KR100815892B1 - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 서로 대향하는 서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판과; 상기 제 1기판상에 서로 교차되도록 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인과 데이터 라인과; 상기 화소영역내에 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차점에 형성된 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스 및 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터를 포함한 제 1기판 전면에 형성된 보호막과; 상기 화소영역내의 보호막 위에 형성된 화소전극과; 상기 화소전극이 형성된 화소영역의 소정위치에 복수개의 홈과; 상기 제 2 기판 상에 형성된 블랙매트릭스, 컬러필터층, 및 대향전극과; 상기 제 2기판 표면의 소정위치에 복수개의 홈; 및 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며, 상기 제 1기판상의 화소영역에 형성된 복수개의 홈과, 상기 제 2기판상에 형성된 복수개의 홈이 서로 마주보게 배치된 것을 특징으로 하는 액정표시장치에 관한 것으로, 광시야각의 특성을 갖고, 그 제조공정이 단순하여 수율 및 제조단가면에서 우수한 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.
광시야각

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{Liquid Crystal Display Device and Method of manufacturing the same}
도 1은 종래의 액정표시장치의 단위화소의 평면도이다.
도 2는 도 1의 A-A'라인에 해당하는 액정표시장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 단위화소의 평면도이다.
도 4a 및 도 4b는 도 3의 B-B'라인에 해당하는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 도 3의 B-B'라인에 해당하는 본 발명의 다른 일실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 6a 내지 도 6c는 도 3의 B-B'라인에 해당하는 본 발명의 또 다른 일실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
<도면의 주요부에 대한 부호의 설명>
12, 110 : 게이트 라인
14, 112 : 데이터 라인
15, 115 : 화소전극
20, 117 : 박막트랜지스터
120, 122 : 홈
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 광시야각을 갖는 액정표시장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치는 박막트랜지스터 어레이 기판, 컬러필터 기판, 및 상기 양 기판사이에 형성된 액정층을 포함하여 이루어지는데, 상기 어레이 기판은 도 1과 같이, 종횡으로 교차되도록 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 라인(12)과 데이터 라인(14), 상기 게이트 라인(12)과 데이터 라인(14)의 교차점에 형성된 박막트랜지스터(20), 및 상기 화소영역에 형성된 화소전극(15)으로 이루어진다.
도 2는 도 1의 A-A'라인에 해당하는 액정표시장치의 단위화소의 단면을 나타낸 것으로서, 박막트랜지스터 어레이기판(1)상에는 게이트 전극(3), 상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 형성된 게이트 절연막(5), 상기 게이트 절연막상에 형성된 반도체층(7), 상기 반도체층(7)위에 형성된 소스(9) 및 드레인 전극(11), 상기 드레인 전극(11)위에 콘택홀을 갖고 상기 기판 전면에 형성된 보호막(13), 및 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극(11)과 연결되어 있는 화소전극(15)이 형성되어 있다. 도면에 도시하지 않았으나, 상기 반도체층(7)과 소스(9) 및 드레인 전극(11) 사이에 오믹콘택층이 더 형성될 수 있다.
또한, 컬러필터기판(2)상에는 빛의 누설을 차단하는 블랙매트릭스(4), 그 위에 형성된 컬러필터층(6), 및 상기 기판 전면에 대향전극(8)이 형성되어 있고, 상 기 박막트랜지스터 어레이기판(1)과 컬러필터기판(2) 사이에 액정층(미도시)이 형성되어 있다.
이와 같은 액정표시장치는 액정을 일정한 방향으로 배향시키기 위해서 기계적 러빙에 의해서 일정한 방향성을 갖는 배향막(10, 17)이 박막트랜지스터 어레이기판 및 컬러필터기판 전면에 형성되어 있다.
그러나, 이와 같은 액정표시장치는 액정분자를 일정한 방향으로 배향시킴으로써 시야각이 좁아지는 문제점이 있다. 특히, 최근에 주로 사용되는 트위스트 네마틱(Twisted Nematic) 액정표시장치는 시야각에 따라서 각각의 계조표시(gray level)에서의 광투과도가 달라지는 결정적인 결함이 있다.
따라서, 상기 문제를 해결하기 위해서 화소영역을 2개 이상의 도메인(domain, sub-pixel) 등으로 분할하는 멀티도메인 액정표시장치가 제안되었다. 상기 멀티도메인 액정표시장치는 배향막 형성시 러빙방향을 달리하여 액정의 배향방향이 상이한 복수개의 도메인을 형성하여 시야각을 보상하는 것이다.
