KR100741172B1 - Detector for centroid position of charge cloud - Google Patents
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Abstract
본 발명은 양극을 구성하는 회로기판의 상부면 또는 하부면에 외부 지연선을 구성함으로써, 미세채널판으로부터 입사하는 전하구름의 중심위치를 검출하기 위한 지연선 방식의 입자구름 위치 검출장치를 고밀도로 집적화시키는 것이다. 본 발명의 입자구름 위치 검출장치는 미세채널판으로부터 증폭된 전자구름으로부터 전자구름의 위치신호를 검출하는 양극을 포함하는 입자구름 위치 검출장치에 있어서, 상기 양극은, 제1 방향으로 형성되고 서로 평행한 복수개의 제1 지연선들과, 상기 제1 지연선들 사이에 나란히 형성되는 금속 패드를 구비한 제1 평면과; 상기 제1 평면의 하부에 상기 제1 방향과 수직인 제 2방향으로 형성되고, 서로 평행한 복수개의 제2 지연선들을 구비한 제2 평면과; 상기 제1 방향으로 형성되고, 상기 복수개의 제1 지연선들 중 서로 인접한 라인들을 연결하는 제1 외부지연선을 구비하되, 상기 제1 외부지연선은 상기 제1 지연선들과 평행하게 형성되도록 제3 평면에 형성되는 제1 상부지연선과, 제4 평면에 형성되며 인접하는 제1 상부지연선의 끝지점을 대각선으로 연결하는 제1 하부지연선으로 구성되고, 상기 제 4 평면의 하부 평면에는 상기 제2 방향으로 형성되고, 상기 복수개의 제2 지연선들 중 서로 인접한 라인들을 연결하는 제2 외부지연선을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, an external delay line is formed on an upper surface or a lower surface of a circuit board constituting an anode, so that the particle cloud position detection device of the delay line type particle cloud position detection device for detecting the center position of the charge cloud incident from the microchannel plate can be densely formed. To be integrated. In the particle cloud position detecting apparatus of the present invention, the particle cloud position detecting apparatus including an anode detecting a position signal of an electron cloud from an electron cloud amplified from a microchannel plate, wherein the anodes are formed in a first direction and parallel to each other. A first plane having a plurality of first delay lines and a metal pad formed side by side between the first delay lines; A second plane formed below the first plane in a second direction perpendicular to the first direction and having a plurality of second delay lines parallel to each other; A third external delay line formed in the first direction and connecting adjacent lines among the plurality of first delay lines, wherein the first external delay line is formed to be parallel to the first delay lines; The first upper delay line formed in the plane and the first lower delay line formed in the fourth plane and connecting the end points of the adjacent first upper delay line diagonally, the lower plane of the fourth plane in the second direction And a second external delay line connecting the adjacent lines among the plurality of second delay lines.
미세채널판, MCP, 위치, 검출기, 지연선Microchannel Plate, MCP, Position, Detector, Delay Line
Description
도 1은 미세채널판을 갖는 검출기를 도시한 도면1 shows a detector having a microchannel plate;
도 2는 Y축 방향으로 배열된 지연선을 갖는 제1 평면을 도시한 도면2 shows a first plane with delay lines arranged in the Y-axis direction;
도 3은 X축 방향으로 배열된 지연선을 갖는 제2 평면을 도시한 도면3 shows a second plane with delay lines arranged in the X-axis direction;
도 4는 제1 상부지연선이 배열된 제3 평면을 도시한 도면4 illustrates a third plane in which a first upper delay line is arranged;
도 5는 제1 하부지연선이 배열된 제4 평면을 도시한 도면5 is a view showing a fourth plane in which a first lower delay line is arranged;
도 6은 제2 상부지연선이 배열된 제5 평면을 도시한 도면6 is a view showing a fifth plane in which a second upper delay line is arranged;
도 7은 제2 하부지연선이 배열된 제6 평면을 도시한 도면FIG. 7 illustrates a sixth plane in which a second lower delay line is arranged;
도 8a는 제1 외부지연선의 구성을 개략적으로 도시한 도면8A is a diagram schematically showing a configuration of a first external delay line
도 8b는 제2 외부지연선의 구성을 개략적으로 도시한 도면8B is a diagram schematically showing a configuration of a second external delay line
도 9는 도 2의 X-X' 선의 단면도9 is a cross-sectional view taken along the line X-X 'of FIG.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
11 제1 지연선 12 금속패드11
13 제1 비아 14a 제2 비아13
14b 제3비아 21 제2 지연선 14b
31 제1 상부지연선 41 제1 하부지연선31 First
51 제2 상부지연선 61 제2 하부지연선51 Second
100 양극100 anodes
본 발명은 입자구름의 위치 검출장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 양극을 구성하는 회로기판의 상부면 또는 하부면에 외부 지연선을 구성함으로써 집적도가 향상된 입자구름 위치 검출장치에 관한 것이다.The present invention relates to a particle cloud position detection device, and more particularly, to a particle cloud position detection device having an improved degree of integration by forming an external delay line on an upper surface or a lower surface of a circuit board constituting an anode.
