고, 2차 반사미러(32,34) 및 구면미러(36,38)의 광학계(30)로 구성된다.That is, the present invention is to improve the distribution and efficiency of the light source unit 10 and the beam 4 of the lamp 12, the hemispherical reflection mirror 14, the cold mirror 16 for generating and condensing the beam 4; The lens 20 and the optical system 30 of the secondary reflection mirrors 32 and 34 and the spherical mirrors 36 and 38 are comprised.

구체적으로, 상기 광학계(30)는 좌우 광원부(10) 사이에 상하 방향으로 직립 배치되어 렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)을 상하 방향으로 반사시키는 상부측 2차 반사미러(32) 및 하부측 2차 반사미러(34)와, 상기 좌우 광원부(10)의 일측 위치에 상하 방향으로 배치되어 2차 반사미러(32,34)에서 반사되는 빔(4)을 서로 마주하는 방향으로 반사시켜 그 사이에 수평 배치된 피씨비(1)의 상하면에 동시에 광원부(10)의 빔(4)을 조사하도록 된 한 쌍의 상측 구면미러(36) 및 하측 구면미러(38)를 포함하여 구성된다. 이때, 상기 상측 구면미러(36)와 하측 구면미러(38)는 도시되지는 않았지만 별도의 지지대 등에 의해 지지되어 설치될 수 있으며, 이에 대한 도면은 도시하지 않기로 한다.In detail, the optical system 30 is vertically disposed between the left and right light source units 10 in the vertical direction, and reflects the beam 4 projected from the lens 20 in the vertical direction. The side secondary reflection mirror 34 and the beams 4 disposed at one side of the left and right light source units 10 in the vertical direction and reflected by the secondary reflection mirrors 32 and 34 are reflected in a direction facing each other. A pair of upper spherical mirrors 36 and lower spherical mirrors 38 configured to irradiate the beams 4 of the light source unit 10 simultaneously on the upper and lower surfaces of the PCB 1 arranged horizontally therebetween. At this time, the upper spherical mirror 36 and the lower spherical mirror 38 may be installed by being supported by a separate support, although not shown, the drawings for this will not be shown.

즉, 상기 상부측 구면미러(36)는 광원부(10)의 일측 위치에서 광원부(10) 방향으로 갈수록 상향 경사지도록 배치되고, 상기 하부측 구면미러(38)는 상부측 구면미러(36)와 마주하는 하측 위치에서 광원부(10) 방향으로 갈수록 하향 경사지도록 배치되며, 상기 한 쌍의 렌즈(20)는 각각의 광원부(10)의 빔(4)이 서로 마주하는 방향으로 투사되도록 각 광원부(10)의 전방에 배치된다.That is, the upper side spherical mirror 36 is disposed to be inclined upward toward the light source unit 10 from one side position of the light source unit 10, and the lower side spherical mirror 38 faces the upper side spherical mirror 36. The light source unit 10 is disposed to be inclined downward toward the light source unit 10 at a lower position, and the pair of lenses 20 may project each light source unit 10 such that the beams 4 of the respective light source units 10 are projected in opposite directions. Is placed in front of.

또한, 상기 하부측 2차 반사미러(34)는 하부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 하부측 구면미러(38) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되고, 상기 상부측 2차 반사미러(32)는 상부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 상부측 구면미러(36) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되어 있다.In addition, the lower secondary reflection mirror 34 is disposed to be irradiated with the beam 4 projected from the lower lens 20 and inclined so that the beam 4 can be reflected toward the lower spherical mirror 38. The upper side secondary reflection mirror 32 may be disposed to irradiate the beam 4 projected from the upper lens 20 and the beam 4 may be reflected toward the upper side spherical mirror 36. It is arranged to be inclined so that.

즉, 상기 상하부 2차 반사미러(32,34)는 좌우 광원부(10)의 사이에서 동축적으로 상하로 배치되고, 상기 상하부 구면미러(36,38)는 좌우 광원부(10)의 외측 위치에서 동축적으로 상하 배치되도록 구성되어, 상하부 구면미러(36,38) 사이에 수평 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 동시에 빔(4)을 조사하여 노광시킬 수 있다.That is, the upper and lower secondary reflecting mirrors 32 and 34 are disposed up and down coaxially between the left and right light source units 10, and the upper and lower spherical mirrors 36 and 38 are disposed at the outer position of the left and right light source units 10. The upper and lower surfaces of the PCB 1 arranged horizontally between the upper and lower spherical mirrors 36 and 38 can be irradiated and exposed at the same time.

