KR100767687B1 - Filter for flat display panel and method for making the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 평판 디스플레이 패널의 필터에 관한 것으로 특히, 패널의 광학적 특성의 향상과 보호를 위한 평판 디스플레이 패널의 필터 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과; 상기 기판 위에 위치하는 반사방지층을 포함하여 구성된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter of a flat panel display panel, and more particularly, to a filter of a flat panel display panel for improving and protecting optical properties of the panel and a method of manufacturing the same. The present invention is formed of a synthetic resin, a substrate containing a plurality of transparent particles; It is configured to include an anti-reflection layer on the substrate.

필터, 패널, 디스플레이, 기판, 합성수지. Filters, panels, displays, substrates, resins.

Description

평판 디스플레이 패널의 필터 및 그 제조방법 {Filter for flat display panel and method for making the same}Filter for flat display panel and its manufacturing method {Filter for flat display panel and method for making the same}

도 1은 종래의 평판 디스플레이 패널의 필터의 일례를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing an example of a filter of a conventional flat panel display panel.

도 2는 종래의 필터의 무반사층을 나타내는 사시도이다.2 is a perspective view showing an antireflection layer of a conventional filter.

도 3은 종래의 필터의 전자파 차폐층을 나타내는 사시도이다.3 is a perspective view showing an electromagnetic shielding layer of a conventional filter.

도 4는 종래의 필터의 색보정층을 나타내는 사시도이다.4 is a perspective view showing a color correction layer of a conventional filter.

도 5는 종래의 평판 디스플레이 패널의 필터의 다른 예를 나타내는 사시도이다.5 is a perspective view showing another example of a filter of a conventional flat panel display panel.

도 6은 본 발명의 평판 디스플레이 패널의 필터의 일 실시예를 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing an embodiment of a filter of a flat panel display panel of the present invention.

도 7은 본 발명의 평판 디스플레이 패널의 필터의 다른 실시예를 나타내는 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing another embodiment of a filter of the flat panel display panel of the present invention.

도 8은 본 발명의 전자파 차폐층의 일 실시예를 나타내는 단면도이다.8 is a cross-sectional view showing an embodiment of the electromagnetic shielding layer of the present invention.

도 9는 본 발명의 전자파 차폐층의 다른 실시예를 나타내는 단면도이다.9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the electromagnetic shielding layer of the present invention.

도 10은 본 발명의 반사방지층의 일 실시예를 나타내는 단면도이다.10 is a cross-sectional view showing an embodiment of an antireflective layer of the present invention.

도 11은 본 발명의 반사방지층의 다른 실시예를 나타내는 단면도이다.11 is a cross-sectional view showing another embodiment of the antireflective layer of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>

100 : 기판 110 : 투명입자100 substrate 110 transparent particles

200 : 전자파 차폐층 300 : 반사방지층200: electromagnetic shielding layer 300: antireflection layer

400 : 광투과 조절층400: light transmission control layer

본 발명은 평판 디스플레이 패널의 필터에 관한 것으로 특히, 패널의 광학적 특성의 향상과 보호를 위한 평판 디스플레이 패널의 필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter of a flat panel display panel, and more particularly, to a filter of a flat panel display panel for improving and protecting optical properties of the panel and a method of manufacturing the same.

일반적으로 평판 디스플레이 패널은 전체 구조가 박형으로 제작되는 디스플레이 장치에 사용되는 것으로서, 대표적인 예로는 액정 디스플레이(LCD: liquid crystal display), 유기 발광소자(OLED: organic light emitting diode) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP: plasma display panel), 전계 방출 디스플레이(FED: field emission display) 등이 있다.In general, a flat panel display panel is used for a display device having a thin structure, and representative examples thereof include a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode (OLED) display, and a plasma display panel ( Plasma display panel (PDP) and field emission display (FED).

그 중에서, PDP는 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하는 발광형 소자의 일종으로서, 각 셀마다 액티브 소자를 장착할 필요가 없어서 제조 공정이 간단하고, 화면의 대형화가 용이하며, 응답속도가 빨라 대형화면을 가지는 화상표시장치의 표시소자로 각광받고 있다.Among them, PDP is a type of light emitting device that displays an image by using a discharge phenomenon, and there is no need to mount an active device for each cell, so the manufacturing process is simple, the screen is easy to enlarge, and the response speed is fast. It is attracting attention as a display element of the image display apparatus which has a screen.

상기 PDP와 같은 평판 디스플레이 패널은 화면이 디스플레이 되는 전면에 각종 기능을 수행하는 필터가 위치하게 된다.In the flat panel display panel such as the PDP, a filter for performing various functions is positioned on the front surface of the screen.

이러한 필터의 기능은 반사를 방지하고, 콘트라스트를 향상시키며, 특정 파장에서 시감도가 높게 나타나는 경우에 이러한 파장을 선택적으로 흡수하도록 하는 색보정 기능 등이 포함된다.The function of the filter includes a color correction function for preventing reflection, improving contrast, and selectively absorbing such wavelengths when high visibility is observed at a specific wavelength.

이와 같은 필터의 예로는, 패널과 일정 간격을 두고 배치되는 글래스 필터와, 패널의 전면에 점착층에 의하여 부착되는 클리어 필터(필름 필터) 등이 있다.Examples of such a filter include a glass filter disposed at regular intervals from the panel, a clear filter (film filter) attached to the front surface of the panel by an adhesive layer, and the like.

도 1은 이러한 필름 필터의 구조를 나타내고 있다. 즉, 필름 필터는 패널의 전면 글래스(10)에 부착되는 것으로서, 광학적 특성을 향상시키기 위한 무반사층(anti-reflection: 20) 및 색보정층(40)과, 전자기 장애(EMI: electro-magnetic interference)를 차폐하는 전자파 차폐층(30) 등이 포함될 수 있다.1 shows the structure of such a film filter. That is, the film filter is attached to the front glass 10 of the panel, and the anti-reflection layer 20 and the color correction layer 40, and the electromagnetic interference (EMI) to improve the optical characteristics ) May include an electromagnetic wave shielding layer 30.