그러나, 상기 멀티도메인 액정표시장치는 여러 차례의 러빙에 의해서 박막트랜지스터 등이 손상될 우려가 있고, 또한 반복적인 러빙에 의해 공정이 복잡하게 되고 수율이 떨어져 제조단가가 상승되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명은 시야각 특성이 향상되면서 제조공정이 단순하여 수율 및 제조단가면에서 우수한 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판과; 상기 제 1기판상에 서로 교차되도록 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인과 데이터 라인과; 상기 화소영역내에 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차점에 형성된 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스 및 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터를 포함한 제 1기판 전면에 형성된 보호막과; 상기 화소영역내의 보호막 위에 형성된 화소전극과; 상기 화소전극이 형성된 화소영역의 소정위치에 복수개의 홈과; 상기 제 2 기판 상에 형성된 블랙매트릭스, 컬러필터층, 및 대향전극과; 상기 제 2기판 표면의 소정위치에 복수개의 홈; 및 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며,상기 제 1기판상의 화소영역에 형성된 복수개의 홈과, 상기 제 2기판상에 형성된 복수개의 홈이 서로 마주보게 배치된 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다.
즉, 광시야각 확보를 위해서 종래에는 러빙공정에 의해 화소영역을 복수개의 도메인으로 분할하였다. 그러나, 본 발명은 기판, 게이트 절연막, 또는 보호막의 화소영역에 해당하는 소정위치에 복수개의 홈을 형성함으로써 러빙공정 없이 멀티도메인의 효과를 구현한 것이다. 따라서, 반복적인 러빙공정에 의한 문제점을 극복할 수 있다.
본 발명은 또한, 상기 제 1기판 이외에 제 2기판상의 화소영역에 복수개의 홈을 형성하는 것도 가능하다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.
제 1실시예
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 단위화소의 평면도이고, 도 4는 도 3 의 B-B'라인에 해당하는 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정표시장치의 단면도로서,
본 발명에 따른 제 1실시예는 도 3 및 도 4a와 같이, 소정위치에 복수개의 홈(120a)이 형성된 제 1기판(101); 상기 제 1기판(101)상에 서로 교차되도록 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인(110)과 데이터 라인(112); 상기 화소영역내에 상기 게이트 라인(110)과 데이터 라인(112)의 교차점에 형성된 게이트 전극(103), 게이트 절연막(105), 반도체층(107), 오믹콘택층(미도시), 소스(109) 및 드레인 전극(111)을 포함하는 박막트랜지스터(117); 상기 박막트랜지스터(117)를 포함한 제 1기판 전면에 형성된 보호막(113); 상기 화소영역내의 보호막 위에 형성된 화소전극(115); 상기 제 1기판(101)과 대향하는 제 2기판(102); 및 상기 양 기판(101, 102)사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
즉, 상기 제 1기판(101)상의 소정위치에 복수개의 홈(120a)이 형성되고, 그 위에 차례로 나머지 층(105, 113, 115)이 형성됨으로써, 결과적으로 화소영역에 홈(120)이 형성되게 된다.
상기 구조의 본 발명에 따른 액정표시장치에 전압이 인가되면, 상기 화소영역에 형성된 홈(120)에서 전기장의 방향이 다르게 되어, 전계가 왜곡됨으로써 멀티도메인의 효과, 즉 시야각이 넓어지게 되는 것이다.
본 발명에 따른 액정표시장치의 제 2기판(102)은 도 4a와 같이, 기판(102)상에 빛의 누설을 차단하는 블랙매트릭스(104), 그 위에 형성된 컬러필터층(106), 및 그 위에 형성된 대향전극(108)으로 구성될 수 있으며, 도 4b와 같이, 제 2기판(102)상의 소정위치에 복수개의 홈(122a)이 형성되도록 할 수도 있다. 또한, 상기 컬러필터층(106)위에 오버코트층이 형성될 수도 있다.
도 4b와 같은 구조가 전계왜곡의 효과면에서 보다 바람직하며, 이때, 상기 제 1기판에 형성된 홈(120)과 상기 제 2기판(102)에 형성된 홈(122)은 서로 마주보도록 형성되는 것이 바람직하다.