이를테면, 본 발명은 상하 두 개의 2차 반사미러(32,34) 및 구면미러(36,38)를 동축으로 수직 배치하여 광학계(30) 구조를 이루고, 2차 미러 기준으로 렌즈(20) 및 광원부(10)를 좌우 대칭으로 배치하여 양면 동시 노광이 가능하도록 구현한 것이다. 한편, 상기 렌즈(20)(Fly's eye lens라 칭함)는 노광면의 빔(4) 상을 정위치 시키기 위해서는 틸트(tilt)시키는 것이 바람직하다.For example, the present invention forms the optical system 30 by vertically arranging the upper and lower two secondary reflection mirrors 32 and 34 and the spherical mirrors 36 and 38 coaxially, and the lens 20 and the light source unit based on the secondary mirror. (10) is symmetrically arranged to enable simultaneous exposure on both sides. On the other hand, the lens 20 (referred to as Fly's eye lens) is preferably tilted in order to position the beam 4 on the exposure surface.

또한, 상기 광원부(10)는 메인프레임에 지지되어 설치되어 광원인 빔(4)을 방사하는 램프(12)와, 이 램프(12)를 커버하는 반구형으로 이루어지며 상면은 개방된 반구형 반사미러(14)와, 메인프레임에 지지되어 램프(12)의 상부에 배치되며 반구형 반사미러(14)에서 반사되는 빔(4)을 전방에 구비된 렌즈(20)에 반사시키는 콜드미러(16)를 포함하여 구성된다. In addition, the light source unit 10 is supported by the main frame and is provided with a lamp 12 for radiating the beam 4 as a light source, and a hemispherical shape covering the lamp 12, the upper surface is an open hemispherical reflecting mirror ( 14) and a cold mirror 16 which is supported on the main frame and disposed above the lamp 12 and reflects the beam 4 reflected from the hemispherical reflecting mirror 14 to the lens 20 provided at the front. It is configured by.

그리고, 상기 렌즈(20)는 메인프레임에 지지되어 콜드미러(16)의 전방에 직립 배치되며, 상기 콜드미러(16)는 렌즈(20) 방향을 향하여 상향 경사지도록 배치되어, 광원부(10)의 램프(12)에서 방사되어 반구형 반사미러(14)에서 반사된 빔(4)을 렌즈(20) 방향으로 반사시킨다.In addition, the lens 20 is supported by the main frame and is disposed upright in front of the cold mirror 16, the cold mirror 16 is disposed to be inclined upward toward the lens 20 direction, the light source 10 The beam 4 emitted from the lamp 12 and reflected from the hemispherical reflecting mirror 14 is reflected toward the lens 20.

이러한 광원부(10)는 서로 높이차이가 있도록 배치된 좌우측 광원부(10)로 구성되는데, 이러한 좌우측 광원부(10) 중에서 한쪽의 광원부(10)는 다른쪽의 광원부(10)보다 높은 지면에 설치되어 좌우 광원부(10)가 서로 높이차이가 있도록 배치할 수 있다.The light source unit 10 is composed of left and right light source unit 10 disposed so as to have a height difference from each other, one of the light source unit 10 of the left and right light source unit 10 is installed on the ground higher than the other light source unit 10 and left and right The light source unit 10 may be disposed to have a height difference from each other.

상기와 같은 구성의 본 발명에 의하면, 상기 좌우측 광원부(10)의 램프(12)로부터 빛이 방사되면, 반구형 반사미러(14)에 의해 빔(4)이 집광되어 상측(즉, 메인프레임의 상측)으로 반사되고, 반구형 반사미러(14)에서 반사된 빔(4)은 콜드램프(12)에 의해 각 광원부(10) 전방의 렌즈(20)에 투사된다.According to the present invention having the above configuration, when light is emitted from the lamp 12 of the left and right light source unit 10, the beam 4 is condensed by the hemispherical reflecting mirror 14 to the upper side (that is, the upper side of the main frame) ), And the beam 4 reflected by the hemispherical reflection mirror 14 is projected by the cold lamp 12 to the lens 20 in front of each light source unit 10.

이어서, 렌즈(20)에 투사된 빔(4)이 상하부 2차 반사미러(32,34)에 의해 상하 방향으로 반사되고, 2차 반사미러(32,34)에 의해 반사된 빔(4)이 상하부 구면미러(36,38)에 의해 서로 마주보는 방향으로 반사된다. Subsequently, the beam 4 projected onto the lens 20 is reflected by the upper and lower secondary reflection mirrors 32 and 34 in the vertical direction, and the beam 4 reflected by the secondary reflection mirrors 32 and 34 is The upper and lower spherical mirrors 36 and 38 are reflected in directions facing each other.

