KR100779083B1 - Plastic micro heating system, lap-on-a-chip using the same micro heating system, and method of fabricating the same micro heating system - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 공정, 특히 포토 리소그라피 공정을 이용할 수 있는 내열성 및 표면 편평도를 가지면서도 열 질량이 적은 플라스틱 구조체를 이용하여 형성된 미세가열 시스템, 그 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩 및 그 미세가열 시스템을 제조방법을 제공한다. 그 미세가열 시스템은 플라스틱(plastic) 필름 및 플라스틱 필름에 코팅된 내화학성 및 내열성의 박막을 구비한 플라스틱 구조체; 및 플라스틱 구조체 상에 형성된 미세 전극 및 가열기(heater)를 구비한 가열기부;를 포함한다. 본 발명의 미세가열 시스템은 플라스틱 필름에 무기 및/또는 유기물 박막을 코팅함으로써, 포토 리소그라피 공정을 통해 미세 전극, 가열기 및 온도 센서 등이 용이하게 형성될 수 있다.The present invention provides a micro heating system formed using a plastic structure having low heat mass and heat resistance and surface flatness that can use a semiconductor process, especially a photolithography process, a lab-on-a-chip using the micro heating system, and a micro heating system thereof. It provides a manufacturing method. The microheating system comprises a plastic structure having a plastic film and a chemical resistant and heat resistant thin film coated on the plastic film; And a heater unit having a fine electrode and a heater formed on the plastic structure. In the micro heating system of the present invention, by coating an inorganic and / or organic thin film on a plastic film, a micro electrode, a heater, a temperature sensor, and the like can be easily formed through a photolithography process.

플라스틱 필름, 플라스틱 가열 시스템, 바이오 칩, 랩온어칩 Plastic film, plastic heating system, biochip, lab-on-a-chip

Description

플라스틱 미세가열 시스템, 그 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩, 및 그 미세가열 시스템의 제조방법{Plastic micro heating system, lap-on-a-chip using the same micro heating system, and method of fabricating the same micro heating system}Plastic micro heating system, lap-on-a-chip using the micro heating system, and manufacturing method of the micro heating system {Plastic micro heating system, lap-on-a-chip using the same micro heating system, and method of fabricating the same micro heating system}

도 1은 본 발명의 미세가열 시스템에 이용되는 플라스틱 구조체에 대한 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a plastic structure used in the microheating system of the present invention.

도 2a ~ 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세가열 시스템에 대한 단면도들이다.2a to 2c are cross-sectional views of the micro heating system according to an embodiment of the present invention.

도 3a ~ 3d는 본 발명의 미세가열 시스템이 실제로 제작된 모습에 대한 사진들이다.3a to 3d are photographs of how the micro heating system of the present invention is actually manufactured.

도 4a ~ 4f는 본 발명의 다른 실시예에 따른 미세가열 시스템의 제조 방법을 보여주는 단면도들이다.4A to 4F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a micro heating system according to another embodiment of the present invention.

도 5a 및 5b는 본 발명의 랩온어칩에 대한 제1 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도 및 사시도이다.5A and 5B are cross-sectional views and perspective views of a microreaction system using a micro heating system according to a first embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 6a 및 6b는 본 발명의 랩온어칩에 대한 제2 실시예에 따른 미세반응 시스템 어레이에 대한 단면도 및 사시도이다.6A and 6B are cross-sectional and perspective views of a microreaction system array according to a second embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 7은 본 발명의 랩온어칩에 대한 제3 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이 용한 미세반응 시스템에 대한 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a microreaction system using a micro heating system according to a third embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 8은 본 발명의 랩온어칩에 대한 제4 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도이다.8 is a cross-sectional view of a microreaction system using a micro heating system according to a fourth embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 9a 및 9b는 본 발명의 랩온어칩에 대한 제5 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도 및 사시도이다.9A and 9B are cross-sectional views and perspective views of a microreaction system using a micro heating system according to a fifth embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 10은 본 발명의 랩온어칩에 대한 제6 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도이다.10 is a cross-sectional view of a microreaction system using a micro heating system according to a sixth embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 11a 및 11b는 본 발명의 플라스틱 구조체를 이용한 마이크로 어레이에 대한 사시도들이다.11A and 11B are perspective views of a micro array using the plastic structure of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 설명><Description of main parts of drawing>

100:플라스틱 구조체 110:플라스틱 필름100: plastic structure 110: plastic film

120:무기물 박막 130:유기물 박막120: inorganic thin film 130: organic thin film

200:가열기부 210,220:미세 전극200: heater 210, 220: fine electrode

230:가열기 240:온도 센서230: Heater 240: Temperature sensor

250:전기 절연막 255:컨택 홈250: electrical insulation film 255: contact groove

260:열 확산용 금속막 270:관통 홀260: heat diffusion metal film 270: through hole

300:지지체 기판 320:접착 물질300: support substrate 320: adhesive material

400,400I,400Ⅱ,400Ⅲ,400a,400b,400c,400d,400e:상부 구조체400,400I, 400Ⅱ, 400III, 400a, 400b, 400c, 400d, 400e: Upper structure

410,410I:상부 구조체 기판 420,420I,420Ⅱ,420Ⅲ:반응 챔버410,410I: upper structure substrate 420,420I, 420II, 420III: reaction chamber

440,440a,440b:지지체 기판 460:상판 기판440, 440a, 440b: support substrate 460: top substrate

470:입구 밸브 475:입구470: inlet valve 475: inlet

480:출구 밸브 485:출구480: outlet valve 485: outlet

500:마이크로 어레이 자리 520:탐침자500: microarray seat 520: probe

본 발명은 미세 전자기계 시스템(Micro Electro-Mechanical System:MEMS)에 관한 것으로, 특히 포토 리소그라피 공정이 가능하고, 열 질량이 낮아 가열 시에 저전력으로 동작할 수 있는 미세가열 시스템, 그 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩 및 그 미세가열 시스템의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micro electro-mechanical system (MEMS), and more particularly to a micro heating system capable of operating a photolithography process and having a low thermal mass and operating at low power during heating. The present invention relates to a lab-on-a-chip and a method of manufacturing the micro heating system.

미세 전자기계 시스템 분야에서, 특히 랩온어칩(Lap-On-a-Chip)이라고도 불리는 바이오 칩을 사용하는 의료용 질병 진단용 마이크로 소자 분야는 소형화, 저가격화, 그리고 실시간 진단이 가능하다는 장점 때문에 크게 연구가 진행되고 있는 중이다.In the field of microelectromechanical systems, in particular, medical disease diagnosis microdevices using biochips, also called Lap-On-a-Chip, have been greatly studied due to the advantages of miniaturization, low cost, and real-time diagnosis. It's going on.

랩온어칩으로 사용되기 위해서는 휴대용 배터리에 적합하도록 저전력 소모와 실시간 진단을 위한 분석 시간의 단축이 필요하다. 이를 위하여, 열적으로 고립이 가능하면서도, 열 질량이 적은 구조물의 설계 및 제작이 필요하다. To be used as a lab-on-a-chip, low power consumption and shorter analysis times for real-time diagnostics are required for portable batteries. To this end, it is necessary to design and fabricate a structure that is thermally isolated but has a low thermal mass.

예컨대, 디엔에이(DNA) 랩온어칩의 경우 DNA를 처리하는 과정에서 가열하는 작업이 많이 필요한데, 특히 세포 분해(cell lysis), PCR(polymerase chain reaction)에서 주로 사용하는 DNA 증폭, 반응 조절(reaction control), 또는 유체 이송 등에서 40 ~ 100 ℃ 정도로 열을 가열하는 작업이 요구된다. 이러한 작업을 위한 미세가열소자들은, 주로 실리콘 또는 유리를 이용하여 제작되고 있다. 특히, 미세가열소자들은 실리콘을 소재로 하여 반도체 공정 기술을 적용하여 제작되는데, 그 이유는 반도체 공정 기술이 현실적으로 안정적으로 잘 확립되어 있고 미세 패턴의 형성이 가능하기 때문이다.For example, DNA lab-on-a-chip requires a lot of heating during DNA processing. Especially, DNA amplification and reaction control are mainly used in cell lysis and PCR (polymerase chain reaction). ), Or to heat the heat to about 40 ~ 100 ℃ in fluid transfer, etc. is required. Micro heating elements for this operation are mainly manufactured using silicon or glass. In particular, the micro heating devices are fabricated by applying a semiconductor process technology using silicon as a material, because the semiconductor process technology is realistically well established and a fine pattern can be formed.

그러나 실리콘을 이용하는 경우 성능은 뛰어날 수 있으나, 반도체 공정이 가능한 고청도의 실험실과 고비용의 장비들이 이용되기 때문에 제작비용이 높고, 시간이 많이 소요되어 일회용 의료 진단 도구로 사용되기에는 문제점이 있다.However, if silicon is used, the performance can be excellent, but because the high-purity lab and the expensive equipment that can be used in the semiconductor process is used, the manufacturing cost is high, and it takes a lot of time, so there is a problem that it is used as a disposable medical diagnostic tool.

