KR100831482B1 - 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 - Google Patents

방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100831482B1
KR100831482B1 KR1020060072940A KR20060072940A KR100831482B1 KR 100831482 B1 KR100831482 B1 KR 100831482B1 KR 1020060072940 A KR1020060072940 A KR 1020060072940A KR 20060072940 A KR20060072940 A KR 20060072940A KR 100831482 B1 KR100831482 B1 KR 100831482B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
glare
film
weight
compensation film
optical device
Prior art date
Application number
KR1020060072940A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080012023A (ko
Inventor
김용운
김철희
최성혁
Original Assignee
주식회사 에이스 디지텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이스 디지텍 filed Critical 주식회사 에이스 디지텍
Priority to KR1020060072940A priority Critical patent/KR100831482B1/ko
Publication of KR20080012023A publication Critical patent/KR20080012023A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100831482B1 publication Critical patent/KR100831482B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502Antiglare, refractive index matching layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

본 발명은 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 상기 방법에 의하여 제조된 광학소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 무기산화물, 고분자비드 및 자외선 경화 수지 등을 혼합하여 제조한 코팅 조성물을 편광필름의 최상부에 위치하는 보상필름에 직접 코팅함으로써 고정세(高精細)를 저감시키는 현상을 줄이는 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 상기 방법에 의하여 제조된 광학소자에 관한 것이다.
본 발명에 의한 고해상 방현성 보상필름 및 이의 제조방법은 종래 사용되는 실리카 입자와 같은 금속산화물에 고분자비드를 직접 혼합하여 보상필름 또는 위상차 필름에 직접 코팅한 것으로서, 금속산화물만으로 이루어진 방현필름의 고정세 감소효과를 최소화하고 보다 고해상도의 디스플레이 화질을 얻는 것을 목적으로 할 뿐만 아니라, 편광필름의 최상부에 위치한 보상필름에 코팅함으로써 기존의 필름을 그대로 이용할 수 있어 경제적으로 매우 유리하다.
방현필름, 하드코팅, 보상필름, 광학소자

Description

방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법{MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL ELEMENT WITH GLARE REDUCING COMPLEMENTARY FILM}
도 1은 최외각 층에 코팅되지 않은 보상필름을 합지한 광학 소자의 단면도이다.
도 2는 통상의 방현 코팅된 보상필름이 최상부에 위치한 광학 소자의 단면도이다.
도 3은 고해상 방현 코팅된 투명지지 필름을 합지한 보상필름이 상부에 위치한 광학소자의 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따라 제조된 고해상 방현 보상필름을 구비한 광학 소자의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예와 비교예에 따른 광학소자의 단판 투과율을 도시한 그래프이다.
도 6은 본 발명의 실시예와 비교예에 따른 광학소자의 교차 투과율을 도시한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 실시예와 비교예에 따른 광학소자의 반사율 그래프이다.
본 발명은 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 상기 방법에 의하여 제조된 광학소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 무기산화물, 고분자비드 및 자외선 경화 수지 등을 혼합하여 제조한 코팅 조성물을 편광필름의 최상부에 위치하는 보상필름에 직접 코팅함으로써 액정 표시체의 표시화질을 저하시키지 않고 뛰어난 방현성을 부여하는 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 상기 방법에 의하여 제조된 광학소자에 관한 것이다.
CRT나 액정표시체의 디스플레이에 이용되는 필름에서, 필름의 상부에 보상필름 및 위상차 필름이 위치하는 광학소자의 경우 표면 반사로 인하여 시인성이 저하되며, 무기 산화물에 의해 요철을 형성할 경우 액정표시소자의 해상도 저하를 초래할 수 있다. 따라서 고해상 방현성 투명지지 필름을 점착제를 사용하여 표면에 부착하는 방식을 취해왔으나, 공정이 복잡하며 필름의 두께가 두꺼워진다는 문제점이 있다.
최근, 실외에서 외광과 상관없이 화면의 시인이 용이한 형태로 개발됨에 따라 보상필름 또는 위상차 필름 표면에 시인성을 높이기 위한 방현처리가 필요하게 되었으며, 더 나아가 해상도를 높인 고정밀 방현필름이 필요하게 되었다.
이와같은 문제를 해결하기 위하여 편광판에 사용되는 하드코팅 필름이나 각 종 보호용 하드코팅필름 등에 대하여 그 표면을 조면화하는 방현처리가 실시되고 있는데, 이러한 방법에는 하드 코팅층을 형성하기 위한 경화시에 물리적 방법에 의해 표면을 조면화하는 방법과 하드 코팅층 형성용의 하드 코팅제에 필러를 혼입하는 방법이 있다. 일반적으로 이용되는 방현필름은 표면에 요철을 형성함으로서 방현성을 구현하는 형태가 대분분이나, 이러한 형태는 액정 표시체의 표시화질을 저하시키는 특성을 초래한다.
일본 특허 공보 제 2000-326447 호에는 플라스틱 기재 필름의 적어도 한 면에 적어도 한 층의 하드 코팅층을 형성하여 이루어지는 하드 코팅 필름이 개시되어 있다. 하드 코팅층의 표면을 요철 형상으로 하여 방현성을 부여하는 취지의 기재가 있지만, 하드 코팅층 표면의 표면 조도가 전혀 고려되어 있지 않으며, 무기 미립자가 하드 코팅층 내부에 완전히 매립되어 있어 충분한 방현성을 발휘하기 어렵다는 문제가 있다.