상기 무반사층(20)은, 도 2에서와 같이, PET 필름(21) 위에, 강도 향상을 위한 하드 코팅층(22)이 위치하고, 이 하드 코팅층(22) 위에, 고굴절(high refractive index: 23)층과 저굴절(low refrective index: 24)층이 차례로 위치하여 반사를 방지하게 되며, PET 필름(21) 하측에는 접착을 위한 PSA(pressure sensitive adhesive: 25)가 위치하게 된다.The antireflective layer 20, as shown in Figure 2, on the PET film 21, a hard coating layer 22 for strength enhancement is located, on this hard coating layer 22, a high refractive index (23) layer And a low refrective index (24) layer in order to prevent reflection, and the PSA (pressure sensitive adhesive: 25) for adhesion below the PET film 21 is located.

또한, 전자파 차폐층(30)은, 도 3에서 보는 바와 같이, PET 필름(31) 위에 점착층(32)이 위치하고, 이 점착층(32) 위에 구리 메쉬층(33)이 위치하고, 상기 무반사층(20)과 마찬가지로, PET 필름(31) 하측에는 접착을 위한 PSA(pressure sensitive adhesive: 34)가 위치한다.In addition, as shown in FIG. 3, the electromagnetic wave shielding layer 30 has the adhesion layer 32 on the PET film 31, the copper mesh layer 33 is located on this adhesion layer 32, and the said anti-reflective layer Like (20), a pressure sensitive adhesive (PSA) 34 for adhesion is located under the PET film 31.

상기 색보정층(40)은, 도 4에서 도시하는 바와 같이, PET 필름(41) 위에 색보정 기능을 갖는 코팅층(42)이 위치하고, PET 필름(41) 하측에는 패널의 전면에 접착을 위한 PSA(pressure sensitive adhesive: 43)가 위치하게 된다. 이때, 이 PSA(43) 면은 패널과 직접 접착되므로 재작업이 가능한 PSA(43)를 사용한다.As shown in FIG. 4, the color correction layer 40 has a coating layer 42 having a color correction function on the PET film 41, and a PSA for adhesion to the front surface of the panel below the PET film 41. (pressure sensitive adhesive: 43) is placed. At this time, since the PSA 43 surface is directly bonded to the panel, a PSA 43 that can be reworked is used.

이와 같이, 디스플레이 패널의 필터를 이루는 무반사층(20)과, 전자파 차폐층(30), 및 색보정층(40)은 각각의 구조가 3 내지 5개의 층으로 이루어져 있으므로, 총 12층 이상의 다면층으로 이루어져, 이러한 필터의 제작에는 수많은 공정이 필요하다.As described above, the antireflective layer 20, the electromagnetic shielding layer 30, and the color correction layer 40 forming the filter of the display panel each have three to five layers, and thus, a total of 12 or more multi-layered layers. It consists of, the production of such a filter requires a number of processes.

더욱이, 상기 무반사층(20)과, 전자파 차폐층(30), 및 색보정층(40)은 모두 PET 필름(21, 31, 41)과 PSA(25, 34, 43)가 공통적으로 반복되어 사용되고 있으며, 이러한 재료들은 고가의 재료이므로 제작 비용이 그만큼 상승하게 된다.In addition, the antireflective layer 20, the electromagnetic wave shielding layer 30, and the color correction layer 40 are all repeatedly used in common with the PET films 21, 31, 41 and PSAs 25, 34, 43. In addition, since these materials are expensive materials, the manufacturing cost increases accordingly.

이러한 필름 필터를 사용하는 평판 디스플레이 패널은 외부로부터의 충격에 취약한 단점이 있다. 또한, 디스플레이 패널이 대화면화 될수록 이러한 충격이 더욱 문제가 된다.A flat panel display panel using such a film filter is vulnerable to shock from the outside. In addition, as the display panel becomes larger, such an impact becomes more problematic.

특히, LCD와 같은 디스플레이 패널에 비하여 PDP 등은 전면 외관이 상대적으로 견고하게 보일 수 있으므로 사용자의 부주의에 의한 파손이 자주 발생할 수 있다.In particular, since the front surface of the PDP and the like may be relatively firm as compared to a display panel such as an LCD, breakage due to carelessness of a user may occur frequently.

이와 같은 필름 필터는 상술한 바와 같이 디스플레이 패널의 전면에 필름 필터를 직접 부착하여 사용하게 되며, 이러한 필름 필터를 이루는 PET 필름 등에 의하여 충격이 흡수될 수 있으나 그 효과는 미약하다.Such a film filter is used by directly attaching a film filter to the front of the display panel as described above, the impact can be absorbed by the PET film constituting such a film filter, but the effect is weak.

더구나 이러한 필터를 접착시키는 과정에서 필름 표면이 변형되거나 표면에 미세한 균열이 발생하여 화면의 평활성을 저하시킬 수 있다.In addition, the surface of the film may be deformed or fine cracks may be generated in the process of adhering the filter, thereby reducing the smoothness of the screen.

한편, 글래스 필터는, 도 5에서 도시하는 바와 같이, 별도의 유리 기판(50) 위에 상기와 같은 무반사층(20), 전자파 차폐층(30), 및 색보정층(40) 등이 구비되며, 마찬가지로, 각 층은 PET 필름과 PSA를 포함한다.On the other hand, as shown in FIG. 5, the glass filter is provided with the anti-reflective layer 20, the electromagnetic shielding layer 30, the color correction layer 40, and the like on a separate glass substrate 50. Likewise, each layer comprises a PET film and a PSA.

