KR100814649B1 - Substrate gap adjusting device, substrate gap adjusting method, and method of manufacturing liquid crystal display device - Google Patents

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나루미 이시바시
마사노리 아키야마
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세이코 엡슨 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) (assignment)

기판 표면의 극히 일부에만 접한 상태에서, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정하는 것이 가능한 기판 간격 조정 장치, 기판 간격 조정 방법, 및 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것. Provided is a substrate spacing adjusting device, a substrate spacing adjusting method, and a method for manufacturing a liquid crystal display device capable of adjusting a substrate spacing corresponding to a gathered region at a time while in contact with only a part of the substrate surface.

(해결 수단)(Solution)

기판 간격 조정 장치 (1) 는, 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 간격을 조정하기 위한 장치이고, 하측 지그 (11) 와 상측 지그 (12) 로 이루어진다. 하측 지그 (11) 는, 지지링 (41) 및 이것을 탑재하기 위한 탑재부 (26) 를 갖고, 상측 지그 (12) 는, 연직 방향의 가동 범위 중 어느 하나의 위치에 있어서 소자 기판 (51) 과 접하는 기판 가압부 (32), 및 기판 가압부 (32) 에 상기 가동 범위로 변위하기 위한 힘을 인가하는 마이크로미터 헤드 (33) 를 갖는다. 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 소자 기판 (51) 에 대하여, 소자 기판 (51) 과 지지링 (41) 의 접촉 개소를 지점으로 하고, 소자 기판 (51) 과 기판 가압부 (32) 의 접촉 영역을 역점 (力点) 으로 하여 힘을 인가함으로써, 소자 기판 (51) 을 변형시킨다. The board | substrate gap adjustment apparatus 1 is an apparatus for adjusting the space | interval of the element substrate 51 and the opposing board | substrate 52, and consists of the lower jig 11 and the upper jig 12. As shown in FIG. The lower jig 11 has a support ring 41 and a mounting portion 26 for mounting the upper part, and the upper jig 12 is in contact with the element substrate 51 at any position of the movable range in the vertical direction. And a micrometer head 33 for applying a force for displacing the substrate pressing portion 32 and the substrate pressing portion 32 to the movable range. The board | substrate gap adjustment apparatus 1 makes contact with the element board | substrate 51 and the support ring 41 with respect to the element board | substrate 51, and makes contact with the element board | substrate 51 and the board | substrate press part 32. The element substrate 51 is deformed by applying a force with the region as the inversion point.

기판 간격 조정 장치 Board Spacer

Description

기판 간격 조정 장치, 기판 간격 조정 방법, 및 액정 표시 장치의 제조 방법 {SUBSTRATE GAP ADJUSTING DEVICE, SUBSTRATE GAP ADJUSTING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Substrate Spacing Device, Substrate Spacing Method, and Manufacturing Method of Liquid Crystal Display {SUBSTRATE GAP ADJUSTING DEVICE, SUBSTRATE GAP ADJUSTING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

도 1 은, 기판 간격 조정 장치의 구성 요소를 도시하는 모식도. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic diagram which shows the component of a board | substrate spacing adjustment apparatus.

도 2 는, 기판 간격 조정 장치를 도시하는 모식도. 2 is a schematic diagram illustrating a substrate gap adjusting device.

도 3 은, 기판 간격 조정 장치를 도시하고, (a) 는 평면도, (b) 는 측단면도. 3 shows a substrate gap adjusting device, (a) is a plan view, and (b) is a side cross-sectional view.

도 4 는, 기판 간격 조정 장치 및 외부 구동 장치를 도시하는 측단면도. 4 is a side sectional view showing a substrate gap adjusting device and an external drive device;

도 5 는, 외부 구동 장치의 전기적 구성을 도시하는 블록도. 5 is a block diagram showing an electrical configuration of an external drive device;

도 6 은, 기판 간격의 조정 순서를 도시하는 공정도. 6 is a process chart showing an adjustment procedure of the substrate spacing.

도 7 은, (a) 내지 (e) 는, 기판 간격 조정 장치를 사용한 기판 간격 조정 방법을 도시하는 측단면도. FIG. 7: (a)-(e) is lateral sectional drawing which shows the board | substrate gap adjustment method using a board | substrate gap adjustment apparatus. FIG.

도 8 은, 액정 표시 장치의 제조 순서를 도시하는 공정도. 8 is a process chart showing a manufacturing procedure of the liquid crystal display device.

도 9 는, 기판 간격 조정 장치를 도시하고, (a) 는 평면도, (b) 는 측단면도. 9 shows a substrate gap adjusting device, (a) is a plan view, and (b) is a side cross-sectional view.

도 10 은, 기판 간격 조정 장치를 도시하고, (a) 는 평면도, (b) 는 측단면도. 10 shows a substrate gap adjusting device, (a) is a plan view, and (b) is a side cross-sectional view.

도 11 은, (a) 및 (b) 는 도 10 에 도시된 기판 간격 조정 장치를 사용한 기판 간격 조정 방법을 도시하는 측단면도. Fig. 11 is a side cross-sectional view showing a substrate gap adjusting method using the substrate gap adjusting device shown in Fig. 10.

도 12 는, (a) 및 (b) 는 액정 표시 장치를 도시하는 모식도. 12: (a) and (b) are schematic diagrams showing a liquid crystal display device.

도 13 은, (a) 및 (b) 는 액정 적하 방식에 의한 액정 봉입 방법을 도시하는 단면도. Fig. 13 is a cross-sectional view showing a liquid crystal encapsulation method by liquid crystal dropping method (a) and (b).

도 14 는, 액정 적하 방식을 사용한 액정 표시 장치의 제조 순서를 도시하는 공정도.14 is a process chart showing a manufacturing procedure of the liquid crystal display device using the liquid crystal dropping method.

(부호의 설명) (Explanation of the sign)

1 : 기판 간격 조정 장치1: substrate spacing device

2 : 외부 구동 장치 2: external drive unit

11 :「제 1 기부」로서의 하측 지그 11: Lower jig as "the first donation"

12 : 상측 지그 12: upper jig

26 : 탑재부 26: mounting part

32 : 기판 가압부 32: substrate pressing unit

33 :「외력 인가부」에 포함되는 「회전 입력 기구」로서의 마이크로미터 헤드33: Micrometer head as a "rotation input mechanism" included in an "external force applying unit"

41, 42 :「고리형의 지지대」로서의 지지링 41, 42: Support ring as `` ring support ''

50 : 복합 기판 50: composite substrate

51 :「제 1 기판」으로서의 소자 기판 51: Device substrate as "first substrate"

52 :「제 2 기판」으로서의 대향 기판 52: Opposing substrate as "second substrate"

61 : 핸드 61: hand

62 : 승강 회전 기구 62: lifting and lowering mechanism

63 : 모터 63: motor

64L : 제 1 편광판 64L: first polarizer

64U : 제 2 편광판 64U: second polarizer

65 : 광원 65: light source

72 : 방진 유리 72: dustproof glass

73 : 커버 73: cover

100 : 액정 표시 장치100: liquid crystal display device

[특허문헌 1] 일본 공개특허공보 2000-347198호[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-347198

본 발명은, 시일제를 통하여 부착된 기판의 간격을 적정한 상태로 조정하기 위한 기판 간격 조정 장치, 기판 간격 조정 방법, 및 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate gap adjusting device, a substrate gap adjusting method, and a manufacturing method of a liquid crystal display device for adjusting the gap of the substrate attached via the sealing agent to an appropriate state.

일반적으로, 액정 표시 장치의 제조 공정은, 시일제를 통하여 부착된 한 쌍의 기판 사이에 액정을 주입하는 공정, 및 액정 주입 후에 주입구를 밀봉하는 공정을 포함한다. 주입구의 밀봉은, 특허문헌 1 에 나타나는 바와 같이, 기판 간격 이 적정한 상태가 되는 압력을 기판에 인가한 상태에서 실시하는 것이 일반적이다. 이 기법에 의하면, 기판 간격은 밀봉 후에 압력의 인가를 해제하더라도 적정한 상태로 유지된다. Generally, the manufacturing process of a liquid crystal display device includes the process of injecting a liquid crystal between a pair of board | substrates attached through the sealing compound, and the process of sealing an injection hole after liquid crystal injection. As shown in Patent Literature 1, sealing of the injection port is generally performed in a state in which a pressure at which the substrate gap is in an appropriate state is applied to the substrate. According to this technique, the substrate spacing is maintained in an appropriate state even after the application of pressure is released after sealing.

밀봉 공정에서의 기판의 형태는 여러 가지이지만, 그 중의 일 형태로서, 웨이퍼 형상의 기판 위에 단품에 대응하는 대각 1 인치 내지 2 인치 정도의 대향 기판이 다수 배치된 형태가 있다. 이러한 형태의 복합 기판을 밀봉하는 공정은, 사람의 손으로 당해 단품을 하나씩 직접 가압하여 기판 간격을 조정하는 공정을 포함하고 있는 것이 실정이다. 모든 단품을 가압 장치로 한번에 가압하여 기판 간격을 조정하면, 가압 장치가 밀봉 작업의 방해가 되기 때문이다. Although the board | substrate of a sealing process is various, one form of the board | substrate has the form in which many opposing board | substrates of about 1 inch-2 inches diagonally corresponding to a single item are arrange | positioned on a wafer-shaped board | substrate. It is a fact that the process of sealing the composite board | substrate of this form includes the process of adjusting the board | substrate spacing by directly pressing the said single article with human hands one by one. This is because the pressurizing device interferes with the sealing operation when all of the units are pressurized with the pressurizing device at once to adjust the substrate gap.

그러나, 밀봉 공정에 있어서 기판을 직접 가압하여 기판 간격을 조정하면, 기판 표면에 미세한 결함이 생길 수 있다. 특히, 상술한 바와 같이, 사람의 손으로 직접 가압하는 경우에 이러한 문제가 생기기 쉽다. 또한, 사람의 손에 의한 가압에는, 한 장씩 기판을 가압해야 하기 때문에 처리에 시간이 걸리고, 작업자가 익숙해지는 데 장기간을 요한다는 문제가 있다. However, when the substrate gap is adjusted by directly pressing the substrate in the sealing step, minute defects may occur on the substrate surface. In particular, as described above, such a problem is likely to occur when the pressure is directly applied by a human hand. Moreover, since pressurization by a human hand has to pressurize board | substrate one by one, processing takes time, and there exists a problem that it takes a long time for an operator to become accustomed.

본 발명은, 상기의 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적 중 하나는, 기판 표면의 극히 일부에만 접한 상태로, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정하는 것이 가능한 기판 간격 조정 장치, 기판 간격 조정 방법, 및 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것에 있다. This invention is made | formed in view of the said situation, One of the objectives is the board | substrate spacing adjustment apparatus and board | substrate spacing adjustment which can adjust the board | substrate spacing corresponding to the gathered area at once in the state which contacted only a very part of the board | substrate surface. It is providing the method and the manufacturing method of a liquid crystal display device.

과제를 해결하기 위한 수단Means to solve the problem

본 발명에 의한 기판 간격 조정 장치는, 제 1 기판, 상기 제 1 기판에 대향하여 시일제를 통하여 부착된, 상기 제 1 기판보다 면적이 작은 제 2 기판, 및 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 및 상기 시일제에 의해서 둘러싸인 공간에 주입된 액정을 갖는 복합 기판에 있어서의, 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 간격을 조정하기 위한 기판 간격 조정 장치로서, 탑재부를 갖는 제 1 기부, 상기 탑재부 상에 탑재되고, 상기 제 1 기판의 2 개의 면 중 상기 제 2 기판이 부착된 제 1 면과는 반대측의 제 2 면과 접하여 상기 복합 기판을 지지하는 고리형의 지지대, 상기 지지대가 규정하는 평면의 법선 방향의 가동 범위를 갖고, 당해 가동 범위 중 어느 하나의 위치에 있어서, 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접하는 기판 가압부, 및 상기 기판 가압부가 상기 가동 범위에서 변위하기 위한 힘을 당해 기판 가압부에 전달하는 외력 인가부를 구비하고, 상기 둘레 가장자리부는, 상기 법선 방향에서 보아 상기 지지대의 외측에 위치하는 것을 특징으로 한다. The board | substrate spacing adjustment apparatus by this invention is a 1st board | substrate, the 2nd board | substrate with a smaller area than the said 1st board | substrate attached to the 1st board | substrate through the sealing compound, and the said 1st board | substrate and the said 2nd board | substrate. And a substrate gap adjusting device for adjusting a gap between the first substrate and the second substrate in a composite substrate having a liquid crystal injected into a space surrounded by the sealing agent, the first base having a mounting portion; An annular support which is mounted on a mounting portion and supports the composite substrate in contact with a second surface on the side opposite to the first surface to which the second substrate is attached, among the two surfaces of the first substrate, A substrate pressing portion having a movable range in the normal direction of the plane and contacting the first substrate at a peripheral edge portion of the first surface at any one of the movable ranges; and the substrate pressing portion The peripheral edge portion provided with the external force applied to the force transmitted to the art board pressing portion for displacement in the movable range of parts, characterized in that the bore located on the outer side of the support in the normal direction.

이 기판 간격 조정 장치는, 제 1 기판에 대하여, 당해 제 1 기판과 고리형의 지지대의 접촉 개소를 지점으로 하고, 당해 제 1 기판과 기판 가압부의 접촉 영역을 역점으로서 힘을 인가함으로써, 제 1 기판을 변형시킬 수 있다. 또한, 당해 변형에 의해, 제 1 기판과, 이것에 대향하여 배치된 제 2 기판과의 간격을 변화시킬 수 있다. 여기에서, 기판 가압부가 제 1 기판의 둘레 가장자리부에 인가하는 힘을 적절하게 설정하면, 제 1 기판의 어느 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 동시에 적정한 상태로 조정할 수 있다. 기판 간격의 조정시에, 제 1 기판에 는 고리형의 지지대와 기판 가압부가 접하고 있지만, 전자와의 접촉 개소는 지지대의 형상으로부터 결정되는 둘레 형상의 영역뿐이고, 후자와의 접촉 영역은 제 1 기판의 제 1 면의 둘레 가장자리부뿐이다. 또한, 제 2 기판에는 아무것도 접하지 않는다. 이와 같이 본 장치는, 기판 간격의 조정에 있어서 기판의 극히 일부 밖에 접하지 않기 때문에, 기판을 파손 또는 오손하기 어렵다. This board | substrate spacing adjustment apparatus makes a 1st board | substrate the point where the contact point of the said 1st board | substrate and an annular support stand with respect to a 1st board | substrate, and applies a force as the point of contact | contact area of the said 1st board | substrate and a board | substrate pressurization part, The substrate can be modified. Moreover, by the said deformation | transformation, the space | interval of a 1st board | substrate and the 2nd board | substrate arrange | positioned facing this can be changed. Here, if the board | substrate press part sets the force applied to the circumferential edge part of a 1st board | substrate appropriately, the board | substrate spacing corresponding to any gathered area | region of a 1st board | substrate can be adjusted to an appropriate state simultaneously. At the time of adjusting the substrate spacing, the annular support and the substrate pressing portion are in contact with the first substrate, but the contact point with the former is only a circumferential region determined from the shape of the support, and the contact region with the latter is the first substrate. Only the peripheral edge of the first side of the. In addition, nothing touches the second substrate. Thus, since this apparatus touches only a part of a board | substrate in adjustment of a board | substrate spacing, it is difficult to damage or damage a board | substrate.

상기 구성에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있는 것이다. One of the effects obtained by the above configuration is that the substrate spacing corresponding to the gathered regions can be adjusted at once without breaking or damaging the substrate.

또한, 본 발명에 의한 기판 간격 조정 장치는, 상기 둘레 가장자리부의 다른 개소를 가압 가능한 2 이상의 상기 기판 가압부를 구비하고, 각각의 상기 기판 가압부는, 서로 독립적으로 변위하는 것을 특징으로 한다. 이 구성을 갖는 기판 간격 조정 장치는, 제 1 기판의 형상에 따라 각각의 기판 가압부가 제 1 기판을 가압하는 힘을 바꿈으로써, 원하는 밸런스로 제 1 기판에 힘을 인가할 수 있다. 이로 인해, 복잡한 형상으로 휜 제 1 기판을 포함하는 복합 기판에 대하여, 기판 간격을 조정할 수 있다. Moreover, the board | substrate gap adjustment apparatus which concerns on this invention is provided with the 2 or more said board | substrate pressurization parts which can press another part of the said peripheral part, and each said board | substrate pressurization part is displaced independently from each other, It is characterized by the above-mentioned. The board | substrate space adjusting apparatus which has this structure can apply a force to a 1st board | substrate with desired balance by changing the force which each board | substrate pressurizing part presses a 1st board | substrate according to the shape of a 1st board | substrate. For this reason, a board | substrate space | interval can be adjusted with respect to the composite board | substrate containing the 1st board | substrate chopped in a complicated shape.