미세채널판(Microchannel Plate; MCP) 검출기는 전자, 이온, 극자외선(Ultra Violet; UV), 소프트 X-선 등의 검출이나 이미지를 얻기 위해 널리 사용되는 장치이다. Microchannel Plate (MCP) detectors are widely used for the detection and imaging of electrons, ions, ultra violet (UV), soft X-rays, and the like.
도 1에 도시된 바와 같이, MCP 검출기는 두개의 독립된 부품인 MCP(200)와 위치 검출용 양극(100)으로 구성된다. 빛을 구성하는 광자 빔이 MCP(200)로 입사되면, 광자는 전자로 변환 및 증폭되어 수백만 개의 전자로 구성된 전자구름(Electron Cloud)을 형성하여 MCP(200)의 하부에 설치된 양극(100)으로 전달된다.As shown in FIG. 1, the MCP detector is composed of two independent components, the
양극(100)은 전자구름에 의해 발생되는 펄스형 전압으로부터 전자구름의 위치를 파악하는 것으로, 웨지(Wedge) 방식, 지연선(Delay Line) 방식 등 여러 가지가 있으나, 현재 가장 널리 사용되는 것은 지연선 방식이다. The
도 1은 지연선 방식의 양극(100)을 사용한 것이다. 양극(100)은 X축 방향으로 형성된 다수의 꼬불꼬불한 모양의 지연선(100a)으로 구성되며, 각 지연선의 끝 에는 증폭기(101)가 연결되어 지연선에서 발생된 전압을 감지한다. 즉, 양극 상의 일정 위치에 전달된 전자구름에 의해 발생된 펄스형의 전압이 각 지연선에 연결된 증폭기(101)에 의해 증폭되어 감지하며, 펄스가 각 증폭기에 전달된 시각으로부터 펄스가 전달되는 지연시간을 계산하여 상기 전자구름의 위치를 정확히 알 수 있다. 1 uses a delay line anode (100). The
이와 같은 방식으로 1차원의 위치 데이터를 얻을 수 있으며, 2차원 위치 데이터를 얻기 위해서는 서로 수직한 X축 및 Y축 방향의 지연선을 구비하여야 한다. In this way, one-dimensional position data can be obtained, and in order to obtain two-dimensional position data, delay lines in the X- and Y-axis directions perpendicular to each other must be provided.
한편, 각 지연선에는 인접한 지연선들 사이의 신호를 구별하기 위하여, 도 1에 도시된 것과 같은 외부 지연선(100b)을 구비하게 된다. 이와 같이, 외부 지연선(100b)은 상기의 지연선(100)이 형성된 영역(S) 즉, 실제 이미지에 필요한 영역 외부에 형성되기 때문에, 외부 지연선 형성을 위한 공간이 추가적으로 필요하여 집적도를 떨어뜨리는 요인이 된다. On the other hand, each delay line is provided with an
그러나, MCP 검출기를 소형 위성 등의 적은 공간을 차지하는 장치에 사용하기 위해서는 보다 고집적화할 필요가 있다.However, in order to use the MCP detector in a device that occupies a small space such as a small satellite, it is necessary to be more integrated.
이와 같이, 상기의 위치 검출기를 고집적화하여 제조하기 위해서는 외부 지연선을 사용하지 않는 다른 방식을 사용하던지 외부 지연선을 다르게 구성하여야 하는 문제점이 있었다.As described above, in order to manufacture the integrated position detector with high integration, there is a problem that an external delay line must be configured differently or another method that does not use an external delay line.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 위치 검출장치의 부피를 줄여 집적도를 향상시킴으로써 소형 위성에 장착 가능하도록 소형화된 입자구름 위치 검출장치를 제공하기 위한 것이다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, it is to provide a particle cloud position detection apparatus that can be mounted on a small satellite by improving the degree of integration by reducing the volume of the position detection device.
나아가 본 발명의 다른 목적은 외부지연선을 지연선을 구성하는 평면의 상부 또는 하부면에 형성함으로써, 상기 검출장치의 부피를 줄일 수 있는 양극 및 입자구름 위치 검출장치를 제공하기 위한 것이다.Furthermore, another object of the present invention is to provide an anode and particle cloud position detection apparatus that can reduce the volume of the detection device by forming an external delay line on the upper or lower surface of the plane constituting the delay line.