그러면, 상하부 구면미러(36,38) 사이에 수평 방향으로 배치된 피씨비(1)의 상하면을 동시에 노광시켜 미세 회로를 구현할 수 있다. 즉, 상부측 구면미러(36)에서 반사된 빔(4)이 피씨비(1)의 상면에 노광되고, 동시에 하부측 구면미러(38)에서 반사된 빔(4)이 피씨비(1)에 노광되어 피씨비(1)의 상하면을 동시에 노광시켜 미세 회로를 구현하게 되는 것이다.Then, the microcircuit may be realized by simultaneously exposing the upper and lower surfaces of the PCB 1 disposed in the horizontal direction between the upper and lower spherical mirrors 36 and 38. That is, the beam 4 reflected from the upper spherical mirror 36 is exposed to the upper surface of the PC1, and at the same time the beam 4 reflected from the lower spherical mirror 38 is exposed to the PC1. The upper and lower surfaces of the PCB 1 are simultaneously exposed to implement a fine circuit.

따라서, 본 발명은 좌우측으로 광원부(10)를 대칭적으로 배치하고, 광원부(10) 사이에는 상하측 2차 반사미러(32,34)를 동축적으로 상하로 배치하며, 상하부 구면미러(36,38)는 좌우 광원부(10)의 외측 위치에서 동축적으로 상하 배치되도록 구성되어, 상기 상하부 구면미러(36,38) 사이에 수평 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 동시에 빔(4)을 조사하여 노광시킬 수 있는 구조로서, 피씨비(1)의 양면을 동시에 노광 가능하도록 광학계(30)의 주요 부분인 2차 반사미러(32,34)와 구면미러(36,38)를 일렬로 배치하는 설계 기술과 렌즈(20) 및 미러의 각도 배치를 구현함으로써, 노광기 장비 전체를 콤팩트하게 만들 수 있는 효과가 있다. Accordingly, in the present invention, the light source unit 10 is symmetrically disposed on the left and right sides, and the upper and lower secondary reflection mirrors 32 and 34 are disposed coaxially up and down between the light source units 10, and the upper and lower spherical mirrors 36, 38 is configured to be arranged coaxially up and down at the outer position of the left and right light source unit 10, by simultaneously irradiating the beam (4) on the upper and lower surfaces of the PC (1) horizontally arranged between the upper and lower spherical mirrors (36,38) As a structure which can expose, the design technique which arrange | positions the secondary reflection mirrors 32 and 34 which are main parts of the optical system 30, and the spherical mirrors 36 and 38 in a line so that both surfaces of the PC1 can be exposed simultaneously. By implementing the angle arrangement of the lens 20 and the mirror, there is an effect that can make the entire exposure equipment compact.

즉, 본 발명은 피씨비(1)의 양면 동시 노광의 광학계(30) 구성과 램프(12)의 관리 및 유지 보수에 용이하게 하기 위한 광원부(10)의 기능 통일을 통하여 장비를 종래의 것과 차별화한 발명이라 하겠다.That is, the present invention differentiates the equipment from the conventional one through the unification of the optical system 30 for the simultaneous exposure of both sides of the PC1 and the function unification of the light source unit 10 to facilitate the management and maintenance of the lamp 12. It is called an invention.

한편, 도 6은 본 발명의 제2실시예의 주요부의 구조를 개념적으로 보여주는 사시도, 도 7은 도 6의 C 방향 측면도, 도 8은 도 5의 D 방향 측면도로서, 도 6 내지 제 8에 의한 본 발명의 제2실시예에는 2차 반사미러(32,34)를 크로스로 배치함으로써, 노광기 장비의 높이를 보다 줄이는 기술을 구현한 것이다.6 is a perspective view conceptually showing a structure of a main part of a second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a side view of the C direction of FIG. 6, and FIG. 8 is a side view of the D direction of FIG. 5. In the second embodiment of the present invention, by arranging the secondary reflection mirrors 32 and 34 in a cross, a technique of further reducing the height of the exposure equipment is implemented.

