KR100844026B1 - Apparatus and manufacture method for electric sign of glass by chemical etching - Google Patents

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Abstract

본 발명은 케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것으로, 한 번의 에칭 공정으로 동시에 형성된 캐비티와 스페이스바를 구비한 하판 글라스와; 상기 하판 글라스에 형성된 복수개의 캐비티 각각에 연결된 ITO 전극;을 포함하여 구성함으로서, 한 번의 케미컬 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성하고 캐비티별로 별도의 전극을 형성하여 공정수를 감소시키고 캐비티별 점멸이 가능하도록 할 수 있게 되는 것이다.The present invention provides a glass electroluminescent plate by chemical etching and a method of manufacturing the same, comprising: a lower plate glass having a cavity and a space bar simultaneously formed by one etching process; By including the ITO electrode connected to each of the plurality of cavities formed in the lower glass, forming a structure having a cavity and a space bar function in one chemical etching process and by forming a separate electrode for each cavity to reduce the number of processes Cavity-specific blinking can be enabled.

케미컬 에칭, 유리전광판, 캐비티, 스페이스바, 전극 Chemical etching, glass board, cavity, space bar, electrode

Description

케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법{Apparatus and manufacture method for electric sign of glass by chemical etching}Glass electronic plate by chemical etching and its manufacturing method {Apparatus and manufacture method for electric sign of glass by chemical etching}

도 1은 종래 유리전광판의 제조방법을 보인 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a conventional glass display board.

도 2는 도 1에서 실크스크린 공정으로 스페이스바를 형성하고 샌드블라스트 공정으로 캐비티를 형성한 유리전광판의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a glass display plate in which a space bar is formed by a silk screen process and a cavity is formed by a sand blast process.

도 3은 도 1에서 하판 ITO 전극이 결합된 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the lower ITO electrode combined in FIG. 1.

도 4는 도 3의 분리도이다.4 is an exploded view of FIG. 3.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판의 제조방법을 보인 흐름도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a glass display plate by chemical etching according to an embodiment of the present invention.

도 6은 도 5에서 한 번의 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성시킨 예를 보인 공정진행도이다.FIG. 6 is a process flowchart illustrating an example in which a structure having a cavity and a space bar function is formed in one etching process in FIG. 5.

도 7은 도 6에 의해 형성된 캐비티와 스페이스바의 형성예를 보인 평면도이다.FIG. 7 is a plan view illustrating an example of formation of a cavity and a space bar formed by FIG. 6.

도 8은 도 6에 의해 캐비티 통로가 포함되어 형성된 캐비티와 스페이스바의 형성예를 보인 평면도이다.FIG. 8 is a plan view illustrating an example of forming a cavity and a space bar including the cavity passage illustrated in FIG. 6.

도 9는 도 5에서 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 예를 보인 단면도이다.9 is a cross-sectional view illustrating an example in which a separate electrode is formed for each cavity in FIG. 5.

도 10은 도 5에서 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 예를 보인 평면도이 다.FIG. 10 is a plan view illustrating an example in which a separate electrode is formed for each cavity in FIG. 5.

도 11은 도 5에서 ITO 단자부를 포함하여 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 일 예를 보인 평면도이다.FIG. 11 is a plan view illustrating an example in which a separate electrode is formed for each cavity including the ITO terminal unit in FIG. 5.

도 12는 도 5에서 ITO 단자부를 포함하여 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 다른 예를 보인 평면도이다.12 is a plan view illustrating another example in which a separate electrode is formed for each cavity including the ITO terminal unit in FIG. 5.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on main parts of the drawing

10 : 하판 글라스10: bottom glass

20 : 포토레지스트(Photo Resist, PR)20: Photo Resist (PR)

30 : 스페이스바30: spacebar

40 : 캐비티40: cavity

41 : 캐비티 통로41: cavity passage

50 : ITO 전극50: ITO electrode

51 : ITO 단자부51: ITO terminal

본 발명은 유리전광판에 관한 것으로, 특히 한 번의 케미컬 에칭(Chemical etching) 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성하고 캐비티별로 별도의 전극을 형성하여 공정수를 감소시키고 캐비티별 점멸이 가능하도록 하기에 적당하도록 한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a glass display board, and in particular, to form a structure having a cavity and a space bar function in one chemical etching process and to form a separate electrode for each cavity to reduce the number of processes and to enable blinking for each cavity The present invention relates to a glass electroluminescent plate by chemical etching and a method for producing the same, which are suitably described below.

일반적으로 유리전광판은 소정의 공간에서 가스(Gas) 방전에 의해 발생한 자외선으로 형광체가 발광되도록 한 유리평판상의 사인보드(Panel Sign) 제품이다.In general, a glass display board is a panel sign product made of a glass plate that emits phosphors by ultraviolet rays generated by a gas discharge in a predetermined space.

그래서 유리전광판은 상판과 하판의 전극유리 2장을 접합하여 사용하고 있으며, 패널은 표현하고자 하는 문자나 이미지를 자유롭게 표현한다.Therefore, the glass board is used by bonding two pieces of electrode glass of the upper plate and the lower plate, and the panel freely expresses the character or image to be expressed.

또한 PDP(Plasma Display Panel) 기술을 이용한 유리전광판은 형광물질이 도포된 얇은 판유리 두 장 사이를 진공으로 만들고, 특수 가스를 넣은 기본구조로서, 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜 발광하게 한다.In addition, the glass display panel using PDP (Plasma Display Panel) technology makes a vacuum between two sheets of thin glass plate coated with fluorescent material, and puts special gas into it, and converts electrical energy into light energy to emit light.

방전은 캐비티 내부에 형광물질이 도포된 형광층이 형성되어 있고, 불활성 방전 가스가 주입/충전되어, 자외선 발광을 함으로서, 휘도가 뛰어나고, 수은을 사용하지 않을 경우 친환경적이다.The discharge has a fluorescent layer coated with a fluorescent material inside the cavity, the inert discharge gas is injected / charged, and emits ultraviolet rays, so the brightness is excellent and environmentally friendly when mercury is not used.

여기서 플라즈마란 고온에서 음전하를 가진 전자와 양전하를 띤 이온으로 분리된 기체 상태로서 전하분리도가 상당히 높으면서도, 전체적으로는 음과 양의 전하수가 같아서 중성을 띠는 제 4의 물질상태를 말한다. 현재 우주의 99%가 플라즈마 상태로 알려져 있다. 형광등, 네온, 오로라, 번개 등이 플라즈마 상태의 대표적인 모습이다.Here, the plasma refers to a fourth material state in which a gas state is separated into electrons having a negative charge and positively charged ions at a high temperature, and the charge separation degree is very high, but the neutral and negative number of charges is the same. Currently 99% of the universe is known as plasma. Fluorescent lights, neon lights, auroras and lightning are typical of plasma states.

도 1은 종래 유리전광판의 제조방법을 보인 흐름도이고, 도 2는 도 1에서 실크스크린 공정으로 스페이스바를 형성하고 샌드블라스트 공정으로 캐비티를 형성한 유리전광판의 단면도이며, 도 3은 도 1에서 하판 ITO 전극이 결합된 단면도이고, 도 4는 도 3의 분리도이다.1 is a flowchart illustrating a conventional method of manufacturing a glass display plate, FIG. 2 is a cross-sectional view of a glass display plate in which a space bar is formed by a silk screen process in FIG. 1 and a cavity is formed by a sandblast process, and FIG. 3 is a lower plate ITO in FIG. 4 is a cross-sectional view of the electrode coupled, and FIG.