상기 홈(120, 122)은 깊이가 1 내지 100㎛이고, 폭이 2 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 그 형태는 어느 형태든지 가능하나, 원형 또는 사각형이 바람직하다.
또한, 상기 제 1기판(101) 및 제 2기판(102)중 적어도 하나의 기판 전면에 배향막(미도시)이 추가로 형성될 수 있다. 이때, 상기 배향막은 러빙공정을 거치지 않고 형성된 것이 바람직하다.
제 2실시예
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 단위화소의 평면도이고, 도 5는 도 3의 B-B'라인에 해당하는 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시장치의 단면도로서,
본 발명에 따른 제 2실시예는 도 3 및 도 5a와 같이, 제 1기판(101); 상기 제 1기판(101)상에 서로 교차되도록 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인(110)과 데이터 라인(112); 상기 화소영역내에 상기 게이트 라인(110)과 데이터 라인(112)의 교차점에 형성된 게이트 전극(103), 소정위치에 복수개의 홈(120b)이 형성된 게이트 절연막(105), 반도체층(107), 오믹콘택층(미도시), 소스(109) 및 드레인 전극(111)을 포함하는 박막트랜지스터(117); 상기 박막트랜지스터(117)를 포함한 제 1기판 전면에 형성된 보호막(113); 상기 화소영역내 의 보호막(113) 위에 형성된 화소전극(115); 상기 제 1기판(101)과 대향하는 제 2기판(102); 및 상기 양 기판(101, 102)사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
즉, 상기 게이트 절연막(105)상의 소정위치에 복수개의 홈(120b)이 형성되고, 그 위에 차례로 나머지 층(113, 115)이 형성됨으로써, 결과적으로 화소영역에 홈(120)이 형성되게 된다.
상기 화소영역에 형성된 홈(120)은 제 1실시예에서 설명한 바와 동일한 작용을 하는 것이다. 이때, 상기 게이트 절연막에 형성된 홈(120b)은 도 5c와 같이, 게이트 절연막의 소정위치에서 전체적으로 식각되어 형성될 수도 있고, 도 5a와 같이, 부분적으로 식각되어 형성될 수도 있다.
본 실시예에 따른 액정표시장치의 제 2기판(102)은 도 5a와 같이, 기판(102)상에 빛의 누설을 차단하는 블랙매트릭스(104), 그 위에 형성된 컬러필터층(106), 및 그 위에 형성된 대향전극(102)으로 구성될 수 있으며, 도 5b 및 도 5c와 같이, 제 2기판(102)상의 소정위치에 복수개의 홈(122a)이 형성될 수도 있다. 도 5b 및 도 5c와 같은 구조에서, 상기 제 1기판에 형성된 홈(120)과 상기 제 2기판(102)에 형성된 홈(122)은 서로 마주보도록 형성되는 것이 바람직하다.
상기 홈(120, 122)은 깊이가 1 내지 100㎛이고, 폭이 2 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 그 형태는 어느 형태든지 가능하나, 원형 또는 사각형이 바람직하다.
또한, 상기 제 1기판(101) 및 제 2기판(102)중 적어도 하나의 기판 전면에 배향막(미도시)이 추가로 형성될 수 있다. 이때, 상기 배향막은 러빙공정을 거치지 않고 형성된 것이 바람직하다.
제 3실시예
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 단위화소의 평면도이고, 도6은 도 3의 B-B'라인에 해당하는 본 발명의 제 3실시예에 따른 액정표시장치의 단면도로서,
본 발명에 따른 제 3실시예는 도 3 및 도 6a와 같이, 제 1기판(101); 상기 제 1기판(101)상에 서로 교차되도록 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인(110)과 데이터 라인(112); 상기 화소영역내에 상기 게이트 라인(110)과 데이터 라인(112)의 교차점에 형성된 게이트 전극(103), 게이트 절연막(105), 반도체층(107), 오믹콘택층(미도시), 소스(109) 및 드레인 전극(111)을 포함하는 박막트랜지스터(117); 상기 박막트랜지스터(117)를 포함한 제 1기판 전면에 형성되고 소정위치에 복수개의 홈(120c)이 형성된 보호막(113); 상기 화소영역내의 보호막 위에 형성된 화소전극(115); 상기 제 1기판(101)과 대향하는 제 2기판(102); 및 상기 양 기판(101, 102)사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
즉, 상기 보호막(113)상의 소정위치에 복수개의 홈(120c)이 형성되고, 그 위에 화소전극(115)이 형성됨으로써, 결과적으로 화소영역에 홈(120)이 형성되게 된다.
