KR100763390B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 격벽-기판이 일체화된 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 요철부가 형성되는 제 2 글라스 기판, 상기 요철부의 오목부의 저면에 하향으로 형성되는 홈, 상기 홈에 충진된 전극재, 상기 요철부의 오목부에 형성되는 RGB 형광체, 상기 요철부의 볼록부와 합착된 제 1 글라스 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 격벽, 유전체, 전극을 글라스 기판내에 일체화하여 형성함으로서 공정의 단순화, 원가 절감을 기할 수 있고, 유기 화합물을 사용하지 않으며 별도의 열소성 공정이 필요치 않음으로 가스 방출현상등에 의한 오염을 최소화 할 수 있어 안정된 특성을 확보할 수 있으며, 구조물에 대한 반복적인 열처리 과정이 필요치 않음으로 인해 표시 소자의 열적, 기계적 변형을 최소화 할 수 있고, 동시에 고강도의 구조물을 구현할 수 있다.
플라즈마 디스플레이 패널, PDP, 격벽-기판 일체화

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법{plasma display panel and the Manufacturing method of plasma display panel}
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조도
도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법도
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조도
도 4은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법의 일실시예도
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법의 이실시예도
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
100 : 제 1 패널 기판 110 ; 투명 전극
120 : 버스 전극 130 : 상판 유전체
140 : 보호막 200 : 제 2 패널 기판
210 : 어드레스 전극 220 : 하판 유전체
230 : 형광체 300 : 격벽
400 : 본 발명에 따른 격벽 형상의 프리폼(pre-form)
본 발명은 평판 디스플레이 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 차세대 대형 평판 디스플레이 시장을 주도하고 있는 것으로, 격벽으로 격리되어 있는 방전 셀에서 헬륨-네온(He-Ne), 네온-크세논(Ne-Xe) 가스에 의한 플라즈마 발광시에 발생하는 자외선이 형광체를 자극하여 여기 상태에서 기저 상태로 돌아갈 때 에너지차에 의해서 발생하는 발광 현상을 이용한 디스플레이 소자로서 크게 교류형(AC) 플라즈마 디스플레이 패널과 직류형(DC) 플라즈마 디스플레이 패널로 분류되고 있다.
이하 도면을 참조하여 종래 플라즈마 디스플레이 패널에 대해서 설명한다.
도 1에서와 같이 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 상부 글라스 기판(100), 하부 글라스 기판(200), 상부 글라스 기판(100)과 하부 글라스 기판(200)의 사이에서 방전 공간을 유지시켜주는 격벽(300)으로 구성되어 있다.
상부 글래스 기판(100)상에는 투명 전극(110), 버스 전극(120), BM, 상판 유전체(130), 보호막(140)이 형성된다. 격벽(300), 그리고 하부 글라스 기판(200)상에는 어드레싱 전극(210), 하판 유전체(220), 형광체(230)이 형성된다.
상판 글라스 (100)의 경우 버스 전극(120)은 비교적 저항이 높은 투명 전도성 박막 위에서 저항 강하의 역할을 하게 되며 방전을 유지시켜준다. 통상 투명 박막은 진공 증착법, CVD, Sputtering 법 등으로 형성하며 버스 전극은 스크린 프린팅법, 라미네이팅법등을 사용하여 형성하며 대부분 은(Ag)전극재료를 사용하여 형성한다. 상판 유전체는 벽전하(wall charge)를 형성, 방전 유지 전압에 의해 방전 을 유지시키며, 플라즈마 방전 시에 이온 충격으로부터 전극을 보호하고 확산 방지막의 역할을 하게 된다. 대부분 산화납(PbO)이 주성분인 조성의 유전재료를 사용하며 전이점이 400℃근방으로서 소성온도는 560℃~580℃정도이며 최종 두께는 30~40um부분을 유지한다. 산화 마그네슘(MgO)은 이차전자 방출계수가 높은 재료로서 방전 전압을 강하시키고 동시에 방전을 유지시켜주며 이온 충격으로부터 유전체 및 전극을 보호해주는 역할을 하게 된다. 하판 글라스(200)의 경우 어드레싱 전극은 스크린 프린팅법, 라미네이팅법 등을 이용하여 형성하며 대부분 전도성이 우수한 은(Ag)전극을 사용한다. 어드레싱 전극 위에는 확산 방지막 역할을 함과 동시에 형광체로부터 후방으로 투과되는 가시광을 반사시키는 반사막 역할을 하고 격벽의 기저층 역할을 하게 되는 하판 유전체층을 형성하게 된다. 격벽은 플라즈마 디스플레이 패널소자에서 방전 유지 및 반사에 의한 발광 효율을 향상시키고 동시에 방전 셀간의 전기적, 광학적 상호 혼신을 방지하는 매우 중요한 역할을 한다. 일반적으로 하판 유전체와 격벽은 직경 1-2㎛크기의 PbO 또는 non-PbO 글라스 미분말에 반사특성 향상 및 유전율 조절을 위해 미분말 상태의 산화물을 수십 % 섞은 혼합분말을 유기 용매와 혼합하여 페이스트 상태로 만들어 형성한다. 하판 유전체의 형성 방법은 스크린 프린팅 법이나 라미네이팅 방법이 일반적이며 격벽은 샌드 블라스팅 법, 스크린 프린팅 법, 감광성법, 에칭 법 등 다양한 방법으로 형성하고 있다. 하판 유전체의 최종 두께는 약 20um, 격벽은 120~150um 정도의 두께를 합착하여 약 500 Torr의 불활성 방전 가스를 주입하여 소자 제작을 완료하게 된다.