한편, 유리 기판을 이용하는 경우에는, 유리 기판을 가공하기 어렵기 때문에, 열 질량이 작은 가열 박막을 제작하기가 어렵고, 그에 따라 전력 소모가 크고, 반응 속도가 아주 느려서 별도의 PID(proportional-integrate-derivative) 제어기를 부착해야 하는 문제점이 있다.On the other hand, when using a glass substrate, since it is difficult to process a glass substrate, it is difficult to produce a heating thin film with a small thermal mass, and accordingly, power consumption is large and reaction rate is very slow, and a separate PID (proportional-integrate-) derivative) There is a problem to attach a controller.

이에 실리콘 또는 유리에서와 같은 동일한 열적 특성을 가지면서도, 가격 면에서 저렴하고, 가공성이 용이하여 실리콘과 유리를 대체할 수 있는 다른 소재의 개발이 절실히 요구되고 있다.Therefore, there is an urgent need for the development of other materials that have the same thermal properties as in silicon or glass, but are inexpensive in terms of cost and easy to process so that silicon and glass can be replaced.

범용 의료 진단기의 경우 일반적으로 일회용이 선호되는데, 그에 따라 최근에 실리콘 또는 유리와 같은 재료에 비해 상대적으로 가격이 저렴한 플라스틱을 이용하려는 연구가 특히 주목을 받고 있다.Disposable is generally preferred for general-purpose medical diagnostics, and thus, recent research has been particularly focused on using plastics which are relatively inexpensive compared to materials such as silicon or glass.

플라스틱은 가격이 저렴하고, 가공이 용이하며, 열전도율이 극히 낮아 가열체 간의 열 간섭이 작은 장점이 있다. 그러나 플라스틱은 열에 약하고, 반도체 공 정 기술과의 호환성 부족, 기판 편평도 유지의 어려움 그리고 열 질량이 적은 구조물을 제작하는 기술의 부재 등의 이유로 플라스틱을 이용한 미세 구조물은 의료용 랩온어칩에서 가열기 또는 가열시스템으로 이용될 수 없었다. Plastics are inexpensive, easy to process, and have very low thermal conductivity, resulting in low thermal interference between heating elements. However, plastics are poor at heat, and due to lack of compatibility with semiconductor process technology, difficulty in maintaining substrate flatness, and the lack of technology to fabricate structures with low thermal mass, microstructures using plastics are used as heaters or heating systems in medical lab-on-a-chips. Could not be used as

위와 같은 플라스틱의 한계 때문에, 현재 랩온어칩에서 플라스틱은 대부분 유체 흐름(microfluidics)을 위한 구조체, 즉 유로, 챔버 등의 구조체 제작에 크게 국한되어 사용되고 있는 추세이다. Due to the above limitations of plastics, plastics in lab-on-a-chip are currently being used mostly in the production of structures for fluid flow (microfluidics), that is, flow paths and chambers.

플라스틱을 가열시스템으로 이용하려면, 내열성, 포토 리소그라피(photolithography) 작업을 가능할 정도의 표면 편평도, 반도체 공정상의 까다로운 조건을 견딜 수 있는 재료 선정 및 그 재료를 이용한 열 질량이 적은 미세 구조물 가공 제작기술이 절실히 요구된다.In order to use plastic as a heating system, heat resistance, surface flatness sufficient for photolithography, material selection capable of withstanding the demanding conditions of semiconductor processing, and microstructure processing technology with low thermal mass using the material are indispensable. Required.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 반도체 공정, 특히 포토 리소그라피 공정을 이용할 수 있는 내열성 및 표면 편평도를 가지면서도 열 질량이 적은 플라스틱 구조체를 이용하여 형성된 미세가열 시스템, 그 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩 및 그 미세가열 시스템을 제조방법을 제공하는 데에 있다.Accordingly, a technical problem to be achieved by the present invention is a micro heating system formed using a plastic structure having low heat mass and heat resistance and surface flatness that can use a semiconductor process, especially a photolithography process, and a wrap-on using the micro heating system. The present invention provides a method for manufacturing a chip and its microheating system.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 플라스틱(plastic) 필름 및 상기 플라스틱 필름에 코팅된 내화학성 및 내열성의 박막을 구비한 플라스틱 구조체; 및 상기 플라스틱 구조체 상에 형성된 미세 전극 및 가열기(heater)를 구비한 가열기부;를 포함하는 플라스틱 미세가열 시스템(micro heating system)을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides a plastic structure comprising a plastic film and a thin film of chemical resistance and heat resistance coated on the plastic film; And a heater unit having a micro electrode and a heater formed on the plastic structure.

본 발명에 있어서, 상기 플라스틱 구조체는 0.1 ~ 50 nm의 표면 편평도를 가지며, 1 ~ 2000 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 또한, 상기 가열기부에는 온도 센서를 포함할 수 있다. 한편, 상기 박막은 무기물 박막 및 유기물 박막 중 적어도 하나의 박막일 수 있으며, 바람직하게는 상기 플라스틱 필름 상면으로 무기물 박막이 코팅되고 상기 무기물 박막 상면과 상기 플라스틱 필름 하면으로 유기물 박막이 코팅될 수 있다.In the present invention, the plastic structure has a surface flatness of 0.1 ~ 50 nm, may have a thickness of 1 ~ 2000 ㎛. In addition, the heater unit may include a temperature sensor. The thin film may be at least one thin film of an inorganic thin film and an organic thin film, and preferably, an inorganic thin film may be coated on the upper surface of the plastic film and an organic thin film may be coated on the upper surface of the inorganic thin film and the lower surface of the plastic film.

이와 같은 무기물 박막 및 유기물 박막은 포토 리소그라피 공정에 내성이 강하여 상부로 포토 리소그라피 공정이 가능하며, 열적 단열 특성이 높고 열 질량이 낮아 열가열 시스템의 하부층으로 적절한 재질을 선택하는 것이 바람직하다.Since the inorganic thin film and the organic thin film are resistant to the photolithography process, the photolithography process is possible at the top, and it is preferable to select an appropriate material as a lower layer of the thermal heating system because of high thermal insulation properties and low thermal mass.

상기 미세가열 시스템은 랩온어칩(lap-on-a-chip)에 이용될 수 있으며, 이러한 랩온어칩은 미소반응시스템, 미세분석시스템, 약물 전달시스템, 및 미세유체 제어시스템 중 어느 하나일 수 있다.The micro heating system may be used in a lap-on-a-chip, which may be any one of a micro reaction system, a microanalysis system, a drug delivery system, and a microfluidic control system. have.

본 발명은 또한 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 상기 미세가열 시스템; 및 상기 미세가열 시스템에 접합된 랩온어칩(lap-on-a-chip)을 형성하는 상부 구조체;를 포함하는 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩을 제공한다.The present invention also to achieve the above technical problem, the micro-heating system; It provides a wrap-on-a-chip using a micro-heating system comprising a; and an upper structure to form a lap-on-a-chip bonded to the micro-heating system.

본 발명에 있어서, 상기 랩온어칩은 미소반응시스템, 미세분석시스템, 약물 전달시스템 및 미세유체 제어시스템 중 어느 하나일 수 있다. 상기 랩온어칩이 미소반응시스템인 경우, 상기 상부 구조체는 반응 챔버 및 반응 챔버에 연결된 유로(micro channel)가 형성된 적어도 하나의 기판일 수 있고, 상기 상부 구조체 상 부로 상기 반응 챔버를 밀폐하는 상기 미세가열 시스템을 더 포함할 수도 있다.In the present invention, the lab-on-a-chip may be any one of a micro reaction system, a microanalysis system, a drug delivery system, and a microfluidic control system. When the lab-on-a-chip is a microreaction system, the upper structure may be a reaction chamber and at least one substrate on which a micro channel connected to the reaction chamber is formed, and the microstructure that seals the reaction chamber over the upper structure. It may further comprise a heating system.

더 나아가 본 발명은 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 플라스틱(plastic) 필름 및 상기 플라스틱 필름에 코팅된 내화학성 및 내열성의 박막을 구비한 플라스틱 구조체; 및 상기 플라스틱 구조체 상에 형성된 마이크로 어레이(micro array) 자리:를 포함하는 마이크로 어레이를 제공한다.Furthermore, the present invention, in order to achieve the above technical problem, a plastic structure having a plastic film and a thin film of chemical and heat resistant coated on the plastic film; And a micro array (micro array) formed on the plastic structure provides a micro array comprising a.

본 발명에 있어서, 상기 마이크로 어레이 자리는 금속으로 형성되거나 상기 미세가열 시스템의 표면을 선택적으로 개질하여 형성될 수 있다. 상기 어레이 자리가 선택적 개질로 형성된 경우는 플라즈마 표면 처리 방법을 통해 형성될 수 있고, 상기 개질된 어레이 자리에는 탐침자(probe)가 선택적으로 배열될 수 있다.In the present invention, the micro array site may be formed of a metal or formed by selectively modifying the surface of the microheating system. When the array site is formed by selective modification, a plasma surface treatment method may be used, and a probe may be selectively arranged on the modified array site.