또한, 일본 특허 공보 제 2001-194504 호에는 플라스틱 필름의 적어도 한 면에 하드 코팅 피막층과 금속 알콕사이드 및 그 가수 분해물을 주성분으로 하는 반사 방지 박막층을 적층하여 이루어진 반사 방지 필름이 개시되어 있다. 그러나, 상기 발명도 경도 및 내찰상성의 문제는 개선되었으나 미립자가 하드 코팅층의 내부에 매립되어 충분한 방현 기능을 발휘할 수 없다는 문제가 있다.
본 발명은 상기 문제를 해결하기 위한 것으로서, 방현성을 부여하기 위하여 무기입자 및 고분자 비드로 된 미립자를 함유하며 고정세한 방현성 및 안정된 광학 특성을 유지함과 동시에 내찰상성이 뛰어난 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 이러한 방법으로 제조된 광학소자를 제공하는데 그 목적이 있다.
이하 본 발명에 의한 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 이러한 방법으로 제조된 광학소자에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명은 편광필름 및 상기 편광필름의 상면에 방현 코팅층을 포함하는 보상필름이 배치된 방현 코팅 보상필름을 구비하는 광학소자의 제조방법으로, 자외선 경화 수지, 경화제, 무기입자 또는 고분자 유기입자 등의 방현성 미립자, 광중합개시제, 레벨링제를 혼합한 방현코팅 조성물 100중량%에 있어서, 상기 자외선 경화수지는 30 내지 70중량%, 상기 경화제는 0.1 내지 20중량%, 상기 무기입자는 1 내지 15중량%, 상기 고분자 유기입자는 1 내지 15중량%, 광중합개시제는 0.1중량% 내지 10중량%, 상기 레벨링제는 0.1 내지 3중량%, 상기 방현코팅 조성물 100중량부에 대하여 분산제는 20중량부 내지 110중량부를 사용하여 혼합하며, 상기 방현코팅 조성물과 분산제가 혼합된 용액을 스핀코팅방식에 의하여 회전속도 100rpm 내지 5,000rpm으로 방현 코팅층을 코팅하는 코팅단계; 상기 코팅층의 온도는 15℃ 내지 85℃로 하고, 20rpm 내지 5,000rpm의 회전속도로 회전시켜 건조하는 건조단계; 및 상기 코팅층을 5mJ 내지 40mJ로 자외선 경화하고, 경화시 회전속도는 10rpm 내지 3,000rpm인 경화단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 이러한 방법으로 제조된 광학소자에 관한 발명이다.
상기 방현 코팅층 상부에 반사 방지층을 더 코팅할 수 있으며, 상기 무기입자는 SiO2, TiO2 인 것을 특징으로 한다. 또한 상기 유기입자는 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리스타일렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리씨클로올레핀 이다. 상기 방현 미립자의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 10㎛인 것이 바람직하며, 본 발명에 따른 방현코팅 보상필름은 하단부로부터 TAC 필름, 보상필름, 방현 코팅층 순서로 구성된다. 상기 방현 코팅층의 두께는 1㎛ 내지 15㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3㎛ 내지 9㎛이다. 더더욱 바람직하게는 5㎛ 내지 7㎛이다.
본 발명에 따른 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 및 이러한 방법에 따라 제조된 광학소자의 무기산화물, 유기입자 및 자외선 경화 수지 등을 혼합하여 제조한 방현코팅 조성물을 편광필름의 최상부에 위치하는 보상필름에 직접 코팅함으로써 액정 표시체의 표시화질을 저하시키지 않고 뛰어난 방현성을 부여한다.
(1) 방현성 보상필름의 제조방법
편광필름 및 상기 편광필름의 상면에 방현 코팅층을 포함하는 보상필름이 배치된 방현코팅 보상필름을 구비하는 광학소자의 제조방법으로, 자외선 경화 수지, 경화제, 무기입자 또는 고분자 유기입자 등의 방현성 미립자, 광개시제, 레벨링제 를 혼합한 방현코팅 조성물 100중량%에 있어서, 상기 자외선 경화수지는 30 내지 70중량%으로 하고, 여기에 경화제 0.1 내지 20중량%, 무기입자 1 내지 15중량%, 고분자 유기입자 1 내지 15중량%, 광중합개시제 0.1중량% 내지 10중량%, 레벨링제 0.1 내지 3중량%를 혼합하여 혼합액을 제조한다. 상기 방현코팅 조성물방현코팅 조성물 대하여 분산제는 20중량부 내지 110중량부를 사용하여 혼합한다. 편광판 상부에 하기의 코팅 조성물을 인라인 방식을 적용하여 코팅하며, 헤드는 마이크로 그라비어, 그라비어, 다이, 캡, 콤마, 나이프, 스프레이, 스핀 코팅 등을 조성물의 특성에 따라 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 스핀코팅방식을 이용하는 경우, 회전속도 100rpm 내지 5,000rpm로 하여 방현 코팅층을 형성한다. 상기 코팅층의 온도는 15℃ 내지 85℃로 하고, 20rpm 내지 5,000rpm의 회전속도로 회전시켜 건조한다. 그 후, 상기 코팅층을 5mJ 내지 40mJ로 자외선 경화하고, 경화시 회전속도는 10rpm 내지 3,000rpm로 한다.
본 발명에 따른 광학소자를 제조하기 위하여 이용되는 구성요소는 아래와 같다.
