KR100846120B1 - Substrate alignment device, substrate treatment apparatus having the same, method for treating substrate using the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 정렬 기구가 구비된 기판 처리 장치를 도시한 평면도.1 is a plan view showing a substrate processing apparatus having a substrate alignment mechanism according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 정렬 기구가 구비된 기판 처리 장치를 이용한 기판 정렬 방법을 나타내는 평면도.2 is a plan view showing a substrate alignment method using a substrate processing apparatus equipped with a substrate alignment mechanism according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 변경 실시예에 따른 기판 정렬 기구가 구비된 기판 처리 장치를 도시한 평면도.3 is a plan view showing a substrate processing apparatus equipped with a substrate alignment mechanism according to a modified embodiment of the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
100; 기판 처리 장치 110; 처리실100;
120; 기판 반송 샤프트 121; 축120; A
122; 반송 롤러 123; 풀리122;
124; 벨트 130; 모터124;
150; 우측 기판 정렬 기구 151-158; 우측 정렬 롤러150; Right substrate alignment mechanism 151-158; Right alignment roller
160; 좌측 기판 정렬 기구 161-168; 좌측 정렬 롤러160; Left substrate alignment mechanism 161-168; Left alignment roller
190; 기판 190a; 기판의 좌측면190;
190b; 기판의 우측면190b; Right side of substrate
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 기판 반송시 기판을 정렬시키는 기판 정렬 기구 및 이를 구비한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate alignment mechanism for aligning a substrate during substrate transfer and a substrate processing apparatus having the same.
액정 디스플레이 장치의 패널을 제조하는데 사용되는 평판 유리기판과 같은 기판을 처리하는데 있어서, 기판을 처리실 내부에서 또는 각 처리실 사이에서 반송시키기 위해선 기판을 정렬시켜야 한다. 기판을 정렬시키지 아니하고 처리실로 기판을 반송시키게 되면 기판에 손상이 가해져 공정 로스(loss)가 생기게 되어 기판 가공 생산량의 축소 내지는 수율이 감소되는 경향이 있을 수 있다. 따라서, 기판을 올바르게 정렬시킬 수 있는 기판 정렬 기구 및 이를 구비한 기판 처리 장치의 요구 내지 필요성이 있다.In processing substrates, such as flat glass substrates used to make panels of liquid crystal display devices, the substrates must be aligned to transport the substrates within or between the processing chambers. Transferring the substrate to the process chamber without aligning the substrate may cause damage to the substrate, resulting in process loss, which may result in reduced or reduced yield of substrate processing. Accordingly, there is a need and necessity of a substrate alignment mechanism capable of properly aligning a substrate and a substrate processing apparatus having the same.
본 발명은 상술한 종래 기술에서의 요구 내지는 필요를 충족시키기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 기판 반송시 정확한 정렬을 구현하고 유지할 수 있는 기판 정렬 기구 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to meet the above-mentioned demands and needs of the prior art, and an object of the present invention is to provide a substrate alignment mechanism and a substrate processing apparatus having the same, which can implement and maintain accurate alignment during substrate transfer. .