이에 도시된 바와 같이, 실크스크린 공정으로 스페이스바(4)를 형성시키는 단계(ST1)와; 상기 스페이스바(4) 형성 후 샌드블라스트 공정으로 캐비티(6)를 형성시키는 단계(ST2)와; 상기 캐비티(6) 형성 후 하판 글라스(1)에 한 개의 ITO 전극(7)을 결합시키는 단계(ST3);를 수행한다.As shown therein, the step of forming the space bar 4 by a silkscreen process (ST1); Forming a cavity (6) by the sandblasting process after forming the space bar (4); After the cavity 6 is formed, the step (ST3) of coupling one ITO electrode 7 to the lower plate glass 1 is performed.

또한 미설명부호 2는 상판 글라스이고, 3은 상기 하판 글라스(1)와 상판 글라스(2)를 접합시키는 실링재이며, 5는 상기 캐비티(6) 상의 상기 하판 글라스(1)에 도포되어 방전되는 형광물질이다.In addition, reference numeral 2 denotes an upper plate glass, 3 denotes a sealing material for bonding the lower plate glass 1 and the upper plate glass 2, and 5 denotes a fluorescent material applied to and discharged from the lower plate glass 1 on the cavity 6. It is a substance.

그러나 이러한 종래 기술에서는 가스에 의한 플라즈마 방전 공간을 구획하는 스페이스바(4)를 형성하기 위한 실크 스크린 공정과 캐비티(6) 형성을 위한 샌드 블라스트 공정이 별도로 필요하여 공정수가 많은 문제점이 있었다.However, in the related art, a silk screen process for forming the space bar 4 for partitioning a plasma discharge space by gas and a sand blast process for forming the cavity 6 are required separately, resulting in a large number of processes.

또한 캐비티(6)를 형성하기 위한 샌드블라스트 공정은 표면 요철을 발생시켜 표면이 매끄럽지 못한 문제점도 있었다.In addition, the sandblasting process for forming the cavity 6 has a problem that the surface is not smooth by generating surface irregularities.

또한 종래에는 한 개의 ITO 전극(7)을 캐비티(6)에 연결시키기 때문에 개별 캐비티(6)의 점멸이 되지 않는 단점도 있었다.In addition, conventionally, since one ITO electrode 7 is connected to the cavity 6, there is a disadvantage that the individual cavity 6 does not blink.

이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 한 번의 케미컬 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성하고 캐비티별로 별도의 전극을 형성하여 공정수를 감소시키고 캐비티별 점멸이 가능하도록 할 수 있는 케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the conventional problems as described above, and an object of the present invention is to form a structure having a cavity and a space bar function in one chemical etching process and to form a separate electrode for each cavity. The present invention provides a glass display plate by chemical etching and a method of manufacturing the same, which can reduce the number and enable flickering by cavity.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일실시예에 의한 케미컬 에 칭에 의한 유리전광판은,In order to achieve the above object, the glass display plate by the chemical etching according to the embodiment of the present invention,

한 번의 에칭 공정으로 동시에 형성된 캐비티와 스페이스바를 구비한 하판 글라스와; 상기 하판 글라스에 형성된 복수개의 캐비티 각각에 연결된 ITO 전극;을 포함하여 이루어짐을 그 기술적 구성상의 특징으로 한다.A bottom plate glass having a cavity and a space bar simultaneously formed in one etching process; It characterized in that it comprises a; ITO electrode connected to each of the plurality of cavities formed in the lower glass.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일실시예에 의한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판의 제조방법은,In order to achieve the above object, a method of manufacturing a glass plate by chemical etching according to an embodiment of the present invention,

유리전광판의 하판 글라스에 대해 한 번의 에칭 공정을 수행하여 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성시키는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계 후 상기 캐비티 별로 별도의 ITO 전극을 형성시키는 제 2 단계;를 포함하여 수행함을 그 기술적 구성상의 특징으로 한다.A first step of forming a structure having a cavity and a space bar by performing one etching process on the lower glass of the glass display plate; And a second step of forming a separate ITO electrode for each cavity after the first step.

이하, 상기와 같은 본 발명, 케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법의 기술적 사상에 따른 일실시예를 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, one embodiment according to the present invention as described above, the technical idea of the glass plate and the manufacturing method by the chemical etching with reference to the drawings as follows.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판의 제조방법을 보인 흐름도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a glass display plate by chemical etching according to an embodiment of the present invention.