(i) 투명지지체
편광필름은 편광 기능을 하는 편광자와 편광자를 보호하는 투명보호층으로 구성된다. 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 통상 0.1㎛ 내지 100㎛이며, 바람직하게는 5㎛ 내지 80㎛ 이다. 얻어진 편광자는 통상적인 방법에 따라 적어도 한 면에 투명보호층을 가지는 편광판을 구성한다. 투명보호층은 폴리머에 의한 도포층으로서, 또는 필름의 라미네이트층 등으로 형성할 수 있다. 투명보호층을 형성하는 투명 폴리머 또는 필름재료로는 적절한 투명재료를 사용할 수 있지만, 투명성이나 기계적 강도, 열안정성이나 수분차단성 등이 우수한 것을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서는 편광필름에 사용되는 TAC 필름이 아닌 보상필름 또는 위상차 필름으로 사용하고 있는 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트 등을 일축 또는 이축으로 연신한 필름을 투명지지체로 사용할 수 있으며, 본 발명에서는 폴리씨클로올레핀 필름을 사용하였다.
더 구체적으로, 상기 투명보호층을 형성하는 재료로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 2-아세트산셀룰로오스나 3-아세트산셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴ㆍ스티렌 공중합체(AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌ㆍ프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술피드계 폴리머, 비닐 알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 알릴레 이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 투명보호층을 형성하는 폴리머의 예로 들 수 있다.
투명보호층의 두께는 임의이지만 일반적으로는 편광판의 박형화 등을 목적으로 500㎛이하, 나아가 1㎛ 내지 300㎛, 특히 5㎛ 내지 300㎛가 바람직하다. 또한, 편광자의 양측에 투명보호층을 형성하는 경우 그 표리에서 다른 폴리머 등으로 이루어지는 투명보호필름을 사용할 수 있다.
또한, 투명보호층은 착색이 없는 것이 바람직하다. 따라서, Rth=[(nx+ny)/2-nz]ㆍd(단, nx, ny 는 필름평면 내의 주굴절률, nz는 필름두께 방향의 굴절률, d는 필름두께임)로 나타내는 필름두께 방향의 위상차값이 -90㎚ 내지 +75㎚인 보호필름을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 두께 방향의 위상차값(Rth)이 -90㎚ 내지 +75㎚인 것을 사용함으로써 보호필름에 기인하는 편광판의 착색(광학적인 착색)을 거의 해소할 수 있다. 두께 방향 위상차값(Rth)은, 더욱 바람직하게는 -80㎚ 내지 +60㎚, 특히 -70㎚ 내지 +45㎚가 바람직하다.
(ii) 방현코팅층을 구성하는 조성물
방현코팅층은 자외선 경화성수지, 경화제, 무기산화물, 고분자비드, 중합개시제, 레벨링제를 포함하는 방현코팅층 조성물에 분산제가 혼합되어 구성된다. 각각의 구성 물질을 살펴본다.
<경화성수지>
본 발명에서 사용하는 경화성수지는 고경도, 투명성 등의 특성을 함께 얻기 위하여 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위가 나열된 수지에 한정되지 않음은 물론이다.
본 발명에서 사용하는 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylte), 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트(tetramethylolmethane tetraacrylate), 테트라메틸올메탄 트리아크릴레이트(tetramethylolmethane triacrylate), 트리메탄올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 1,6-비스(3-아크릴오일옥시-2-하이드록시프로필옥시)헥산[1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl)hexane] 등과 같은 다관능기 알콜 유도체, 폴리에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트(polyethylene glycol diacrylate)와 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate)와 같은 우레탄 아크릴레이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 우레탄 선행고분자(hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) 등을 단독 또는 혼합되어 사용할 수 있다.
전술한 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 경화성수지 100중량%에 대하여 30중량% 내지 70중량% 사용하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 40중량% 내지 65중량%이다. 더더욱 바람직하게는 50중량% 내지 60중량% 사용하는 것 이 바람직하다.
경화성수지 100중량%에서 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지가 30중량% 보다 작으면 절대적인 관능기 수가 적어서 원하는 소정 경도를 얻기 힘들고, 70중량% 보다 많을 때는 경도는 높아지지만 비틀림 방지 및 내화학성이 약해지는 단점이 있다.
<경화제>
본 발명에서의 경화제는 광경화성수지, 방현코팅조성물에 존재하는 관능기의 형태에 따라서 적절히 선택 및 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
경화제가 특별히 제한되지는 않지만, 전리 방사선 경화가 바람직하다. 그 수단으로는 각종 활성 에너지를 사용할 수 있지만, 자외선이 적합하다. 에너지원으로는 고압 수은 램프, 할로겐 램프, 제논 램프, 메탈 할라이드 램프, 질소 레이저, 전자선 가속 장치, 방사성 원소 등이 바람직하다. 또한, 사용하는 경화성수지의 종류, 물리화학적 성질 등에 따라서 경화제의 종류, 크기, 함량 등을 조정하여 선택하는 것이 바람직하다.
본 발명에서의 이소시아네이트계 화합물은 트리메틸렌 디이소시아네이 트(trimethylene diisocyanate), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate), 디페닐메탄 이소시아네이트(diphenylmethane isocyanate), 자이렌 디이소시아네이트(xylene diisocyanate) 등의 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 헥사메틸 디이소시아네이트(hexamethyl diisocyanate) 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물(aliphatic diisocyanate) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
또한, 본 발명에서의 에폭시계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether), 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르(trimethylol propane triglycidyl ether) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
본 발명의 방현코팅층에서 경화제는 방현코팅조성물 100중량%에 대하여 0.1중량% 내지 15중량% 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 10중량%이다. 더더욱 바람직하게는 1중량% 내지 5중량%이다.