즉, 상기 상부측 구면미러(36)는 광원부(10)의 일측 위치에서 광원부(10) 방 향으로 갈수록 상향 경사지도록 배치되고, 상기 하부측 구면미러(38)는 상부측 구면미러(36)와 마주하는 하측 위치에서 광원부(10) 방향으로 갈수록 하향 경사지도록 배치된다.That is, the upper side spherical mirror 36 is disposed to be inclined upward toward the light source unit 10 from one side position of the light source unit 10, and the lower side spherical mirror 38 and the upper side spherical mirror 36 It is arranged to be inclined downward toward the light source unit 10 in the lower position facing.

또한, 상기 한 쌍의 렌즈(20)는 각각의 광원부(10)의 빔(4)이 서로 마주하는 방향으로 투사되도록 각 광원부(10)의 전방에 배치되고, 하부측 2차 반사미러(34)는 하부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상부측 구면미러(36) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치된다.In addition, the pair of lenses 20 are disposed in front of each light source unit 10 so that the beam 4 of each light source unit 10 is projected in a direction facing each other, and the lower secondary reflecting mirror 34. Is arranged to be irradiated with the beam 4 projected from the lower lens 20 while being inclined so that the beam 4 can be reflected toward the upper spherical mirror 36.

그리고, 상기 상부측 2차 반사미러(32)는 상부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 하부측 구면미러(38) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되어, 상기 상부측 구면미러(36)에는 하부측 2차 반사미러(34)에서 빔(4)이 반사되고, 상기 하부측 구면미러(38)에는 상부측 2차 반사미러(32)에서 빔(4)이 반사되도록 구성된다. 미설명 부호 31은 지지판이며, 이 지지판(31)은 미도시된 별도의 지지대에 의해 지지되어 상부측 구면미러(36)와 하부측 구면미러(38)를 서로 마주보는 위치에 배치되도록 지지한다.In addition, the upper secondary reflecting mirror 32 is disposed to be irradiated with the beam 4 projected from the upper lens 20 and inclined so that the beam 4 can be reflected toward the lower spherical mirror 38. The beam 4 is reflected from the lower secondary reflection mirror 34 to the upper side spherical mirror 36, and the beam of the upper secondary reflection mirror 32 is reflected to the lower side spherical mirror 38. 4 is configured to reflect. Reference numeral 31 is a support plate, and the support plate 31 is supported by a separate supporter not shown to support the upper spherical mirror 36 and the lower spherical mirror 38 to be disposed at positions facing each other.

따라서, 도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 2차 반사미러(32,34)에서 반사되는 빔(4)이 교차(크로스)된 상태로 상하측 구면미러(36,38)에 입사되어 피씨비(1)의 상하면에 동시에 노광시키는 구조로서, 제1실시예에 비하여 노광기 전체의 높이를 보다 낮출 수 있으며, 이로 인해, 노광기 장비의 사이즈를 보다 콤팩트하게 구현할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.Therefore, as shown in FIGS. 6 to 8, the beams 4 reflected from the secondary reflection mirrors 32 and 34 are incident on the upper and lower spherical mirrors 36 and 38 while being crossed (crossed), thereby causing the PC ratio. As a structure in which the upper and lower surfaces of (1) are exposed at the same time, the height of the entire exposure machine can be lowered as compared with the first embodiment, whereby the effect of implementing the size of the exposure equipment more compactly can be expected.

또한, 도 9와 도 10은 본 발명의 다른 주요부인 광원부(10)의 구조를 측면에 서 보여주는 도면이다. 도 9와 도 10에 의하면, 광원부(10)를 이루는 램프(12)는 치구(60)에 의해 탈부착 가능하게 직립 설치된다. 즉, 메인프레임에 고정된 램프(12) 치구지지대(62)의 상면에 치구(60)가 구비되고, 이 치구(60)는 서로 마주하는 면에 램프(12)의 베이스(12a)가 수용되는 베이스 수용홈(68a)이 형성된 지지블록(64) 및 가압블록(66)과, 이 가압블록(66)을 지지블록(64) 방향으로 조여지도록 체결하는 고정구를 포함하여 구성된다.9 and 10 are side views illustrating the structure of the light source unit 10 which is another main part of the present invention. 9 and 10, the lamp 12 constituting the light source unit 10 is installed upright detachably by the jig 60. That is, the jig 60 is provided on an upper surface of the jig support 62, which is fixed to the main frame, and the jig 60 has the base 12a of the lamp 12 accommodated on the surface facing each other. It comprises a support block 64 and the pressure block 66, the base receiving groove 68a is formed, and a fastener fastening the pressure block 66 to be tightened in the direction of the support block 64.