또한, 상기 지지대는 원고리형이고, 상기 복수의 기판 가압부는, 상기 제 1 기판과의 접촉 영역이 내주측에서 호 형상이 되는 형상을 갖고, 상기 호 형상의 부분은 상기 지지대가 규정하는 원과 동심인 하나의 원의 일부에 거의 동일한 것을 특징으로 한다. 여기에서, 상기 접촉 영역의 각각의 상기 호 형상을 이루는 부분의 길이는, 각각 거의 동일한 것이 바람직하다. 이러한 구성의 기판 간격 조정 장치는, 거의 원형의 제 1 기판의 둘레 가장자리부에 대하여 균등하게, 또는 원 하는 밸런스로 힘을 인가할 수 있다. 상기 구성에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 거의 원형의 제 1 기판과 당해 제 1 기판에 대향하여 배치된 제 2 기판으로 이루어지는 복합 기판에 있어서, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있는 것이다. Moreover, the said support stand is circular, and the said board | substrate pressurization part has a shape in which the contact area | region with the said 1st board | substrate becomes arc shape in the inner peripheral side, and the said arc-shaped part is concentric with the circle prescribed | regulated by the said support stand. It is characterized in that it is almost identical to a part of one circle. Here, it is preferable that the length of each arc-shaped part of the said contact area | region is substantially the same each, respectively. The substrate gap adjusting device having such a configuration can apply a force evenly or with a desired balance with respect to the peripheral portion of the substantially circular first substrate. One of the effects obtained by the above configuration is a composite substrate comprising a substantially circular first substrate and a second substrate arranged to face the first substrate, wherein the substrate corresponds to the gathered region without damaging or damaging the substrate. The interval can be adjusted at once.

또한, 본 발명에 의한 기판 간격 조정 장치에서, 상기 지지대는 원고리형이고, 직경이 상이한 복수개 구비되고 있는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성의 기판 간격 조정 장치는, 제 1 기판의 형상에 따라, 제 1 기판에 힘을 인가할 때의 지점을 늘리는 것이 가능하다. 상기 구성에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 복잡한 형상으로 휜 제 1 기판을 포함하는 복합 기판에 대하여, 기판 간격을 조정할 수 있는 것이다. Moreover, in the board | substrate gap adjustment apparatus which concerns on this invention, the said support stand is a ring-shaped, It is characterized by being provided with several pieces from which the diameter differs. According to the shape of a 1st board | substrate, the board | substrate gap adjusting apparatus of such a structure can increase the point at the time of applying a force to a 1st board | substrate. One effect obtained by the said structure is that a board | substrate space | interval can be adjusted with respect to the composite board | substrate containing the 1st board | substrate subtracted in a complicated shape.

또한, 상기 제 1 기부에 착탈가능하고 고리형을 이루는 제 2 기부를 추가로 구비하고, 상기 기판 가압부는, 상기 가동 범위에서의 변위가 가능하도록 상기 제 2 기부에 대하여 상대 이동 가능하게 부착되고, 상기 외력 인가부는, 회전 가능하고 또한 당해 회전이 상기 기판 가압부의 상기 제 2 기부에 대한 변위로 변환되는 회전 입력 기구를 포함하는 구성이어도 된다. 이러한 구성의 기판 간격 조정 장치는, 복합 기판이 설치된 제 1 기부에 제 2 기부를 씌워 조합함으로써, 특별한 기구없이 기판 가압부를 제 1 기판의 소정의 위치에 접촉시킬 수 있다. 또한, 기판 가압부의 변위량과 회전 입력 기구의 회전량의 대응을 적절한 비로 설정함으로써, 회전 입력 기구의 큰 회전량을 기판 가압부의 미소한 변위로 대응시킬 수 있다. 상기 구성에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 간단한 조작으로 기판 가압 부의 변위량을 미세하게 조정할 수 있는 것, 나아가서는 기판 간격을 미세하게 조정할 수 있는 것이다. Further, the first base is further provided with a detachable and annular second base, wherein the substrate pressing portion is attached so as to be movable relative to the second base to allow displacement in the movable range, The external force applying unit may be configured to include a rotational input mechanism that is rotatable and the rotation is converted into displacement with respect to the second base of the substrate pressurizing unit. The board | substrate spacing adjustment apparatus of such a structure can contact a board | substrate press part to the predetermined position of a 1st board | substrate without a special mechanism by combining and combining a 2nd base on the 1st base provided with a composite substrate. Further, by setting the correspondence between the displacement amount of the substrate pressing portion and the rotation amount of the rotation input mechanism to an appropriate ratio, the large rotation amount of the rotation input mechanism can be matched with the minute displacement of the substrate pressing portion. One of the effects obtained by the above configuration is that the displacement amount of the substrate pressing portion can be finely adjusted by simple operation, and further, the substrate spacing can be finely adjusted.

또한, 본 발명에 의한 기판 간격 조정 장치는, 상기 회전 입력 기구를 유지하는 핸드와, 상기 핸드에 회전 구동력을 부여하는 모터를 구비하고 있어도 된다. 이 구성에 의하면, 모터의 회전 구동력을 핸드를 경유하여 회전 입력 기구에 전달함으로써, 회전 입력 기구를 회전시키는 것이 가능하다. 상기 구성에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 작업자가 직접 회전 입력 기구를 회전 조작하지 않고 회전 입력 기구를 회전시킬 수 있는 것, 나아가서는 기판 간격을 조정할 수 있는 것이다. Moreover, the board | substrate spacing adjustment apparatus by this invention may be equipped with the hand which hold | maintains the said rotation input mechanism, and the motor which gives rotational drive force to the said hand. According to this structure, it is possible to rotate a rotation input mechanism by transmitting the rotation drive force of a motor to a rotation input mechanism via a hand. One of the effects obtained by the above configuration is that the operator can rotate the rotation input mechanism without directly rotating the rotation input mechanism, and further, the substrate spacing can be adjusted.

또한, 본 발명에 의한 기판 간격 조정 장치는, 제 1 편광판, 제 2 편광판, 및 광원을 구비하고, 상기 탑재부는 투광성을 갖고, 상기 광원으로부터 출사된 광의 일부가 상기 제 1 편광판, 상기 탑재부, 상기 복합 기판, 상기 제 2 편광판을 순서대로 투과하도록 구성되어 있어도 된다. 상술한 광로를 거친 광은, 복합 기판에 있어서의 제 1 기판과 제 2 기판의 간격에 따라 착색된다. 또한, 탑재부는, 제 2 기판의 배치 영역에 대응하는 영역에 대해서 투광성을 갖고 있으면 충분하다. 상기 구성에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 조정된 기판 간격의 정도를 시각적으로 인식할 수 있는 것이다. In addition, the substrate gap adjusting device according to the present invention includes a first polarizing plate, a second polarizing plate, and a light source, wherein the mounting portion has a light transmitting property, and a part of the light emitted from the light source is the first polarizing plate, the mounting portion, and the You may be comprised so that a composite substrate and a said 2nd polarizing plate may be transmitted in order. The light which passed through the optical path mentioned above is colored according to the space | interval of a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate in a composite substrate. In addition, it is sufficient if the mounting portion has light transmittance with respect to the region corresponding to the arrangement region of the second substrate. One of the effects obtained by the above configuration is to be able to visually recognize the degree of the adjusted substrate spacing.

본 발명에 의한 기판 간격 조정 방법은, 제 1 기판, 상기 제 1 기판에 대향하여 시일제를 통하여 부착된, 상기 제 1 기판보다 면적이 작은 제 2 기판, 및 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 및 상기 시일제에 의해서 둘러싸인 공간에 주입된 액정을 갖는 복합 기판에 있어서의, 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 간격을 조정하기 위한 기판 간격 조정 방법으로서, 제 1 기부의 탑재부 상에 탑재된 고리형의 지지대 상에, 상기 제 1 기판의 2 개의 면 중 상기 제 2 기판이 부착된 제 1 면과는 반대측의 제 2 면이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 제 1 공정, 상기 지지대가 규정하는 평면의 법선 방향의 가동 범위를 갖는 기판 가압부를, 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접촉시키는 제 2 공정, 및 상기 기판 가압부를, 상기 법선 방향중 상기 제 1 면에서 상기 제 2 면으로 향하는 방향으로 가압하는 제 3 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. The substrate spacing adjusting method according to the present invention includes a first substrate, a second substrate having a smaller area than the first substrate, and a first substrate and the second substrate, which are attached to each other via a sealing agent against the first substrate. And a substrate gap adjusting method for adjusting a gap between the first substrate and the second substrate in a composite substrate having a liquid crystal injected into a space surrounded by the sealing agent, and mounted on a mounting portion of a first base. A first step of installing the composite substrate so that the second surface on the opposite side of the first surface to which the second substrate is attached, of the two surfaces of the first substrate is in contact with the support, A second step of bringing the substrate pressing portion having a movable range in the normal direction of the plane defined by the support into contact with the first substrate at a peripheral edge of the first surface, and the substrate pressing portion in the normal direction; Of and in said first plane; and a third step for pressing in a direction toward the second surface.

이 기판 간격 조정 방법에 의하면, 제 1 기판에 대하여 당해 제 1 기판과 고리형의 지지대와의 접촉 개소를 지점으로 하고, 당해 제 1 기판과 기판 가압부의 접촉 영역을 역점으로 하여 힘을 인가함으로써, 제 1 기판을 변형시킬 수 있다. 또한, 당해 변형에 의해, 제 1 기판과, 이것에 대향하여 배치된 제 2 기판의 간격을 변화시킬 수 있다. 여기에서, 기판 가압부가 제 1 기판의 둘레 가장자리부에 인가하는 힘을 적절히 설정하면, 제 1 기판 내의 어느 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 동시에 적정한 상태로 조정할 수 있다. 기판 간격 조정시에, 제 1 기판에는 고리형의 지지대와 기판 가압부가 접하고 있지만, 전자와의 접촉 개소는 지지대의 형상으로부터 결정되는 둘레 형상의 영역만이고, 후자와의 접촉 영역은 제 1 기판의 제 1 면의 둘레 가장자리부뿐이다. 또한, 제 2 기판에는 아무것도 접하지 않는다. 이와 같이, 기판 간격 조정시에, 본 장치는 기판의 극히 일부 밖에 접하지 않기 때문에, 기판을 파손 또는 오손하기 어렵다. According to this substrate spacing adjusting method, a force is applied to the first substrate as a point of contact between the first substrate and the annular support, and the force is applied to the contact region of the first substrate and the substrate pressing portion as a focus point. The first substrate can be modified. Moreover, by the said deformation | transformation, the space | interval of a 1st board | substrate and the 2nd board | substrate arrange | positioned facing this can be changed. Here, if the board | substrate press part sets the force applied to the circumferential edge part of a 1st board | substrate suitably, the board | substrate spacing corresponding to any gathered area | region in a 1st board | substrate can be adjusted simultaneously in an appropriate state. At the time of adjusting the substrate spacing, the annular support and the substrate pressing portion are in contact with the first substrate, but the contact point with the former is only a circumferential region determined from the shape of the support, and the contact region with the latter is the first substrate. It is only the peripheral edge of a 1st surface. In addition, nothing touches the second substrate. Thus, at the time of board | substrate spacing adjustment, since this apparatus contacts only a part of board | substrate, it is difficult to damage or damage a board | substrate.

상기 방법에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있는 것이다. One of the effects obtained by the above method is that the substrate spacing corresponding to the gathered regions can be adjusted at once without breaking or damaging the substrate.

또한, 상기 제 2 공정은, 상기 둘레 가장자리부의 상이한 개소를 가압 가능하도록, 2 이상의 상기 기판 가압부를 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접촉시키는 공정을 포함하고 있어도 되고, 상기 제 3 공정은, 각각의 기판 가압부를 서로 독립적으로 상기 법선 방향 중 상기 제 1 면으로부터 상기 제 2 면으로 향하는 방향으로 가압하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 이 기판 간격 조정 방법에 의하면, 각각의 기판 가압부가 적절한 힘으로 제 1 기판을 가압함으로써, 제 1 기판을 보다 원하는 상태에 가까운 형태로 변형시킬 수 있다. 이 때문에, 제 1 기판 내의 원하는 영역에 대응하는 기판 간격을 적정한 상태로 조정할 수 있다. Moreover, the said 2nd process may include the process of contacting 2 or more said board | substrate pressurization part with the said 1st board | substrate in the circumferential edge part of a said 1st surface so that the different location of the said circumferential edge part may be pressed. 3rd process may include the process of pressing each board | substrate pressurization part independently from each other in the direction toward the said 2nd surface from the said 1st surface among the said normal lines directions. According to this board | substrate gap adjustment method, each board | substrate pressurization part pressurizes a 1st board | substrate with a suitable force, and can deform | transform a 1st board | substrate to a form near a desired state more. For this reason, the board | substrate spacing corresponding to the desired area | region in a 1st board | substrate can be adjusted in a suitable state.

또한, 상기 지지대는 원고리형이고, 상기 복수의 기판 가압부는 상기 제 1 기판과의 접촉 영역이 내주측에서 호 형상이 되는 형상을 갖고, 상기 호 형상의 부분은 상기 지지대의 규정하는 원과 동심인 하나의 원의 일부에 거의 동일해지는 구성이어도 된다. 여기에서, 상기 접촉 영역의 각각의 상기 호 형상을 이루는 부분의 길이는, 각각 거의 동일한 것이 바람직하다. 이러한 기판 간격 조정 방법에 의하면, 거의 원형의 제 1 기판의 둘레 가장자리부에 대하여 균등하게, 또는 원하는 밸런스로 힘을 인가할 수 있다. 상기 방법에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 거의 원형의 제 1 기판과 당해 제 1 기판에 대향하여 배치된 제 2 기판으로 이루어지는 복합 기판에 있어서, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있는 것이다. In addition, the support is circular, and the plurality of substrate pressing portions have a shape in which a contact area with the first substrate is arc-shaped on an inner circumferential side, and the arc-shaped portion is concentric with a circle defining the support. The configuration may be substantially the same as part of one circle. Here, it is preferable that the length of each arc-shaped part of the said contact area | region is substantially the same each, respectively. According to such a substrate spacing adjustment method, a force can be applied evenly or at a desired balance with respect to the peripheral portion of the substantially circular first substrate. One of the effects obtained by the above method is a composite substrate comprising a substantially circular first substrate and a second substrate arranged to face the first substrate, wherein the substrate corresponds to the gathered region without damaging or damaging the substrate. The interval can be adjusted at once.

또한, 상기 제 1 공정은, 상기 제 1 기판 상에 배치된 2 이상의 직경이 상이한 원 고리형의 지지대 상에, 상기 제 1 기판의 제 2 면이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 이러한 기판 간격 조정 방법에 의하면, 제 1 기판의 형상에 따라서 제 1 기판에 힘을 인가할 때의 지점을 늘리는 것이 가능하다. 상기 방법에 의해 얻어지는 효과 중 하나는, 복잡한 형상으로 휜 제 1 기판을 포함하는 복합 기판에 대하여, 기판 간격을 조정할 수 있는 것이다.Moreover, the said 1st process is a process of providing the said composite board | substrate so that the 2nd surface of the said 1st board | substrate may contact the said support stand on the circular annular support body from which two or more diameters arrange | positioned on the said 1st board | substrate differ. It may include. According to such a substrate gap adjustment method, it is possible to increase the point at the time of applying a force to the first substrate in accordance with the shape of the first substrate. One of the effects obtained by the above method is that the substrate spacing can be adjusted with respect to the composite substrate including the first substrate sliced into a complicated shape.