본 발명에서 경화제는 방현코팅조성물의 분자량 또는 사슬 구조를 제어하기 위하여 사용하는 첨가제로서, 전술한 범위에서 경화제를 사용하면 상 분리 현상 등을 억제하는 효과가 두드러진다. 경화제의 함량이 0.1중량% 보다 작으면 경화제 기능을 기대하기 힘들고, 15중량% 보다 크면 경화성 수지의 함량이 상대적으로 낮아 경도를 높이기 어렵다.
<무기산화물>
본 발명에서는 통상의 방현효과를 얻기 위하여 무기산화물을 사용한다. 본 발명에서 사용되는 무기산화물은 금속산화물을 사용하는 것이 바람직하다.
금속산화물을 형성하는 금속은 나트륨(Na), 마그네슘(Mg), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 루비듐(Rb), 이트륨(Y), 란탄(La), 스트론튬(Sr), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo) 등을 사용할 수 있으며, 이들 금속은 하나의 금속이 복수개의 원자가를 가지면서 여러 금속산화물을 형성할 수도 있다. 또한, 2 이상의 금속이 포함된 다금속산화물을 형성할 수도 있다.
본 발명에서는 대표적으로 SiO2, TiO2, Al2O3, B2O3, CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO2, Y2O3, La2O3 등의 금속산화물을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
금속산화물의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 10㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 내지 7㎛이다. 더더욱 바람직하게는 1㎛ 내지 5㎛이다. 금속산화물의 입자 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 광확산에 의한 방현효과를 얻기 힘들고, 광확산성이 저하되어 화상이 알루미늄 색상으로 변색되는 단점이 있다. 또한 금속산화물의 입자 직경이 10㎛보다 크면 도포되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다.
본 발명에서 사용하는 금속산화물의 함량은 방현코팅조성물 100중량%에 대하여 1중량% 내지 15중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1.5중량% 내지 4.5중량%이다. 더더욱 바람직하게는 2중량% 내지 4중량%이다. 금속산화물의 함량이 1중량% 보다 작으면 방현 효과를 기대하기 어렵고, 15중량% 보다 크면 방현 효과가 과도하여 투과율을 현저히 감소시킨다.
< 고분자비드>
본 발명은 방현효과를 얻기 위하여 금속산화물과 함께 고분자비드를 사용하는 것을 기술적 특징으로 한다.
금속산화물은 빛이 금속산화물을 투과 또는 굴절되지 않고 반사하므로 방현 효과는 극대화할 수 있지만, 반사에 의한 방현 효과가 지나치면 눈부심 현상이 일어나게 된다. 따라서 금속산화물의 반사효과를 어느 정도 낮춤과 동시에 눈부심 현상을 줄일 수 있는 투과가능한 비드가 필요하다. 본 발명에서는 소정의 굴절율을 가지는 고분자비드를 소정 함량 금속산화물과 혼합하여 이러한 문제점을 해결할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 고분자비드를 선택할 때에는 금속산화물과 혼합 용이성, 금속산화물의 고해상도 저하 방지효과 등을 고려하여 그 종류, 입자크기, 입자형상 등을 선택한다. 또한, 제전 기능을 향상시키기 위하여 전도성 고분자 비드를 혼합하여 사용하는 것도 가능하다.
본 발명에 의한 고해상 방현필름에서 사용하는 고분자비드는 고분자비드의 굴절율, 고분자비드의 크기, 고분자비드의 형태 등을 조정하여 보다 방현효과가 뛰어나면서도 고정세한 디스플레이 화질을 저하시키지 않고 선명하게 구현할 수 있다.
방현기능을 가지는 고분자비드 중에서 전도성 고분자비드가 일정 함량 포함되는 경우, 전도성 고분자비드는 제전기능과 방현기능을 동시에 수행하게 된다. 전도성 고분자비드를 이용하여 방현 기능을 확보하기 위해서는 구상이나 침상의 전도성 고분자 비드를 사용하는 것이 가능하지만, 방현 효과 정도 등을 고려하여 본 발명에서는 구상의 고분자비드를 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 종횡비가 1.0을 초과하는 대략 구형상의 입자나 다각형의 입자를 사용한 경우, 미립자에 의해 형성되는 요철 형상의 평균 경사각(θa)의 제어가 곤란해지는 경우가 있다. 하드 코팅층의 평균 경사각(θa)은 0.4˚이상 1.5˚이하일 필요가 있다. 평균 경사각(θa)가 0.4˚미만이면 충분한 방현성을 발휘할 수 없고, 외광 등의 영입이 생긴다는 문제가 발생한다. 한편, 평균 경사각(θa)이 1.5˚를 초과하면 헤이즈값이 증대된다는 문제가 있다. 따라서 상기 범위인 것이 바람직하며, 이러한 범위 내에서 하드 코팅층의 방현 효과를 향상시킬 수 있으므로 외광 등의 영입을 적합하게 방지할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 고분자비드로는 멜라민계 비드(굴절율 : 1.57), 아크릴계 비드(굴절율:1.47), 아크릴-스티렌계 비드(굴절율 : 1.54), 폴리카보네이트계 비드, 폴리에틸렌계 비드, 염화비닐계 비드 등이 있다.