한편, 본 발명은 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 플라스틱(plastic) 필름 상에 내화학성 및 내열성의 유기물 또는 무기물 박막을 코팅하여 플라스틱 구조체를 형성하는 단계; 상기 플라스틱 구조체를 지지 기판에 고정하는 단계; 및 상기 플라스틱 구조체 상에 미세 전극 및 가열기를 포함하는 가열기부를 형성하는 단계;를 포함하는 미세가열 시스템의 제조방법을 제공한다.On the other hand, the present invention, in order to achieve the above technical problem, a step of forming a plastic structure by coating a thin film of chemical and heat resistant organic or inorganic material on a plastic film; Securing the plastic structure to a support substrate; And forming a heater part including a fine electrode and a heater on the plastic structure.

본 발명에 있어서, 상기 가열기부를 형성하는 단계는 상기 플라스틱 구조체에 전도성 박막을 형성하는 단계; 및 상기 전도성 박막을 패터닝하여 상기 미세 전극 및 가열기를 형성하는 단계;를 포함할 수 있다. 또한, 상기 미세 전극 및 가열기 형성단계 이후에 상기 미세 전극 및 가열기를 덮는 전기 절연막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있고, 전기 절연막 형성단계 이후에는 상기 미세 전극 상부의 상기 전기 절연막 일부를 식각하여 전극 패드를 형성하는 단계를 포함할 수도 있 다. 더 나아가, 전기 절연막 형성단계 이후에 상기 가열기 상부의 절연막 상에 열 확산용 금속막을 형성하는 단계를 포함할 수 있고, 상기 가열기 외곽으로 다수의 관통 홀을 형성하는 단계를 포함할 수도 있다.In the present invention, the forming of the heater unit may include forming a conductive thin film on the plastic structure; And patterning the conductive thin film to form the fine electrode and the heater. The method may further include forming an electrical insulating film covering the microelectrode and the heater after the forming of the microelectrode and the heater, and after forming the electrical insulating layer, a part of the electrical insulating layer on the microelectrode is etched to form an electrode. It may also include forming a pad. Furthermore, after the electric insulating film forming step, the method may include forming a metal film for thermal diffusion on the insulating film above the heater, and may include forming a plurality of through holes outside the heater.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 이하의 설명에서 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소의 상부에 존재한다고 기술될 때, 이는 다른 구성 요소의 바로 위에 존재할 수도 있고, 그 사이에 제3의 구성 요소가 개재될 수도 있다. 또한, 도면에서 각 구성 요소의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되었고, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 한편, 사용되는 용어들은 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention; In the following description, when a component is described as being on top of another component, it may be directly on top of another component, and a third component may be interposed therebetween. In addition, in the drawings, the thickness or size of each component is exaggerated for convenience and clarity, and the same reference numerals in the drawings refer to the same element. On the other hand, the terms used are used only for the purpose of illustrating the present invention and are not used to limit the scope of the invention described in the meaning or claims.

도 1은 본 발명의 미세가열 시스템에 이용되는 플라스틱 구조체에 대한 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a plastic structure used in the microheating system of the present invention.

도 1을 참조하면, 플라스틱 구조체(100)는 플라스틱 기판 또는 플라스틱 필름(110) 상면에 무기물 박막(120)이 코팅되고, 플라스틱 필름(110) 하면과 무기물 박막(120) 상면으로 유기물 박막(130)이 코팅되어 형성된다. Referring to FIG. 1, the plastic structure 100 is coated with an inorganic thin film 120 on a plastic substrate or an upper surface of the plastic film 110, and an organic thin film 130 on the lower surface of the plastic film 110 and the upper surface of the inorganic thin film 120. It is formed by coating.

플라스틱 필름(110)은 COC(cyclo olefin copolymer), PMMA(polymethylmethacrylate), PC(polycarbonate), COP(cyclo olefin polymer), LCP (liquid Crystalline Polymers), PDMS(polydimethylsiloxane), PA(polyamide), PE(polyethylene), PI(polyimide), PP(polypropylene), PPE(polyphenylene ether), PS(polystyrene), POM(polyoxymethylene), PEEK(polyetheretherketone), PES(polyethylenephthalate), PET(polyethylenephthalate), PTFE(polytetrafluoroethylene), PVC(polyvinylchloride), PVDF(polyvinylidene fluoride), PBT(polybutyleneterephthalate), FEP(fluorinated ethylenepropylene), PFA(perfluoralkoxyalkane) 중 적어도 하나의 물질을 포함한 다양한 폴리머 등으로 형성될 수 있다.Plastic film 110 is a cyclo olefin copolymer (COC), polymethylmethacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), cyclo olefin polymer (COP), liquid crystalline polymers (LCP), polydimethylsiloxane (PDMS), polyamide (PA), PE (polyethylene) ), PI (polyimide), PP (polypropylene), PPE (polyphenylene ether), PS (polystyrene), POM (polyoxymethylene), PEEK (polyetheretherketone), PES (polyethylenephthalate), PET (polyethylenephthalate), PTFE (polytetrafluoroethylene), PVC ( It may be formed of various polymers including at least one of polyvinylchloride (PVDF), polyvinylidene fluoride (PVDF), polybutylene terephthalate (PBT), fluorinated ethylenepropylene (FEP), and perfluoralkoxyalkane (PFA).

또한, 이러한 플라스틱 필름(110)은 사출성형(Injection Molding), 압출 성형(Etrusion molding), 핫엠보싱(Hot Embossing), 캐스팅(Casting), 광성형(Stereolithography), 레이저 어블레이션(Laser Ablation), 쾌속조형(Rapid Prototyping), 실크스크린뿐만 아니라, NC(Numerical Control) 머시닝과 같은 전통적인 기계가공법을 이용하여 제작될 수 있다. In addition, the plastic film 110 may include injection molding, extrusion molding, hot embossing, casting, stereolithography, laser ablation, and rapid It can be produced using traditional machining methods such as Rapid Prototyping, Silkscreen, as well as Numerical Control (NC) machining.

무기물 박막(120)은 물유리(water glass) 등을 이용해서 1 ~ 100 μm 두께로 스핀(spin) 또는 스프레이(spray) 코팅법으로 성막할 수 있으며, 50-300℃ 사이의 열처리를 통해 플라스틱 필름(110)의 거친 표면을 아주 평탄하게 해 줄 수 있다. 유기물 박막(130)은 역시 에폭시(epoxy) 수지 등을 이용해서 1 ~ 100 μm 두께로 스핀 또는 스프레이 코팅법으로 성막할 수 있으며, 50-300℃ 사이의 열처리를 통해 플라스틱 필름(110)에 내화학성 및 내열성을 부가할 수 있다.The inorganic thin film 120 may be formed by spin or spray coating to a thickness of 1 to 100 μm using water glass, or the like, and may be formed of a plastic film through heat treatment between 50 and 300 ° C. The rough surface of 110 can be made very flat. The organic thin film 130 may also be formed by spin or spray coating to an thickness of 1 to 100 μm using an epoxy resin and the like, and may be chemically resistant to the plastic film 110 through heat treatment between 50 and 300 ° C. And heat resistance can be added.

이와 같이 무기 및/또는 유기물 박막이 코팅된 플라스틱 구조체(100)는 전체적으로 1 ~ 2000 ㎛ 정도의 두께를 가지도록 형성할 수 있으며, 포토 리소그라피 공정이 용이하도록 0.1 ~ 50 nm의 표면 편평도를 가지도록 형성할 수 있다.As such, the plastic structure 100 coated with the inorganic and / or organic thin film may be formed to have a thickness of about 1 to 2000 μm as a whole, and may be formed to have a surface flatness of 0.1 to 50 nm to facilitate a photolithography process. can do.

플라스틱 구조체(100)는 도 1과 같이 플라스틱 필름(110)에 무기물 박막(120) 및 유기물 박막(130)을 함께 코팅하는 형태로 형성될 수 있지만, 때에 따라 무기물 박막 또는 유기물 박막 하나만을 코팅하거나, 또는 플라스틱 필름(110)의 양면이 아닌 한쪽으로만 코팅하는 형태로 형성될 수도 있다. 또한, 플라스틱 구조체(100)는 플라스틱 필름(110) 상에 얇은 도전성 박막을 형성한 후에 무기물 박막(120) 및/또는 유기물 박막(130)을 코팅할 수도 있다. 이러한 얇은 도전성 박막을 형성함으로써, 플라스틱 구조체(100)를 가열 시스템에 이용하는 경우 가열의 균일성을 향상시킬 수 있다.The plastic structure 100 may be formed in a form in which the inorganic thin film 120 and the organic thin film 130 are coated together on the plastic film 110 as shown in FIG. 1, but sometimes only one inorganic thin film or the organic thin film is coated, Alternatively, the plastic film 110 may be formed in a form in which only one side of the plastic film 110 is coated. In addition, the plastic structure 100 may coat the inorganic thin film 120 and / or the organic thin film 130 after forming a thin conductive thin film on the plastic film 110. By forming such a thin conductive thin film, the uniformity of heating can be improved when the plastic structure 100 is used for a heating system.