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 정렬 기구 및 기판 처리 장치는 기판과의 간격이 점진적으로 축소되도록 정렬 롤러를 배열한 것을 특징으로 한다. The substrate alignment mechanism and substrate processing apparatus according to the present invention for achieving the above object is characterized in that the alignment roller is arranged so that the distance from the substrate is gradually reduced.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 기판 정렬 기구는, 처리실의 양측면 중에서 일측면에 배치되어 상기 처리실로 투입되는 기판의 일측면과 접촉하여 상기 기판을 정렬시키고, 상기 기판의 반송 방향으로 일직선 형태로 배열된 다수개의 제1 정렬 롤러들을 구비하는 제1 기판 정렬 기구; 및 상기 처리실의 양측면 중에서 타측면에 배치되어 상기 기판의 타측면과 접촉하여 상기 기판을 정렬시키고, 상기 반송 방향과는 경사지게 배열된 다수개의 제2 정렬 롤러들과, 상기 반송 방향으로 일직선 형태로 배열된 다수개의 제3 정렬 롤러들을 구비하는 제2 기판 정렬 기구를 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate alignment mechanism according to the embodiment of the present invention capable of realizing the above characteristics is arranged on one side of both sides of the processing chamber to align the substrate in contact with one side of the substrate introduced into the processing chamber, and the transfer direction of the substrate. A first substrate alignment mechanism having a plurality of first alignment rollers arranged in a straight line; And a plurality of second alignment rollers arranged on the other side of both sides of the processing chamber to be in contact with the other side of the substrate, the second alignment rollers arranged to be inclined with the conveying direction, and arranged in a straight line in the conveying direction. And a second substrate alignment mechanism having a plurality of third alignment rollers.
본 실시예의 기구에 있어서 상기 다수개의 제1 정렬 롤러들과 상기 다수개의 제2 정렬 롤러들의 간격은 상기 반송 방향으로 갈수록 점진적으로 축소된다.In the mechanism of this embodiment, the distance between the plurality of first alignment rollers and the plurality of second alignment rollers is gradually reduced in the conveying direction.
본 실시예의 기구에 있어서 상기 다수개의 제1 정렬 롤러들과 상기 다수개의 제3 정렬 롤러들과의 간격은 일정하다.In the mechanism of this embodiment, the distance between the plurality of first alignment rollers and the plurality of third alignment rollers is constant.
본 실시예의 기구에 있어서 상기 다수개의 제2 정렬 롤러들은 상기 다수개의 제3 정렬 롤러들에 비해 상대적으로 상기 기판이 투입되는 상기 처리실의 기판 투입부에 근접하게 배치되고, 상기 다수개의 제3 정렬 롤러들은 상기 다수개의 제2 정렬 롤러들에 비해 상대적으로 상기 기판이 배출되는 상기 처리실의 기판 배출부에 근접하게 배치된다.In the mechanism of the present embodiment, the plurality of second alignment rollers are disposed closer to the substrate loading portion of the processing chamber into which the substrate is placed, relative to the plurality of third alignment rollers, and the plurality of third alignment rollers. They are disposed closer to the substrate outlet of the processing chamber from which the substrate is discharged relative to the plurality of second alignment rollers.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판에 대한 처리가 진행되는 장소를 제공하는 처리실; 상기 처리실에 배치되어 상기 기판을 반송 방향으로 반송시키는 회전 가능한 다수개의 기판 반송 샤프트; 및 상 기 처리실에 배치되어 상기 기판의 양측면과 접촉하여 상기 기판을 상기 반송 방향으로 단계적으로 정렬시키는 기판 정렬 기구를 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, which can implement the above features, includes: a processing chamber providing a place where a processing on a substrate is performed; A plurality of rotatable substrate conveying shafts disposed in the processing chamber for conveying the substrate in a conveying direction; And a substrate alignment mechanism disposed in the processing chamber and contacting both side surfaces of the substrate to align the substrate stepwise in the conveying direction.