본 발명에서 사용하는 아크릴계 비드는 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 아밀 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 벤질 메카크릴레이트, 비닐 아세테이트, 스티렌, 아크릴로니트릴, 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레인산, 이타콘산, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 글리시딜아미드, 라우릴아크릴레이트, 에톡시디에틸렌클리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸릴아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리틀테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸올프로판아크릴산벤조에이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, n-스테아릴메타아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트의 단량체 또는 올리고머를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에서 사용하는 스티렌계 비드는 스티렌, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, o-에틸스티렌, p-에틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌 또는 비닐 톨루엔을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 고분자비드의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 10㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 내지 7㎛이다. 더더욱 바람직하게는 1㎛ 내지 5㎛이다. 고분자비드의 입자 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 방현 효과를 얻기가 힘들고, 광확산성이 저하되어 화상이 알루미늄 색상으로 변색되는 단점이 있다. 또한 고분자비드의 입자 직경이 10㎛보다 크면 방현 미립자로 인해 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다.
더불어 방현코팅층의 두께는 1㎛ 내지 15㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3㎛ 내지 9㎛이다. 더더욱 바람직하게는 5㎛ 내지 7㎛이다.
본 발명에서 고분자비드의 굴절율은 방현코팅 조성물의 굴절율에 대하여 0.1 내지 2.0 의 차이를 가지는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 굴절율 차이는 0.5 내지 1.8이다. 굴절율 차이가 0.1 보다 작으면 방현이 원하는 수준 이상으로 이루어지지 않고 굴절율차가 2.0보다 크면 내부 산란이 지나치게 크고 전체 광선 투과율이 악화되는 문제가 있다. 또한, 고분자비드의 굴절율은 방현코팅 조성물의 굴절율 보다 낮아야 굴절율 조정이 용이하고 생산성이 향상된다.
본 발명에서 고분자비드의 함량은 방현코팅조성물 100중량%에 대하여 1중량% 내지 15중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 20중량%이다. 더더욱 바람직하게는 4중량% 내지 12중량%이다. 고분자비드의 함량이 1중량% 보다 작으면 금속산화물에 의한 고정세 감소 효과를 막지 못하고, 15중량% 보다 크면 방현코팅조성물 전체 함량 대비 방현효과 효율이 떨어진다.
고분자비드 중에서 전도성 고분자비드는 전체 고분자비드 100중량%에 대하여 5중량% 내지 40중량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 15중량% 내지 30중량%이다. 전도성 고분자 비드가 5중량%보다 작으면 제전 기능을 얻을 수 없으며, 40중량%보다 크면 제전기능은 향상되지만 필름의 물리적 물성에 영향을 줄 수 있다.
<중합개시제>
광경화성수지를 사용하고 이를 경화하기 위하여 광경화제를 사용하는 경우, 중합개시제를 첨가하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 광중합개시제는 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르핀(4-티오메틸페닐) 프로판-1-온 등의 아세트페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조 인에테르류, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐아황산, 4-벤조일-N, N-디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질) 트리메틸암모늄클로라이드 등의 벤조페논류, 2, 4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-디클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류, 2, 4, 6-트리메틸벤조일디페닐벤조일옥사이드 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 또, 촉진제(증감제)로서, N, N-디메틸파라톨루이진, 4, 4'-디에틸아미노벤조페논 등의 아민계 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.
광중합개시제의 함량은 방현코팅조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 10중량%의 범위가 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 5중량%이다. 광중합개시제의 함량이 0.1중량% 보다 작으면 광중합 효과를 얻기 힘들고, 광중합개시제의 함량이 10중량% 보다 크면 광중합개시 효과에 비하여 지나치게 많은 광중합개시제가 투입되어 경제성이 떨어진다.
<레벨링제>
본 발명에서는 방현코팅층의 표면을 고르게 하기 위하여 방현코팅조성물에 레벨링제를 혼합하여 사용한다. 레벨링제는 실리콘계 수지에 케톤이나 에스테르계 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 실리콘계 레벨링제 중 반응성 실리콘이 특히 바람직하다. 반응성 실리콘을 첨가함으로써 표면에 미끄럼성이 부여되어 내찰상성이 지속된다. 또한 저굴절율층으로서 실록산 성분을 함유하는 것을 사용한 경우, 반응 성 실리콘으로서 하이드록실기를 갖는 것을 사용하면 밀착성이 향상된다. 본 발명에 의한 레벨링제로는 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
레벨링제의 함량은 방현코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 3중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 2중량%이다. 레벨링제가 0.1중량%보다 작으면 레벨링 효과를 기대하기 힘들고, 3중량% 보다 클 때는 본 발명에 의한 방현코팅층의 표면 경도가 약화될 우려가 있다.
또한, 불소계 수지와 실리콘계 수지를 함께 사용할 때 레벨링제의 함량은 불소계 수지만 사용할 때의 레벨링제 함량의 70% 내지 80%만을 사용한다. 실리콘계 수지 자체가 레벨링제 역할을 하기 때문이다.
<분산제>
본 발명에서는 방현코팅층을 투명지지체에 도포하기 위하여 분산제인 유기용매를 사용한다. 본 발명에서는 금속산화물과 고분자비드가 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다.
방현코팅층의 도포성, 투명지지체와의 부착성, 방현기능의 제고 등을 고려하여 유기용매를 사용한다.
본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아 세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠,톨루엔,자일렌,에틸벤젠 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.
유기용매는 도포되는 방현코팅 조성물 100중량부에 대하여 20중량부 내지 110중량부 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 30중량부 내지 80중량부이다. 유기용매의 함량이 방현코팅 조성물 100중량부에 대하여 20중량부보다 작을 때는 점도가 낮아 투명지지체과의 도포성, 부착성 등이 떨어지고, 110중량부보다 클 때는 방현코팅 조성물에 비하여 지나치게 많은 유기 용매를 사용함으로써 채산성이 떨어진다.