이와 같은 글래스 필터는 기판으로서 강화 유리를 사용하기 때문에 외부 충격으로부터의 보호는 우수할 수 있다. 그러나 이러한 보호막으로서의 강화 유리의 무게 때문에 디스플레이 장치 전체의 중량이 크게 증가할 뿐 아니라, 이중 반사 이미지가 발생하는 등, 광학 특성이 저하되는 문제점이 있었다.Since such a glass filter uses tempered glass as a substrate, the protection from an external impact can be excellent. However, due to the weight of the tempered glass as the protective film, not only the weight of the entire display device is greatly increased, but also a double reflection image is generated, such that optical characteristics are deteriorated.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 평판 디스플레이 패널의 필터에 있어서, 패널의 광학적 특성을 향상시키면서 패널을 외부의 충격으로부터 보호할 수 있도록 하는 평판 디스플레이 패널의 필터 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and in the filter of the flat panel display panel, a filter of the flat panel display panel and a method of manufacturing the same which can protect the panel from external impact while improving the optical characteristics of the panel. To provide.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제 1관점으로서, 본 발명은, 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과; 상기 기판 위에 위치하는 반사방지층을 포함하여 구성함으로써 달성된다.As a first aspect for achieving the technical problem of the present invention as described above, the present invention is formed of a synthetic resin, a substrate containing a plurality of transparent particles; It is achieved by including an anti-reflection layer located on the substrate.

상기 기판은 아크릴 수지, 에폭시 수지, PMMA(poly methyl methacrylate) 수지 중 어느 하나를 이용하여, 상기 투명입자와 함께 압출성형 또는 사출성형되어 형성하는 것이 바람직하다.The substrate is preferably formed by extrusion molding or injection molding with the transparent particles using any one of an acrylic resin, an epoxy resin, and a poly methyl methacrylate (PMMA) resin.

또한, 상기 기판에는 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정 용 안료 등을 포함하는 광투과율 조절용 안료가 포함될 수 있으며, 상기 안료들을 포함하는 광투과율 조절층이 별도로 형성될 수도 있다.In addition, the substrate may include a light transmittance adjusting pigment including a near infrared absorption pigment, a near ultraviolet absorption pigment, a color correction pigment, and the like, and a light transmittance adjusting layer including the pigments may be formed separately.

상기 투명입자는 상기 기판의 모체와 동일한 굴절률을 가지는 구형 또는 타원체 입자이며, 탄성물질이 포함된 고가교(cross-linked)의 합성수지 입자를 이용하는 것이 바람직하다.The transparent particles are spherical or ellipsoidal particles having the same refractive index as the matrix of the substrate, and it is preferable to use cross-linked synthetic resin particles containing an elastic material.

한편, 상기 기판과 반사방지층 사이에는, 패널에서 발생하는 전자파(EMI: electro-magnetic interference)를 차폐하기 위한 전자파 차폐층을 더 포함하는 것이 바람직하다.On the other hand, between the substrate and the anti-reflection layer, it is preferable to further include an electromagnetic shielding layer for shielding electromagnetic waves (EMI) generated in the panel.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제 2관점으로서, 본 발명은, 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과; 상기 기판의 일측 평면에 위치하는 전자파 차폐층을 포함하여 구성함으로써 달성된다.As a second aspect for achieving the technical problem of the present invention as described above, the present invention is formed of a synthetic resin, a substrate containing a plurality of transparent particles; It is achieved by including an electromagnetic shielding layer located in one plane of the substrate.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제 3관점으로서, 본 발명은, 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과; 상기 기판의 일측 평면에 위치하는 광투과 조절층을 포함하여 구성함으로써 달성된다.As a third aspect for achieving the technical problem of the present invention as described above, the present invention is formed of a synthetic resin, a substrate containing a plurality of transparent particles; It is achieved by including a light transmission control layer located in one plane of the substrate.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제 4관점으로서, 본 발명은, 광투과율 조절용 안료가 함유된 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함되어 구성함으로써 달성된다.As a fourth aspect for achieving the technical problem of the present invention as described above, the present invention is achieved by forming a synthetic resin containing a pigment for light transmittance adjustment, comprising a plurality of transparent particles.

상기와 같은 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 제 5관점으로서, 본 발명은, 본 발명은, 합성수지를 투명입자와 함께 성형하여 기판을 제조하는 단계와; 상기 기판 위에 전자파 차폐층을 형성하는 단계와; 상기 전자파 차폐층 위에 반사 방지층을 형성하는 단계를 포함하여 구성함으로써 달성된다.As a fifth aspect for achieving the technical problem of the present invention as described above, the present invention, the step of forming a substrate by molding a synthetic resin with transparent particles; Forming an electromagnetic shielding layer on the substrate; And forming an antireflection layer over the electromagnetic shielding layer.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 의한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 6에서 도시하는 바와 같이, 본 발명의 필터는 크게, 기판(100)과, 이 기판(100) 위에 형성되는 전자파 차폐층(200)과, 반사방지층(300)으로 구성된다.As shown in FIG. 6, the filter of the present invention is largely composed of a substrate 100, an electromagnetic shielding layer 200 formed on the substrate 100, and an antireflection layer 300.

기판(100)은 합성수지로 형성되며, 투명한 아크릴 수지, 에폭시 수지, PMMA(poly methyl methacrylate) 수지 등으로 형성되는 것이 바람직하다.The substrate 100 is formed of a synthetic resin, and preferably formed of a transparent acrylic resin, an epoxy resin, a polymethyl methacrylate (PMMA) resin, or the like.

이러한 기판(100)에는 투명입자(110)가 함께 압출성형되거나 사출성형되어 형성될 수 있다. 이때, 상기 투명입자(110)는 기판(100) 내에서 일정한 분포나 배열을 이루도록 하는 것이 바람직하다.The substrate 100 may be formed by extrusion molding or injection molding the transparent particles 110 together. In this case, it is preferable that the transparent particles 110 form a constant distribution or arrangement in the substrate 100.

