KR100832646B1 - Open-hole based diffractive optical modulator - Google Patents

Open-hole based diffractive optical modulator Download PDF

Info

Publication number
KR100832646B1
KR100832646B1 KR1020050034685A KR20050034685A KR100832646B1 KR 100832646 B1 KR100832646 B1 KR 100832646B1 KR 1020050034685 A KR1020050034685 A KR 1020050034685A KR 20050034685 A KR20050034685 A KR 20050034685A KR 100832646 B1 KR100832646 B1 KR 100832646B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reflector
light
base member
open hole
reflecting
Prior art date
Application number
KR1020050034685A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20060047478A (en
Inventor
윤상경
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020050000907A external-priority patent/KR20050118105A/en
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to US11/152,823 priority Critical patent/US7206118B2/en
Priority to JP2005299193A priority patent/JP4318684B2/en
Priority to DE102005051274A priority patent/DE102005051274A1/en
Priority to FR0511173A priority patent/FR2884932B1/en
Priority to CNB200510120099XA priority patent/CN100485443C/en
Priority to GB0600087A priority patent/GB2425613B/en
Priority to GB0600093A priority patent/GB2425614B/en
Publication of KR20060047478A publication Critical patent/KR20060047478A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100832646B1 publication Critical patent/KR100832646B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0808Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more diffracting elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00015Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
    • B81C1/00134Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems comprising flexible or deformable structures
    • B81C1/00142Bridges
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/085Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by electromagnetic means
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0858Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/85Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • H10N30/853Ceramic compositions
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2225/00Active addressable light modulator
    • G03H2225/20Nature, e.g. e-beam addressed
    • G03H2225/24Having movable pixels, e.g. microelectromechanical systems [MEMS]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

본 발명은 회절 광변조기에 관한 것으로서, 특히 기반 부재에 하부반사부를 형성하고 기반 부재로부터 이격되어 위치한 상부 마이크로 미러에 오픈 홀을 구비하여 한개의 리본 형상의 상부 마이크로 미러를 가진 엘리멘트로 1픽셀을 구현할 수 있는 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a diffractive light modulator, and more particularly, to form one pixel with an element having one ribbon-shaped upper micromirror by forming a lower reflector in the base member and having an open hole in the upper micromirror positioned away from the base member. The present invention relates to an open hole-based diffractive light modulator.

광변조기, 회절, 마이크로 미러, 마이크로 미러 어레이, 오픈홀  Light Modulator, Diffraction, Micro Mirror, Micro Mirror Array, Open Hole

Description

오픈홀 기반의 회절 광변조기{Open-hole based diffractive optical modulator}Open-hole based diffractive optical modulator

도 1은 종래 기술의 정전기 방식 격자 광 변조기를 도시하는 도면.1 illustrates a prior art electrostatic grating light modulator.

도 2는 종래 기술의 정전기 방식 격자 광 변조기가 변형되지 않는 상태에서 입사광을 반사시키는 것을 도시하는 도면.2 is a diagram illustrating reflecting incident light in a state where the electrostatic grating light modulator of the prior art is not deformed.

도 3은 종래 기술의 격자 광 변조기가 정전기력에 의해 변형된 상태에서 입사광을 회절시키는 것을 도시하는 도면.3 shows a diffraction of incident light in a state in which a prior art grating light modulator is deformed by electrostatic force.

도 4는 종래 기술에 압전 재료를 가지고 있는 함몰부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러의 측면도.4 is a side view of a diffractive thin film piezoelectric micromirror with depressions having a piezoelectric material in the prior art;

도 5a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분절단 사시도.5A is a partially cutaway perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a first embodiment of the present invention;

도 5b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5B is a fragmentary perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a second embodiment of the present invention;

도 5c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5C is a fragmentary perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a third embodiment of the present invention;

도 5d는 본 발명의 제4 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5D is a partially cutaway perspective view of an open hole-based diffractive light modulator according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5e는 본 발명의 제5 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5E is a fragmentary perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a fifth embodiment of the present invention;

도 5f는 본 발명이 제6 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5F is a fragmentary perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a sixth embodiment of the present invention;

도 5g는 본 발명의 제7 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5G is a partially cutaway perspective view of an open hole-based diffractive light modulator according to a seventh embodiment of the present invention;

도 5h는 본 발명의 제8 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5H is a partially cutaway perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to an eighth embodiment of the present invention;

도 5i는 본 발명의 제9 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.FIG. 5I is a partial cutaway perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a ninth embodiment of the present invention; FIG.

도 5j는 본 발명의 제10 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 부분 절단 사시도.5J is a fragmentary perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator according to a tenth embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 1D 어레이 구조를 나타내는 도면.FIG. 6 is a diagram illustrating an element 1D array structure of an open hole-based diffractive optical modulator according to a first embodiment of the present invention. FIG.

도 7은 본 발명의 제7 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 2D 어레이 구조를 나타내는 도면.FIG. 7 is a diagram illustrating an element 2D array structure of an open hole-based diffractive optical modulator according to a seventh embodiment of the present invention. FIG.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 디스플레이 시스템의 구성도.8 is a block diagram of a display system using an open hole-based diffractive light modulator according to an embodiment of the present invention.

도 9a은 본 발명의 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 1D 어레이의 상부 마이크로 미러에 입사광이 비스듬히 조명된 경우를 예시한 사시도이고, 도 9b은 본 발명의 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 1D 어레이의 상부 마이크로 미러에 입사광이 수직으로 입사된 경우를 예시한 사시도.9A is a perspective view illustrating a case in which incident light is obliquely illuminated on an upper micro mirror of an element 1D array of an open hole-based diffractive light modulator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9B is an open hole according to an embodiment of the present invention. Perspective illustrating the case where incident light is incident vertically on the upper micromirror of the element 1D array of the diffraction light modulator based.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

501a~501j : 기반 부재 502a, 502b, 502d~502j : 절연층501a to 501j: base member 502a, 502b, 502d to 502j: insulating layer

503a~503h, 510i, 510j : 하부 반사부 503a to 503h, 510i, and 510j: bottom reflector

510a~510f : 엘리멘트 510g~510j : 상부 마이크로 미러 510a ~ 510f: Element 510g ~ 510j: Upper Micro Mirror

530a~530f : 상부 마이크로 미러530a ~ 530f: upper micro mirror

531a1~531a3, 531b1~531b3, 531c1~531c3, 531d1, 531d2, 531e1~531e3, 531f1, 531f2, 511g1~511g3, 511h1, 511h2, 531i1~531i3, 531j1, 531j2 : 오픈홀531a1 ~ 531a3, 531b1 ~ 531b3, 531c1 ~ 531c3, 531d1, 531d2, 531e1 ~ 531e3, 531f1, 531f2, 511g1 ~ 511g3, 511h1, 511h2, 531i1 ~ 531i3, 531j1, 531j2: Open Hole

540a~540f : 상부 반사부 802 : 디스플레이 광학계540a to 540f: upper reflector 802: display optical system

804 : 디스플레이 전자계 806 : 광원804: display electromagnetic field 806: light source

808 : 조명 광학계 810 : 오픈홀 기반의 회절광변조기808: illumination optical system 810: open hole-based diffraction light modulator

812 : 필터링 광학부 816 : 투영 및 스캐닝 광학부812: filtering optics 816: projection and scanning optics

본 발명은 회절 광변조기에 관한 것으로서, 특히 기반부재에 하부반사부를 형성하고 기반부재로부터 이격되어 위치한 상부 마이크로 미러에 오픈 홀을 구비하여 한개의 리본형상의 상부 마이크로 미러를 가진 엘리멘트로 1픽셀을 구현할 수 있는 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a diffractive light modulator, and more particularly, to form one pixel with an element having one ribbon-shaped upper micromirror by forming a lower reflector in the base member and having an open hole in the upper micromirror positioned away from the base member. The present invention relates to an open hole-based diffractive light modulator.

일반적으로, 광신호처리는 많은 데이타 양과 실시간 처리가 불가능한 기존의 디지탈 정보처리와는 달리 고속성과 병렬처리 능력, 대용량의 정보처리의 장점을 지니고 있으며, 공간 광변조이론을 이용하여 이진위상 필터 설계 및 제작, 광논리게이트, 광증폭기 등과 영상처리 기법, 광소자, 광변조기 등의 연구가 진행되고 있다. In general, optical signal processing has advantages of high speed, parallel processing capability, and large-capacity information processing, unlike conventional digital information processing, which cannot process a large amount of data and real-time processing, and design a binary phase filter using spatial light modulation theory. Research on fabrication, optical logic gates, optical amplifiers, image processing techniques, optical devices, optical modulators, etc.

이중 공간 광변조기는 광메모리, 광디스플레이, 프린터, 광인터커넥션, 홀로그램 등의 분야에 사용되며, 이를 이용한 표시장치의 개발 연구가 진행되고 있다.The dual spatial optical modulator is used in the fields of optical memory, optical display, printer, optical interconnection, hologram, and the like, and research on the development of a display device using the same is underway.

이러한 공간 광변조기로는 일예로 도 1에 도시된 바와 같은 반사형 변형 가능 격자 광변조기(10)이다. 이러한 변조기(10)는 블룸 등의 미국특허번호 제 5,311,360호에 개시되어 있다. 변조기(10)는 반사 표면부를 가지며 기판(16) 상부에 부유(suspended)하는 복수의 일정하게 이격하는 변형 가능 반사형 리본(18)을 포함한다. 절연층(11)이 실리콘 기판(16)상에 증착된다. 다음으로, 희생 이산화실리콘 막(12) 및 저응력 질화실리콘 막(14)의 증착이 후속한다. Such a spatial light modulator is, for example, a reflective deformable grating light modulator 10 as shown in FIG. 1. Such a modulator 10 is disclosed in US Pat. No. 5,311,360 to Bloom et al. The modulator 10 includes a plurality of regularly spaced deformable reflective ribbons 18 having reflective surface portions and suspended above the substrate 16. An insulating layer 11 is deposited on the silicon substrate 16. Next, deposition of the sacrificial silicon dioxide film 12 and the low stress silicon nitride film 14 is followed.

질화물 막(14)은 리본(18)으로부터 패터닝되고 이산화실리콘층(12)의 일부가 에칭되어 리본(18)이 질화물 프레임(20)에 의해 산화물 스페이서층(12)상에 유지되 도록 한다. The nitride film 14 is patterned from the ribbon 18 and a portion of the silicon dioxide layer 12 is etched so that the ribbon 18 is retained on the oxide spacer layer 12 by the nitride frame 20.

단일 파장 λ0를 가진 광을 변조시키기 위해, 변조기는 리본(18)의 두께와 산화물 스페이서(12)의 두께가 λ0/4가 되도록 설계된다.In order to modulate light having a single wavelength λ 0, the modulator is designed thick with a thickness of the oxide spacers 12 of the ribbon 18 so that the λ 0/4.

리본(18)상의 반사 표면(22)과 기판(16)의 반사 표면 사이의 수직 거리 d로 한정된 이러한 변조기(10)의 격자 진폭은 리본(18)(제 1 전극으로서의 역할을 하는 리본(16)의 반사 표면(22))과 기판(16)(제 2 전극으로서의 역할을 하는 기판(16) 하부의 전도막(24)) 사이에 전압을 인가함으로써 제어된다. The lattice amplitude of this modulator 10, defined by the vertical distance d between the reflective surface 22 on the ribbon 18 and the reflective surface of the substrate 16, is the ribbon 18 (the ribbon 16 serving as the first electrode). Is controlled by applying a voltage between the reflective surface 22 of the substrate 16 and the substrate 16 (the conductive film 24 under the substrate 16 serving as the second electrode).

변형되지 않은 상태에서, 즉, 어떠한 전압도 인가되지 않은 상태에서, 격자 진폭은 λ0/2와 같고, 리본과 기판으로부터 반사된 광 사이의 전체 경로차는 λ0와 같아서, 이러한 반사광에 위상을 보강시킨다. In the undeformed condition, that is, while no voltage is not applied, the grating amplitude is λ 0 / equal to 2, the car full path between reflected from the ribbons and the substrate the light like a λ 0, the reinforcing phase such reflected light Let's do it.

따라서, 변형되지 않은 상태에서, 변조기(10)는 평면거울로서 광을 반사한다. 변형되지 않은 상태가 입사광과 반사광을 도시하는 도 2에 20으로서 표시된다. Thus, in the undeformed state, the modulator 10 reflects light as a planar mirror. The undeformed state is indicated as 20 in FIG. 2 showing incident light and reflected light.

적정 전압이 리본(18)과 기판(16) 사이에 인가될 때, 정전기력이 리본(18)을 기판(16) 표면 방향으로 다운(down) 위치로 변형시킨다. 다운 위치에서, 격자 진폭은 λ0/4와 같게 변한다. 전체 경로차는 파장의 1/2이고, 변형된 리본(18)으로부터 반사된 광과 기판(16)으로부터 반사된 광이 상쇄 간섭을 하게 된다. When a proper voltage is applied between the ribbon 18 and the substrate 16, electrostatic forces deform the ribbon 18 in the down position toward the surface of the substrate 16. In the down position, the grating amplitude is changed like the λ 0/4. The total path difference is half of the wavelength, and the light reflected from the modified ribbon 18 and the light reflected from the substrate 16 have a destructive interference.

이러한 간섭의 결과, 변조기는 입사광(26)을 회절시킨다. 변형된 상태가 +/- 회절모드(D+1, D-1)로 회절된 광을 도시하는 도 3에 각각 28과 30으로 표시된 다.As a result of this interference, the modulator diffracts incident light 26. The modified state is indicated by 28 and 30 in FIG. 3, respectively, showing the light diffracted in the +/- diffraction modes (D + 1, D-1).

그러나, 블룸의 광변조기는 마이크로 미러의 위치 제어를 위해서 정전기 방식을 이용하는데, 이의 경우 동작 전압이 비교적 높으며(보통 30V 내외) 인가전압과 변위의 관계가 선형적이지 않은 등의 단점이 있어 결과적으로 광을 조절하는데 신뢰성이 높지 않는 단점이 있다.However, BLUM's optical modulator uses an electrostatic method to control the position of the micromirror, in which case the operating voltage is relatively high (usually around 30V) and the relationship between applied voltage and displacement is not linear. There is a disadvantage that the reliability is not high in controlling the light.

이러한 문제점을 해결하기 위한 국내 특허출원번호 제 P2003-077389호에는 "박막 압전 광변조기 및 그 제조방법"이 개시되어 있다.In order to solve this problem, Korean Patent Application No. P2003-077389 discloses a "thin film piezoelectric optical modulator and its manufacturing method."

도 4는 종래 기술에 따른 함몰형 박막 압전 광변조기의 절단면도이다. 4 is a cross-sectional view of a recessed thin film piezoelectric optical modulator according to the related art.

도면을 참조하면, 종래 기술에 따른 함몰형 박막 압전 광변조기는 실리콘 기판(401)과, 엘리멘트(410)를 구비하고 있다.Referring to the drawings, the recessed thin film piezoelectric optical modulator according to the related art includes a silicon substrate 401 and an element 410.

여기에서, 엘리멘트(410)는 일정한 폭을 가지며 복수개가 일정하게 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(410)는 서로 다른 폭을 가지며 교번하여 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(410)는 일정간격(거의 엘리멘트(410)의 폭과 같은 거리)을 두고 이격되어 위치할 수 있으며 이 경우에 실리콘 기판(401)의 상면의 전부에 형성된 마이크로 미러층이 입사된 빛을 반사하여 회절시킨다. Here, the element 410 has a constant width and a plurality of constant alignment to form a recessed thin film piezoelectric optical modulator. In addition, the elements 410 have different widths and are alternately arranged to form a recessed thin film piezoelectric optical modulator. In addition, the elements 410 may be spaced apart from each other at a predetermined interval (almost the same distance as the width of the element 410), in which case the micromirror layer formed on all of the upper surface of the silicon substrate 401 is incident Reflects and diffracts light.