플라스틱 구조체(100)는 솔벤트(solvent) 등에 약한 플라스틱 필름(110)에, 재료적으로 내열성 및/또는 내화학성을 가지면서 포토 리소그라피 공정에 사용되는 약품들에 내성을 가지는 액상의 무기물 혹은 유기물 박막을 코팅 및 열처리함으로써, 포토 리소그라피 공정이 가능하고 열적 단열이 되며 열 질량이 낮아 미세가열 시스템의 하부 기판으로 사용될 수 있다. The plastic structure 100 may be formed of a thin film of a liquid inorganic material or an organic material that is resistant to the chemicals used in the photolithography process while being heat resistant and / or chemically resistant to the plastic film 110 that is weak in a solvent. By coating and heat treatment, the photolithography process is possible, thermally insulated and low thermal mass can be used as the lower substrate of the microheating system.

이러한 플라스틱 구조체(100)는 웨이퍼 정도의 크기로 제작될 수 있고, 상부로 포토 리소그라피 고정이 가능하여, 0.01 ㎛ 정도의 두께를 가진 층에 1 ㎛ 정도 선폭을 가진 미세 패턴을 용이하게 제작할 수 있다. 또한, 플라스틱 구조체(100)를 전체적으로 매우 얇게 만들므로써, 열적으로 고립(thermal isolation)되면서도 열 질량이 적어 열 응답 특성이 크게 향상되게 할 수 있다. 그에 따라, 전력 소모가 작고, 반응 속도가 향상된 미세가열 시스템을 제작하는 데에 용이하게 이용될 수 있다.The plastic structure 100 may be manufactured in the size of a wafer, and photolithography may be fixed to the top, so that a fine pattern having a line width of about 1 μm may be easily manufactured on a layer having a thickness of about 0.01 μm. In addition, by making the plastic structure 100 very thin as a whole, it is possible to significantly improve the thermal response characteristics due to the thermal mass while having thermal isolation. Accordingly, it can be easily used to produce a micro heating system with low power consumption and improved reaction speed.

도 2a ~ 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세가열 시스템에 대한 단면도들이다. 2a to 2c are cross-sectional views of the micro heating system according to an embodiment of the present invention.

도 2a를 참조하면, 미세가열 시스템은 도 1의 플라스틱 구조체(100) 상부로 가열기부(200)를 포함하는데, 가열기부(200)는 플라스틱 구조체(100) 상부로 집적된 미세 전극(210,220), 가열기(230,heater) 및 온도 센서(240) 등의 각 소자 및 각 소자 상부로 전기 절연막(250)을 포함한다. 한편, 전극(210,220) 상부의 전기 절연막(250)의 일부가 식각되어 전극 패드 형성을 위한 컨택 홈(255)이 형성되어 있다. 이러한 각 소자 및 컨택 홈(255)은 플라스틱 구조체(100)의 특성에 기인하여 포토 리소그라피 공정을 통해서 형성될 수 있다.Referring to FIG. 2A, the micro heating system includes a heater unit 200 over the plastic structure 100 of FIG. 1, wherein the heater unit 200 includes micro electrodes 210 and 220 integrated onto the plastic structure 100. Each element, such as a heater 230 and a temperature sensor 240, and an electrical insulating layer 250 are disposed on each element. Meanwhile, a portion of the electrical insulating layer 250 on the electrodes 210 and 220 is etched to form contact grooves 255 for forming electrode pads. Each of the devices and the contact grooves 255 may be formed through a photolithography process due to the characteristics of the plastic structure 100.

미세 전극(210,220), 가열기(230) 및 온도 센서(240)는 도전성 물질로 형성할 수 있는데, 예컨대 금속, 전도성 산화막, 또는 접착향상 박막층(glue layer)을 포함하는 도전성 후막 등으로 형성될 수 있다. 전기 절연막(250)은 절연성 물질, 즉 절연성의 금속 산화물 박막, 플라스틱 박막 또는 절연성의 후막 등으로 형성될 수 있다.The fine electrodes 210 and 220, the heater 230, and the temperature sensor 240 may be formed of a conductive material. For example, the fine electrodes 210 and 220, the heater 230, and the temperature sensor 240 may be formed of a metal, a conductive oxide film, or a conductive thick film including an adhesive enhancement layer. . The electrical insulating layer 250 may be formed of an insulating material, that is, an insulating metal oxide thin film, a plastic thin film, or an insulating thick film.

도 2b를 참조하면, 가열기(230) 및 온도 센서(240) 상부의 전기 절연막(250) 상에 열 확산용 금속막(260)이 형성되게 되는데, 이러한 열 확산용 금속막(260)은 가열부, 즉 가열기(230) 및 온도 센서(240)에서 생길 수 있는 국부 가열을 방지하고, 열 균일성을 향상시키는 역할을 할 수 있다.Referring to FIG. 2B, a heat spreading metal film 260 is formed on the heater 230 and the electrical insulating layer 250 on the temperature sensor 240. The heat spreading metal film 260 is a heating unit. That is, it may serve to prevent local heating that may occur in the heater 230 and the temperature sensor 240 and to improve thermal uniformity.

도 2c를 참조하면, 미세가열 시스템은 가열기(230) 및 온도 센서(240), 즉 가열부를 주변과 열적으로 고립시키기 위해서 다수의 관통 홀(270)이 형성될 수 있다. 이러한 관통 홀(270)은 플라스틱 구조체(100)의 재질 및 미세가열 시스템의 용도 등을 적당히 고려하여 적정한 개수로 형성하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 2C, a plurality of through holes 270 may be formed in the micro heating system to thermally isolate the heater 230 and the temperature sensor 240, that is, the heater from the surroundings. The through hole 270 is preferably formed in an appropriate number in consideration of the material of the plastic structure 100 and the use of the micro heating system.

도 3a ~ 3d는 본 발명의 미세가열 시스템이 실제로 제작된 모습에 대한 사진들이다. 3a to 3d are photographs of how the micro heating system of the present invention is actually manufactured.

도 3a 및 3b를 참조하면, 얇은 투명한 플라스틱 구조체(100)에 미세 패턴, 즉 미세 전극, 가열기 및 온도 센서 등이 형성되어 있음을 확인할 수 있다. 이러한 미세 패턴들은 전기 절연막(250)에 의해 도포되어 있어서, 사진상으로는 전기 절연막(250)의 패턴만이 도시되고 있다. 사진 상의 미세가열 시스템은 50 ㎛ 정도 두께의 플라스틱 필름에 30 ㎛ 정도의 무기 박막 및 2 ㎛ 정도의 유기물 박막을 코팅한 플라스틱 구조체(100)를 이용하고 있다.3A and 3B, it can be seen that a fine pattern, that is, a fine electrode, a heater, a temperature sensor, and the like are formed in the thin transparent plastic structure 100. These fine patterns are applied by the electric insulating film 250, so only the pattern of the electric insulating film 250 is shown in the photograph. The micro heating system in the photograph uses a plastic structure 100 coated with an inorganic thin film of about 30 μm and an organic thin film of about 2 μm on a plastic film having a thickness of about 50 μm.

도 3c의 경우, 플라스틱 구조체(100) 상에 포토 리소그라피 공정을 이용하여 5 ㎛ 선폭을 가진 금(gold) 미세 패턴이 형성된 온도 센서(240) 및 20 ㎛ 정도의 선폭을 가진 가열기(230)를 보여주고 있다. 도 3d는 도 3c 와는 다른 부분 패턴에 대한 사진으로, 가열기(230) 및 온도 센서(240)와 가열기(230) 사이에 형성되어 있는 전극(220)의 모습을 볼 수 있다. 3C shows a temperature sensor 240 having a gold micropattern having a 5 μm line width on the plastic structure 100 and a heater 230 having a line width of about 20 μm using a photolithography process. Giving. 3D is a photograph of a partial pattern different from that of FIG. 3C, and the heater 220 and the electrode 220 formed between the temperature sensor 240 and the heater 230 can be seen.

도 3c 및 3d를 통해서, 실리콘이나 유리 기판이 아닌 플라스틱 기판, 즉 플라스틱 구조체(100)에서도 수 ㎛ 정도의 미세 패턴이 포토 리소그라피 공정을 이용하여 충분히 형성될 수 있음을 알 수 있다. 이러한 미세가열 시스템은 플라스틱 구조체(100)의 두께 조절 등을 통해 0.01 ~ 0.5 mm까지 다양한 두께로 형성할 수 있 고, 마이크로 전극 어레이 패턴을 형성함으로써, 하나의 미세가열 시스템 상부로 랩온어칩을 위한 다수의 다양한 상부 구조체를 형성할 수 있다.3C and 3D, it can be seen that a fine pattern of several μm may be sufficiently formed using a photolithography process even on a plastic substrate, that is, a plastic structure 100, not a silicon or glass substrate. Such a micro heating system can be formed in various thicknesses from 0.01 to 0.5 mm by adjusting the thickness of the plastic structure 100, and by forming a micro electrode array pattern, for the wrap-on-a-chip above one micro heating system. Many different superstructures can be formed.