상기 투명입자(110)는 기판(100)의 모체인 합성수지와 동일한 굴절률을 가지는 입자로서, 기판(100)과 함께 제작되었을 때, 빛의 산란이나 굴절 없이 높은 투과율을 가지므로, 이러한 투명입자(110)는 필터 또는 이 필터가 설치되는 패널의 광학적 특성을 저하시키지 않는다.The transparent particles 110 are particles having the same refractive index as that of the synthetic resin, which is the parent of the substrate 100. When the transparent particles 110 are manufactured together with the substrate 100, the transparent particles 110 have high transmittance without scattering or refraction of light. ) Does not deteriorate the optical characteristics of the filter or the panel in which it is installed.

이러한 투명입자(110)는 합성수지 입자를 사용할 수 있으며, 특히, 고가교(cross-linked)의 아크릴계 입자를 사용하는 것이 바람직하다.The transparent particles 110 may use synthetic resin particles, and in particular, it is preferable to use cross-linked acrylic particles.

이때, 투명입자(110)는 직경이 0.1 내지 1㎛인 구형입자를 이용할 수 있으나, 그 외에 타원체형 또는 기타 형상을 갖는 입자를 이용할 수도 있다. At this time, the transparent particles 110 may use spherical particles having a diameter of 0.1 to 1㎛, in addition to the particles having an ellipsoid or other shape.

또한, 상기 투명입자(110)는 고무 등의 탄성물질을 일부 포함할 수 있다.In addition, the transparent particles 110 may include some elastic materials such as rubber.

이러한 투명입자(110)는 기판(100)을 이루는 물질들을 서로 연결하며 기 판(100)의 내충격성을 강화시킬 수 있고, 특히, 비틀림성, 휨성 등에 대한 특성을 크게 향상시킬 수 있다.The transparent particles 110 may connect materials constituting the substrate 100 to each other and reinforce the impact resistance of the substrate 100, and in particular, greatly improve the characteristics of torsion, warpage, and the like.

따라서, 이러한 기판(100)을 이용하는 필터는 강화 유리를 이용한 필터보다 매우 가벼우면서 높은 내충격성을 가질 수 있다.Therefore, the filter using the substrate 100 may have a very light impact resistance and very light than the filter using the tempered glass.

이러한 기판(100)의 두께는 0.1 내지 10mm의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.The thickness of the substrate 100 is preferably formed to a thickness of 0.1 to 10mm.

한편, 상기 기판(100)에는 근적외선(NIR: near infra-red) 흡수용 안료, 근자외선(NUV: near ultra-violet) 흡수용 안료, 기타 색보정용 안료 등의 광투과율 조절용 안료가 포함되어 형성될 수 있다.Meanwhile, the substrate 100 may include a pigment for light transmittance adjustment such as near infra-red (NIR) absorption pigments, near ultra-violet (NUV) absorption pigments, and other color correction pigments. Can be.

평판 디스플레이 패널의 종류에 따라서는 패널의 구동시 근적외선이나 근자외선이 발생할 수 있다. Depending on the type of flat panel display panel, near-infrared rays or near-ultraviolet rays may be generated when the panel is driven.

특히, 패널에서 발생하는 파장 대역이 800 내지 1000nm인 근적외선은, 디스플레이 장치를 제어하기 위한 것으로 대략 974nm 파장의 적외선을 이용하는 리모트 콘트롤러(remote controller)의 조작을 방해할 수 있으므로, 이러한 근적외선 흡수용 안료를 포함시킴으로써 근적외선 방출을 방지하거나 특정량 이하로 감소시킬 수 있다.In particular, near infrared rays having a wavelength band of 800 to 1000 nm generated in the panel are used to control the display device and may interfere with the operation of a remote controller using infrared rays having a wavelength of approximately 974 nm. Inclusion can prevent or reduce near-infrared radiation below a certain amount.

특히, PDP 패널인 경우에는 방전공간에서의 방전에 의하여 불필요한 근자외선이 발생할 수도 있다.In particular, in the case of the PDP panel, unnecessary near ultraviolet rays may be generated by the discharge in the discharge space.

또한 PDP 패널에서는 방전시 발생하는 자외선에 의하여 방전 공간 내의 네온 가스에 의하여 네온광이 발생하거나 기타 방전 가스의 천이 과정에서 불필요한 가 시광선이 발생할 수 있다.In addition, in the PDP panel, neon light may be generated by neon gas in the discharge space by ultraviolet rays generated during discharge, or unnecessary visible light may be generated during the transition of other discharge gases.

이러한 불필요한 근자외선이나 기타 색상을 띠는 가시광선은 상술한 근자외선(NUV: near ultra-violet) 흡수용 안료, 색보정용 안료를 통하여 제거하거나 특정량 이하로 감소시킬 수 있다.Such unnecessary near-ultraviolet rays or other color visible rays may be removed or reduced to below a certain amount through the above-mentioned near ultra-violet (NUV) absorption pigments and color correction pigments.

또한, 상기 색보정용 안료는 특정 파장의 빛을 흡수하여 패널의 특정 색감을 차단하거나 향상시킬 수 있다.In addition, the color correction pigment may absorb a specific wavelength of light to block or improve the specific color of the panel.

한편, 상술한 바와 같이, 기판(100)에 광투과율 조절용 안료를 포함시키는 대신에, 도 7에서와 같이, 상기 광투과율 조절 기능을 가지는 별도의 광투과율 조절층(400)을 형성할 수도 있다.On the other hand, as described above, instead of including the light transmittance adjustment pigment in the substrate 100, as shown in Figure 7, it is also possible to form a separate light transmittance control layer 400 having the light transmittance control function.