실리콘 기판(401)은 엘리멘트(410)에 에어 스페이스를 제공하기 위하여 함몰부를 구비하고 있으며, 절연층(402)이 상부 표면에 증착되어 있고, 함몰부의 양측에 엘리멘트(410)의 단부가 부착되어 있다.The silicon substrate 401 has a depression to provide an air space to the element 410, an insulating layer 402 is deposited on the upper surface, and ends of the element 410 are attached to both sides of the depression. .

엘리멘트(410)는 막대 형상을 하고 있으며 중앙부분이 실리콘 기판(401)의 함몰부에 이격되어 위치하도록 양끝단의 하면이 각각 실리콘 기판(401)의 함몰부를 벗어난 양측지역에 부착되어 있고, 실리콘 기판(401)의 함몰부에 위치한 부분이 상하로 이동가능한 하부지지대(411)를 포함한다.The element 410 has a rod shape, and the bottom surfaces of both ends are attached to both side regions outside the recessed portion of the silicon substrate 401 so that the center portion is spaced apart from the recessed portion of the silicon substrate 401. The portion located in the depression of the 401 includes a lower support 411 movable up and down.

또한, 엘리멘트(410)는 하부지지대(411)의 좌측단에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(412)와, 하부전극층(412)에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(413)와, 압전 재료층(413)에 적층되어 있으며 압전재료층(413)에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(414)을 포함하고 있다.In addition, the element 410 is stacked on the left end of the lower support 411, and is laminated on the lower electrode layer 412 and the lower electrode layer 412 to provide a piezoelectric voltage, and contraction and A piezoelectric material layer 413 that expands to generate a vertical driving force, and an upper electrode layer 414 that is stacked on the piezoelectric material layer 413 and provides a piezoelectric voltage to the piezoelectric material layer 413.

또한, 엘리멘트(410)는 하부지지대(411)의 우측단에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(412')과, 하부전극층(412')에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(413')과, 압전 재료층(413')에 적층되어 있으며 압전재료층(413')에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(414')을 포함하고 있다.In addition, the element 410 is stacked on the right end of the lower support 411, and is laminated on the lower electrode layer 412 'and the lower electrode layer 412' for providing a piezoelectric voltage. A piezoelectric material layer 413 'that contracts and expands to generate a vertical driving force, and an upper electrode layer 414' that is stacked on the piezoelectric material layer 413 'and provides a piezoelectric voltage to the piezoelectric material layer 413'. Doing.

그리고, 국내 특허출원번호 제 P2003-077389호에는 위에서 설명한 함몰형외에서 돌출형에 대하여 상세하게 설명하고 있다.In addition, Korean Patent Application No. P2003-077389 describes the protruding type in addition to the depression type described above.

한편, 블룸, 삼성전기 등의 특허에서 기술한 종류의 광변조기는 이미지를 디스플레이하기 위한 소자로서 이용될 수 있다. 그리고, 이때 최소 인접한 2개의 엘리멘트가 하나의 화소를 형성할 수 있다. 물론, 3개를 하나의 픽셀로 하거나, 4개를 하나의 픽셀로 하거나, 6개를 하나의 픽셀로 할 수도 있다. On the other hand, the optical modulator of the type described in the patent of Bloom, Samsung Electro-Mechanics, etc. can be used as an element for displaying an image. In this case, at least two adjacent elements may form one pixel. Of course, three may be one pixel, four may be one pixel, or six may be one pixel.

그러나, 블룸, 삼성전기 등의 특허에서 기술한 종류의 광변조기는 소형화를 달성하는데 일정한 한계를 가지고 있다. 즉, 광변조기의 엘리멘트의 폭은 아무리 작게 하여도 3um 이하로 할 수 없으며, 엘리멘트와 엘리멘트의 간격은 0.5um이하로 작게할 수 없는 한계가 있다.However, optical modulators of the kind described in the patents of Bloom, Samsung Electro-Mechanics, etc. have certain limitations in achieving miniaturization. That is, no matter how small the width of the element of the optical modulator can be less than 3um, there is a limit that the distance between the element and the element can not be smaller than 0.5um.

그리고, 이러한 엘리멘트를 이용한 회절화소 구성에는 최소 2개 이상의 엘리멘트가 필요하기에 소자의 소형화에는 한계가 있다.In addition, since at least two or more elements are required to construct a diffractive pixel using such elements, there is a limit in miniaturization of the device.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 최소 1개의 리본 엘리멘트를 사용하여 1픽셀을 구성할 수 있도록 하여 제품의 소형화가 가능한 회절 광변조기를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a diffractive light modulator capable of miniaturizing a product by making one pixel using at least one ribbon element.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기반 부재; 리본 형상을 하고 있으며, 중앙 부분은 상기 기반 부재와 공간을 가지도록 이격되어 위치하며, 양끝단의 하면이 상기 기반 부재에 고정되어 있으며 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사하며, 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성된 상부 반사부; 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부; 및 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키 는 구동 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, the base member; It has a ribbon shape, and the center portion is spaced apart from the base member to have a space. The bottom surfaces of both ends are fixed to the base member, and the top surface is formed of a reflective surface to reflect incident light, and an open hole is formed. An upper reflector configured to pass incident light; A lower reflector positioned above the base member and spaced apart from each other to have a space below the upper reflector, and having a reflective surface reflecting light incident through the open hole; And driving means for moving the center of the upper reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector.

또한, 본 발명은, 기반 부재; 리본 형상을 하고 있으며, 중앙 부분은 상기 기반 부재와 공간을 가지도록 이격되어 위치하며, 양끝단의 하면이 상기 기반 부재에 고정되어 있으며 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사하며, 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성되며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 반사부; 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부; 및 해당하는 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention, the base member; It has a ribbon shape, and the center portion is spaced apart from the base member to have a space. The bottom surfaces of both ends are fixed to the base member, and the top surface is formed of a reflective surface to reflect incident light, and an open hole is formed. A plurality of upper reflectors configured to pass incident light and arranged in parallel with each other to form an array; A lower reflector positioned above the base member and spaced apart from each other to have a space below the upper reflector, and having a reflective surface reflecting light incident through the open hole; And a plurality of driving means for moving a corresponding central portion of the upper reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector.

또한, 본 발명은 함몰부가 형성되어 있는 기반 부재; 리본 형상으로 양끝단이 상기 기반 부재의 함몰부를 벗어난 지역에 부착되어 함몰부를 가로지르고 있으며, 오픈홀을 구비하여 입사광을 통과시키며, 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사시키는 상부 반사부; 리본 형상으로 상기 기반 부재에 형성된 함몰부의 측벽에 양끝단이 고정되어 상기 상부 반사부와 평행하게 그리고 이격되어 위치하며 중앙 부분이 상하 이동 가능하고, 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 하부 반사부; 및 상기 하부 반사부를 상하 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 양을 변화시키는 구동수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is a base member formed with a depression; An upper reflector having a ribbon shape at both ends, which is attached to an area outside the depression of the base member, intersects the depression, and has an open hole to allow incident light to pass, and an upper surface formed as a reflective surface to reflect incident light; Both ends are fixed to the side wall of the depression formed in the base member in a ribbon shape, and are positioned parallel and spaced apart from the upper reflection part, and the center part is movable up and down, and the lower reflection reflects light incident through the open hole. part; And driving means for moving the lower reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector.

또한, 본 발명은, 함몰부가 형성되어 있는 기반 부재; 리본 형상으로 양끝단이 상기 기반 부재의 함몰부를 벗어난 지역에 부착되어 함몰부를 가로지르고 있으며, 오픈홀을 구비하여 입사광을 통과시키며, 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사시키며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 반사부; 리본 형상으로 상기 기반 부재에 형성된 함몰부의 측벽에 양끝단이 고정되어 해당하는 상기 상부 반사부와 평행하게 그리고 이격되어 위치하며 중앙 부분이 상하 이동 가능하고, 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 하부 반사부; 및 해당하는 상기 하부 반사부를 상하 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 양을 변화시키는 복수의 구동수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention, the base member is formed with a depression; Both ends are attached to the area beyond the depression of the base member in a ribbon shape and intersect the depression, and have an open hole to pass incident light, and the upper surface is formed as a reflective surface to reflect the incident light, and are arranged side by side. A plurality of upper reflector to form a; Both ends are fixed to the side wall of the depression formed in the base member in a ribbon shape, and are positioned parallel and spaced apart from the corresponding upper reflecting portion, and the center portion is movable up and down, reflecting the light incident through the open hole. A lower reflector arranged side by side to form an array; And a plurality of driving means for moving the lower reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector.

또한, 본 발명은, 광을 출사하는 광원; 기반 부재와, 리본 형상으로 중앙 부분이 공간을 형성하도록 상기 기반 부재에 양끝단이 고정되어 있으며 오픈홀이 구비하여 광을 통과하고 반사표면을 가지고 있어 입사광을 반사하며 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 반사부와, 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부 및 해당하는 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하여 입사광을 변조하여 회절광을 생성하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기; 상기 광원으로부터 입사된 광을 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 광을 조사시키는 조명 광학부; 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에서 변조된 회절광에서 원하는 차수회절광을 선택하여 통과시키는 필터링 광학부; 및 상기 필터링 광학부를 통과한 회절광을 스크린에 스캐닝을 수행하는 투영 및 스캐닝 광학부를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다.In addition, the present invention, the light source for emitting light; Both ends of the base member and the base member are fixed to the base member so as to form a space in a ribbon shape, and an open hole is provided to pass the light and has a reflective surface to reflect the incident light and be arranged side by side to form an array. A lower reflector having a plurality of upper reflectors and a reflecting surface positioned above the base member and spaced apart to have a space below the upper reflector and reflecting light incident through the open hole; An open hole base for modulating incident light to generate diffracted light including a plurality of driving means for moving the center of the upper reflecting part up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflecting part and the lower reflecting part; Diffraction light modulator; An illumination optical unit irradiating light incident from the light source to the open hole-based diffraction light modulator; A filtering optical unit for selecting and passing a desired diffraction light from the diffracted light modulated by the open hole-based diffractive light modulator; And a projection and scanning optical unit for scanning the diffracted light passing through the filtering optical unit to the screen, and a display device using an open hole-based diffractive light modulator.

또한, 본 발명은, 기판; 상기 기판의 상부에 적층되는 절연층; 상기 절연층의 양끝에 형성되며, 상부로 돌출되어 있는 희생층; 상기 절연층의 상부에 위치하며, 희생층 사이에 형성되어 입사광을 반사하는 반사표면을 가진 하부 반사부; 상기 희생층의 상부에 가로질러 걸쳐있고 오픈홀이 형성된 하부지지대; 상기 하부지지대의 중앙부분에 적층되고 상측은 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사시키고, 상기 오픈홀에 대응되게 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시킬수 있는 상부 마이크로미러; 상기 하부지지대의 양측끝에 위치하고 압전재료층을 구비하여 전압이 인가되면 상기 압전재료층의 수축,팽창에 의해 상기 하부지지대의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 마이크로미러와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 구동 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention, a substrate; An insulation layer stacked on the substrate; Sacrificial layers formed at both ends of the insulating layer and protruding upward; A lower reflector positioned on the insulating layer and having a reflective surface formed between the sacrificial layers to reflect incident light; A lower support spanning the upper portion of the sacrificial layer and having an open hole; An upper micromirror stacked on a center portion of the lower supporter, the upper side being formed with a reflective surface to reflect incident light, and having an open hole corresponding to the open hole to allow incident light to pass therethrough; Located at both ends of the lower support and provided with a piezoelectric material layer, when a voltage is applied, the center portion of the lower support is moved up and down by contraction and expansion of the piezoelectric material layer to form reflected light of the upper micromirror and the lower reflector. And driving means for changing the amount of diffracted light.

이하, 도 5a 이하의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 5A.

도 5a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다.5A is a perspective view of a portion of an open hole-based diffractive light modulator according to a first embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조 기는 기반 부재(501a)와, 절연층(502a), 하부 반사부(503a)와, 엘리멘트(510a)로 구성되어 있다. 여기에서, 절연층과 하부 반사부를 별개의 층으로 구성하였지만 절연층에 광을 반사하는 성질이 있다면 절연층 자체가 하부 반사부로서 기능하도록 할 수 있다. 또한, 여기에서는 기반 부재(501a)의 표면에 절연층(502a)을 형성하였지만 이러한 절연층이 반드시 필요한 것이 아니며 절연층(502a)을 형성하지 않고 바로 하부 반사부(503a)를 형성할 수 있다.Referring to the drawings, the open-hole-based diffractive light modulator according to the first embodiment of the present invention includes a base member 501a, an insulating layer 502a, a lower reflector 503a, and an element 510a. have. Here, although the insulating layer and the lower reflector are configured as separate layers, if the insulating layer has a property of reflecting light, the insulating layer itself can function as the lower reflector. In addition, although the insulating layer 502a is formed on the surface of the base member 501a, the insulating layer 502a may not be necessary and the lower reflector 503a may be formed directly without forming the insulating layer 502a.

기반부재(501a)는 엘리멘트(510a)에 에어 스페이스를 제공하기 위하여 함몰부를 구비하고 있으며, 절연층(502a)이 적층되어 있고, 하부 반사부(503a)가 상부에 증착되어 있으며, 함몰부를 벗어난 양측에 엘리멘트(510a)의 하면이 부착되어 있다. 기반부재(501a)로는 실리콘 기판이 사용될 수 있으며 구성하는 물질로는 Si, Al2O3, ZrO2, Quartz, SiO2 등의 단일물질이 사용되며, 바닥면과 위층(도면에서 점선으로 표시됨)을 다른 이종의 물질을 사용하여 형성할 수도 있다. 그리고, 기반 부재(501a)는 유리 기판 등도 사용가능하다. The base member 501a is provided with a recess to provide an air space to the element 510a, an insulating layer 502a is stacked, a lower reflecting portion 503a is deposited on the upper side, and both sides deviate from the recess. The lower surface of the element 510a is affixed to it. As the base member 501a, a silicon substrate may be used, and as a material, a single material such as Si, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Quartz, and SiO 2 may be used. The bottom and top layers (indicated by dotted lines in the drawing) may be used. Can also be formed using other heterogeneous materials. And the base member 501a can also use a glass substrate.

하부 반사부(503a)는 기반 부재(501a)의 상부에 형성되어 있으며, 입사하는 빛을 반사한다. 하부 반사부(503a)는 마이크로 미러가 사용될 수 있으며 사용되는 물질로는 메탈(Al, Pt, Cr, Ag 등)이 사용될 수 있다. The lower reflector 503a is formed on the base member 501a and reflects incident light. The lower reflector 503a may be a micro mirror and a metal (Al, Pt, Cr, Ag, etc.) may be used as the material used.

엘리멘트(510a)는 리본 형상을 하고 있으며 중앙부분이 기반 부재(501a)의 함몰부에 이격되어 위치하도록 양끝단의 하면이 각각 기반 부재(501a)의 함몰부를 벗어난 양측지역에 부착되어 있는 하부 지지대(511a)를 구비하고 있다. 여기에서, 하부 지지대(511a)라는 명칭은 압전층(520a, 520a')의 하부에 위치하기 때문에 붙여진 이름이다.The element 510a has a ribbon shape, and has a lower supporter having lower surfaces at both ends attached to both side regions outside the depression of the base member 501a so that the center portion is spaced apart from the depression of the base member 501a. 511a). Here, the lower support 511a is named because it is located below the piezoelectric layers 520a and 520a '.