또한, 상기 제 2 공정은, 기판 가압부가 부착된 제 2 기부를 상기 제 1 기부에 조합하는 동시에, 상기 기판 가압부를 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접촉시키는 공정을 포함하고 있어도 되고, 상기 제 3 공정은, 회전 가능하게 구성되고, 또한 당해 회전을 상기 기판 가압부의 변위로 변환 가능한 상기 외력 인가부로서의 회전 입력 기구를 회전시키는 공정을 포함하고 있어도 된다. 이러한 기판 간격 조정 방법은, 복합 기판이 설치된 제 1 기부에 제 2 기부를 씌워 조합함으로써, 특별한 기구 없이 기판 가압부를 제 1 기판의 소정 위치에 접촉시킬 수 있다. 또한, 기판 가압부의 변위량과 회전 입력 기구의 회전량의 대응을 적절한 비로 설정함으로써, 회전 입력 기구의 큰 회전량을 기판 가압부의 미소한 변위로 대응시킬 수 있다. 상기 방법에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 간단한 조작으로 기판 가압부의 변위량을 세밀하게 조정할 수 있는 것, 나아가서는 기판 간격을 세밀하게 조정할 수 있는 것이다. In addition, the second step includes a step of combining the second base with the substrate pressing portion to the first base, and simultaneously contacting the substrate pressing portion with the first substrate at the peripheral edge of the first surface. The third step may include a step of rotating the rotation input mechanism as the external force applying unit that is configured to be rotatable and that can convert the rotation into displacement of the substrate pressurizing unit. In such a substrate spacing adjustment method, the substrate pressing portion can be brought into contact with a predetermined position of the first substrate without a special mechanism by combining the first base provided with the composite substrate with the second base. Further, by setting the correspondence between the displacement amount of the substrate pressing portion and the rotation amount of the rotation input mechanism to an appropriate ratio, the large rotation amount of the rotation input mechanism can be matched with the minute displacement of the substrate pressing portion. One of the effects obtained by the above method is that the displacement amount of the substrate pressing portion can be finely adjusted by simple operation, and further, the substrate spacing can be finely adjusted.

또한, 본 발명에 의한 기판 간격 조정 방법은, 핸드가 상기 회전 입력 기구를 유지하는 공정과, 모터의 회전 구동력을 상기 핸드에 전달하여 당해 핸드 및 상기 회전 입력 기구를 회전시키는 공정을 포함하고 있어도 된다. 이 방법에 의해서 얻어지는 효과 중 하나는, 작업자가 직접 회전 입력 기구를 회전 조작하지 않고 회전 입력 기구를 회전시킬 수 있는 것, 나아가서는 기판 간격을 조정할 수 있는 것이다. Moreover, the board | substrate spacing adjustment method by this invention may include the process of the hand holding the said rotation input mechanism, and the process of transmitting the rotation drive force of a motor to the said hand, and rotating the said hand and the said rotation input mechanism. . One of the effects obtained by this method is that the operator can rotate the rotation input mechanism without directly rotating the rotation input mechanism, and further, the substrate spacing can be adjusted.

본 발명에 의한 액정 표시 장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에, 당해 제 1 기판보다 면적이 작은 제 2 기판을, 상기 제 1 기판에 대향하여 시일제를 통하여 부착하는 공정, 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 및 상기 시일제에 의해서 둘러싸인 공간에, 상기 시일제로 형성된 개구부로부터 액정을 주입하여, 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 상기 시일제, 및 상기 액정을 갖는 복합 기판을 제조하는 공정, 고리형의 지지대 상에 상기 제 1 기판의 2 개의 면 중 상기 제 2 기판이 부착된 제 1 면과는 반대측의 제 2 면이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 공정, 상기 지지대가 규정하는 평면의 법선 방향의 가동 범위를 갖는 기판 가압부를, 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접촉시키는 공정, 상기 기판 가압부를, 상기 법선 방향 중 상기 제 1 면으로부터 상기 제 2 면으로 향하는 방향으로 가압하여 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 기판 간격을 조정하는 공정, 및 상기 개구부를 밀봉하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the liquid crystal display device which concerns on this invention is a process of attaching the 2nd board | substrate whose area is smaller than the said 1st board | substrate on a 1st board | substrate through a sealing compound to face the said 1st board | substrate, and the said 1st board | substrate. And injecting a liquid crystal from an opening formed of the sealing agent into a space surrounded by the second substrate and the sealing agent to produce a composite substrate having the first substrate, the second substrate, the sealing agent, and the liquid crystal. And a step of installing the composite substrate on a ring-shaped support such that a second surface of the two surfaces of the first substrate opposite to the first surface to which the second substrate is attached is in contact with the support. A step of contacting the substrate pressing portion having the movable range in the normal direction of the plane defined by the support with the first substrate at the peripheral edge of the first surface, and the substrate pressing portion in the normal direction And adjusting the substrate gap between the first substrate and the second substrate by pressing in the direction from the first surface to the second surface, and sealing the opening.

이러한 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 제 1 기판 내의 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 또한 한번에 조정할 수 있다. 또한, 이렇게 한 상태에서 밀봉을 실시할 수 있다. 이러한 특징에 의해, 본 발명에 의한 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 높은 수율로 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. 또한, 복수의 단품에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있기 때문에, 짧은 제조 시간으로 액정 표시 장치를 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of such a liquid crystal display device, the board | substrate spacing corresponding to the gathered area | region in a 1st board | substrate can be adjusted at once, without damaging or damaging a board | substrate. Moreover, sealing can be performed in this state. With such a feature, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device by this invention, a liquid crystal display device can be manufactured with high yield. Moreover, since the board | substrate spacing corresponding to a some single item can be adjusted at once, a liquid crystal display device can be manufactured with a short manufacturing time.

본 발명에 의한 액정 표시 장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에, 닫힌 둘레 형상의 영역에 시일제를 도포하는 공정, 상기 제 1 기판 상으로서, 상기 시일제로 둘러싸인 부위에 액정을 적하하는 공정, 제 2 기판을, 상기 제 1 기판에 대향하도록 상기 시일제를 통하여 부착시켜, 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 상기 시일제, 및 상기 액정을 갖는 복합 기판을 제조하는 공정, 고리형의 지지대 상에, 상기 제 1 기판이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 공정, 상기 지지대가 규정하는 평면의 법선 방향의 가동 범위를 갖는 기판 가압부를, 상기 제 2 기판과 접촉시키는 공정, 및 상기 기판 가압부를, 상기 제 2 기판측으로부터 상기 제 1 기판측으로 가압하여 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 기판 간격을 조정하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. The manufacturing method of the liquid crystal display device which concerns on this invention is a process of apply | coating a sealing compound to the area | region of a closed circumference shape on a 1st board | substrate, a process of dripping a liquid crystal to the site | part enclosed with the said sealing agent on the said 1st board | substrate, Attaching a second substrate through the sealing agent so as to face the first substrate to produce a composite substrate having the first substrate, the second substrate, the sealing agent, and the liquid crystal; an annular support A step of installing the composite substrate such that the first substrate is in contact with the support, a step of bringing the substrate pressing portion having a movable range in the normal direction of the plane defined by the support into contact with the second substrate, and the And pressing a substrate pressing portion from the second substrate side to the first substrate side to adjust a substrate gap between the first substrate and the second substrate. The.

이러한 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 액정 적하 방식에 의해 액정을 기판 사이에 밀봉하는 기법을 사용한 경우, 제 1 기판 내의 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 또한 한번에 조정할 수 있다. 이 특징에 의해, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 높은 수율로 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. 또한, 복수의 단품에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있기 때문에, 짧은 제조 시간으로 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of such a liquid crystal display device, when the technique of sealing a liquid crystal between substrates by the liquid crystal dropping method is used, the board | substrate space | interval corresponding to the gathered area | region in a 1st board | substrate does not break or damage a board | substrate at once, I can adjust it. According to this feature, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device which concerns on this invention, a liquid crystal display device can be manufactured with high yield. Moreover, since the board | substrate spacing corresponding to a some single item can be adjusted at once, a liquid crystal display device can be manufactured with a short manufacturing time.

발명을 실시하기Implement the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described with reference to drawings.

(A. 기판 간격 조정 장치) (A. Substrate Spacing Device)

도 1 은, 본 실시형태의 기판 간격 조정 장치 (1) 를, 구성 요소로 분해하여 도시한 모식도이다. 도 1 에 도시된 바와 같이, 기판 간격 조정 장치 (1) 는「제 1 기부」로서의 하측 지그 (11) 및 상측 지그 (12) 로 이루어진다. 도 1 에는, 기판 간격 조정 장치 (1) 가 기판 간격을 조정하는 대상인 복합 기판 (50) 도 도시한다. FIG. 1: is a schematic diagram which decomposed | disassembled the board | substrate space adjusting apparatus 1 of this embodiment into components. As shown in FIG. 1, the board | substrate gap adjustment apparatus 1 consists of the lower jig 11 and the upper jig 12 as a "first base." In FIG. 1, the composite substrate 50 which the board | substrate gap adjustment apparatus 1 adjusts a board | substrate gap also shows.

복합 기판 (50) 은, 액정 표시 장치 (100; 도 12(b) 참조) 의 제조 과정에서의 형태의 하나로서,「제 1 기판」으로서의 소자 기판 (51), 및「제 2 기판」으로서의 대향 기판 (52) 으로 이루어진다. 소자 기판 (51) 은, 직경 12 인치의 원반형의 석영 유리를 바탕으로 제조된 기판이고, 그 상면 (511) 에는 TFT (Thin Film Transistor) 소자, 금속 배선, 투명 전극, 배향막 등이 형성된다. 한편, 소자 기판 (51) 의 하면 (512) 에는, 아무것도 적층되지 않는다. 한 장의 소자 기판 (51) 은, 복수의 액정 표시 장치에 대응하는 구성 요소를 포함한다. 여기에서, 상면 (511) 은 본 발명에 있어서의「제 1 면」에, 하면 (512) 은, 본 발명에 있어서의「제 2 면」에, 각각 대응한다. 또한, 소자 기판 (51) 은 완전한 원반형이 아니어도 되고, 예를 들어 오리엔테이션 플랫 (orientation flat) 이 형성된 것이어도 된다. The composite board | substrate 50 is one of the forms in the manufacturing process of the liquid crystal display device 100 (refer FIG. 12 (b)), Comprising: The element substrate 51 as a "1st board | substrate", and the opposition as a "2nd board | substrate." It is made of a substrate 52. The element substrate 51 is a substrate manufactured based on a disk-shaped quartz glass having a diameter of 12 inches, and a TFT (Thin Film Transistor) element, a metal wiring, a transparent electrode, an alignment film, and the like are formed on the upper surface 511. On the other hand, nothing is laminated on the lower surface 512 of the element substrate 51. One element substrate 51 includes components corresponding to a plurality of liquid crystal display devices. Here, the upper surface 511 corresponds to the "first surface" in the present invention, and the lower surface 512 corresponds to the "second surface" in the present invention, respectively. In addition, the element substrate 51 may not be a perfect disk shape, for example, an orientation flat may be formed.

소자 기판 (51) 은, 상면 (511) 에만 몇 층이나 되는 구성 요소가 적층되기 때문에, 이들과 석영 유리의 열수축률 차이 등에 기인하여, 도 7(b) 에 도시된 바와 같이, 전체가 휘어진 경우가 많다. 다만, 이 도면에 있어서는 설명의 편의상 상술한 휘어짐을 강조하여 그려진 것으로, 실제 휘어짐은 육안으로는 거의 판별할 수 없는 정도이다. Since the element substrate 51 has several layers of components stacked only on the upper surface 511, the entirety of the element substrate 51 is bent, as shown in FIG. There are many. In this figure, however, for the convenience of explanation, the above-described warpage is emphasized, and the actual warpage is almost indistinguishable with the naked eye.

소자 기판 (51) 의 상면 (511) 에는, 시일제를 통하여 대향 기판 (52) 이 부착된다. 대향 기판 (52) 은, 하나의 액정 표시 장치의 크기에 대응한 대각 1 인치 내지 2 인치 정도의 유리 기판으로서, 소자 기판 (51) 에 대향하는 면에는 투명 전극, 및 배향막이 형성된다. 소자 기판 (51), 대향 기판 (52) 및 시일제가 둘러싸는 공간에는 시일제에 형성된 주입구로부터 주입된 액정이 봉입되어, 액정층을 형성한다. The opposing substrate 52 is attached to the upper surface 511 of the element substrate 51 via a sealing agent. The counter substrate 52 is a glass substrate having a diagonal of about 1 inch to 2 inches corresponding to the size of one liquid crystal display device, and a transparent electrode and an alignment film are formed on the surface facing the element substrate 51. The liquid crystal injected from the injection hole formed in the sealing compound is enclosed in the space surrounded by the element substrate 51, the counter substrate 52 and the sealing agent to form a liquid crystal layer.

액정 표시 장치 (100) 의 표시 품질은, 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 기판 간격에 의해서 결정되는 액정층의 두께에 민감하게 영향을 받는다. 예를 들어, 액정층의 두께가 적정치로부터 어긋나면 표시의 콘트라스트의 저하 등을 초래한다. 이러한 문제를 피하기 위해서, 액정 표시 장치 (100) 의 제조 공정은, 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 기판 간격을 적정히 조정한 상태로 상기 주입구를 밀봉하는 공정을 포함한다. 이렇게 하여 밀봉된 후에는, 액정층의 두께는 적정치로 유지된다. 본 실시형태의 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 상술한 기판 간격의 조정을 하기 위한 장치이다. The display quality of the liquid crystal display device 100 is sensitively affected by the thickness of the liquid crystal layer determined by the substrate gap between the element substrate 51 and the counter substrate 52. For example, when the thickness of the liquid crystal layer deviates from an appropriate value, a decrease in contrast of the display is caused. In order to avoid such a problem, the manufacturing process of the liquid crystal display device 100 includes the process of sealing the said injection hole in the state which adjusted the board | substrate spacing of the element substrate 51 and the opposing board | substrate 52 suitably. After sealing in this way, the thickness of a liquid crystal layer is maintained at an appropriate value. The board | substrate gap adjustment apparatus 1 of this embodiment is an apparatus for adjusting the board | substrate gap mentioned above.

기판 간격 조정 장치 (1) 의 구성 요소의 하나인 하측 지그 (11) 는, 하측 지그 기부 (21), 지지링 홈 (22), 마이크로미터 헤드 통과 구멍 (23), 나사 구멍 (24), 다리부 (25), 탑재부 (26), 및「고리형의 지지대」로서의 지지링 (41) 을 구비한다. 이 중, 지지링 (41) 은 하측 지그 (11) 로부터 착탈 가능하다. 하측 지그 기부 (21) 및 다리부 (25) 는 금속으로 이루어지고, 기판 간격 조정 장치 (1) 를 지탱하는 토대로서의 역할을 다한다. 하측 지그 기부 (21) 에 형성된 마이크로미터 헤드 통과 구멍 (23) 은, 하측 지그 (11) 및 상측 지그 (12) 를 조합할 때, 후술하는 마이크로미터 헤드 (33) 를 통과시키기 위한 구멍이고, 나사 구멍 (24) 은 동일하게 하측 지그 (11) 및 상측 지그 (12) 를 고정하기 위한 것이다. The lower jig 11, which is one of the components of the substrate gap adjusting device 1, has a lower jig base 21, a support ring groove 22, a micrometer head through hole 23, a screw hole 24, and a leg. The part 25, the mounting part 26, and the support ring 41 as a "ring support stand" are provided. Among them, the support ring 41 is detachable from the lower jig 11. The lower jig base 21 and the leg 25 are made of metal and serve as a basis for supporting the substrate gap adjusting device 1. The micrometer head passage hole 23 formed in the lower jig base 21 is a hole for passing the micrometer head 33 to be described later when combining the lower jig 11 and the upper jig 12, and the screw The hole 24 is similarly for fixing the lower jig 11 and the upper jig 12.