이러한 광투과율 조절층(400)은 근적외선(NIR: near infra-red) 흡수용 안료, 근자외선(NUV: near ultra-violet) 흡수용 안료, 기타 색보정용 안료를 포함하는 합성수지 바인더를 이용하여 형성할 수 있다.The light transmittance control layer 400 may be formed by using a synthetic resin binder including a near infrared light (NIR) absorbing pigment, a near ultraviolet light (NUV) absorbing pigment, and other color correction pigments. Can be.

반면, 별도의 근적외선 흡수층, 근자외선 흡수층, 색보정층으로 각각 이루어질 수도 있다.On the other hand, it may be made of a separate near-infrared absorbing layer, near-infrared absorbing layer, and color correction layer, respectively.

이와 같은 광투과율 조절층(400)은 전자파 차폐층(200)과 반사방지층(300) 사이에 형성하는 것이 바람직하다.The light transmittance adjusting layer 400 is preferably formed between the electromagnetic shielding layer 200 and the anti-reflection layer 300.

따라서, 반사방지층(300)은, 도 6과 같은 구조에서는 하측에 위치하는 전자파 차폐층(200) 위에 위치하며, 도 7과 같이, 별도의 광투과 조절층(400)이 위치하는 경우에는 이 광투과 조절층(400) 위에 위치한다.Therefore, the anti-reflection layer 300 is positioned on the electromagnetic shielding layer 200 positioned below in the structure as shown in FIG. 6, and as shown in FIG. 7, when a separate light transmission control layer 400 is located, the light is provided. Located on the transmission control layer 400.

한편, 상기 기판(100) 위에 형성되는 전자파 차폐층(200)은 패널에서 발생할 수 있는 전자파 장애(EMI: electro-magnetic interference)를 차폐할 수 있다.Meanwhile, the electromagnetic shielding layer 200 formed on the substrate 100 may shield electro-magnetic interference (EMI) that may occur in the panel.

이러한 전자파 차폐층(200)은, 도 8에서와 같이, 적어도 하나의 도전층(210)과 피복층(220)으로 이루어지며, 이러한 도전층(210)은 구리(Cu), 은(Ag) 등과 같은 도전성 물질의 망상 구조일 수 있다.As shown in FIG. 8, the electromagnetic shielding layer 200 includes at least one conductive layer 210 and a coating layer 220, and the conductive layer 210 is formed of copper (Cu), silver (Ag), or the like. It may be a network structure of a conductive material.

반면 상기 도전층(210)으로서, 도 9에서와 같이, 막을 이루는 투명도전층(230)과 금속도전층(240)으로 형성될 수도 있다. 이때, 투명도전층(230)은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 금속 산화물을 이용할 수 있고, 금속도전층(240)은 은(Ag)을 이용하는 것이 바람직하다.On the other hand, as the conductive layer 210, as shown in Figure 9, it may be formed of a transparent conductive layer 230 and a metal conductive layer 240 forming a film. In this case, the transparent conductive layer 230 may use a metal oxide such as indium tin oxide (ITO), and the metal conductive layer 240 preferably uses silver (Ag).

이때, 도 9에서 도시하는 바와 같이, 상기 투명도전층(230)과 금속도전층(240)은 두 층 이상을 교대로 형성할 수 있으며, 통상, 투명도전층(230)보다 금속도전층(240)이 얇게 형성된다. 이러한 금속도전층(240)은 불투명 재료이나 소정의 두께 이하에서는 투명한 특성을 보일 수 있다.In this case, as shown in FIG. 9, the transparent conductive layer 230 and the metal conductive layer 240 may be formed in alternating two or more layers. In general, the metal conductive layer 240 may be formed more than the transparent conductive layer 230. It is thinly formed. The metal conductive layer 240 may exhibit a transparent characteristic under an opaque material or a predetermined thickness.

한편, 상기 반사방지층(300)은 하층에 직접 형성될 수도 있고, 별도의 필름을 라미네이팅하여 형성할 수도 있다.On the other hand, the anti-reflection layer 300 may be formed directly on the lower layer, or may be formed by laminating a separate film.

상기 반사방지층(300)이 전자파 차폐층(200) 또는 광투과 조절층(400)과 같은 하층(200/400)에 직접 형성되는 경우에는, 도 10과 같이, 경화층(hard layer: 310) 위에 고굴절층(high refractive index layer: 320)이 위치하고, 이 고굴절층(320) 위에는 저굴절층(low refractive index layer: 330)이 위치한다.When the anti-reflection layer 300 is formed directly on the lower layer 200/400 such as the electromagnetic wave shielding layer 200 or the light transmission control layer 400, as shown in FIG. 10, on the hard layer 310. A high refractive index layer 320 is positioned, and a low refractive index layer 330 is positioned on the high refractive index layer 320.

반면, 반사방지층(300)이 별도의 필름으로 부착되는 경우에는, 도 11과 같이, 하층(200/400)에 부착되는 점착층(340)과, 이 점착층 위에 위치하는 경화 층(310)과, 이 경화층(310) 위에 위치하는 PET 필름(350)과, 이 PET 필름(350) 위에 위치하는 고굴절층(320)과 저굴절층(330)으로 이루어질 수 있다.On the other hand, when the anti-reflection layer 300 is attached to a separate film, as shown in Figure 11, the adhesive layer 340 attached to the lower layer (200/400), and the cured layer 310 positioned on the adhesive layer and , The PET film 350 positioned on the cured layer 310, the high refractive layer 320 and the low refractive layer 330 positioned on the PET film 350.

상기 점착층(340)은 PSA(pressure sensitive adhesive)이거나 재작업 가능한 PSA 일 수 있다.The adhesive layer 340 may be a pressure sensitive adhesive (PSA) or a reworkable PSA.