본 실시예의 장치에 있어서 상기 기판 정렬 기구는, 상기 처리실의 우측면에 배치되어 반송 방향으로 상기 처리실로 투입되는 기판의 우측면과 접촉하여 상기 기판을 상기 반송 방향으로 정렬시키는, 그리고 상기 반송 방향으로 일직선 형태로 배열된 다수개의 우측 정렬 롤러들이 구비된 좌측 기판 정렬 기구; 및 상기 처리실의 좌측면에 배치되어 상기 반송 방향으로 상기 처리실로 투입되는 기판의 좌측면과 접촉하여 상기 기판을 상기 반송 방향으로 정렬시키는, 그리고 상기 반송 방향과는 경사지게 배열되어 상기 기판을 단계적으로 정렬시키는 다수개의 제1 좌측 정렬 롤러들과 상기 반송 방향으로 일직선 형태로 배열된 다수개의 제2 좌측 정렬 롤러들이 구비된 우측 기판 정렬 기구를 포함한다.In the apparatus of this embodiment, the substrate alignment mechanism is arranged on the right side of the processing chamber and contacts the right side of the substrate to be fed into the processing chamber in the conveying direction to align the substrate in the conveying direction, and to form a straight line in the conveying direction. A left substrate alignment mechanism having a plurality of right alignment rollers arranged in a row; And aligning the substrate in the conveying direction, in contact with the left surface of the substrate disposed on the left side of the processing chamber and fed into the processing chamber in the conveying direction, and inclined with the conveying direction. And a right substrate alignment mechanism having a plurality of first left alignment rollers and a plurality of second left alignment rollers arranged in a straight line in the conveying direction.
본 실시예의 장치에 있어서 상기 다수개의 제1 좌측 정렬 롤러들과 상기 다수개의 우측 정렬들과의 간격은 상기 반송 방향으로 갈수록 점진적으로 축소된다.In the apparatus of this embodiment, the distance between the plurality of first left alignment rollers and the plurality of right alignments is gradually reduced in the conveying direction.
본 실시예의 장치에 있어서 상기 다수개의 제2 좌측 정렬 롤러들과 상기 다수개의 우측 정렬들과의 간격은 일정하다.In the apparatus of this embodiment, the distance between the plurality of second left alignment rollers and the plurality of right alignments is constant.
본 실시예의 장치에 있어서 상기 다수개의 기판 반송 샤프트는 상기 처리실의 하부에 배치되고, 상기 기판 정렬 기구는 상기 다수개의 기판 반송 샤프트의 상부에 배치된다.In the apparatus of this embodiment, the plurality of substrate transfer shafts are disposed below the processing chamber, and the substrate alignment mechanism is disposed above the plurality of substrate transfer shafts.
본 발명에 의하면, 기판의 투입 위치 공차를 감안하여 정렬 롤러를 경사지게 배치함으로써 기판의 단계적 정렬이 가능토록 하여 정렬에 소요되는 시간을 단축시 키거나 생략할 수 있게 된다.According to the present invention, by placing the alignment roller inclined in consideration of the insertion position tolerance of the substrate to enable the stepwise alignment of the substrate it is possible to shorten or omit the time required for alignment.
이하, 본 발명에 따른 기판 정렬 기구 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a substrate alignment mechanism and a substrate processing apparatus having the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.Advantages over the present invention and prior art will become apparent through the description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the present invention may be best understood by reference to the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements throughout the various drawings.
(실시예)(Example)
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 정렬 기구 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 도시한 평면도이다.1 is a plan view showing a substrate alignment mechanism and a substrate processing apparatus having the same according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(190)이 반송 방향(A)으로 반송되어 유입되는 장소를 제공하여 기판(190)에 대한 기판 처리, 예를 들어, 약액을 이용한 약액 처리 또는 도포액을 이용한 도포 처리 등이 진행되는 처리실(110)을 갖는다. 처리실(110) 내에는 기판(190)을 반송시키는 다수개의 기판 반송 샤프트(120)가 배치되고, 처리실(110) 외부에는 기판 반송 샤프트(120)를 회전시키는 모터(130)가 구비된다. 기판(190)이 처리실(110)로 유입되면 기판(190)으로 약액이나 도포액 등이 제공되어 약액 처리되거나 도포 처리된다.Referring to FIG. 1, the
다수개의 기판 반송 샤프트(120)는 기판(190)의 반송 방향(A)으로 배향되어 배열된다. 다수개의 기판 반송 샤프트(120) 각각은 반송 방향(A)과 직교하는 방향으로 연장된 축(121)과, 축(121)에 등간격으로 삽입된 다수개의 반송 롤러(122)와, 축(121)의 양단 각각에 설치된 풀리(123)를 포함하여 구성된다. 각 기판 반송 샤프트(120)의 풀리(123)는 벨트(124)와 결합되어, 모터(130)의 구동력이 모든 기판 반송 샤프트(120)로 전달된다. 다수개의 기판 반송 샤프트(120)는 기판(190)을 수평적으로 반송할 수 있도록 수평 배열될 수 있고, 이와 다르게 기판(190)을 경사지게 반송할 수 있도록 어느 한 쪽, 가령 처리실(110)의 좌측 부분이 상대적으로 높고 우측 부분이 상대적으로 낮도록 경사지게 또는 이의 역으로 배열될 수 있다.The plurality of
처리실(110)에는 기판(190)을 정렬시키는 예를 들어 한 쌍의 기판 정렬 기구(150,160)가 배치된다. 한 쌍의 기판 정렬 기구(150,160) 중에서 처리실(110)의 일측, 즉 우측에 배치된 우측 기판 정렬 기구(160)는 기판(190)의 우측면(190b)과 접촉하여 기판(190)을 정렬시키는 다수개의 우측 정렬 롤러(151-158)로 구성된다. 유사하게, 한 쌍의 기판 정렬 기구(150,160) 중에서 처리실(110)의 타측, 즉 좌측에 배치된 좌측 기판 정렬 기구(160)는 기판(190)의 좌측면(190a)과 접촉하여 기판(190)을 정렬시키는 다수개의 좌측 정렬 롤러(161-168)로 구성된다. In the
다수개의 우측 정렬 롤러(151-158) 각각은 등간격으로 배열될 수 있고, 마찬가지로 다수개의 좌측 정렬 롤러(161-168) 각각은 등간격으로 배열될 수 있다. 우측 정렬 롤러(151-158)의 수는 좌측 정렬 롤러(161-168)의 수와 동일하게 설계할 수 있다. 우측 정렬 롤러(151-158)와 좌측 정렬 롤러(161-168)는 기판 반송샤프트(120)에 비해 높은 위치에 설치되고, 또한 서로 같은 높이로 설치된다.Each of the plurality of right alignment rollers 151-158 may be arranged at equal intervals, and likewise, each of the plurality of left alignment rollers 161-168 may be arranged at equal intervals. The number of right alignment rollers 151-158 can be designed to be equal to the number of left alignment rollers 161-168. The right alignment rollers 151-158 and the left alignment rollers 161-168 are installed at positions higher than the
다수개의 우측 정렬 롤러(151-158) 각각은 다수개의 좌측 정렬 롤러(161-168) 각각과 서로 일대일 대응되도록 마주보는 형태로 배치될 수 있다. 구체적으로 제1 좌측 정렬 롤러(161)는 제1 우측 정렬 롤러(151)와 마주보고, 마찬가지로 제2 좌측 정렬 롤러(162)는 제2 우측 정렬 롤러(152)와 마주보고, 마찬가지로 제3 내지 제8 좌측 정렬 롤러(163-168) 각각은 제3 내지 제8 우측 정렬 롤러(153-158) 각각과 마주보는 형태로 배치될 수 있다.Each of the plurality of right alignment rollers 151-158 may be disposed to face each other in a one-to-one correspondence with each of the plurality of left alignment rollers 161-168. Specifically, the first