일반적으로 현재의 플라즈마 디스플레이 패널의 표시 소자는 상판에 투명 전 극, 버스 전극, 유전체, 산화 마그네슘 보호막을 배치하고, 하판에는 어드레싱 전극, 화이트 백 유전체 층, 격벽, 형광체를 배치하는 구조로 되어 있다.
도 2를 참조하여 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 살펴보면, 하판에 해당하는 제 2 패널 기판(200) 상에 전극제를 도포(s21)하고, 노광/현상을 통해(s22), 전극을 소성하여 형성(s23)하고, 화이트-백 유전체를 형성(s24)하고, 격벽제를 도포(s25)하고, 노광/현상(s26)하여, 격벽을 형성(s27)하게되고, 격벽의 측면에 형광체를 도포한다(s28). 상판과 하판의 별도의 제조 과정이 완료되면, 상판과 하판을 합착하여 플라즈마 디스플레이 패널을 완성하게 된다.
그러나 현재 사용하는 격벽, 하판 유전체(WB), 전극 재료 등은 모두 유기 바인더를 사용하며 조성상의 한계와 잔류 기포, 불완전 소성 등의 문제로 인해 전극 변색 및 절연 파괴, 방전 가스 오염 등 특성열화의 원인이 되고 있으며 동시에 이들 재료들은 저 비용화의 제약 요소가 되고 있다. 특히 격벽은 유전체 재료 중 가장 많은 재료 비용을 차지하고 있으며, 격벽 내, 외부에 높은 비표면적을 갖는 미세한 기포의 존재로 인해 수분등 외부의 불순 가스를 흡착, 방전 도중 방전 셀은 오염시켜 구동 및 수명에 영향을 주게되고 다량의 기포가 존재하는 불완전 소성체 임으로 인해 외부의 충격에도 매우 취약하다. 결국 저비용화, 고휘도, 고화질, 저전력의 플라즈마 디스플레이 패널의 실현에도 많은 제약을 가하게 된다. 따라서 플라즈마 디스플레이 패널 표시 소자는 가능한 한 유전체 및 격벽 등 주요 구조물이 층수를 줄이거나 제거 또는 통합 일체화활 필요가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 글라스 기판 내에 하판 유전체, 격벽, 전극 등의 구조물을 통합 일체화시킨 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 요철부가 형성되는 제 2 글라스 기판, 상기 요철부의 오목부의 저면에 하향으로 형성되는 홈, 상기 홈에 충진된 전극재, 상기 요철부의 오목부에 형성되는 RGB 형광체, 상기 요철부의 볼록부와 합착된 제 1 글라스 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기 제 2 글라스 기판은 규소(Si), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 납(Pb), 비스무트(Bi)을 포함 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기 제 2 글라스 기판은 티탄(Ti), 아연(Zr), 납(Pb), 바나듐(V), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 또는 천이 원소계 원소중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기 제 2 글라스 기판은 핵 생성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기 전극재는 은(Ag)화합물, 나노(nano)분말, 또는 은(Ag)표면에 전도성 금속을 코팅한 재료중의 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 기판 상에 소정의 깊이를 갖는 하향의 제 1 홈을 형성하는 단계, 상기 형성된 홈에 전극재를 충진하는 단계, 상기 제 1 홈과 넓이가 같거나 넓고, 깊이가 얕은 제 2 홈을 상기 제 1 홈에 겹쳐 형성함으로써 저면부에 소정의 패턴화된 전극층을 남기는 단계 및 상기 전극층 상부와 상기 제 2 홈의 소정 영역에 RGB 형광체를 도포하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 방법에 있어서, 기판 상에 소정의 깊이를 갖는 하향의 제 1 홈을 형성하는 단계, 상기 제 1 홈과 넓이가 같거나 넓고, 깊이가 얕은 제 2 홈을 상기 제 1 홈에 겹쳐 형성함하는 단계, 상기 제 1 홈과 상기 제 2 홈의 깊이의 차에 의해 형성된 제 3 홈에 전극재를 충진하는 단계, 및 상기 제 3 홈 상부와 제 2 홈의 소정 영역에 RGB 형광체를 도포하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 제 1 홈을 형성하는 단계는 노광 및 현상하는 방법에 의하는 것이 바람직 하다.