상기 화소영역에 형성된 홈(120)은 제 1실시예에서 설명한 바와 동일한 작용을 하는 것으로, 상기 보호막에 형성된 홈(120c)은 도 6c와 같이, 보호막의 소정위치에서 전체적으로 식각되어 형성될 수도 있고, 도 6a와 같이, 부분적으로 식각되 어 형성될 수도 있다.
본 실시예에 따른 액정표시장치의 제 2기판(102)은 도 6a와 같이, 기판(102)상에 빛의 누설을 차단하는 블랙매트릭스(104), 그 위에 형성된 컬러필터층(106), 및 그 위에 형성된 대향전극(102)으로 구성될 수 있으며, 도 6b 및 도 6c와 같이, 제 2기판(102)상의 소정위치에 복수개의 홈(122a)이 형성될 수도 있다. 도 6b 및 도 6c와 같은 구조에서, 상기 제 1기판에 형성된 홈(120)과 상기 제 2기판(102)에 형성된 홈(122)은 서로 마주보도록 형성되는 것이 바람직하다.
상기 홈(120, 122)은 깊이가 1 내지 100㎛이고, 폭이 2 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 그 형태는 어느 형태든지 가능하나, 원형 또는 사각형이 바람직하다.
또한, 상기 제 1기판(101) 및 제 2기판(102)중 적어도 하나의 기판 전면에 배향막(미도시)이 추가로 형성될 수 있다. 이때, 상기 배향막은 러빙공정을 거치지 않고 형성되는 것이 바람직하다.
제 4실시예
본 발명에 따른 제 4실시예는 전술한 제 1실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명은 기판을 식각하여 복수개의 홈이 형성된 기판을 준비하는 단계; 상기 기판상의 소정의 위치에 게이트 전극을 형성하는 단계; 상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막상의 소정위치에 반도체층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계; 상기 오믹콘택층위에 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 기판 전면에 보호막을 형성하고, 콘택홀을 형성하 는 단계; 및 상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.
보다 구체적으로, 유리 기판에 글라스 에칭(glass etching)기술을 이용하여 소정의 위치에 복수개의 홈을 형성하고, 그 위에 Cr, Mo, Al 또는 Al합금 등의 금속을 스퍼터링 방법에 의해 적층한 후 사진식각에 의해 패터닝하여 게이트 전극을 형성하고, 그 위에 SiNx 또는 SiOx등을 PECVD(Plasma Chemical Vapor Deposition)방법에 의해 적층하여 게이트 절연막을 형성한 후, 그 위에 비정질실리콘(a-si) 및 불순물첨가 비정질실리콘(n+ a-si)을 PECVD법에 의해 차례로 적층하고 패터닝하여 반도체층 및 오믹콘택층을 형성한 후, Cr, Mo, Al 또는 Al합금 등의 금속을 스퍼터링 방법에 의해 적층한 후 사진식각에 의해 패터닝하여 소스 및 드레인 전극을 형성하고, 그 위에 SiNx 또는 SiOx등을 PECVD(Plasma Chemical Vapor Deposition)방법에 의해 적층하여 보호막을 형성한 후 식각공정을 통해 콘택홀을 형성하고, 그 위에 ITO와 같은 투명금속을 스퍼터링 등의 방법에 의해 적층하고 패터닝하여 화소전극을 형성한다.
또한, 상기 형성된 기판 전면에 폴리이미드 등으로 배향막을 추가로 형성할 수 있다. 다만, 러빙공정을 거치지 않는 것이 바람직하다.
상기 유기기판에 형성되는 홈은 깊이가 1 내지 100㎛이고, 폭이 2 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 그 형태는 어느 형태든지 가능하나, 원형 또는 사각형으로 형성하는 것이 바람직하다.
제 5실시예
본 발명에 따른 제 5실시예는 전술한 제 2실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명은 기판을 준비하는 단계; 상기 기판상의 소정의 위치에 게이트 전극을 형성하는 단계; 상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하고, 소정 위치에서 패터닝하여 복수개의 홈을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막상의 소정위치에 반도체층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계; 상기 오믹콘택층위에 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 기판 전면에 보호막을 형성하고, 콘택홀을 형성하는 단계; 및 상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.