부가적으로, 상기 방현 코팅층 상에 반사 방지층을 코팅할 수 있다. 빛은 물체에 닿으면 그 계면에서의 반사, 내부에서의 흡수, 산란 현상을 반복하여 물체의 배면에 투과해 간다. 화상표시 장치에 방현 코팅층을 부가했을 때, 화상의 시인성을 저하시키는 요인 중 하나로 공기와 방현 코팅층 계면에서의 빛의 반사를 들 수 있다. 상기 반사 방지층은 그 표면 반사를 저감시킨다. 따라서 상기 방현 코팅층 상에 반사 코팅층을 하나 이상 부가하여 설치할 수 있다. 반사 방지층은 두께 및 굴절률을 엄밀히 제어한 광학 박막을 하드 코팅층 표면에 적층한 것을 들 수 있다. 이는 빛의 간섭 효과를 사용한 입사광과 반사광이 역전된 위상을 서로 소멸시킴으로써 반사 방지 기능을 발현시키는 방법이다. 반사 방지층은 수지계 재료, 수지 중에 콜로이달 실리카 등의 무기 미립자를 분산시킨 하이브리드계 재료 등의 금속 알콕사이드를 사용한 졸-겔계 재료 등을 들 수 있다. 상기 반사 방사층 형성 재료로 이용되는 재료에는 중공이고 구상인 산화 규소 초미립자가 포함되는 것이 바람직하며, 반사 방지층에는 막 강도를 개선하기 위하여 무기 졸을 첨가할 수 있다.
(2) 방현성 보상필름의 구조
본 발명에 따른 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자는 하단부로부터 편광자, 보상필름 또는 위상차 필름 및 방현성 코팅층으로 이루어진 보상필름이 구비된 광학소자이다. 본 발명은 투명지지체로 트리아세틸셀룰로오스가 아닌 보상필름을 이용하기 때문에 방현 기능을 갖는 필름을 제조하기 위하여 별도의 필름 제작공정을 거치지 않고, 보상필름이 구비된 편광필름을 그대로 이용할 수 있는 장점이 있다. 즉, 보상필름이 구비된 편광필름의 최상부에 방현 기능을 부가함으로써 종래의 물리적 특성을 그대로 유지하면서도 기존의 필름을 그대로 이용할 수 있다는 장점을 갖는다.
(3) 방현성 보상필름이 포함된 광학소자의 적용
본 발명에 따른 방현성 보상필름을 구비한 광학소자는 액정 표시장치 등의 각종 장치의 형성에 적용할 수 있다. 액정 표시장치는 일반적으로 액정셀과 광학소자 및 조명 시스템 등의 구성 부품을 조립하여 구동 회로를 편입시킴으로서 형성되지만, 본 발명에서 있어서는 본 발명에 따른 광학소자를 사용하는 점을 제외하고는 특별히 한정되지 아니한다. 특히, 액정셀에 관하여도 TN형, STN형, π형 등의 임의의 타입을 사용할 수 있다. 또한, 액정셀의 한쪽 또는 양쪽에 상기 광학 소자를 배치한 액정 표시장치나 조명시스템에 백라이트 또는 반사판을 사용하여 액정 표시장치를 형성할 수 있다. 이러한 경우, 광학 소자는 액정셀의 한쪽 또는 양쪽에 설치할 수 있다. 양측에 광학소자를 설치하는 경우, 상기 광학소자는 동일하거나 상이할 수 있다. 또한 부가적으로 액정 표시장치의 제작시, 확산판, 안티글래어층, 반사 방지층, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광확산판, 백라이트 등의 적당한 부품을 적절한 위치에 배치할 수 있다.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예와 이와 비교되는 비교예를 가지고 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
실시예 1
자일렌 65중량%에 자외선 경화수지 35중량%, SiO2(크기 1 내지 4㎛) 2중량%, 입자 직경이 1.5㎛인 폴리메타크릴산메틸비드(소켄사 MX-150) 1.5중량%, 레벨링제, 분산제를 혼합하여 용액을 제조한다. 통상적인 방법으로 편광필름을 제작하여 보상필름(세끼스이사의 TER140 필름)을 편광필름의 최외각에 위치시킨 후, 점착제를 사용하여 편광필름의 흡수축과 45도 각도를 이루게 합지한다. 합지된 편광필름을 500*500으로 자른 뒤, 연속식 회전 코팅기에서 앞서 제조한 용액을 200rpm으로 균일하게 씨클로올레핀 면에 코팅을 한 후, 건조 및 경화하여 5㎛의 도막을 제조한다.
실시예 2
자일렌 65중량%에 자외선 경화수지 35중량%, SiO2(크기 1 내지 4㎛) 2.5중량%, 입자 직경이 1.5㎛인 폴리메타크릴산메틸비드(소켄사 MX-150) 2중량%, 레벨링제, 분산제를 혼합하여 용액을 제조한다. 통상적인 방법으로 편광필름을 제작하여 보상필름(세끼스이사의 TER140 필름)을 편광필름의 최외각에 위치시킨 후, 점착제를 사용하여 편광필름의 흡수축과 45도 각도를 이루게 합지한다. 합지된 편광필름을 500*500으로 자른 뒤, 연속식 회전 코팅기에서 앞서 제조한 용액을 200rpm으로 균일하게 씨클로올레핀 면에 코팅을 한 후, 건조 및 경화하여 5㎛의 도막을 제조한다.