이에 도시된 바와 같이, 유리전광판의 하판 글라스(10)에 대해 한 번의 에칭 공정을 수행하여 캐비티(40)와 스페이스바(30) 기능을 갖는 구조를 형성시키는 제 1 단계(ST11)와; 상기 제 1 단계 후 상기 캐비티(40) 별로 별도의 ITO 전극(50)을 형성시키는 제 2 단계(ST12);를 포함하여 수행하는 것을 특징으로 한다.As shown therein, a first step (ST11) of forming a structure having a cavity 40 and a space bar 30 by performing a single etching process on the lower glass 10 of the glass plate; And a second step ST12 for forming a separate ITO electrode 50 for each cavity 40 after the first step.

도 6은 도 5에서 한 번의 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성시킨 예를 보인 공정진행도이고, 도 7은 도 6에 의해 형성된 캐비티와 스페이스바의 형성예를 보인 평면도이며, 도 8은 도 6에 의해 캐비티 통로가 포함되어 형성된 캐비티와 스페이스바의 형성예를 보인 평면도이다.FIG. 6 is a process flow diagram illustrating an example in which a structure having a cavity and a space bar function is formed in one etching process in FIG. 5, and FIG. 7 is a plan view illustrating an example of formation of a cavity and a space bar formed by FIG. 6. FIG. 8 is a plan view illustrating an example of forming a cavity and a space bar including the cavity passage illustrated in FIG. 6.

이에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 단계는, 상기 하판 글라스(10)에 포토레지스트(20)를 형성하는 제 11 단계와; 상기 제 11 단계 후 상기 포토레지스트(20)가 형성된 상기 하판 글라스(10)에 케미컬 에칭을 수행하여 상기 캐비티(40)와 상기 스페이스바(30) 기능을 갖는 구조를 형성시키는 제 12 단계와; 상기 제 12 단계 후 상기 케미컬 에칭 후 상기 포토레지스트(20)를 제거하여 상기 하판 글라스(10)에서 상기 캐비티(40)와 상기 스페이스바(30)를 완성시키는 제 13 단계;를 포함하여 수행하는 것을 특징으로 한다.As shown therein, the first step includes: an eleventh step of forming a photoresist 20 in the lower glass 10; A twelfth step of forming a structure having the function of the cavity 40 and the space bar by performing chemical etching on the lower glass 10 on which the photoresist 20 is formed after the eleventh step; And a thirteenth step of completing the cavity 40 and the space bar 30 in the lower plate glass 10 by removing the photoresist 20 after the chemical etching after the twelfth step. It features.

도 9는 도 5에서 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 예를 보인 단면도이고, 도 10은 도 5에서 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 예를 보인 평면도이며, 도 11은 도 5에서 ITO 단자부를 포함하여 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 일 예를 보인 평면도이고, 도 12는 도 5에서 ITO 단자부를 포함하여 캐비티별로 별도의 전극을 형성시킨 다른 예를 보인 평면도이다.FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating an example in which separate electrodes are formed for each cavity in FIG. 5, and FIG. 10 is a plan view illustrating an example in which separate electrodes are formed for each cavity in FIG. 5, and FIG. 11 includes an ITO terminal unit in FIG. 5. FIG. 12 is a plan view illustrating an example in which separate electrodes are formed for each cavity, and FIG. 12 is a plan view illustrating another example in which separate electrodes are formed for each cavity including an ITO terminal unit in FIG. 5.

한편 본 발명의 일 실시예에 의한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판은, 상기 케미컬 에칭에 의한 유리전광판의 제조방법에 의해 제조되고, 한 번의 에칭 공정으로 동시에 형성된 캐비티(40)와 스페이스바(30)를 구비한 하판 글라스(10)와; 상기 하판 글라스(10)에 형성된 복수개의 캐비티(40) 각각에 연결된 ITO 전극(50);을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.On the other hand, the glass plate by the chemical etching according to an embodiment of the present invention, the manufacturing method of the glass plate by the chemical etching, the cavity 40 and the space bar 30 formed at the same time in one etching process Lower plate glass 10 provided; And an ITO electrode 50 connected to each of the plurality of cavities 40 formed in the lower plate glass 10.

상기 하판 글라스(10)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 하판 글라스(10)에서 포토레지스트(20)를 도포하지 않음으로써 형성되고, 상기 캐비티(40)들 간의 통로를 만들어 가스 배기 공간을 형성시키는 캐비티 통로(41);를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.As shown in FIG. 8, the lower glass 10 is formed by not applying the photoresist 20 in the lower glass 10, and forms a passage between the cavities 40 to form a gas exhaust space. It is characterized in that the configuration further comprises a; cavity cavity 41 to form.

상기 ITO 전극(50)은, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 하판 글라스(10)의 외곽 둘레 쪽에 설치되어 공급되는 전원을 상기 ITO 전극(50)으로 제공하는 ITO 단자부(51);를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.As shown in FIGS. 11 and 12, the ITO electrode 50 may include: an ITO terminal part 51 configured to provide power to the ITO electrode 50 to be supplied and installed at an outer periphery of the lower plate glass 10; Characterized in that further comprises a.

상기 ITO 전극(50)은, 상기 캐비티(40)들에 별도의 전원을 공급하도록 상기 하판 글라스(10)의 상측면과 하측면에 동일한 패턴으로 형성된 것을 특징으로 한다.The ITO electrode 50 is formed in the same pattern on the upper side and the lower side of the lower glass 10 to supply separate power to the cavities 40.

상기 ITO 전극(50)은, 상기 하판 글라스(10)의 일 측면에 대해서는 전면전극으로 구성하고, 다른 측면에 대해서는 상기 캐비티(40)들에 별도의 전원을 공급하도록 패턴이 형성되도록 구성된 것을 특징으로 한다.The ITO electrode 50 is configured to form a pattern so as to form a front electrode on one side of the lower glass 10, and to supply separate power to the cavities 40 on the other side. do.

이와 같이 구성된 본 발명에 의한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 판례 등에 따라 달라질 수 있으며, 이에 따라 각 용어의 의미는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 해석되어야 할 것이다.Referring to the accompanying drawings, the preferred embodiment of the glass electroluminescent plate by chemical etching and a method of manufacturing the same according to the present invention configured as described above are as follows. In the following description of the present invention, detailed descriptions of well-known functions or configurations will be omitted if it is determined that the detailed description of the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention. In addition, terms to be described below are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to intention or precedent of a user or an operator, and thus, the meaning of each term should be interpreted based on the contents throughout the present specification. will be.

먼저 본 발명은 한 번의 케미컬 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성하고 캐비티별로 별도의 전극을 형성하여 공정수를 감소시키고 캐비티별 점멸이 가능하도록 하고자 한 것이다.First, the present invention is to form a structure having a cavity and a space bar function in one chemical etching process, and to form a separate electrode for each cavity to reduce the number of processes and to enable blinking for each cavity.

그래서 도 5에서와 같이 유리전광판의 하판 글라스(10)에 대해 한 번의 에칭 공정을 수행하여 캐비티(40)와 스페이스바(30) 기능을 갖는 구조를 형성시킨다(ST11).Thus, as shown in FIG. 5, one etching process is performed on the lower glass 10 of the glass display plate to form a structure having the functions of the cavity 40 and the space bar 30 (ST11).

이를 위해 도 6에서와 같이 하판 글라스(10)에 포토레지스트(20)를 형성한다.To this end, the photoresist 20 is formed on the lower glass 10 as shown in FIG. 6.