한편, 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자(110)가 포함된 기판(100)에, 상기 전자파 차폐층(200)을 포함하여 구성할 수도 있고, 상술한 기판(100)에, 광투과 조절층(400)을 포함하여 구성할 수도 있다.Meanwhile, the electromagnetic wave shielding layer 200 may be included in the substrate 100, which is formed of synthetic resin and includes a plurality of transparent particles 110, and the light transmission control layer may be formed in the substrate 100. It may be configured to include (400).

또한, 상기 다수의 투명입자(110)가 포함된 기판(100)을 광투과율 조절용 안료가 함유된 합성수지로 형성하여 단일체로 사용할 수도 있음은 물론이다.In addition, the substrate 100 including the plurality of transparent particles 110 may be formed of a synthetic resin containing a pigment for controlling light transmittance and may be used as a single body.

이하, 상기 도 5 내지 도 11을 참고하여, 본 발명의 제조방법의 일 실시예를 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 to 11.

우선, 아크릴계 고가교 투명입자(110)를 투명한 합성수지인 아크릴 수지, 에폭시 수지, PMMA 수지 등 적어도 어느 하나와 함께 압출성형하거나 사출성형하여 기판(100)을 제조한다.First, the substrate 100 is manufactured by extrusion molding or injection molding the acrylic high-crosslinked transparent particles 110 together with at least one of an acrylic resin, an epoxy resin, and a PMMA resin, which are transparent synthetic resins.

이때, 상술한 바와 같이, 기판(100)의 제조시에 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료를 포함하여 제조할 수 있다.At this time, as described above, the production of the substrate 100 may include a near infrared absorption pigment, a near ultraviolet absorption pigment, a color correction pigment.

이러한 기판(100)은 0.1 내지 10mm의 두께로 형성한다.The substrate 100 is formed to a thickness of 0.1 to 10mm.

이와 같은 기판(100) 위에 도 8 또는 도 9에서와 같은 전자파 차폐층(200)을 형성한다.An electromagnetic shielding layer 200 as shown in FIG. 8 or 9 is formed on the substrate 100 as described above.

도 8에서 도시하는 바와 같이, 구리와 같은 도전체의 망상 구조의 도전 층(210)을 기판(100) 위에 형성한다. 이때, 망상 구조의 도전층(210)은 도전체를 얇게 형성한 후, 식각하여 형성할 수 있고, 망상 구조로 기 제작된 도전층(210)을 부착하거나, 잉크젯법, 오프셋법 등과 같은 기타 다양한 방법으로 형성할 수 있다.As shown in FIG. 8, a conductive layer 210 having a network structure of a conductor such as copper is formed on the substrate 100. In this case, the conductive layer 210 of the network structure may be formed by forming a thin conductor and then etching, attaching the conductive layer 210 made of the network structure, or various other methods such as an inkjet method and an offset method. It can form by a method.

상기 도전층(210)의 망상 구조를 감싸거나, 망상 구조를 이루는 빈틈을 매우는 피복층(220)을 도전층(210) 위에 형성함으로써, 전자파 차폐층(200)을 완성한다.The electromagnetic shielding layer 200 is completed by covering the network structure of the conductive layer 210 or forming a covering layer 220 on the conductive layer 210 to fill a gap forming the network structure.

이때, 이러한 전자파 차폐층(200)은 디스플레이 장치 제작시에 장치의 케이스 등에 접지될 수 있도록 한다.In this case, the electromagnetic shielding layer 200 may be grounded to a case of the device or the like when the display device is manufactured.

또한, 도 9에서와 같이, 기판(100) 위에 투명도전층(230)과 금속도전층(240)을 반복하여 형성하여 전자파 차폐층(200)을 형성할 수도 있다.In addition, as illustrated in FIG. 9, the electromagnetic shielding layer 200 may be formed by repeatedly forming the transparent conductive layer 230 and the metal conductive layer 240 on the substrate 100.

즉, 기판(100) 위에 ITO와 같은 투명한 물질로 투명도전층(230)을 형성하고, 그 위에 은(Ag)과 같은 물질로 금속도전층(240)을 형성한다.That is, the transparent conductive layer 230 is formed of a transparent material such as ITO on the substrate 100, and the metal conductive layer 240 is formed of a material such as silver (Ag) thereon.

이때, 형성법은 다양한 박막 형성법이 모두 이용될 수 있으나, 특히, 스퍼터(sputter)법을 이용하는 것이 바람직하다.In this case, various thin film forming methods may be used, but in particular, it is preferable to use a sputter method.

이러한 투명도전층(230)과 금속도전층(240)은 교대로 형성되며, 2회 또는 그 이상 적층되어 형성될 수 있다.The transparent conductive layer 230 and the metal conductive layer 240 are alternately formed, and may be formed two or more times.

이와 같은 전자파 차폐층(200)의 두께는 대략 5 내지 20㎛가 된다.The thickness of the electromagnetic wave shielding layer 200 is approximately 5 to 20 μm.

이후, 이러한 전자파 차폐층(200) 위에는 선택적으로 광투과 조절층(400)이 형성될 수 있다(도 7 참고).Thereafter, the light transmission control layer 400 may be selectively formed on the electromagnetic shielding layer 200 (see FIG. 7).

즉, 기판(100)의 제조시에 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색 보정용 안료가 포함되어 제조되지 않은 경우에는, 별도의 광투과 조절층(400)을 형성한다.That is, in the case of manufacturing the substrate 100, when the near infrared absorption pigment, the near ultraviolet absorption pigment, and the color correction pigment are not manufactured, a separate light transmission control layer 400 is formed.

이러한 광투과 조절층(400)은 합성수지 바인더를 용제에 녹인 후, 상기 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료를 포함시켜 재료 용액을 제조한 후, 이러한 용액을 상기 전자파 차폐층(200) 위에 직접 코팅하고 건조함으로써 형성한다.The light transmission control layer 400 dissolves a synthetic resin binder in a solvent, and includes a near infrared absorption pigment, a near ultraviolet absorption pigment, and a color correction pigment to prepare a material solution. 200) directly by coating and drying.