도 4a ~ 4f는 본 발명의 제2 실시예에 따른 미세가열 시스템의 제조 방법을 보여주는 단면도들이다.4A to 4F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a micro heating system according to a second embodiment of the present invention.

도 4a를 참조하면, 먼저 도 1에서 설명한 바와 같이 플라스틱 필름(110)에 무기 및 유기물 박막(120,130)을 코팅하여 플라스틱 구조체(100)를 형성한다. 플라스틱 필름(110)은 앞서 예시한 대로 압출 성형법 등의 다양한 기계공작법을 이용하여 제작할 수 있고, 무기 및 유기물 박막(120,130)은 내열성 및 내화학성의 특성을 가진 재질을 선택하여 스핀 코팅법 등을 통해 적절한 두께로 형성한다. Referring to FIG. 4A, first, the inorganic and organic thin films 120 and 130 are coated on the plastic film 110 to form the plastic structure 100, as described with reference to FIG. 1. The plastic film 110 may be manufactured using various mechanical methods such as extrusion molding as described above, and the inorganic and organic thin films 120 and 130 may be selected through a spin coating method and a material having heat and chemical resistance characteristics. Form to an appropriate thickness.

도 4b를 참조하면, 플라스틱 구조체(100)는 유연성이 큰 플라스틱 재질로 형성되므로, 차후의 포토 리소그라피 공정을 위해, 플라스틱 구조체(100)를 실리콘 또는 유리 웨이퍼와 같은 단단한 지지체 기판(300)에 접착 물질(320) 등을 통해 고정한다. 이러한 접착물질(320)은 탈착 제어가 용이한 접착 물질을 선택하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 4B, since the plastic structure 100 is formed of a highly flexible plastic material, the plastic structure 100 is adhered to a rigid support substrate 300 such as a silicon or glass wafer for the subsequent photolithography process. (320) and the like to fix. The adhesive material 320 is preferably selected an adhesive material that is easy to control the detachment.

도 4c를 참조하면, 플라스틱 구조체(100)에 도전성 박막을 증착하고 포토 리소그라피 공정을 통해 패턴 및 식각을 통해 도전성 박막 패턴을 가진 가열부기(200)를 형성한다. 여기서 형성된 도전성 박막 패턴은 각각 미세 전극(210,220), 가열기(230) 및 온도 센서(240) 등이 될 수 있다. 도전성 박막은 금속, 전도성 산화막 및 접착향상 박막(glue layer)을 포함하는 도전성 후막 등으로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4C, a conductive thin film is deposited on the plastic structure 100, and a heating unit 200 having a conductive thin film pattern is formed through a pattern and an etching through a photolithography process. The conductive thin film patterns formed here may be the fine electrodes 210 and 220, the heater 230, and the temperature sensor 240, respectively. The conductive thin film may be formed of a conductive thick film including a metal, a conductive oxide film, and an adhesive layer.

도 4d를 참조하면, 도전성 박막 패턴 상부로 전기 절연막(250)을 증착한다. 이와 같은 전기 절연막(250)은 도전성 박막 패턴의 외부 공기층과의 차단 또는 인접 패턴 간의 전기적 절연을 위해 형성된다. 전기 절연막(250)은 절연성의 금속 산화물 박막, 플라스틱 박막 및 절연성의 후막 등으로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4D, an electrical insulating layer 250 is deposited on the conductive thin film pattern. The electrical insulating layer 250 is formed to block the external air layer of the conductive thin film pattern or to electrically insulate between adjacent patterns. The electrical insulating layer 250 may be formed of an insulating metal oxide thin film, a plastic thin film, an insulating thick film, or the like.

도 4e를 참조하면, 도전성 박막 패턴 중 미세 전극(210,220) 상부의 전기 절연막(250)의 일부분을 식각하여 전극 패드 형성을 위한 컨택 홈(255)을 형성한다. 이러한 컨택 홈(255)으로 전극 패드가 형성되어 외부로의 컨택 배선이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4E, a portion of the electrical insulating layer 250 on the fine electrodes 210 and 220 of the conductive thin film pattern is etched to form a contact groove 255 for forming an electrode pad. An electrode pad may be formed through the contact groove 255 to form a contact wiring to the outside.

도 4f를 참조하면, 도전성 박막 패턴 중 가열부를 이루는 가열기(230) 및 온도 센서(240) 주변으로 다수의 관통 홀(270)을 형성한다. 이러한 관통 홀(270)은 가열부를 주변과 열적으로 차단하기 위하여 형성한다. 따라서, 열적 차단이 용이하게 구형될 수 있으면, 생략할 수 있음은 물론이다. 이러한 관통 홀은 전술한 바와 같이 플라스틱 구조체(100)의 재질 및 미세가열 시스템의 용도 등을 적당히 고려하여 적정한 개수로 형성하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 4F, a plurality of through holes 270 are formed around the heater 230 and the temperature sensor 240 forming the heating part of the conductive thin film pattern. The through hole 270 is formed to thermally block the heating unit from the surroundings. Therefore, if the thermal shield can be easily spherical, it can of course be omitted. As described above, the through holes are preferably formed in an appropriate number in consideration of the material of the plastic structure 100 and the use of the micro heating system.

도 5a 및 5b는 본 발명의 랩온어칩에 대한 제1 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도 및 사시도이다. 5A and 5B are cross-sectional views and perspective views of a microreaction system using a micro heating system according to a first embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 5a를 참조하면, 미세반응 시스템은 플라스틱 구조체(100) 및 가열기부(200)로 형성된 미세가열 시스템(이하 '하부 구조체'라 한다) 상부로 미세반응 시스템을 위한 상부 구조체(400)를 포함한다. 상부 구조체(400)는 반응 챔버(420)가 형성된 상부 구조체 기판(410)이 하부 구조체에 접합되어 형성된다.Referring to FIG. 5A, the microreaction system includes an upper structure 400 for the microreaction system on top of a micro heating system (hereinafter referred to as a 'lower structure') formed of the plastic structure 100 and the heater portion 200. . The upper structure 400 is formed by bonding the upper structure substrate 410 on which the reaction chamber 420 is formed to the lower structure.

상부 구조체(400)는 미세가열 시스템 상부로 접착 물질(320)을 통해 접합되는데, 이러한 접착 물질은 액체형의 접착 재료뿐만 아니라 분말형이나 종이와 같은 얇은 판 형태의 접착 재료도 사용될 수 있다. 특히 접합 시 생화학물질의 변성을 막기 위하여 상온 또는 저온 접합이 필요한 경우에는 압력만으로 접합이 이루어지는 접착제(Pressure Sensitive Adhesive)를 사용한다. 또한, 접합을 위해서 초음파 에너지를 이용하여 기판을 국부적으로 용융하여 접합하는 초음파접합(Ultrasonic Bonding) 방법이나 열을 이용하여 기판을 국부적으로 용융하여 접합하는 열접합(Thermal Bonding) 방법이 사용될 수도 있다. The upper structure 400 is bonded to the top of the microheating system through the adhesive material 320. The adhesive material may be not only a liquid adhesive material but also a thin plate-like adhesive material such as powder or paper. In particular, in order to prevent denaturation of biochemicals during bonding, a pressure-sensitive adhesive is used in which bonding is performed only by pressure. In addition, for bonding, an ultrasonic bonding method for locally melting and bonding a substrate using ultrasonic energy or a thermal bonding method for locally melting and bonding a substrate using heat may be used.

하부 및 상부 구조체(400)의 접합에 있어서 반드시 고려해야 할 사항 중 하나가 주입된 용액이 외부로 빠져나오거나 또는 이미 형성된 유로(microchannel)를 통하지 않은 채 미세한 틈새나 공극을 통해 다른 곳으로 흘러들어가지 않도록 유로와 반응 챔버 주위로의 완벽하게 밀봉하는 접합이 이루어져야 한다는 것이다. One of the considerations for joining the lower and upper structures 400 is that the injected solution flows out through the tiny gaps or voids without exiting or through the already formed microchannel. It is important to ensure that the seal is completely sealed around the flow path and the reaction chamber.

접합 방법은 위에서 예시한 것 외에, 하부 및 상부 구조체를 클립형태의 부가적인 구조물을 이용하여 강제적으로 체결하거나 하부 및 상부 구조체 중 하나에 양각 모양의 홈을 만들고 나머지 하나에 음각 모양의 홈을 만들어 끼우는 방법으로 두 기판을 접합할 수 있다. 위와 같이 클립 또는 홈을 이용한 접합의 경우에는 미세한 틈새가 발생하지 않도록 접촉면에 탄성을 가진 폴리머 층을 덧댈 수도 있다.In addition to the above, the joining method may be performed by forcibly fastening the lower and upper structures by using an additional structure in the form of a clip, or by making an embossed groove in one of the lower and upper structures and making a recess in the other. The two substrates can be joined by the method. As described above, in the case of bonding using a clip or a groove, an elastic polymer layer may be padded on the contact surface so that a minute gap does not occur.