본 발명에 의한 입자구름 위치 검출장치는, 미세채널판으로부터 증폭된 전자구름으로부터 전자구름의 위치신호를 검출하는 양극을 포함하는 입자구름 위치 검출장치에 있어서, 상기 양극은, 제1 방향으로 형성되고 서로 평행한 복수개의 제1 지연선들과, 상기 제1 지연선들 사이에 나란히 형성되는 금속 패드를 구비한 제1 평면과; 상기 제1 평면의 하부에 상기 제1 방향과 수직인 제 2방향으로 형성되고, 서로 평행한 복수개의 제2 지연선들을 구비한 제2 평면과; 상기 제1 방향으로 형성되고, 상기 복수개의 제1 지연선들 중 서로 인접한 라인들을 연결하는 제1 외부지연선을 구비하되, 상기 제1 외부지연선은 상기 제1 지연선들과 평행하게 형성되도록 제3 평면에 형성되는 제1 상부지연선과, 제4 평면에 형성되며 인접하는 제1 상부지연선의 끝지점을 대각선으로 연결하는 제1 하부지연선으로 구성되고, 상기 제 4 평면의 하부 평면에는 상기 제2 방향으로 형성되고, 상기 복수개의 제2 지연선들 중 서로 인접한 라인들을 연결하는 제2 외부지연선을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 제2 외부지연선은 상기 제2 지연선들과 평행하게 형성되도록 제5 평면에 형성되는 제2 상부지연선과, 인접하는 제2 상부지연선의 끝지점을 대각선으로 연결하도록 제6 평면에 형성되는 제2 하부지연선으로 구성되는 것을 특징으로 한다.The particle cloud position detecting device according to the present invention is a particle cloud position detecting device including an anode for detecting a position signal of an electron cloud from an electron cloud amplified from a microchannel plate, wherein the anode is formed in a first direction A first plane having a plurality of first delay lines parallel to each other and a metal pad formed side by side between the first delay lines; A second plane formed below the first plane in a second direction perpendicular to the first direction and having a plurality of second delay lines parallel to each other; A third external delay line formed in the first direction and connecting adjacent lines among the plurality of first delay lines, wherein the first external delay line is formed to be parallel to the first delay lines; The first upper delay line formed in the plane and the first lower delay line formed in the fourth plane and connecting the end points of the adjacent first upper delay line diagonally, the lower plane of the fourth plane in the second direction And a second external delay line connecting the adjacent lines among the plurality of second delay lines.
The second external delay line may include a second upper delay line formed in a fifth plane to be parallel to the second delay lines, and a second upper delay line formed in a sixth plane to diagonally connect the end points of the adjacent second upper delay lines. It is characterized by consisting of two lower delay lines.
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이와 같이, 외부 지연선을 지연선을 구성하는 평면의 상부 또는 하부면에 형성하여 집적도를 향상시킬 수 있다.In this way, the degree of integration may be improved by forming an external delay line on the upper or lower surface of the plane constituting the delay line.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 평판 표시 소자의 검사장치를 설명한다. 본 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니고, 단지 예시로 제시된 것이다.Hereinafter, an inspection apparatus of a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. This embodiment is not intended to limit the scope of the invention, but is presented by way of example only.
