KR100847332B1 - Liquid crystal display having reduced flicker - Google Patents

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KR100847332B1
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Abstract

감소된 플리커를 갖는 액정 디스플레이(LCD)는 복수의 신호선들, 복수의 스캐닝 라인들 및 복수의 픽셀들을 포함한다. 각 픽셀은 픽셀 전극을 구비한 액정 셀, 스토리지 커패시터 및 스위칭 트랜지스터를 포함한다. 상기 스위칭 트랜지스터는 상기 스캐닝 라인들 중 하나에 연결된 게이트 전극, 상기 신호선들 중 하나에 연결된 드레인 전극 및 상기 픽셀 전극에 연결된 소스 전극을 포함한다. 중복 영역이 상기 게이트 전극 및 상기 소스 전극 사이에 존재한다. 상기 중복 영역의 면적은 상기 중복 영역에 대응하는 상기 스캐닝 라인의 입력단 및 상기 중복 영역에 대응하는 상기 픽셀 전극 사이의 거리를 증가시킴으로써 증가한다.A liquid crystal display (LCD) with reduced flicker includes a plurality of signal lines, a plurality of scanning lines and a plurality of pixels. Each pixel includes a liquid crystal cell with a pixel electrode, a storage capacitor and a switching transistor. The switching transistor includes a gate electrode connected to one of the scanning lines, a drain electrode connected to one of the signal lines, and a source electrode connected to the pixel electrode. An overlap region is present between the gate electrode and the source electrode. The area of the overlapping area is increased by increasing a distance between an input terminal of the scanning line corresponding to the overlapping area and the pixel electrode corresponding to the overlapping area.

플리커, 액정, 디스플레이, 픽셀, 신호선, 스캐닝, 트랜지스터, 스위칭Flicker, liquid crystal, display, pixel, signal line, scanning, transistor, switching

Description

감소된 플리커를 갖는 액정 디스플레이{Liquid crystal display having reduced flicker} Liquid crystal display having reduced flicker

도 1은 종래의 TFT-LCD의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a conventional TFT-LCD.

도 2는 도 1에 도시된 TFT-LCD의 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram of the TFT-LCD shown in FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 TFT-LCD의 픽셀 어레이의 상면도이다.3 is a top view of the pixel array of the TFT-LCD shown in FIG.

도 4는 본 발명에 의한 TFT-LCD의 픽셀 어레이의 상면도이다.4 is a top view of a pixel array of a TFT-LCD according to the present invention.

도 5는 본 발명에 의한 다른 TFT-LCD의 픽셀 어레이의 상면도이다.5 is a top view of a pixel array of another TFT-LCD according to the present invention.

본 발명은 액정 디스플레이에 관한 것으로, 특히 감소된 플리커(flicker)를 갖는 액정 디스플레이에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to liquid crystal displays, and more particularly, to liquid crystal displays with reduced flicker.

박막 트랜지스터 액정 디스플레이(TFT-LCD: thin film transistor liquid crystal display)와 같은 박막 트랜지스터 디스플레이는, 빛나는 영상들을 생성하는 액정 분자들을 구동하기 위한 스위치들로서 매트릭스내에 배열된, 커패시터들 및 본딩 패드들과 같은 다른 요소들과 함께 많은 박막 트랜지스터들을 이용한다. 종래의 CRT 모니터를 능가하는 상기 TFT-LCD의 이점은 더 좋은 휴대성, 저전력 소 비 및 저방사를 포함한다. 그러므로, 상기 TFT-LCD는 노트북들, 개인 데이터 보조장치(PDA: personal data assistants), 전자 완구 등과 같은 다양한 휴대용 제품들에서 널리 사용된다.Thin film transistor displays, such as thin film transistor liquid crystal displays (TFT-LCDs), have other arrangements, such as capacitors and bonding pads, arranged in a matrix as switches for driving liquid crystal molecules that produce brilliant images. Many thin film transistors are used with the elements. Advantages of the TFT-LCD over conventional CRT monitors include better portability, lower power consumption and lower radiation. Therefore, the TFT-LCD is widely used in various portable products such as notebooks, personal data assistants (PDAs), electronic toys, and the like.

도 1 및 도 2를 참조하면, 도 1은 종래의 TFT-LCD(10)의 개략도이다. 도 2는 상기 TFT-LCD(10)의 등가 회로도이다. 상기 TFT-LCD(10)는 스캐닝 라인 제어 회로(12), 신호선 제어 회로(14) 및 스캐닝 라인들에 연결된 복수의 픽셀들을 구비한 픽셀 어레이(16)를 포함한다. 예를 들어, 픽셀 A, 픽셀 B 및 픽셀 C는 공통 스캐닝 라인에 연결된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 픽셀(20)은 공통 카운터 전극(CE)에 연결된 액정 셀(LC) 및 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 데, 상기 박막 트랜지스터는 스캐닝 라인(G0)에 연결된 게이트 전극, 신호선(D0)에 연결된 드레인 전극 및 상기 액정 셀의 픽셀 전극에 연결된 소스 전극을 포함한다. 부가적으로, 상기 픽셀(20)은 상기 액정 셀 및 스캐닝 라인(G1) 사이에 연결된 스토리지 커패시터(SC)를 포함한다. 상기 스토리지 커패시터는 전류 누설에 기인한 상기 액정 셀의 전압 변동을 감소시키는데 사용되고 따라서 상기 액정 셀이 전하들을 저장하도록 도와준다.1 and 2, FIG. 1 is a schematic diagram of a conventional TFT-LCD 10. As shown in FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the TFT-LCD 10. The TFT-LCD 10 includes a scanning line control circuit 12, a signal line control circuit 14, and a pixel array 16 having a plurality of pixels connected to the scanning lines. For example, pixel A, pixel B and pixel C are connected to a common scanning line. As shown in FIG. 2, the pixel 20 includes a liquid crystal cell LC and a thin film transistor TFT connected to a common counter electrode CE, the thin film transistor having a gate connected to a scanning line G 0 . An electrode, a drain electrode connected to the signal line D 0 , and a source electrode connected to the pixel electrode of the liquid crystal cell. In addition, the pixel 20 includes a storage capacitor SC connected between the liquid crystal cell and the scanning line G 1 . The storage capacitor is used to reduce the voltage variation of the liquid crystal cell due to current leakage and thus help the liquid crystal cell store charges.

