KR100864920B1 - Liquid Crystal Display Device - Google Patents

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KR100864920B1
KR100864920B1 KR20010088469A KR20010088469A KR100864920B1 KR 100864920 B1 KR100864920 B1 KR 100864920B1 KR 20010088469 A KR20010088469 A KR 20010088469A KR 20010088469 A KR20010088469 A KR 20010088469A KR 100864920 B1 KR100864920 B1 KR 100864920B1
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KR
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liquid crystal
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KR20010088469A
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Inventor
김성진
박귀복
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명은 제1기판 및 제2기판; The present invention includes a first substrate and a second substrate; 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; 상기 제1기판 상에 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인 및 데이터라인; Wherein the plurality of the gate line to define a pixel region are formed vertically and horizontally on the first substrate and the data lines; 상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 형성된 박막트랜지스터; Thin film transistors formed at the intersections of the gate lines and data lines; 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 화소영역에 형성된 화소전극; It is connected to the thin film transistor pixel electrodes formed in the pixel region; 상기 게이트라인, 데이터라인, 및 박막트랜지스터가 형성된 영역에 형성된 게이트절연막 및 보호막; A gate insulating film and a protective film formed on the area in which the gate lines, data lines, and thin film transistors formed thereon; 상기 제2기판 상에 형성된 공통전극; Wherein the common electrode formed on the second substrate; 및 상기 공통전극 위에, 상기 제1기판 및 제 2기판 사이의 간격만큼의 길이로 상기 화소영역, 및 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물을 포함하여 이루어진 액정표시소자를 제공한다. And a liquid crystal display device consisting of including dielectric structure formed so as to correspond to the region in which the length to overlap the pixel region, and the gate lines and data lines as much as the interval between on the common electrode, the first substrate and the second substrate to provide.
셀갭, 유전체돌기 Cell gap, dielectric protrusions

Description

액정표시소자{Liquid Crystal Display Device} A liquid crystal display element {Liquid Crystal Display Device}

도 1a는 종래의 액정표시소자의 단위화소의 평면도이다. Figure 1a is a plan view of a unit pixel of a conventional liquid crystal display device.

도 1b는 도 1a의 AA라인의 단면도이다. Figure 1b is a cross-sectional view of AA line in Fig 1a.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다. 2 is a plan view of a liquid crystal display element according to an embodiment of the present invention.

도 3a 내지 도 3c는 도 2의 BB라인의 일 실시예에 따른 단면도이다. Figures 3a-3c are cross-sectional views according to one embodiment of the line BB of Figure 2;

도 4a 및 도 4b, 및 도 5a 내지 도 5d는 본 발명에 따른 유전체 구조물의 형태를 보여주기 위한 평면도이다. Figures 4a and 4b, and Figures 5a through 5d is a plan view for showing the shape of the dielectric structure according to the present invention.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도이다. Figure 6a and Figure 6b is a cross-sectional view of a lower substrate for a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도이다. Figures 7a and 7b are cross-sectional views of the lower substrate for a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요부의 부호에 대한 설명> <Description of the numerals of the main part of the figure>

12, 120 : 게이트라인 14, 140 : 데이터라인 12, 120: Gate line 14, 140: Data line

16, 160 : 게이트절연막 18, 180 : 보호막 16, 160: gate insulating film 18, 180: protective layer

26, 260 : 소스 전극 28, 280 : 드레인 전극 26, 260: source electrode 28, 280: drain electrode

30, 300 : 화소전극 500a, 500 : 유전체구조물 30, 300: pixel electrode 500a, 500: dielectric structure

600 : 보조전극 310 : 전계유도창 600: auxiliary electrode 310: electric field inducing window

본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로 안정된 텍스처와 균일한 셀갭을 갖는 액정표시소자에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, to a liquid crystal display device having a cell gap which more specifically, uniform and stable texture.

일반적으로 액정표시소자는 소정간격을 두고 서로 대향되어 있는 하부기판과 상부기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성되어 있으며, 상기 양 기판 사이에 형성되는 전기장에 의해 액정층을 구동하고, 그 구동되는 액정층을 통해서 광투과도를 조절하여 화상을 표시하는 소자이다. And generally a liquid crystal display element is a liquid crystal layer formed between the left lower substrate and an upper substrate which are opposed to each other, and the two substrates to a predetermined distance, and drive the liquid crystal layer by an electric field formed between the two substrates, and the light transmission control through the driving device is a liquid crystal layer for displaying an image.

이와 같은 액정표시소자 중 수직배향(Vertical Alignment)모드 액정표시소자는 유전율 이방성이 음(-)인 네가티브형 액정을 이용하는데, 전압이 인가되지 않은 상태에서는 액정분자의 장축방향이 배향막 평면에 수직하게 배열되고, 전압이 인가되면 액정분자가 전계에 의해 비스듬하게 배향되는 성질을 이용하여 빛의 투과도를 조절함으로써 화상을 표시하는 것이다. In this liquid crystal display device vertically aligned (Vertical Alignment) mode liquid crystal display element of the same dielectric anisotropy is negative (-) in the state to use the negative type liquid crystal, that is not a voltage is applied to the major axis direction of liquid crystal molecules perpendicular to the alignment layer plane Once arranged, a voltage is applied by controlling the transmittance of light by using the property that liquid crystal molecules are obliquely aligned by an electric field to display an image.

한편, 상기 수직배향 모드 액정표시소자에 있어서, 광시야각 구현을 위해서는 전계인가시 액정분자가 다양한 방향으로 배향되도록 함으로써 시야각을 보상할 필요가 있다. In the meantime, the vertical alignment mode liquid crystal display element, the liquid crystal molecules when an electric field is applied in order to implement a wide viewing angle is required to compensate for viewing angles by making the orientation in various directions.

이와 같이 액정분자를 다양한 방향으로 배향시키는 방법으로서, 기판상에 유전체돌기(Rib)를 형성하여 액정층에 인가되는 전기장을 왜곡시킴으로써 액정분자의 방향자를 원하는 방향으로 위치시키는 방법이 제안되었는데, 이하, 도면을 참조로 설명한다. Thus, a method of orienting the liquid crystal molecules in various directions, thereby to form a dielectric protrusion (Rib) on a substrate distortion of an electric field applied to the liquid crystal layer was proposed a method of where to cut direction of the liquid crystal molecules in a desired direction, or less, It will be described with reference to the drawings.

도 1a는 종래의 액정표시소자의 단위화소의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 AA라인의 단면도이다. Figure 1a is a plan view of a unit pixel of a conventional liquid crystal display device, Fig. 1b is a cross-sectional view of AA line in Fig 1a.

도 1a 및 도 1b와 같이, 우선 제1기판(10) 상에는 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인(12)과 데이터라인(14)이 형성되어 있다. As shown in Figure 1a and Figure 1b, the first substrate has first plurality of gate lines 12 and data lines 14 that define a 10 pixel region are formed vertically and horizontally formed on are formed. 그리고, 상기 게이트라인(12)과 데이터라인(14)의 교차점에는 게이트 전극(22), 게이트 절연막(16), 반도체층(24), 오믹콘택층, 소스/드레인 전극(26, 28), 및 보호막(18)으로 구성된 박막트랜지스터(20)가 형성되어 있고, 상기 드레인 전극(28)과 전기적으로 연결되는 화소전극(30)이 상기 화소영역에 형성되어 있다. In addition, the gate line 12 and data line 14 crossing the gate electrode 22, gate insulating film 16, semiconductor layer 24, the ohmic contact layer, source / drain electrodes (26, 28) of, and and a thin film transistor 20 consisting of a protective film 18 is formed, and the drain electrode 28 and the pixel electrode 30 is electrically connected to this are formed in the pixel region.

제2기판(40) 상에는 상기 게이트라인(12), 데이터라인(14), 및 박막트랜지스터(20)에서 누설되는 빛을 차단하는 차광층(42)이 형성되어 있고, 상기 차광층(42) 상에 컬러필터층(44)이 형성되어 있으며, 그 위에 공통전극(46)이 형성되어 있다. The second substrate 40 and the gate line 12 formed on the data line 14, and the light-shielding layer 42 for shielding the light leaking from the thin film transistor 20 is formed, the light-shielding layer 42, a the color filter layer 44 is formed on, and has the common electrode 46 is formed on. 그리고, 상기 공통전극(46) 상에는 전계를 왜곡시키는 유전체돌기(48)가 형성되어 있다. And, the dielectric protrusions 48 to distort the electric field formed on the common electrode 46 is formed.

또한, 상기 제1기판(10) 및 제2기판(40) 사이에는 양 기판 사이의 간격, 즉 셀갭(cell gap)을 일정하게 유지하기 위한 스페이서(50)가 형성되어 있다. In addition, the first substrate 10 and the second, the interval between the substrates between the substrate 40, i.e., the cell gap (cell gap) of a spacer 50 for maintaining a constant is formed. 이는 통상 볼 스페이서라 칭해지는 것으로서, 액정표시소자 제조시 제1기판(10) 상에 스페이서(50)를 용매에 혼합시켜 산포하는 방법에 의해 형성되거나(습식산포방법), 또는 제1기판 주위를 접지상태로 유지하고 스페이서를 대전시켜 산포하는 방법에 의해 형성된다(건식산포방법). This as referred la conventional ball spacer, a liquid crystal display device produced when the first substrate 10 a to be formed by a method of scattering by mixing the spacer 50 in a solvent (wet dispersion method), or the first around the first substrate is maintained in the grounded state is formed by a method of dispensing charged by a spacer (dry dispersion method).