이와 같은 본 발명에 따른 제 5실시예는 상기 기판에 복수개의 홈을 형성하지 않고 상기 게이트 절연막을 패터닝하여 소정 위치에 복수개의 홈을 형성하는 것을 제외하고, 전술한 제 4실시예와 동일하다.
이때, 상기 게이트 절연막을 패터닝하는 것은 식각공정 조건, 예를 들면 식각 시간등을 조절하여 게이트 절연막사의 소정위치를 전체적으로 식각하거나, 또는 부분적으로 식각하여 형성할 수 있다.
제 6실시예
본 발명에 따른 제 6실시예는 전술한 제 3실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명은 기판을 준비하는 단계; 상기 기판상의 소정의 위치에 게이트 전극을 형성하는 단계; 상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막을 형성 하는 단계; 상기 게이트 절연막상의 소정위치에 반도체층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계; 상기 오믹콘택층위에 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 기판 전면에 보호막을 형성하고, 콘택홀을 형성하고, 소정 위치에서 패터닝하여 복수개의 홈을 형성하는 단계; 및 상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.
이와 같은 본 발명에 따른 제 6실시예는 상기 기판에 복수개의 홈을 형성하지 않고 상기 보호막을 패터닝하여 소정 위치에 복수개의 홈을 형성하는 것을 제외하고, 전술한 제 4실시예와 동일하다.
이때, 상기 보호막을 패터닝하는 것은 식각공정 조건, 예를 들면 식각 시간등을 조절하여 보호막의 소정위치를 전체적으로 식각하거나, 또는 부분적으로 식각하여 형성할 수 있다.
제 7실시예
본 발명은 상기 제 4 내지 제 6실시예에 의한 박막트랜지스터 기판을 형성한 후, 그에 대향하는 기판의 소정위치를 식각하여 복수개의 홈이 형성된 기판을 준비하는 단계; 상기 기판위에 블랙매트릭스 및 컬러필터층을 형성하는 단계; 상기 기판 전면에 대향전극을 형성하는 단계; 및 상기 양 기판을 접합하고 그 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법을 제공한다.
보다 구체적으로, 유리 기판에 글라스 에칭(glass etching)기술을 이용하여 소정의 위치에 복수개의 홈을 형성하고, 그 위에 Cr이나 CrOx 등을 스퍼터링 방법에 의해 적층한 후 사진식각에 의해 패터닝하여 블랙매트릭스층을 형성하고, 그 위 에 컬러필터층을 형성한 후, ITO와 같은 투명전극을 스퍼터링 방법에 의해 적층하여 대향전극을 형성하여 컬러필터 기판을 준비한다.
상기 유리 기판에 홈을 형성하지 않고 컬러필터 기판을 제조할 수도 있으나, 전계왜곡 효과면에서 홈을 형성하는 것이 바람직하다.
상기 홈은 깊이가 1 내지 100㎛이고, 폭이 2 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 그 형태는 어느 형태든지 가능하나, 원형 또는 사각형으로 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 대향전극이 형성된 컬러필터기판 전면에 폴리이미드등으로 배향막을 추가로 형성할 수 있다. 다만, 러빙공정을 거치지 않는 것이 바람직하다.
그 후, 상기 박막트랜지스터 기판과 컬러필터기판을 접합하고, 양 기판 사이에 액정을 주입하고 밀봉하여 액정표시장치를 완성한다.
상기 액정은 러빙등의 배향공정을 거치지 않게 되는 경우 무작위로 배향되게 되는데, 상기 액정은 모세관 원리 및 대기압차를 이용하여 양기판을 접합한 후 주입될 수도 있고, 양 기판의 접합전에 디스펜서에 의해 주입될 수도 있다.
상기와 같은 구조의 본 발명에 따른 액정표시장치는 광시야각의 특성을 갖고, 그 제조공정이 단순하여 수율 및 제조단가면에서 우수하다.