지지링 홈 (22) 은, 지지링 (41) 의 크기에 맞추어 탑재부 (26) 상에 형성된 홈이고, 하측 지그 (11) 에 지지링 (41) 을 장착하였을 때 지지링 (41) 이 미끄러져 움직이는 것을 막는다. 지지링 홈 (22) 은, 직경이 상이한 동심원을 이루도록 복수 형성되고, 이들의 원과 직경이 동일한 지지링을 끼울수 있다. 지지링 홈 (22) 이 형성되는 탑재부 (26) 는 투광성을 갖는 아크릴로 이루어지고, 하측 지그 기부 (21) 에 고정된다. 지지링 홈 (22) 에 끼워진 지지링 (41) 은, 소자 기판 (51) 의 하면 (512) 과 접하여 복합 기판 (50) 을 지지한다. 지지링 (41) 은, 소자 기판 (51) 과 접하더라도 흠집이 나지 않은 소재로 만들어져 있고, 예를 들어, 금속에 불소 수지를 코팅한 것 등을 사용할 수 있다. The support ring groove 22 is a groove formed on the mounting portion 26 in accordance with the size of the support ring 41, and the support ring 41 slides when the support ring 41 is mounted on the lower jig 11. To prevent movement The support ring grooves 22 are formed in plural so as to form concentric circles having different diameters, and can support the support rings having the same diameters as those circles. The mounting portion 26 on which the support ring grooves 22 are formed is made of translucent acrylic and is fixed to the lower jig base 21. The support ring 41 fitted into the support ring groove 22 contacts the lower surface 512 of the element substrate 51 to support the composite substrate 50. The support ring 41 is made of a material which is not scratched even when it comes in contact with the element substrate 51. For example, a metal coated with a fluorine resin can be used.

기판 간격 조정 장치 (1) 의 구성 요소 중 하나인 상측 지그 (12) 는,「제 2 기부」로서의 상측 지그 기부 (31), 기판 가압부 (32), 마이크로미터 헤드 (33), 및 나사 (34) 를 구비한다. 상측 지그 기부 (31) 는 금속으로 이루어지고, 기 판 가압부 (32) 를 비롯한 상측 지그 (12) 의 구성 요소의 상대 위치를 고정시키는 역할을 한다. 상측 지그 기부 (31) 는, 상측 지그 (12) 가 하측 지그 (11) 와 조합될 때, 하측 지그 기부 (21) 와 접한다. 이 때, 나사 (34) 를 하측 지그 (21) 의 나사 구멍 (24) 에 끼움으로써, 조합된 하측 지그 (11) 와 상측 지그 (12) 가 고정된다. The upper jig 12, which is one of the components of the substrate gap adjusting device 1, has an upper jig base 31, a substrate pressing part 32, a micrometer head 33, and a screw as a “second base”. 34). The upper jig base 31 is made of metal, and serves to fix the relative position of the components of the upper jig 12 including the substrate pressing portion 32. The upper jig base 31 is in contact with the lower jig base 21 when the upper jig 12 is combined with the lower jig 11. At this time, by fitting the screw 34 into the screw hole 24 of the lower jig 21, the combined lower jig 11 and the upper jig 12 are fixed.

상측 지그 기부 (31) 에는, 상측 지그 기부 (31) 가 규정하는 평면의 법선 방향에서 보아, 폭을 갖는 링을 6 등분한 형상을 갖는 6 개의 기판 가압부 (32) 가 점대칭으로 부착되어 있다. 각각의 기판 가압부 (32) 에는, 「외력 인가부」의 일 형태인 「회전 입력 기구」로서의 마이크로미터 헤드 (33) 가 접속되어 있다. 기판 가압부 (32) 는, 상측 지그 기부 (31) 가 규정하는 평면 (즉, 하측 지그 (11) 와 상측 지그 (12) 가 조합되었을 때 지지링 (41) 이 규정하는 평면) 의 법선 방향에 가동 범위를 갖는다. 구체적으로는, 기판 가압부 (32) 에 접속된 마이크로미터 헤드 (33) 의 회전에 따라 당해 가동 범위 내를 변위하고, 상측 지그 기부 (31) 와의 상대거리가 변화한다. 또한, 마이크로미터 헤드 (33) 의 회전을 멈추면 그 위치에서 상측 지그 기부 (31) 와의 상대 위치가 고정된다. 6 개의 마이크로미터 헤드 (33) 의 피치는 전부 동일하고, 마이크로미터 헤드 (33) 의 회전량이 동일하면, 그에 수반하는 기판 가압부 (32) 의 변위량도 동일해진다. 하나의 기판 가압부 (32) 는, 이것에 직접 접속된 마이크로미터 헤드 (33) 의 회전량에만 의존하여 변위하고, 그 밖의 마이크로미터 헤드 (33) 의 회전량에는 영향을 받지 않는다. 즉, 각각의 기판 가압부 (32) 는 서로 독립적으로 변위한다. On the upper jig base 31, six substrate pressing portions 32 having a shape in which the ring having a width is divided into six equally are attached in point symmetry, as seen from the normal direction of the plane defined by the upper jig base 31. The micrometer head 33 as a "rotation input mechanism" which is one form of an "external force application part" is connected to each board | substrate press part 32. As shown in FIG. The substrate pressing portion 32 is in the normal direction of the plane defined by the upper jig base 31 (that is, the plane defined by the support ring 41 when the lower jig 11 and the upper jig 12 are combined). Has a movable range. Specifically, the inside of the movable range is displaced according to the rotation of the micrometer head 33 connected to the substrate pressing part 32, and the relative distance to the upper jig base 31 changes. In addition, when the rotation of the micrometer head 33 is stopped, the relative position with the upper jig base 31 is fixed at that position. The pitches of the six micrometer heads 33 are all the same, and when the rotation amount of the micrometer head 33 is the same, the displacement amount of the substrate pressing part 32 accompanying it is also the same. One board | substrate press part 32 displaces only depending on the rotation amount of the micrometer head 33 directly connected to this, and is not influenced by the rotation amount of the other micrometer head 33. FIG. That is, each substrate pressing portion 32 is displaced independently of each other.

기판 가압부 (32) 는, 하측 지그 (11) 와 상측 지그 (12) 가 복합 기판 (50) 을 통하여 조합될 때, 소자 기판 (51) 의 상면 (511) 의 둘레 가장자리부에 접하여 소자 기판 (51) 에 힘을 인가한다. 기판 가압부 (32) 는, 소자 기판 (51) 을 변형시켜 얻는 힘의 인가에 견디고, 또한 소자 기판 (51) 을 흠집낼 정도의 경도를 갖는 경화 수지로 이루어진다. 이러한 수지의 예로서, 비크트렉스사 제조의 PEEK(R) (상품명) 등을 들 수 있다. The substrate pressing portion 32 is in contact with the peripheral edge of the upper surface 511 of the element substrate 51 when the lower jig 11 and the upper jig 12 are combined through the composite substrate 50. 51) Apply force to it. The board | substrate press part 32 consists of cured resin which withstands application of the force obtained by deforming the element board | substrate 51, and has a hardness enough to damage the element board | substrate 51. FIG. Examples of such resins include PEEK (R) (trade name) manufactured by Viktrex Corporation.

각각의 기판 가압부 (32) 는, 소자 기판 (51) 의 둘레 가장자리부와의 접촉 영역이 내주측에서 호 형상이 되는 형상을 갖고, 이 호 형상의 부분이 지지링 (41) 및 소자 기판 (51) 과 동심인 하나의 원 (도시 생략) 의 일부와 거의 동일하다. 즉, 기판 가압부 (32) 와 소자 기판 (51) 의 접촉 영역은, 소자 기판 (51) 의 외주에 따른 원고리형의 영역의 일부이다. 본 실시형태에 있어서의 당해 접촉 영역은, 소자 기판 (51) 의 외주로부터 3mm 의 범위 내에 있다. Each board | substrate press part 32 has a shape where the contact area | region with the peripheral edge part of the element substrate 51 becomes arc shape in the inner peripheral side, and this arc-shaped part is the support ring 41 and the element substrate ( 51) almost identical to a portion of a circle (not shown) concentric with. That is, the contact area | region of the board | substrate press part 32 and the element substrate 51 is a part of circular region along the outer periphery of the element substrate 51. The said contact area in this embodiment exists in the range of 3 mm from the outer periphery of the element substrate 51.

도 2 및 도 3 은, 하측 지그 (11) 와 상측 지그 (12) 를 복합 기판 (50) 을 통하여 조합한 상태의 기판 간격 조정 장치 (1) 를 도시하는 모식도이다. 도 2 는 이 상태의 기판 간격 조정 장치 (1) 의 사시도, 도 3(a) 는 평면도, 도 3(b) 는 도 3(a) 중의 A-A 선에 있어서의 단면도이다. 하측 지그 (11) 와 상측 지그 (12) 는, 하측 지그 기부 (21) 와 상측 지그 기부 (31) 가 접한 상태에서 나사 (34) 에 의해서 고정된다. 이 때, 소자 기판 (51) 은, 지지링 (41) 에 의해서 지지됨과 동시에, 상면 (511) 의 둘레 가장자리부가 6 개의 기판 가압부 (32) 에 의해 눌려져 기판 간격 조정 장치 (1) 내에 고정된다. 한편, 대향 기판 (52) 에는 아무것도 접하지 않는다. 또한, 이하에서는 지지링 (41) 이 규정하는 평면의 법선 방향은 중력 가속도 방향과 평행하다고 하여, 중력 가속도 방향을 하, 이것과 반대되는 방향을 상으로 한다. FIG.2 and FIG.3 is a schematic diagram which shows the board | substrate spacing adjustment apparatus 1 of the state which combined the lower jig 11 and the upper jig 12 through the composite substrate 50. As shown in FIG. Fig. 2 is a perspective view of the substrate gap adjusting device 1 in this state, Fig. 3 (a) is a plan view, and Fig. 3 (b) is a sectional view taken along the line A-A in Fig. 3 (a). The lower jig 11 and the upper jig 12 are fixed by the screw 34 in a state where the lower jig base 21 and the upper jig base 31 are in contact with each other. At this time, the element substrate 51 is supported by the support ring 41, and the peripheral edge portion of the upper surface 511 is pressed by the six substrate pressing portions 32 to be fixed in the substrate gap adjusting device 1. . On the other hand, nothing is in contact with the opposing substrate 52. In addition, below, suppose that the normal line direction of the plane prescribed | regulated by the support ring 41 is parallel to a gravity acceleration direction, and it makes a gravity acceleration direction, and makes the opposite direction to this.

기판 간격 조정 장치 (1) 는, 이 상태에서 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시켜 기판 가압부 (32) 를 하방향으로 변위시킴으로써, 소자 기판 (51) 에 대하여, 소자 기판 (51) 과 지지링 (41) 의 접촉 개소를 지점으로 하고, 소자 기판 (51) 과 기판 가압부 (32) 의 접촉 영역을 역점으로 하여 힘을 인가할 수 있다. 이 때, 소자 기판 (51) 은 당해 힘의 인가에 의해서 변형된다. 구체적으로는, 둘레 가장자리부가 하방향으로 변위하고, 중심부가 약간 상방향으로 변위하여 변형된다 (도 7(d) 및 (e) 참조). 기판 가압부 (32) 는 서로 독립적으로 변위한다는 점에서, 각각의 기판 가압부 (32) 가 소자 기판 (51) 에 인가하는 힘을 적절히 설정함으로써, 소자 기판 (51) 의 임의의 위치에 있어서의 변형량을 어느 정도 조작할 수 있다. 소자 기판 (51) 이 변형되면, 이것에 대향하여 배치된 대향 기판 (52) 과의 기판 간격이 변화된다. 소자 기판 (51) 의 변형량은 장소에 따라 상이하므로, 기판 간격도 장소에 따라 상이하여, 기판 가압부 (32) 가 소자 기판 (51) 에 인가하는 힘을 적절히 설정하면, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 적정한 상태로 한번에 조정할 수 있다. The substrate gap adjusting device 1 rotates the micrometer head 33 in this state and displaces the substrate pressurizing portion 32 downward, so that the element substrate 51 and the support ring with respect to the element substrate 51. The force can be applied with the contact point of the 41 as a point, and the contact area of the element substrate 51 and the board | substrate press part 32 as an emphasis point. At this time, the element substrate 51 is deformed by the application of the force. Specifically, the circumferential edge portion is displaced downward, and the central portion is slightly displaced upwardly and deformed (see FIGS. 7D and 7E). Since the board | substrate press part 32 displaces independently from each other, by setting the force which each board | substrate press part 32 applies to the element substrate 51 suitably, in the arbitrary position of the element substrate 51, The deformation amount can be manipulated to some extent. When the element substrate 51 is deformed, the substrate spacing with the opposing substrate 52 arranged opposite to this is changed. Since the deformation amount of the element substrate 51 varies from place to place, the substrate spacing also varies from place to place, and when the force applied by the substrate presser 32 to the element substrate 51 is appropriately set, the substrate corresponding to the gathered region The interval can be adjusted at a time with an appropriate state.

기판 간격을 조정할 때에는, 소자 기판 (51) 에는 지지링 (41) 과 기판 가압부 (32) 가 접하지만, 전자와의 접촉 개소는 지지링 (41) 의 형상으로부터 결정되는 원둘레 형상의 영역뿐이고, 후자와의 접촉 영역은 상면 (511) 의 둘레 가장자리 부뿐이다. 또한, 대향 기판 (52) 에는 아무것도 접하지 않는다. 이와 같이, 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 기판 간격의 조정에 있어서 복합 기판 (50) 의 극히 일부 밖에 접하지 않기 때문에, 기판을 파손 또는 오손하는 문제가 발생하기 어렵다. 이상과 같이, 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있다. When the substrate spacing is adjusted, the support ring 41 and the substrate pressurizing portion 32 are in contact with the element substrate 51, but the contact point with the electrons is only a circumferential region determined from the shape of the support ring 41, The contact area with the latter is only the circumferential edge portion of the upper surface 511. In addition, nothing is in contact with the opposing substrate 52. Thus, since the board | substrate gap adjusting apparatus 1 only touches a very small part of the composite substrate 50 in adjustment of a board | substrate gap, the problem which damages or damages a board | substrate hardly arises. As mentioned above, the board | substrate space | interval adjusting apparatus 1 can adjust the board | substrate space | interval corresponding to the gathered area | region at once, without damaging or damaging a board | substrate.

이 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 상술한 상태에서도, 사람의 손에 의해서 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시킴으로써 기판 간격을 조정할 수 있지만, 본 실시형태의 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 편리성을 더욱 향상시키기 위해 외부 구동 장치에 접속된다. 도 4 는, 외부 구동 장치 (2) 가 접속된 상태의 기판 간격 조정 장치 (1) 를 도시하는 모식 단면도이다. 외부 구동 장치 (2) 는, 핸드 (61) 와 핸드 승강 회전 기구 (62) 와 모터 (63) 로 이루어지는 구동 유닛, 「제 1 편광판」으로서의 편광판 (64L),「제 2 편광판」으로서의 편광판 (64U), 광원 (65), 및 지지벽 (66) 을 갖는 장치이고, 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시키는 기능과, 기판 간격 조정의 모양을 시인하기 위한 조명 기능을 갖는다. Although the board | substrate gap adjusting apparatus 1 can adjust board | substrate gap by rotating the micrometer head 33 by a human hand also in the state mentioned above, the board | substrate gap adjusting apparatus 1 of this embodiment is convenient. It is connected to an external drive device to further improve the castle. FIG. 4: is a schematic cross section which shows the board | substrate gap adjustment apparatus 1 in the state in which the external drive apparatus 2 was connected. The external drive device 2 includes a drive unit composed of a hand 61, a hand lift rotation mechanism 62, and a motor 63, a polarizing plate 64L as a “first polarizing plate”, and a polarizing plate 64U as a “second polarizing plate”. ), A light source 65, and a support wall 66, which has a function of rotating the micrometer head 33 and an illumination function for visually recognizing the shape of the substrate gap adjustment.

구동 유닛은, 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시키는 기능을 담당하는 유닛이다. 구동 유닛의 구성 요소 중, 모터 (63) 는, 모터 구동부 (68 ;도 5 참조) 를 개재하여 처리부 (69; 도 5 참조) 와 전기적으로 접속되는 한편, 승강 회전 기구 (62) 와 기계적으로 접속된다. 모터 (63) 는, 모터 구동부 (68) 의 지시에 따라 회전 구동력을 발생시키는 장치이다. 승강 회전 기구 (62) 는, 승강 회전 기구 구동부 (67; 도 5 참조) 를 개재하여 처리부 (69) 와 전기적으로 접속되는 한 편, 핸드 (61) 와 기계적으로 접속된다. 승강 회전 기구 (62) 는, 모터 (63) 가 발생시킨 회전 구동력을 핸드 (61) 에 전달하여 핸드 (61) 를 회전시킴과 동시에, 모터 (63) 로부터 연직으로 연신된 지주를 따라 자신을 승강시킴으로써, 핸드 (61) 를 승강시킨다. 핸드 (61) 는, 승강 회전 기구 (62) 의 상승에 수반되어 마이크로미터 헤드 (33) 가 유지 가능한 위치로 이동된 경우, 내부에 공기를 주입하여 팽창시킴으로써 마이크로미터 헤드 (33) 를 압박하여 이것을 유지하는 장치이다. 이러한 구동 유닛은, 6 개의 기판 가압부 (32) 및 마이크로미터 헤드 (33) 의 각각에 대응하여 설치되고, 서로 독립적으로 동작한다. The drive unit is a unit that is in charge of the function of rotating the micrometer head 33. Among the components of the drive unit, the motor 63 is electrically connected to the processing unit 69 (see FIG. 5) via the motor drive unit 68 (see FIG. 5), and mechanically connected to the lifting and lowering rotation mechanism 62. do. The motor 63 is a device that generates a rotational driving force in accordance with the instruction of the motor drive unit 68. The lifting lowering rotation mechanism 62 is electrically connected with the hand 61 while being electrically connected to the processing unit 69 via the lifting lowering rotation mechanism drive unit 67 (see FIG. 5). The lifting lowering rotation mechanism 62 transmits the rotational driving force generated by the motor 63 to the hand 61 to rotate the hand 61 and lifts itself up and down along the props vertically extended from the motor 63. By doing so, the hand 61 is raised and lowered. When the hand 61 is moved to the position where the micrometer head 33 can be held in accordance with the lift of the lifting rotation mechanism 62, the hand 61 presses the micrometer head 33 by inflation by injecting air therein and expands it. It is a device to maintain. These drive units are provided corresponding to each of the six substrate pressing portions 32 and the micrometer head 33 and operate independently of each other.

계속해서, 도 5 의 블록도를 참조하면서, 구동 유닛의 전기적 구성에 대해서 설명한다. 도 5 에 있어서는, 6 개의 구동 유닛 (81 내지 86) 중, 제 1 구동 유닛 (81) 의 전기적 구성만을 자세히 나타내고 있지만, 나머지 구동 유닛 (82 내지 86) 의 전기적 구성도 이것과 동일하다. 기판 간격 조정 장치 (1) 가 소정의 위치로 세트된 상태에서, 입력 장치 (60) 로부터 처리부 (69) 에 스타트 신호가 송신되면, 처리부 (69) 는 승강 회전 기구 구동부 (67) 에 대하여 승강 회전 기구 (62) 의 상승을 지시한다. 당해 지시를 받은 승강 회전 기구 구동부 (67) 는, 승강 회전 기구 (62) 및 이것에 접속된 핸드 (61) 를, 핸드 (61) 가 마이크로미터 헤드 (33) 를 유지 가능한 위치까지 상승시킨다. 승강 회전 기구 (62) 및 이것에 접속된 핸드 (61) 의 상승이 종료되면, 핸드 (61) 는 내부에 공기를 주입하여 팽창시킴으로써 마이크로미터 헤드 (33) 를 압박하여 이것을 유지한다. 이 상태에서, 입력 장치 (60) 에 기판 가압부 (32) 의 변위량의 지시가 입력되면, 이것 을 수신한 처리부 (69) 는, 당해 변위량을 모터 (63) 의 회전량으로 환산하여, 모터 구동부 (68) 에 대하여 모터 (63) 의 회전을 지시한다. 지시를 받은 모터 구동부 (68) 는, 지시된 회전량만큼 모터 (63) 를 회전시킨다. 이 때 승강 회전 기구 (62) 는, 모터 (63) 의 회전 구동력을 핸드 (61) 에 전하여 핸드 (61) 및 이것에 유지된 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시킨다. 이것에 수반하여, 기판 가압부 (32) 는 마이크로미터 헤드 (33) 의 회전량에 따른 양만큼 변위한다. 이와 같이 제 1 구동 유닛 (81) 은, 입력 장치 (60) 로부터 입력된 기판 가압부 (32) 의 변위량에 따라 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시킨다. 이상의 동작은, 6 개의 구동 유닛 (81 내지 86) 에 있어서 서로 독립적으로 실시된다. Subsequently, an electrical configuration of the drive unit will be described with reference to the block diagram of FIG. 5. In FIG. 5, only the electrical configuration of the first drive unit 81 is shown in detail among the six drive units 81 to 86, but the electrical configurations of the remaining drive units 82 to 86 are also the same. When the start signal is transmitted from the input device 60 to the processing unit 69 in the state where the substrate gap adjusting device 1 is set to a predetermined position, the processing unit 69 moves up and down relative to the lifting lowering rotation mechanism drive unit 67. The rise of the mechanism 62 is instructed. The lifting- lowering rotation mechanism drive part 67 which received the said instruction raises the lifting-rotation mechanism 62 and the hand 61 connected to this to the position where the hand 61 can hold the micrometer head 33. When the lifting and lowering of the lifting mechanism 62 and the hand 61 connected thereto is finished, the hand 61 presses the micrometer head 33 by holding air and expands it to hold it. In this state, when the instruction | indication of the displacement amount of the board | substrate press part 32 is input to the input device 60, the processing part 69 which received this converts the said displacement amount into the rotation amount of the motor 63, and the motor drive part The rotation of the motor 63 is instructed with respect to 68. The motor drive unit 68 which has been instructed rotates the motor 63 by the indicated amount of rotation. At this time, the lifting lowering rotation mechanism 62 transmits the rotation driving force of the motor 63 to the hand 61 to rotate the hand 61 and the micrometer head 33 held therein. In connection with this, the board | substrate press part 32 displaces by the quantity according to the rotation amount of the micrometer head 33. As shown in FIG. Thus, the 1st drive unit 81 rotates the micrometer head 33 according to the displacement amount of the board | substrate press part 32 input from the input device 60. As shown in FIG. The above operation is performed independently of each other in the six drive units 81 to 86.

여기에서 다시 도 4 로 되돌아가, 외부 구동 장치 (2) 의 그 밖의 구성 요소에 대해서 설명한다. 지지벽 (66) 은, 하측 지그 (11) 의 다리부 (25) 를 지지하여 기판 간격 조정 장치 (1) 를 지탱한다. 이 상태로 설치된 기판 간격 조정 장치 (1) 의 탑재부 (26) 에 대응하는 하방 위치에는, 광원 (65) 이 배치된다. 또한, 광원 (65) 과 기판 간격 조정 장치 (1) 의 사이에는 편광판 (64L) 이, 또한 기판 간격 조정 장치 (1) 의 상부에는 편광판 (64U) 이 각각 배치된다. Here, returning to FIG. 4 again, the other component of the external drive apparatus 2 is demonstrated. The support wall 66 supports the leg 25 of the lower jig 11 to support the substrate gap adjusting device 1. The light source 65 is arrange | positioned in the downward position corresponding to the mounting part 26 of the board | substrate gap adjusting apparatus 1 provided in this state. In addition, the polarizing plate 64L is disposed between the light source 65 and the substrate gap adjusting device 1, and the polarizing plate 64U is disposed above the substrate gap adjusting device 1, respectively.

광원 (65) 및 편광판 (64L, 64U) 은, 기판 간격 조정의 모양을 시인하기 위한 조명 기능을 담당한다. 광원 (65) 으로부터 상방에 발생된 광은, 편광판 (64L), 기판 간격 조정 장치 (1) 의 탑재부 (26), 복합 기판 (50), 편광판 (64U) 을 순서대로 투과하여, 작업자에게 시인된다. 여기에서, 투과광 중 복합 기판 (50) 에 포함되는 액정층을 투과한 광은, 액정층의 리터데이션에 따라 착색된다. 상세하게는, 편광판 (64L) 을 투과한 광의 편광 상태는, 액정층을 통과할 때, 액정층 고유의 파라미터인 굴절률 이방성과 액정층의 두께 (즉, 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 간격) 의 곱으로 정해지는 리터데이션의 크기에 따라, 직선 편광으로부터 타원 편광으로 변한다. 당해 타원은 파장마다 형상이 다르기 때문에, 이 타원편광은, 다시 편광판 (64U) 을 통과하여 하나의 편광축 성분만이 추출되면, 각 파장에서의 강도 분포가 입사광의 그것과 변화하여 착색된다. 이와 같이, 상기 타원편광의 편광 상태는 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 간격에 의존하기 때문에, 작업자가 시인하는 투과광의 색은 당해 기판 간격에 의해서 변한다. 적정한 기판 간격의 영역을 투과하였을 때의 광의 색을 기준으로서 투과광의 색을 이것과 비교함으로써, 작업자는, 복합 기판 (50) 의 어떤 영역의 기판 간격이 적정히 조정되어 있는지를 판단할 수 있다. The light source 65 and the polarizing plates 64L and 64U are in charge of an illumination function for visually recognizing the shape of the substrate gap adjustment. The light generated upward from the light source 65 passes through the polarizing plate 64L, the mounting portion 26 of the substrate gap adjusting device 1, the composite substrate 50, and the polarizing plate 64U in order, and is visible to the worker. . Here, the light which permeate | transmitted the liquid crystal layer contained in the composite substrate 50 among the transmitted light is colored according to the retardation of a liquid crystal layer. Specifically, the polarization state of the light transmitted through the polarizing plate 64L, when passing through the liquid crystal layer, the refractive index anisotropy, which is a parameter inherent in the liquid crystal layer, and the thickness of the liquid crystal layer (that is, the element substrate 51 and the counter substrate 52). It changes from linearly polarized light to elliptically polarized light according to the magnitude | size of the retardation determined by the product of the space | interval of (). Since the ellipse has a different shape for each wavelength, when the elliptical polarization passes through the polarizing plate 64U again and only one polarization axis component is extracted, the intensity distribution at each wavelength changes with that of the incident light and is colored. As described above, since the polarization state of the elliptical polarization depends on the distance between the element substrate 51 and the opposing substrate 52, the color of the transmitted light visually recognized by the operator changes depending on the distance between the substrates. By comparing the color of the transmitted light with this on the basis of the color of the light when passing through the region of the appropriate substrate spacing, the operator can determine which region of the substrate of the composite substrate 50 is properly adjusted.

이상과 같이, 외부 구동 장치 (2) 가 접속된 기판 간격 조정 장치 (1) 는, 입력된 기판 가압부 (32) 의 변위량을 바탕으로 기판 간격 조정 장치 (1) 의 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시키는 기능과, 기판 간격의 조정의 모양을 시인하기 위한 조명 기능을 갖는다. 이들의 기능에 의해서, 작업자는 보다 효율적으로 기판 간격 조정 장치 (1) 에 의해 기판 간격을 조정할 수 있다. As mentioned above, the board | substrate space adjusting device 1 with which the external drive device 2 was connected is based on the displacement amount of the board | substrate pressurization part 32 inputted, and the micrometer head 33 of the board | substrate space adjusting device 1 is carried out. It has a function to rotate, and the illumination function to visually recognize the shape of adjustment of a board | substrate spacing. By these functions, the operator can adjust the board | substrate spacing by the board | substrate gap adjusting apparatus 1 more efficiently.

(B. 기판 간격 조정 방법) (B. Substrate Spacing Adjustment Method)

계속해서, 상술한 기판 간격 조정 장치 (1) 및 외부 구동 장치 (2) 를 사용하여 기판 간격을 조정하는 방법에 대해서, 도 6 및 도 7 을 사용하여 설명한다. 도 6 은, 본 실시형태의 기판 간격 조정 순서를 도시하는 공정도이고, 도 7 은, 도 6 의 각각의 공정에서의 기판 간격 조정 장치 (1) 의 단면도이다. 본 실시형태의 기판 간격 조정 방법은, 공정 P331 내지 공정 P335 를 갖는다. 이하에서는, 공정 P331 내지 공정 P335 를 합쳐서 공정 P33 이라고도 한다. Subsequently, a method of adjusting the substrate gap using the above-described substrate gap adjusting device 1 and the external drive device 2 will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a process chart showing the substrate gap adjusting procedure of the present embodiment, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the substrate gap adjusting apparatus 1 in each step of FIG. 6. The substrate gap adjusting method of the present embodiment includes steps P331 to P335. Hereinafter, the process P331 to the process P335 are also collectively referred to as process P33.

공정 P331 은, 하측 지그 기부 (21) 의 탑재부 (26) 에 형성된 지지링 홈 (22) 에 지지링 (41) 을 장착하는 공정이다 (도 7(a) 참조). Step P331 is a step of attaching the support ring 41 to the support ring groove 22 formed in the mounting portion 26 of the lower jig base 21 (see FIG. 7 (a)).

공정 P332 는, 공정 P331 로 장착된 지지링 (41) 상에, 소자 기판 (51) 및 대향 기판 (52) 으로 이루어지는 복합 기판 (50) 을, 소자 기판 (51) 을 밑으로 하여 설치하는 공정이다 (도 7(b) 참조). 상술한 바와 같이, 소자 기판 (51) 은 전체가 휘어져 있고, 둘레 가장자리부가 중심부에 대하여 상대적으로 높게 되어 있다. Step P332 is a step of installing the composite substrate 50 including the element substrate 51 and the opposing substrate 52 under the element substrate 51 on the support ring 41 mounted in the step P331. (See FIG. 7 (b)). As described above, the entire element substrate 51 is bent, and the peripheral edge portion thereof is relatively high with respect to the center portion.

공정 P333 은, 상측 지그 기부 (31), 기판 가압부 (32), 및 마이크로미터 헤드 (33) 를 구비한 상측 지그 (12) 를 하측 지그 (11) 와 조합하여 고정시키는 공정이다 (도 7(c) 참조). 이 공정은, 기판 가압부 (32) 가 소자 기판 (51) 의 상면 (511; 도 1 참조) 의 둘레 가장자리부에 접하도록 실시된다. Step P333 is a step of fixing the upper jig 12 including the upper jig base 31, the substrate pressurizing portion 32, and the micrometer head 33 in combination with the lower jig 11 (FIG. 7 ( c)). This process is performed so that the board | substrate press part 32 may contact the peripheral part of the upper surface 511 (refer FIG. 1) of the element substrate 51. As shown in FIG.

공정 P334 는, 상술한 외부 구동 장치 (2) 에 포함되는 핸드 (61) 를 마이크로미터 헤드 (33) 와 접속하는 공정이다 (도 7(d) 참조). 이 접속시의 외부 구동 장치 (2) 의 동작은 이미 상세히 설명되었기 때문에, 여기에서는 설명을 생략한다. Step P334 is a step of connecting the hand 61 included in the external drive device 2 described above with the micrometer head 33 (see FIG. 7 (d)). Since the operation of the external drive device 2 at the time of this connection has already been described in detail, the description is omitted here.

공정 P335 는, 핸드 (61) 의 회전에 따라 마이크로미터 헤드 (33) 를 회전시켜 기판 가압부 (32) 를 하방향으로 변위시킴으로써, 소자 기판 (51) 에 대하여, 소자 기판 (51) 과 지지링 (41) 의 접촉 개소를 지점으로 하고, 소자 기판 (51) 과 기판 가압부 (32) 의 접촉 영역을 역점으로 하여 힘을 인가하는 공정이다 (도 7(e) 참조). 이 때, 소자 기판 (51) 은 당해 힘의 인가에 의해서 변형된다. 구체적으로는, 도 7(e) 에 나타내는 바와 같이, 소자 기판 (51) 의 둘레 가장자리부가 하방향으로 변위함과 동시에 중심부가 약간 상방향으로 변위하여, 상술한 휘어짐을 해소하는 방향으로 변형된다. 소자 기판 (51) 의 휘어짐이 해소되어 평판에 가까운 상태로 변형되면, 당초 휘어짐에 의해서 대향 기판 (52) 과의 기판 간격이 적정치로부터 벗어나 있던 영역의 일부에 있어서, 기판 간격이 적정한 상태로 조정된다. 소자 기판 (51) 의 휘어짐이 일정하지 않고 복잡한 형상이더라도, 각 기판 가압부 (32) 가 소자 기판 (51) 에 인가하는 힘을 적절히 설정함으로써, 소자 기판 (51) 을 전체로 하여 평판에 가까운 상태로 변형하는 것이 가능하다. 따라서, 복잡한 형상으로 휜 소자 기판 (51) 을 갖는 복합 기판 (50) 에 대해서도, 모여진 영역의 기판 간격을 한번에 조정할 수 있다. Step P335 rotates the micrometer head 33 in accordance with the rotation of the hand 61 to displace the substrate pressurizing portion 32 downward, so that the element substrate 51 and the support ring with respect to the element substrate 51. It is a process of applying a force by making the contact point of 41 into a point, and making the contact area of the element substrate 51 and the board | substrate press part 32 into an emphasis point (refer FIG. 7 (e)). At this time, the element substrate 51 is deformed by the application of the force. Specifically, as shown in FIG. 7E, the peripheral edge portion of the element substrate 51 is displaced downward, and the central portion is slightly displaced upward, thereby deforming in the direction of eliminating the warpage described above. When the curvature of the element substrate 51 is eliminated and deformed to a state close to the flat plate, the substrate spacing is adjusted to an appropriate state in a part of the region where the substrate spacing with the opposing substrate 52 deviates from an appropriate value due to the initial curvature. do. Even if the curvature of the element substrate 51 is not constant and is a complicated shape, by appropriately setting the force applied to the element substrate 51 by each substrate press section 32, the element substrate 51 as a whole is close to the flat plate. It is possible to transform into Therefore, the board | substrate spacing of the gathered area | region can be adjusted at once also about the composite substrate 50 which has a thin element substrate 51 in a complicated shape.