이에 따라, 램프(12)를 직립으로 고정 설치할 경우, 치구(60)의 지지블록(64)과 가압블록(66)의 베이스 수용홈(68a)에 램프(12)의 베이스(12a)를 끼운 다음, 체결구(68)에 의해 가압블록(66)을 지지블록(64) 방향으로 조여주면, 램프(12)와 반구형 반사미러(14)(32,34)가 상향으로 배치될 수 있다. Accordingly, when the lamp 12 is fixedly installed upright, the base 12a of the lamp 12 is inserted into the support block 64 of the jig 60 and the base receiving groove 68a of the pressing block 66. When the pressure block 66 is tightened in the direction of the support block 64 by the fastener 68, the lamp 12 and the hemispherical reflection mirrors 14 and 32 and 34 may be disposed upward.

따라서, 본 발명에 의하면, 램프(12) 고정 방식은 램프(12) 하부 베이스(12a)를 치구(60)로 밀착하여 고정함으로써, 램프(12) 교체 시 정위치가 가능하고 시간 또한 줄일 수 있는 효과를 기대할 수 있는 것이다.Therefore, according to the present invention, the lamp 12 is fixed by fixing the lamp base 12 lower base 12a in close contact with the jig 60, so that when the lamp 12 is replaced, it is possible to correct the position and also reduce the time. You can expect the effect.

그리고, 본 발명은 동일한 구조로 일원화된 한 쌍의 좌우 광원부(10)를 채용하여 피씨비(1)의 상하면에 동시에 노광하는 구성을 구비함으로써, 종래에 비하여 노광기 구조 자체를 보다 용이하게 구현할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention employs a pair of left and right light source unit 10 united in the same structure to simultaneously expose the upper and lower surfaces of the PC 1, the effect of the structure of the exposure apparatus itself more easily than in the prior art There is.

다시 말해, 종래에는 피씨비(1)의 상하면에 빔(4)을 조사하기 위해서는 상부측 광원부(10)와 하부측 광원부(10)를 다른 구조를 채용해야 했으나, 본 발명에서는 램프(12)를 지지하는 램프 하우스(50)를 동일 구조로 일원화시켰기 때문에, 종래와 같이 상하측 다른 구조의 광원부(10)를 채용해야 하는 문제점을 해소한 것이다.In other words, conventionally, in order to irradiate the beams 4 on the upper and lower surfaces of the PC1, the upper light source unit 10 and the lower light source unit 10 had to adopt different structures, but in the present invention, the lamp 12 is supported. Since the lamp house 50 is united in the same structure, the problem of employing the light source unit 10 having a different structure up and down as in the prior art is solved.

아울러, 도 11은 본 발명의 주요부를 이루는 렌즈(20)의 다른 실시예를 보여주는 정면도로서, 도 11을 참조하면, 상기 렌즈(20)를 지지하는 렌즈지지대(28)에는 원형의 빔투사공(22)이 형성되고, 렌즈(20)는 복수개의 사각형 개별렌즈가 상하 좌우 방향으로 배치되어 구성되며, 개별렌즈는 상하좌우 사각형으로 배치된 내측 개별렌즈(24)와, 이 내측 개별렌즈(24)의 네 외곽부에 부가된 외곽 개별렌즈(26)(도 11에서 빗금 표시된 렌즈)로 구성된다.In addition, FIG. 11 is a front view showing another embodiment of the lens 20 constituting the main part of the present invention. Referring to FIG. 11, the lens support 28 supporting the lens 20 has a circular beam projection hole ( 22) is formed, the lens 20 is composed of a plurality of rectangular individual lenses are arranged in the vertical, horizontal, left and right directions, the individual lens is an inner individual lens 24 arranged in a vertical, horizontal, left and right quadrangle, and the inner individual lens 24 It consists of an outer individual lens 26 (hatched lens in Fig. 11) added to the four outer parts of.