실시예 3
자일렌 65중량%에 자외선 경화수지 35중량%, SiO2(크기 1 내지 4㎛) 3중량%, 입자 직경이 1.5㎛인 폴리메타크릴산메틸비드(소켄사 MX-150) 2.5중량%, 레벨링제, 분산제를 혼합하여 용액을 제조한다. 통상적인 방법으로 편광필름을 제작하여 보상필름(세끼스이사의 TER140 필름)을 편광필름의 최외각에 위치시킨 후, 점착제를 사용하여 편광필름의 흡수축과 45도 각도를 이루게 합지한다. 합지된 편광필름을 500*500으로 자른 뒤, 연속식 회전 코팅기에서 앞서 제조한 용액을 200rpm으로 균일하게 씨클로올레핀 면에 코팅을 한 후, 건조 및 경화하여 5㎛의 도막을 제조한다.
비교예 1
방현 코팅 처리되지 않은 씨클로올레핀 필름이 편광필름의 상부에 부착된 광학소자이다.
비교예 2
SiO2 입자만으로 방현 코팅한 씨클로올레핀 필름이 편광필름의 상부에 부착된 광학소자이다.
비교예 3
방현 처리된 트리아세틸셀룰로오스 필름을 점착제를 사용하여 씨클로올레핀 필름에 합지한 광학소자이다.
표 1은 상기 실시예 1,2,3 및 비교예 1,2,3에 따른 필름의 물리적 특성을 나타낸 것이다.
구분 실시예 1 실시예 2 실시예 3 비교예 1 비교예 2 비교예 3
밀착성 100/100 100/100 100/100 - 100/100 -
단판 투과율 (%) 42 42.1 41.8 43.6 41.2 41.2
직교 투과율 (%) 0.01 0.01 0 0 0 0
편광도 (%) 99.97 99.96 100 100 99.99 99.99
흐림도 (%) 42.1 55.8 78.2 0.2 38.5 41.23
투명도 (%) 65.4 44.2 30.4 99.7 36.5 68.3
연필경도 - 3H 3H 3H HB 3H 2H
내마모성 - ×
필름 두께 (㎛) 245 245 245 240 245 305
(필름두께)
실시예 1,2,3의 필름 두께는 245㎛이며, 비교예 1은 코팅 처리하지 않은 필름이므로 240㎛으로 얇으며, 비교예 2는 코팅 처리한 필름으로 실시예와 두께가 같으나, 비교예 3은 점착제를 이용하여 방현처리된 필름을 합지하여 제조한 것으로 필름 두께가 매우 두껍다.
(연필경도)
방현 코팅 필름의 코팅층이 형성되지 않은 유리 면을 유리판 상에 탑재하고, 하드 코팅층 표면에 대하여 연필 경도에 시험을 실시하였다. 이러한 시험 결과 실시예 1,2,3은 모두 3H의 결과를 나타내었으며, 비교예1 및 3은 실시예보다 낮은 경도를 나타내었다.
(내마모성)
실시예 1,2,3은 내모마성이 강하나, 비교예 1 및 비교예3의 내마모성은 본 발명의 실시예보다 약한 내마모성을 나타내었다.
(단판 투과율)
실시예 1,2,3의 단판 투과율은 모두 비슷하나, 비교예 1은 코팅 처리하지 않은 필름으로 투과율이 실시예에 비하여 매우 높은 것으로 나타났다.
(흐림도)
실시예 2 및 실시예 3의 흐림도는 타 실시예 및 비교예에 비하여 높은 편이나, 실시예 1은 코팅처리한 비교예인 비교예 2 및 3과 유사한 값을 갖는다.
(투명도)
실시예 1의 투명도는 접착제로 방현 필름을 부착한 비교예 2,3과 유사한 수치를 나타내었다.
표 2는 실시예 1,2,3 및 비교예 1,2,3에서 얻어진 필름의 색상값을 나타낸 것이다.
항목 단판 색상값 교차 색상값
L a b L a b
실시예 1 65.87 -1.44 3.93 0.22 0.57 -2.74
실시예 2 60.80 -1.29 3.44 0.67 0.44 -2.49
비교예 1 51.75 0.01 7.04 0.39 0.16 0.18
비교예 2 49.47 -0.70 4.53 0.89 -0.03 0.12
비교예 3 40.58 -0.05 4.50 0.77 0.14 0.21
L ,a, b : 색좌표
본 발명은 필요에 따라 내찰상성, 내구성, 내후성, 내습열성, 내열성, 내습성, 투습성, 대전 방지성, 도전성, 층간 밀착성 향상, 기계적 강도 향상 등의 각종 특성, 기능 등을 부여하기 위한 처리, 또는 기능층의 삽입, 적층 등을 적용할 수도 있다.
본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 가능한 범위까지 본 발명의 청구 범위 기저의 범위 내에 있는 것으로 본다.
또한, 본 발명에서의 바람직한 범위, 더욱 바람직한 범위, 더더욱 바람직한 범위 한정은 그 효과를 더욱 극대화시키기 위한 것으로서, 한정 범위가 좁혀짐으로써 더욱 만족스러운 기술적 효과를 얻을 수 있다.
본 발명에 따라 방현성 하드코팅 보상필름을 제조하는 경우, 액정표시체의 표시화질을 저하시키지 않고 뛰어난 방현성을 부여할 수 있으며, 시인성이 우수하고 고해상 화상을 얻을 수 있는 방현성 하드코팅 보상필름을 만들 수 있다.