상기 기판은 규소(Si), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 납(Pb) 및 비스무트(Bi) 중의 적어도 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하며,
상기 기판은 티탄(Ti), 아연(Zr), 납(Pb), 바나듐(V), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 또는 천이 원소계 원소중 적어도 하나 이상이 충진되어 있을 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면, 격벽, 유전체, 전극을 글라스 기판내에 일체화하여 형성함으로서 공정의 단순화, 원가 절감을 기할 수 있고, 유기 화합물을 사용하지 않으며 별도의 열소성 공정이 필요치 않음으로 가스 방출현상등에 의한 오염을 최소화 할 수 있어 안정된 특성을 확보할 수 있으며, 구조물에 대한 반복적인 열처리 과정이 필요치 않음으로 인해 표시 소자의 열적, 기계적 변형을 최소화 할 수 있고, 동시에 고강도의 구조물을 구현할 수 있다.
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이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시하는데, 격벽과 하부 패널이 별도의 과정에 의해 형성되지 아니하고, 하나의 공정으로 형성되어 일체 화되어 있는 것이 특징이며, 하부 기판에의 유전체없이 전극만으로 형성되어 있고, 전극은 글라스 기판내에 완전히 매몰된 상태로 되어 있다.
도 3을 참조하여 설명하면, 격벽과 하부 패널이 일체화되어 형성되어 있는데, 이는 감광성 글라스를 사용하여 노광/현상으로 요철부를 형성함으로써 종래의 글라스 기판상에 인쇄법등을 통해 격벽재를 덧바른 것과 달리, 하나의 글라스 패널 상에 하부 패널 기판과 격벽의 프리폼(pre-form)(400)을 형성하는 것이다.
상기 프리폼(pre-form)이 형성된 글라스 기판(400)은 규소(Si), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 납(Pb), 비스무트(Bi)등을 주성분으로 하고 잇다. 이는 감광성 글라스로써 노광/현상만으로 격벽형상을 형성할 수 있다. 이때 성분 함량비를 살펴보면, ,0 < 규소(Si) < 40wt%, 0 < 알루미늄(Al) < 40wt%, 0 < 마그네슘(Mg)< 20wt%, 0 < 칼슘(Ca) < 15wt%, 0 < 아연(Zn) < 15wt%, 0 < 바륨(Ba) < 20wt%, 0 < 스트론튬(Sr) < 5wt%, 0 < 납(Pb) < 5wt%, 0 < 비스무트(Bi) < 5wt% 의 중량비로 혼합되어 있다.
상기 프리폼(pre-form)이 형성된 글라스 기판(400)에는 조직 내부에 균일하게 티탄(Ti), 아연(Zr), 납(Pb), 바나듐(V), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 또는 천이 원소계 원소중 적어도 하나 이상의 화합물이 충진되어 있다. 이는 격벽의 강도를 유지하고, 가시광 반사효율을 증가 시킬 수 있게 한다.
상기 감광성 글라스 기판은 모상 글라스 성분내에 감광 특성을 가지는 요소 성분이 혼합되어 있거나, 또는 소자의 제작 도중 열처리에 의해서 감광 특성을 일으키는 특성이 발현되는 글라스이다.