따라서, 상기 렌즈(20)(Fly's eye lens)가 원형에 가까운 형상으로 구성되어, 조도 효율을 향상시킬 수 있다. 즉, 렌즈(20)(Fly's eye lens)의 구조는 기존 사각형의 구조이지만, 본 발명에서는 조도 효율 측면을 고려하여 원형에 가깝게 최적화시킨 구조를 구현하였기 때문에, 빔(4)의 분포 및 조도 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 기대할 수 있으며, 구체적으로, 종래에는 빔(4)의 대략 20% 정도 소실되어 노광 효율이 저하될 수밖에 없었으나, 본 발명에서는 이러한 빔(4)의 소실되는 부분을 최소화시키도록 렌즈(20)의 구성을 최적화시킴으로써, 종래의 빔(4)이 소실되어 조도 효율이 저하되는 것을 방지하는 효과를 기대할 수 있는 것이다.Therefore, the lens 20 (Fly's eye lens) is formed in a shape close to the circular shape, it is possible to improve the illuminance efficiency. That is, although the structure of the lens 20 (Fly's eye lens) is a conventional rectangular structure, the present invention implements a structure that is optimized to be close to a circular shape in consideration of the illumination efficiency, the distribution and the illumination efficiency of the beam (4) It can be expected that the effect can be improved, and specifically, about 20% of the conventional beams are lost by about 20%, but the exposure efficiency is deteriorated. However, the present invention minimizes the loss of the beams 4. By optimizing the configuration of the lens 20 so that the conventional beam 4 is lost, the effect of preventing the illuminance efficiency from being lowered can be expected.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

도 1은 본 발명의 제1실시예의 평면도1 is a plan view of a first embodiment of the present invention;

도 2는 도 1에 도시된 주요부의 구조를 개념적으로 보여주는 사시도2 is a perspective view conceptually showing the structure of the main part shown in FIG.

도 3은 도 2의 A 방향 측면도3 is a side view of the A direction of FIG.

도 4는 도 2의 B 방향 측면도4 is a side view of the B direction of FIG.

도 5는 본 발명의 주요부인 렌즈의 사시도5 is a perspective view of a lens which is an essential part of the present invention;

도 6은 본 발명의 제2실시예의 주요부의 구조를 개념적으로 보여주는 사시도6 is a perspective view conceptually showing the structure of main parts of a second embodiment of the present invention;

도 7은 도 6의 C 방향 측면도FIG. 7 is a side view of the direction C of FIG. 6; FIG.

도 8은 도 6의 D 방향 측면도8 is a side view of the direction D of FIG.

도 9와 도 10은 본 발명의 다른 주요부인 광원부의 구조를 측면에서 보여주는 도면9 and 10 are views showing the structure of a light source unit, which is another main part of the present invention, from the side;

도 11은 본 발명의 주요부를 이루는 렌즈의 다른 실시예를 보여주는 정면도11 is a front view showing another embodiment of the lens forming the main part of the present invention.

Claims (8)