이때, 이러한 재료 용액의 조성은 대략 다음과 같다.At this time, the composition of this material solution is approximately as follows.

즉, 유기 용제(solvent)가 60 내지 95 wt.%, 바인더가 5 내지 40 wt.%, 그리고 상기 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료 등이 0.01 내지 5 wt.%를 이룬다.That is, 60 to 95 wt.% Of organic solvent, 5 to 40 wt.% Of binder, and 0.01 to 5 wt.% Of the near-infrared absorbing pigment, near-ultraviolet absorbing pigment, and color correction pigment. .

이러한 재료 용액이 건조되면 유기 용제는 제거되고 안료와 바인더가 남는 상태가 된다.When this material solution is dried, the organic solvent is removed and the pigment and binder remain.

한편, 이러한 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료를 모노머, 올리고머에 혼합하여 열경화 또는 UV 경화시켜 형성할 수도 있다. 이런 경우, 열경화 개시제 또는 UV 경화 개시제가 포함되어야 한다.On the other hand, the near-infrared absorbing pigment, the near-infrared absorbing pigment, and the color correction pigment may be mixed with a monomer or an oligomer and formed by thermosetting or UV curing. In this case, a thermal curing initiator or UV curing initiator should be included.

이러한 광투과 조절층(400)의 두께는 대략 50 내지 150㎛로 형성한다.The thickness of the light transmission control layer 400 is formed to approximately 50 to 150㎛.

상기 전자파 차폐층(200) 위에, 또는 이러한 별도의 광투과 조절층(400)이 형성된 경우라면, 이 광투과 조절층(400) 위에는 반사방지층(300)을 형성한다.If the electromagnetic wave shielding layer 200 or if the separate light transmission control layer 400 is formed, the antireflection layer 300 is formed on the light transmission control layer 400.

반사방지층(300)을 직접 형성하는 경우에는, 도 10과 같이, 전자파 차폐층(200) 또는 광투과 조절층(400) 위에 경화층(hard layer: 310), 고굴절층(high refractive index layer: 320), 및 저굴절층(low refractive index layer: 330)을 차례로 도포하여 형성한다.When the anti-reflection layer 300 is directly formed, as shown in FIG. 10, a hard layer 310 and a high refractive index layer 320 are disposed on the electromagnetic wave shielding layer 200 or the light transmission control layer 400. ), And a low refractive index layer 330 are applied in sequence.

이러한 반사방지층(300) 및 상술한 층들의 형성은 스핀 코팅, 롤 코팅, 스프레이 코팅, 바 코팅 등 다양한 습식 코팅법을 이용하여 형성할 수 있다.The antireflection layer 300 and the above-described layers may be formed using various wet coating methods such as spin coating, roll coating, spray coating, and bar coating.

반면, 반사방지층(300)이 별도의 필름으로 부착되는 경우에는, 도 11과 같이, 점착층(340)을 전자파 차폐층(200) 또는 광투과 조절층(400) 위에 부착하여 형성한다.On the other hand, when the anti-reflection layer 300 is attached to a separate film, as shown in Figure 11, the adhesive layer 340 is formed by attaching on the electromagnetic shielding layer 200 or the light transmission control layer 400.

이와 같은 반사방지층(300)은 대략 5 내지 150㎛의 두께로 형성한다.Such an antireflection layer 300 is formed to a thickness of approximately 5 to 150㎛.

상기 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구체적으로 설명하기 위한 일례로서, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 다양한 형태의 변형이 가능하고, 이러한 기술적 사상의 여러 실시 형태는 모두 본 발명의 보호범위에 속함은 당연하다.The above embodiment is an example for explaining the technical idea of the present invention in detail, and the present invention is not limited to the above embodiment, various modifications are possible, and various embodiments of the technical idea are all protected by the present invention. It belongs to the scope.

이상과 같은 본 발명은 다음과 같은 효과가 있는 것이다.The present invention as described above has the following effects.

첫째, 투명입자를 포함한 합성수지 기판을 이용하여 필터의 중량이 가볍고 내충격성이 우수하다.First, the weight of the filter is light and excellent impact resistance using a synthetic resin substrate containing transparent particles.

둘째, 적은 수의 층으로 필터를 구성할 수 있고, 고가의 재료를 반복적으로 이용하지 않으므로 적은 공정수와 비용으로 필터를 제조할 수 있다.Second, the filter can be composed of a small number of layers, and the filter can be manufactured with a low number of processes and costs since it does not repeatedly use expensive materials.

셋째, 필터를 이용함에 따라 이중반사, 평활성 저하 등의 광학적 특성을 저하시키는 문제점이 발생하지 않는다.Third, the use of the filter does not cause a problem of lowering optical characteristics such as double reflection and reduced smoothness.