그리고 포토레지스트(20)가 형성된 하판 글라스(10)에 케미컬 에칭을 수행하여 캐비티(40)와 스페이스바(30) 기능을 갖는 구조를 형성시킨다. 이때 케미컬 에칭에 의해 캐비티(40)를 형성하고 캐비티 간 통로(41)를 형성한다. 캐비티 간 통로(41)는 하판 글라스(10)에서 포토레지스트(20)를 도포하지 않음으로써 형성한다. 에칭된 표면은 매끄럽기 때문에 캐비티 간 통로(41)를 형성하여도 표시가 나지 않는다. 이렇게 캐비티 간 통로(41)를 형성하였기 때문에 배기시간에는 전혀 문제가 되지 않는다.Then, chemical etching is performed on the lower glass 10 on which the photoresist 20 is formed to form a structure having the functions of the cavity 40 and the space bar 30. At this time, the cavity 40 is formed by chemical etching, and the inter-cavity passage 41 is formed. The intercavity passage 41 is formed by not applying the photoresist 20 on the lower plate glass 10. Since the etched surface is smooth, no indication occurs even when the inter-cavity passage 41 is formed. Thus, since the cavity 41 is formed, the exhaust time is not a problem at all.

그런 다음 케미컬 에칭 후 포토레지스트(20)를 제거하여 하판 글라스(10)에서 캐비티(40)와 스페이스바(30)를 완성시키게 된다.Then, after the chemical etching, the photoresist 20 is removed to complete the cavity 40 and the space bar 30 in the lower plate glass 10.

이에 따라 한 번의 공정으로 캐비티(40)와 스페이스바(30) 기능을 갖는 구조 를 형성하여 공정수가 줄어들게 된다.Accordingly, the number of processes is reduced by forming a structure having the functions of the cavity 40 and the space bar 30 in one step.

그리고 캐비티(40) 형성 후 캐비티(40) 별로 별도의 ITO 전극(50)을 형성시켜 하판의 ITO 전극(50)을 붙여준다(ST12).After the cavity 40 is formed, a separate ITO electrode 50 is formed for each cavity 40 and the ITO electrode 50 of the lower plate is pasted (ST12).

또한 ITO 단자부(51)를 하판 글라스(10)의 외곽 둘레 쪽에 설치한다.In addition, the ITO terminal 51 is provided on the outer circumferential side of the lower plate glass 10.

그리고 ITO 전극(50)은 캐비티(40)들에 별도의 전원을 공급하도록 하판 글라스(10)의 상측면과 하측면에 동일한 패턴으로 형성할 수도 있다. 또한 ITO 전극(50)은 하판 글라스(10)의 일 측면에 대해서는 전면전극으로 구성하고, 다른 측면에 대해서는 캐비티(40)들에 별도의 전원을 공급하도록 패턴이 형성되도록 구성할 수도 있다.In addition, the ITO electrode 50 may be formed in the same pattern on the upper side and the lower side of the lower glass 10 to supply separate power to the cavities 40. In addition, the ITO electrode 50 may be configured to form a front electrode on one side of the lower plate glass 10, and to supply separate power to the cavities 40 on the other side.

이렇게 캐비티(40) 별로 별도의 전극을 형성함으로써 캐비티(40) 별 점멸이 가능하게 된다.Thus, by forming a separate electrode for each cavity 40, it is possible to blink for each cavity (40).

이처럼 본 발명은 한 번의 케미컬 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성하고 캐비티별로 별도의 전극을 형성하여 공정수를 감소시키고 캐비티별 점멸이 가능하도록 하게 되는 것이다.As such, the present invention forms a structure having a cavity and a space bar function in one chemical etching process, and forms a separate electrode for each cavity, thereby reducing the number of processes and allowing blinking for each cavity.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의한 케미컬 에칭에 의한 유리전광판 및 그 제조방법은 한 번의 케미컬 에칭 공정으로 캐비티와 스페이스바 기능을 갖는 구조를 형성하고 캐비티별로 별도의 전극을 형성하여 공정수를 감소시키고 캐비티별 점멸이 가능하도록 할 수 있는 효과가 있게 된다.As described above, the glass plate according to the chemical etching and the method of manufacturing the same according to the present invention form a structure having a cavity and a space bar function in one chemical etching process and form a separate electrode for each cavity to reduce the number of processes. It is effective to make it possible to blink by cavity.

또한 본 발명은 케이컬 에칭에 의해 유리전광판을 제조하여 박형의 판넬을 제조할 수 있는 효과도 있게 된다.In addition, the present invention also has the effect of producing a thin panel by producing a glass display plate by the caulk etching.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 한정하여 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수 있다. 따라서 본 발명은 상기 실시예를 적절히 변형하여 응용할 수 있고, 이러한 응용도 하기 특허청구범위에 기재된 기술적 사상을 바탕으로 하는 한 본 발명의 권리범위에 속하게 됨은 당연하다 할 것이다.Although the above has been described as being limited to the preferred embodiment of the present invention, the present invention is not limited thereto and various changes, modifications, and equivalents may be used. Therefore, the present invention can be applied by appropriately modifying the above embodiments, it will be obvious that such application also belongs to the scope of the present invention based on the technical idea described in the claims below.

Claims (7)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 한 번의 에칭 공정으로 동시에 형성된 캐비티(40)와 스페이스바(30)를 구비한 하판 글라스(10)와;A lower plate glass 10 having a cavity 40 and a space bar 30 simultaneously formed by one etching process; 상기 하판 글라스(10)에 형성된 복수개의 캐비티(40) 각각에 연결된 ITO 전극(50);을 포함하여 구성되되,And an ITO electrode 50 connected to each of the plurality of cavities 40 formed in the lower glass 10. 상기 하판 글라스(10)는,The lower glass 10, 상기 하판 글라스(10)에서 포토레지스트(20)를 도포하지 않음으로써 형성되고, 상기 캐비티(40)들 간의 통로를 만들어 가스 배기 공간을 형성시키는 캐비티 통로(41);를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 케미컬 에칭에 의한 유리전광판.And a cavity passage 41 formed by not applying the photoresist 20 in the lower plate glass 10 and forming a gas exhaust space by forming a passage between the cavities 40. A glass display plate by chemical etching. 한 번의 에칭 공정으로 동시에 형성된 캐비티(40)와 스페이스바(30)를 구비한 하판 글라스(10)와;A lower plate glass 10 having a cavity 40 and a space bar 30 simultaneously formed by one etching process; 상기 하판 글라스(10)에 형성된 복수개의 캐비티(40) 각각에 연결된 ITO 전극(50);을 포함하여 구성되되,And an ITO electrode 50 connected to each of the plurality of cavities 40 formed in the lower glass 10. 상기 ITO 전극(50)은,The ITO electrode 50, 상기 하판 글라스(10)의 외곽 둘레 쪽에 설치되어 공급되는 전원을 상기 ITO 전극(50)으로 제공하는 ITO 단자부(51);를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 케미컬 에칭에 의한 유리전광판.And an ITO terminal part (51) for supplying power supplied to the ITO electrode (50), which is installed at an outer circumference of the lower plate glass (10). 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서, 상기 ITO 전극(50)은,The method according to claim 4 or 5, wherein the ITO electrode 50, 상기 캐비티(40)들에 별도의 전원을 공급하도록 상기 하판 글라스(10)의 상측면과 하측면에 동일한 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 케미컬 에칭에 의한 유리전광판.Glass display plate by chemical etching, characterized in that formed in the same pattern on the upper and lower surfaces of the lower plate glass 10 to supply separate power to the cavities (40). 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서, 상기 ITO 전극(50)은,The method according to claim 4 or 5, wherein the ITO electrode 50, 상기 하판 글라스(10)의 일 측면에 대해서는 전면전극으로 구성하고, 다른 측면에 대해서는 상기 캐비티(40)들에 별도의 전원을 공급하도록 패턴이 형성되도록 구성된 것을 특징으로 하는 케미컬 에칭에 의한 유리전광판.One side of the lower plate glass 10 is configured as a front electrode, and the other side is a glass display plate by chemical etching, characterized in that the pattern is formed to supply a separate power to the cavity (40).
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