우측 정렬 롤러(151-158)는 기판(190)의 반송 방향(A)으로 일직선 형태로 배열된다. 이와 다르게, 좌측 정렬 롤러(161-168) 중에서 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(161-164)는 경사지게 배열되고, 제5 내지 제8 좌측 정렬 롤러(165-168)는 반송 방향(A)으로 일직선 형태로 배열된다. 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(161-164)는 상기 기판(190)이 투입되는 처리실(110)의 투입부(110a)쪽에 근접하게 배치되고, 제5 내지 제8 좌측 정렬 롤러(165-168)는 기판(190)이 배출되는 처리실(110)의 배출부(110b)쪽에 근접하게 배치된다.The right alignment rollers 151-158 are arranged in a straight line in the conveying direction A of the
기판(190)이 올바르게 정렬되어 있다고 가정하면, 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(161-164)는 기판(190)과의 간격(d1-d4)이 점진적으로 축소되는 형태로 배열된다. 구체적으로, 제1 좌측 정렬 롤러(161)와 기판(190)이 제1 간격(d1)으로 이격되어 있다고 할 때, 제2 좌측 정렬 롤러(162)와 기판(190)은 제1 간격(d1)에 비해 작은 제2 간격(d2)으로 이격되고, 제3 좌측 정렬 롤러(163)와 기판(190)은 제2 간 격(d2)에 비해 작은 제3 간격(d3)으로 이격되고, 제4 좌측 정렬 롤러(164)와 기판(190)은 제3 간격(d3)에 비해 작은 제4 간격(d4)으로 이격된다. 다시 말하면, 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(161-164)와 제1 내지 제4 우측 정렬 롤러(151-154)와의 간격은 반송 방향(A)으로 갈수록 점진적으로 축소된다. 그러나, 제5 내지 제8 좌측 정렬 롤러(165-168)와 제5 내지 제8 우측 정렬 롤러(155-158)와의 간격은 일정하다.Assuming that the
제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(161-164)가 점진적으로 축소되는 간격(d1-d4)으로 경사져 배열되어 있으므로, 기판(190)이 처리실(110)로 투입되는 초기에 올바르게 정렬되어 있지 아니하더라도 기판(190)이 제1 내지 제4 정렬 롤러(161-164)를 거치는 도중에 단계적으로 올바르게 정렬된다.Since the first to fourth
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 있어서 기판의 정렬을 설명하는 평면도이다. 2 is a plan view illustrating alignment of a substrate in the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 기판(191)이 정렬되지 아니한 상태로 처리실(110)로 유입된다고 가정한다. 이하에서 1차 내지 4차 정렬이라는 것은 기판(191)이 최종적으로 올바르게 정렬되기 이전에 반송되면서 순차적으로 정렬되는 상태를 의미하는 것으로 올바른 정렬 상태를 의미하는 것은 아님에 유의하여야 할 것이다.Referring to FIG. 2, it is assumed that the
기판(191)은 우선적으로 제1 좌측 정렬 롤러(161)에 의해 1차 정렬된 상태로 유입된다. 기판 반송 샤프트(120)의 회전으로 1차 정렬된 기판(191)은 반송 방향(A)으로 반송되어져 제2 좌측 정렬 롤러(162)에 의해 2차 정렬된다. 2차 정렬된 기판(192)은 1차 정렬된 기판(191)에 비해 우측 상향에 위치하게 된다. 제2 좌측 정렬 롤러(162)에 의해 2차 정렬된 기판(192)은 계속적으로 반송 방향(A)으로 반송되어 제3 좌측 정렬 롤러(163)에 의해 3차 정렬된다. 3차 정렬된 기판(193)은 2차 정렬된 기판(192)에 비해 우측 상향에 위치하게 된다. 제3 좌측 정렬 롤러(163)에 의해 3차 정렬된 기판(193)은 계속적으로 반송 방향(A)으로 반송되어 제4 좌측 정렬 롤러(164)에 의해 4차 정렬된다. 4차 정렬된 기판(194)은 3차 정렬된 기판(193)에 비해 우측 상향에 위치하게 된다. 제4 좌측 정렬 롤러(164)에 의해 4차 정렬된 기판(194)은 계속적으로 반송 방향(A)으로 반송되어 제5 좌측 정렬 롤러(165) 및 제5 우측 정렬 롤러(155)에 의해 최종적으로 정렬된다. 최종적으로 정렬된 기판(205)은 4차 정렬된 기판(204)에 비해 우측 상향에 위치하게 된다. 최종적으로 정렬된 기판(195)은 올바르게 정렬된 상태에서 반송 방향(A)으로 반송된다.The
(변경 실시예)(Example of change)
도 3은 본 발명의 변경 실시예에 따른 기판 정렬 기구 및 이를 구비한 기판 처리 장치를 도시한 평면도이다. 본 변경 실시예는 앞서 설명한 실시예와 대동소이하므로 이하에선 실시예와 상이한 점에 대해서 자세히 설명하며 동일한 점에 대해서는 개략적으로 설명하거나 생략하기로 한다.3 is a plan view illustrating a substrate alignment mechanism and a substrate processing apparatus having the same according to an exemplary embodiment of the present invention. Since this modified embodiment is similar to the above-described embodiment, a different point from the embodiment will be described in detail below, and the same point will be outlined or omitted.
도 3을 참조하면, 본 변경 실시예의 기판 처리 장치(200)는 처리실(210) 좌우측 각각에 좌측 기판 정렬 기구(260)와 우측 기판 정렬 기구(250)를 갖는다. 우측 기판 정렬 기구(250)는 기판(290)의 반송 방향(A)으로 일직선 형태로 배열된 다 수개, 가령 제1 내지 제8 우측 정렬 롤러(251-258)를 가진다. 이와 달리, 좌측 기판 정렬 기구(260)는 다수개의 좌측 정렬 롤러(261-268)를 가지지만 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(261-264)는 경사지게 배열되고, 제5 및 제6 좌측 정렬 롤러(265-266)는 반송 방향(A)으로 일직선 형태로 배열된다. Referring to FIG. 3, the
제1 좌측 정렬 롤러(261)는 제3 우측 정렬 롤러(253)와 마주보고, 제2 좌측 정렬 롤러(262)는 제4 우측 정렬 롤러(254)와 마주보도록 배열된다. 마찬지로, 제3 내지 제6 좌측 정렬 롤러(263-266) 각각은 제5 내지 제8 우측 정렬 롤러(255-258) 각각과 마주보도록 배열된다. The first
기판(290)이 올바르게 정렬되어 있다고 가정하면, 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(261-264)는 반송 방향(A)쪽으로 갈수록 기판(290)과의 간격이 점진적으로 축소되는 형태로 배열된다. 기판(290)은 처리실(210)로 투입되어 반송 방향(A)으로 반송되는 경우 경사지게 배열된 제1 내지 제4 좌측 정렬 롤러(261-264)에 의해 단계적으로 정렬된다.Assuming that the
이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing detailed description is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments, and may be used in various other combinations, modifications, and environments without departing from the spirit of the invention. The appended claims should be construed to include other embodiments.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 기판의 투입 위치 공차를 감안하여 정렬 롤러를 경사지게 배치한다. 이에 따라, 기판의 단계적 정렬이 가능토록 하여 정렬에 소요되는 시간을 단축시키거나 생략할 수 있고, 1 사이클당 정렬 프로세스 타임을 단축할 수 있어 공정 시간을 단축시키는 효과가 있다. 게다가, 정렬 롤러 자체가 기판을 정렬시키는 기능을 가지므로써 별도의 정렬부를 생략하여 장치의 간소화를 이룰 수 있는 효과가 있다.As described in detail above, according to the present invention, the alignment roller is inclined in consideration of the insertion position tolerance of the substrate. Accordingly, it is possible to shorten or omit the time required for alignment by allowing the stepwise alignment of the substrate, and the process time can be shortened because the alignment process time per cycle can be shortened. In addition, since the alignment roller itself has a function of aligning the substrate, there is an effect of simplifying the apparatus by omitting a separate alignment unit.
Claims (12)
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---|---|---|---|
KR1020070020208A KR100846120B1 (en) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | Substrate alignment device, substrate treatment apparatus having the same, method for treating substrate using the same |
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