Claims (16)

  1. 서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판과;
    상기 제 1기판상에 서로 교차되도록 종횡으로 형성되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인과 데이터 라인과;
    상기 화소영역내에 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차점에 형성된 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스 및 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터와;
    상기 박막트랜지스터를 포함한 제 1기판 전면에 형성된 보호막과;
    상기 화소영역내의 보호막 위에 형성된 화소전극과;
    상기 화소전극이 형성된 화소영역의 소정위치에 복수개의 홈과;
    상기 제 2 기판 상에 형성된 블랙매트릭스, 컬러필터층, 및 대향전극과;
    상기 제 2기판 표면의 소정위치에 복수개의 홈; 및
    상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며,
    상기 제 1기판상의 화소영역에 형성된 복수개의 홈과, 상기 제 2기판상에 형성된 복수개의 홈이 서로 마주보게 배치된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 화소영역의 복수개의 홈은 제 1기판 표면의 소정위치에 형성된 복수개의 홈에 의해 형성된 것임을 특징으로 하는 액정표시장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 화소영역의 복수개의 홈은 상기 게이트 절연막의 소정위치에 형성된 복 수개의 홈에 의해 형성된 것임을 특징으로 하는 액정표시장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 화소영역의 복수개의 홈은 상기 보호막의 소정위치에 형성된 복수개의 홈에 의해 형성된 것임을 특징으로 하는 액정표시장치.
  5. 제 3항 또는 제 4항에 있어서,
    상기 게이트 절연막 또는 상기 보호막상에 형성된 복수개의 홈은 상기 게이트 절연막 또는 상기 보호막의 소정위치가 전체적으로 식각되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  6. 제 3항 또는 제 4항에 있어서,
    상기 게이트 절연막 또는 상기 보호막상에 형성된 복수개의 홈은 상기 게이트 절연막 또는 상기 보호막의 소정위치가 부분적으로 식각되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1기판 및 제 2기판 중 적어도 하나의 기판 전면에 배향막이 추가로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 홈은 깊이가 1 내지 100㎛이고, 폭이 2 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 홈은 원형 또는 사각형인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  12. 제 1 기판을 식각하여 복수개의 홈이 형성된 제 1 기판을 준비하는 단계와;
    상기 제 1 기판상의 소정의 위치에 게이트 전극을 형성하는 단계와;
    상기 게이트 전극을 포함한 제 1 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계와;
    상기 게이트 절연막상의 소정위치에 반도체층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계와;
    상기 오믹콘택층위에 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 기판 전면에 보호막을 형성하고, 콘택홀을 형성하는 단계와;
    상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 기판과 대향하며 복수개의 홈이 형성된 제 2 기판을 준비하는 단계와;
    상기 제 2 기판상에 블랙매트릭스, 컬러필터층, 및 대향전극을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 제 1 기판에 형성된 복수개의 홈과 상기 제 2 기판에 형성된 복수개의 홈은 서로 마주보게 배치하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  13. 제 1 기판을 준비하는 단계와;
    상기 제 1 기판상의 소정의 위치에 게이트 전극을 형성하는 단계와;
    상기 게이트 전극을 포함한 제 1 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하고, 소정 위치에서 패터닝하여 복수개의 홈을 형성하는 단계와;
    상기 게이트 절연막상의 소정위치에 반도체층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계와;
    상기 오믹콘택층위에 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 기판 전면에 보호막을 형성하고, 콘택홀을 형성하는 단계와;
    상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 기판과 대향하며 복수개의 홈이 형성된 제 2 기판을 준비하는 단계와;
    상기 제 2 기판상에 블래매트릭스, 컬러필터층, 및 대향전극을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 제 1 기판에 형성된 복수개의 홈과 상기 제 2 기판에 형성된 복수개의 홈은 서로 마주보게 배치되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  14. 제1기판을 준비하는 단계;
    상기 제1기판상의 소정의 위치에 게이트 전극을 형성하는 단계;
    상기 게이트 전극을 포함한 제1기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;
    상기 게이트 절연막상의 소정위치에 반도체층 및 오믹콘택층을 형성하는 단계;
    상기 오믹콘택층위에 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계;
    상기 제1기판 전면에 보호막을 형성하고, 드레인 전극 윗부분에 콘택홀을 형성하고, 소정 위치에서 패터닝하여 복수개의 홈을 형성하는 단계와;
    상기 콘택홀을 통해 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 기판과 대향하며 복수개의 홈이 형성된 제 2 기판을 준비하는 단계와;
    상기 제 2 기판상에 블래매트릭스, 컬러필터층, 및 대향전극을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 제 1 기판에 형성된 복수개의 홈과 상기 제 2 기판에 형성된 복수개의 홈은 서로 마주보게 배치되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  15. 삭제
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