Claims (26)

합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과;A substrate formed of a synthetic resin and including a plurality of transparent particles; 상기 기판의 일측 평면에 위치하는 반사방지층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.And an anti-reflection layer disposed on one side plane of the substrate. 제 1항에 있어서, 상기 기판은 아크릴 수지, 에폭시 수지, PMMA(poly methyl methacrylate) 수지 중 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the substrate is formed of any one of an acrylic resin, an epoxy resin, and a poly methyl methacrylate (PMMA) resin. 제 1항에 있어서, 상기 기판은 상기 투명입자와 함께 압출성형 또는 사출성형되어 형성된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the substrate is formed by extrusion molding or injection molding together with the transparent particles. 제 1항에 있어서, 상기 기판에는 광투과율 조절용 안료가 포함된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the substrate comprises a pigment for controlling light transmittance. 제 4항에 있어서, 상기 광투과율 조절용 안료는, 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 4, wherein the light transmittance pigment comprises at least one of a near infrared ray absorption pigment, a near ultraviolet ray absorption pigment, and a color correction pigment. 제 1항에 있어서, 상기 기판의 두께는 0.1 내지 10mm인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the substrate has a thickness of 0.1 to 10 mm. 제 1항에 있어서, 상기 투명입자는, 상기 기판의 모체와 동일한 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the transparent particles have the same refractive index as that of the substrate of the substrate. 제 1항에 있어서, 상기 투명입자는, 구형 또는 타원체형인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the transparent particles are spherical or ellipsoidal. 제 1항에 있어서, 상기 투명입자에는, 탄성물질이 포함된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the transparent particles include an elastic material. 제 1항에 있어서, 상기 투명입자는, 고가교의 합성수지 입자인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the transparent particles are high-crosslinked synthetic resin particles. 제 1항에 있어서, 상기 투명입자의 직경은 0.1 내지 1㎛인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the transparent particles have a diameter of about 0.1 μm to about 1 μm. 제 1항에 있어서, 상기 반사방지층은, 하층에 직접 도포되어 형성되는 고굴절층과, 상기 고굴절층보다 굴절률이 낮은 저굴절층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, wherein the anti-reflection layer comprises a high refractive layer formed by directly applying the lower layer and a low refractive layer having a lower refractive index than the high refractive layer. 제 1항에 있어서, 상기 기판과 반사방지층 사이에는, 광투과 조절층이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, further comprising a light transmission control layer between the substrate and the anti-reflection layer. 제 13항에 있어서, 상기 광투과 조절층은,The method of claim 13, wherein the light transmission control layer, 근적외선 흡수층, 근자외선 흡수층, 색보정층 중 적어도 하나를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.A filter of a flat panel display panel comprising at least one of a near infrared absorbing layer, a near ultraviolet absorbing layer, and a color correction layer. 제 13항에 있어서, 상기 광투과 조절층은,The method of claim 13, wherein the light transmission control layer, 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료 중 적어도 어느 하나가 함유된 유기물 바인더로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.A filter for a flat panel display panel, which is formed of an organic binder containing at least one of a near infrared absorption pigment, a near ultraviolet absorption pigment, and a color correction pigment. 제 1항에 있어서, 상기 기판과 반사방지층 사이에는, 전자파 차폐층이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.The filter of claim 1, further comprising an electromagnetic shielding layer between the substrate and the antireflective layer. 제 16항에 있어서, 상기 전자파 차폐층은, The method of claim 16, wherein the electromagnetic shielding layer, 도전성 물질의 망상 구조인 도전층과;A conductive layer which is a network structure of a conductive material; 상기 도전층을 피복하는 피복층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평 판 디스플레이 패널의 필터.And a coating layer covering the conductive layer. 제 16항에 있어서, 상기 전자파 차폐층은,The method of claim 16, wherein the electromagnetic shielding layer, 투명도전층과 금속도전층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.A filter for a flat panel display panel comprising a transparent conductive layer and a metal conductive layer. 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과;A substrate formed of a synthetic resin and including a plurality of transparent particles; 상기 기판의 일측 평면에 위치하는 전자파 차폐층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.And a electromagnetic shielding layer positioned on one side plane of the substrate. 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함된 기판과;A substrate formed of a synthetic resin and including a plurality of transparent particles; 상기 기판의 일측 평면에 위치하는 광투과 조절층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.And a light transmission control layer positioned at one plane of the substrate. 광투과율 조절용 안료가 함유된 합성수지로 형성되며, 다수의 투명입자가 포함되어 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터.A filter of a flat panel display panel formed of a synthetic resin containing a pigment for controlling light transmittance, and comprising a plurality of transparent particles. 합성수지를 투명입자와 함께 성형하여 기판을 제조하는 단계와;Forming a substrate by molding the synthetic resin together with the transparent particles; 상기 기판 위에 전자파 차폐층을 형성하는 단계와;Forming an electromagnetic shielding layer on the substrate; 상기 전자파 차폐층 위에 반사방지층을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터 제조방법.And forming an anti-reflection layer on the electromagnetic shielding layer. 제 22항에 있어서, 상기 기판을 제조하는 단계는, 상기 합성수지 모체에 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료 중 적어도 하나를 포함하여 제조하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터 제조방법.23. The method of claim 22, wherein the manufacturing of the substrate comprises: manufacturing a filter of a flat panel display panel including at least one of a near infrared absorption pigment, a near ultraviolet absorption pigment, and a color correction pigment in the synthetic resin matrix. Way. 제 22항에 있어서, 상기 기판을 제조하는 단계는, 상기 합성수지 모체를 투명입자와 함께 압출 또는 사출성형하여 제조하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터 제조방법.23. The method of claim 22, wherein the manufacturing of the substrate is performed by extruding or injection molding the synthetic resin matrix together with the transparent particles. 제 22항에 있어서, 상기 전자파 차폐층을 형성하는 단계 이후에는,The method of claim 22, wherein after forming the electromagnetic shielding layer, 유기물 바인더에 근적외선 흡수용 안료, 근자외선 흡수용 안료, 색보정용 안료 중 적어도 하나를 포함하는 광투과 조절층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터 제조방법.A method of manufacturing a filter for a flat panel display panel, the method comprising: forming a light transmission control layer including at least one of a near infrared absorption pigment, a near ultraviolet absorption pigment, and a color correction pigment in an organic binder. 제 22항에 있어서, 상기 합성수지는, 아크릴 수지, 에폭시 수지, PMMA(poly methyl methacrylate) 수지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널의 필터 제조방법.The method of claim 22, wherein the synthetic resin is any one of an acrylic resin, an epoxy resin, and a polymethyl methacrylate (PMMA) resin.
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