하부 지지대(511a)의 양측면에는 압전층(520a, 520a')이 구비되어 있으며, 구비된 압전층(520a, 520a')의 수축 팽창에 의해 엘리멘트(510a)의 구동력이 제공된다.Piezoelectric layers 520a and 520a 'are provided on both side surfaces of the lower support 511a, and the driving force of the element 510a is provided by contraction and expansion of the provided piezoelectric layers 520a and 520a'.

하부 지지대(511a)를 구성하는 물질로는 Si 산화물(일예로 SiO2 등), Si 질화물 계열(일예로 Si3N4 등), 세라믹 기판(Si, ZrO2, Al2O3 등), Si 카바이드 등이 될 수 있다.Examples of the material constituting the lower support 511a include Si oxide (for example, SiO 2, etc.), Si nitride series (for example, Si 3 N 4, etc.), ceramic substrates (Si, ZrO 2 , Al 2 O 3, etc.), Si Carbides and the like.

그리고, 좌우측의 압전층(520a, 520a')은 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(521a, 521a')과, 하부전극층(521a, 521a')에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(522a, 522a')과, 압전 재료층(522a, 522a')에 적층되어 있으며 압전재료층(522a, 522a')에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(523a, 523a')을 구비하고 있다. 상부 전극층(523a, 523a')과 하부 전극층(521a, 521a')에 전압이 인가되면 압전재료층(522a, 522a')은 수축 팽창을 하여 하부 지지대(511a)의 상하 운동을 발생시킨다.The left and right piezoelectric layers 520a and 520a 'are stacked on the lower electrode layers 521a and 521a' for providing the piezoelectric voltage and the lower electrode layers 521a and 521a 'and contract and expand when voltage is applied to both surfaces. And the upper electrode layers 523a, which are stacked on the piezoelectric material layers 522a and 522a 'that generate the vertical driving force, and provide the piezoelectric voltage to the piezoelectric material layers 522a and 522a'. 523a '). When voltage is applied to the upper electrode layers 523a and 523a 'and the lower electrode layers 521a and 521a', the piezoelectric material layers 522a and 522a 'contract and expand to generate vertical movement of the lower support 511a.

전극(521a, 521a', 523a, 523a')의 전극재료로는 Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, Ti/Pt, IrO2, RuO2 등이 사용될 수 있으며, 0.01~3㎛ 범위에서 sputter 또는 evaporation 등의 방법으로 증착한다.Pt, Ta / Pt, Ni, Au, Al, Ti / Pt, IrO 2 , RuO 2, etc. may be used as the electrode material of the electrodes 521a, 521a ', 523a, 523a'. Deposit by sputter or evaporation.

한편, 하부 지지대(511a)의 중앙 부분에는 상부 마이크로 미러(530a)가 증착 되어 있으며 복수의 오픈홀(531a1~531a3)을 구비하고 있다. 여기에서 오픈홀(531a1~531a3)의 모양은 직사각형이 바람직하지만 원형, 타원형 등 어떤 폐곡선의 형상도 가능하다. 그리고, 하부 지지대(511a)와 상부 마이크로 미러(530a)를 포함하여 상부 반사부(540a)라고 부를 수 있다. 여기에서 하부 지지대를 광반사성 물질로 형성한다면 별도로 상부 마이크로 미러를 구비할 필요가 없이 하부 지지대만으로도 상부 반사부(540a)로 기능하도록 형성할 수 있다. On the other hand, the upper micro mirror 530a is deposited on the central portion of the lower support 511a and has a plurality of open holes 531a1 to 531a3. Here, the shape of the open holes 531a1 to 531a3 is preferably rectangular, but any closed curve such as circular or elliptical may be used. The lower supporter 511a and the upper micromirror 530a may be referred to as an upper reflector 540a. If the lower support is formed of a light reflective material, the lower support may be formed to function as the upper reflector 540a without using the upper micro mirror.

이러한 오픈홀(531a1~531a3)은 엘리멘트(510a)에 입사되는 입사광이 관통하여 오픈홀(531a1~531a3)이 형성된 부분에 대응하는 하부 반사부(503a)에 입사광이 입사되도록 하며, 이렇게 하여 하부 반사부(503a)와 상부 마이크로 미러(530a)가 화소를 형성할 수 있도록 한다.The open holes 531a1 to 531a3 allow incident light incident on the element 510a to penetrate the incident light to the lower reflector 503a corresponding to the portion where the open holes 531a1 to 531a3 are formed. The portion 503a and the upper micromirror 530a may form pixels.

즉, 일예로 오픈홀(531a1~531a3)이 형성된 상부 마이크로 미러(530a)의 (A) 부분과 하부 반사부(503a)의 (B) 부분이 하나의 화소를 형성할 수 있다.That is, for example, part (A) of the upper micromirror 530a having the open holes 531a1 to 531a3 and part (B) of the lower reflector 503a may form one pixel.

다시말하면, 상부 마이크로 미러(530a)는 반사표면을 가지고 있어서 입사되는 광을 반사하여 반사광을 형성하고, 오픈홀을 통해서는 입사광을 통과시켜 하부 반사부(503a)로 입사시킨다. 그러면, 하부 반사부(503a)는 입사된 입사광을 반사시켜 반사광을 형성하게 되며, 이처럼 상부 마이크로 미러(530a)에서 반사된 반사광과 하부 반사부(503a)에서 반사된 반사광이 간섭을 일으켜 회절광을 형성하며, 그 회절광의 광양은 상부 마이크로 미러(530a)와 하부 반사부(503a)의 단차에 따라 변하게 된다.In other words, the upper micromirror 530a has a reflective surface to reflect incident light to form reflected light, and passes through incident light through the open hole to enter the lower reflector 503a. Then, the lower reflector 503a reflects the incident incident light to form reflected light. As such, the reflected light reflected by the upper micromirror 530a and the reflected light reflected by the lower reflector 503a interfere with each other to cause diffracted light. The light quantity of the diffracted light is changed according to the step between the upper micromirror 530a and the lower reflector 503a.

이때, 상부 마이크로 미러(530a)의 오픈홀(531a1~531a3)이 형성된 부분을 관 통하여 입사되는 입사광은 하부 반사부(503a)의 해당 부분에 입사할 수 있으며 상부 마이크로 미러(530a)와 하부 반사부(503a)의 간격이 λ/4의 홀수배가 될 때 최대의 회절광을 발생시킨다. 그리고, 여기에서는 하나의 엘리멘트(510a)에 대해서만 도시되어 있지만 본 발명의 오픈홀 기반의 회절 광변조기는 다수의 서로 평행한 엘리멘트에 의해 형성될 수 있다. 즉, 본 발명의 오픈홀 기반의 회절 광변조기는 엘리멘트 어레이로 형성되며, 도 6 및 도 7이 이를 잘 도시하고 있다.At this time, incident light incident through the portion where the open holes 531a1 to 531a3 of the upper micromirror 530a are formed may be incident on a corresponding portion of the lower reflector 503a and the upper micromirror 530a and the lower reflector The maximum diffracted light is generated when the interval of 503a becomes an odd multiple of lambda / 4. And, although shown here for only one element 510a, the open hole-based diffractive light modulator of the present invention may be formed by a plurality of parallel elements. That is, the open hole-based diffractive light modulator of the present invention is formed of an element array, and FIGS. 6 and 7 illustrate this well.

이러한 본 발명에 따른 엘리멘트 어레이를 이용하면, 종래 기술과 비교하여 적은수의 엘리멘트를 사용하여 원하는 화소의 디스플레이 장치를 구현할 수 있다. By using the element array according to the present invention, it is possible to implement a display device of a desired pixel using a smaller number of elements than in the prior art.

예를들어, 종래기술에서는 최소 2개의 리본형상 엘리먼트로 1개의 화소를 구현할 수 있다. 그리고, 이러한 종래 기술에서는 1개의 화소를 형성하는 리본형상 엘리멘트가 2개 일때 회절효율이 50%이하이기 때문에, 회절효율을 증가시키기 위해 4개나 6개의 엘리멘트로 1개의 화소를 구성한다. 이처럼, 4개이상의 엘리멘트로 1개의 화소를 구성하게 되면 회절효율이 70%이상이 되어 엘리멘트의 개수를 증가시켜서 원하는 최대 효율을 얻을 수 있다. 본 발명의 제1 실시예에서는 한개의 엘리멘트(510a)의 상부에 형성된 상부 마이크로 미러(530a)에 오픈홀을 3개(530a1~530a3) 형성하여 입사광을 하부 반사부(503a)로 통과시키면 종래 기술의 6개의 엘리멘트로 1개의 화소를 구성하는 것과 동일한 회절효율을 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 제1 실시예에 따른 상부 마이크로 미러(530a)의 제1 오픈홀(530a1)에 인접한 미러부분이 입사광을 반사하여 종래 기술의 하나의 리본 엘리멘트처럼 동작하며, 제1오픈홀(530a1)의 대응되는 아래쪽의 하부 반사부(503a)가 제1 오픈홀 (530a1)을 통과하여 입사되는 입사광을 반사하여 또 하나의 리본 엘리멘트처럼 동작하며, 상부 마이크로 미러(530a)의 제2 오픈홀(530a2)에 인접한 미러부분이 입사광을 반사하여 종래 기술의 또 하나의 리본 엘리멘트처럼 동작하며, 제2오픈홀(530a2)의 대응되는 아래쪽의 하부 반사부(503a)가 제2 오픈홀(530a2)를 통과하여 입사되는 입사광을 반사하여 또 하나의 리본 엘리멘트처럼 동작하며, 상부 마이크로 미러(530a)의 제3 오픈홀(530a3)에 인접한 미러부분이 입사광을 반사하여 종래 기술의 또 하나의 리본 엘리멘트처럼 동작하며, 제3오픈홀(530a3)의 대응되는 아래쪽의 하부 반사부(503a)가 제3 오픈홀(530a3)를 통과하여 입사되는 입사광을 반사하여 또 하나의 리본 엘리멘트처럼 동작하여, 이와 같이 3개의 오픈홀(530a1~530a3)를 가지고 있는 상부 마이크로 미러(530a)와 하부 반사부(503a)를 이용하면 종래 6개의 리본 엘리멘트를 사용하여 1픽셀을 형성할 때 얻을 수 있는 회절 효율을 1개의 리본 엘리멘트(510a)를 이용하여 얻을 수 있다.For example, in the prior art, one pixel may be implemented with at least two ribbon elements. In the prior art, since the diffraction efficiency is 50% or less when two ribbon elements forming one pixel are two or less, one pixel is composed of four or six elements to increase the diffraction efficiency. As such, when one pixel is formed of four or more elements, the diffraction efficiency is 70% or more, and the number of elements can be increased to obtain a desired maximum efficiency. In the first embodiment of the present invention, when three open holes are formed in the upper micromirror 530a formed on one element 510a, three open holes 530a1 to 530a3 pass through the incident light to the lower reflector 503a. The same diffraction efficiency as that of one pixel is composed of six elements of. That is, the mirror portion adjacent to the first open hole 530a1 of the upper micromirror 530a according to the first embodiment of the present invention reflects incident light to operate as one ribbon element of the prior art, and the first open hole ( A corresponding lower lower reflector 503a of 530a1 reflects incident light incident through the first open hole 530a1 to act as another ribbon element, and a second open hole of the upper micromirror 530a. The mirror portion adjacent to 530a2 reflects the incident light and acts like another ribbon element of the prior art, and the corresponding lower reflector 503a of the second open hole 530a2 is formed in the second open hole 530a2. Reflects the incident light incident through it and acts like another ribbon element, and the mirror portion adjacent to the third open hole 530a3 of the upper micromirror 530a reflects the incident light, like another ribbon element of the prior art. action The lower reflector 503a corresponding to the lower portion of the third open hole 530a3 reflects the incident light incident through the third open hole 530a3 to operate as another ribbon element. Using the upper micromirror 530a and the lower reflector 503a having the open holes 530a1 to 530a3, one ribbon element can obtain diffraction efficiency obtained when one pixel is formed by using six ribbon elements. 510a can be used.

이러한 회절형 광변조기를 사용하여 일예로서 고화질 디지털 TV 포맷(Dlgital TV HD Format)인 1080 × 1920 을 구현시 1080개의 화소를 수직으로 구성하고 각화소를 1920 광변조시킴으로써 한 프레임(Frame)을 구성한다. 이 때 종래 기술을 사용하여 4개 또는 6개의 구동리본으로 하나의 픽셀을 구성할 경우에 1080개의 화소를 구성하기 위해서는 1080 × 4(또는 6)개의 구동 리본이 필요하나 본발명의 2개 또는3개의 오픈홀이 있는 리본 형상의 엘리멘트를 이용하면 1080 × 1의 리본 엘리멘트만으로 1080개의 화소를 형성할 수 있어 제작이 용이하고 생산성이 증가하며 소형의 크기로 소자를 제작할 수 있다.As an example, when a high definition digital TV format (1080 × 1920) is implemented using such a diffraction type optical modulator, 1080 pixels are vertically configured and each pixel is 1920 optically modulated to configure a frame. . In this case, when one pixel is composed of four or six driving ribbons using the prior art, 1080 x 4 (or 6) driving ribbons are required to configure 1080 pixels, but two or three of the present invention are used. Using ribbon-shaped elements with four open holes, 1080 pixels can be formed using only 1080 × 1 ribbon elements, making it easy to manufacture, increasing productivity, and manufacturing devices with small size.

도 5b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다. 5B is a perspective view of a portion of an open hole-based diffractive light modulator according to a second embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기는, 기반 부재(501b)과 하부 반사부(503b)와 엘리멘트(510b)로 구성되어 있다. Referring to the drawings, the open hole-based diffractive light modulator according to the second embodiment of the present invention includes a base member 501b, a lower reflector 503b, and an element 510b.

여기에서, 하부 반사부(503b)는 제1 실시예와 달리 다수의 하부 반사부 절편(503b1~503b3)으로 이루어져 있으며, 다수의 하부 반사부 절편(503b1~503b3)은 상부 마이크로 미러(530b)의 오픈홀(531a1~531a3)의 대응되는 절연층(502a)의 표면에 서로 분리되어 형성되어 있다. 그 외 구조는 도 5a와 동일하다.Here, unlike the first embodiment, the lower reflector 503b is composed of a plurality of lower reflector segments 503b1 to 503b3, and the plurality of lower reflector segments 503b1 to 503b3 are formed of the upper micromirror 530b. The surfaces of the insulating layers 502a of the open holes 531a1 to 531a3 are separated from each other. The other structure is the same as that of FIG. 5A.

도 5c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다.5C is a perspective view of a portion of an open hole-based diffractive light modulator according to a third exemplary embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기는, 산소 주입 분리법에 의한 절연층 매몰 실리콘 기판(SIMOX SOI; Separation by IMplanted OXygen Silicon-On-Insulator, 이하 줄여서 "절연층 매몰 실리콘 기판"이라고 한다)로 이루어진 기반 부재(501c)와, 하부 반사부(503c), 엘리멘트(510c)로 구성되어 있다.Referring to the drawings, the open-hole-based diffractive optical modulator according to the third embodiment of the present invention is an insulating layer buried silicon substrate (SIMOX SOI; Separation by IMplanted OXygen Silicon-On-Insulator, hereinafter abbreviated " A base member 501c formed of an " insulating layer buried silicon substrate &quot;, a lower reflector 503c, and an element 510c.