본 발명에서 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 하부 패널에 존재하였던 하판 유전체는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널에서는 별도의 층으로써 존재하지 아니한다. 따라서 공정이 단순하게 되고, 비용을 절감할 수 있게 된다.
상기 격벽 형상의 프리폼(pre-form)형성을 위한 감광성 글라스 기판의 조직에 핵 생성제를 분산시켜 놓을 수 있는데, 이 경우 자외선 노광시 투과율을 증가시킬수 있다.
상기 전극(210)은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에서 하부 패널의 상부로 층을 형성하여 돌출되어 있는 것과 달리, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는 글라스 기판내에 완전히 매몰된 상태로 되어 있다. 따라서 높이 단차에 의한 문제도 없을 분 아니라 확산에 의한 영향도 최소화 할 수 있다.
또한 상기 전극재는 은(Ag)화합물, 나노(nano)분말, 또는 은(Ag)표면에 전도성 금속을 코팅한 재료 중의 하나로 형성되어 있다. 이를 통해 확산 현상을 효과적으로 방지하고, 황변 현상을 최소화 할 수 있다.
상기 형성된 글라스 기판과 전극이 형성된 제 1 글라스 기판과 합착하여 플라즈마 디스플레이 패널이 완성되게 된다.
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타낸다.
도 4를 참조하여 설명하면, 우선 감광성 글라스 기판에 노광/현상을 을 통해(s41) 격벽 형상의 프리폼(pre-form)을 형성하게 된다(s42). 상기 형성된 격벽 형상의 프리폼(pre-form)(400)은 요철부로 형성되게 되고, 따라서 오목부와 볼록부를 가지게 된다. 이때 오목부는 플라즈마 디스플레이 패널에서 방전 공간이 형성되게 되고, 볼록부는 격벽으로 형성하게 된다. 상기 오목부에 해당하는 제 1 홈에 전극재를 충진하게 되고(s43), 이 후 상기 홈과 넓이가 같거나 더 넓은 저면을 가지고, 깊이가 짧은 제 2 홈을 형성하게 되는데, 제 2 홈은 제 1 홈상에 형성되게 된다(s44). 이는 제 1 홈을 먼저 형성하고 전극재를 충진한 후 제 1 홈보다 더 넓지만 더 얕은 홈을 따내게 됨으로써, 저면에 소정의 높이로 전극재가 남게된다(s45). 상기 제 1 홈에 형광체(230)를 도포하고(s46), 제 1 글라스 기판과 합착함으로서 본 발명에 따르는 플라즈마 디스플레이 패널을 완성하게 된다.
도 5를 참조하면, 제 1 홈에 전극재를 먼저 충진하지 아니하고, 제 1 홈상에 제 2 홈을 형성한후, 제 1 홈과 제 2 홈의 높이의 차에 의해 형성된 제 3 홈에 전극재를 충진할 수도 있다. 우선 감광성 글라스 기판에 노광/현상을 을 통해(s51) 격벽 형상의 프리폼(pre-form)을 형성하게 된다(s52).상기 형성된 격벽 형상의 프리폼(pre-form)(400)은 요철부로 형성되게 되고, 따라서 오목부와 볼록부를 가지게 된다. 이때 오목부는 플라즈마 디스플레이 패널에서 방전 공간이 형성되게 되고, 볼록부는 격벽으로 형성하게 된다. 이 후 상기 홈과 넓이가 같거나 더 넓은 저면을 가지고, 깊이가 짧은 제 2 홈을 형성하게 되는데, 제 2 홈은 제 1 홈상에 형성되게 된다(s53). 상기 제 2 홈에 전극제를 충진하고(s54), 상기 제 1 홈에 형광체(230)를 도포하고(s55), 제 1 글라스 기판과 합착함으로서 본 발명에 따르는 플라즈마 디스플레이 패널을 완성하게 된다.
이때 전극재는 전기 영동법등을 통해 충진가능하다.
상기 감광성 글라스 기판에 대한 설명은 상기에서 설명하였으므로 생략한다.
상기 프리폼 형성을 위한 자외선 노광시 투과율을 증가시키기 위해서 감광성 글라스 기판의 조직에 핵 생성제를 분산시켜 놓은 뒤 전극 소성 공정에서 결정 성장 방법을 택하면 가시광 반사효율을 향상시킬 수 있다.