도 2에 도시된 바와 같이, 상기 픽셀들을 통과하는 광은 상기 액정 셀에 인가되는 전압에 따라 변한다. 상기 액정 셀에 인가되는 전압을 변경시킴으로써, 각 픽셀을 통과하는 광의 양은 변경될 수 있고 따라서 상기 TFT-LCD는 소정의 영상들을 표시할 수 있다. 상기 액정 셀에 인가되는 전압은 상기 공통 카운터 전극의 전 압과 상기 픽셀 전극의 전압 간의 차이이다. 상기 박막 트랜지스터가 턴오프될 때, 상기 픽셀 전극은 플로팅 상태(floating status)로 있는다. 상기 픽셀 전극 주위의 전기 요소들의 전압들에 어떤 변동이 발생하는 경우, 상기 변동은 상기 픽셀 전극의 전압이 그것의 바람직한 전압에서 벗어나도록 할 것이다. 상기 픽셀 전극의 전압의 편차는 수학식 1로 표현되는 관통 전압(VFD)으로 지칭된다.As shown in FIG. 2, light passing through the pixels changes according to a voltage applied to the liquid crystal cell. By changing the voltage applied to the liquid crystal cell, the amount of light passing through each pixel can be changed so that the TFT-LCD can display predetermined images. The voltage applied to the liquid crystal cell is the difference between the voltage of the common counter electrode and the voltage of the pixel electrode. When the thin film transistor is turned off, the pixel electrode is in a floating state. If any fluctuation occurs in the voltages of the electrical elements around the pixel electrode, the fluctuation will cause the voltage of the pixel electrode to deviate from its desired voltage. The deviation of the voltage of the pixel electrode is referred to as a penetration voltage V FD represented by Equation 1.

Figure 112002017227016-pat00001
Figure 112002017227016-pat00001

여기에서 CLC는 상기 액정 셀(LC)의 커패시턴스이고, CSC는 상기 스토리지 커패시터(SC)의 커패시턴스이며, CGS는 상기 박막 트랜지스터의 상기 소스 전극 및 게이트 전극 간의 커패시턴스이고, ΔVG는 상기 게이트 전극에 인가되는 펄스 전압의 크기이다.Where C LC is the capacitance of the liquid crystal cell LC, C SC is the capacitance of the storage capacitor SC, C GS is the capacitance between the source electrode and the gate electrode of the thin film transistor, and ΔV G is the gate. It is the magnitude of the pulse voltage applied to the electrode.

일반적으로 상기 공통 카운터 전극의 전압을 조정하는 것은 상기 관통 전압을 보상할 수 있다. 그러나, 상기 스캐닝 라인의 저항 및 커패시턴스는 게이트 전극에 인가되는 펄스 전압의 하강 에지를 둥글게 하기 때문에, 픽셀의 관통 전압은 상기 스캐닝 라인 제어 회로와 상기 픽셀 간의 거리가 증가함에 따라 감소한다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 픽셀 A의 관통 전압은 상기 픽셀 B의 관통 전압보다 더 큰데, 상기 픽셀 B의 관통 전압은 상기 픽셀 C의 관통 전압보다 더 크다(즉, (VFD)A>(VFD)B>(VFD)C, 여기에서 (VFD)A, (VFD)B 및 (VFD)C는 각각 상기 픽셀들 A, B, C의 관통 전압들을 나타낸다). 따라서, 상기 공통 카운터 전극의 전압을 조 정함으로써 모든 픽셀들에 대한 관통 전압들을 보상하는 것은 어렵다. 그러므로, 플리커없는 TFT-LCD를 제공하는 것은 어렵다.In general, adjusting the voltage of the common counter electrode may compensate for the through voltage. However, since the resistance and capacitance of the scanning line round the falling edge of the pulse voltage applied to the gate electrode, the through voltage of the pixel decreases as the distance between the scanning line control circuit and the pixel increases. For example, as shown in FIG. 1, the through voltage of the pixel A is greater than the through voltage of the pixel B, wherein the through voltage of the pixel B is greater than the through voltage of the pixel C (that is, (V FD ) A > (V FD ) B > (V FD ) C , where (V FD ) A , (V FD ) B and (V FD ) C represent the penetration voltages of the pixels A, B, C, respectively. ). Therefore, it is difficult to compensate the through voltages for all the pixels by adjusting the voltage of the common counter electrode. Therefore, it is difficult to provide a flicker-free TFT-LCD.