도 7(e) 에 나타나는 바와 같이, 기판 간격의 조정시에 소자 기판 (51) 에는 지지링 (41) 과 기판 가압부 (32) 가 접하고 있지만, 전자와의 접촉 개소는 지지링 (41) 의 형상으로부터 결정되는 원둘레 형상의 영역뿐이고, 후자와의 접촉 영역은 상면 (511) 의 둘레 가장자리부뿐이다. 또한, 대향 기판 (52) 에는 아무것도 접하지않는다. 이 때문에, 본 실시형태의 기판 간격 조정 방법에 의하면, 복합 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있다. As shown in FIG. 7E, the support ring 41 and the substrate pressurizing portion 32 are in contact with the element substrate 51 at the time of adjusting the substrate gap. Only the region of the circumference shape determined from the shape, and the contact area with the latter is only the peripheral edge of the upper surface 511. Further, nothing is in contact with the counter substrate 52. For this reason, according to the board | substrate spacing adjustment method of this embodiment, the board | substrate spacing corresponding to the gathered area | region can be adjusted at once, without damaging or damaging a composite substrate.

(C. 액정 표시 장치의 제조 방법) (C. Manufacturing Method of Liquid Crystal Display)

계속해서, 상술한 기판 간격 조정 방법을 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법에 대해서, 도 8 을 참조하여 설명한다. 도 8 은, 본 실시형태의 액정 표시 장치의 제조 순서를 도시하는 공정도이다. 도 8 에 있어서, 공정 P11 내지 공정 P14 는 소자 기판 (51) 을 형성하는 공정이고, 공정 P21 내지 공정 P23 은 대향 기판 (52) 을 형성하는 공정이다. 공정 P31 내지 공정 P36 은, 소자 기판 (51) 및 대향 기판 (52) 을 조합하여 액정 표시 장치 (100) 를 완성하는 공정이다. 공정 P11 내지 공정 P14, 및 공정 P21 내지 공정 P23 은, 각각 독립적으로 실시된다. Next, the manufacturing method of the liquid crystal display device containing the above-mentioned substrate gap adjustment method is demonstrated with reference to FIG. 8 is a flowchart showing a manufacturing procedure of the liquid crystal display device of the present embodiment. 8, steps P11 to P14 are steps for forming the element substrate 51, and steps P21 to P23 are steps for forming the counter substrate 52. Steps P31 to P36 are the steps of completing the liquid crystal display device 100 by combining the element substrate 51 and the counter substrate 52. Step P11 to step P14 and step P21 to step P23 are each independently performed.

공정 P11 은, 소자 기판 (51) 의 바탕이 되는 원반 형상의 석영 유리 기판의 표면에, TFT 소자, 금속 배선, 투명 전극을 포함하는 구성 요소를 적층하여 형성하는 공정이다. 한 장의 석영 유리 기판에는, 복수의 액정 표시 장치 (100) 에 대응하는 이들 구성 요소가 형성된다. 이 공정은, 예를 들어 포토리소그래피법에 의해서 실시된다. The process P11 is a process of laminating | stacking and forming the component containing TFT element, a metal wiring, and a transparent electrode on the surface of the disk shaped quartz glass substrate used as the base of the element substrate 51. These components corresponding to the some liquid crystal display device 100 are formed in one piece of quartz glass substrate. This process is performed by the photolithographic method, for example.

공정 P12 는, 공정 P11 에 있어서 형성된 구성 요소에 거듭하여, 플렉소 인쇄법에 의해서 폴리이미드로 이루어지는 배향막을 형성하는 공정이다. Step P12 is a step of forming an alignment film made of polyimide by the flexographic printing method by repeating the components formed in step P11.

공정 P13 은, 공정 P12 에 있어서 형성된 배향막의 표면을 천으로 문지르는, 러빙이라고 불리는 공정이다. 러빙 공정을 거친 배향막은, 이것에 접하는 액정을 당해 러빙의 방향에 따라 배향시키는 기능을 갖는다. Step P13 is a step called rubbing which rubs the surface of the alignment film formed in step P12 with cloth. The alignment film which passed through the rubbing process has a function which orientates the liquid crystal contacting this according to the direction of the said rubbing.

공정 P14 는, 공정 P13 에 있어서 러빙이 이루어진 면에, 스크린 인쇄법에 의해서 시일제를 도포하는 공정이다. 시일제는, 대향 기판 (52) 을 부착하는 영역의 둘레 가장자리부에, 후술하는 액정 주입을 위한 주입구가 되는 부분을 제외하여 도포된다. 즉, 시일제는, 주입구로서의 개구부를 갖는 둘레 형상으로 도포된다. 이상의 공정 P11 내지 공정 P14 를 거쳐, 소자 기판 (51) 이 완성된다. Process P14 is a process of apply | coating a sealing compound by the screen printing method to the surface which rubbing was performed in process P13. The sealing agent is applied to the circumferential edge portion of the region to which the opposing substrate 52 is attached, except for the portion that serves as an injection hole for injecting liquid crystal, which will be described later. That is, a sealing compound is apply | coated in the circumferential shape which has an opening part as an injection hole. The element substrate 51 is completed through the above processes P11 to P14.

공정 P21 은, 대향 기판 (52) 의 바탕이 되는 유리 기판의 표면에 투명 전극을 형성하는 공정이다. 이 공정은, 예를 들어 포토리소그래피법에 의해서 실시된다.  Step P21 is a step of forming a transparent electrode on the surface of the glass substrate serving as the base of the counter substrate 52. This process is performed by the photolithographic method, for example.

공정 P22 는, 공정 P21 에 있어서 형성된 투명 전극에 거듭하여, 플렉소 인쇄법에 의해서 폴리이미드로 이루어지는 배향막을 형성하는 공정이다. Step P22 is a step of forming an alignment film made of polyimide by the flexographic printing method by repeating the transparent electrode formed in step P21.

공정 P23 은, 공정 P22 에 있어서 형성된 배향막의 표면을 천으로 문지르는, 러빙이라고 불리는 공정이다. 러빙 공정을 거친 배향막은, 이것에 접하는 액정을 당해 러빙의 방향에 따라 배향시키는 기능을 갖는다. 이상의 공정 P21 내지 공정 P23 을 거쳐, 대향 기판 (52) 이 완성된다. Step P23 is a step called rubbing which rubs the surface of the alignment film formed in step P22 with cloth. The alignment film which passed through the rubbing process has a function which orientates the liquid crystal contacting this according to the direction of the said rubbing. The counter substrate 52 is completed through the above process P21-process P23.

또한, 본 실시형태와 같이, 대향 기판 (52) 을 대각 1 인치 내지 2 인치 정도의 하나의 액정 표시 장치에 대응하는 크기로 제조하는 경우, 큰 유리 기판에 복수의 대향 기판 (52) 에 대응하는 투명 전극 및 배향막을 형성한 후, 즉 공정 (P21, P22) 을 거친 후, 소정의 크기로 절단하여 제조하는 것이 일반적이다. In addition, when manufacturing the opposing board | substrate 52 similarly to this one liquid crystal display device about 1 inch-2 inches diagonally, when manufacturing the opposing board | substrate 52 correspond to the some opposing board | substrate 52 to a large glass substrate. After forming a transparent electrode and an oriented film, ie, passing a process (P21, P22), it is common to cut | disconnect to a predetermined magnitude | size and manufacture.

공정 P31 은, 소자 기판 (51) 에 시일제를 통하여 대향 기판 (52) 을 부착하여, 복합 기판 (50) 을 형성하는 공정이다. 부착은, 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 사이에서 얼라이먼트 (위치 맞춤) 를 한 상태에서 접촉, 압착하고, 그 후 시일제를 건조시켜 실시된다. Process P31 is a process of attaching the opposing board | substrate 52 to the element board | substrate 51 through a sealing compound, and forming the composite substrate 50. FIG. Adhesion is performed by contacting and crimping | bonding in the state which aligned (positioning) between the element substrate 51 and the opposing board | substrate 52, and drying a sealing compound after that.

공정 P32 는, 소자 기판 (51), 대향 기판 (52) 및 시일제에 의해서 둘러싸인 영역에 액정을 주입하는 공정이다. 이 공정은, 진공하에서 상술한 주입구에 액정을 적하하여, 모세관 현상에 의해서 상기 영역에 액정을 도입하여 실시한다. Process P32 is a process of inject | pouring a liquid crystal to the area | region enclosed by the element substrate 51, the opposing board | substrate 52, and a sealing compound. This step is carried out by dropping the liquid crystal into the above-mentioned injection hole under vacuum, and introducing the liquid crystal into the region by capillary action.

공정 P33 은, 기판 간격 조정 장치 (1) 를 사용하여 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 간격을 조정하는 공정이다. 이 공정은, 상술한 공정 P331 내지 공정 P335 를 포함한다. 공정 P331 내지 공정 P335 의 각각에 대해서는 이미 상세히 설명하였기 때문에, 중복을 피하기 위해 여기에서는 설명하지 않는다. Step P33 is a step of adjusting the distance between the element substrate 51 and the counter substrate 52 using the substrate gap adjusting device 1. This process includes the above-mentioned process P331-process P335. Since each of steps P331 to P335 has already been described in detail, it will not be described here to avoid duplication.

공정 P34 는, 공정 P33 에 있어서 기판 간격이 적정한 상태로 조정된 영역에 있어서, 주입구를 밀봉하는 공정이다. 밀봉은, 주입구, 즉 시일제의 개구부에 상당하는 부위에 자외선 경화성 수지를 도포한 후에 자외선을 조사하고, 당해 수지를 경화시켜 실시한다. 공정 P33 에 있어서 기판 간격이 적정히 조정되지 않은 영역에 대해서는 밀봉을 하지 않고, 이전 공정 P33 으로 되돌아가 당해 영역의 기판 간격을 적정한 상태로 조정한 후, 다시 밀봉을 한다. Step P34 is a step of sealing the injection port in a region where the substrate gap is adjusted in an appropriate state in step P33. Sealing is performed by applying ultraviolet curable resin to the injection hole, that is, the portion corresponding to the opening of the sealing agent, and then irradiating ultraviolet rays to cure the resin. In the step P33, the area in which the substrate gap is not properly adjusted is not sealed, and the process is returned to the previous step P33, the substrate gap in the area is adjusted to an appropriate state, and then sealed again.

공정 P35 는, 액정 주입 및 밀봉이 완료된 복합 기판 (50) 을 개개의 액정 표시 장치 (100) 에 대응하는 형상으로 브레이크하여 복합 기판 (50') 을 제조하는 공정이다. 브레이크는, 소자 기판 (51) 의 표면에 스크라이브 홈을 형성하고, 당해 스크라이브 홈의 위치에서 소자 기판 (51) 을 절단하여 실시된다. 복합 기판 (50') 은, 소자 기판 (51) 을 절단하여 얻어지는 소자 기판 (51') 과 대향 기 판 (52) 을 갖는다. Process P35 is a process of manufacturing the composite substrate 50 'by braking the composite substrate 50 in which liquid crystal injection and sealing were completed to the shape corresponding to each liquid crystal display device 100. FIG. The brake is performed by forming a scribe groove on the surface of the element substrate 51 and cutting the element substrate 51 at the position of the scribe groove. The composite substrate 50 'has an element substrate 51' and an opposing substrate 52 obtained by cutting the element substrate 51. As shown in FIG.

공정 P36 은, 공정 P35 에서 얻어진 복합 기판 (50') 에, 외부와 전기적으로 접속하기 위한 FPC (Flexible Printed Circuit; 71 (도 12(a) 참조)), 복합 기판 (50') 의 표면에 이물질이 부착하는 것을 방지하는 방진 유리 (72; 도 12(a) 참조), 및 복합 기판 (50') 의 보호나 방열을 위한 커버 (73; 도 12(b) 참조) 를 실장하는 공정이다. 이상의 공정을 거쳐, 액정 표시 장치 (100) 가 제조된다. Step P36 is a foreign matter on the surface of the composite substrate 50 'and the FPC (Flexible Printed Circuit) 71 (refer to FIG. 12 (a)) for electrically connecting to the composite substrate 50' obtained in step P35. It is a process of mounting the dustproof glass 72 (refer FIG. 12 (a)) which prevents this from sticking, and the cover 73 (refer FIG. 12 (b)) for protection or heat dissipation of the composite board | substrate 50 '. Through the above process, the liquid crystal display device 100 is manufactured.

상술한 바와 같은 액정 표시 장치 (100) 의 제조 방법에 의하면, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정한 상태에서 밀봉을 할 수 있다. 이 특징에 의해, 높은 수율로 액정 표시 장치 (100) 를 제조할 수 있다. 또한, 복수의 단품에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있기 때문에, 짧은 제조 시간으로 액정 표시 장치 (100) 를 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of the liquid crystal display device 100 mentioned above, sealing can be performed in the state which adjusted the board | substrate spacing corresponding to the gathered area | region at once, without damaging or damaging a board | substrate. By this feature, the liquid crystal display device 100 can be manufactured with high yield. In addition, since the board | substrate spacing corresponding to a some single item can be adjusted at once, the liquid crystal display device 100 can be manufactured with a short manufacturing time.

이상, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명하였지만, 상기 실시형태에 대해서는, 본 발명의 취지로부터 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형을 가할 수 있다. 변형예로서는, 예를 들어 이하와 같은 것을 생각할 수 있다. As mentioned above, although embodiment of this invention was described, various deformation | transformation can be added about the said embodiment in the range which does not deviate from the meaning of this invention. As a modification, the following can be considered, for example.

(변형예 1) (Modification 1)

상술한 실시 형태에 있어서의 지지링 (41) 대신에, 지지링 (41) 과 직경이 상이한 지지링을 사용해도 된다. 도 9(a) 는, 지지링 (41) 보다 직경이 큰 지지링 (42) 을 사용했을 때의 기판 간격 조정 장치 (1) 의 평면도이고, 도 9(b) 는, 도 9(a) 중의 B-B 선에 있어서의 단면도이다. 지지링 (42) 은, 직경 이외의 특징은 지지링 (41) 과 동일하다. 이러한 지지링 (42) 에 의해서 복합 기판 (50) 을 지지하고, 기판 가압부 (32) 에 의해 소자 기판 (51) 의 둘레 가장자리부에 힘을 인가하는 경우, 당해 힘을 인가할 때의 지점이 본 실시 형태와 다르다. 이 때문에, 소자 기판 (51) 은, 본 실시 형태와는 다른 상태로 변형하고, 본 실시 형태와 다른 영역에 있어서, 기판 간격을 적정한 상태로 조정할 수 있다. 또, 지지링 (42) 대신에, 지지링 (41) 보다 직경이 작은 지지링을 사용해도 된다. Instead of the support ring 41 in the above-described embodiment, a support ring different in diameter from the support ring 41 may be used. FIG. 9 (a) is a plan view of the substrate gap adjusting device 1 when the support ring 42 having a diameter larger than that of the support ring 41 is used, and FIG. 9 (b) is in FIG. 9 (a). It is sectional drawing in the BB line. The support ring 42 has the same features as the support ring 41 except for the diameter. When the composite substrate 50 is supported by such a support ring 42 and the force is applied to the peripheral edge of the element substrate 51 by the substrate pressing portion 32, the point at which the force is applied is It differs from this embodiment. For this reason, the element substrate 51 can deform | transform in the state different from this embodiment, and can adjust a board | substrate space | interval to an appropriate state in the area | region different from this embodiment. In addition, instead of the support ring 42, a support ring having a smaller diameter than the support ring 41 may be used.

사용하는 지지링의 직경은, 소자 기판 (51) 의 휘어짐 정도를 포함하는 형상적인 특징에 따라 선택할 수 있다. 또는, 동일한 소자 기판 (51) 에 대하여, 우선 임의의 직경을 갖는 지지링을 사용하여 기판 간격을 조정하여 밀봉하고, 여기에서 기판 간격이 적정한 상태로 조정할 수 없었던 영역에 대해서는, 계속해서 상술한 지지링과 직경이 상이한 지지링을 사용하여 조정을 해도 된다. 예를 들어, 우선 지지링 (41) 을 사용하여 기판 간격을 조정하고, 그 후 지지링 (42) 을 사용하여 기판 간격을 조정할 수 있다. 또한, 지지링 (41, 42) 중 어느 것과도 직경이 상이한 지지링을 추가로 사용해도 된다. 본 변형예에 의하면, 여러가지 형상의 소자 기판 (51) 을 갖는 복합 기판 (50) 에 있어서, 넓은 영역에 대하여 기판 간격을 조정할 수 있다. The diameter of the support ring to be used can be selected according to the shape characteristic including the degree of warpage of the element substrate 51. Alternatively, the same device substrate 51 is first sealed by adjusting a substrate gap using a support ring having an arbitrary diameter, and then the support described above is continued for the region where the substrate gap could not be adjusted in an appropriate state. You may make adjustment using the support ring from which a diameter differs from a ring. For example, the substrate spacing can be adjusted first using the support ring 41, and then the substrate spacing can be adjusted using the support ring 42. Moreover, you may further use the support ring from which the diameter differs with any of the support rings 41 and 42. According to this modification, in the composite substrate 50 which has the element substrate 51 of various shapes, a board | substrate spacing can be adjusted with respect to a wide area | region.

(변형예 2) (Modification 2)

상술한 실시 형태에 있어서는, 복합 기판 (50) 을 하나의 지지링 (41) 으로 지지하여 기판 간격을 조정하고 있지만, 직경이 상이한 2 이상의 지지링을 동시에 사용하여 조정할 수도 있다. 도 10(a) 는, 지지링 (41) 및 이보다 직경이 큰 지지링 (42) 을 동시에 사용한 경우의 기판 간격 조정 장치 (1) 의 평면도이고, 도 10(b) 는 도 10(a) 중의 C-C 선에 있어서의 단면도이다. In the above-mentioned embodiment, although the board | substrate spacing is adjusted by supporting the composite substrate 50 with one support ring 41, you may adjust using two or more support rings from which a diameter differs simultaneously. 10 (a) is a plan view of the substrate gap adjusting device 1 when the support ring 41 and the support ring 42 having a larger diameter are used at the same time, and FIG. 10 (b) is shown in FIG. It is sectional drawing in a CC line.

이러한 구성의 기판 간격 조정 장치 (1) 를 사용하여, 복잡한 형상으로 휜 소자 기판 (51) 을 갖는 복합 기판 (50) 에 대하여 기판 간격을 조정하는 방법을 도 11 을 사용하여 설명한다. 도 11(a) 에 있어서, 기판 간격 조정 장치 (1) 내에 고정되어 있는 소자 기판 (51) 은, 전체가 휘어져 있고, 또한 일부에서 그 휘어짐과는 반대의 방향으로 변형된, 복잡한 형상을 갖고 있고, 2 개의 지지링 중, 직경이 작은 지지링 (41) 에 의해서 지지되어 있다. 여기서 기판 가압부 (32) 를 하방향으로 변위시킴으로써, 소자 기판 (51) 에 대하여, 당해 기판과 지지링 (41) 의 접촉 개소를 지점으로 하여 힘을 인가할 수 있다. 이와 같이 소자 기판 (51) 을 변형시키고, 임의의 모여진 영역의 기판 간격을 적정히 조정할 수 있다. 기판 간격이 적정히 조정된 영역에 대해서는, 여기에서 밀봉을 한다. The method of adjusting a board | substrate spacing with respect to the composite board | substrate 50 which has a thin element substrate 51 in a complicated shape using the board | substrate space adjusting apparatus 1 of such a structure is demonstrated using FIG. In FIG. 11A, the element substrate 51 fixed in the substrate gap adjusting device 1 has a complex shape in which the entirety of the element substrate 51 is bent and partially deformed in the opposite direction to the bend. It is supported by the small support ring 41 among two support rings. Here, by displacing the substrate pressurizing portion 32 downward, a force can be applied to the element substrate 51 with the contact point of the substrate and the support ring 41 as a point. In this way, the element substrate 51 can be deformed, and the substrate spacing in any gathered region can be appropriately adjusted. About the area | region in which the board | substrate space | interval was adjusted appropriately, it seals here.

또한, 힘을 인가하여 소자 기판 (51) 을 변형해 가면, 도 11(b) 에 도시된 바와 같이, 소자 기판 (51) 은 지지링 (41) 으로부터 벗어나, 지지링 (41) 보다 직경이 큰 지지링 (42) 과 접하게 된다. 이 때, 소자 기판 (51) 은 당해 기판과 지지링 (42) 의 접촉 개소를 지점으로 하여 힘을 인가받기 때문에, 지지링 (41) 에 접하고 있는 상술한 경우와는 다른 형태로 변형된다. 따라서, 기판 가압부 (32) 의 변위량을 적절히 설정하면, 지지링 (41) 에 접한 상태에 있어서 기판 간격을 조정할 수 없던 영역에 대해서도, 기판 간격을 조정할 수 있다. 이와 같이, 새롭게 기판 간격이 조정된 영역에 대해서는, 여기에서 밀봉을 한다. 이와 같이, 직경이 상이한 2개의 지지링을 사용함으로써, 복잡한 형상으로 휜 소자 기판 (51) 을 갖는 복합 기판 (50) 에 대해서도 기판 간격을 조정할 수 있는 경우가 있다. In addition, when the element substrate 51 is deformed by applying a force, as shown in FIG. 11B, the element substrate 51 deviates from the support ring 41 and has a larger diameter than the support ring 41. It comes in contact with the support ring 42. At this time, the element substrate 51 is deformed to a form different from the above-described case in contact with the support ring 41 because the element substrate 51 receives a force with the contact point between the substrate and the support ring 42 as a point. Therefore, if the displacement amount of the board | substrate press part 32 is set suitably, the board | substrate space | interval can be adjusted also about the area | region where the board | substrate space | interval cannot be adjusted in the state which contacted the support ring 41. FIG. In this way, the region where the substrate spacing is newly adjusted is sealed here. Thus, by using two support rings with different diameters, the board | substrate spacing may be adjusted also with respect to the composite substrate 50 which has the thin element substrate 51 in a complicated shape.

(변형예 3) (Modification 3)

상술한 실시형태는, 마이크로미터 헤드 (33) 를, 외력 인가부의 일 형태인 회전 입력 기구로 하고, 이것을 회전시킴으로써 기판 가압부 (32) 를 변위시키는 구성이지만, 기판 가압부 (32) 가 변위하는 기구 및 당해 변위를 위해 외력을 인가하는 외력 인가부의 구성은 이에 한정되지 않고, 여러가지 것이 사용될 수 있다. Although the above-mentioned embodiment is a structure which makes the micrometer head 33 the rotation input mechanism which is one form of an external force application part, and rotates this, the board | substrate press part 32 is displaced, but the board | substrate press part 32 displaces. The configuration of the mechanism and the external force applying unit for applying the external force for the displacement is not limited to this, and various ones can be used.

예를 들어, 외력 인가부로서의 에어 실린더에 기판 가압부 (32) 를 접속한 구성이어도 된다. 이 경우는, 에어 실린더에 압축 공기를 보냄으로써 외력이 인가되고, 이것에 수반하는 에어 실린더의 동작에 따라 기판 가압부 (32) 가 변위한다. 또는, 외력 인가부로서의 압전 액츄에이터에 기판 가압부 (32) 를 접속한 구성이어도 된다. 이 경우에는, 압전 액츄에이터에 전압을 인가하여 당해 압전 액츄에이터를 변위시킴으로써, 이것에 접속된 기판 가압부 (32) 를 변위시킬 수 있다. For example, the structure which connected the board | substrate press part 32 to the air cylinder as an external force application part may be sufficient. In this case, an external force is applied by sending compressed air to an air cylinder, and the board | substrate press part 32 displaces with the operation | movement of the air cylinder accompanying this. Or the structure which connected the board | substrate press part 32 to the piezoelectric actuator as an external force application part may be sufficient. In this case, the board | substrate press part 32 connected to this can be displaced by applying a voltage to a piezoelectric actuator, and displacing the said piezoelectric actuator.

(변형예 4) (Modification 4)

상술한 실시 형태에서는, 소자 기판 (51) 의 외주가 규정하는 원과, 지지링 (41) 이 규정하는 원이 동심이 되도록 이들을 배치하여 기판 간격을 조정하지만, 상기 원의 중심은 일치하지 않아도 된다. 예를 들어, 중심에 대하여 비대칭으로 휘어져 있는 거의 원형의 소자 기판 (51) 을 포함하는 복합 기판 (50) 에 대하여 기판 간격을 조정하고자 하는 경우, 또는 소자 기판 (51) 의 중심에서 치우친 일부분에 대해서만 기판 간격을 조정하고 싶은 경우 등, 지지링 (41) 을 소자 기판 (51) 의 중심에서 일부러 어긋나게 설치하는 편이 목적에 맞는 경우가 있다. 이러한 경우에는, 지지링 (41) 과 소자 기판 (51) 의 중심을 어긋나게 설치함으로써, 원하는 상태로 기판 간격을 조정할 수 있다. In the above-described embodiment, the substrate spacing is adjusted by arranging them so that the circle defined by the outer periphery of the element substrate 51 and the circle defined by the support ring 41 are concentric, but the centers of the circles do not have to coincide. . For example, when the substrate spacing is to be adjusted with respect to the composite substrate 50 including the nearly circular element substrate 51 which is bent asymmetrically with respect to the center, or only for a portion biased from the center of the element substrate 51. In some cases, it may be appropriate to provide the support ring 41 so as to be shifted from the center of the element substrate 51 on the basis of the purpose, for example, to adjust the substrate spacing. In such a case, the substrate spacing can be adjusted in a desired state by displacing the center of the support ring 41 and the element substrate 51.

(변형예 5) (Modification 5)

상술한 실시 형태에서는, 고리형의 지지대로서 원고리형의 지지링 (41) 을 사용하고, 거의 원형의 소자 기판 (51) 을 포함하는 복합 기판 (50) 에 대하여 기판 간격을 조정하지만, 고리형의 지지대 및 기판의 형상은 이에 한정되지 않고, 용도에 따라 여러 가지 형상이 사용될 수 있다. 예를 들어, 사각고리형의 지지대를 사용하여, 방형의 기판을 포함하는 복합 기판에 대하여 기판 간격을 조정할 수 있다. 이 경우의 기판 가압부 (32) 는, 방형의 기판의 둘레 가장자리부에 접촉 가능한 형상으로 구성된다. 본 발명에 있어서의「고리형의 지지대」는, 닫힌 둘레를 이루는 것이면 그 형상에 관계없이, 상술한 원고리형, 사각고리형 외에도, 육각고리형, 팔각고리형 등 여러 가지 형상을 사용할 수 있다. In the above-described embodiment, although the circular support ring 41 is used as the annular support, the substrate spacing is adjusted with respect to the composite substrate 50 including the almost circular element substrate 51. The shape of the support and the substrate is not limited thereto, and various shapes may be used depending on the application. For example, the board | substrate spacing can be adjusted with respect to the composite board | substrate containing a rectangular board | substrate using the square-ring support stand. The board | substrate press part 32 in this case is comprised by the shape which can contact the peripheral part of a rectangular board | substrate. In the present invention, as long as it has a closed circumference, various shapes such as hexagonal ring and octagonal ring can be used in addition to the above-described circular ring and square ring type regardless of the shape.

(변형예 6) (Modification 6)

상기 실시 형태는, 기판 부착 후에 액정을 주입하고, 그 후 시일제의 개구부를 밀봉하여 액정을 봉입하는 것이지만, 그 대신, 밀봉 작업이 불필요한 액정 적하 방식에 의해서 액정을 봉입할 수도 있다. The said embodiment injects a liquid crystal after affixing a board | substrate, and after that seals the opening part of a sealing compound, and encapsulates a liquid crystal, Instead, a liquid crystal can also be encapsulated by the liquid crystal dropping method which does not require sealing operation.

여기에서, 액정 적하 방식에 관해서, 도 13 의 단면도를 사용하여 설명한다. 우선, 소자 기판 (51) 상의 닫힌 둘레 형상의 영역에 시일제 (91) 를 도포하고, 당 해 시일제 (91) 로 둘러싸인 부위에 적절한 분량의 액정 (90) 을 적하한다 (도 13(a)). 다음으로, 대향 기판 (52) 을 소자 기판 (51) 에 시일제 (91) 를 통하여 부착시킨다 (도 13(b)). 이에 의해, 액정 (90) 은 소자 기판 (51), 대향 기판 (52), 시일제 (91) 에 의해서 둘러싸인 영역에 봉입된다. 시일제 (91) 가 닫힌 둘레 형상으로 도포되어 있고, 개구부를 갖지 않기 때문이다. 상술한 적절한 액정 (90) 의 분량이란, 이와 같이 봉입된 상태로 기판 사이의 액정 (90) 이 알맞은 두께의 층이 되는 분량이다. Here, the liquid crystal dropping method is demonstrated using sectional drawing of FIG. First, the sealing agent 91 is apply | coated to the closed periphery area | region on the element substrate 51, and the appropriate amount of liquid crystal 90 is dripped at the site | part enclosed with the sealing agent 91 (FIG. 13 (a)). ). Next, the opposing substrate 52 is attached to the element substrate 51 via the sealing agent 91 (Fig. 13 (b)). Thereby, the liquid crystal 90 is enclosed in the area | region enclosed by the element substrate 51, the opposing board | substrate 52, and the sealing compound 91. As shown in FIG. This is because the sealing agent 91 is applied in a closed circumferential shape and does not have an opening. The quantity of the appropriate liquid crystal 90 mentioned above is a quantity which the liquid crystal 90 between board | substrates turns into a layer of suitable thickness in the state enclosed in this way.

본 변형예에 의한 액정 표시 장치의 제조 방법에 대해서, 도 14 의 공정도를 참조하여 설명한다. 본 변형예의 제조 방법은, 상기 실시 형태의 제조 방법 (도 8 참조) 과, 후술하는 점에서만 상이하다. 즉, 대향 기판 (52) 이 소자 기판 (51) 과 거의 동일한 크기의 기판이고, 복수의 액정 표시 장치 (100) 에 대응하는 구성 요소가 형성되어 있는 점, 공정 P14 에 있어서 시일제를 도포하는 영역이 다른 점, 공정 P14 후에 액정 적하 공정 (공정 P15) 을 갖는 점, 공정 P31 의 기판 부착 공정 후에 액정 주입 공정이 없는 점, 공정 P33 의 기판 간격 조정 공정 후에 밀봉 공정이 없는 점들이다. 이하, 이들의 차이점을 중심으로 설명한다. The manufacturing method of the liquid crystal display device by this modification is demonstrated with reference to the process diagram of FIG. The manufacturing method of this modification is different only in the manufacturing method (refer FIG. 8) of the said embodiment, and the point mentioned later. That is, the opposing board | substrate 52 is a board | substrate of substantially the same size as the element substrate 51, and the component corresponding to the some liquid crystal display device 100 is formed, and the area | region which apply | coats a sealing compound in process P14. These are the differences, the liquid crystal dropping step (step P15) after step P14, the liquid crystal injection step after the substrate attaching step of step P31, and the point of no sealing step after the substrate gap adjusting step of step P33. Hereinafter, description will be given focusing on these differences.