도 2 내지 도 5는 양극(100)을 구성하는 각층에 형성된 패턴을 도시한 것이다.2 to 5 illustrate patterns formed on each layer constituting the
먼저, 도 2는 MCP로부터 전자구름이 입사되는 제1 평면(10)을 도시한 것으로, Y축 방향으로 서로 평행하게 형성된 제1 지연선들(11a, 11b) 즉, 지연선이 일정 간격으로 배치된다. 이에 따라, 전자구름이 다수개의 제1 지연선(11)에 포집되면, 각 제1 지연선(11)에는 포집된 전하량에 따라 전압이 발생된다. 이와 같이 전하가 포집된 제1 지연선들 중 전압이 가장 큰 부위의 것을 중심으로 하여 X축 방향으로의 위치를 검출하게 된다. First, FIG. 2 illustrates the
또한, 제1 지연선들(11) 사이에는 일정 간격으로 금속 패드(12)가 배치된다. 이들 금속 패드(12)는 제1 지연선들(11)과 마찬가지로 전자구름으로부터 전하를 포집하며, 포집된 전하는 제1 비아(13)를 통하여 하부면에 형성될 제2 지연선들(21)로 전달된다. In addition, the
또한, 제1 지연선들(11)이 배치된 전자구름 검출 영역의 외부에는 제1 비아(13)와는 다른 제2 비아(14a)가 배치된다. 제2 비아(14a)는 제1 지연선들(11)을 하부면에 위치하는 외부지연선들과 연결시키기 위한 것이다.In addition, a second via 14a different from the
도 3은 제1 평면(10)의 하부에 형성되는 제2 평면(20)을 도시한 것으로, X축 방향으로 서로 평행하게 형성된 제2 지연선들(21)이 일정 간격으로 배치된다. 제2 지연선들(21)은 제1 비아(13)를 통해 제1 평면(10)에 형성된 금속패드(12)에 연결되며, 하나의 지연선에는 복수개의 금속패드가 연결된다. 이에 따라, X축 방향으로 나란히 배치된 복수개의 금속패드들은 하나의 제2 지연선(21)에 연결되어, 양극에 입사되는 전자구름의 Y축 방향으로의 위치를 인식할 수 있게 된다. 3 illustrates a
또한, 제2 지연선들(21)이 배치된 전자구름 검출 영역의 외부에는 제3 비아(14b)가 배치된다. 제3 비아(14b)는 제2 지연선들(21)을 하부면에 위치하는 외부지연선들과 연결시키기 위한 것이다.In addition, a third via 14b is disposed outside the electron cloud detection region where the
도 4 및 도 5는 상기 제2 평면(20)의 하부면에 배치되며, 제1 지연선에 연결되는 제1 외부지연선(31, 41)을 갖는 제3 평면(30) 및 제4 평면(40)을 도시한 것이다. 4 and 5 are arranged on the lower surface of the
제3 평면(30)에는 제1 상부지연선들(31a, 31b, 31c)이 제1 평면(10) 상의 제1 지연선들(11)에 평행하게 배치된다. 배치 간격은 제1 지연선의 1/2가 되도록 한다. 제1 상부 지연선의 양끝 가장자리는 전자구름 검출 영역의 외부에 배치된 제2 비아(14a)에 연결된다. 한편, 제4 평면(40)에는 제1 하부지연선들(41a, 41b, 41c)이 제3 평면(30)의 인접한 제1 상부지연선들을 대각선 방향으로 연결하도록 사선 방향으로 배치된다. In the
이와 같이 배치된 제1 외부지연선들 각각은 제2 비아(14a)를 통해 상부 및 하부의 라인들과 연결된다. 먼저, 제1 상부지연선(31a, 31c)은 제2 비아(14a) ⓐ, ⓒ를 통해 제1 평면(10)의 제1 지연선(11)에 연결된다. 또한 제1 상부지연선은 제2 비아(14a) ⓑ, ⓒ, ⓓ, ⓔ, ⓕ를 통해 하부의 제1 하부지연선에 연결된다. Each of the first external delay lines disposed as described above is connected to upper and lower lines through the second via 14a. First, the first
따라서, 제1 상부지연선 및 제1 하부지연선으로 구성된 제1 외부지연선은 도 8a에 도시된 바와 같이, 인접한 제1 지연선들을 연결하는 외부지연선을 형성하게 된다. 이들 외부지연선은 두번 권선된 인덕터를 형성하여 전자구름에 의해 발생된 전압이 증폭기로 전달되는 것을 시간 지연시키는 기능을 한다.Accordingly, the first external delay line including the first upper delay line and the first lower delay line forms an external delay line connecting the adjacent first delay lines as shown in FIG. 8A. These external delay lines form a double-wound inductor to delay the transfer of the voltage generated by the electron cloud to the amplifier.
도 6 및 도 7은 상기 제4 평면(40)의 하부면에 배치되며, 제2 지연선에 연결되는 제2 외부지연선(51, 61)을 갖는 제5 평면(50) 및 제6 평면(60)을 도시한 것이다. 6 and 7 illustrate a
제5 평면(50)에는 제2 상부지연선들(51a, 51b, 51c)이 제2 평면(20) 상의 제2 지연선들(21a, 21b)에 평행하게 배치된다. 배치 간격은 제2 지연선의 1/2가 되도록 한다. 제2 상부 지연선의 양끝 가장자리는 전자구름 검출 영역의 외부에 배치된 제3 비아(14b)에 연결된다. 한편, 제6 평면(60)에는 제2 하부지연선들(61a, 61b, 61c)이 제5 평면(50)의 인접한 제2 상부지연선들(51)을 대각선 방향으로 연결하도록 사선 방향으로 배치된다. In the
이와 같이 배치된 지연선들 각각은 제3 비아(14b)를 통해 상부 및 하부의 라인들과 연결된다. 먼저, 제2 상부 지연선은 제3 비아(14b)를 통해 제2 평면(20)의 제2 지연선(21)에 연결된다. 또한 제2 상부 지연선은 제3 비아(14b)를 통해 하부의 제2 하부지연선에 연결된다. Each of the delay lines disposed as described above is connected to upper and lower lines through the third via 14b. First, the second upper delay line is connected to the
따라서, 제2 상부지연선 및 제2 하부지연선으로 구성된 제2 외부지연선은 도 8b에 도시된 바와 같이, 인접한 제2 지연선들을 연결하는 외부지연선을 형성하게 된다. 이들 지연선은 두번 권선된 인덕터를 형성하여 전자구름에 의해 발생된 전압이 증폭기로 전달되는 것을 시간 지연시키는 기능을 한다.Accordingly, the second external delay line including the second upper delay line and the second lower delay line forms an external delay line connecting the second adjacent delay lines as illustrated in FIG. 8B. These delay lines form a twice-wound inductor to time delay the transfer of the voltage generated by the electron cloud to the amplifier.
한편, 각 평면들 사이에는 금속으로 구성된 접지면을 형성하여 서로간의 간섭을 방지하도록 하며, 상기 각 평면들 및 접지면들 사이에는 유전체로 구성된 절연막을 구비하도록 하여 서로간의 전기적 절연을 유지하도록 한다. 또한, 각 평면상의 제1, 제2 및 제3 비아의 위치에 맞도록 비아를 구비한다. Meanwhile, a ground plane made of metal is formed between the planes to prevent interference with each other, and an insulating film made of a dielectric is provided between the planes and the planes to maintain electrical insulation therebetween. Further, vias are provided to match the positions of the first, second, and third vias on each plane.
도 9는 도 2의 X-X' 선의 단면도로서, 각 평면, 접지면 및 절연층이 적층된 모양을 보여준다. 빗금친 부분은 접지면을 나타낸다.FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line X-X 'of FIG. 2 and shows a plane, ground plane, and insulating layer stacked thereon. The hatched portion represents the ground plane.
상기의 실시예에서는 외부지연선이 두개의 평면에 걸쳐 두번 권선된 인덕터 형태로 구성됨을 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않고 하나의 평면상에만 형성되도록 하는 것도 가능하다. 즉, 제1 평면상의 인접한 두개의 제1 지연선을 대각선 방향으로 연결하도록 하는 제1 외부지연선을 형성하고, 제2 평면상의 인접한 두개의 제2 지연선을 대각선 방향으로 연결하도록 하는 제2 외부지연선을 형성하는 것이다. In the above embodiment, the external delay line is configured in the form of an inductor wound twice over two planes, but the present invention is not limited thereto and may be formed only on one plane. That is, a second external delay line is formed to connect two adjacent first delay lines on the first plane in a diagonal direction, and a second external link connects two adjacent second delay lines on the second plane in a diagonal direction. To form a delay line.
한편, 도 4 및 도 6의 A, A' 및 B, B'은 각각 지연선에서 발생된 전압을 증폭기(101)로 전달하기 위해 연결된 단자를 설명한다.Meanwhile, A, A ', B, and B' of FIGS. 4 and 6 respectively describe terminals connected to transfer the voltage generated in the delay line to the
본 발명에서는 제1 지연선, 제2 지연선, 제1 외부지연선, 제2 외부지연선 등의 순서로 적층된 것을 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않고 이들의 적층 순서 및 형태가 다양하게 변경 가능함은 당업자에게 자명할 것이다.Although the present invention has been described in that the first delay line, the second delay line, the first external delay line, the second external delay line, etc. are stacked in the order, but not limited to these, the stacking order and shape thereof can be variously changed. Will be apparent to those skilled in the art.
이와 같이 본 발명에 의하면, 외부 지연선을 지연선의 외부에 배치하는 것이 아니라 지연선의 상부면 또는 하부면에 형성함으로써, 위치 검출장치의 부피를 줄이는 것이 가능하고, 이에 따라 집적도를 향상시켜 소형 위성에 장착 가능하다.As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the volume of the position detection device by forming the external delay line on the upper surface or the lower surface of the delay line rather than arrange the outer portion of the delay line. Can be installed.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 실시 예는, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의해서만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호 범위에 속하게 될 것이다.The embodiments of the present invention described above and illustrated in the drawings should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The protection scope of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art can change and change the technical idea of the present invention in various forms. Therefore, such improvements and modifications will fall within the protection scope of the present invention as long as it will be apparent to those skilled in the art.
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KR20060019112A (en) | 2006-03-03 |
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