도 5b를 참조하면, 미세반응 시스템의 상부 구조체의 일부를 절단하여 반응 챔버(420)가 개방된 모습을 보여주고 있는데, 플라스틱 구조체(100) 상부로 미세 전극(210,220), 가열기(230) 및 온도 센서(240)가 형성된 가열기부가 형성되어 있 고, 가열기부 상부로 내부로 일정 공간, 즉 반응 챔버(420)가 형성된 상부 구조체 기판(410)이 접착 물질(320)을 통해 접착되어 있다. 실제로 가열기부의 가열기(230) 및 온도 센서(240) 등은 전기 절연막(250)에 의해 도포되어 있는 상태이다. 미세 전극(210,220) 역시 전기 절연막(250)으로 도포되게 되나, 도 5a에서 컨택 홈을 고려하여, 노출된 형태로 표현되었다. Referring to FIG. 5B, the reaction chamber 420 is opened by cutting a portion of the upper structure of the microreaction system, and the micro electrodes 210 and 220, the heater 230, and the temperature are disposed on the plastic structure 100. The heater unit in which the sensor 240 is formed is formed, and the upper structure substrate 410 in which a predetermined space, that is, the reaction chamber 420 is formed, is bonded to the upper portion of the heater unit through the adhesive material 320. In fact, the heater 230, the temperature sensor 240, and the like of the heater portion are in a state of being coated by the electric insulating film 250. The fine electrodes 210 and 220 are also coated with the electrical insulating layer 250, but are represented in an exposed form in consideration of contact grooves in FIG. 5A.

상부 구조체 기판(410)에는 반응 챔버(420)와의 연결을 위한 유로(430)가 형성되는 데, 유로의 입구(432)가 상부 구조체 기판(410) 상부로 보여진다. 이러한 유로(430)의 형태는 한 예시에 불과하며, 랩온어칩의 다양한 모습에 맞추어 적절하게 형성될 수 있음은 물론이다. 이러한 유로(430)를 통해 가열 또는 분석하고자 하는 물질을 반응 챔버(420)에 주입하고 미세가열 시스템을 이용하여 가열 등의 실험을 진행하게 된다.A flow path 430 is formed in the upper structure substrate 410 to connect with the reaction chamber 420, and the inlet 432 of the flow path is seen above the upper structure substrate 410. The shape of the flow path 430 is just one example, and of course, it can be appropriately formed according to various shapes of the lab-on-a-chip. The material to be heated or analyzed is injected into the reaction chamber 420 through the flow path 430, and an experiment such as heating is performed using a micro heating system.

도 6a 및 6b는 본 발명의 랩온어칩에 대한 제2 실시예에 따른 미세반응 시스템 어레이에 대한 단면도 및 사시도이다.6A and 6B are cross-sectional and perspective views of a microreaction system array according to a second embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 6a를 참조하면, 도 5a의 미세반응 시스템이 하나의 미세가열 시스템에 다수 형성될 수 있음을 보여준다. 즉, 미세가열 시스템에 포토 리소그라피 공정을 통해 동일한 패턴의 도전성 박막 패턴 어레이를 형성하고, 그 상부로 필요한 각각의 상부 구조체를 접합하여 미세반응 시스템 어레이를 형성할 수 있다. 도 6b의 경우, 도 6a의 미세가열 시스템의 반응 챔버 내부를 좀더 상세하게 보여주기 위한 사시도로서, 반응 챔버의 일부분이 개방된 형태로 표현하고 있다. Referring to FIG. 6A, it can be seen that the microreaction system of FIG. 5A may be formed in one microheating system. That is, the micro heating system may form an array of conductive thin film patterns having the same pattern through a photolithography process, and then join each of the upper structures required thereon to form a microreaction system array. In the case of Figure 6b, a perspective view for showing the inside of the reaction chamber of the microheating system of Figure 6a in more detail, a portion of the reaction chamber is represented in an open form.

본 실시예에서는 상부 구조체(400I,400Ⅱ,400Ⅲ)가 3 개가 형성되어 있지만, 그 이상 또는 이하로 형성할 수 있음은 물론이다. 또한, 각 상부 구조체(400I,400Ⅱ,400Ⅲ)가 각각의 반응 챔버(420I,420Ⅱ,420Ⅲ)를 가지는 동일한 상부 구조체 기판(410I,410Ⅱ,410Ⅲ)형태로 형성되었지만, 다른 형태의 상부 구조체가 형성될 수 있음은 물론이다.In the present embodiment, three upper structures 400I, 400II, and 400III are formed, but of course, it can be formed above or below. In addition, although each of the upper structures 400I, 400II, and 400III is formed in the same upper structure substrates 410I, 410II, and 410III having respective reaction chambers 420I, 420II, and 420III, other types of upper structures may be formed. Of course it can.

도 7은 본 발명의 랩온어칩에 대한 제3 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a microreaction system using a micro heating system according to a third embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 7을 참조하면, 도 5a의 미세반응 시스템 2개를 상부 구조체(400b)를 통해 서로 마주보게 하고 접착 물질(320)을 통해 접합하여 형성된 미세반응 시스템을 보여준다. 상부 구조체(400b)는 상하로 미세반응 시스템과 접합되어 반응 챔버(420)를 밀폐시키고 전체적으로 미세반응 시스템을 지지하는 지지체 기판(440)으로 형성된다. 지지체 기판(440)에는 유로(미도시)가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 7, two microreaction systems of FIG. 5A face each other through the upper structure 400b and are bonded to each other through the adhesive material 320. The upper structure 400b is formed of a support substrate 440 which is joined to the microreaction system up and down to seal the reaction chamber 420 and to support the microreaction system as a whole. A flow path (not shown) may be formed in the support substrate 440.

본 실시예와 같은 형태의 미세반응 시스템 역시 단일의 미세가열 시스템에 도전성 패턴 어레이를 형성하여 미세반응 시스템 어레이 형태로 제작될 수 있음은 물론이다.The microreaction system of the same type as this embodiment may also be manufactured in the form of a microreaction system array by forming a conductive pattern array in a single micro heating system.

도 8은 본 발명의 랩온어칩에 대한 제4 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도이다.8 is a cross-sectional view of a microreaction system using a micro heating system according to a fourth embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 8을 참조하면, 미세가열 시스템을 플랫폼으로 해서 그 위에 반응을 위한 상부 구조체(400c) 또는 반응 용기를 올려 사용할 수 있는 미소반응 시스템을 보여주고 있다. 따라서, 상부 구조체(400c)는 다른 실시예와 달리 미세가열 시스템에 접합 고정된 형태가 아니라 탈착이 가능한 형태로 형성된다.Referring to FIG. 8, a microreaction system is shown in which a microheating system is used as a platform and a superstructure 400c or a reaction vessel for reaction may be placed thereon. Thus, unlike the other embodiment, the upper structure 400c is formed in a form that is detachable rather than bonded to a micro heating system.

본 실시예의 미세반응 시스템 역시 어레이 형태로 제작하여 미세반응 시스템 어레이를 제작할 수 있음은 물론이다.The microreaction system of this embodiment may also be manufactured in an array form to manufacture a microreaction system array.

도 9a 및 9b는 본 발명의 랩온어칩에 대한 제5 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도 및 사시도이다.9A and 9B are cross-sectional views and perspective views of a microreaction system using a micro heating system according to a fifth embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 9a 참조하면, 미세가열 시스템 하부로 상부 또는 하부 구조체(400d)가 형성되는데, 이러한 상부 구조체(400d)는 도 7의 상부 구조체(400b)의 반응 챔버를 다른 미세가열 시스템으로 밀폐하는 것이 아니라 별개의 상판 기판(460)을 통해 밀폐하는 구조로 형성된다. 이러한 형태의 미세반응 시스템은 마이크로 생화학 반응기로 주로 이용될 수 있다. 도 9b의 경우, 도 9a의 미세가열 시스템의 반응 챔버 내부를 좀더 상세하게 보여주기 위한 사시도로서, 반응 챔버의 일부분을 개방된 형태로 도시되어 있다. Referring to FIG. 9A, an upper or lower structure 400d is formed below the microheating system. The upper structure 400d separates the reaction chamber of the upper structure 400b of FIG. 7 from another microheating system, rather than sealing the reaction chamber. It is formed of a structure that is sealed through the upper substrate 460. This type of microreaction system can be used primarily as a micro biochemical reactor. In the case of Figure 9b, a perspective view for showing the inside of the reaction chamber of the microheating system of Figure 9a in more detail, a portion of the reaction chamber is shown in an open form.

본 실시예의 미세반응 시스템 역시 어레이 형태로 제작할 수 있음은 물론이다.The microreaction system of this embodiment can also be manufactured in an array form.

도 10은 본 발명의 랩온어칩에 대한 제6 실시예에 따른 미세가열 시스템을 이용한 미세반응 시스템에 대한 단면도이다.10 is a cross-sectional view of a microreaction system using a micro heating system according to a sixth embodiment of a lab-on-a-chip of the present invention.