상기 전극(210)은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에서 하부 패널의 상부로 층을 형성하여 돌출되어 있는 것과 달리, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는 글라스 기판내에 완전히 매몰된 상태로 되어 있다. 따라서 높이 단차에 의한 문제도 없을 분 아니라 확산에 의한 영향도 최소화 할 수 있다.
또한 상기 전극재는 은(Ag)화합물, 나노(nano)분말, 또는 은(Ag)표면에 전도성 금속을 코팅한 재료 중의 하나로 형성되어 있다. 이를 통해 확산 현상을 효과적으로 방지하고, 황변 현상을 최소화 할 수 있다.
격벽 형상의 프리폼(pre-form)형성 이후에는 전극제를 채운 뒤 소성을 한후, 그린딩(grinding) 같은 기계적 방법, 또는 에칭, 레이져 가공, 전기 영동법 같은 물리화학적 방법으로 격벽 및 전극을 형성한다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 첨부된 청구 범위에서 알수 있는 바와 같이 본 발명이 속한 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 변형이 가능하고 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다.
상기에서 설명한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 효과를 설명하면 다음과 같다.
첫째, 격벽, 유전체, 전극을 글라스 기판내에 일체화하여 형성함으로서 공정의 단순화, 원가 절감을 기할 수 있다.
둘째, 유기 화합물을 사용하지 않으며 별도의 열소성 공정이 필요치 않음으로 가스 방출현상등에 의한 오염을 최소화 할 수 있어 안정된 특성을 확보할 수 있다.
셋째, 구조물에 대한 반복적인 열처리 과정이 필요치 않음으로 인해 표시 소자의 열적, 기계적 변형을 최소화 할 수 있고, 동시에 고강도의 구조물을 구현할 수 있다.

Claims (13)

  1. 요철부가 형성되는 제 2 글라스 기판;
    상기 요철부의 오목부의 저면에 하향으로 형성되는 홈;
    상기 홈에 충진된 전극재;
    상기 요철부의 오목부에 형성되는 RGB 형광체; 및
    상기 요철부의 볼록부와 합착된 제 1 글라스 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2 글라스 기판은 규소(Si), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 납(Pb) 및 비스무트(Bi) 중에 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2 글라스 기판은 티탄(Ti), 아연(Zr), 납(Pb), 바나듐(V), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 또는 천이 원소계 원소 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2 글라스 기판은 핵 생성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 전극재는 은(Ag)화합물, 나노(nano)분말, 또는 은(Ag)표면에 전도성 금속을 코팅한 재료중의 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서,
    기판 상에 소정의 깊이를 갖는 하향의 제 1 홈을 형성하는 단계;
    상기 형성된 홈에 전극재를 충진하는 단계;
    상기 제 1 홈과 넓이가 같거나 넓고, 깊이가 얕은 제 2 홈을 상기 제 1 홈에 겹쳐 형성함으로써 저면부에 소정의 패턴화된 전극층을 남기는 단계; 및
    상기 전극층 상부와 상기 제 2 홈의 소정 영역에 RGB 형광체를 도포하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  7. 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 방법에 있어서,
    기판 상에 소정의 깊이를 갖는 하향의 제 1 홈을 형성하는 단계;
    상기 제 1 홈과 넓이가 같거나 넓고, 깊이가 얕은 제 2 홈을 상기 제 1 홈에 겹쳐 형성함하는 단계;
    상기 제 1 홈과 상기 제 2 홈의 깊이의 차에 의해 형성된 제 3 홈에 전극재를 충진하는 단계; 및
    상기 제 3 홈 상부와 제 2 홈의 소정 영역에 RGB 형광체를 도포하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  8. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 제 1 홈을 형성하는 단계는 노광 및 현상하는 방법에 의하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  9. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 기판은 규소(Si), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 아연(Zn), 바륨(Ba), 스트론튬(Sr), 납(Pb) 및 비스무트(Bi) 중의 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  10. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 기판은 티탄(Ti), 아연(Zr), 납(Pb), 바나듐(V), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 또는 천이 원소계 원소 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  11. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 기판은 핵 생성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  12. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 전극재는 은(Ag)화합물, 나노(nano)분말, 또는 은(Ag)표면에 전도성 금속을 코팅한 재료중의 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  13. 제 6항에 있어서,
    상기 전극재를 충진하는 단계 후에 상기 전극재를 소성하는 단계를 더 포함하고, 상기 전극재 소성단계는 결정 성장 방법에 의하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
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