미국 특허 번호 6,028,650에 개시된 방법은 상기한 문제를 해결하려고 한다. 도 3을 참조하면, 도 3은 상기 TFT-LCD(10)의 픽셀 어레이(30)의 상면도이다. 상기 픽셀 어레이(30)는 스캐닝 라인 제어 회로(DR1)에 연결된 스캐닝 라인들(32 및 32a), 신호선들(34a, 34b, 34c) 및 도 1에 도시된 픽셀들 A, B, C에 대응하는 픽셀들 A, B, C를 포함한다. 픽셀들 A, B, C는 각각 박막 트랜지스터들(QA, QB, QC ) 및 그들의 대응하는 액정 셀들을 포함한다. 박막 트랜지스터들(QA, QB, QC)의 게이트 전극들은 스캐닝 라인(32)에 연결된다. 박막 트랜지스터들(QA, QB, QC)의 드레인 전극들은 신호선들(34a, 34b, 34c)에 각각 연결된다. 박막 트랜지스터들(QA, QB, QC )의 소스 전극들은 각각 상기 액정 셀들의 픽셀 전극들(38a, 38b, 38c)에 연결된다.The method disclosed in US Pat. No. 6,028,650 attempts to solve the above problem. Referring to FIG. 3, FIG. 3 is a top view of the pixel array 30 of the TFT-LCD 10. The pixel array 30 corresponds to the scanning lines 32 and 32a, the signal lines 34a, 34b, and 34c connected to the scanning line control circuit DR1 and the pixels A, B, and C shown in FIG. 1. Pixels A, B, and C. The pixels A, B, C each comprise thin film transistors Q A , Q B , Q C and their corresponding liquid crystal cells. Gate electrodes of the thin film transistors Q A , Q B , Q C are connected to the scanning line 32. Drain electrodes of the thin film transistors Q A , Q B , and Q C are connected to the signal lines 34a, 34b, and 34c, respectively. Source electrodes of the thin film transistors Q A , Q B and Q C are respectively connected to the pixel electrodes 38a, 38b and 38c of the liquid crystal cells.

상기 픽셀 어레이(30)를 형성하기 위하여, 스캐닝 라인들(32 및 32a)로서 이용되는 제1의 패터닝된 도전층이 기판(미도시)상에 형성된다. 다음, 절연층 및 반도체 층이 순차적으로 부가된다. 그다음, 신호선들(34a, 34b, 34c)로서 이용되는 제2의 패터닝된 도전층이 상기 반도체 층상에 증착된다. 마지막으로, 투명 도전층이 픽셀들 A, B, C의 픽셀 전극들(38a, 38b, 38c)을 형성하기 위하여 증착된다. 상기 스캐닝 라인(32a) 및 상기 픽셀 전극(38a)의 중복 영역(40a)은 상기 픽셀 A의 스토리지 커패시터이다. 유사하게, 중복 영역들(40b, 40c)은 픽셀들 B, C의 스토리지 커패시터들이다. 픽셀들 A, B, C의 스토리지 커패시터들의 커패시턴스들은 (CSC)A, (CSC)B, (CSC)C로 표현된다. 상기 중복 영역(40a)의 면적은 상기 중복 영역(40b)의 면적보다 더 크고, 상기 중복 영역(40b)의 면적은 상기 중복 영역(40c)의 면적보다 더 크다. 그 결과, (CSC)A는 (CSC)B 보다 더 크고 (CSC)B 는 (CSC)C 보다 더 크다. 따라서, (VFD)A, (VFD)B , (VFD)C로 표현되는, 픽셀들 A, B, C의 관통 전압들은 대략 동일하다(즉, (VFD)A

Figure 112002017227016-pat00002
(VFD)B
Figure 112002017227016-pat00003
(VFD)C).To form the pixel array 30, a first patterned conductive layer, which is used as scanning lines 32 and 32a, is formed on a substrate (not shown). Next, an insulating layer and a semiconductor layer are added sequentially. Then, a second patterned conductive layer used as signal lines 34a, 34b, 34c is deposited on the semiconductor layer. Finally, a transparent conductive layer is deposited to form pixel electrodes 38a, 38b, 38c of pixels A, B, and C. The overlapping area 40a of the scanning line 32a and the pixel electrode 38a is a storage capacitor of the pixel A. Similarly, overlapping regions 40b and 40c are storage capacitors of pixels B and C. The capacitances of the storage capacitors of pixels A, B, C are represented by (C SC ) A , (C SC ) B , (C SC ) C. The area of the overlapping area 40a is larger than the area of the overlapping area 40b, and the area of the overlapping area 40b is larger than the area of the overlapping area 40c. As a result, (C SC) A is larger than (C SC) greater than B (C SC) B is (C SC) C. Thus, the through voltages of pixels A, B, C, represented by (V FD ) A , (V FD ) B , (V FD ) C , are approximately equal (ie, (V FD ) A
Figure 112002017227016-pat00002
(V FD ) B
Figure 112002017227016-pat00003
(V FD ) C ).