그러나, 상기 구조의 액정표시소자는 전계인가시 상기 공통전극(46) 상에 형성된 유전체돌기(48) 뿐 아니라, 스페이서(50) 주변으로도 전계가 왜곡되게 된다. However, the liquid crystal display device of the structure as well as the electric field is applied when the dielectric protrusion 48 formed on the common electrode 46, it is to be also an electric field distortion around the spacer 50. 결국, 유전체돌기(48)와 스페이서(50) 사이에서 전경선이 발생될 수 있게 되는 등, 텍스쳐(texture)가 불안정하게 되는 문제가 있다. After all, there is the problem that the texture (texture) that is unstable, such as being able to be jeongyeongseon occurs between the dielectric protrusion 48 and the spacer 50.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명은 셀갭유지를 위한 스페이서를 별도로 형성시키지 않고 공통전극 상에 형성되는 유전체돌기를 스페이서로 이용함으로써, 안정적인 텍스쳐를 갖는 액정표시소자를 제공함을 목적으로 한다. The present invention has been made in view of the above problem, the present invention provides a liquid crystal display device having the advantage of the dielectric protrusion formed on the common electrode, without forming a spacer for a cell gap maintained separately as a spacer, stable texture for the purpose of providing do.

또한, 본 발명은 양 기판 사이의 셀갭 제어가 용이하고 균일한 셀갭을 유지할 수 있는 액정표시소자를 제공함을 목적으로 한다. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which can maintain a cell gap which is easy to control the cell gap between the substrates uniform.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 제1기판 및 제2기판; The invention In order to achieve the above object, a first substrate and a second substrate; 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; 상기 제1기판 상에 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인 및 데이터라인; Wherein the plurality of the gate line to define a pixel region are formed vertically and horizontally on the first substrate and the data lines; 상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 형성된 박막트랜지스터; Thin film transistors formed at the intersections of the gate lines and data lines; 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 화소영역에 형성된 화소전극; It is connected to the thin film transistor pixel electrodes formed in the pixel region; 상기 게이트라인, 데이터라인, 및 박막트랜지스터가 형성된 영역에 형성된 게이트절연막 및 보호막; A gate insulating film and a protective film formed on the area in which the gate lines, data lines, and thin film transistors formed thereon; 상기 제2기판 상에 형성된 공통전극; Wherein the common electrode formed on the second substrate; 및 상기 공통전극 위에, 상기 제1기판 및 제 2기판 사이의 간격만큼의 길이로 상기 화소영역, 및 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물을 포함하여 이루어진 액정표시소자를 제공한다. And a liquid crystal display device consisting of including dielectric structure formed so as to correspond to the region in which the length to overlap the pixel region, and the gate lines and data lines as much as the interval between on the common electrode, the first substrate and the second substrate to provide.

즉, 본 발명에 따른 액정표시소자는 전계를 왜곡시켜 멀티도메인 효과를 구현하기 위해서 공통전극 상에 형성되는 유전체구조물을 제1기판 및 제2기판 사이의 간격, 즉 셀갭의 길이로 형성시킴으로써, 유전체구조물을 스페이서의 역할도 겸용하게 한 것이다. That is, the liquid crystal display device according to the present invention, the interval between the common electrode onto the dielectric structure formed on a first substrate and a second substrate in order to implement the multi-domain effect distorts the electric field, that is, by forming the length of the cell gap, the dielectric It will allow the structure to combine the role of spacer.

보다 구체적으로 설명하면, 유전체구조물은 화소영역 및 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성되어, 화소영역에 형성된 유전체구조물은 전계인가시 전기장을 왜곡시키는 작용을 하고, 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성된 유전체구조물은 양 기판 사이의 간격을 유지하는 역할을 하게 된다. More specifically, the dielectric structure is a pixel region and is formed on the gate lines and the area in which the data line is overlapped, the dielectric structure formed on the pixel region and act to distort when the electric field is an electric field, the gate lines and data lines are overlapped dielectric structure formed on the region which is responsible for maintaining the spacing between the substrates.

한편, 유전체구조물이 셀갭의 길이로 형성될 경우, 제1기판과 제2기판을 합착한 후, 액정을 주입하는 공정이나 액정적하후 합착하는 공정에서 유전체구조물로 인하여 액정주입이 원활히 이루어지지 않을 수 있게 되므로, 이 점을 감안하여 소정의 화소영역에는 게이트절연막 및/또는 보호막을 형성시키지 않음으로써, 액정이 원활히 이동할 수 있는 공간을 부여한 것이다. On the other hand, the dielectric structure in this case be formed of a length of the cell gap, a liquid crystal injection because in the step of cementation the subsequent step or the liquid crystal drop to, injecting liquid crystal and then laminating the first substrate and the second substrate of a dielectric structure may not be smoothly performed by so because, in view of this point it does not include a gate insulating film and / or protective film of a predetermined pixel region, assigned to the area with the liquid crystal can smoothly move.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. It will be described below, the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings in detail.