그리고, 본 발명의 제3 실시예가 도 5a의 제1 실시예와 다른점은 기반 부재(501c)로 실리콘 기판을 사용하는 것이 아니라 절연층 매몰 실리콘 기판이 사용된다는 점이다. 그 제조 과정에 대해서는 잘 알려져 있기 때문에 여기에서 자세한 설명은 생략한다.In addition, the third embodiment of the present invention differs from the first embodiment of FIG. 5A in that an insulating layer embedded silicon substrate is used instead of a silicon substrate as the base member 501c. Since the manufacturing process is well known, the detailed description is omitted here.

본 발명에 사용되는 절연층 매몰 실리콘 기판의 기반부재(501c)는 실리콘 기 판(501c1)과, 실리콘 기판에 산소이온이 주입되어 형성되는 산화실리콘 절연층(501c2)과, 실리콘 기판에 고농도의 산소를 주입하여 형성하는 실리콘 희생층(501c3)으로 구성되어 있다. 여기의 실리콘 희생층(501c3)은 엘리멘트(510c)가 상하로 이동할 수 있는 이동공간(에어 스페이스)을 확보할 수 있도록 상부 마이크로 미러(530a)의 아래에 위치한 부분이 식각되어 있다. 또한, 실리콘 희생층(501c3)은 압전층(520a, 520a')의 압전재료(522c, 522c')의 수축 팽창에 의한 상부 마이크로 미러(530a)가 구동되도록 압전층(520a, 520a')의 아래 부분이 일부 식각되어 있다. 그리고, 여기에서 산화 실리콘 절연층(501c2)은 실리콘 희생층(501c3)이 식각될 때 실리콘 기판(501c1)이 식각되지 않도록 보호하는 식각 방지층으로 볼 수 있다.The base member 501c of the insulating layer buried silicon substrate used in the present invention includes a silicon substrate 501c1, a silicon oxide insulating layer 501c2 formed by injecting oxygen ions into the silicon substrate, and a high concentration of oxygen on the silicon substrate. It is composed of a silicon sacrificial layer (501c3) formed by implanting. The silicon sacrificial layer 501c3 is etched under the upper micromirror 530a to secure a moving space (air space) through which the element 510c can move up and down. In addition, the silicon sacrificial layer 501c3 is disposed below the piezoelectric layers 520a and 520a 'such that the upper micromirrors 530a are driven by shrinkage expansion of the piezoelectric materials 522c and 522c' of the piezoelectric layers 520a and 520a '. The part is partially etched. The silicon oxide insulating layer 501c2 may be regarded as an etch stop layer that protects the silicon substrate 501c1 from being etched when the silicon sacrificial layer 501c3 is etched.

그리고, 본 발명의 제3 실시예가 제1 실시예와 다른점은 하부 반사부(503c)가 복수의 분리된 하부 반사부 절편(503c1~503c3)로 이루어져 있다는 점이며, 이점에 있어서는 제2 실시예와 동일하다.The third embodiment of the present invention differs from the first embodiment in that the lower reflector 503c is composed of a plurality of separated lower reflector fragments 503c1 to 503c3. Is the same as

또한, 본 발명의 제3 실시예가 제1 실시예와 다른점은 엘리멘트(510c)의 이동공간(에어 스페이스)을 실리콘 희생층(501c3)이 제공한다는 점이다. 즉, 본 발명의 제3 실시예에서는 실리콘 기판(501c1)에 별도의 함몰부가 필요하지 않다는 점이다. 이러면에서, 실리콘 희생층(501c3)은 엘리멘트(510c)에 이동공간을 제공하기 위해 엘리멘트(510c)를 지지하고 있는 지지부재로 볼 수 있다. 그리고, 본 발명의 제3 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 그외 구성과 동작은 제1 실시예와 동일하다. The third embodiment of the present invention differs from the first embodiment in that the silicon sacrificial layer 501c3 provides the moving space (air space) of the element 510c. That is, in the third embodiment of the present invention, a separate depression is not required for the silicon substrate 501c1. In this regard, the silicon sacrificial layer 501c3 may be viewed as a supporting member that supports the element 510c to provide a moving space for the element 510c. The other configuration and operation of the open hole-based diffractive light modulator according to the third embodiment of the present invention are the same as those of the first embodiment.

도 5d는 본 발명의 제4 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 일부 분을 절단한 사시도로서, 실리콘 기판으로 이루어진 기반부재(501d)과 하부 반사부(503d)와 엘리멘트(510d)로 구성되어 있다. FIG. 5D is a perspective view of a portion of an open hole-based diffractive optical modulator according to a fourth embodiment of the present invention, and includes a base member 501d, a lower reflector 503d, and an element 510d formed of a silicon substrate. Consists of.

도 5d의 제4 실시예가 도 5a의 제1 실시예와 다른점은 오픈홀(531d1~531d3)의 방향이 가로 방향에 따라 정렬되어 있는 것이 아니라 세로 방향에 따라 정렬되어 있다는 점이다. 그외 구조는 도 5a와 동일하다.The fourth embodiment of FIG. 5D differs from the first embodiment of FIG. 5A in that the directions of the open holes 531d1 to 531d3 are not aligned in the horizontal direction but in the vertical direction. The other structure is the same as that of FIG. 5A.

도 5e는 본 발명의 제5 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다. 5E is a perspective view of a portion of an open hole-based diffractive light modulator according to a fifth embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 제 5 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기는 제1 내지 제4 실시예의 오픈홀 기반의 회절 광변조기와 달리 엘리멘트(510e)의 하부지지대(511e)가 실리콘 기판의 기반부재(501e)으로부터 돌출되어 에어 스페이스를 제공하며, 그 결과 엘리멘트(510e)는 상하로 이동가능하다.Referring to the drawings, the open hole-based diffraction optical modulator according to the fifth embodiment is different from the open hole-based diffraction light modulator of the first to fourth embodiments, and the lower support 511e of the element 510e is based on the silicon substrate. Protruding from the member 501e provides an air space, with the result that the element 510e is movable up and down.

즉, 엘리멘트(510e)는 입사되는 빛을 반사하는 상부 마이크로 미러(530e)를 가지며 실리콘 기판으로 이루어진 기반부재(501e)의 돌출부에 부유하여 상하로 이동가능하다. 여기에서 하부 지지대가 광반사성을 가지고 있다면 별도의 상부 마이크로 미러를 형성하지 않고 하부 지지대가 상부 마이크로 미러의 역할을 수행하도록 구현할 수 있다.That is, the element 510e has an upper micro mirror 530e that reflects incident light and floats on a protrusion of the base member 501e made of a silicon substrate and is movable up and down. In this case, if the lower support has light reflectivity, the lower support may be implemented to perform the role of the upper micro mirror without forming a separate upper micro mirror.

엘리멘트(510e)의 하부지지대(511e)는 엘리멘트(510e)에 에어 스페이스를 제공하기 위하여 돌출되어 있으며, 양측의 단부가 기반 부재(501e)에 부착되어 있다.The lower support 511e of the element 510e protrudes to provide an air space to the element 510e, and both ends thereof are attached to the base member 501e.

그리고, 실리콘 기판으로 이루어진 기반부재(501e)에 절연층(502e)과 하부 반사부(503e)가 증착되어 있으며, 하부 반사부(503e)는 오픈홀을 통해서 입사되는 빛을 반사한다. 여기에서 절연층의 광반사성을 가지고 있다면 별도의 하부 반사부를 증착할 필요없이 절연층이 하부 반사부의 역할을 하도록 할 수 있다.The insulating layer 502e and the lower reflector 503e are deposited on the base member 501e made of a silicon substrate, and the lower reflector 503e reflects light incident through the open hole. In this case, if the insulating layer has light reflectivity, the insulating layer may serve as the lower reflector without having to deposit a separate lower reflector.

엘리멘트(510e)는 리본 형상을 하고 있으며 중앙부분이 기반부재(501e)으로부터 돌출하여 이격되어 위치하고 양끝단의 하면이 각각 기반부재(501e)에 부착되어 있다.The element 510e has a ribbon shape, and a center portion thereof is protruded from the base member 501e and spaced apart from each other and attached to the base member 501e, respectively.

엘리멘트(510e)의 상부의 좌우측에는 압전층(520e, 520e')이 적층되어 있으며, 압전층(520e, 520e')은 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(521e, 521e')와, 하부전극층(521e, 521e')에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(522e, 522e')와, 압전 재료층(522e, 522e')에 적층되어 있으며 압전재료층(522e, 522e')에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(523e, 523e')을 포함하고 있다.Piezoelectric layers 520e and 520e 'are stacked on the left and right sides of the upper portion of the element 510e, and the piezoelectric layers 520e and 520e' include lower electrode layers 521e and 521e 'for providing piezoelectric voltages and lower electrode layers ( 521e and 521e ', and are stacked on the piezoelectric material layers 522e and 522e', which contract and expand when voltage is applied to both surfaces, to generate a vertical driving force, and the piezoelectric material layers 522e and 522e '. Top electrode layers 523e and 523e 'that provide piezoelectric voltages to the layers 522e and 522e'.

엘리멘트(510e)는 상부전극층(523e, 523e')과 하부전극층(521e, 521e')에 전압이 인가되는 경우에 위로 이동하여 입사되는 빛을 반사하여 반사광을 형성할 수 있다.When the voltage is applied to the upper electrode layers 523e and 523e 'and the lower electrode layers 521e and 521e', the element 510e may move upward to reflect the incident light to form reflected light.

하부 지지대(511e)의 압전층(520e, 520e')이 없는 중앙 부분에는 상부 마이크로 미러(530e)가 증착되어 있으며, 오픈홀((531e1~531e3))이 구비되어 있음을 알 수 있다. 여기에서 오픈홀(531e1~531e3)의 모양은 직사각형이 바람직하지만 원형 타원형 등 어떤 폐곡선의 형상도 가능하다. It can be seen that the upper micromirrors 530e are deposited and the open holes 531e1 to 531e3 are disposed in the center portion of the lower support 511e where the piezoelectric layers 520e and 520e 'are not provided. Here, the shape of the open holes 531e1 to 531e3 is preferably rectangular, but any closed curve such as a circular oval may be formed.

이러한 오픈홀(531e1~531e3)은 오픈홀(531e1~531e3)이 형성된 부분에 대응하는 하부 반사부(503e)로 하여금 상부 마이크로 미러(530e)의 해당 부분에 인접한 부분과 함께 화소를 형성할 수 있도록 한다.The open holes 531e1 to 531e3 allow the lower reflector 503e corresponding to the portion where the open holes 531e1 to 531e3 are formed to form a pixel together with a portion adjacent to the corresponding portion of the upper micro mirror 530e. do.

즉, 일예로 오픈홀(531e1~531e3)이 형성된 상부 마이크로 미러(530e)의 (A) 부분과 하부 반사부(503e)의 (B) 부분이 하나의 화소를 형성할 수 있도록 한다.That is, for example, part (A) of the upper micromirror 530e having the open holes 531e1 to 531e3 and part (B) of the lower reflector 503e may form one pixel.

이때, 상부 마이크로 미러(530e)의 오픈홀(531e1~531e3)이 형성된 부분을 관통하여 입사광은 하부 반사부(503e)의 해당 부분에 입사할 수 있으며 상부 마이크로 미러(530e)와 하부 반사부(503e)가 λ/4의 홀수배가 될 때 최대의 회절광을 발생시킴을 알 수 있다.At this time, the incident light may pass through a portion where the open holes 531e1 to 531e3 of the upper micromirror 530e are formed and enter the corresponding portion of the lower reflector 503e, and the upper micromirror 530e and the lower reflector 503e. It can be seen that the maximum diffracted light is generated when? Is an odd multiple of? / 4.

도 5f는 본 발명의 제6 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다. 5F is a perspective view of a portion of an open hole-based diffractive light modulator according to a sixth embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 제 6 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기는 제5 실시예의 오픈홀 기반의 회절 광변조기와 달리 오픈홀이 세로 방향으로 정렬되어 있다는 점이다. 그외의 구조는 도 5e와 동일하다.Referring to the drawings, the open hole-based diffraction optical modulator according to the sixth embodiment is different from the open hole-based diffraction optical modulator of the fifth embodiment in that the open holes are aligned in the vertical direction. The other structure is the same as that of FIG. 5E.

도 5g는 본 발명의 제7 실시예에 따른 오픈홀이 구비된 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다. 도면을 참조하면, 본 발명의 제7 실시예에 따른 오픈홀이 구비된 회절 광변조기는 실리콘기판으로 이루어진 기반부재(501g)과, 실리콘 기판에 적층된 하부 반사부(503g), 상부 마이크로 미러(510g)로 구성되어 있다.5G is a perspective view of a portion of a diffractive light modulator with an open hole according to a seventh embodiment of the present invention; Referring to the drawings, a diffraction light modulator with an open hole according to a seventh embodiment of the present invention is a base member 501g made of a silicon substrate, a lower reflector 503g, and an upper micromirror stacked on a silicon substrate. 510g).

여기에서 하부 반사부(503g)는 하부 전극으로서도 기능을 수행하며, 입사되는 빛을 반사하여 반사광을 형성할 수 있도록 한다. The lower reflector 503g also functions as a lower electrode, and reflects incident light so as to form reflected light.

상부 마이크로 미러(510g)는 오픈홀(511g1~511g3)을 구비하고 있으며, 여기에서 오픈홀(511g1~511g3)의 모양은 직사각형이 바람직하지만 원형 타원형 등 어떤 폐곡선의 형상도 가능하다. The upper micromirror 510g has open holes 511g1 to 511g3, and the shape of the open holes 511g1 to 511g3 is preferably rectangular, but any closed curve such as a circular oval may be formed.

이러한 오픈홀(511g1~511g3)은 오픈홀(511g1~511g3)이 형성된 부분에 대응하는 하부 반사부(503g)로 하여금 상부 마이크로 미러(510g)의 해당 부분에 인접한 부분과 함께 화소를 형성할 수 있도록 한다.The open holes 511g1 to 511g3 allow the lower reflector 503g corresponding to the portion where the open holes 511g1 to 511g3 are formed to form a pixel together with a portion adjacent to the corresponding portion of the upper micromirror 510g. do.

즉, 일예로 오픈홀이 형성된 상부 마이크로 미러(510g)의 (A) 부분과 하부 반사부(503g)의 (B) 부분이 하나의 화소를 형성할 수 있도록 한다.That is, for example, part (A) of the upper micromirror 510g having the open hole and part (B) of the lower reflecting part 503g may form one pixel.

이때, 상부 마이크로 미러(510g)의 오픈홀(511g1~511g3)이 형성된 부분을 관통하여 입사광은 하부 반사부(503g)의 해당 부분에 입사할 수 있으며 상부 마이크로 미러(510g)와 하부 반사부(503g)가 λ/4의 홀수배가 될 때 최대의 회절광을 발생시킴을 알 수 있다.At this time, the incident light may pass through a portion where the open holes 511g1 to 511g3 of the upper micromirror 510g are formed to enter a corresponding portion of the lower reflector 503g, and the upper micromirror 510g and the lower reflector 503g. It can be seen that the maximum diffracted light is generated when? Is an odd multiple of? / 4.

도 5h는 본 발명의 제8 실시예에 따른 오픈홀에 기반한 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다. 5H is a perspective view of a portion of the diffraction light modulator based on the open hole according to the eighth embodiment of the present invention.