소자 기판 (51) 의 제조 공정 중, 공정 P11 내지 공정 P13 까지는, 상기 실시 형태와 동일하게 실시된다. 계속되는 공정 P14 는, 공정 P13 에 있어서 러빙이 이루어진 면에, 스크린 인쇄법 또는 디스펜서 도포법에 의해서 시일제 (91) 를 도포하는 공정이다. 시일제 (91) 는, 대향 기판 (52) 을 부착하는 영역의 둘레 가장자리부에, 닫힌 둘레 형상으로, 즉 주입구로서의 개구부를 형성하지 않고 도포된다. In the manufacturing process of the element substrate 51, process P11 to process P13 are implemented similarly to the said embodiment. Subsequent process P14 is a process of apply | coating the sealing compound 91 by the screen printing method or the dispenser application method to the surface which rubbing was performed in process P13. The sealing agent 91 is applied to the peripheral edge part of the area | region which affixes the opposing board | substrate 52 in a closed peripheral shape, ie, without forming the opening part as an injection hole.

다음으로, 공정 P15 에서는, 소자 기판 (51) 상의 시일제 (91) 로 둘러싸인 부위에 액정 (90) 을 적하한다. 이 공정은, 액정 토출 장치에 의해서 액정 (90) 을 적하함으로써 실시된다. 액정 (90) 의 적하량은, 상술한 바와 같이, 후에 대향 기판 (52) 이 부착된 때에 기판 사이의 액정 (90) 이 알맞은 두께의 층으로 되는 분량이다. 이상의 공정 P11 내지 공정 P15 를 거쳐, 소자 기판 (51) 이 완성된다. Next, in the process P15, the liquid crystal 90 is dripped at the site | part enclosed with the sealing compound 91 on the element substrate 51. This step is performed by dropping the liquid crystal 90 by the liquid crystal discharge device. As described above, the dropping amount of the liquid crystal 90 is a quantity such that the liquid crystal 90 between the substrates becomes a layer having a suitable thickness when the counter substrate 52 is later attached. The element substrate 51 is completed through the above processes P11 to P15.

공정 P21 내지 공정 P23 까지의 대향 기판 (52) 의 제조 공정은, 상기 실시형태와 동일하게 실시된다. The manufacturing process of the opposing board | substrate 52 from process P21 to process P23 is performed similarly to the said embodiment.

공정 P31 에서는, 소자 기판 (51) 에 시일제 (91) 를 통하여 대향 기판 (52) 을 부착하고, 복합 기판 (50) 을 형성한다. 이 공정에서는, 상술한 바와 같이 액정 (90) 의 봉입도 동시에 실시되게 된다. In step P31, the counter substrate 52 is attached to the element substrate 51 via the sealing agent 91 to form a composite substrate 50. In this step, the sealing of the liquid crystal 90 is also performed simultaneously as described above.

계속되는 공정 P33 은, 기판 간격 조정 장치 (1) 를 사용하여 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 간격을 조정하는 공정이다. 이 공정은, 상술한 공정 P331 내지 공정 P335 를 포함한다. 공정 P331 내지 공정 P335 의 각각에 대해서는 이미 상세히 설명하였기 때문에, 중복을 피하기 위해 여기에서는 설명하지 않는다. 이 공정 P33 에 있어서, 소자 기판 (51) 또는 대향 기판 (52) 에 힘을 인가하여 미소량 변형시킴으로써, 소자 기판 (51) 과 대향 기판 (52) 의 기판 간격이 조정된다. 공정 P33 은, 공정 P31 의 기판 부착 공정과 병행하여 실시해도 된다. Subsequent process P33 is a process of adjusting the space | interval of the element board | substrate 51 and the opposing board | substrate 52 using the board | substrate space adjusting device 1. This process includes the above-mentioned process P331-process P335. Since each of steps P331 to P335 has already been described in detail, it will not be described here to avoid duplication. In this step P33, the substrate gap between the element substrate 51 and the opposing substrate 52 is adjusted by applying a force to the element substrate 51 or the opposing substrate 52 to form a small amount of deformation. Step P33 may be performed in parallel with the substrate attaching step of step P31.

나머지 공정 P35 및 공정 P36 은, 상기 실시형태와 동일하게 실시된다. 다만, 공정 P35 에 있어서의 브레이크는, 소자 기판 (51) 및 대향 기판 (52) 의 쌍방을 절단함으로써 실시된다. 이상의 공정을 거쳐, 액정 표시 장치 (100) 가 제조된다. The remaining steps P35 and P36 are performed in the same manner as in the above embodiment. However, the brake in step P35 is performed by cutting both the element substrate 51 and the opposing substrate 52. Through the above process, the liquid crystal display device 100 is manufactured.

상술한 바와 같은 액정 표시 장치 (100) 의 제조 방법에 의하면, 액정 적하 방식에 의해서 액정 (90) 을 기판 사이에 봉입하는 기법을 이용한 경우에 있어서, 소자 기판 (51) 내의 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 또한 한번에 조정할 수 있다. 이 특징에 의해, 높은 수율로 액정 표시 장치 (100) 를 제조할 수 있다. 또한, 복수의 단품에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있기 때문에, 짧은 제조 시간으로 액정 표시 장치 (100) 를 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of the liquid crystal display device 100 mentioned above, when the technique of encapsulating the liquid crystal 90 between substrates by the liquid crystal dropping method is used, the board | substrate corresponding to the gathered area | region in the element substrate 51 is used. The spacing can be adjusted at once without breaking or damaging the substrate. By this feature, the liquid crystal display device 100 can be manufactured with high yield. In addition, since the board | substrate spacing corresponding to a some single item can be adjusted at once, the liquid crystal display device 100 can be manufactured with a short manufacturing time.

이러한 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 액정 적하 방식에 의해 액정을 기판 사이에 밀봉하는 기법을 사용한 경우, 제 1 기판 내의 모여진 영역에 대응하는 기판 간격을, 기판을 파손 또는 오손하지 않고, 또한 한번에 조정할 수 있다. 이 특징에 의해, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 높은 수율로 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. 또한, 복수의 단품에 대응하는 기판 간격을 한번에 조정할 수 있기 때문에, 짧은 제조 시간으로 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of such a liquid crystal display device, when the technique of sealing a liquid crystal between substrates by the liquid crystal dropping method is used, the board | substrate space | interval corresponding to the gathered area | region in a 1st board | substrate does not break or damage a board | substrate at once, I can adjust it. According to this feature, according to the manufacturing method of the liquid crystal display device which concerns on this invention, a liquid crystal display device can be manufactured with high yield. Moreover, since the board | substrate spacing corresponding to a some single item can be adjusted at once, a liquid crystal display device can be manufactured with a short manufacturing time.

Claims (11)

제 1 기판, First substrate, 상기 제 1 기판에 대향하여 시일제를 통하여 부착된, 상기 제 1 기판보다 면적이 작은 제 2 기판, 및A second substrate having a smaller area than the first substrate, which is attached to the first substrate via a sealing agent, and 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 및 상기 시일제에 의해서 둘러싸인 공간에 주입된 액정을 갖는 복합 기판에 있어서의, 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 간격을 조정하기 위한 기판 간격 조정 장치로서, As a substrate spacing device for adjusting the space | interval of a said 1st board | substrate and a said 2nd board | substrate in the composite board | substrate which has the liquid crystal injected in the space enclosed by the said 1st board | substrate, the said 2nd board | substrate, and the said sealing compound. , 탑재부를 갖는 제 1 기부; A first base having a mount; 상기 탑재부 상에 탑재되고, 상기 제 1 기판의 2 개의 면 중 상기 제 2 기판이 부착된 제 1 면과는 반대측의 제 2 면과 접하여 상기 복합 기판을 지지하는 고리형의 지지대;An annular support mounted on the mounting portion and supporting the composite substrate in contact with a second surface of the two surfaces of the first substrate opposite to the first surface to which the second substrate is attached; 상기 지지대가 규정하는 평면과 교차하는 제 1 방향의 가동 범위를 갖고, 당해 가동 범위 중 어느 하나의 위치에 있어서, 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접하는 기판 가압부; 및 A substrate pressing portion having a movable range in a first direction that intersects the plane defined by the support, and in contact with the first substrate at a peripheral edge portion of the first surface at any one of the movable ranges; And 상기 기판 가압부가 상기 가동 범위로 변위하기 위한 힘을, 당해 기판 가압부에 전달하는 외력 인가부를 구비하고, An external force applying unit for transmitting a force for displacing the substrate pressing unit to the movable range, the substrate pressing unit 상기 둘레 가장자리부는, 상기 제 1 방향에서 보아 상기 지지대의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치. The peripheral edge portion is located on the outside of the support as viewed in the first direction, substrate spacing device. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 둘레 가장자리부의 상이한 개소를 가압 가능한, 2 이상의 상기 기판 가압부를 구비하고, It is provided with the 2 or more said board | substrate pressurization parts which can press different locations of the said peripheral edge part, 상기 기판 가압부 각각은, 서로 독립적으로 변위하는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치.Each of the substrate pressing portions is displaced independently of each other. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 지지대는 원고리형이고, The support is circular, 상기 복수의 기판 가압부는, 상기 제 1 기판과의 접촉 영역이 내주측에서 호 형상이 되는 형상을 갖고, The plurality of substrate pressing portions have a shape in which a contact region with the first substrate becomes an arc shape on an inner circumferential side, 상기 호 형상의 부분은 상기 지지대가 규정하는 원과 동심인 하나의 원의 일부와 거의 동일한 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치. And said arc-shaped portion is substantially equal to a portion of one circle concentric with the circle defined by said support. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 접촉 영역의 상기 호 형상을 이루는 부분 각각의 길이는, 각각 거의 동일한 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치. The length of each arc-shaped part of the said contact area | region is substantially the same, respectively, The board | substrate gap adjusting apparatus. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 지지대는 원고리형이고, 직경이 상이한 복수개 구비되고 있는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치.The said support stand is circular-type, and is provided with the several pieces from which the diameter differs. The board | substrate gap adjusting apparatus characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 1 기부에 착탈 가능하고 고리형을 이루는 제 2 기부를 더 구비하고, And a second base detachable from the first base and formed in an annular shape, 상기 기판 가압부는, 상기 가동 범위에서의 변위가 가능하도록, 상기 제 2 기부에 대하여 상대 이동 가능하게 부착되고, The substrate pressing portion is attached to be movable relative to the second base such that displacement in the movable range is possible, 상기 외력 인가부는, 회전 가능하고, 당해 회전이 상기 기판 가압부의 상기 제 2 기부에 대한 변위로 변환되는 회전 입력 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치. And the external force applying unit is rotatable and includes a rotational input mechanism in which the rotation is converted into a displacement with respect to the second base of the substrate pressurizing unit. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 회전 입력 기구를 유지하는 핸드, 및 A hand holding the rotation input mechanism, and 상기 핸드에 회전 구동력을 부여하는 모터를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치. And a motor for imparting rotational driving force to the hand. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 기판 간격 조정 장치는,The substrate gap adjusting device, 제 1 편광판; A first polarizing plate; 제 2 편광판; 및 A second polarizer; And 광원을 추가로 구비하고, Further provided with a light source, 상기 탑재부는 투광성을 갖고, The mounting portion is light-transmissive, 상기 광원으로부터 출사된 광의 일부가, 상기 제 1 편광판, 상기 탑재부, 상기 복합 기판, 상기 제 2 편광판을 순서대로 투과하는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 장치. A part of the light radiate | emitted from the said light source permeate | transmits the said 1st polarizing plate, the said mounting part, the said composite substrate, and the said 2nd polarizing plate in order. 제 1 기판, First substrate, 상기 제 1 기판에 대향하여 시일제를 통하여 부착된, 상기 제 1 기판보다 면적이 작은 제 2 기판, 및 A second substrate having a smaller area than the first substrate, which is attached to the first substrate via a sealing agent, and 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 및 상기 시일제에 의해서 둘러싸인 공간에 주입된 액정을 갖는 복합 기판에 있어서의, 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 간격을 조정하기 위한 기판 간격 조정 방법으로서, As a board | substrate spacing adjustment method for adjusting the space | interval of the said 1st board | substrate and the said 2nd board | substrate in the composite substrate which has the liquid crystal inject | poured in the space enclosed by the said 1st board | substrate, the said 2nd board | substrate, and the said sealing compound. , 제 1 기부의 탑재부 상에 탑재된 고리형의 지지대 상에, 상기 제 1 기판의 2개의 면 중 상기 제 2 기판이 부착된 제 1 면과는 반대측의 제 2 면이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 제 1 공정; On the annular support mounted on the mounting portion of the first base, the composite has a second surface opposite to the first surface on which the second substrate is attached, of the two surfaces of the first substrate, in contact with the support. A first step of installing a substrate; 상기 지지대가 규정하는 평면과 교차하는 방향의 가동 범위를 갖는 기판 가압부를, 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접촉시키는 제 2 공정; 및 A second step of bringing a substrate pressing portion having a movable range in a direction intersecting a plane defined by the support to contact the first substrate at a peripheral edge portion of the first surface; And 상기 기판 가압부를, 상기 제 1 면으로부터 상기 제 2 면으로 향하는 방향으로 가압하는 제 3 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 간격 조정 방법. And a third step of pressing the substrate pressing portion in a direction from the first surface to the second surface. 제 1 기판 상에, 당해 제 1 기판보다 면적이 작은 제 2 기판을, 상기 제 1 기판에 대향하도록 시일제를 통하여 부착하는 공정;Attaching, on the first substrate, a second substrate having a smaller area than the first substrate via a sealing agent so as to face the first substrate; 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 및 상기 시일제에 의해서 둘러싸인 공간에, 상기 시일제에 형성된 개구부로부터 액정을 주입하고, 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 상기 시일제, 및 상기 액정을 갖는 복합 기판을 제조하는 공정; A liquid crystal is injected from an opening formed in the sealing agent into a space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the sealing agent, and the first substrate, the second substrate, the sealing agent, and the liquid crystal are Manufacturing a composite substrate having; 고리형의 지지대 상에, 상기 제 1 기판의 2 개의 면 중 상기 제 2 기판이 부착된 제 1 면과는 반대측의 제 2 면이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 공정;Installing the composite substrate on an annular support such that a second surface of the two surfaces of the first substrate opposite to the first surface to which the second substrate is attached is in contact with the support; 상기 지지대가 규정하는 평면과 교차하는 방향의 가동 범위를 갖는 기판 가압부를, 상기 제 1 면의 둘레 가장자리부에서 상기 제 1 기판과 접촉시키는 공정; Contacting the substrate pressing portion having a movable range in a direction crossing the plane defined by the support, with the first substrate at the peripheral edge portion of the first surface; 상기 기판 가압부를, 상기 제 1 면으로부터 상기 제 2 면으로 향하는 방향으로 가압하여 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 기판 간격을 조정하는 공정; 및 Pressing the substrate pressing portion in a direction from the first surface to the second surface to adjust a substrate gap between the first substrate and the second substrate; And 상기 개구부를 밀봉하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치 제조 방법. And sealing the opening. 제 1 기판 상에, 닫힌 둘레 형상의 영역에 시일제를 도포하는 공정; Applying a sealing agent to a closed circumferential region on the first substrate; 상기 제 1 기판 상으로서, 상기 시일제로 둘러싸인 부위에 액정을 적하하는 공정; Dropping liquid crystal onto a portion surrounded by the sealing agent on the first substrate; 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 대향하도록 상기 시일제를 통하여 부착하고, 상기 제 1 기판, 상기 제 2 기판, 상기 시일제, 및 상기 액정을 갖는 복합 기판을 제조하는 공정; Attaching a second substrate through the sealing agent so as to face the first substrate, and manufacturing a composite substrate having the first substrate, the second substrate, the sealing agent, and the liquid crystal; 고리형의 지지대 상에, 상기 제 1 기판이 당해 지지대에 접하도록 상기 복합 기판을 설치하는 공정; Installing the composite substrate on an annular support such that the first substrate is in contact with the support; 상기 지지대가 규정하는 평면과 교차하는 제 1 방향의 가동 범위를 갖는 기판 가압부를, 상기 제 2 기판과 접촉시키는 공정; 및 Contacting the substrate pressing portion having a movable range in a first direction crossing the plane defined by the support, with the second substrate; And 상기 기판 가압부를, 상기 제 2 기판측으로부터 상기 제 1 기판측으로 가압하여 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판의 기판 간격을 조정하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치 제조 방법. And pressing the substrate pressing portion from the second substrate side to the first substrate side to adjust a substrate gap between the first substrate and the second substrate.
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