도 10을 참조하면, 미세반응 시스템은 미세가열 시스템 상부로 상부 구조체(400e)를 포함하는데, 상부 구조체(400e)는 반응 챔버(420)가 형성된 하부 지지체 기판(440a) 및 유로 제어를 위한 지지체 기판(440b)으로 형성된다. 하부 지지체 기판(440a)에는 유로 제어를 위한 입구 및 출구 밸브(470,480)가 형성되어 있는데, 이러한 입구 및 출구 밸브(470,480)는 지지체 기판(440b)에 형성된 유로의 입 구(475) 및 출구(485)에 각각 연결되는 구조로 형성된다.Referring to FIG. 10, the microreaction system includes an upper structure 400e above the micro heating system, wherein the upper structure 400e includes a lower support substrate 440a on which the reaction chamber 420 is formed and a support substrate for controlling the flow path. 440b. Inlet and outlet valves 470 and 480 are formed in the lower support substrate 440a to control the flow path. The inlet and outlet valves 470 and 480 are the inlet and outlet 475 and the outlet 485 of the flow path formed in the support substrate 440b. It is formed into a structure connected to each.

본 실시예의 미세반응 시스템은 미세 유체를 제어하는 저가격형 및 휴대용의 마이크로 펌프로서 주로 사용된다. 이러한 형태의 구조 역시 어레이 형태로 제작될 수 있음은 물론이다.The microreaction system of this embodiment is mainly used as a low-cost and portable micropump controlling microfluidics. This type of structure may also be manufactured in an array form.

지금까지 미세반응 시스템의 여러 가지 실시예를 설명하였지만, 미세가열 시스템은 미세반응 시스템뿐만 아니라 미세분석시스템, 약물 전달시스템 및 미세유체 제어시스템 등의 여러 분야의 랩온어칩에 이용될 수 있다. 또한, 단일 구조가 아닌 시스템 어레이 구조로 각 시스템들이 형성될 수 있음은 물론이다.Although various embodiments of the microreaction system have been described so far, the microheating system may be used in a lab-on-a-chip in various fields such as a microreaction system, a microanalysis system, a drug delivery system, and a microfluidic control system. In addition, each system may be formed in a system array structure instead of a single structure.

도 11a 및 11b는 본 발명의 플라스틱 구조체를 이용한 마이크로 어레이에 대한 사시도들이다.11A and 11B are perspective views of a micro array using the plastic structure of the present invention.

도 11a를 참조하면, 마이크로 어레이는 동시에 수천 개의 유전자나 단백질 간의 상호작용을 알 수 있도록 도 1의 플라스틱 구조체(100) 상부로 미세 패턴의 표면 처리자리 또는 마이크로 어레이 자리(500) 형성된다. 이러한 어레이 자리(500)는 표면 개질을 통한 친수성 조절을 통해 형성되거나 또는 부가적으로 금속전극을 코팅하여 형성된다. Referring to FIG. 11A, the microarray is formed on the surface of the plastic structure 100 of FIG. 1 in a micro patterned surface or microarray site 500 so as to know the interaction between thousands of genes or proteins at the same time. The array site 500 is formed through hydrophilicity control through surface modification or additionally by coating a metal electrode.

마이크로 어레이는 유전자 발현, 질병진단, 신약 개발, 독성물질 반응 규명 등에 응용되고 있는데, 기존에는 유리 기판이나, 실리콘 기판이 주로 이용되어 미소 패턴 형성에 유리하나, 가격이 비싼 단점이 있었다. 그러나 본 실시예의 마이크로 어레이는 포토 리소그라피 공정이 가능한 플라스틱 구조체(100)를 이용함으로써, 저가격으로도 어레이 자리(500)를 손쉽게 제작할 수 있는 장점이 있다. Microarray has been applied to gene expression, disease diagnosis, new drug development, toxic substance reaction, etc. Previously, glass substrates and silicon substrates were mainly used to form micro patterns, but had a disadvantage of being expensive. However, the micro array of the present embodiment has an advantage that the array site 500 can be easily manufactured even at low cost by using the plastic structure 100 capable of the photolithography process.

이러한 어레이 자리(500)는 포토 리소그라피 공정을 이용하여, 수 마이크로 미터 정도의 미소 전극들을 가지는 형태로 제작될 수 있는데, 어레이 자리(500)의 재료로는 금이나 백금 같은 금속이 사용될 수 있다. 한편, 금속 대신에 플라스틱 구조체 상부에 포토 리소그라피 공정과 플라즈마 표면 처리만으로 선택적인 표면 처리를 하여 친수성(hydrophilicity) 및 소수성(hydrophobicity)을 조절하여 표면 개질된 어레이 자리(500)가 형성될 수도 있다. 표면 개질된 어레이 자리(500)의 경우 탐침자(probe)를 선택적으로 배열할 수 있는 장점을 가진다.The array site 500 may be manufactured in a form having micro electrodes on the order of several micrometers using a photolithography process, and a material such as gold or platinum may be used as the material of the array site 500. Meanwhile, instead of the metal, the surface modified array site 500 may be formed by selectively performing surface treatment on the plastic structure only by photolithography and plasma surface treatment to control hydrophilicity and hydrophobicity. Surface modified array sites 500 have the advantage of selectively arranging probes.

도 11b를 참조하면, 도 11(a)에서 제작된 미소 전극 어레이 자리(500)에 DNA 혹은 단백질 등의 바이오 분자로 이루어진 탐침자(520)들이 형성된 모습을 보여주고 있다. 도시된 탐침자(520)들은 이해를 쉽게 하기 위하여 과장하여 표현되어 있으나, 좀더 미세하고 정교한 구조로 형성되어 있음은 물론이다.Referring to FIG. 11B, the microelectrode array site 500 fabricated in FIG. 11A shows probes 520 formed of biomolecules such as DNA or protein. Although the illustrated probes 520 are exaggeratedly expressed for easy understanding, they are formed of a finer and more sophisticated structure.

본 발명은 또한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로서 구현하는 것이 가능하다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 컴퓨터 시스템에 의하여 읽혀질 수 있는 데이터가 저장되는 모든 종류의 기록장치를 포함한다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체의 예로는 ROM, RAM, CD_ROM, 자기테이프, 플로피디스크 및 광데이터 저장장치 등이 있으며, 또한 캐리어 웨이브(예를 들어 인터넷을 통한 전송)의 형태로 구현되는 것도 포함한다. 또한, 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템에 분산되어, 분산방식으로 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로 저장되고 실행될 수 있다.The invention can also be embodied as computer readable code on a computer readable recording medium. The computer-readable recording medium includes all kinds of recording devices in which data that can be read by a computer system is stored. Examples of computer-readable recording media include ROM, RAM, CD_ROM, magnetic tape, floppy disks, and optical data storage, and may also include those implemented in the form of carrier waves (e.g., transmission over the Internet). . The computer readable recording medium can also be distributed over network coupled computer systems so that the computer readable code is stored and executed in a distributed fashion.

지금까지, 본 발명을 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명하였으나 이는 예 시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.So far, the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, which are merely exemplary, and those skilled in the art may understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. will be. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명의 미세가열 시스템은 플라스틱 필름에 무기 및/또는 유기물 박막을 코팅함으로써, 포토 리소그라피 공정을 통해 미세 전극, 가열기 및 온도 센서 등이 용이하게 형성될 수 있다.As described in detail above, in the micro heating system of the present invention, by coating an inorganic and / or organic thin film on a plastic film, a micro electrode, a heater, a temperature sensor, etc. may be easily formed through a photolithography process.

또한, 플라스틱 구조체의 무기 및/또는 유기물 박막의 재질을 적절히 선택하여 열적 단열을 높이고 열 질량을 낮춤으로써, PCR 칩, 단백질 칩, DNA 칩, 약물 주입기(Drug Delivery System), 미세 생물/화학 반응기(Micro Biological/Chemical Reactor), 마이크로 어레이 등의 다양한 랩온어칩(Lab-on-a-chip) 바이오 소자의 저전력 소모 및 정확한 온도 제어를 위해 용이하게 이용될 수 있다.In addition, by appropriately selecting the material of the inorganic and / or organic thin film of the plastic structure to increase the thermal insulation and lower the thermal mass, PCR chip, protein chip, DNA chip, drug delivery system (Drug Delivery System), microbiological / chemical reactor ( It can be easily used for low power consumption and accurate temperature control of various Lab-on-a-chip bio devices such as Micro Biological / Chemical Reactor and micro array.