도면을 참조하면 제8 실시예에 따른 오픈홀에 기반한 회절 광변조기는 제7 실시예의 오픈홀에 기반한 회절 광변조기와 달리 오픈홀의 정렬이 세로 방향인 점에 있다. 그외 구조는 도 5g와 동일하다. 한편, 본 발명의 제1 내지 제 6 실시예를 압전 재료층을 이용하여 상하 구동력을 발생하고 있고, 제 7 및 제 8 실시예는 정전기력을 이용하여 상하 구동력을 발생하고 있는데, 이외에 전자기력에 의해 상하 구동력을 발생시킬 수 있다.Referring to the drawings, the diffraction light modulator based on the open hole according to the eighth embodiment is different from the diffraction light modulator based on the open hole of the seventh embodiment in that the alignment of the open holes is in the vertical direction. The other structure is the same as that of FIG. 5G. Meanwhile, the first to sixth embodiments of the present invention generate the vertical driving force by using the piezoelectric material layer, and the seventh and eighth embodiments generate the vertical driving force by using the electrostatic force. Drive force can be generated.

한편, 제4 실시예 내지 제 8 실시예에서 하부 반사부가 하나의 미러층으로 형성되어 있으나 제2 실시예에서 볼 수 있는 것처럼 다수의 하부 반사부 절편으로 분리되도록 할 수 있다. 즉, 하부 반사부를 다수의 하부 반사부 절편로 이루어지도록 하고, 다수의 하부 반사부 절편은 상부 마이크로 미러의 오픈홀의 대응되는 절연층의 표면에 서로 분리되어 형성되어 있도록 할 수 있다. Meanwhile, in the fourth to eighth embodiments, the lower reflector is formed of one mirror layer, but as shown in the second embodiment, the lower reflector may be separated into multiple lower reflector segments. That is, the lower reflector may be formed of a plurality of lower reflector segments, and the plurality of lower reflector segments may be separated from each other on the surface of the corresponding insulating layer of the open hole of the upper micro mirror.

도 5i는 본 발명의 제 9 실시예에 따른 오픈홀에 기반한 회절 광변조기의 일부분을 절단한 사시도이다. 5I is a perspective view of a portion of a diffraction light modulator based on an open hole according to a ninth embodiment of the present invention;

도면을 참조하면, 본 발명의 제9 실시예에 따른 오픈홀에 기반한 회절 광변조기는 실리콘 기판으로 이루어진 기반부재(501i)과, 기반부재(501i)의 함몰부의 중간 부분에 형성되어 있는 하부 반사부(510i)와, 기반부재(501i)의 표면을 가로지르는 상부 마이크로 미러(520i)로 구성되어 있다. 하부 반사부(510i)는 입사되는 입사광을 반사하여 반사광을 형성하도록 하지만 상부 전극으로도 사용된다.Referring to the drawings, a diffraction light modulator based on an open hole according to a ninth embodiment of the present invention includes a base member 501i made of a silicon substrate and a lower reflector formed at an intermediate portion of a depression of the base member 501i. 510i, and an upper micromirror 520i across the surface of the base member 501i. The lower reflector 510i reflects incident incident light to form reflected light, but is also used as an upper electrode.

기반부재(501i)의 함몰부의 바닥에는 하부 전극층(503i)이 적층되어 있으며, 중간 부분에 위치한 하부 반사부(상부 전극)(510i)과 함께 정전기력에 의한 하부 반사부(510i)의 상하 구동력을 제공한다.The lower electrode layer 503i is stacked on the bottom of the depression of the base member 501i, and provides the upper and lower driving force of the lower reflector 510i by the electrostatic force together with the lower reflector (the upper electrode) 510i positioned in the middle portion. do.

즉, 하부 전극(503i)과 하부 반사부(510i)에 전압이 인가되면 하부 전극(503i)과 하부 반사부(510i)는 정전기력에 의해 밀착되어 아래로 다운되는 구동력을 발생시키고 전압이 인가되지 않으면 다시 복원되는 복원력에 의해 상부 구동력을 발생시킨다.That is, when a voltage is applied to the lower electrode 503i and the lower reflector 510i, the lower electrode 503i and the lower reflector 510i are closely contacted by the electrostatic force to generate a driving force to be lowered, and when the voltage is not applied. The upper driving force is generated by the restoring force restored again.

한편, 상부 마이크로 미러(520i)에는 오픈홀(521i1~521i3)이 구비되어 있는데, 여기에서 오픈홀(521i1~521i3)의 모양은 직사각형이 바람직하지만 원형 타원형 등 어떤 폐곡선의 형상도 가능하다. On the other hand, the upper micro mirror 520i is provided with open holes 521i1 to 521i3. Here, the shape of the open holes 521i1 to 521i3 is preferably rectangular, but any closed curve such as a circular oval may be formed.

이러한 오픈홀(521i1~521i3)은 오픈홀(521i1~521i3)이 형성된 부분에 대응하는 하부 반사부(510i)로 하여금 상부 마이크로 미러(520i)의 해당 부분에 인접한 부분과 함께 화소를 형성할 수 있도록 한다.The open holes 521i1 to 521i3 allow the lower reflector 510i corresponding to the portions where the open holes 521i1 to 521i3 are formed to form pixels together with portions adjacent to the corresponding portions of the upper micro mirror 520i. do.

즉, 일예로 오픈홀(521i1~521i3)이 형성된 상부 마이크로 미러(520i)의 (A) 부분과 하부 반사부의 (B) 부분이 하나의 화소를 형성할 수 있도록 한다.That is, for example, part (A) of the upper micromirror 520i having the open holes 521i1 to 521i3 and part (B) of the lower reflector may form one pixel.

이때, 상부 마이크로 미러(520i)의 오픈홀이 형성된 부분을 관통하여 입사광은 하부 반사부(510i)의 해당 부분에 입사할 수 있으며 상부 마이크로 미러(520i)와 하부 반사부(520i)가 λ/4의 홀수배가 될 때 최대의 회절광을 발생시킴을 알 수 있다.At this time, the incident light may pass through the open hole of the upper micromirror 520i and enter the corresponding portion of the lower reflector 510i, and the upper micromirror 520i and the lower reflector 520i may be lambda / 4. It can be seen that the maximum diffracted light is generated when the power is odd.

도 5j는 본 발명의 제 10 실시예에 따른 오픈홀에 기반한 광변조기로서 제 9 실시예와 다른 점은 정렬방향이 세로방향이라는 것이다.FIG. 5J is an optical modulator based on an open hole according to a tenth embodiment of the present invention, which is different from the ninth embodiment in that the alignment direction is vertical.

한편, 제4 실시예, 제 7 실시예 내지 제10 실시예에서 기반부재로 실리콘 기판을 사용하였지만, 제3 실시예와 같이 절연층 매몰 실리콘 기판을 사용할 수도 있다.Meanwhile, although the silicon substrate is used as the base member in the fourth and seventh to tenth embodiments, the insulating layer buried silicon substrate may be used as in the third embodiment.

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 1D 어레이의 사시도이다.6 is a perspective view of an element 1D array of an open hole-based diffractive light modulator according to a first embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 1D어레이는 한쪽 방향으로 그리고 서로 나란하게 상부 마이크로 미러를 가지고 있는 복수개의 엘리멘트(610a~610n)가 펼쳐져 있어 입사하는 입사광에 대하여 회절광을 제공한다. 한편, 여기에서는 제1 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회 절 광변조기의 엘리멘트 1D어레이에 대하여 설명하였지만 제2 실시예 내지 제 10 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 1D 어레이도 동일하게 구현할 수 있다.Referring to the drawings, the element 1D array of the open-hole-based diffractive optical modulator according to the first embodiment of the present invention has a plurality of elements 610a to 610n having upper micro mirrors in one direction and parallel to each other. Diffracted light is provided with respect to incident incident light. Meanwhile, although the element 1D array of the open hole-based diffractive optical modulator according to the first embodiment has been described herein, the element 1D array of the open hole-based diffraction optical modulator according to the second to tenth embodiments is also the same. Can be implemented.

도 7은 본 발명의 제7 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 2D 어레이의 사시도이다. 7 is a perspective view of an element 2D array of an open hole-based diffractive light modulator according to a seventh embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명의 제7 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 2D 어레이는 X방향과 Y방향으로 복수의 엘리멘트(710a1~710nn)가 펼쳐저 있다. 여기에서는 제7 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트 2D 어레이에 대하여 설명하였지만 그외 다른 실시예의 경우에도 동일하게 엘리멘트 2D 어레이의 구현이 가능하다.Referring to the drawings, in the element 2D array of the diffraction light modulator based on the open hole according to the seventh embodiment of the present invention, a plurality of elements 710a1 to 710nn are unfolded in the X direction and the Y direction. Herein, the element 2D array of the open hole-based diffractive optical modulator according to the seventh embodiment has been described. However, the element 2D array may be similarly implemented in other embodiments.

한편, 본 명세서에서는 압전 재료층은 단층인 경우를 주로 설명하였지만 압전 재료층이 여러층으로 적층된 다층형도 가능하다.Meanwhile, in the present specification, the piezoelectric material layer is mainly described as a single layer, but a multilayer type in which the piezoelectric material layers are laminated in multiple layers is also possible.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 디스플레이 장치의 구성도이다. 이와 같이 디스플레이 장치에 사용되는 광학계는 프린터 등에도 사용가능하며, 이 경우에 아래에서 설명할 스크린(818) 대신 드럼이 사용되며, 이처럼 드럼이 사용되는 경우에 드럼의 회전하기 때문에 디스플레이 장치처럼 별도의 스캐닝 광학부가 반드시 필요한 것은 아니다. 8 is a block diagram of a display apparatus using an open hole-based diffractive light modulator according to an exemplary embodiment of the present invention. The optical system used in the display device can be used in a printer or the like. In this case, a drum is used instead of the screen 818 to be described below. In this case, the drum rotates when the drum is used. Scanning optics are not necessary.

도 8을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 회절 광변조기를 이용한 디스플레이 장치는 디스플레이 광학계(802)와 디스플레이 전자계(804)를 포함한다. 디스플레이 광학계(802)는 광원(806), 광원(806)로부터 나오는 빛을 오픈홀 기반의 회 절 광변조기(810)에 선형광으로 조사하기 위해 선형광을 만들어 주는 조명 광학부(808), 조명 광학부(808)로부터 조사된 선형광을 변조하여 회절광을 형성시키는 오픈홀 기반의 회절 광변조기(810), 오픈홀 기반의 회절 광변조기(810)에서 변조된 회절광을 차수분리하여 분리된 여러 차수의 회절광중에서 원하는 차수의 회절광을 통과시키는 필터링 광학부(812), 필터링 광학부(812)를 통과한 회절광을 집광하고 집광된 점광을 2차원이미지로 스캐닝을 수행하는 투영 및 스캐닝 광학부(816), 및 디스플레이 스크린(818)을 포함한다. Referring to FIG. 8, a display apparatus using a diffractive light modulator according to an exemplary embodiment of the present invention includes a display optical system 802 and a display electronic system 804. The display optical system 802 includes a light source 806 and an illumination optical unit 808 for generating linear light to emit light from the light source 806 to the open hole-based diffractive light modulator 810 as linear light. The open-hole-based diffraction light modulator 810 for modulating the linear light irradiated from the optical unit 808 to form diffraction light, Projection and scanning for condensing the diffracted light passing through the filtering optical unit 812 and the filtering optical unit 812 for passing the diffracted light of the desired order among the diffracted light of various orders and scanning the collected point light as a two-dimensional image Optics 816, and a display screen 818.

디스플레이 전자계(804)는 광원(806), 오픈홀 기반의 회절 광변조기(810) 및 투영 및 스캐닝 광학부(816)에 접속된다.The display field 804 is connected to a light source 806, an open hole based diffractive light modulator 810, and a projection and scanning optic 816.

그리고, 오픈홀 기반의 회절 광변조기(810)는 조명광학부(808)로부터 선형광이 입사되면, 디스플레이 전자계(804)의 제어에 따라 입사광을 변조하여 회절광을 생성하여 출사한다.When the linear light is incident from the illumination optical unit 808, the open-hole-based diffraction light modulator 810 generates diffracted light by modulating the incident light under the control of the display electronic system 804.

도 9a는 삼성전기가 개발한 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트(811a~811n) 1D 어레이의 복수의 상부 마이크로 미러(812a~811n)에 선형광이 비스듬히 조명된 경우를 예시한 사시도로서, 복수의 상부 마이크로 미러(812a~812n)가 상하로 이동하면 상부 마이크로 미러(812a~812n)와 하부 반사부(813)의 단차에 의해 입사된 선형광이 변조되어 회절광이 생성된다. 이때, 형성되는 회절광은 입사광이 비스듬히 입사되기 때문에 비스듬하게 출사된다.FIG. 9A is a perspective view illustrating a case where linear light is obliquely illuminated on a plurality of upper micromirrors 812a to 811n of an element (811a to 811n) 1D array of an open hole-based diffraction optical modulator developed by Samsung Electro-Mechanics. When the upper micromirrors 812a to 812n move up and down, the linear light incident by the steps of the upper micromirrors 812a to 812n and the lower reflector 813 is modulated to generate diffracted light. At this time, the formed diffracted light is emitted obliquely because the incident light is obliquely incident.

도 9b는 삼성전기가 개발한 오픈홀 기반의 회절 광변조기의 엘리멘트(811a~811n) 1D 어레이의 복수의 상부 마이크로 미러(812a~811n)에 선형광이 수직 으로 조명된 경우를 예시한 사시도로서, 복수의 상부 마이크로 미러(812a~812n)가 상하로 이동하면 상부 마이크로 미러(812a~812n)와 하부 반사부(813)의 단차에 의해 입사된 선형광이 변조되어 회절광이 생성된다. 이때 형성되는 회절광은 입사광이 수직으로 입사하기 때문에 0차 회절광은 수직으로 출사되고 ±1차 회절광은 좌우측으로 각각 출사된다.FIG. 9B is a perspective view illustrating a case in which linear light is vertically illuminated on a plurality of upper micromirrors 812a to 811n of an element (811a to 811n) 1D array of an open hole-based diffraction optical modulator developed by Samsung Electro-Mechanics. When the plurality of upper micromirrors 812a to 812n move up and down, linear light incident by the steps of the upper micromirrors 812a to 812n and the lower reflector 813 is modulated to generate diffracted light. At this time, since the incident light is incident vertically, the zeroth order diffracted light is emitted vertically, and the ± first order diffracted light is emitted left and right, respectively.

한편, 필터링 광학계(812)는 여러회절차수를 갖는 회절된 광이 입사하면 원하는 회절차수의 회절광을 분리한다. 필터링 광학계(812)는 푸리에 렌즈(미도시)와 필터(미도시)로 구성되어 있으며, 입사되는 회절광중 0차 회절광 또는 ± 1차 광을 선택적으로 통과시킨다.On the other hand, the filtering optical system 812 separates the diffracted light of the desired diffraction order when the diffracted light having the multiple procedure orders is incident. The filtering optical system 812 is composed of a Fourier lens (not shown) and a filter (not shown), and selectively passes zero-order diffraction light or ± first-order light among incident diffracted light.

그리고, 투영 및 스캐닝 광학부(816)는 집광 렌즈(미도시), 스캐닝 미러(미도시)를 구비하며, 디스플레이 전자계(804)의 제어에 따라 입사된 회절광을 스크린(818)에 스캐닝을 수행한다.The projection and scanning optics 816 includes a condenser lens (not shown) and a scanning mirror (not shown), and scan the diffracted light incident on the screen 818 under the control of the display electronic system 804. do.

디스플레이 전자계(804)는 투영 및 스캐닝 광학 장치(816)의 스캐닝 미러(미도시)를 구동시킨다. 투영 및 스캐닝 광학 장치(816)는 디스플레이 스크린(818) 상에 2차원적인 이미지를 형성하기 위해서 이미지를 디스플레이 스크린(818)에 투영하고 디스플레이 스크린(818)에 스캐닝한다. The display field 804 drives a scanning mirror (not shown) of the projection and scanning optics 816. Projection and Scanning The optical device 816 projects the image onto the display screen 818 and scans the display screen 818 to form a two-dimensional image on the display screen 818.