제 1실시예 First Embodiment

도 2는 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이고, 도 3a 내지 도 3c는 도 2의 BB라인의 일 실시예에 따른 단면도이다. 2 is a cross-sectional view according to an embodiment of the BB line of the liquid crystal display is a plan view of the device, Fig 3a to 3c are also in accordance with a first embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3a 내지 도 3c와 같이, 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정표시소자는 우선, 소정 간격을 두고 대향되도록 제1기판(100) 및 제2기판(400)이 배치되 어 있다. As shown in Figures 2 and 3a to 3c, the liquid crystal display element according to a first embodiment of the present invention, first, a first substrate 100 and second substrate 400, the control being arranged so as to be opposed with a predetermined interval .

그리고, 상기 제1기판(100) 상에는 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인(120) 및 데이터라인(140)이 형성되어 있고, 상기 게이트라인(120) 및 데이터라인(140)의 교차점에는, 게이트전극(220), 게이트절연막(160), 반도체층(240), 오믹콘택층(미도시), 소스 및 드레인 전극(260, 280), 및 보호막(180)이 순서대로 적층되어 구성된 박막트랜지스터(200)가 형성되어 있다. Then, the first substrate 100 are formed in rows and columns formed on the plurality of the gate line to define a pixel area 120 and the data line 140, and is formed on the gate line 120 and data line 140 junction, the gate electrode 220, gate insulating film 160, a semiconductor layer 240, an ohmic contact layer (not shown), source and drain electrodes (260, 280), and a protective film 180 are laminated in order is configured It is formed with a thin film transistor 200.

그리고, 상기 박막트랜지스터(200)의 드레인 전극(280)과 연결되며 상기 화소영역에 화소전극(300)이 형성되어 있다. And, connected to the drain electrode 280 of the TFT 200 and a pixel electrode 300 it is formed on the pixel region.

이때, 상기 게이트절연막(160)과 보호막(180)은 도 3a와 같이 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역에만 형성되고, 그 이외의 영역('가'영역)에는 형성되지 않을 수 있다. In this case, the gate insulating film 160 and protective film 180 are formed only in the region of the gate line 120, data line 140, and the thin film transistor 200 is formed as shown in Figure 3a, the other region ( ' that may not be formed, the "area).

또한, 도 3b와 같이 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역에는 상기 게이트절연막(160)과 보호막(180)이 형성되고, 그 이외의 영역에는 상기 게이트절연막(160)만이 형성될 수도 있고, 도 3c와 같이 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역에는 상기 게이트절연막(160)과 보호막(180)이 형성되고, 그 이외의 영역에는 상기 보호막(180)만이 형성될 수도 있다. In addition, as shown in FIG. 3b and the gate line 120, data line 140, and the thin film transistor 200 area, the gate insulating film 160 and protective film 180 is formed is formed in a region other than the a gate insulating film 160 may only be formed, and the gate line 120, data line 140, and the thin film transistor 200 area, the gate insulating film 160 and protective film 180 formed as shown in Figure 3c is It is formed, and a region other than that may be formed, only the protective film 180.

이와 같이, 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역 이외의 영역('가'영역)에는 상기 게이트절연막(160) 및/또는 보호막(180)이 형성되지 않으므로, 그 영역에 형성되는 화소전극(300)은 함몰된 구조를 이루어, 액정주입시 액정의 이동이 보다 원활하게 되어, 액정이 어느 특정영역에 과분포하지 않고 균일하게 분포됨으로써 셀갭이 기판 전체에서 안정되게 유지되게 된다. In this way, the gate lines 120, data lines 140, and TFTs 200 are regions ( "a" region) has the gate insulating film 160 and / or the protective film 180 other than the regions formed is formed not so, the pixel electrode 300 formed on the area is as done in the recessed structure, the more smoothly the liquid crystal movement at the time of injecting liquid crystals, whereby the liquid crystal is not distributed as in any specific area, uniformly distributed overall cell gap of the substrate stably in it is maintained.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 게이트절연막(160) 및/또는 보호막(180)을 다른 영역보다 '가' 영역에서 얇게 형성시키는 것도 가능하다. In the drawings, it is also possible to form although not shown, a gate insulating film 160 and / or 'a' thin in the area of ​​the protective film (180) than the other region.

이와 같은 게이트 절연막(120)과 보호막은 BCB(BenzoCycloButene), 아크릴수지(acrylic resin)등의 유기절연막이나, SiNx, 또는 SiOx등의 무기절연막으로 형성될 수 있는데, 고개구율을 위해 상기 화소전극(300)을 상기 데이터라인(140)과 겹치도록 형성하는 경우는 양자(300, 140) 사이의 전기적 간섭을 배제하기 위해서 BCB 등의 유기절연막을 형성시키는 것이 바람직하다. Such a gate insulating film 120 and the protective layer is BCB (BenzoCycloButene), acrylic resins (acrylic resin), an organic insulating film or, SiNx, or may be formed of an inorganic insulating film such as SiOx, wherein the pixel electrodes (300 for high numerical aperture, such as ) for the case of forming so as to overlap with the data line 140, it is preferable to form an organic insulating film such as BCB to eliminate the electric interference between the two (300, 140).

또한, 상기 화소전극(300)은 ITO(indium tin oxide), 또는 IZO(indium zinc oxide)로 이루어지는 것이 바람직하다. Further, the pixel electrode 300 is preferably made of ITO (indium tin oxide), or IZO (indium zinc oxide).

그리고, 상기 제2기판(400) 상에는 차광층(420), 컬러필터층(440), 공통전극(460)이 순서대로 형성되며, 상기 컬러필터층(440)을 보호하고 기판 평탄화를 위해서 컬러필터층(440)과 공통전극(460) 사이에 오버코트층이 추가로 형성될 수도 있다. And, the second substrate, the color filter layer (440 for 400 formed on the light blocking layer 420, a color filter layer 440, a common electrode 460 are formed in order, protect and substrate planarizing the color filter layer 440 and the common electrode may be formed by adding an overcoat layer between the 460).

그리고, 상기 공통전극(460) 위에는 유전체 구조물(500a, 500)이 형성되어 있다. And, a dielectric structure (500a, 500) is formed on the common electrode 460.

이때, 상기 유전체 구조물(500a, 500)은 상기 제1기판(100) 및 제 2기판(400) 사이의 간격(Δx)만큼의 길이로 형성되게 되는데, 상기 화소영역에 형 성될 뿐 아니라(도면부호 500), 상기 게이트라인(120)과 데이터라인(140)이 중첩되는 영역에도 형성된다(도면부호 500a). In this case, the dielectric structure (500a, 500) is the first substrate 100 and second there is to be formed at the length at which distance (Δx) between the substrate 400, as well as the type to be generated in the pixel region (reference numeral 500), the gate line (which is also formed in the region 120) and the data line 140 are overlapped (reference numeral 500a).

따라서, 화소영역에 형성된 유전체 구조물(500)은 전계를 왜곡시켜 멀티도메인 효과를 구현하게 되고, 게이트라인(120)과 데이터라인(140)이 중첩되는 영역에 형성된 유전체 구조물(500a)은 셀갭을 유지하는 역할을 한다. Thus, the dielectric structure 500 formed on the pixel area is to distort the electric field, and to implement the multi-domain effect, the gate lines 120 and data lines, a dielectric structure (500a) formed in the region 140 is superimposed maintains the cell gap It serves to.

이와 같이 셀갭을 유지하는 역할을 하는 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성된 유전체 구조물(500a)은 반드시 하나의 화소당 형성될 필요는 없으나 적어도 4개의 화소당 하나씩은 형성되는 것이 셀갭 유지를 위해 바람직하다. Thus a is the cell gap maintaining dielectric structure (500a) formed on the gate lines and the area in which the data line is overlapped, which serves to maintain the cell gap is, but is not necessarily one formed per pixel, one for at least four pixels are to be formed for preferred.

따라서, 상기 유전체 구조물(500a)에 의해 셀갭의 제어가 용이하게 되며, 4개의 화소당 하나씩 형성하면 충분하므로 그 밀도제어도 용이하게 된다. Therefore, it is to control the cell gap by the dielectric structure (500a) easily, if formed of four one-pixel-per-sufficient, so it is easy also the density control.

또한, 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성된 유전체 구조물(500a)과 상기 화소영역에 형성된 유전체 구조물(500)은 도 4a와 같이 서로 연결되도록 형성될 수도 있고, 도 4b와 같이 연결되지 않도록 형성될 수도 있다. In addition, the dielectric structure 500 formed on the gate line and the dielectric structure (500a) formed in the region in which the data line is overlapped with the pixel region may be formed to be connected to each other as shown in Figure 4a, from being connected as shown in Figure 4b It may be formed.

또한, 상기 유전체 구조물(500a, 500)은 도 5a 내지 도 5d와 같이 다양한 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 소정의 도메인의 수에 따라 변경하여 형성될 수 있다. In addition, the dielectric structure (500a, 500) may be formed in various forms as shown in Figure 5a to 5d, it is not limited thereto, and may be formed by changing, depending on the number of the predetermined domain.

이와 같은 유전체 구조물(500a, 500)은 그 유전율이 액정의 유전율과 동일하거나 작은 것이 좋은데, 바람직하게는 3이하이다. The dielectric structure (500a, 500) such that the dielectric constant is good is equal to or smaller as the dielectric constant of the liquid crystal, and is preferably 3 or less. 또한 유전체 구조물(500a, 500)은 감광성물질로 이루어진 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 아크릴수지(photoacrylate), 또는 BCB (BenzoCycloButene)로 이루어진 것이다. In addition, the dielectric structure (500a, 500) is preferably made of a photosensitive material, is made of a more preferably an acrylic resin (photoacrylate), or BCB (BenzoCycloButene).

그리고, 제1기판(100)과 제2기판(400) 사이에는 액정층(미도시)이 형성되게 되는데, 이는 VA(Vertical Alignment) 액정에 카이랄 도펀트가 포함되어 형성되는 것이 바람직하다. And, there is between the first substrate 100 and second substrate 400 has to be a liquid crystal layer (not shown) formed, which is preferably formed contains a chiral dopant to the liquid crystal VA (Vertical Alignment).

또한, 도면에는 도시되어 있지 않으나, 상기 제1기판(100) 및 제2기판(400) 중 적어도 하나의 기판 전면에 배향막이 형성될 수 있다. In the drawings, may be, but not shown, an alignment film formed on at least one substrate surface of the first substrate 100 and second substrate 400.

상기 배향막은 폴리아미드(polyamide) 또는 폴리이미드(polyimide)계 화합물, PVA(polyvinylalcohol), 폴리아믹산(polyamic acid)등의 물질을 이용하여 러빙 배향 처리되어 형성될 수도 있고, 배향 처리되지 않고 형성될 수도 있다. The alignment layer is a polyamide (polyamide), or polyimide (polyimide) based compound, PVA (polyvinylalcohol), polyamic acid (polyamic acid) may be formed and processed alignment rubbing by using a material such as, it may be formed without the alignment treatment have.

또한, PVCN(polyvinylcinnamate), PSCN(polysiloxanecinnamate), 또는 CelCN(cellulosecinnamate)계 화합물과 같은 광반응성 물질을 이용하여 광 배향 처리되어 형성될 수도 있고, 배향 처리되지 않고 형성될 수도 있다. Further, it may be formed PVCN (polyvinylcinnamate), PSCN (polysiloxanecinnamate), or CelCN and (cellulosecinnamate) compound and may be processed photo-alignment formed by using a photo reactive material, such as, without the alignment treatment. 상기 광 배향 처리는 적어도 1회의 광조사에 의해 프리틸트각(pretilt angle), 및 배향방향(alignment direction)을 동시에 결정하며, 이때 광조사는 자외선 영역의 광을 사용하는 것이 바람직한데, 무편광, 비편광, 선편광, 및 부분편광된 광 중 어느 것을 사용하여도 무방하다. The photo alignment treatment to determine the pre-tilt angle (pretilt angle), and the alignment direction (alignment direction) by means of at least one time of irradiation with light at the same time, and wherein the light irradiation it is preferred to use the light in the ultraviolet region, non-polarized light, non-polarized light, it is also mubang using the linear polarization, and any part of the polarized light.

또한, 상기 제1기판(100) 및 제2기판(400) 중 적어도 하나의 기판의 외면에 위상차필름이 형성될 수 있다. Further, the second retardation film may be formed on the outer surface of at least one substrate of the first substrate 100 and second substrate 400. 상기 위상차필름은 기판에 수직인 방향과 시야각 변화에 따른 방향에서 시야각을 보상하여 계조반전(gray inversion)이 없는 영역을 넓히고, 경사방향에서 콘트라스트비를 높이는 역할을 하는 것으로, 광축이 하나인 음성일축성 필름(negative uniaxial film), 또는 광축이 둘인 음성이축성 필름(negative biaxial film)으로 형성될 수 있으나, 음성이축성 필름이 광시야각 면에서 보다 바람직하다. The retardation film for compensating the viewing angle in the direction along the perpendicular direction and the viewing angle change in the substrate to expand the region where the gray-scale inversion (gray inversion), that act to increase the contrast ratio in the oblique direction, the negative one optical axis is one uniaxial film (negative uniaxial film), or the optical axis, but this can be bifocal voice is formed by layering the film (negative biaxial film), the voice is the uniaxial film is more preferable in terms of a wide viewing angle.

상기 위상차필름을 편광자와 일체로 형성할 수도 있다. It may form the polarizer and the retardation film as one body.

제 2실시예 Second Embodiment

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도로서, 이는 도 2의 BB 라인에 대응하는 것이다. Also a cross-sectional view of a lower substrate for a liquid crystal display device according to the embodiment. 6a and Figure 6b is a second agent of the present invention, which is to correspond to the second line of the BB.

도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시소자는 하부기판(100) 상에서, 화소전극(300)을 둘러싸도록 상기 화소전극(300)과 다른 층에 보조전극(600)이 형성된 것을 제외하고, 상부기판의 구조 등은 전술한 제 1실시예와 동일하다. As shown in Figure 6a and Figure 6b, the liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention device it is secondary to the pixel electrode 300 and the other layers so as to surround the pixel electrode 300 on the lower substrate 100 and the structure of the upper substrate, and the like are the same as in the first embodiment described above except that the electrode 600 is formed. 따라서, 상부기판은 도시하지 않았으며, 동일한 도면부호를 부여하였다. Thus, the upper substrate have not shown, assigned the same reference numerals.

이와 같은 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시소자는 보조전극(600)을 화소전극(300) 둘레에 형성시킴으로써, 그 영역에서 전계왜곡을 강화하여 액정을 보다 안정적으로 구동시키는 것이다. In this liquid crystal display element according to such a second embodiment of the present invention is to, by forming the auxiliary electrode 600 to the peripheral pixel electrode 300, to enhance the electric field drives the liquid crystal distortion more stable in that region.

이때, 상기 보조전극(600)은 도면에는 게이트라인(120)과 동일층에만 형성되어 있으나, 데이터라인(140)과 동일층에 형성되는 것도 가능하다. At this time, the auxiliary electrode 600 is formed only in the drawing but is the same as the gate line (120) layer, may be formed on the data line 140 and the same layer. 또한, 도면에는 '가' 영역에 게이트절연막(160)이나(도 6a), 보호막(180)(도 6b)이 형성된 구조만 도시되어 있으나, 도 3a와 같이 양자 모두 형성되지 않은 경우도 가능할 것이다. Further, the drawing would be possible in some cases "a", but the area gate insulating film 160, and (Fig. 6a), a protective film 180 (Fig. 6b) is shown only a structure formed, is not formed both as shown in FIG. 3a.

또한, 상기 보조전극(600)은 상기 화소전극(300)과 소정부분 오버랩되도록 형성될 수도 있고, 오버랩되지 않도록 형성될 수도 있다. Further, the auxiliary electrode 600 may be formed to overlap the pixel electrode 300 and the predetermined portion may be formed do not overlap.

이와 같은 보조전극(600)은 상기 제2기판(400)의 공통전극(460)과 연결되는 것으로, ITO(indium tin oxide), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu, 또는 Al 합금으로 형성될 수 있다. Formed in this auxiliary electrode 600 is a common electrode to be connected to the (460), ITO (indium tin oxide), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu, or Al alloy of the second substrate 400, such as It can be.

제 3실시예 Third Embodiment

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 3실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도로서, 이는 도 2의 BB 라인에 대응하는 것이다. A cross-sectional view of a lower substrate for a liquid crystal display element according to the third embodiment of Figures 7a and 7b present invention, which is to correspond to the second line of the BB.

도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3실시예에 따른 액정표시소자는 화소전극(300) 내부에 전계유도창(310)을 형성시키고, 그에 대응하는 영역에 보조전극(600)을 추가로 형성시킨 것을 제외하고, 전술한 제 2실시예와 동일하다. 7a and as shown in Figure 7b, the liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, the pixel electrode 300 to form an induced electric field inside the window 310, the auxiliary electrode (600 in the region corresponding thereto ) and is the same as the aforementioned second embodiment except for forming further. 따라서, 동일한 도면부호를 부여하였다. Thus, it assigned the same reference numerals.

한편, 보조전극(600)은 형성하지 않고, 전계유도창(310)만을 형성시키는 것도 가능하다. On the other hand, the auxiliary electrode 600 is not formed, it is also possible to form only the electric field induced window 310.

이와 같은, 화소전극(300) 내부에 형성되는 전계유도창(310), 또는 보조전극(600)은 당업자가 용이하게 변경하여 형성할 수 있을 것이다. This, electric field induced window formed inside the pixel electrodes 300, 310, or the auxiliary electrode 600 will be formed by those skilled in the art easily changed.

상기 구성에 의한 본 발명에 따른 액정표시소자는 공통전극 상에 형성되는 유전체돌기를 스페이서로 이용함으로써 안정적인 텍스쳐를 확보할 수 있다. A liquid crystal display element according to the invention by the configuration, it is possible to ensure a stable texture by using the dielectric protrusion formed on the common electrode by the spacers.

또한, 하나의 공정에 의해 전계왜곡효과와 셀갭유지효과를 동시에 구현할 수 있어, 제조공정이 단축되는 효과가 있다. In addition, it is possible to implement the electric field distortion effects and cell gap holding effect by a single step at the same time, there is an effect that the manufacturing process shortened.

또한, 유전체돌기의 밀도제어가 가능하여 셀갭의 제어가 용이하고, 기판 전체에 균일한 셀갭 유지가 가능하다. In addition, the density can be controlled by the projection of the dielectric of the cell gap and is easy to control, it is possible to maintain a uniform cell gap throughout the substrate.

Claims (13)

  1. 제1기판 및 제2기판; A first substrate and a second substrate;
    상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate;
    상기 제1기판 상에 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인 및 데이터라인; Wherein the plurality of the gate line to define a pixel region are formed vertically and horizontally on the first substrate and the data lines;
    상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 형성된 박막트랜지스터; Thin film transistors formed at the intersections of the gate lines and data lines;
    상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 화소영역에 형성된 화소전극; It is connected to the thin film transistor pixel electrodes formed in the pixel region;
    상기 게이트라인, 데이터라인, 및 박막트랜지스터가 형성된 영역에 형성된 게이트절연막 및 보호막; A gate insulating film and a protective film formed on the area in which the gate lines, data lines, and thin film transistors formed thereon;
    상기 제2기판 상에 형성된 공통전극; Wherein the common electrode formed on the second substrate; And
    상기 공통전극 위에, 상기 제1기판 및 제 2기판 사이의 간격만큼의 길이로 상기 화소영역, 및 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물을 포함하고, 상기 게이트 라인, 데이터 라인 및 박막 트랜지스터가 형성된 영역 이외의 영역은 상기 게이트 절연막 및 보호막의 비형성영역인 것을 포함하는 액정표시소자. Said common electrode on the first substrate and the second at the length at which the spacing between the substrate and includes a dielectric structure formed so as to correspond to the pixel region, and the gate lines and the area in which the data line is overlapped, the gate line, a data a region other than the lines and the thin film transistor formed region is the liquid crystal display element which comprises a non-forming region of the gate insulating film and a protective film.
  2. 삭제 delete
  3. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 화소전극을 둘러싸도록 상기 화소전극과 다른 층에 보조전극이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. A liquid crystal display element, characterized in that on the pixel electrode and the other layer to surround the pixel electrode auxiliary electrode is formed.
  4. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 화소전극 내부에 전계유도창이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. A liquid crystal display element, characterized in that the window formed in the electric field induced within the pixel electrode.
  5. 제 4항에 있어서, 5. The method of claim 4,
    상기 화소전극과 다른층에 형성되며, 상기 화소전극을 둘러싸고, 상기 전계유도창에 대응되는 영역에 보조전극이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. Is formed on the pixel electrode and the other layer, surrounding the pixel electrode, a liquid crystal display element, it characterized in that the auxiliary electrode is formed in a region corresponding to the electric field induced window.
  6. 제 3항 또는 제 5항에 있어서, 4. The method of claim 3 or 5,
    상기 보조전극은 게이트라인, 또는 데이터라인과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. A liquid crystal display element, characterized in that the auxiliary electrode is formed in the same manner as the gate line or the data line layer.
  7. 제 3항 또는 제 5항에 있어서, 4. The method of claim 3 or 5,
    상기 보조전극은 ITO(indium tin oxide), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu 또는 Al 합금으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자. The auxiliary electrode is a liquid crystal display element, characterized in that consisting of one selected from the group consisting of ITO (indium tin oxide), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu, or Al alloy.
  8. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물과 상기 화소영역에 형성된 유전체 구조물은 서로 연결된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. The liquid crystal display device of the dielectric structure and wherein the dielectric structure formed on the pixel region are connected to each other are formed to correspond to the gate lines and the area in which the data line is overlapped.
  9. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물과 상기 화소영역에 형성된 유전체 구조물은 서로 연결되지 않은 것을 특징으로 하는 액정표시소자. A liquid crystal display element, characterized in that the gate line and the data line dielectric structure formed on the dielectric structure and the pixel region is formed so as to correspond to a region where the overlap is not connected to each other.
  10. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 액정층의 액정은 VA(Vertical Alignment) 액정에 카이랄 도펀트가 포함되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자. A liquid crystal display element, characterized in that the liquid crystal of the liquid crystal layer is formed contains a chiral dopant to the liquid crystal (Vertical Alignment) VA.
  11. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 제1기판 및 제2기판 중 적어도 하나의 기판에 배향막이 형성되어 있으며, 상기 배향막은 배향처리되거나 또는 배향처리되지 않은 것을 특징으로 하는 액정표시소자. A liquid crystal display element, characterized in that the first and the alignment film is formed on at least one substrate of the first substrate and the second substrate, the alignment film is not subjected to the alignment treatment processing or orientation.
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