간략히, 상기한 방법은 모든 픽셀들의 관통 전압들을 보상하기 위하여 스토리지 커패시터들의 커패시턴스들을 조정한다. 스토리지 커패시터가 상기 스캐닝 라인 제어 회로에서 더 멀리 있을수록, 그것의 커패시턴스는 더 작아진다. 그 결과, 낮은 커패시턴스를 갖는 이러한 스토리지 커패시터가 상기 액정 셀들이 전하들을 보유하도록 도와주는 것은 어렵다. 게다가, 스토리지 커패시터가 상기 스캐닝 라인 제어 회로에 더 근접할수록, 그것의 커패시턴스는 더 커지고, 따라서, 상기 스캐닝 라인의 폭은 상기 스토리지 커패시터를 형성하기 위하여 더 넓게 형성되어야 한다. 그러나, 상기 LCD 장치의 개구율(aperture ratio)은 상기 스캐닝 라인의 폭이 증가함에 따라 감소할 것이다.Briefly, the above method adjusts the capacitances of the storage capacitors to compensate for the through voltages of all the pixels. The further the storage capacitor is from the scanning line control circuit, the smaller its capacitance. As a result, it is difficult for such storage capacitors with low capacitance to help the liquid crystal cells retain charges. In addition, the closer the storage capacitor is to the scanning line control circuit, the larger its capacitance, and therefore, the width of the scanning line must be formed wider to form the storage capacitor. However, the aperture ratio of the LCD device will decrease as the width of the scanning line increases.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 상기한 문제를 해결하기 위하여 감소된 플리커를 갖는 액정 디스플레이(LCD)를 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention is to provide a liquid crystal display (LCD) having a reduced flicker in order to solve the above problem.

상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 감소된 플리커를 갖는 액정 디스플레이(LCD)는 복수의 신호선들, 복수의 스캐닝 라인들 및 복수의 픽셀들을 포함한다. 각 픽셀은 픽셀 전극을 구비한 액정 셀, 스토리지 커패시터 및 스위칭 트랜지스터를 포함한다. 상기 스위칭 트랜지스터는 상기 스캐닝 라인들중 하나에 연결된 게이트 전극, 상기 신호선들중 하나에 연결된 드레인 전극 및 상기 픽셀 전극에 연결된 소스 전극을 포함한다. 중복 영역이 상기 게이트 전극과 상기 소스 전극 사이에 존재한다. 상기 중복 영역의 면적은 상기 중복 영역에 대응하는 상기 스캐닝 라인의 입력단과 상기 중복 영역에 대응하는 상기 픽셀 전극 간의 거리를 증가시킴으로써 증가한다.In order to achieve the above object, a liquid crystal display (LCD) having reduced flicker according to the present invention includes a plurality of signal lines, a plurality of scanning lines and a plurality of pixels. Each pixel includes a liquid crystal cell with a pixel electrode, a storage capacitor and a switching transistor. The switching transistor includes a gate electrode connected to one of the scanning lines, a drain electrode connected to one of the signal lines, and a source electrode connected to the pixel electrode. An overlap region is present between the gate electrode and the source electrode. The area of the overlapping area is increased by increasing the distance between the input terminal of the scanning line corresponding to the overlapping area and the pixel electrode corresponding to the overlapping area.

청구된 발명이 모든 픽셀들의 관통 전압들이 대략 같아지도록 상기 중복 영역들의 면적들을 변경함으로써 상기 박막 트랜지스터의 상기 게이트 전극과 소스 전극 간의 커패시턴스를 조정하는 것이 유리하다. 상기 스토리지 커패시터들 및 상기 스캐닝 라인들의 폭에 아무런 변경도 일어나지 않는다. 따라서, 상기 스토리지 커패시터들은 상기 액정 셀들이 효과적으로 전하들을 보유하도록 도와줄 수 있다. 상기 LCD 장치의 개구율은 또한 개선될 수 있다.It is advantageous for the claimed invention to adjust the capacitance between the gate electrode and the source electrode of the thin film transistor by changing the areas of the overlapping regions such that the penetration voltages of all pixels are approximately equal. No change occurs in the width of the storage capacitors and the scanning lines. Thus, the storage capacitors can help the liquid crystal cells retain charges effectively. The aperture ratio of the LCD device can also be improved.

청구된 발명의 이들 목적 및 다른 목적들은 도면들을 가지고 설명되는, 다음 바람직한 실시예의 상세한 설명을 읽은 후 당업자에게 의심할 바 없이 명백할 것이다.These and other objects of the claimed invention will no doubt become apparent to those skilled in the art after reading the following detailed description of the preferred embodiment, which is described with the drawings.