한편, 도 8 내지 도 9b의 설명은 단색 이미지를 생성하지만, 컬리 이미지를 생성하게 할 수 있으며, 그렇게 하기 위해서는 디스플레이 광학계(802)에 2개의 추가적인 광원, 2개의 추가적인 회절 광변조기 및 추가적인 필터 등을 포함하면 그 구현이 가능하다.On the other hand, the description of FIGS. 8-9B produces a monochrome image, but may allow the creation of a curly image, which requires two additional light sources, two additional diffractive light modulators, and additional filters to the display optics 802. If included, its implementation is possible.

상기와 같은 본 발명은, 1개의 구동리본 엘리멘트만을 사용하여 1픽셀을 구성할 수 있도록 한다.The present invention as described above, it is possible to configure one pixel using only one drive ribbon element.

또한, 본 발명은, 리본 엘리멘트의 상부 마이크로 미러에 복수의 오픈홀을 형성하여 회절효율이 향상된 회절광을 얻을 수 있도록 한다.In addition, the present invention, by forming a plurality of open holes in the upper micro mirror of the ribbon element, it is possible to obtain diffracted light with improved diffraction efficiency.

또한, 본 발명은, 종래 4개 또는 6개의 구동엘리멘트를 하나의 구동엘리멘트로 대치함으로써 제조공정에 있어서 수율 향상을 꾀할 수 있으며, 제조원가를 절감할 수 있도록 한다.In addition, the present invention, by replacing the conventional four or six drive elements with one drive element can improve the yield in the manufacturing process, it is possible to reduce the manufacturing cost.

Claims (57)

기반 부재; Base member; 리본 형상을 하고 있으며, 중앙 부분은 상기 기반 부재와 공간을 가지도록 이격되어 위치하며, 양끝단의 하면이 상기 기반 부재에 고정되어 있으며 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사하며, 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성된 상부 반사부; It has a ribbon shape, and the center portion is spaced apart from the base member to have a space. The bottom surfaces of both ends are fixed to the base member, and the top surface is formed of a reflective surface to reflect incident light, and an open hole is formed. An upper reflector configured to pass incident light; 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부; 및A lower reflector positioned above the base member and spaced apart from each other to have a space below the upper reflector, and having a reflective surface reflecting light incident through the open hole; And 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 구동 수단을 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a driving means for moving the center of the upper reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기반 부재는,The base member, 기판; 및Board; And 상기 기판의 상측에 돌출되어 있으며 상기 상부 반사부의 각 끝단을 지지하여 상기 상부 반사부의 중앙 부분이 상기 기판과 공간을 형성하여 이격되어 있도록 하는 지지부재를 포함하며,A support member protruding from the upper side of the substrate and supporting each end of the upper reflector such that a central portion of the upper reflector is spaced apart from the substrate by forming a space therebetween; 상기 하부 반사부는 상기 기판의 상측에 위치하며 상기 상부 반사부의 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기. And the lower reflector is located above the substrate and reflects light incident through the open hole of the upper reflector. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 기판 위에 형성되고, 상측에 상기 하부 반사부가 위치하는 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And an insulating layer formed on the substrate and having the lower reflector on an upper side thereof. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기반 부재는 공간을 제공하기 위한 함몰부를 가지며,The base member has a depression for providing a space, 상기 하부 반사부는 상기 기반 부재의 함몰부에 형성되어 있고, The lower reflector is formed in the depression of the base member, 상기 상부 반사부는 중앙 부분이 상기 하부 반사부와 공간을 가지고 이격되어 위치하도록 함몰부를 가로질러 위치하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the upper reflector is positioned across the depression such that a central portion of the upper reflector is spaced apart from the lower reflector. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 기반 부재 위에 형성되고, 상측에 상기 하부 반사부가 위치하는 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And an insulating layer formed on the base member and positioned above the lower reflector. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 반사부는,The upper reflector, 리본 형상을 하고 있으며, 중앙 부분은 상기 기반 부재와 공간을 가지도록 이격되어 위치하며, 양끝단의 하면이 상기 기반 부재에 고정되어 있으며 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성된 하부 지지대; 및A lower support having a ribbon shape, a center portion of which is spaced apart from the base member to have a space, and having lower ends of both ends fixed to the base member, and having open holes formed to pass incident light; And 상기 하부 지지대의 상측에 위치하며 상기 하부지지대의 오픈홀에 대응되는 위치에 오픈홀이 형성되어 있으며, 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사하며, 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성된 상부 마이크로 미러를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기.An open hole is formed above the lower support and is formed at a position corresponding to the open hole of the lower support. An upper surface is formed with a reflective surface to reflect incident light, and an open hole is formed to pass incident light. An open-hole-based diffractive light modulator comprising a micro mirror. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기반 부재는 표면이 평평하고;The base member has a flat surface; 상기 상부 반사부의 중앙 부분이 상기 하부 반사부로부터 이격되어 위치하여 공간을 확보하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a center portion of the upper reflector is spaced apart from the lower reflector to secure a space. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 상부 반사부는 상기 기반 부재을 가로지르는 방향과 동일한 방향으로 정렬되어 있는 복수개의 오픈홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the upper reflector comprises a plurality of open holes aligned in the same direction as the direction crossing the base member. 제 1 항에 있어서,  The method of claim 1, 상기 상부 반사부는 상기 상부 반사부가 상기 기반 부재를 가로지는 방향과 직각 방향으로 정렬되어 있는 복수의 오픈홀을 포함하는 것읕 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the upper reflector comprises a plurality of open holes aligned in a direction perpendicular to a direction in which the upper reflector crosses the base member. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 구동 수단은, The drive means, 한쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 좌측 끝단에 위치하고, 다른쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 중앙 부위로부터 좌측으로 이격되어 위치하며, 박막의 압전재료층을 포함하여 상기 압전 재료층의 양측에 전압이 인가되면 수축 및 팽창에 의해 상하 구동력을 제공하는 제 1 압전층; 및 One end is positioned at the left end of the upper reflector, and the other end is spaced apart to the left from the center of the upper reflector, and contracts when voltage is applied to both sides of the piezoelectric material layer, including the piezoelectric material layer of the thin film. And a first piezoelectric layer providing vertical driving force by expansion. And 한쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 우측 끝단에 위치하고, 다른쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 중앙 부위로부터 우측으로 이격되어 위치하며, 박막의 압전재료층을 포함하여 상기 압전 재료층의 양측에 전압이 인가되면 수축 및 팽창에 의해 상하 구동력을 제공하는 제 2 압전층을 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기.One end is located at the right end of the upper reflector, and the other end is spaced to the right from the center of the upper reflector, and contracts when voltage is applied to both sides of the piezoelectric material layer, including the piezoelectric material layer of the thin film. And a second piezoelectric layer providing up and down driving force by expansion. 제 10 항에 있어서, The method of claim 10, 상기 제 1 압전층은,The first piezoelectric layer, 상기 상부 반사부가 하부 전극이 되고;The upper reflector becomes a lower electrode; 한쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 좌측 끝단에 위치하고, 다른쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 중앙 부위로부터 좌측으로 이격되어 위치하며, 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창 구동력을 발생시키는 제 1 압전 재료층; 및A first piezoelectric material layer having one end positioned at a left end of the upper reflector, the other end spaced to the left from a central portion of the upper reflector, and generating contraction and expansion driving force when a voltage is applied to both surfaces; And 상기 제 1 압전 재료층위에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 제 1 상부 전극층을 포함하며,Stacked on the first piezoelectric material layer and including a first upper electrode layer for providing a piezoelectric voltage, 상기 제 2 압전층은,The second piezoelectric layer, 상기 상부 반사부가 하부 전극이 되고;The upper reflector becomes a lower electrode; 한쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 우측 끝단에 위치하고, 다른쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 중앙 부위로부터 우측으로 이격되어 위치하며, 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창 구동력을 발생시키는 제 2 압전 재료층; 및A second piezoelectric material layer having one end positioned at the right end of the upper reflector, the other end spaced to the right from the center of the upper reflector, and generating a contraction and expansion drive force when a voltage is applied to both sides; And 상기 제 2 압전 재료층위에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 제 2 상부 전극층을 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a second upper electrode layer stacked on the second piezoelectric material layer and providing a piezoelectric voltage. 제 10 항에 있어서, The method of claim 10, 상기 제 1 압전층은,The first piezoelectric layer, 상기 상부 반사부가 하부 전극이 되고;The upper reflector becomes a lower electrode; 한쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 좌측 끝단에 위치하고, 다른쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 중앙 부위로부터 좌측으로 이격되어 위치하며, 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창 구동력을 발생시키는 복수의 제 1 압전 재료층;One end is located at the left end of the upper reflector, the other end is located to the left from the central portion of the upper reflector, a plurality of first piezoelectric material layer to generate a contraction and expansion drive force when a voltage is applied to both sides ; 상기 복수의 제 1 압전 재료층 사이에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 복수의 제1 상부 전극층; 및A plurality of first upper electrode layers stacked between the plurality of first piezoelectric material layers, for providing a piezoelectric voltage; And 상기 복수의 제1 압전 재료층의 최상측 위에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 제2 상부 전극층을 포함하며,Stacked on top of the plurality of first piezoelectric material layers, the second upper electrode layer providing a piezoelectric voltage; 상기 제 2 압전층은,The second piezoelectric layer, 상기 상부 반사부가 하부 전극이 되고;The upper reflector becomes a lower electrode; 한쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 우측 끝단에 위치하고, 다른쪽 끝단이 상기 상부 반사부의 중앙 부위로부터 우측으로 이격되어 위치하며, 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창 구동력을 발생시키는 복수의 제 2 압전 재료층;A plurality of second piezoelectric material layers having one end positioned at a right end of the upper reflecting portion, the other end spaced to the right from a central portion of the upper reflecting portion, and generating contraction and expansion driving forces when a voltage is applied to both sides. ; 상기 복수의 제 2 압전 재료층 사이에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 복수의 제3 상부 전극층; 및A plurality of third upper electrode layers stacked between the plurality of second piezoelectric material layers, for providing a piezoelectric voltage; And 상기 복수의 제2 압전 재료층의 최상측 위에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 제4 상부 전극층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절형 광변조기.And a fourth upper electrode layer stacked on top of the plurality of second piezoelectric material layers and providing a piezoelectric voltage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동 수단은, The drive means, 상기 상부 반사부가 상부 전극으로 하고; The upper reflector is an upper electrode; 상기 하부 반사부를 하부 전극으로 하며, 상기 상부 반사부와 상기 상부 반사부 사이에 형성된 정전기력에 의해 상기 상부 반사부가 상하 이동되는 것을 특징으로 하는 오픈홀에 기반한 회절 광변조기.And the lower reflector as a lower electrode, and wherein the upper reflector is vertically moved by an electrostatic force formed between the upper reflector and the upper reflector. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 구동 수단은, The drive means, 상기 상부 반사부를 전자기력을 이용하여 상하 구동시키는 전자기력 구동수단인 것을 특징으로 하는 오픈홀에 기반한 회절 광변조기.And an electromagnetic force driving means for driving the upper reflector up and down using an electromagnetic force. 기반 부재; Base member; 리본 형상을 하고 있으며, 중앙 부분은 상기 기반 부재와 공간을 가지도록 이격되어 위치하며, 양끝단의 하면이 상기 기반 부재에 고정되어 있으며 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사하며, 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성되며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 반사부; It has a ribbon shape, and the center portion is spaced apart from the base member to have a space. The bottom surfaces of both ends are fixed to the base member, and the top surface is formed of a reflective surface to reflect incident light, and an open hole is formed. A plurality of upper reflectors configured to pass incident light and arranged in parallel with each other to form an array; 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부; 및A lower reflector positioned above the base member and spaced apart from each other to have a space below the upper reflector, and having a reflective surface reflecting light incident through the open hole; And 해당하는 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a plurality of driving means for moving a corresponding central portion of the upper reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 기반 부재는,The base member, 기판; 및Board; And 상기 기판의 상측에 돌출되어 있으며 복수의 상기 상부 반사부의 각각의 양끝단을 지지하여 복수의 상기 상부 반사부의 각각의 중앙 부분이 상기 기판과 공간을 형성하여 이격되어 있도록 하는 지지부재를 포함하며,A support member protruding from the upper side of the substrate and supporting both ends of each of the plurality of upper reflecting portions so that a central portion of each of the plurality of upper reflecting portions forms a space with the substrate, 상기 하부 반사부는 상기 기판의 상측에 위치하며 복수의 상기 상부 반사부의 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반 의 회절 광변조기. And the lower reflector is located above the substrate and reflects light incident through the open holes of the plurality of upper reflectors. 제 15 항에 있어서, The method of claim 15, 상기 기반 부재는 공간을 제공하기 위한 함몰부를 가지며,The base member has a depression for providing a space, 상기 하부 반사부는 상기 기반 부재의 함몰부에 형성되어 있고, The lower reflector is formed in the depression of the base member, 복수의 상기 상부 반사부의 각각은 중앙 부분이 상기 하부 반사부와 공간을 가지고 이격되어 위치하도록 함몰부를 가로질러 위치하며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.Wherein each of the plurality of upper reflectors is positioned across the depression such that a central portion is spaced apart from the lower reflector and spaced apart from each other, and are arranged side by side to form an array. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 기반 부재는 표면이 평평하고;The base member has a flat surface; 복수의 상기 상부 반사부의 중앙 부분이 상기 하부 반사부로부터 이격되어 위치하여 공간을 확보하며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.The center portion of the plurality of upper reflecting portion is spaced apart from the lower reflecting portion to secure space, and are arranged side by side with each other to form an array based diffraction light modulator. 함몰부가 형성되어 있는 기반 부재; A base member having depressions formed therein; 리본 형상으로 양끝단이 상기 기반 부재의 함몰부를 벗어난 지역에 부착되어 함몰부를 가로지르고 있으며, 오픈홀을 구비하여 입사광을 통과시키며, 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사시키는 상부 마이크로 미러;An upper micromirror having a ribbon shape, the both ends of which are attached to an area outside the depression of the base member and intersect the depression, having an open hole to pass incident light, and having an upper surface formed as a reflective surface to reflect the incident light; 리본 형상으로 상기 기반 부재에 형성된 함몰부의 측벽에 양끝단이 고정되어 상기 상부 마이크로 미러와 평행하게 그리고 이격되어 위치하며 중앙 부분이 상하 이동 가능하고, 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 하부 반사부; 및 Both ends are fixed to sidewalls of the recess formed in the base member in a ribbon shape, and are positioned parallel and spaced apart from the upper micromirror, and have a central portion movable up and down, and reflecting light incident through the open hole. part; And 상기 하부 반사부를 상하 움직여 상기 상부 마이크로 미러와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 양을 변화시키는 구동수단을 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a driving means for moving the lower reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper micromirror and the lower reflector. 제 19 항에 있어서,The method of claim 19, 상기 구동 수단은,The drive means, 상기 함몰부의 바닥에 적층되어 있는 하부 전극층; 및 A lower electrode layer stacked on the bottom of the depression; And 상기 하부 반사부를 상부 전극으로 하여 상기 하부 반사부에 전압이 인가되면 상기 하부 전극층과 상기 하부 반사부간에 정전기력이 발생하여 상기 하부 반사부가 이동하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a voltage is applied to the lower reflector by using the lower reflector as an upper electrode, an electrostatic force is generated between the lower electrode layer and the lower reflector to move the lower reflector. 함몰부가 형성되어 있는 기반 부재; A base member having depressions formed therein; 리본 형상으로 양끝단이 상기 기반 부재의 함몰부를 벗어난 지역에 부착되어 함몰부를 가로지르고 있으며, 오픈홀을 구비하여 입사광을 통과시키며, 상면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사시키며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 마이크로 미러;Both ends are attached to the area beyond the depression of the base member in a ribbon shape and intersect the depression, and have an open hole to pass incident light, and the upper surface is formed as a reflective surface to reflect the incident light, and are arranged side by side. A plurality of upper micromirrors forming a; 리본 형상으로 상기 기반 부재에 형성된 함몰부의 측벽에 양끝단이 고정되어 해당하는 상기 상부 마이크로 미러와 평행하게 그리고 이격되어 위치하며 중앙 부분이 상하 이동 가능하고, 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키며, 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 하부 반사부; 및 Both ends are fixed to the side wall of the depression formed in the base member in a ribbon shape and are positioned parallel and spaced apart from the corresponding upper micro mirror, and the center portion is movable up and down, reflecting the light incident through the open hole. A lower reflector arranged side by side to form an array; And 해당하는 상기 하부 반사부를 상하 움직여 상기 상부 마이크로 미러와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 양을 변화시키는 복수의 구동수단을 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a plurality of driving means for moving the corresponding lower reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper micromirror and the lower reflector. 광을 출사하는 광원;A light source for emitting light; 기반 부재와, 리본 형상으로 중앙 부분이 공간을 형성하도록 상기 기반 부재에 양끝단이 고정되어 있으며 오픈홀이 구비하여 광을 통과하고 반사표면을 가지고 있어 입사광을 반사하며 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 반사부와, 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부 및 해당하는 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하여 입사광을 변조하여 회절광을 생성하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기; Both ends of the base member and the base member are fixed to the base member so as to form a space in a ribbon shape, and an open hole is provided to pass the light and has a reflective surface to reflect the incident light and be arranged side by side to form an array. A lower reflector having a plurality of upper reflectors and a reflecting surface positioned above the base member and spaced apart to have a space below the upper reflector and reflecting light incident through the open hole; An open hole base for modulating incident light to generate diffracted light including a plurality of driving means for moving the center of the upper reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector; Diffraction light modulator; 상기 광원으로부터 입사된 광을 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 광을 조사시키는 조명 광학부;An illumination optical unit irradiating light incident from the light source to the open hole-based diffraction light modulator; 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에서 변조된 회절광에서 원하는 차수회절광을 선택하여 통과시키는 필터링 광학부; 및A filtering optical unit for selecting and passing a desired diffraction light from the diffracted light modulated by the open hole-based diffractive light modulator; And 상기 필터링 광학부를 통과한 회절광을 스크린에 스캐닝을 수행하는 투영 및 스캐닝 광학부를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 디스플레이 장치.And a projection and scanning optical unit for scanning the diffracted light that has passed through the filtering optical unit to the screen. 광을 출사하는 광원;A light source for emitting light; 기반 부재와, 리본 형상으로 중앙 부분이 공간을 형성하도록 상기 기반 부재에 양끝단이 고정되어 있으며 오픈홀이 구비하여 광을 통과하고 반사표면을 가지고 있어 입사광을 반사하며 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 상부 반사부와, 상기 기반 부재의 상측에 위치하고, 상기 상부 반사부의 하측에 공간을 가지도록 이격되어 위치하며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 하부 반사부 및 해당하는 상기 상부 반사부의 중앙부분을 상하로 움직여 상기 상부 반사부와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하여 입사광을 변조하여 회절광을 생성 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기; Both ends of the base member and the base member are fixed to the base member so as to form a space in a ribbon shape, and an open hole is provided to pass the light and has a reflective surface to reflect the incident light and be arranged side by side to form an array. A lower reflector having a plurality of upper reflectors and a reflecting surface positioned above the base member and spaced apart to have a space below the upper reflector and reflecting light incident through the open hole; Open hole base modulating incident light to generate diffracted light including a plurality of driving means for moving the center of the upper reflector up and down to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the upper reflector and the lower reflector. Diffraction light modulator; 상기 광원으로부터 입사된 광을 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 광을 조사시키는 조명 광학부;An illumination optical unit irradiating light incident from the light source to the open hole-based diffraction light modulator; 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에서 변조된 회절광에서 원하는 차수회절광을 선택하여 통과시키는 필터링 광학부; 및A filtering optical unit for selecting and passing a desired diffraction light from the diffracted light modulated by the open hole-based diffractive light modulator; And 상기 필터링 광학부를 통과한 회절광을 드럼에 투영하는 투영 광학부를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 프린팅 장치.And a projection optical unit for projecting the diffracted light that has passed through the filtering optical unit to the drum. 기판; Board; 상기 기판의 상부에 적층되는 절연층;An insulation layer stacked on the substrate; 상기 절연층의 양끝에 형성되며, 상부로 돌출되어 있는 희생층;Sacrificial layers formed at both ends of the insulating layer and protruding upward; 상기 절연층의 상부에 위치하며, 희생층 사이에 형성되어 입사광을 반사하는 반사표면을 가진 하부 반사부;A lower reflector positioned on the insulating layer and having a reflective surface formed between the sacrificial layers to reflect incident light; 상기 희생층의 상부에 가로질러 걸쳐있고 오픈홀이 형성된 하부지지대;A lower support spanning the upper portion of the sacrificial layer and having an open hole; 상기 하부지지대의 중앙부분에 적층되고 상측은 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사시키고, 상기 오픈홀에 대응되게 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시킬수 있는 상부 마이크로미러; 및An upper micromirror stacked on a center portion of the lower supporter, the upper side being formed with a reflective surface to reflect incident light, and having an open hole corresponding to the open hole to allow incident light to pass therethrough; And 상기 하부지지대의 양측끝에 위치하고 압전재료층을 구비하여 전압이 인가되면 상기 압전재료층의 수축,팽창에 의해 상기 하부지지대의 중앙부분을 상하로 움 직여 상기 상부 마이크로미러와 상기 하부 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 구동 수단을 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.Located at both ends of the lower support and provided with a piezoelectric material layer, when a voltage is applied, the center portion of the lower support is moved up and down by contraction and expansion of the piezoelectric material layer to form reflected light of the upper micromirror and the lower reflector. An open-hole-based diffractive light modulator comprising driving means for changing the amount of diffracted light to be. 제24항에 있어서,The method of claim 24, 상기 기판은 실리콘 기판이며,The substrate is a silicon substrate, 상기 구동수단은 상기 하부지지의 양측끝단에 하부전극이 형성되고,상기 하부전극 위에 압전재료층이 적층되고, 상기 압전재료층 위에 상부전극이 형성되어, 전압이 상기 상부전극 및 상기 하부전극에 인가되면 수축 또는 팽창되는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.In the driving means, lower electrodes are formed at both ends of the lower support, a piezoelectric material layer is stacked on the lower electrode, and an upper electrode is formed on the piezoelectric material layer, and a voltage is applied to the upper electrode and the lower electrode. The open hole-based diffractive light modulator, characterized in that the contraction or expansion. 기반 부재; Base member; 상기 기반부재에서 이격되어 공간을 확보하는 중간 부분과, 상기 기반부재에 배향되어 있고 입사광을 반사하는 반사표면으로 작용하는 제1 표면과, 상기 제1 표면에 형성되어 있으며 입사광이 통과할 수 있도록 하는 적어도 하나의 오픈홀을 포함하는 상기 기반 부재에 의해 지지되는 제1 반사부;An intermediate portion spaced apart from the base member to secure a space, a first surface oriented on the base member and serving as a reflective surface reflecting incident light, and formed on the first surface to allow incident light to pass therethrough A first reflector supported by the base member including at least one open hole; 상기 제1 반사부와 기반 부재 사이에 위치하며 제1 반사부로부터 이격되어 있고 상기 제1 반사부의 적어도 하나의 오픈홀을 통과한 입사광을 반사하는 반사표면을 구비하고 있는 제2 반사부; 및A second reflector positioned between the first reflector and the base member and having a reflective surface spaced apart from the first reflector and reflecting incident light passing through at least one open hole of the first reflector; And 상기 제1 반사부의 중간 부분을 상기 제2 반사부에 대해 가변하도록 움직이며 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 구동 수단을 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.An open-hole-based diffraction including driving means for moving the intermediate portion of the first reflector to vary with respect to the second reflector and for varying the amount of diffracted light formed by the reflected light of the first reflector and the second reflector Light modulator. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 기반 부재는,The base member, 기판; 및Board; And 상기 기판의 돌출되어 있으며 상기 제1 반사부를 지지하여 상기 제1 반사부의 중간 부분이 상기 기판과 공간을 형성하도록 하는 지지부재를 포함하며,A support member protruding from the substrate to support the first reflecting portion so that an intermediate portion of the first reflecting portion forms a space with the substrate, 상기 제2 반사부는 상기 기판에 위치하며 상기 제1 반사부의 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기. And the second reflector is located on the substrate and reflects light incident through the open hole of the first reflector. 제 27 항에 있어서, The method of claim 27, 상기 기판과 상기 제2 반사부 사이에 형성되어 있는 절연층을 더 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And an insulating layer formed between the substrate and the second reflecting portion. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 기반 부재는 공간을 제공하기 위한 함몰부를 형성하며,The base member forms a depression for providing space, 상기 제2 반사부는 상기 기반 부재의 함몰부에 형성되어 있고, The second reflecting portion is formed in the depression of the base member, 상기 제1 반사부는 중간 부분이 상기 제2 반사부와 이격되어 위치하도록 함몰부를 가로질러 위치하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the first reflector is positioned across the depression such that an intermediate portion is spaced apart from the second reflector. 제 29 항에 있어서,The method of claim 29, 상기 제1 반사부는 상기 기반 부재의 함몰부를 가로지르며,The first reflecting portion traverses the depression of the base member, 상기 제2 반사부는 상기 기반 부재에 형성된 함몰부의 측벽으로 지지되며 상기 제1 반사부와 평행하게 그리고 이격되어 위치하며 중간 부분이 상기 제1 반사부로부터 멀어지거나 가까워지게 이동 가능하고, 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키며, The second reflector is supported by the side wall of the recess formed in the base member and is located in parallel and spaced apart from the first reflector, and the middle part is movable away from or near the first reflector, and passes through the open hole. Reflect the incident light, 상기 구동 수단은 상기 제2 반사부를 상기 제1 반사부와 상대적으로 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 양을 변화시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.The driving means moves the second reflector relative to the first reflector to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the first reflector and the second reflector. . 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 구동 수단은,The drive means, 상기 함몰부의 바닥에 형성되어 있는 제1 전극층; 및 A first electrode layer formed at the bottom of the depression; And 상기 제2 반사부를 제2 전극층으로 하여 상기 제2 반사부에 전압이 인가되면 상기 제1 전극층과 상기 제2 반사부간에 정전기력이 발생하여 상기 제2 반사부가 이동하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.When the voltage is applied to the second reflector using the second reflector as the second electrode layer, an electrostatic force is generated between the first electrode layer and the second reflector to move the second reflector. Diffractive light modulator. 제 29 항에 있어서, The method of claim 29, 상기 기반 부재와 제2 반사부 사이에 위치하는 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And an insulating layer positioned between the base member and the second reflecting portion. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 제1 반사부는,The first reflector, 중간 부분은 상기 기반 부재 이격되어 공간을 형성하고, 상기 기반 부재에 의해 지지되며 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성된 제1 지지대; 및A middle support spaced apart from the base member to form a space, the first support being supported by the base member and configured to pass through the incident light by forming an open hole; And 상기 제1 지지대의 상기 기반부재의 반대측에 형성되어 있으며 상기 제1 지지대의 오픈홀에 대응되는 위치에 오픈홀이 형성되어 있으며, 상기 기반부재의 배향하는 표면이 반사표면으로 형성되어 입사광을 반사하며, 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성된 제1 마이크로 미러를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기.An open hole is formed at a position opposite to the base member of the first support, and an open hole is formed at a position corresponding to the open hole of the first support. And an open hole-based diffractive light modulator comprising a first micro mirror configured to pass through the incident light. 삭제delete 제 26 항에 있어서, The method of claim 26, 상기 제1 반사부는 상기 기반 부재을 가로지르는 방향과 동일한 방향으로 정렬되어 있는 복수개의 오픈홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the first reflector comprises a plurality of open holes aligned in the same direction as the direction crossing the base member. 제 26 항에 있어서,  The method of claim 26, 상기 제1 반사부는 상기 제1 반사부가 상기 기반 부재를 가로지는 방향과 직각 방향으로 정렬되어 있는 복수의 오픈홀을 포함하는 것읕 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the first reflector comprises a plurality of open holes aligned in a direction perpendicular to a direction in which the first reflector crosses the base member. 삭제delete 제 36 항에 있어서,The method of claim 36, 상기 구동수단은,The drive means, 상기 제1 반사부에 서로 분리되어 형성되어 있는 적어도 두개의 압전층 색션을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And at least two piezoelectric layer sections formed separately from each other in the first reflecting unit. 제 38 항에 있어서,The method of claim 38, 압전 전압을 상기 압전층 색션에 제공하기 위한 전극층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And an electrode layer for providing a piezoelectric voltage to the piezoelectric layer section. 삭제delete 제 38 항에 있어서, The method of claim 38, 상기 압전층은,The piezoelectric layer, 양측에 전압이 인가되면 수축 및 팽창에 의해 구동력을 발생하는 복수의 압전 재료층;A plurality of piezoelectric material layers generating driving force by contraction and expansion when voltage is applied to both sides; 상기 복수의 압전 재료층의 층간에 위치하며 압전 전압을 제공하는 복수의 제1 전극층; 및A plurality of first electrode layers positioned between the layers of the plurality of piezoelectric material layers and providing piezoelectric voltages; And 압전 재료층의 최외곽층에 위치하며 압전 전압을 제공하는 제2 전극층을 포함하며, A second electrode layer positioned at the outermost layer of the piezoelectric material layer and providing a piezoelectric voltage, 상기 제1 반사부가 압전층의 전극으로 작용하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the first reflecting portion acts as an electrode of the piezoelectric layer. 제 26 항에 있어서, The method of claim 26, 상기 구동 수단은,The drive means, 제1 전극층과 제2 전극층을 포함하고, 상기 제1 전극층과 제2 전극층 사이에 정전기력에 의해 상기 제1 반사부와 제2 반사부을 상대적으로 움직이는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And a first electrode layer and a second electrode layer, and relatively moving the first reflector and the second reflector by an electrostatic force between the first electrode layer and the second electrode layer. 삭제delete 제 42 항에 있어서,The method of claim 42, 상기 제2 전극층은 상기 제2 반사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the second electrode layer comprises the second reflector. 삭제delete 제 26 항에 있어서, The method of claim 26, 상기 구동 수단은, The drive means, 상기 제1 반사부를 전자기력을 이용하여 구동시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀에 기반한 회절 광변조기.An open hole-based diffractive light modulator, characterized in that for driving the first reflector using an electromagnetic force. 기반 부재; Base member; 어레이를 형성하도록 배열되어 있고, 각각은 상기 기반 부재에 의해 지지되고 있으며 중간 부분은 상기 기반 부재와 이격되어 공간을 확보하고 있고 상기 기반부재에 배향하는 표면이 반사면으로 형성되어 입사광을 반사하며 적어도 하나의 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성되어 있는 복수의 제1 반사부; Arranged to form an array, each of which is supported by the base member, an intermediate portion of which is spaced apart from the base member to secure a space, and a surface oriented to the base member is formed as a reflective surface to reflect incident light, A plurality of first reflectors formed with one open hole and configured to pass incident light; 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부 사이에 상기 제1 반사부와 이격되어 공간을 확보하도록 위치하고, 상기 제1 반사부의 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 제2 반사부; 및A second reflection between the base member and the first reflecting portion, the second reflecting portion being spaced apart from the first reflecting portion to secure a space, and having a reflecting surface reflecting light incident through the open hole of the first reflecting portion; part; And 해당하는 각각의 상기 제1 반사부의 중간 부분을 상기 기반부재로부터 멀어지거나 가까워지도록 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.A plurality of driving means for moving a corresponding intermediate portion of each of the first reflecting portions away from or close to the base member to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting portion and the second reflecting portion; Hall-based diffractive light modulator. 제 47 항에 있어서,The method of claim 47, 상기 기반 부재는,The base member, 기판; 및Board; And 상기 기판에 돌출되어 있으며 복수의 상기 제1 반사부를 지지하여 복수의 상기 제1 반사부의 각각의 중간 부분이 상기 기판과 이격되어 공간을 확보하도록 하는 지지부재를 포함하며,A support member protruding from the substrate and supporting a plurality of the first reflecting portions so that an intermediate portion of each of the plurality of first reflecting portions is spaced apart from the substrate to secure a space; 상기 제2 반사부는 상기 기판에 형성되어 복수의 상기 제1 반사부의 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기. And the second reflector is formed on the substrate to reflect light incident through the open holes of the plurality of first reflectors. 제 47 항에 있어서,The method of claim 47, 상기 기반 부재는 상대적으로 표면이 평평하고;The base member is relatively flat in surface; 복수의 상기 제1 반사부의 중간 부분이 상기 제2 반사부로부터 이격되어 위치하여 공간을 확보하여 배열되어 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And an intermediate portion of the plurality of first reflecting portions spaced apart from the second reflecting portion to arrange a space to form an array, thereby forming an array. 제 47 항에 있어서, The method of claim 47, 상기 기반 부재는 공간을 제공하기 위한 함몰부를 가지며,The base member has a depression for providing a space, 상기 제2 반사부는 상기 기반 부재의 함몰부에 형성되어 있고, The second reflecting portion is formed in the depression of the base member, 복수의 상기 제1 반사부의 각각은 중간 부분이 상기 제2 반사부와 공간을 가지고 이격되어 위치하도록 함몰부를 가로질러 위치하며, 배열되어 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.Wherein each of the plurality of first reflecting portions is positioned across the depression such that an intermediate portion is spaced apart from the second reflecting portion and spaced apart, and arranged to form an array. 제 50 항에 있어서,51. The method of claim 50, 상기 제1 반사부는 상기 기반부재의 함몰부에 가로질러 걸쳐 있고,The first reflecting portion is across the depression of the base member, 상기 제2 반사부는 어레이를 형성하도록 배열되어 있고 상기 기반 부재의 함몰부의 측벽에 의해 상기 제1 반사부와 대응되는 위치에 이격되어 있도록 지지되며 상기 제1 반사부로부터 멀어지거나 가까워지며 상기 제1 반사부의 오픈홀을 통과한 입사광을 반사시키며, The second reflector is arranged to form an array and is supported to be spaced apart from the first reflector at a position corresponding to the first reflector by sidewalls of the depression of the base member, the first reflector Reflects incident light passing through the negative open hole, 상기 구동수단은 해당하는 상기 제2 반사부를 상기 제1 반사부로부터 상대적으로 움직여 상기 제1 반사부와 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 양을 변화시키는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.The driving means moves the corresponding second reflector relatively from the first reflector to change the amount of diffracted light formed by the reflected light of the first reflector and the second reflector. Modulator. 광을 출사하는 광원;A light source for emitting light; 기반 부재와, 중간 부분이 공간을 형성하도록 상기 기반 부재에 의해 지지되며 오픈홀이 구비하여 광을 통과하도록 하고 반사표면을 가지고 있어 입사광을 반사하며 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 제1 반사부와, 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부의 사이에 위치하고, 상기 제1 반사부와 이격되어 있으며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 제2 반사부 및 해당하는 상기 제1 반사부의 중간 부분을 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하여 입사광을 변조하여 회절광을 생성하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기; A plurality of first reflections supported by the base member so that the intermediate part forms a space, and having an open hole to pass the light and having a reflective surface to reflect incident light and arranged side by side to form an array A second reflecting portion located between the base member and the first reflecting portion, the second reflecting portion spaced apart from the first reflecting portion, and having a reflecting surface reflecting light incident through the open hole; An open-hole-based diffraction modulating incident light to generate diffracted light including a plurality of driving means for moving an intermediate portion of the first reflecting part to vary the amount of diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting part and the second reflecting part Optical modulators; 상기 광원으로부터 입사된 광을 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 광을 조사시키는 조명 광학부;An illumination optical unit irradiating light incident from the light source to the open hole-based diffraction light modulator; 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에서 변조된 회절광에서 원하는 차수회절광을 선택하여 통과시키는 필터링 광학부; 및A filtering optical unit for selecting and passing a desired diffraction light from the diffracted light modulated by the open hole-based diffractive light modulator; And 상기 필터링 광학부를 통과한 회절광을 스크린에 스캐닝을 수행하는 투영 및 스캐닝 광학부를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 디스플레이 장치.And a projection and scanning optical unit for scanning the diffracted light that has passed through the filtering optical unit to the screen. 광을 출사하는 광원;A light source for emitting light; 기반 부재와, 중간 부분이 공간을 형성하도록 상기 기반 부재에 의해 지지되며 오픈홀이 구비하여 광을 통과하도록 하고 반사표면을 가지고 있어 입사광을 반사하며 서로 나란히 배열되어 어레이를 형성하는 복수의 제1 반사부와, 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부의 사이에 위치하고, 상기 제1 반사부와 이격되어 있으며 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 제2 반사부 및 해당하는 상기 제1 반사부의 중간 부분을 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 복수의 구동 수단을 포함하여 입사광을 변조하여 회절광을 생성하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기; A plurality of first reflections supported by the base member so that the intermediate part forms a space, and having an open hole to pass the light and having a reflective surface to reflect incident light and arranged side by side to form an array A second reflecting portion located between the base member and the first reflecting portion, the second reflecting portion spaced apart from the first reflecting portion, and having a reflecting surface reflecting light incident through the open hole; An open-hole-based diffraction modulating incident light to generate diffracted light including a plurality of driving means for moving an intermediate portion of the first reflecting part to vary the amount of diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting part and the second reflecting part Optical modulators; 상기 광원으로부터 입사된 광을 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에 광을 조사시키는 조명 광학부;An illumination optical unit irradiating light incident from the light source to the open hole-based diffraction light modulator; 상기 오픈홀 기반의 회절 광변조기에서 변조된 회절광에서 원하는 차수회절광을 선택하여 통과시키는 필터링 광학부; 및A filtering optical unit for selecting and passing a desired diffraction light from the diffracted light modulated by the open hole-based diffractive light modulator; And 상기 필터링 광학부를 통과한 회절광을 드럼에 투영하는 투영 광학부를 포함하여 이루어진 오픈홀 기반의 회절 광변조기를 이용한 프린팅 장치.And a projection optical unit for projecting the diffracted light that has passed through the filtering optical unit to the drum. 기판; Board; 상기 기판에 돌출되게 형성되어 있는 적어도 하나의 희생층;At least one sacrificial layer protruding from the substrate; 상기 희생층 사이의 기판에 형성되어 입사광을 반사하는 반사표면을 가진 반사부;A reflector formed on a substrate between the sacrificial layers and having a reflective surface reflecting incident light; 상기 희생층에 가로질러 걸쳐있고 오픈홀이 형성된 지지대;A support span across the sacrificial layer and having an open hole formed therein; 상기 지지대에 형성되어 있고 상기 기판에 배향하는 표면에 반사표면이 형성되어 입사광을 반사시키고, 상기 오픈홀에 대응되게 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시킬수 있는 마이크로미러; 및A micromirror formed on the support and formed with a reflective surface on a surface oriented to the substrate to reflect incident light, and an open hole corresponding to the open hole to allow incident light to pass therethrough; And 전압이 인가되면 수축 및 팽창에 의해 상기 지지대의 중간 부분을 움직이는 압전 재료층을 포함하여 상기 마이크로미러와 상기 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광양을 변화시키는 구동 수단을 포함하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.Open-hole-based diffraction light including drive means for varying the amount of diffracted light formed by the reflected light of the micromirror and the reflector, including a piezoelectric material layer that moves the middle portion of the support by contraction and expansion when a voltage is applied. Modulator. 제54항에 있어서,The method of claim 54, 상기 기판은 실리콘 기판이며,The substrate is a silicon substrate, 상기 구동수단은 상기 압전재료층이 전극에 형성되어 있고, 상기 전극에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 구동력을 발생하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.The driving means is a piezoelectric material layer is formed on the electrode, when the voltage is applied to the open-hole-based diffraction light modulator, characterized in that for generating a driving force by contraction and expansion. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 제1 반사부는 상기 구동 수단의 제어에 따라 상기 제2 반사부로부터 멀어지거나 근접하도록 이동하는 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.And the first reflector moves away from or close to the second reflector under control of the driving means. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 제1 반사부는 긴 장방형이며, 측면 방향으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절 광변조기.The first reflector is an elongated rectangle, the open hole-based diffractive light modulator, characterized in that movable in the lateral direction.
KR1020050034685A 2004-04-29 2005-04-26 Open-hole based diffractive optical modulator KR100832646B1 (en)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/152,823 US7206118B2 (en) 2004-09-28 2005-06-13 Open hole-based diffractive light modulator
JP2005299193A JP4318684B2 (en) 2005-01-05 2005-10-13 Diffractive light modulator based on open holes
DE102005051274A DE102005051274A1 (en) 2005-01-05 2005-10-26 Open hole-based diffractive light modulator used in e.g. optical memory, has hole in reflective surface of micromirror to pass incident light
FR0511173A FR2884932B1 (en) 2005-04-26 2005-11-02 DIFFRACTION LIGHT MODULATOR BASED ON AN OPEN HOLE
CNB200510120099XA CN100485443C (en) 2005-04-26 2005-11-02 Open hole-based diffractive light modulator
GB0600087A GB2425613B (en) 2005-04-26 2006-01-05 Display device comprising open hole-based diffractive light modulator
GB0600093A GB2425614B (en) 2005-04-26 2006-01-05 Open hole-based diffractive light modulator

