KR100876161B1 - 질소산화물의 저감시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 저장조(1)에 저장보관된 환원제를 개질시켜 상기 연소장치(3) 또는 암모니아 주입설비(4; 이하 AIG)를 통해 촉매반응탑(5)으로 공급하여 연소에 의해 연소장치(3)에서 배출된 질소산화물을 저감하는 탈질시스템에 있어서,상기 저장조(1)에서 공급된 환원제를 고온의 가스상으로 변환 및 분해하여, 이 고온의 가스상 환원제를 상기 연소장치(3) 또는 AIG(4)에 분배공급하는 증발분해장치(2)와;상기 증발분해장치(2)로 일부 고온의 배출가스를 열원으로 공급할 수 있도록 하는 재순환공급팬(10);을 구비하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 저감시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 증발분해장치(2)는 개량공급모듈을 추가로 구비하여, 가스상 환원제를 연소장치(3) 또는 AIG(4)에 질소산화물의 발생량에 따라 선별적으로 공급하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 저감시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 재순환공급팬(10)은 AIG(4) 하류에 위치되어 고온의 폐온도가스를 증발분해장치로 공급할 수 있는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 저감시스템.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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- 2008-03-24 KR KR1020080026955A patent/KR100876161B1/ko active IP Right Grant
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