도 4를 참조하면, 도 4는 본 발명에 의한 TFT-LCD의 픽셀 어레이의 상면도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 픽셀 어레이(50)는 스캐닝 라인 제어 회로(DR1)에 전기적으로 연결된 스캐닝 라인(52), 신호선들(54a, 54b, 54c) 및 도 1에 도시된 픽셀들 A, B, C에 각각 대응하는 픽셀들 A, B, C를 포함한다. 픽셀들 A, B, C는 각각 박막 트랜지스터들(TA, TB, TC) 및 그들의 대응하는 액정 셀들을 포함한다. 박막 트랜지스터들(TA, TB, TC)의 게이트 전극들은 상기 스캐닝 라인(52)에 연결된다. 박막 트랜지스터들(TA, TB, TC)의 드레인 전극들은 각각 신호선들(54a, 54b, 54c)에 연결된다. 박막 트랜지스터들(TA, TB, TC)의 소스 전극들은 각각 상기 액정 셀들의 픽셀 전극들(58a, 58b, 58c)에 연결된다. 영역 60a(슬래시로 도시됨)는 상기 스캐닝 라인(52)과 상기 소스 전극(56a)의 중복 영역이다. 영역 60b(슬래시로 도시됨)는 상기 스캐닝 라인(52)과 상기 소스 전극(56b)의 중복 영역이다. 영역 60c(슬래시로 도시됨)는 상기 스캐닝 라인(52)과 상기 소스 전극(56c)의 중복 영역이다. 더욱이, 박막 트랜지스터들(TA, TB, TC)의 상기 게이트 전극들은 중복 영역들(60a, 60b, 60c)내에 위치한 블록들(57a, 57b, 57c)을 포함한다. 상기 블록(57a)의 면적은 상기 블록(57b)의 면적보다 더 작고, 상기 블록(57b)의 면적은 상기 블록(57c)의 면적보다 더 작다. 따라서, 상기 중복 영역(60a)의 면적은 상기 중복 영역(60b)의 면적보다 더 작고, 상기 중복 영역(60b)의 면적은 상기 중복 영역(60c)의 면적보다 더 작다. 상기 블록(57a)이 상기 게이트 전극으로부터 분리되지 못하도록 하는 한쌍의 보호 구조들(62a)이 제공된다. 상기 보호 구조들(62a)은 상기 블록(57a)의 양측 또는 상기 중복 영역(60a)내에 위치한다. 유사하게, 상기 블록들(57b, 57c)이 상기 게이트 전극들로부터 분리되지 못하도록 하는 보호 구조들(62b, 62c)이 제공된다. Referring to FIG. 4, FIG. 4 is a top view of a pixel array of a TFT-LCD according to the present invention. As shown in FIG. 4, the pixel array 50 includes a scanning line 52 electrically connected to the scanning line control circuit DR1, signal lines 54a, 54b, 54c and pixels A shown in FIG. 1, Pixels A, B, and C corresponding to B and C, respectively. The pixels A, B, C each comprise thin film transistors T A , T B , T C and their corresponding liquid crystal cells. Gate electrodes of the thin film transistors T A , T B , and T C are connected to the scanning line 52. Drain electrodes of the thin film transistors T A , T B , and T C are connected to the signal lines 54a, 54b, and 54c, respectively. Source electrodes of the thin film transistors T A , T B , and T C are respectively connected to pixel electrodes 58a, 58b, 58c of the liquid crystal cells. Region 60a (shown as a slash) is an overlapping region of the scanning line 52 and the source electrode 56a. Region 60b (shown with a slash) is an overlapping region of the scanning line 52 and the source electrode 56b. Region 60c (shown with a slash) is an overlapping region of the scanning line 52 and the source electrode 56c. Furthermore, the gate electrodes of the thin film transistors T A , T B , T C include blocks 57 a, 57 b, 57 c located in overlapping regions 60 a, 60 b, 60 c . The area of the block 57a is smaller than the area of the block 57b, and the area of the block 57b is smaller than the area of the block 57c. Therefore, the area of the overlapping area 60a is smaller than the area of the overlapping area 60b, and the area of the overlapping area 60b is smaller than the area of the overlapping area 60c. A pair of protective structures 62a are provided to prevent the block 57a from being separated from the gate electrode. The protective structures 62a are located on either side of the block 57a or in the overlapping area 60a. Similarly, protective structures 62b and 62c are provided to prevent the blocks 57b and 57c from being separated from the gate electrodes.

상기 픽셀 어레이(50)를 형성하기 위하여, 상기 스캐닝 라인(52)으로서 이용되는 제1의 패터닝된 도전층이 기판(미도시)상에 형성된다. 그다음, 절연층 및 반도체 층이 순차적으로 상기 스캐닝 라인(52) 및 상기 기판상에 증착된다. 신호선들(54a, 54b, 54c)로서 이용되는 제2의 패터닝된 도전층이 상기 반도체 층상에 증착된다. 마지막으로, 투명 도전층이 픽셀들 A, B, C의 픽셀 전극들(58a, 58b, 58c)을 형성하기 위하여 증착된다.In order to form the pixel array 50, a first patterned conductive layer used as the scanning line 52 is formed on a substrate (not shown). Then, an insulating layer and a semiconductor layer are sequentially deposited on the scanning line 52 and the substrate. A second patterned conductive layer used as signal lines 54a, 54b, 54c is deposited on the semiconductor layer. Finally, a transparent conductive layer is deposited to form pixel electrodes 58a, 58b, 58c of pixels A, B, and C.

수학식 1을 참조하라. 일반적으로, CSC 및 CLC 양자는 CGS보다 훨씬 더 크다(즉 CSC, CLC >> CGS). 그러므로, 수학식 1은 다음과 같이 재작성될 수 있다.See Equation 1. In general, both C SC and C LC are much larger than C GS (ie C SC , C LC >> C GS ). Therefore, Equation 1 can be rewritten as follows.

Figure 112002017227016-pat00004
Figure 112002017227016-pat00004

수학식 2를 참조하라. 도 4에 도시된 픽셀들 A, B에 관하여, (CGS)A=(CGS)B=(CGS)C, (CSC) A=(CSC)B=(CSC)C 이고 (CLC)A=(C LC)B=(CLC)C 인 경우, 픽셀들 A, B, C의 관통 전압들은 (VFD)A>(VFD)B>(VFD) C이다. 그러나, (CGS)A<(CGS)B<(CGS )C, (CSC)A=(CSC)B=(CSC)C 이고 (CLC )A=(CLC)B=(CLC)C 인 경우, (VFD) A

Figure 112002017227016-pat00005
(VFD)B
Figure 112002017227016-pat00006
(VFD)C 이다. 즉, 픽셀들 A, B, C의 관통 전압들은 상기 조건 (CGS)A<(CGS)B <(CGS)C 이 달성되는 한 대략 동일하다. 따라서, 본 발명은 상기 게이트 전극들 이외에 블록들(57a, 57b, 57c)을 추가하고 있다. 상기 중복 영역(60a)의 면적은 상기 중복 영역(60b)의 면적보다 더 작고, 상기 중복 영역(60b)의 면적은 상기 중복 영역(60c)의 면적보다 더 작다. 유사한 방식으로, (CGS)A는 (CGS)B보다 더 작고, (CGS )B는 (CGS)C 보다 더 작다. 따라서, 픽셀들 A, B, C의 관통 전압들은 대략 동일하다(즉, (VFD)A
Figure 112002017227016-pat00007
(VFD)B
Figure 112002017227016-pat00008
(VFD)C).See Equation 2. With respect to pixels A and B shown in FIG. 4, (C GS ) A = (C GS ) B = (C GS ) C , (C SC ) A = (C SC ) B = (C SC ) C and ( When C LC ) A = (C LC ) B = (C LC ) C , the through voltages of pixels A, B, C are (V FD ) A > (V FD ) B > (V FD ) C. However, (C GS ) A <(C GS ) B <(C GS ) C , (C SC ) A = (C SC ) B = (C SC ) C and (C LC ) A = (C LC ) B = (C LC ) C , (V FD ) A
Figure 112002017227016-pat00005
(V FD ) B
Figure 112002017227016-pat00006
(V FD ) C. That is, the through voltages of pixels A, B, C are approximately equal as long as the condition (C GS ) A <(C GS ) B <(C GS ) C is achieved. Therefore, the present invention adds blocks 57a, 57b, and 57c in addition to the gate electrodes. The area of the overlapping area 60a is smaller than the area of the overlapping area 60b, and the area of the overlapping area 60b is smaller than the area of the overlapping area 60c. In a similar manner, (C GS) A is (C GS) smaller than B, (C GS) B is smaller than (C GS) C. Thus, the through voltages of pixels A, B and C are approximately equal (i.e. (V FD ) A
Figure 112002017227016-pat00007
(V FD ) B
Figure 112002017227016-pat00008
(V FD ) C ).

본 발명의 제1 실시예에 있어서, 복수의 영역들로 분할되어 있는 상기 픽셀 어레이(50)에 1024 픽셀들이 존재한다. 공통 영역에서 상기 게이트 전극들 옆에 부가된 블록들은 대략 동일한 면적들을 갖는다. 제1 영역내의 상기 블록의 면적은 상기 제1 영역에 인접한 제2 영역내의 상기 블록의 면적보다 소정 값만큼 더 크다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 영역 I은 상기 영역 II 옆에 있으므로, 상기 블록(57b)의 면적은 상기 블록(57a)의 면적보다 소정 값만큼 더 크다. 유사하게, 상기 영역 II는 상기 영역 III 옆에 있으므로, 상기 블록(57c)의 면적은 상기 블록(57b)의 면적보다 소정 값만큼 더 크다. 부가적으로, 상기 블록들(57a, 57b, 57c)의 모양들은 반드시 직사각형일 필요는 없다. 그들은 상기 중복 영역(60a)의 면적이 상기 중복 영역(60b)의 면적보다 더 작은 한 어떤 모양일 수 있고, 상기 중복 영역(60b)의 면적은 상기 중복 영역(60c)의 면적보다 더 작다.In the first embodiment of the present invention, there are 1024 pixels in the pixel array 50 which are divided into a plurality of regions. Blocks added next to the gate electrodes in a common area have approximately the same areas. The area of the block in the first area is larger than the area of the block in the second area adjacent to the first area by a predetermined value. For example, as shown in FIG. 4, since the region I is next to the region II, the area of the block 57b is larger than the area of the block 57a by a predetermined value. Similarly, since the area II is next to the area III, the area of the block 57c is larger than the area of the block 57b by a predetermined value. In addition, the shapes of the blocks 57a, 57b, 57c need not necessarily be rectangular. They may be of any shape as long as the area of the overlapping area 60a is smaller than the area of the overlapping area 60b, and the area of the overlapping area 60b is smaller than the area of the overlapping area 60c.

도 5를 참조하라. 도 5는 본 발명에 의한 TFT-LCD의 다른 실시예의 픽셀 어레이의 상면도이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터들(TA, TB, TC )의 소스 전극들은 상기 중복 영역들(60a, 60b, 60c)(슬래시로 도시됨)내에 위치한 블록들(59a, 59b, 59c)을 포함한다. 상기 블록(59a)의 면적은 상기 블록(59b)의 면적보다 더 작고, 상기 블록(59b)의 면적은 상기 블록(59c)의 면적보다 더 작다. 따라 서, 상기 중복 영역(60a)의 면적은 상기 중복 영역(60b)의 면적보다 더 작은데, 상기 중복 영역(60b)의 면적은 상기 중복 영역(60c)의 면적보다 더 작다. 이러한 방식으로, (CGS)A는 (CGS)B보다 더 작고, (CGS)B 는 (CGS)C보다 더 작다. 따라서, 픽셀들 A, B, C의 관통 전압들은 대략 동일하다(즉, (VFD)A

Figure 112002017227016-pat00009
(VFD)B
Figure 112002017227016-pat00010
(VFD)C). 상기 블록들(59a, 59b, 59c)은 상기 중복 영역(60a)의 면적이 상기 중복 영역(60b)의 면적보다 더 작은 한 어떤 모양일 수 있고, 상기 중복 영역(60b)의 면적이 상기 중복 영역(60c)의 면적보다 더 작다는 것은 다시 주목되어야 한다.See FIG. 5. 5 is a top view of a pixel array of another embodiment of a TFT-LCD according to the present invention. As shown in FIG. 5, the source electrodes of the thin film transistors T A , T B , T C are blocks 59a, 59b located in the overlap regions 60a, 60b, 60c (shown with a slash). , 59c). The area of the block 59a is smaller than the area of the block 59b, and the area of the block 59b is smaller than the area of the block 59c. Therefore, the area of the overlapping area 60a is smaller than the area of the overlapping area 60b, and the area of the overlapping area 60b is smaller than the area of the overlapping area 60c. In this way, (C GS) A is (C GS) smaller than B, (C GS) B is smaller than (C GS) C. Thus, the through voltages of pixels A, B and C are approximately equal (i.e. (V FD ) A
Figure 112002017227016-pat00009
(V FD ) B
Figure 112002017227016-pat00010
(V FD ) C ). The blocks 59a, 59b, 59c may have any shape as long as the area of the overlapping area 60a is smaller than the area of the overlapping area 60b, and the area of the overlapping area 60b is the overlapping area. It should be noted again that it is smaller than the area of 60c.

더욱이 양 실시예들에 있어서, 상기 픽셀 어레이(50)는 각 영역이 하나의 픽셀만을 포함하는 1024 영역들로 분할될 수 있다. 이러한 방식으로, 모든 픽셀들의 관통 전압들은 정확히 동일하다.Furthermore, in both embodiments, the pixel array 50 may be divided into 1024 regions, each region containing only one pixel. In this way, the through voltages of all the pixels are exactly the same.

간략히, 본 발명은 모든 픽셀들의 관통 전압들이 대략 동일하도록 상기 박막 트랜지스터들의 상기 게이트 전극 및 상기 소스 전극 간의 커패시턴스(CGS)를 조정한다. 상기 커패시턴스(CGS)를 조정하기 위하여, 가변 면적을 갖는 블록들이 상기 게이트 전극들 또는 상기 소스 전극들에 부가된다. 상기 게이트 전극 및 상기 소스 전극의 중복 영역의 면적은 상기 중복 영역에 대응하는 상기 스캐닝 라인의 입력단과 상기 중복 영역에 대응하는 상기 픽셀 간의 거리를 증가시킴으로써 증가된다. 따라서, 상기 커패시턴스(CGS)는 효과적으로 조정될 수 있다.Briefly, the present invention adjusts the capacitance C GS between the gate electrode and the source electrode of the thin film transistors such that the through voltages of all pixels are approximately equal. In order to adjust the capacitance C GS , blocks having a variable area are added to the gate electrodes or the source electrodes. The area of the overlapping region of the gate electrode and the source electrode is increased by increasing the distance between the input terminal of the scanning line corresponding to the overlapping region and the pixel corresponding to the overlapping region. Thus, the capacitance C GS can be effectively adjusted.

종래 기술과 비교하면, 본 발명은 모든 픽셀들의 관통 전압들이 대략 동일하 도록 상기 게이트 전극 및 상기 소스 전극의 중복 영역들의 면적들을 변경함으로써 상기 커패시턴스(CGS)를 조정한다. 그러므로, 감소된 플리커를 갖는 액정 디스플레이가 제공된다. 상기 스토리지 커패시터들 및 상기 스캐닝 라인들의 폭에 아무런 변경들도 일어나지 않는다. 따라서, 상기 스토리지 커패시터들은 상기 액정 셀들이 효과적으로 전하를 보유하도록 도와줄 수 있다. 상기 LCD 장치의 개구율은 또한 개선될 수 있다.Compared with the prior art, the present invention adjusts the capacitance C GS by changing the areas of overlapping regions of the gate electrode and the source electrode such that the through voltages of all pixels are approximately equal. Therefore, a liquid crystal display with reduced flicker is provided. No changes occur in the width of the storage capacitors and the scanning lines. Thus, the storage capacitors can help the liquid crystal cells retain charge. The aperture ratio of the LCD device can also be improved.

본 발명의 교시를 유지하면서 상기 장치의 많은 변형들 및 변경들이 행해질 수 있다는 것은 당업자가 쉽사리 알 것이다. 따라서, 상기 개시는 첨부된 청구항들의 경계들 및 한계들에 의해서만 한정되는 것으로 간주되어야 한다.It will be readily appreciated by those skilled in the art that many variations and modifications of the apparatus may be made while maintaining the teachings of the present invention. Accordingly, the above disclosure should be considered as limited only by the boundaries and limitations of the appended claims.

Claims (8)

복수의 신호선들;A plurality of signal lines; 복수의 스캐닝 라인들; 및A plurality of scanning lines; And 복수의 픽셀들을 포함하며,Includes a plurality of pixels, 상기 픽셀 각각은 픽셀 전극과 스토리지 커패시터를 구비하는 액정 셀 및 스위칭 트랜지스터를 포함하고, 상기 스위칭 트랜지스터는 스캐닝 라인에 연결된 게이트 전극, 신호선에 연결된 드레인 전극 및 상기 픽셀 전극에 연결된 소스 전극을 포함하며,Each of the pixels includes a liquid crystal cell having a pixel electrode and a storage capacitor and a switching transistor, wherein the switching transistor includes a gate electrode connected to a scanning line, a drain electrode connected to a signal line, and a source electrode connected to the pixel electrode, 상기 게이트 전극 및 상기 소스 전극의 중복 영역의 면적은 상기 중복 영역에 대응하는 상기 스캐닝 라인의 입력단 및 상기 중복 영역에 대응하는 상기 픽셀 사이의 거리를 증가시킴으로써 증가되고,The area of the overlapping region of the gate electrode and the source electrode is increased by increasing the distance between the input terminal of the scanning line corresponding to the overlapping region and the pixel corresponding to the overlapping region, 상기 게이트 전극은 상기 중복 영역내에 위치한 제1 블록을 포함하며, 상기 제1 블록의 면적은 상기 거리를 증가시킴으로써 증가되고,The gate electrode includes a first block located within the overlap region, the area of the first block being increased by increasing the distance, 상기 게이트 전극은 상기 제1 블록이 상기 게이트 전극으로부터 분리되지 못하도록 상기 제1 블록의 양측에 위치한 한쌍의 보호 구조들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이.And the gate electrode further comprises a pair of protective structures located on both sides of the first block to prevent the first block from being separated from the gate electrode. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 소스 전극은 상기 중복 영역내에 위치한 제2 블록을 포함하고, 상기 제2 블록의 면적은 상기 거리를 증가시킴으로써 증가되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이.The liquid crystal display of claim 1, wherein the source electrode includes a second block located within the overlapping area, and the area of the second block is increased by increasing the distance. 삭제delete 스캐닝 라인 제어 회로에 연결된 스캐닝 라인;A scanning line connected to the scanning line control circuit; 상기 스캐닝 라인에 연결된 제1 게이트 전극, 제1 신호선에 연결된 제1 드레인 전극 및 제1 픽셀 전극에 연결된 제1 소스 전극을 구비하는 적어도 하나의 제1 트랜지스터를 포함하는 상기 스캐닝 라인의 제1 영역으로서, 상기 제1 게이트 전극 및 상기 제1 소스 전극 사이에 제1 중복 영역이 존재하는 제1 영역; 및A first region of the scanning line including at least one first transistor having a first gate electrode connected to the scanning line, a first drain electrode connected to a first signal line, and a first source electrode connected to a first pixel electrode A first region in which a first overlapping region exists between the first gate electrode and the first source electrode; And 상기 스캐닝 라인에 연결된 제2 게이트 전극, 제2 신호선에 연결된 제2 드레인 전극 및 제2 픽셀 전극에 연결된 제2 소스 전극을 구비하는 적어도 하나의 제2 트랜지스터를 포함하는 상기 스캐닝 라인의 상기 제1 영역에 인접한 제2 영역으로서, 상기 제2 게이트 전극 및 상기 제2 소스 전극 사이에 제2 중복 영역이 존재하는 제2 영역을 포함하며,The first region of the scanning line including at least one second transistor having a second gate electrode connected to the scanning line, a second drain electrode connected to a second signal line, and a second source electrode connected to a second pixel electrode A second region adjacent to the second region, the second region having a second overlapping region between the second gate electrode and the second source electrode; 상기 제1 영역은 상기 스캐닝 라인 제어 회로와 상기 제2 영역 사이에 위치하고, 상기 제2 중복 영역의 면적은 상기 제1 중복 영역의 면적보다 더 크며,The first area is located between the scanning line control circuit and the second area, the area of the second overlapping area is greater than the area of the first overlapping area, 상기 제1 게이트 전극은 상기 제1 중복 영역내에 위치한 제1 블록을 포함하고, 상기 제2 게이트 전극은 상기 제2 중복 영역내에 위치한 제2 블록을 포함하며, 상기 제2 블록의 면적은 상기 제1 블록의 면적보다 더 크고,The first gate electrode includes a first block located in the first overlapping region, the second gate electrode includes a second block located in the second overlapping region, and the area of the second block is the first block. Larger than the area of the block, 상기 제1 게이트 전극은 상기 제1 블록이 상기 제1 게이트 전극으로부터 분리되지 못하도록 상기 제1 블록의 양측에 위치한 한쌍의 보호 구조들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이.And the first gate electrode further comprises a pair of protective structures located on both sides of the first block to prevent the first block from being separated from the first gate electrode. 삭제delete 삭제delete 제5항에 있어서, 상기 제1 소스 전극은 상기 제1 중복 영역내에 위치한 제3 블록을 포함하고, 상기 제2 소스 전극은 상기 제2 중복 영역내에 위치한 제4 블록을 포함하며, 상기 제4 블록의 면적은 상기 제3 블록의 면적보다 더 큰 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이.6. The method of claim 5, wherein the first source electrode comprises a third block located within the first overlapping region, and the second source electrode comprises a fourth block located within the second overlapping region, and the fourth block The area of the liquid crystal display, characterized in that larger than the area of the third block.
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