삭제delete 삭제delete 동일 구조로 이루어져 좌우 대칭으로 배치되어 피씨비(1)에 조사될 빔(4)을 발생 및 집광시키는 광원부(10)와, 상기 광원부(10)에서 방사되는 빔(4)을 각 광원부(10)의 서로 마주하는 방향으로 투사하는 한 쌍의 좌우 렌즈(20)와, 상기 좌우 대칭으로 배치된 광원부(10) 사이에 상하 직립 방향으로 배치되어 상기 렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)을 상하 방향으로 반사시켜 상기 광원부(10)의 일측 위치에 수평하게 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 광원부(10)의 빔(4)을 동시에 조사하는 광학계(30)를 포함하고,The light source unit 10 having the same structure and disposed symmetrically to generate and condense the beam 4 to be irradiated to the PC1, and the beam 4 radiated from the light source unit 10 to each of the light source units 10. Between the pair of left and right lenses 20 projecting in directions facing each other and the light source unit 10 arranged in the symmetrical direction, the beams 4 projected from the lens 20 are projected in the vertical direction. An optical system 30 that simultaneously reflects the beams 4 of the light source unit 10 onto the upper and lower surfaces of the PC 1 that is horizontally disposed at one position of the light source unit 10. 상기 광학계(30)는 상기 좌우 광원부(10) 사이에 상하 방향으로 직립 배치되어 상기 렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)을 상하 방향으로 반사시키는 2차 반사미러(32,34)와, 상기 좌우 광원부(10)의 일측 위치에 상하 방향으로 배치되어 상기 2차 반사미러(32,34)에서 반사되는 빔(4)을 서로 마주하는 방향으로 반사시켜 그 사이에 수평 배치된 피씨비(1)의 상하면에 동시에 광원부(10)의 빔(4)을 조사하도록 된 한 쌍의 상하부 구면미러(36,38)를 포함하여 구성되며, 상기 2차 반사미러(32,34)는 상기 좌우 광원부(10)의 사이에서 동축적으로 상하로 배치되고, 상기 구면미러(36,38)는 상기 좌우 광원부(10)의 외측 위치에서 동축적으로 상하 배치되도록 구성되어, 상기 상하부 구면미러(36,38) 사이에 수평 배치되는 피씨비(1)의 상하면에 동시에 빔(4)을 조사하여 노광시키도록 구성되며,The optical system 30 is disposed vertically between the left and right light source unit 10 in the vertical direction to reflect the beam 4 projected from the lens 20 in the vertical direction, and the The beams 4, which are disposed at one side of the left and right light sources 10 in the up and down direction, are reflected in directions facing each other by reflecting the beams 4 reflected from the secondary reflection mirrors 32 and 34, so as to be horizontally disposed therebetween. And a pair of upper and lower spherical mirrors 36 and 38 configured to irradiate the beam 4 of the light source unit 10 on the upper and lower surfaces simultaneously, and the secondary reflection mirrors 32 and 34 are the left and right light source units 10. Are arranged coaxially up and down between the, and the spherical mirrors 36 and 38 are configured to be coaxially arranged up and down at an outer position of the left and right light source unit 10, between the upper and lower spherical mirrors 36 and 38. It is configured to irradiate and expose the beam (4) at the same time on the upper and lower surfaces of the horizontally placed PC ratio (1) And 상기 상부측 구면미러(36)는 상기 광원부(10)의 일측 위치에서 상기 광원부(10) 방향으로 갈수록 상향 경사지도록 배치되고, 상기 하부측 구면미러(38)는 상기 상부측 구면미러(36)와 마주하는 하측 위치에서 상기 광원부(10) 방향으로 갈수록 하향 경사지도록 배치되며, 상기 한 쌍의 렌즈(20)는 각각의 광원부(10)의 빔(4)이 서로 마주하는 방향으로 투사되도록 각 광원부(10)의 전방에 배치되고, 상기 하부측 2차 반사미러(34)는 상기 하부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 하부측 구면미러(38) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되고, 상기 상부측 2차 반사미러(32)는 상기 상부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 상부측 구면미러(36) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조.The upper side spherical mirror 36 is disposed to be inclined upward toward the light source unit 10 from one side position of the light source unit 10, and the lower side spherical mirror 38 and the upper side spherical mirror 36 It is disposed to be inclined downward toward the light source unit 10 in the lower position facing each other, the pair of lenses 20 are each light source (such that the beam 4 of each light source unit 10 is projected in a direction facing each other ( 10, and the lower secondary reflection mirror 34 is disposed so that the beam 4 projected from the lower lens 20 is irradiated, and at the same time the beam is directed toward the lower spherical mirror 38. 4) is inclined so as to be reflected, and the upper secondary reflection mirror 32 is disposed so that the beam 4 projected from the upper lens 20 is irradiated, and at the same time in the upper spherical mirror 36 direction. Is arranged to be inclined so that the beam 4 can be reflected A PCB double side simultaneous exposure machine light source structure characterized by the above-mentioned. 제 3 항에 있어서, 상기 상부측 구면미러(36)는 상기 광원부(10)의 일측 위치에서 상기 광원부(10) 방향으로 갈수록 상향 경사지도록 배치되고, 상기 하부측 구면미러(38)는 상기 상부측 구면미러(36)와 마주하는 하측 위치에서 상기 광원부(10) 방향으로 갈수록 하향 경사지도록 배치되며, 상기 한 쌍의 렌즈(20)는 각각의 광원부(10)의 빔(4)이 서로 마주하는 방향으로 투사되도록 각 광원부(10)의 전방에 배치되고, 상기 하부측 2차 반사미러(34)는 상기 하부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 상부측 구면미러(36) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되고, 상기 상부측 2차 반사미러(32)는 상기 상부렌즈(20)에서 투사되는 빔(4)이 조사되도록 배치됨과 동시에 상기 하부측 구면미러(38) 방향으로 빔(4)이 반사될 수 있도록 경사지게 배치되어, 상기 상부측 구면미러(36)에는 상기 하부측 2차 반사미러(34)에서 빔(4)이 반사되고, 상기 하부측 구면미러(38)에는 상기 상부측 2차 반사미러(32)에서 빔(4)이 반사되도록 구성된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조.According to claim 3, wherein the upper side spherical mirror 36 is disposed to be inclined upward toward the light source unit 10 from one side position of the light source unit 10, the lower side spherical mirror 38 is the upper side It is arranged to be inclined downward toward the light source unit 10 in the lower position facing the spherical mirror 36, the pair of lenses 20 is the direction in which the beam 4 of each light source unit 10 face each other It is disposed in front of each light source unit 10 so as to project the light, the lower secondary reflection mirror 34 is arranged so that the beam 4 projected from the lower lens 20 is irradiated and the upper spherical mirror ( The beam 4 is inclined so as to be reflected in the direction 36, and the upper secondary reflection mirror 32 is disposed so that the beam 4 projected from the upper lens 20 is irradiated and the lower side. Incline the beam 4 to be reflected toward the spherical mirror 38 The upper side spherical mirror 36 reflects the beam 4 from the lower side secondary reflecting mirror 34, and the lower side spherical mirror 38 reflects the upper secondary reflecting mirror 32. A double-sided simultaneous exposure light source structure, characterized in that the beam (4) is configured to reflect. 제 3 항에 있어서, 상기 광원부(10)는 램프 하우스(50)에 지지되어 설치되어 광원인 빔(4)을 방사하는 램프(12)와, 상기 램프(12)를 커버하는 반구형으로 이루어지며 상면은 개방된 반구형 반사미러(14)와, 상기 램프 하우스(50)에 지지되어 상기 램프(12)의 상부에 배치되며 상기 반구형 반사미러(14)에서 반사되는 빔(4)을 전방에 구비된 상기 렌즈(20)에 반사시키는 콜드미러(16)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조.According to claim 3, The light source unit 10 is supported by the lamp house 50 is installed in the lamp 12 to emit a beam (4) as a light source, and the hemispherical shape to cover the lamp 12, the upper surface Is provided with an open hemispherical reflecting mirror 14 and a beam 4 supported by the lamp house 50 and disposed above the lamp 12 and reflected from the hemispherical reflecting mirror 14. PCB double-sided simultaneous exposure machine light source structure, characterized in that it comprises a cold mirror (16) to reflect to the lens (20). 제 5 항에 있어서, 상기 렌즈(20)는 상기 램프 하우스(50)에 지지되어 상기 콜드미러(16)의 전방에 직립 배치되며, 상기 콜드미러(16)는 상기 렌즈(20) 방향을 향하여 상향 경사지도록 배치된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조.The method of claim 5, wherein the lens 20 is supported by the lamp house 50 is disposed upright in front of the cold mirror 16, the cold mirror 16 is upward toward the lens 20 direction A two-sided simultaneous exposure machine light source structure, characterized in that arranged to be inclined. 제 3 항에 있어서, 상기 광원부(10)를 구성하는 상기 램프(12)는 램프 하우스(50)에 설치된 치구(60)에 의해 지지되도록 구성되고, 상기 치구(60)는 서로 마주하는 면에 상기 램프(12)의 베이스(12a)가 수용되는 베이스 수용홈(68a)이 형성된 지지블록(64) 및 가압블록(66)과, 상기 가압블록(66)을 상기 지지블록(64) 방향으로 조여지도록 체결하는 고정구를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조.According to claim 3, wherein the lamp 12 constituting the light source unit 10 is configured to be supported by a jig 60 installed in the lamp house 50, the jig 60 is the surface facing each other said The support block 64 and the pressure block 66 with the base receiving groove 68a in which the base 12a of the lamp 12 is received, and the pressure block 66 are tightened in the direction of the support block 64. PCB double-sided simultaneous exposure machine light source structure characterized in that it comprises a fastener for fastening. 제 3 항에 있어서, 상기 렌즈(20)를 지지하는 렌즈지지대(28)에는 원형의 빔투사공(22)이 형성되고, 상기 렌즈(20)는 복수개의 사각형 개별렌즈가 상하 좌우 방향으로 배치되어 구성되며, 상기 개별렌즈는 사각형으로 배치된 내측 개별렌즈(24)와, 상기 내측 개별렌즈(24)의 네 외곽부에 부가된 외곽 개별렌즈(26)로 구성되어, 상기 렌즈(20)가 원형에 가까운 형상으로 구성된 것을 특징으로 하는 피씨비 양면 동시 노광기 광원 구조.The method of claim 3, wherein the lens support 28 for supporting the lens 20 is formed with a circular beam projection hole 22, the lens 20 is a plurality of rectangular individual lenses are arranged in the vertical direction The individual lens is composed of an inner individual lens 24 arranged in a quadrangle and an outer individual lens 26 attached to four outer portions of the inner individual lens 24, and the lens 20 is circular. A double-sided simultaneous exposure machine light source structure, characterized in that formed in a shape close to the.
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