Claims (32)

플라스틱(plastic) 필름 및 상기 플라스틱 필름에 코팅된 내화학성 및 내열성의 박막을 구비한 플라스틱 구조체; 및A plastic structure having a plastic film and a chemical resistant and heat resistant thin film coated on the plastic film; And 상기 플라스틱 구조체 상에 형성된 미세 전극 및 가열기(heater)를 구비한 가열기부;를 포함하는 플라스틱 미세가열 시스템(micro heating system).And a heater having a heater and a micro electrode formed on the plastic structure. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 플라스틱 구조체는 0.1 ~ 50 nm의 표면 편평도를 가지며, 1 ~ 2000 ㎛의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The plastic structure has a surface flatness of 0.1 ~ 50 nm, plastic micro heating system, characterized in that having a thickness of 1 ~ 2000 ㎛. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 가열기부에는 온도 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The heater micro plastic heating system, characterized in that it comprises a temperature sensor. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 박막은 무기물 박막 및 유기물 박막 중 적어도 하나의 박막인 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The thin film is a plastic micro heating system, characterized in that at least one thin film of the inorganic thin film and the organic thin film. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 플라스틱 필름 및 상기 박막 사이에 도전성 박막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템(micro heating system).A plastic micro heating system further comprising a conductive thin film between the plastic film and the thin film. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 박막은 상기 플라스틱 필름 상면으로 코팅된 무기물 박막 및 상기 무기물 박막 상면과 상기 플라스틱 필름 하면으로 코팅된 유기물 박막인 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.Wherein the thin film is an inorganic thin film coated with the upper surface of the plastic film and an organic thin film coated with the upper surface of the inorganic thin film and the lower surface of the plastic film. 제6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 유기물 박막은 1 ~ 100 ㎛의 두께로 형성되고, 상기 무기물 박막은 1 ~ 100 ㎛ 의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The organic thin film is formed in a thickness of 1 ~ 100 ㎛, the inorganic thin film is a plastic micro heating system, characterized in that formed in a thickness of 1 ~ 100 ㎛. 제6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 유기물 박막은 에폭시(epoxy)로 형성되고,The organic thin film is formed of epoxy, 상기 무기물 박막은 물유리(water glass)로 형성된 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The inorganic thin film is a plastic micro heating system, characterized in that formed of water glass (water glass). 제6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 유기물 박막 및 무기물 박막은 포토 리소그라피(photolithography) 공정에 내성을 가지며,The organic thin film and the inorganic thin film are resistant to a photolithography process, 열적 단열 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.Plastic microheating system, characterized in that it has thermal insulation properties. 제6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 유기물 박막 및 무기물 박막은 스핀(spin) 코팅 또는 스프레이(spray) 코팅 방법으로 형성된 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The organic thin film and the inorganic thin film is a plastic microheating system, characterized in that formed by spin (spray) coating or spray (spray) coating method. 제10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 유기물 박막 및 무기물 박막이 열처리되어 상기 플라스틱 구조체는 평탄화된 표면을 가지는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.And the organic thin film and the inorganic thin film are heat treated so that the plastic structure has a flattened surface. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 가열기부는 상기 미세 전극 및 가열기를 덮는 전기 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.And said heater portion comprises an electrical insulating film covering said microelectrode and said heater. 제12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 전기 절연막은 절연성의 금속 산화물 박막, 플라스틱 박막 및 절연성의 후막 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The electrical insulating film is a plastic micro heating system, characterized in that any one of an insulating metal oxide thin film, a plastic thin film and an insulating thick film. 제12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 미세 전극 상부의 상기 절연막의 일부가 식각되어 상기 미세 전극에 연 결된 전극 패드가 형성된 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.And a part of the insulating film on the microelectrode is etched to form an electrode pad connected to the microelectrode. 제12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 가열기 상부의 상기 절연막 상에 열 확산용 금속막이 형성된 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.And a metal film for thermal diffusion is formed on the insulating film above the heater. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 플라스틱 구조체는 상기 가열기 외곽으로 다수의 홀이 형성된 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The plastic structure is a plastic micro heating system, characterized in that a plurality of holes are formed outside the heater. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 미세가열 시스템은 랩온어칩(lap-on-a-chip)에 이용되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템.The micro heating system is a plastic micro heating system, characterized in that used in the lap-on-a-chip (lap-on-a-chip). 제1 항의 미세가열 시스템; 및The micro heating system of claim 1; And 상기 미세가열 시스템에 접합된 랩온어칩(lap-on-a-chip)을 형성하는 상부 구조체;를 포함하는 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩.And a superstructure forming a lap-on-a-chip bonded to the micro heating system. 제18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 랩온어칩은 미세반응 시스템이고,The lab-on-a-chip is a microreaction system, 상기 상부 구조체는 반응 챔버 및 상기 반응 챔버에 연결된 유로(micro channel)가 형성된 적어도 하나의 기판인 것을 특징으로 하는 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩.The upper structure is a wrap-on-a-chip using a micro heating system, characterized in that the reaction chamber and at least one substrate formed with a microchannel connected to the reaction chamber. 제19 항에 있어서,The method of claim 19, 상기 미세가열 시스템이 상기 상부 구조체 상부로 하나 더 접합되어 상기 반응 챔버를 밀폐하는 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 미세가열 시스템을 이용한 랩온어칩.Lap-on-a-chip using the micro-heating system is characterized in that the micro-heating system is further bonded to the upper structure to seal the reaction chamber. 플라스틱(plastic) 필름 및 상기 플라스틱 필름에 코팅된 내화학성 및 내열성의 박막을 구비한 플라스틱 구조체; 및A plastic structure having a plastic film and a chemical resistant and heat resistant thin film coated on the plastic film; And 상기 플라스틱 구조체 상에 형성된 마이크로 어레이(micro array) 자리:를 포함하는 마이크로 어레이.And micro array formed on the plastic structure. 제21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 마이크로 어레이 자리는 금속으로 형성되거나 상기 미세가열 시스템의 표면을 선택적으로 개질하여 형성된 것을 특징으로 하는 마이크로 어레이.Wherein said microarray site is formed of a metal or formed by selectively modifying the surface of said microheating system. 제22 항에 있어서,The method of claim 22, 상기 선택적 개질은 플라즈마 표면 처리 방법을 통해 이루어지고, The selective modification is made through a plasma surface treatment method, 상기 개질된 어레이 자리에 탐침자(probe)가 선택적으로 배열될 수 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 어레이.And a probe may be selectively arranged in place of the modified array. 제23 항에 있어서,The method of claim 23, wherein 상기 탐침자는 DNA 또는 단백질의 바이오 분자인 것을 특징으로 하는 마이크로 어레이.The probe is a micro array, characterized in that the biomolecule of DNA or protein. 플라스틱(plastic) 필름 상에 내화학성 및 내열성의 유기물 또는 무기물 박막을 코팅하여 플라스틱 구조체를 형성하는 단계;Coating a thin film of chemical and heat resistant organic or inorganic material on a plastic film to form a plastic structure; 상기 플라스틱 구조체를 지지 기판에 고정하는 단계; 및Securing the plastic structure to a support substrate; And 상기 플라스틱 구조체 상에 미세 전극, 가열기를 포함하는 가열기부를 형성하는 단계;를 포함하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.Forming a heater unit comprising a micro electrode, a heater on the plastic structure; manufacturing method of a plastic micro heating system comprising a. 제25 항에 있어서,The method of claim 25, 상기 가열기부는 포토 리소그라피(photolithography) 공정을 통해 형성하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.The heater unit is a manufacturing method of a plastic micro heating system, characterized in that formed through a photolithography (photolithography) process. 제25 항에 있어서,The method of claim 25, 상기 가열기부를 형성하는 단계는 상기 플라스틱 구조체에 전도성 박막을 형성하는 단계; 및The forming of the heater unit may include forming a conductive thin film on the plastic structure; And 상기 전도성 박막을 패터닝하여 상기 미세 전극 및 가열기를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.And patterning the conductive thin film to form the microelectrode and the heater. 제27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 전도성 박막은 금속, 전도성 산화막 및 접착향상 박막(glue layer)을 포함하는 도전성 후막 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.The conductive thin film is a method of manufacturing a plastic micro heating system, characterized in that any one of a conductive thick film comprising a metal, a conductive oxide film and an adhesive layer (glue layer). 제27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 가열기부를 형성하는 단계는 상기 미세 전극 및 가열기 형성단계 이후에 상기 미세 전극 및 가열기를 덮는 전기 절연막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.The forming of the heater part may include forming an electrical insulating film covering the micro electrode and the heater after the forming of the micro electrode and the heater. 제29 항에 있어서,The method of claim 29, 상기 가열기부를 형성하는 단계는 상기 미세 전극 상부의 상기 전기 절연막 일부를 식각하여 전극 패드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.The forming of the heater unit may include forming an electrode pad by etching a portion of the electrical insulating layer on the microelectrode. 제29 항에 있어서,The method of claim 29, 상기 가열기부를 형성하는 단계는 상기 가열기 상부의 절연막 상에 열 확산 용 금속막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.The forming of the heater unit may include forming a metal film for thermal diffusion on the insulating film above the heater. 제29 항에 있어서,The method of claim 29, 상기 가열기부를 형성하는 단계는 상기 가열기 외곽으로 다수의 관통 홀을 형성하는 단계를 포함하는 플라스틱 미세가열 시스템의 제조방법.The forming of the heater unit may include forming a plurality of through holes outside the heater.
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