Claims (7)

  1. 편광필름 및 상기 편광필름의 상면에 방현 코팅층을 포함하는 보상필름이 배치된 방현코팅 보상필름을 구비하는 광학소자의 제조방법으로,
    자외선 경화 수지, 경화제, 무기입자 또는 고분자 유기입자 등의 방현성 미립자, 광중합개시제, 레벨링제를 혼합한 방현코팅 조성물 100중량%에 있어서,
    상기 자외선 경화수지는 30 내지 70중량%,
    상기 경화제는 0.1 내지 20중량%,
    상기 무기입자는 1 내지 15중량%,
    상기 고분자 유기입자는 1 내지 15중량%,
    상기 광중합개시제는 0.1 내지 10중량%,
    상기 레벨링제는 0.1 내지 3중량%이며,
    상기 방현코팅 조성물 100중량부에 대하여 분산제는 20중량부 내지 110중량부를 사용하여 혼합하며,
    상기 방현코팅 조성물과 분산제가 혼합된 용액을 스핀코팅방식에 의하여 회전속도 100rpm 내지 5,000rpm으로 방현 코팅층을 코팅하는 코팅단계;
    상기 코팅층의 온도는 15℃ 내지 85℃로 하고, 20rpm 내지 5,000rpm의 회전속도로 회전시켜 건조하는 건조단계; 및
    상기 코팅층을 5mJ 내지 40mJ로 자외선 경화하고, 경화시 회전속도는 10rpm 내지 3,000rpm인 경화단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고해상 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 방현 코팅층 상부에 반사 방지층을 더 부가하는 것을 특징으로 하는 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 무기입자는 SiO2, TiO2 인 것을 특징으로 하는 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 유기입자는 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리스타일렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리씨클로올레핀 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 방현 미립자의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법.
  6. 삭제
  7. 삭제
KR1020060072940A 2006-08-02 2006-08-02 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법 KR100831482B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060072940A KR100831482B1 (ko) 2006-08-02 2006-08-02 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060072940A KR100831482B1 (ko) 2006-08-02 2006-08-02 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080012023A KR20080012023A (ko) 2008-02-11
KR100831482B1 true KR100831482B1 (ko) 2008-05-21

Family

ID=39340403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060072940A KR100831482B1 (ko) 2006-08-02 2006-08-02 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100831482B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101592016B1 (ko) 2009-07-08 2016-02-05 삼성디스플레이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970704523A (ko) * 1993-03-11 1997-09-06 죠셉 프라지타 표면의 코팅 방법(Method of Coating a Surface)
KR19980066135A (ko) * 1997-01-20 1998-10-15 구광시 이방 도전성 필름의 제조방법
JP2001302998A (ja) 2000-02-15 2001-10-31 Hitachi Chem Co Ltd 接着フィルムおよびその用途
KR20050005340A (ko) * 2003-07-01 2005-01-13 삼성전자주식회사 무선통신장치 및 그 제어방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970704523A (ko) * 1993-03-11 1997-09-06 죠셉 프라지타 표면의 코팅 방법(Method of Coating a Surface)
KR19980066135A (ko) * 1997-01-20 1998-10-15 구광시 이방 도전성 필름의 제조방법
JP2001302998A (ja) 2000-02-15 2001-10-31 Hitachi Chem Co Ltd 接着フィルムおよびその用途
KR20050005340A (ko) * 2003-07-01 2005-01-13 삼성전자주식회사 무선통신장치 및 그 제어방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080012023A (ko) 2008-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100624307B1 (ko) 표시장치용 저반사율의 휘도 향상 다층 광학필름 및 이를이용한 유기발광다이오드 표시장치
KR101476595B1 (ko) 방현성 필름, 방현성 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치
KR100831497B1 (ko) 고해상 방현성 보상필름의 제조방법
JP7428468B2 (ja) 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
KR20130040840A (ko) 방현성 필름, 방현성 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20170018327A (ko) 광확산성 시트 및 그 시트를 포함하는 백라이트 장치
KR102112864B1 (ko) 편광판 및 이를 포함하는 광학 표시 장치
WO2021157664A1 (ja) 防眩性ハードコートフィルム、防眩性ハードコートフィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
KR101192387B1 (ko) 광학적층체
KR100699624B1 (ko) 대전방지 고해상 방현 필름의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 고해상 방현 필름
JP2006251163A (ja) 反射防止フィルム、偏光板及びこれらを用いた画像表示装置
WO2020111176A1 (ja) 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
KR100831482B1 (ko) 방현성 보상필름을 구비한 광학소자의 제조방법
KR102313377B1 (ko) 눈부심 방지 필름 및 디스플레이 장치
KR101037429B1 (ko) 방현필름 및 그 제조방법
KR102301279B1 (ko) 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
JP2022183161A (ja) 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
KR100738317B1 (ko) 대전방지 고해상 방현 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한대전방지 고해상 방현 광학소자
KR100659576B1 (ko) 저반사 광확산필름 및 이를 이용한 광학소자
KR20120038701A (ko) 광학적층체, 편광판 및 표시장치
KR100670899B1 (ko) 고해상 방현필름
JP2017219694A (ja) 光学反射フィルム、光学反射フィルムの製造方法、及び、光学反射体
KR100832244B1 (ko) 광확산 시이트의 제조방법
KR20120051290A (ko) 하드코팅 필름, 이를 구비한 편광판 및 표시 장치
KR20100132785A (ko) 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130313

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140401

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160426

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170424

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee