KR100864920B1 - Liquid Crystal Display Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; 상기 제1기판 상에 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인 및 데이터라인; 상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 형성된 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 화소영역에 형성된 화소전극; 상기 게이트라인, 데이터라인, 및 박막트랜지스터가 형성된 영역에 형성된 게이트절연막 및 보호막; 상기 제2기판 상에 형성된 공통전극; 및 상기 공통전극 위에, 상기 제1기판 및 제 2기판 사이의 간격만큼의 길이로 상기 화소영역, 및 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물을 포함하여 이루어진 액정표시소자를 제공한다.The present invention is a first substrate and a second substrate; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; A plurality of gate lines and data lines formed vertically and horizontally on the first substrate to define pixel regions; A thin film transistor formed at an intersection point of the gate line and the data line; A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel area; A gate insulating film and a protective film formed in an area where the gate line, data line, and thin film transistor are formed; A common electrode formed on the second substrate; And a dielectric structure formed on the common electrode to correspond to the pixel region and the region where the gate line and the data line overlap with each other by a length equal to the distance between the first substrate and the second substrate. to provide.

셀갭, 유전체돌기 Cell gap, dielectric protrusion

Description

액정표시소자{Liquid Crystal Display Device}Liquid Crystal Display Device

도 1a는 종래의 액정표시소자의 단위화소의 평면도이다.1A is a plan view of a unit pixel of a conventional liquid crystal display device.

도 1b는 도 1a의 A-A라인의 단면도이다.FIG. 1B is a cross-sectional view of the A-A line of FIG. 1A.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.2 is a plan view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3a 내지 도 3c는 도 2의 B-B라인의 일 실시예에 따른 단면도이다. 3A to 3C are cross-sectional views according to an embodiment of the B-B line of FIG. 2.

도 4a 및 도 4b, 및 도 5a 내지 도 5d는 본 발명에 따른 유전체 구조물의 형태를 보여주기 위한 평면도이다.4A and 4B and 5A to 5D are plan views illustrating the shape of the dielectric structure according to the present invention.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도이다. 6A and 6B are cross-sectional views of a lower substrate for a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도이다. 7A and 7B are cross-sectional views of a lower substrate for a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부의 부호에 대한 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawing>

12, 120 : 게이트라인 14, 140 : 데이터라인12, 120: gate line 14, 140: data line

16, 160 : 게이트절연막 18, 180 : 보호막16, 160: gate insulating film 18, 180: protective film

26, 260 : 소스 전극 28, 280 : 드레인 전극26, 260: source electrode 28, 280: drain electrode

30, 300 : 화소전극 500a, 500 : 유전체구조물30, 300: pixel electrode 500a, 500: dielectric structure

600 : 보조전극 310 : 전계유도창600: auxiliary electrode 310: electric field induction window

본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로 안정된 텍스처와 균일한 셀갭을 갖는 액정표시소자에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a stable texture and a uniform cell gap.

일반적으로 액정표시소자는 소정간격을 두고 서로 대향되어 있는 하부기판과 상부기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성되어 있으며, 상기 양 기판 사이에 형성되는 전기장에 의해 액정층을 구동하고, 그 구동되는 액정층을 통해서 광투과도를 조절하여 화상을 표시하는 소자이다. In general, the liquid crystal display device includes a lower substrate and an upper substrate facing each other at a predetermined interval, and a liquid crystal layer formed between the two substrates, and drives the liquid crystal layer by an electric field formed between the two substrates. It is an element which displays an image by adjusting the light transmittance through the driven liquid crystal layer.

이와 같은 액정표시소자 중 수직배향(Vertical Alignment)모드 액정표시소자는 유전율 이방성이 음(-)인 네가티브형 액정을 이용하는데, 전압이 인가되지 않은 상태에서는 액정분자의 장축방향이 배향막 평면에 수직하게 배열되고, 전압이 인가되면 액정분자가 전계에 의해 비스듬하게 배향되는 성질을 이용하여 빛의 투과도를 조절함으로써 화상을 표시하는 것이다. Among the liquid crystal display devices, the vertical alignment mode liquid crystal display device uses a negative liquid crystal having a negative dielectric anisotropy. When no voltage is applied, the long axis direction of the liquid crystal molecules is perpendicular to the alignment layer plane. When the voltage is applied, the liquid crystal molecules are displayed at an angle by controlling the transmittance of light using the property of being oriented obliquely by the electric field.

한편, 상기 수직배향 모드 액정표시소자에 있어서, 광시야각 구현을 위해서는 전계인가시 액정분자가 다양한 방향으로 배향되도록 함으로써 시야각을 보상할 필요가 있다. Meanwhile, in the vertical alignment mode liquid crystal display device, in order to implement a wide viewing angle, it is necessary to compensate the viewing angle by aligning the liquid crystal molecules in various directions when an electric field is applied.

이와 같이 액정분자를 다양한 방향으로 배향시키는 방법으로서, 기판상에 유전체돌기(Rib)를 형성하여 액정층에 인가되는 전기장을 왜곡시킴으로써 액정분자의 방향자를 원하는 방향으로 위치시키는 방법이 제안되었는데, 이하, 도면을 참조로 설명한다.As a method of aligning the liquid crystal molecules in various directions as described above, a method of positioning the directors of the liquid crystal molecules in a desired direction by forming a dielectric protrusion (Rib) on the substrate and distorting the electric field applied to the liquid crystal layer has been proposed. It demonstrates with reference to drawings.

도 1a는 종래의 액정표시소자의 단위화소의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 A-A라인의 단면도이다.1A is a plan view of a unit pixel of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 1B is a cross-sectional view of the A-A line of FIG. 1A.

도 1a 및 도 1b와 같이, 우선 제1기판(10) 상에는 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인(12)과 데이터라인(14)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 게이트라인(12)과 데이터라인(14)의 교차점에는 게이트 전극(22), 게이트 절연막(16), 반도체층(24), 오믹콘택층, 소스/드레인 전극(26, 28), 및 보호막(18)으로 구성된 박막트랜지스터(20)가 형성되어 있고, 상기 드레인 전극(28)과 전기적으로 연결되는 화소전극(30)이 상기 화소영역에 형성되어 있다. 1A and 1B, a plurality of gate lines 12 and data lines 14 are formed on the first substrate 10 vertically and horizontally to define a pixel area. At the intersection of the gate line 12 and the data line 14, the gate electrode 22, the gate insulating layer 16, the semiconductor layer 24, the ohmic contact layer, the source / drain electrodes 26 and 28, and A thin film transistor 20 formed of the passivation layer 18 is formed, and a pixel electrode 30 electrically connected to the drain electrode 28 is formed in the pixel region.

제2기판(40) 상에는 상기 게이트라인(12), 데이터라인(14), 및 박막트랜지스터(20)에서 누설되는 빛을 차단하는 차광층(42)이 형성되어 있고, 상기 차광층(42) 상에 컬러필터층(44)이 형성되어 있으며, 그 위에 공통전극(46)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 공통전극(46) 상에는 전계를 왜곡시키는 유전체돌기(48)가 형성되어 있다. A light blocking layer 42 is formed on the second substrate 40 to block light leaking from the gate line 12, the data line 14, and the thin film transistor 20. The light blocking layer 42 is formed on the second substrate 40. The color filter layer 44 is formed on the common filter 46, and the common electrode 46 is formed on it. A dielectric protrusion 48 is formed on the common electrode 46 to distort the electric field.

또한, 상기 제1기판(10) 및 제2기판(40) 사이에는 양 기판 사이의 간격, 즉 셀갭(cell gap)을 일정하게 유지하기 위한 스페이서(50)가 형성되어 있다. 이는 통상 볼 스페이서라 칭해지는 것으로서, 액정표시소자 제조시 제1기판(10) 상에 스페이서(50)를 용매에 혼합시켜 산포하는 방법에 의해 형성되거나(습식산포방법), 또는 제1기판 주위를 접지상태로 유지하고 스페이서를 대전시켜 산포하는 방법에 의해 형성된다(건식산포방법). In addition, a spacer 50 is formed between the first substrate 10 and the second substrate 40 to maintain a constant gap between the two substrates, that is, a cell gap. This is commonly referred to as a ball spacer, which is formed by mixing and dispersing the spacer 50 in a solvent on the first substrate 10 in the manufacture of the liquid crystal display device (wet dispersion method), or around the first substrate. It is formed by a method of keeping the ground state and charging the spacers to spread them (dry dispersion method).                         

그러나, 상기 구조의 액정표시소자는 전계인가시 상기 공통전극(46) 상에 형성된 유전체돌기(48) 뿐 아니라, 스페이서(50) 주변으로도 전계가 왜곡되게 된다. 결국, 유전체돌기(48)와 스페이서(50) 사이에서 전경선이 발생될 수 있게 되는 등, 텍스쳐(texture)가 불안정하게 되는 문제가 있다. However, the liquid crystal display device having the above structure causes the electric field to be distorted not only in the dielectric protrusion 48 formed on the common electrode 46, but also around the spacer 50. As a result, a foreground line may be generated between the dielectric protrusion 48 and the spacer 50, such that the texture becomes unstable.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명은 셀갭유지를 위한 스페이서를 별도로 형성시키지 않고 공통전극 상에 형성되는 유전체돌기를 스페이서로 이용함으로써, 안정적인 텍스쳐를 갖는 액정표시소자를 제공함을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having a stable texture by using a dielectric protrusion formed on a common electrode as a spacer without separately forming a spacer for maintaining a cell gap. do.

또한, 본 발명은 양 기판 사이의 셀갭 제어가 용이하고 균일한 셀갭을 유지할 수 있는 액정표시소자를 제공함을 목적으로 한다. In addition, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which can easily control a cell gap between both substrates and maintain a uniform cell gap.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; 상기 제1기판 상에 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인 및 데이터라인; 상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 형성된 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 화소영역에 형성된 화소전극; 상기 게이트라인, 데이터라인, 및 박막트랜지스터가 형성된 영역에 형성된 게이트절연막 및 보호막; 상기 제2기판 상에 형성된 공통전극; 및 상기 공통전극 위에, 상기 제1기판 및 제 2기판 사이의 간격만큼의 길이로 상기 화소영역, 및 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물을 포함하여 이루어진 액정표시소자를 제공한다.The present invention to achieve the above object, the first substrate and the second substrate; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; A plurality of gate lines and data lines formed vertically and horizontally on the first substrate to define pixel regions; A thin film transistor formed at an intersection point of the gate line and the data line; A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel area; A gate insulating film and a protective film formed in an area where the gate line, data line, and thin film transistor are formed; A common electrode formed on the second substrate; And a dielectric structure formed on the common electrode to correspond to the pixel region and the region where the gate line and the data line overlap with each other by a length equal to the distance between the first substrate and the second substrate. to provide.

즉, 본 발명에 따른 액정표시소자는 전계를 왜곡시켜 멀티도메인 효과를 구현하기 위해서 공통전극 상에 형성되는 유전체구조물을 제1기판 및 제2기판 사이의 간격, 즉 셀갭의 길이로 형성시킴으로써, 유전체구조물을 스페이서의 역할도 겸용하게 한 것이다.That is, the liquid crystal display device according to the present invention forms a dielectric structure formed on the common electrode with a gap between the first substrate and the second substrate, that is, the length of the cell gap, in order to distort the electric field to implement the multidomain effect. The structure also serves as a spacer.

보다 구체적으로 설명하면, 유전체구조물은 화소영역 및 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성되어, 화소영역에 형성된 유전체구조물은 전계인가시 전기장을 왜곡시키는 작용을 하고, 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성된 유전체구조물은 양 기판 사이의 간격을 유지하는 역할을 하게 된다. More specifically, the dielectric structure is formed in a region where the pixel region, the gate line and the data line overlap, and the dielectric structure formed in the pixel region distorts the electric field when an electric field is applied, and the gate line and the data line overlap. The dielectric structure formed in the region to be served serves to maintain the gap between the two substrates.

한편, 유전체구조물이 셀갭의 길이로 형성될 경우, 제1기판과 제2기판을 합착한 후, 액정을 주입하는 공정이나 액정적하후 합착하는 공정에서 유전체구조물로 인하여 액정주입이 원활히 이루어지지 않을 수 있게 되므로, 이 점을 감안하여 소정의 화소영역에는 게이트절연막 및/또는 보호막을 형성시키지 않음으로써, 액정이 원활히 이동할 수 있는 공간을 부여한 것이다.On the other hand, when the dielectric structure is formed with the length of the cell gap, the liquid crystal injection may not be performed smoothly due to the dielectric structure in the process of injecting the liquid crystal after bonding the first substrate and the second substrate, or in the process of bonding the liquid crystal after dropping. In view of this, the gate insulating film and / or the protective film are not formed in the predetermined pixel region, thereby providing a space in which the liquid crystal can move smoothly.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제 1실시예First embodiment

도 2는 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이고, 도 3a 내지 도 3c는 도 2의 B-B라인의 일 실시예에 따른 단면도이다. 2 is a plan view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 3A to 3C are cross-sectional views according to an embodiment of the B-B line of FIG. 2.

도 2 및 도 3a 내지 도 3c와 같이, 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정표시소자는 우선, 소정 간격을 두고 대향되도록 제1기판(100) 및 제2기판(400)이 배치되 어 있다.As shown in FIGS. 2 and 3A to 3C, first, the first substrate 100 and the second substrate 400 are disposed to face each other at a predetermined interval in the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention. .

그리고, 상기 제1기판(100) 상에는 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인(120) 및 데이터라인(140)이 형성되어 있고, 상기 게이트라인(120) 및 데이터라인(140)의 교차점에는, 게이트전극(220), 게이트절연막(160), 반도체층(240), 오믹콘택층(미도시), 소스 및 드레인 전극(260, 280), 및 보호막(180)이 순서대로 적층되어 구성된 박막트랜지스터(200)가 형성되어 있다. In addition, a plurality of gate lines 120 and data lines 140 are formed on the first substrate 100 vertically and horizontally to define pixel regions, and the gate lines 120 and the data lines 140 are formed on the first substrate 100. At the intersection point, the gate electrode 220, the gate insulating film 160, the semiconductor layer 240, the ohmic contact layer (not shown), the source and drain electrodes 260 and 280, and the passivation layer 180 are sequentially stacked. The thin film transistor 200 is formed.

그리고, 상기 박막트랜지스터(200)의 드레인 전극(280)과 연결되며 상기 화소영역에 화소전극(300)이 형성되어 있다. The pixel electrode 300 is connected to the drain electrode 280 of the thin film transistor 200 and formed in the pixel region.

이때, 상기 게이트절연막(160)과 보호막(180)은 도 3a와 같이 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역에만 형성되고, 그 이외의 영역('가'영역)에는 형성되지 않을 수 있다.In this case, the gate insulating layer 160 and the passivation layer 180 are formed only in an area in which the gate line 120, the data line 140, and the thin film transistor 200 are formed, as shown in FIG. 3A. It may not be formed in the 'region'.

또한, 도 3b와 같이 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역에는 상기 게이트절연막(160)과 보호막(180)이 형성되고, 그 이외의 영역에는 상기 게이트절연막(160)만이 형성될 수도 있고, 도 3c와 같이 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역에는 상기 게이트절연막(160)과 보호막(180)이 형성되고, 그 이외의 영역에는 상기 보호막(180)만이 형성될 수도 있다.3B, the gate insulating layer 160 and the passivation layer 180 are formed in the region where the gate line 120, the data line 140, and the thin film transistor 200 are formed. Only the gate insulating layer 160 may be formed, and as shown in FIG. 3C, the gate insulating layer 160 and the passivation layer 180 are formed in the region where the gate line 120, the data line 140, and the thin film transistor 200 are formed. Only the passivation layer 180 may be formed in other areas.

이와 같이, 상기 게이트라인(120), 데이터라인(140), 및 박막트랜지스터(200)가 형성된 영역 이외의 영역('가'영역)에는 상기 게이트절연막(160) 및/또는 보호막(180)이 형성되지 않으므로, 그 영역에 형성되는 화소전극(300)은 함몰된 구조를 이루어, 액정주입시 액정의 이동이 보다 원활하게 되어, 액정이 어느 특정영역에 과분포하지 않고 균일하게 분포됨으로써 셀갭이 기판 전체에서 안정되게 유지되게 된다. As such, the gate insulating layer 160 and / or the passivation layer 180 may be formed in a region other than the region where the gate line 120, the data line 140, and the thin film transistor 200 are formed. Since the pixel electrode 300 formed in the region has a recessed structure, the liquid crystal moves more smoothly when the liquid crystal is injected, and the liquid crystal is uniformly distributed without overdistributing to any specific region, so that the cell gap is uniform throughout the substrate. Will remain stable at.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 게이트절연막(160) 및/또는 보호막(180)을 다른 영역보다 '가' 영역에서 얇게 형성시키는 것도 가능하다. In addition, although not shown in the drawing, the gate insulating film 160 and / or the passivation layer 180 may be formed thinner in the 'fall' area than other areas.

이와 같은 게이트 절연막(120)과 보호막은 BCB(BenzoCycloButene), 아크릴수지(acrylic resin)등의 유기절연막이나, SiNx, 또는 SiOx등의 무기절연막으로 형성될 수 있는데, 고개구율을 위해 상기 화소전극(300)을 상기 데이터라인(140)과 겹치도록 형성하는 경우는 양자(300, 140) 사이의 전기적 간섭을 배제하기 위해서 BCB 등의 유기절연막을 형성시키는 것이 바람직하다. The gate insulating layer 120 and the passivation layer may be formed of an organic insulating layer such as BCB (BenzoCycloButene) or an acrylic resin, or an inorganic insulating layer such as SiNx or SiOx, and the pixel electrode 300 for high opening ratio. ) Is formed to overlap the data line 140, it is preferable to form an organic insulating film such as BCB to eliminate electrical interference between the two (300, 140).

또한, 상기 화소전극(300)은 ITO(indium tin oxide), 또는 IZO(indium zinc oxide)로 이루어지는 것이 바람직하다. In addition, the pixel electrode 300 may be made of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

그리고, 상기 제2기판(400) 상에는 차광층(420), 컬러필터층(440), 공통전극(460)이 순서대로 형성되며, 상기 컬러필터층(440)을 보호하고 기판 평탄화를 위해서 컬러필터층(440)과 공통전극(460) 사이에 오버코트층이 추가로 형성될 수도 있다. In addition, the light blocking layer 420, the color filter layer 440, and the common electrode 460 are sequentially formed on the second substrate 400. The color filter layer 440 protects the color filter layer 440 and flattens the substrate. ) And the common electrode 460 may be further formed overcoat layer.

그리고, 상기 공통전극(460) 위에는 유전체 구조물(500a, 500)이 형성되어 있다. In addition, dielectric structures 500a and 500 are formed on the common electrode 460.

이때, 상기 유전체 구조물(500a, 500)은 상기 제1기판(100) 및 제 2기판(400) 사이의 간격(Δx)만큼의 길이로 형성되게 되는데, 상기 화소영역에 형 성될 뿐 아니라(도면부호 500), 상기 게이트라인(120)과 데이터라인(140)이 중첩되는 영역에도 형성된다(도면부호 500a). In this case, the dielectric structures 500a and 500 are formed to have a length equal to the interval Δx between the first substrate 100 and the second substrate 400, and are formed in the pixel area (notation reference numerals). 500 and the gate line 120 and the data line 140 are also formed in the overlapping region (reference numeral 500a).

따라서, 화소영역에 형성된 유전체 구조물(500)은 전계를 왜곡시켜 멀티도메인 효과를 구현하게 되고, 게이트라인(120)과 데이터라인(140)이 중첩되는 영역에 형성된 유전체 구조물(500a)은 셀갭을 유지하는 역할을 한다.Accordingly, the dielectric structure 500 formed in the pixel region distorts an electric field to implement a multi-domain effect, and the dielectric structure 500a formed in the region where the gate line 120 and the data line 140 overlap each other maintains a cell gap. It plays a role.

이와 같이 셀갭을 유지하는 역할을 하는 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성된 유전체 구조물(500a)은 반드시 하나의 화소당 형성될 필요는 없으나 적어도 4개의 화소당 하나씩은 형성되는 것이 셀갭 유지를 위해 바람직하다. As described above, the dielectric structure 500a formed in the region where the gate line and the data line overlap with each other serves to maintain the cell gap does not need to be formed per pixel, but at least one of the dielectric structures 500a is formed per pixel. Is preferred.

따라서, 상기 유전체 구조물(500a)에 의해 셀갭의 제어가 용이하게 되며, 4개의 화소당 하나씩 형성하면 충분하므로 그 밀도제어도 용이하게 된다. Accordingly, the cell gap can be easily controlled by the dielectric structure 500a, and the density of the cell gap can be easily controlled by forming one per four pixels.

또한, 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 형성된 유전체 구조물(500a)과 상기 화소영역에 형성된 유전체 구조물(500)은 도 4a와 같이 서로 연결되도록 형성될 수도 있고, 도 4b와 같이 연결되지 않도록 형성될 수도 있다. In addition, the dielectric structure 500a formed in the region where the gate line and the data line overlap and the dielectric structure 500 formed in the pixel region may be formed to be connected to each other as shown in FIG. 4A, or not to be connected as shown in FIG. 4B. It may be formed.

또한, 상기 유전체 구조물(500a, 500)은 도 5a 내지 도 5d와 같이 다양한 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 소정의 도메인의 수에 따라 변경하여 형성될 수 있다.In addition, the dielectric structures 500a and 500 may be formed in various shapes as shown in FIGS. 5A to 5D, but are not limited thereto. The dielectric structures 500a and 500 may be formed by changing the number of predetermined domains.

이와 같은 유전체 구조물(500a, 500)은 그 유전율이 액정의 유전율과 동일하거나 작은 것이 좋은데, 바람직하게는 3이하이다. 또한 유전체 구조물(500a, 500)은 감광성물질로 이루어진 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 아크릴수지(photoacrylate), 또는 BCB (BenzoCycloButene)로 이루어진 것이다.Such dielectric structures 500a and 500 preferably have a dielectric constant equal to or smaller than that of the liquid crystal, preferably 3 or less. In addition, the dielectric structures 500a and 500 are preferably made of a photosensitive material, more preferably made of acrylic resin (photoacrylate) or BCB (BenzoCycloButene).

그리고, 제1기판(100)과 제2기판(400) 사이에는 액정층(미도시)이 형성되게 되는데, 이는 VA(Vertical Alignment) 액정에 카이랄 도펀트가 포함되어 형성되는 것이 바람직하다. In addition, a liquid crystal layer (not shown) is formed between the first substrate 100 and the second substrate 400, which is preferably formed by including a chiral dopant in the VA (Vertical Alignment) liquid crystal.

또한, 도면에는 도시되어 있지 않으나, 상기 제1기판(100) 및 제2기판(400) 중 적어도 하나의 기판 전면에 배향막이 형성될 수 있다. In addition, although not shown in the drawing, an alignment layer may be formed on the entire surface of at least one of the first substrate 100 and the second substrate 400.

상기 배향막은 폴리아미드(polyamide) 또는 폴리이미드(polyimide)계 화합물, PVA(polyvinylalcohol), 폴리아믹산(polyamic acid)등의 물질을 이용하여 러빙 배향 처리되어 형성될 수도 있고, 배향 처리되지 않고 형성될 수도 있다. The alignment layer may be formed by rubbing orientation treatment using a material such as a polyamide or polyimide compound, polyvinylalcohol (PVA), polyamic acid, or the like, or may be formed without orientation treatment. have.

또한, PVCN(polyvinylcinnamate), PSCN(polysiloxanecinnamate), 또는 CelCN(cellulosecinnamate)계 화합물과 같은 광반응성 물질을 이용하여 광 배향 처리되어 형성될 수도 있고, 배향 처리되지 않고 형성될 수도 있다. 상기 광 배향 처리는 적어도 1회의 광조사에 의해 프리틸트각(pretilt angle), 및 배향방향(alignment direction)을 동시에 결정하며, 이때 광조사는 자외선 영역의 광을 사용하는 것이 바람직한데, 무편광, 비편광, 선편광, 및 부분편광된 광 중 어느 것을 사용하여도 무방하다.In addition, the photoreaction may be formed using a photoreactive material such as PVCN (polyvinylcinnamate), PSCN (polysiloxanecinnamate), or CelCN (cellulosecinnamate) -based compound, or may be formed without orientation treatment. The light alignment treatment simultaneously determines the pretilt angle and the alignment direction by at least one light irradiation, wherein the light irradiation preferably uses light in the ultraviolet region. Any of unpolarized light, linearly polarized light, and partially polarized light may be used.

또한, 상기 제1기판(100) 및 제2기판(400) 중 적어도 하나의 기판의 외면에 위상차필름이 형성될 수 있다. 상기 위상차필름은 기판에 수직인 방향과 시야각 변화에 따른 방향에서 시야각을 보상하여 계조반전(gray inversion)이 없는 영역을 넓히고, 경사방향에서 콘트라스트비를 높이는 역할을 하는 것으로, 광축이 하나인 음성일축성 필름(negative uniaxial film), 또는 광축이 둘인 음성이축성 필름(negative biaxial film)으로 형성될 수 있으나, 음성이축성 필름이 광시야각 면에서 보다 바람직하다.In addition, a retardation film may be formed on an outer surface of at least one of the first substrate 100 and the second substrate 400. The retardation film compensates for the viewing angle in the direction perpendicular to the substrate and the direction of the viewing angle change, thereby widening the region without gray inversion, and increasing the contrast ratio in the oblique direction. Although it may be formed as a negative uniaxial film or a negative biaxial film having two optical axes, a negative biaxial film is more preferable in terms of wide viewing angle.

상기 위상차필름을 편광자와 일체로 형성할 수도 있다.The retardation film may be formed integrally with the polarizer.

제 2실시예Second embodiment

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도로서, 이는 도 2의 B-B 라인에 대응하는 것이다.6A and 6B are cross-sectional views of a lower substrate for a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, which corresponds to the B-B line of FIG.

도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시소자는 하부기판(100) 상에서, 화소전극(300)을 둘러싸도록 상기 화소전극(300)과 다른 층에 보조전극(600)이 형성된 것을 제외하고, 상부기판의 구조 등은 전술한 제 1실시예와 동일하다. 따라서, 상부기판은 도시하지 않았으며, 동일한 도면부호를 부여하였다.As shown in FIGS. 6A and 6B, the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention is provided on the lower substrate 100 so as to be surrounded by a layer different from the pixel electrode 300 so as to surround the pixel electrode 300. Except that the electrode 600 is formed, the structure of the upper substrate and the like is the same as the first embodiment described above. Therefore, the upper substrate is not shown, and given the same reference numerals.

이와 같은 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시소자는 보조전극(600)을 화소전극(300) 둘레에 형성시킴으로써, 그 영역에서 전계왜곡을 강화하여 액정을 보다 안정적으로 구동시키는 것이다.In the liquid crystal display device according to the second exemplary embodiment of the present invention, the auxiliary electrode 600 is formed around the pixel electrode 300 to enhance electric field distortion in the region, thereby driving the liquid crystal more stably.

이때, 상기 보조전극(600)은 도면에는 게이트라인(120)과 동일층에만 형성되어 있으나, 데이터라인(140)과 동일층에 형성되는 것도 가능하다. 또한, 도면에는 '가' 영역에 게이트절연막(160)이나(도 6a), 보호막(180)(도 6b)이 형성된 구조만 도시되어 있으나, 도 3a와 같이 양자 모두 형성되지 않은 경우도 가능할 것이다.In this case, the auxiliary electrode 600 is formed only on the same layer as the gate line 120 in the drawing, but may also be formed on the same layer as the data line 140. In addition, although only the structure in which the gate insulating layer 160 (FIG. 6A) and the passivation layer 180 (FIG. 6B) are formed in the 'ga' region is shown in FIG. 3A, neither may be formed as shown in FIG. 3A.

또한, 상기 보조전극(600)은 상기 화소전극(300)과 소정부분 오버랩되도록 형성될 수도 있고, 오버랩되지 않도록 형성될 수도 있다. In addition, the auxiliary electrode 600 may be formed to overlap a predetermined portion with the pixel electrode 300 or may not be overlapped.

이와 같은 보조전극(600)은 상기 제2기판(400)의 공통전극(460)과 연결되는 것으로, ITO(indium tin oxide), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu, 또는 Al 합금으로 형성될 수 있다. The auxiliary electrode 600 is connected to the common electrode 460 of the second substrate 400 and is formed of indium tin oxide (ITO), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu, or an Al alloy. Can be.

제 3실시예Third embodiment

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 3실시예에 따른 액정표시소자용 하부기판의 단면도로서, 이는 도 2의 B-B 라인에 대응하는 것이다.7A and 7B are cross-sectional views of a lower substrate for a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, which corresponds to the B-B line of FIG.

도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3실시예에 따른 액정표시소자는 화소전극(300) 내부에 전계유도창(310)을 형성시키고, 그에 대응하는 영역에 보조전극(600)을 추가로 형성시킨 것을 제외하고, 전술한 제 2실시예와 동일하다. 따라서, 동일한 도면부호를 부여하였다. As shown in FIGS. 7A and 7B, in the liquid crystal display according to the third exemplary embodiment, an electric field induction window 310 is formed inside the pixel electrode 300, and the auxiliary electrode 600 is formed in a region corresponding thereto. ) Is the same as the second embodiment described above except that Therefore, the same reference numerals are given.

한편, 보조전극(600)은 형성하지 않고, 전계유도창(310)만을 형성시키는 것도 가능하다.On the other hand, it is also possible to form only the electric field induction window 310, without forming the auxiliary electrode 600.

이와 같은, 화소전극(300) 내부에 형성되는 전계유도창(310), 또는 보조전극(600)은 당업자가 용이하게 변경하여 형성할 수 있을 것이다.As such, the electric field induction window 310 or the auxiliary electrode 600 formed inside the pixel electrode 300 may be easily changed by those skilled in the art.

상기 구성에 의한 본 발명에 따른 액정표시소자는 공통전극 상에 형성되는 유전체돌기를 스페이서로 이용함으로써 안정적인 텍스쳐를 확보할 수 있다.In the liquid crystal display device according to the present invention having the above structure, a stable texture can be secured by using a dielectric protrusion formed on the common electrode as a spacer.

또한, 하나의 공정에 의해 전계왜곡효과와 셀갭유지효과를 동시에 구현할 수 있어, 제조공정이 단축되는 효과가 있다. In addition, the electric field distortion effect and the cell gap maintenance effect can be simultaneously realized by one process, thereby reducing the manufacturing process.                     

또한, 유전체돌기의 밀도제어가 가능하여 셀갭의 제어가 용이하고, 기판 전체에 균일한 셀갭 유지가 가능하다.

In addition, it is possible to control the density of the dielectric protrusions, thereby easily controlling the cell gap, and maintaining the uniform cell gap throughout the substrate.

Claims (13)

제1기판 및 제2기판;A first substrate and a second substrate; 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; 상기 제1기판 상에 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인 및 데이터라인;A plurality of gate lines and data lines formed vertically and horizontally on the first substrate to define pixel regions; 상기 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 형성된 박막트랜지스터; A thin film transistor formed at an intersection point of the gate line and the data line; 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 화소영역에 형성된 화소전극; A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel area; 상기 게이트라인, 데이터라인, 및 박막트랜지스터가 형성된 영역에 형성된 게이트절연막 및 보호막;A gate insulating film and a protective film formed in an area where the gate line, data line, and thin film transistor are formed; 상기 제2기판 상에 형성된 공통전극; 및A common electrode formed on the second substrate; And 상기 공통전극 위에, 상기 제1기판 및 제 2기판 사이의 간격만큼의 길이로 상기 화소영역, 및 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물을 포함하고, 상기 게이트 라인, 데이터 라인 및 박막 트랜지스터가 형성된 영역 이외의 영역은 상기 게이트 절연막 및 보호막의 비형성영역인 것을 포함하는 액정표시소자. A dielectric structure formed on the common electrode to correspond to the pixel region and the region where the gate line and the data line overlap with each other by the length of the gap between the first substrate and the second substrate; And regions other than regions where lines and thin film transistors are formed are non-formed regions of the gate insulating film and the protective film. 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소전극을 둘러싸도록 상기 화소전극과 다른 층에 보조전극이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And an auxiliary electrode formed on a layer different from the pixel electrode so as to surround the pixel electrode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소전극 내부에 전계유도창이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a field induction window formed in the pixel electrode. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 화소전극과 다른층에 형성되며, 상기 화소전극을 둘러싸고, 상기 전계유도창에 대응되는 영역에 보조전극이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And an auxiliary electrode formed on a layer different from the pixel electrode, surrounding the pixel electrode, and formed in an area corresponding to the electric field induction window. 제 3항 또는 제 5항에 있어서,The method according to claim 3 or 5, 상기 보조전극은 게이트라인, 또는 데이터라인과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the auxiliary electrode is formed on the same layer as the gate line or the data line. 제 3항 또는 제 5항에 있어서,The method according to claim 3 or 5, 상기 보조전극은 ITO(indium tin oxide), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu 또는 Al 합금으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자. The auxiliary electrode is made of any one material selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), Al, Mo, Cr, Ta, Ti, Cu or Al alloy. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물과 상기 화소영역에 형성된 유전체 구조물은 서로 연결된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a dielectric structure formed to correspond to a region where the gate line and the data line overlap each other, and a dielectric structure formed in the pixel region. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 게이트라인과 데이터라인이 중첩되는 영역에 대응하도록 형성된 유전체 구조물과 상기 화소영역에 형성된 유전체 구조물은 서로 연결되지 않은 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a dielectric structure formed to correspond to a region where the gate line and the data line overlap each other, and a dielectric structure formed in the pixel region is not connected to each other. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 액정층의 액정은 VA(Vertical Alignment) 액정에 카이랄 도펀트가 포함되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal of the liquid crystal layer is a liquid crystal display device, characterized in that the chiral dopant is included in the vertical alignment liquid crystal (VA). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1기판 및 제2기판 중 적어도 하나의 기판에 배향막이 형성되어 있으며, 상기 배향막은 배향처리되거나 또는 배향처리되지 않은 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And an alignment layer formed on at least one of the first substrate and the second substrate, wherein the alignment layer is oriented or not. 삭제delete 삭제delete
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