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040030159 2004-04-29
KR20040030159 2004-04-29
KR1020050000907A KR20050118105A (en) 2004-04-29 2005-01-05 Open-hole based diffractive optical modulator
KR1020050000907 2005-01-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060047478A KR20060047478A (en) 2006-05-18
KR100832646B1 true KR100832646B1 (en) 2008-05-27

Family

ID=34656347

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050034685A KR100832646B1 (en) 2004-04-29 2005-04-26 Open-hole based diffractive optical modulator

Country Status (4)

Country Link
KR (1) KR100832646B1 (en)
DE (1) DE102005018604A1 (en)
FR (1) FR2869696B1 (en)
GB (2) GB2433327B (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2884932B1 (en) * 2005-04-26 2011-06-24 Samsung Electro Mech DIFFRACTION LIGHT MODULATOR BASED ON AN OPEN HOLE
KR100883989B1 (en) * 2007-10-19 2009-02-17 삼성전기주식회사 Optical modulator

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002341269A (en) 2001-05-11 2002-11-27 Sony Corp Optical modulating element and optical device using the same, and manufacturing method for optical modulating element
US20030035215A1 (en) 2001-08-15 2003-02-20 Silicon Light Machines Blazed grating light valve
US6639722B2 (en) 2001-08-15 2003-10-28 Silicon Light Machines Stress tuned blazed grating light valve
US7057819B1 (en) 2002-12-17 2006-06-06 Silicon Light Machines Corporation High contrast tilting ribbon blazed grating

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5311360A (en) * 1992-04-28 1994-05-10 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for modulating a light beam
US5949570A (en) * 1995-06-20 1999-09-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Diffractive optical modulator and method for producing the same, infrared sensor including such a diffractive optical modulator and method for producing the same, and display device including such a diffractive optical modulator
US6141139A (en) * 1998-11-30 2000-10-31 Eastman Kodak Company Method of making a bistable micromagnetic light modulator
KR100327367B1 (en) * 1999-05-26 2002-03-06 구자홍 micro-mirror device and optical pick-up system using the same
US6466354B1 (en) * 2000-09-19 2002-10-15 Silicon Light Machines Method and apparatus for interferometric modulation of light
US6791735B2 (en) * 2002-01-09 2004-09-14 The Regents Of The University Of California Differentially-driven MEMS spatial light modulator
US20050057810A1 (en) * 2003-09-15 2005-03-17 Goodwill Patrick W. Diffraction grating
US7027204B2 (en) * 2003-09-26 2006-04-11 Silicon Light Machines Corporation High-density spatial light modulator
US7245285B2 (en) * 2004-04-28 2007-07-17 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pixel device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002341269A (en) 2001-05-11 2002-11-27 Sony Corp Optical modulating element and optical device using the same, and manufacturing method for optical modulating element
US20030035215A1 (en) 2001-08-15 2003-02-20 Silicon Light Machines Blazed grating light valve
US6639722B2 (en) 2001-08-15 2003-10-28 Silicon Light Machines Stress tuned blazed grating light valve
US7057819B1 (en) 2002-12-17 2006-06-06 Silicon Light Machines Corporation High contrast tilting ribbon blazed grating

Also Published As

Publication number Publication date
FR2869696B1 (en) 2009-10-16
FR2869696A1 (en) 2005-11-04
GB2413647B (en) 2007-05-16
GB2413647A (en) 2005-11-02
GB0625065D0 (en) 2007-01-24
DE102005018604A1 (en) 2005-11-24
GB0508353D0 (en) 2005-06-01
KR20060047478A (en) 2006-05-18
GB2433327A (en) 2007-06-20
GB2433327B (en) 2008-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4318684B2 (en) Diffractive light modulator based on open holes
KR100897671B1 (en) Diffractive optical modulator
US6836352B2 (en) High frequency deformable mirror device
JP2001215317A (en) Spatial optical modulator having adaptive diffraction grating device
KR100645640B1 (en) Diffractive thin-film piezoelectric micro-mirror and the manufacturing method
JP4361458B2 (en) Diffractive light modulator based on open holes
KR20050115203A (en) Variable-type diffraction optical modulator
KR100832646B1 (en) Open-hole based diffractive optical modulator
KR100919535B1 (en) Diffractive optical modulator
KR20060031452A (en) Digital micro blaze grating optical modulator
KR100815349B1 (en) Diffractive optical modulator improved the contrast
KR100815341B1 (en) Fishbone optical modulator
US6594060B2 (en) Electromechanical conformal grating device with improved optical efficiency and contrast
JPH11160635A (en) Optical element and manufacturing method thereof and device using it
KR100632548B1 (en) Diffraction type optical modulator using symmetrical cantilever
KR100878919B1 (en) Vibrating diffractive Optical Modulator
KR100619335B1 (en) Optical modulator using a near-field
KR100815338B1 (en) Optical modulator drived by low-voltage
KR100632547B1 (en) Diffraction type optical modulator using cantilever
KR100878922B1 (en) Single body hybrid diffractive optical Modulator
US7999990B2 (en) Optical element, optical device, and display device
GB2425613A (en) Display device comprising open hole-based diffractive light modulator
KR20050104759A (en) Vibrating diffractive optical modulator
JP2005091578A (en) Optical control element and optical control element array

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130403

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140325

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee