KR100739055B1 - Plasma display panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 어드레스 방전을 더욱 용이하게 하는 대향 방전 구조의 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 소정의 간격을 두고 대향 배치되며 그 사이공간에서 다수로 구획되는 방전셀이 구비되는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 방전셀 내에 형성되는 형광체층, 상기 제2 기판에서 제1 방향을 따라 벋어 형성되는 어드레스 전극, 이 어드레스 전극을 덮으면서 제2 기판상에 형성되는 제1 유전층, 및 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 벋어 형성되며 상기 제2 기판으로부터 멀어지는 방향으로 상기 제1 기판을 향해 돌출되어 그 사이에 공간을 두고 서로 대향하도록 형성되는 제1 전극 및 제2 전극을 포함하고, 상기 방전셀 내부 공간으로 노출되는 상기 제1 유전층의 표면에 홀이 형성된다.The present invention relates to a plasma display panel having an opposite discharge structure for facilitating address discharge. The plasma display panel according to an embodiment of the present invention is disposed to face each other at a predetermined interval and is divided into a plurality of spaces therebetween. A first substrate and a second substrate having a discharge cell, a phosphor layer formed in the discharge cell, an address electrode formed in a first direction in the second substrate, and formed on the second substrate while covering the address electrode A first dielectric layer formed between the first substrate and the second substrate, the first dielectric layer is formed along a second direction crossing the first direction and protrudes toward the first substrate in a direction away from the second substrate; A first electrode and a second electrode which are formed to face each other with a space therebetween, and are exposed to the inner space of the discharge cell. A hole is formed on the surface of the first dielectric layer.

대향 방전, 어드레스 방전, 절연 파괴, 홀 Counter discharge, address discharge, dielectric breakdown, hole

Description

플라즈마 디스플레이 패널{PLASMA DISPLAY PANEL}Plasma Display Panel {PLASMA DISPLAY PANEL}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view illustrating a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전극과 방전셀의 구조를 개략적으로 도시한 부분 평면도이다.2 is a partial plan view schematically illustrating a structure of an electrode and a discharge cell of a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널을 결합한 상태의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 부분 단면도이다.3 is a partial cross-sectional view taken along line III-III of the plasma display panel shown in FIG.

도 4는 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널을 결합한 상태의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 부분 단면도이다.4 is a partial cross-sectional view taken along the line IV-IV of the plasma display panel shown in FIG.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 홀의 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 5 is a view schematically showing the planar shape of the hole of the plasma display panel according to the first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 홀의 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다. FIG. 6 is a view schematically illustrating a planar shape of a hole of a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 홀의 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 7 is a view schematically illustrating a planar shape of a hole of a plasma display panel according to a third exemplary embodiment of the present invention.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 방전효율을 향상시키는 대향 방전 구조의 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel having an opposite discharge structure for improving discharge efficiency.

일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display pane)은 기체방전을 통하여 얻어진 플라즈마로부터 방사되는 진공자외선(Vacuum UltraViolet,VUV)이 형광체를 여기시킴으로써 발생되는 가시광을 이용하여 영상을 구현하는 디스플레이 소자이다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 60인치 이상의 초대형 화면을 불과 10㎝ 이내의 두께로 구현할 수 있다. 또한, 플라즈마 디스플레이 패널은 CRT와 같은 자발광 디스플레이 소자이므로, 색 재현력이 우수하고 시야각에 따른 왜곡현상이 없는 특성을 가진다. 또한, LCD 등에 비해 제조공법이 단순하여 생산성 및 원가 측면에서도 강점을 가지므로 차세대 산업용 평판 디스플레이 및 가정용 TV 디스플레이로 각광받고 있다.In general, a plasma display pane is a display device that implements an image using visible light generated by excitation of a phosphor by vacuum ultraviolet rays (VUV) emitted from a plasma obtained through gas discharge. Such a plasma display panel can realize a large screen of 60 inches or more in a thickness of only 10 cm. In addition, since the plasma display panel is a self-luminous display device such as a CRT, the plasma display panel has excellent color reproducibility and no distortion phenomenon according to the viewing angle. In addition, the manufacturing method is simpler than LCD, and thus has advantages in terms of productivity and cost.

플라즈마 디스플레이 패널의 구조는 1970년대부터 오랜 기간에 걸쳐 발전하여 왔는데, 현재 일반적으로 알려져 있는 구조는 3 전극 면 방전형 구조이다. 3 전극 면 방전형 구조는 동일 면상에 위치한 두 개의 전극을 포함한 1개의 기판과, 이 기판으로부터 일정 거리를 두고 이격되어 수직방향으로 이어지는 어드레스 전극을 포함한 또 다른 기판으로 이루어진다. 그리고, 이 한 쌍의 기판 사이에 방전가스가 충전되고, 양 기판이 봉입 된다. The structure of the plasma display panel has been developed for a long time since the 1970s, and the structure generally known is a three-electrode surface discharge type structure. The three-electrode surface discharge type structure consists of one substrate including two electrodes located on the same surface, and another substrate including an address electrode vertically spaced apart from the substrate at a predetermined distance. The discharge gas is filled between the pair of substrates, and both substrates are sealed.

일반적으로 방전의 유무는 각 라인에 연결되어 독립적으로 제어되는 주사 전극과, 이 주사 전극에 대향하고 있는 어드레스 전극의 방전에 의해 결정된다. 또 한, 휘도를 표시하는 유지방전은 동일 면상에 위치한 두 전극군(群), 즉 유지 전극 및 주사 전극에 의해 이루어진다.In general, the presence or absence of discharge is determined by the discharge of the scan electrode connected to each line and independently controlled and the address electrode facing the scan electrode. In addition, the sustain discharge indicating luminance is made by two electrode groups located on the same plane, that is, the sustain electrode and the scan electrode.

한편, 이 유지 전극과 주사 전극 사이에 방전이 일어나게 되면, 유지 전극 및 주사 전극 주변의 유전층에 생성되는 공간 전하 효과(space charge effect)에 의해 유지 전극과 주사 전극 사이의 전압 분포는 왜곡된 형태로 나타난다. 더욱 구체적으로, AC 형 3 전극 면 방전 구조에서는 인가되는 전압 펄스에 따라 유지 전극 및 주사 전극이 교대로 양극 및 음극의 역할을 수행하게 되는데, 이 양극과 음극 사이의 전압 분포는 왜곡된 형태로 나타난다. On the other hand, when a discharge occurs between the sustain electrode and the scan electrode, the voltage distribution between the sustain electrode and the scan electrode is distorted by the space charge effect generated in the dielectric layers around the sustain electrode and the scan electrode. appear. More specifically, in the AC type 3-electrode surface discharge structure, the sustain electrode and the scan electrode alternately play the roles of the anode and the cathode according to the voltage pulse applied, and the voltage distribution between the anode and the cathode appears in a distorted form. .

즉, 음극 주변의 캐소드 쉬스(cathode sheath) 영역과, 양극 주변의 애노드 쉬스(anode sheath) 영역과, 이 두 영역 사이에 형성되는 포지티브 칼럼 영역(positive column) 영역이 형성된다. 캐소드 쉬스 영역에서는 양극과 음극 사이에 인가되는 전압의 대부분이 소비되고, 애노드 영역에서는 전압의 일부분이 소비되며, 포지티브 칼럼 영역에서는 전압이 거의 소비되지 않는다. 또한, 캐소드 쉬스 영역에서 전자 가열 효율(electron heating efficiency)은 유전층 표면에 형성된 보호막(통상 MgO 막)의 이차 전자 방출 계수에 의존하고, 포지티브 칼럼 영역에서는 인가된 전압의 대부분이 전자 가열에 소비되는 것으로 알려져 있다.That is, a cathode sheath region around the cathode, an anode sheath region around the anode, and a positive column region formed between the two regions are formed. Most of the voltage applied between the anode and the cathode is consumed in the cathode sheath region, a part of the voltage is consumed in the anode region, and little voltage is consumed in the positive column region. In addition, the electron heating efficiency in the cathode sheath region depends on the secondary electron emission coefficient of the protective film (usually MgO film) formed on the surface of the dielectric layer, and in the positive column region, most of the applied voltage is consumed for electron heating. Known.

형광체에 충돌하여 가시광을 방출하는 진공 자외선은 여기 상태의 제논(Xe) 기체가 안정 상태로 전이될 때 발생하며, 제논의 여기 상태는 제논 기체와 전자 사이의 충돌에 의해 얻어진다. 따라서, 인가되는 전압 중 가시광을 생성하는 비율(즉, 발광 효율)을 높이기 위해서는, 인가되는 전압 중 제논 기체의 방전에 기여하 는 비율(즉, 방전 효율)을 높여야 하고, 이 방전 효율을 높이기 위해서는 제논 기체와 전자의 충돌을 증가시켜야 한다. 그리고, 제논 기체와 전자의 충돌을 증가시키기 위해서는 전자 가열 효율을 증가시켜야 한다.A vacuum ultraviolet ray that strikes the phosphor and emits visible light is generated when the excited state of the xenon (Xe) gas is transferred to a stable state, and the excited state of the xenon is obtained by the collision between the xenon gas and the electrons. Therefore, in order to increase the ratio of generating the visible light (that is, the luminous efficiency) among the applied voltages, the ratio (that is, the discharge efficiency) that contributes to the discharge of the xenon gas among the applied voltages must be increased. The collision of xenon gases with electrons should be increased. In addition, in order to increase the collision of electrons with the xenon gas, the electron heating efficiency must be increased.

상기 캐소드 쉬스 영역에서는 인가되는 전압의 대부분이 소비되지만 전자 가열 효율이 낮고, 포지티브 칼럼 영역에서는 인가되는 전압이 거의 소비되지 않으면서도 전자 가열 효율이 매우 높다. 또한, 캐소드 쉬스 영역과 애노드 쉬스 영역은 유지 전극과 주사 전극 사이의 거리에 상관없이 거의 일정한 공간을 차지한다. 따라서, 높은 방전 효율을 얻기 위해서는 포지티브 칼럼 영역을 증가시켜야 하고, 포지티브 칼럼 영역을 증가시키기 위해서는 유지 전극과 주사 전극 사이의 거리 및 대향 면적을 증가시키는 대향 방전 구조의 플라즈마 디스플레이 패널이 요구된다.In the cathode sheath region, most of the applied voltage is consumed, but the electron heating efficiency is low. In the positive column region, the electron heating efficiency is very high while the applied voltage is hardly consumed. In addition, the cathode sheath region and the anode sheath region occupy a substantially constant space irrespective of the distance between the sustain electrode and the scan electrode. Therefore, in order to obtain high discharge efficiency, the positive column area must be increased, and in order to increase the positive column area, a plasma display panel having an opposite discharge structure that increases the distance between the sustain electrode and the scan electrode and the opposite area is required.

본 발명의 목적은 플라즈마 디스플레이 패널에서 어드레스 방전을 더욱 용이하게 하는 대향 방전 구조의 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a plasma display panel having an opposite discharge structure which further facilitates address discharge in a plasma display panel.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 소정의 간격을 두고 대향 배치되며, 그 사이공간에서 다수로 구획되는 방전셀이 구비되는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 방전셀 내에 형성되는 형광체층, 상기 제2 기판에서 제1 방향을 따라 벋어 형성되는 어드레스 전극, 이 어드레스 전극을 덮으면서 제2 기판상에 형성되는 제1 유전층, 및 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 벋어 형성되며 상기 제2 기판으로부터 멀어지는 방향으로 상기 제1 기판을 향해 돌출되어 그 사이에 공간을 두고 서로 대향하도록 형성되는 제1 전극 및 제2 전극을 포함하고, 상기 방전셀 내부 공간으로 노출되는 상기 제1 유전층의 표면에 홀이 형성될 수 있다.In order to achieve the above object, a plasma display panel according to an embodiment of the present invention includes a first substrate and a second substrate, which are disposed to face each other at a predetermined interval, and are provided with discharge cells divided into a plurality of spaces therebetween; A phosphor layer formed in the discharge cell, an address electrode formed in a second direction in the second substrate, a first dielectric layer formed on the second substrate while covering the address electrode, and the first substrate and the first substrate A first electrode which is formed between two substrates along a second direction crossing the first direction and protrudes toward the first substrate in a direction away from the second substrate, and is formed to face each other with a space therebetween; A hole may be formed on a surface of the first dielectric layer including a second electrode and exposed to the inner space of the discharge cell.

또한, 상기 제2 기판과 평행한 방향으로, 상기 홀은 제1 전극보다 제2 전극에 더 가깝게 형성될 수 있다.In addition, in the direction parallel to the second substrate, the hole may be formed closer to the second electrode than the first electrode.

상기 제1 유전층상에는 복수개의 홀이 형성되고, 상기 제2 기판과 평행한 방향으로, 상기 복수개의 홀은 제1 전극보다 제2 전극에 더 가깝게 형성될 수 있다.A plurality of holes may be formed on the first dielectric layer, and the plurality of holes may be formed closer to the second electrode than the first electrode in a direction parallel to the second substrate.

또한, 상기 제1 유전층의 표면으로부터 상기 제2 기판에 수직한 방향으로 측정되는 상기 어드레스 전극까지의 거리는, 상기 제1 유전층의 표면으로부터 상기 제2 기판에 수직한 방향으로 측정되는 상기 홀의 깊이보다 더 크게 형성된다.Further, the distance from the surface of the first dielectric layer to the address electrode measured in the direction perpendicular to the second substrate is greater than the depth of the hole measured in the direction perpendicular to the second substrate from the surface of the first dielectric layer. It is largely formed.

또한, 홀은 상기 제2 기판에 평행한 방향으로 측정되는 상기 홀의 최대 폭의 크기를 D, 상기 제2 기판에 수직한 방향으로 측정되는 상기 홀의 최대 깊이를 T 라 할 때, D ≤ T 의 조건을 만족하도록 형성될 수 있으며, 바람직하게는 상기 D 와 상기 T 가 서로 동일하게 형성될 수 있다.Further, the hole is a condition of D ≦ T when the size of the maximum width of the hole measured in the direction parallel to the second substrate is D, and the maximum depth of the hole measured in the direction perpendicular to the second substrate is T. It may be formed so as to satisfy, preferably D and T may be formed the same as each other.

상기 홀의 평면 형상은 원형, 타원형, 다각형으로 이루어질 수 있다.The planar shape of the hole may be made of a circle, oval, or polygon.

또한, 상기 홀은 각 방전셀에 대응하면서 제2 방향으로 긴 축을 갖는 슬릿 형상으로 이루어질 수 있다.The hole may have a slit shape corresponding to each discharge cell and having a long axis in a second direction.

상기 제1 전극 및 상기 제2 전극의 횡단면에서, 상기 제2 기판에 평행한 방향으로의 길이보다 상기 제2 기판에 수직한 방향으로의 길이가 더 길게 형성되는 것이 바람직하다.In the cross section of the first electrode and the second electrode, it is preferable that the length in the direction perpendicular to the second substrate is longer than the length in the direction parallel to the second substrate.

상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 각각은 상기 제1 방향을 따라 이웃하는 방전셀들의 경계를 지나도록 배치되고, 상기 제1 방향을 따라 교대로 배열된다.Each of the first electrode and the second electrode is disposed to cross a boundary of neighboring discharge cells along the first direction, and is alternately arranged along the first direction.

상기 제1 전극 및 제2 전극의 외면에는 제2 유전층이 형성되며, 상기 제1 유전층 및 상기 제2 유전층의 외면에 보호막이 더 형성될 수 있다.A second dielectric layer may be formed on outer surfaces of the first electrode and the second electrode, and a protective layer may be further formed on outer surfaces of the first dielectric layer and the second dielectric layer.

상기 제2 유전층은 상기 제1 방향을 따라 형성되는 제1 유전층부와, 이 제1 유전층부와 교차하는 방향으로 형성되는 제2 유전층부를 포함하며, 이 제1 유전층부 및 제2 유전층부에 의해 다수의 제1 방전공간이 구획된다.The second dielectric layer includes a first dielectric layer portion formed along the first direction and a second dielectric layer portion formed in a direction crossing the first dielectric layer portion, and the first dielectric layer portion and the second dielectric layer portion A plurality of first discharge spaces are partitioned.

상기 제1 기판상에는 상기 제1 방전공간에 대향하는 제2 방전공간을 구획하는 격벽이 형성되고, 이 제1 방전공간 및 제2 방전공간이 하나의 하나의 방전셀을 형성할 수 있다.A partition wall may be formed on the first substrate to partition a second discharge space facing the first discharge space, and the first discharge space and the second discharge space may form one discharge cell.

한편, 상기 격벽은 상기 제1 유전층부에 대응하면서 상기 제1 방향을 따라 형성되는 제1 격벽부재와, 상기 제2 유전층부에 대응하면서 상기 제1 격벽부재와 교차하는 방향으로 형성되는 제2 격벽부재를 포함할 수 있고, 상기 제1 격벽부재 및 상기 제2 격벽부재는 상기 제1 기판과 동일한 재질로 형성될 수 있다.The partition wall may include a first partition member formed along the first direction while corresponding to the first dielectric layer part, and a second partition wall formed in a direction crossing the first partition member while corresponding to the second dielectric layer part. The member may include a member, and the first partition member and the second partition member may be formed of the same material as the first substrate.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있우며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다. 1 is a partially exploded perspective view illustrating a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 기본적으로 제1 기판(10, 이하 '배면기판'이라 한다)과 제2 기판(20, 이하 '전면기판'이라 한다)이 소정의 간격을 두고 서로 대향 배치되며, 이 배면기판(10)과 전면기판(20) 사이에는 다수의 방전셀(17)들이 구획된다. 방전셀(17) 내에는 자외선을 흡수하여 가시광을 방출하는 형광체층(19)이 형성된다. 또한, 플라즈마 방전을 일으킬 수 있도록 상기 방전셀(17)내에는 방전가스(일례로 제논(Xe), 네온(Ne) 등을 포함하는 혼합가스)가 채워진다.Referring to FIG. 1, the plasma display panel according to the first exemplary embodiment of the present invention basically includes a first substrate 10 (hereinafter referred to as a "back substrate") and a second substrate 20 (hereinafter referred to as a "front substrate"). The battery cells are disposed to face each other at predetermined intervals, and a plurality of discharge cells 17 are partitioned between the rear substrate 10 and the front substrate 20. In the discharge cell 17, a phosphor layer 19 that absorbs ultraviolet rays and emits visible light is formed. In addition, a discharge gas (eg, a mixed gas including xenon (Xe), neon (Ne), etc.) is filled in the discharge cell 17 to cause plasma discharge.

전면기판(20)의 배면기판(10) 대향면에는 어드레스 전극(22)들이 제1 방향(도면의 y 축 방향)을 따라 벋어 형성된다. 이들 어드레스 전극(22)은 서로 소정의 간격을 유지하면서 나란하게 형성된다. 그리고, 이 어드레스 전극(22)을 덮으면서 전면기판(20)상에 제1 유전층(24)이 형성되고, 이 제1 유전층(24)상에는 제1 전극(25, 이하 '유지 전극'이라 한다) 및 제2 전극(26, 이하 '주사 전극'이라 한다)이 제1 방향(y 축 방향)과 교차하는 제2 방향(도면의 x 축 방향)을 따라 벋어 형성된다. 또한, 이들 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)을 덮으면서 제1 유전층(24)상에 제2 유전층(28)이 형성된다.Address electrodes 22 are formed on the opposite surface of the back substrate 10 of the front substrate 20 in a first direction (y-axis direction in the drawing). These address electrodes 22 are formed side by side while maintaining a predetermined distance from each other. The first dielectric layer 24 is formed on the front substrate 20 while covering the address electrode 22, and the first electrode 25 (hereinafter referred to as a 'holding electrode') is formed on the first dielectric layer 24. And a second electrode 26 (hereinafter referred to as a “scan electrode”) are formed along the second direction (the x-axis direction in the drawing) that intersects the first direction (y-axis direction). In addition, a second dielectric layer 28 is formed on the first dielectric layer 24 while covering the sustain electrode 25 and the scan electrode 26.

이 제2 유전층(28)은 제1 유전층부(28a) 및 제2 유전층부(28b)를 포함한다. 제1 유전층부(28a)는 제1 방향(도면의 y 축 방향)을 따라 벋어 형성되고, 제2 유전층부(28b)는 제1 유전층부(28a)와 교차하는 제2 방향(도면의 x 축 방향)을 따라 벋 어 형성된다. 서로 교차하는 제1 유전층부(28a) 및 제2 유전층부(28b)에 다수의 제1 방전공간(21)이 형성된다.This second dielectric layer 28 includes a first dielectric layer portion 28a and a second dielectric layer portion 28b. The first dielectric layer portion 28a is formed along the first direction (y-axis direction in the drawing), and the second dielectric layer portion 28b is formed in a second direction (x-axis in the drawing) crossing the first dielectric layer portion 28a. Direction). A plurality of first discharge spaces 21 are formed in the first dielectric layer portion 28a and the second dielectric layer portion 28b that cross each other.

한편, 배면기판(10)의 전면기판(20) 대향면에는 다수의 제2 방전공간(18)을 구획하는 격벽(16)이 형성된다. 본 실시예에서는 제2 방전공간(18)에 대응하는 형상으로 배면기판(10)을 식각함으로써 격벽(16)이 형성된다. 배면기판(10)을 제2 방전공간(18)에 대응하는 형상으로 식각하는 방법은 공지의 방법이 이용될 수 있으며, 예컨대, 샌드 블라스트법에 의해 배면기판(10)이 식각될 수 있다. 이 경우 격벽(16)과 배면기판(10)은 동일한 재질로 형성된다. 하지만, 배면기판(10)의 재질과 서로 다른 재질을 갖는 격벽용 재료를 이용하여, 배면기판(10)상에 격벽이 형성될 수도 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.On the other hand, a partition wall 16 for partitioning a plurality of second discharge spaces 18 is formed on the opposite surface of the front substrate 20 of the rear substrate 10. In the present embodiment, the partition wall 16 is formed by etching the back substrate 10 in a shape corresponding to the second discharge space 18. As a method of etching the back substrate 10 into a shape corresponding to the second discharge space 18, a known method may be used. For example, the back substrate 10 may be etched by a sand blast method. In this case, the partition 16 and the back substrate 10 are formed of the same material. However, the partition wall may be formed on the rear substrate 10 by using a partition material having a material different from that of the rear substrate 10, which is also within the scope of the present invention.

한편, 격벽(16)은 제1 격벽부재(16a) 및 제2 격벽부재(16b)를 포함한다. 제1 격벽부재(16a)는 제1 유전층부(28a)와 대응하면서 제1 방향(도면의 y 축 방향)을 따라 벋어 형성되고, 제2 격벽부재(16b)는 제2 유전층부(28b)와 대응하면서 제1 격벽부재(16a)와 교차하도록 형성된다. 이들 제1 격벽부재(16a) 및 제2 격벽부재(16b)에 의해 제2 방전공간(18)이 구획된다. 이러한 격벽 구조는 상기 설명한 구조에 한정되는 것은 아니며, 제1 방향(도면의 y 축 방향)과 나란한 격벽 부재로만 이루어지는 스트라이프형 격벽 구조도 본 발명에 적용될 수 있고, 제2 방전공간을 구획하는 다양한 형상의 격벽 구조도 가능하며 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.Meanwhile, the partition wall 16 includes a first partition member 16a and a second partition member 16b. The first partition wall member 16a is formed along the first direction (y-axis direction in the drawing) while corresponding to the first dielectric layer section 28a, and the second partition wall member 16b is formed with the second dielectric layer section 28b. Correspondingly, it is formed to intersect with the first partition member 16a. The 2nd discharge space 18 is partitioned by these 1st partition member 16a and the 2nd partition member 16b. Such a barrier rib structure is not limited to the above-described structure, and a stripe barrier rib structure made of only a barrier member parallel to the first direction (y-axis direction in the drawing) may also be applied to the present invention, and various shapes defining a second discharge space may be applied. The bulkhead structure is also possible and is also within the scope of the present invention.

제1 유전층부(28a) 및 제2 유전층부(28b)에 의해 제1 방전공간(21)이 전면기판(20)측에 구획되고, 제1 격벽부재(16a) 및 제2 격벽부재(16b)에 의해 제2 방전공 간(18)이 배면기판(10)측에 구획된다. 이들 제1 방전공간(21) 및 제2 방전공간(18)은 서로 대응하는 형상으로 형성되어 실질적으로 하나의 방전셀(17)이 형성된다.The first discharge space 21 is partitioned on the front substrate 20 side by the first dielectric layer portion 28a and the second dielectric layer portion 28b, and the first partition member 16a and the second partition member 16b are separated from each other. By this, the second discharge space 18 is partitioned on the back substrate 10 side. The first discharge space 21 and the second discharge space 18 are formed in a shape corresponding to each other, so that substantially one discharge cell 17 is formed.

방전셀(17)내에는 형광체층(19)이 형성된다. 더욱 구체적으로 설명하면, 배면기판(10)측에 형성되는 제2 방전공간(18) 내에 형광체층(19)이 형성된다. 이와 같이, 어드레스 전극(22)이 전면기판(20)측에 형성되고 형광체층(19)이 배면기판(10)측에 형성됨으로써, 어드레스방전시 방전개시전압이 각 방전셀(17) 별로 균일하게 형성될 수 있는 장점이 있다. The phosphor layer 19 is formed in the discharge cell 17. More specifically, the phosphor layer 19 is formed in the second discharge space 18 formed on the rear substrate 10 side. In this way, the address electrode 22 is formed on the front substrate 20 side and the phosphor layer 19 is formed on the rear substrate 10 side, so that the discharge start voltage at the address discharge is uniform for each discharge cell 17. There is an advantage that can be formed.

즉, 종래의 3 전극 면 방전 구조에서는, 어드레스방전을 일으키는 어드레스 전극과 주사 전극 사이에 형광체층이 위치함으로써, 적색, 녹색, 및 청색 형광체층의 서로 다른 유전율 때문에 어드레스방전의 방전개시전압이 불균일한 단점이 있었다. 하지만, 본 실시예에서는, 어드레스방전을 일으키는 어드레스 전극(22) 및 주사 전극(26)이 전면기판(20)측에 구비되고, 형광체층(19)이 배면기판(10)측에 구비됨으로써, 종래의 단점이 해결될 수 있다.That is, in the conventional three-electrode surface discharge structure, since the phosphor layer is positioned between the address electrode and the scan electrode causing the address discharge, the discharge start voltage of the address discharge is uneven due to the different dielectric constants of the red, green, and blue phosphor layers. There was a downside. However, in the present embodiment, the address electrode 22 and the scan electrode 26 causing the address discharge are provided on the front substrate 20 side, and the phosphor layer 19 is provided on the rear substrate 10 side. The disadvantage of can be solved.

또한, 어드레스 방전은 전면기판(20)측에 구비되는 어드레스 전극(22)과, 전면기판(20)과 배면기판(10) 사이에 배치되는 주사 전극(26) 사이에서 일어나기 때문에, 배면기판(10) 측에 형성되는 형광체층(19) 위에는 어드레스 방전시에 전하가 쌓이지 않게 된다. 이로 인해, 형광체층(19) 상에 전하가 쌓이면서 이온 스퍼터링에 의해 형광체 수명이 감소되는 것이 방지될 수 있다.In addition, since the address discharge occurs between the address electrode 22 provided on the front substrate 20 side and the scan electrode 26 disposed between the front substrate 20 and the back substrate 10, the back substrate 10 The charges do not accumulate upon the address discharge on the phosphor layer 19 formed on the () side. For this reason, it is possible to prevent the phosphor lifetime from being reduced by ion sputtering while charges are accumulated on the phosphor layer 19.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전극과 방 전셀의 구조를 개략적으로 도시한 부분 평면도이다. 2 is a partial plan view schematically illustrating a structure of an electrode and a discharge cell of a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 전면기판(20)상에서 제1 방향(도면의 y 축 방향)을 따라 벋어 형성되는 어드레스 전극(22)은 버스 전극(22a) 및 확대 전극(22b)을 포함한다. 버스 전극(22a)은 제1 격벽부재(16a)에 대응하면서 제1 방향(도면의 y 축 방향)을 따라 벋어 형성되고, 확대 전극(22b)은 각 방전셀(17)에 대응하면서 이 버스 전극(22a)으로부터 각 방전셀(17)의 중심을 향해 확대 형성된다. Referring to FIG. 2, the address electrode 22 formed on the front substrate 20 along the first direction (y-axis direction in the drawing) includes a bus electrode 22a and an enlarged electrode 22b. The bus electrode 22a is formed along the first direction (y-axis direction in the drawing) while corresponding to the first partition member 16a, and the enlarged electrode 22b corresponds to each discharge cell 17 and corresponds to the bus electrode. It extends from 22a toward the center of each discharge cell 17.

이 경우, 확대 전극(22b)은 전면기판(20)의 개구율 확보를 위해 투명 전극, 일례로 ITO(Indium Tin Oxide) 전극으로 형성될 수 있다. 본 실시예에서 확대 전극은 직사각형의 평면형상을 갖도록 형성되어 있지만, 다른 평면 형상을 갖는 확대 전극도 본 실시예에 적용될 수 있다. 예컨대, 주사 전극(26)에서 유지 전극(25) 방향으로 갈수록 점진적으로 그 폭이 감소하는 삼각형 형상의 확대 전극도 본 실시예에 적용될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. 또한, 이 투명 전극의 높은 저항을 보상하여 통전성을 좋게 하기 위해, 버스 전극(22a)은 금속전극으로 이루어질 수 있다. 본 실시예에서, 버스 전극(22a)은 제2 방향(도면의 x 축 방향)으로 이웃하는 방전셀(17)들의 경계를 지나면서 서로 나란하게 형성되기 때문에, 금속전극으로 형성되더라도 전면기판(20)의 개구율을 떨어뜨리지 않는 장점이 있다. In this case, the enlarged electrode 22b may be formed of a transparent electrode, for example, an indium tin oxide (ITO) electrode, to secure the aperture ratio of the front substrate 20. In this embodiment, the magnification electrode is formed to have a rectangular planar shape, but an magnification electrode having another planar shape may also be applied to this embodiment. For example, a triangular shaped enlarged electrode whose width gradually decreases from the scan electrode 26 toward the sustain electrode 25 may also be applied to this embodiment, which is also within the scope of the present invention. In addition, the bus electrode 22a may be made of a metal electrode in order to compensate for the high resistance of the transparent electrode to improve the electrical conductivity. In the present embodiment, since the bus electrodes 22a are formed in parallel with each other while passing through the boundaries of neighboring discharge cells 17 in the second direction (the x-axis direction of the drawing), the front substrate 20 may be formed even though the bus electrodes 22a are formed of metal electrodes. ) Has the advantage of not lowering the aperture ratio.

한편, 어드레스 전극(22)과 교차하는 방향으로 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)이 형성된다. 본 실시예에서 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)은 제1 방향9도면의 y 축 방향)으로 이웃하는 방전셀(17)들의 경계를 지나면서 제1 방향(도면의 y 축 방향)을 따라 교대로 형성된다. 주사 전극(26)은 어드레스 전극(22)과 상호 작용하여 어드레스 기간에서 어드레스 방전을 일으킨다. 이 어드레스 방전에 의해 켜질 방전셀(17)들이 선택된다. 유지 전극(25)은 주로 주사 전극(26)과 상호 작용하여 유지 기간에서 유지방전을 일으킨다. 이 유지방전에 의해 전면기판(20)을 통해 화상이 표시된다. 그러나, 각 전극에 인가되는 방전 전압에 따라 그 역할을 달리할 수 있으므로 이에 한정될 필요는 없다. On the other hand, the sustain electrode 25 and the scan electrode 26 are formed in the direction crossing the address electrode 22. In the present exemplary embodiment, the sustain electrode 25 and the scan electrode 26 pass in the first direction (y-axis direction in the drawing) while passing through boundaries of neighboring discharge cells 17 in the y-axis direction of the drawing in the first direction 9. Alternately formed. The scan electrode 26 interacts with the address electrode 22 to cause an address discharge in the address period. The discharge cells 17 to be turned on by this address discharge are selected. The sustain electrode 25 mainly interacts with the scan electrode 26 to cause sustain discharge in the sustain period. This sustain discharge causes an image to be displayed on the front substrate 20. However, the role thereof may vary depending on the discharge voltage applied to each electrode, and the present invention is not limited thereto.

또한, 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)은 금속전극으로 형성될 수 있다. 즉, 본 실시예에서는 제1 방향(도면의 y 축 방향)으로 이웃하는 방전셀(17)들의 경계에 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)이 배치되므로, 이들 전극들이 금속으로 형성되어도 개구율 저하가 방지될 수 있다.In addition, the sustain electrode 25 and the scan electrode 26 may be formed of a metal electrode. That is, in this embodiment, since the sustain electrode 25 and the scan electrode 26 are disposed at the boundary between the discharge cells 17 neighboring in the first direction (y-axis direction in the drawing), even if these electrodes are formed of metal, the aperture ratio Deterioration can be prevented.

또한, 도 2에 도시된 S 영역은 홀들이 형성되는 위치를 개략적으로 나타낸다. 즉, 홀들은 유지 전극(25)보다는 주사 전극(26)에 더 가깝게 형성된다. 이 홀의 구성 및 작용에 대해서는 도면을 바꾸어 자세히 설명한다.In addition, the region S shown in FIG. 2 schematically shows a position where holes are formed. That is, the holes are formed closer to the scan electrode 26 than to the sustain electrode 25. The structure and operation of this hole will be described in detail with the changed drawings.

도 3은 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널을 결합한 상태의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 부분 단면도이다. 도 4는 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널을 결합한 상태의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 부분 단면도이다.3 is a partial cross-sectional view taken along line III-III of the plasma display panel shown in FIG. 4 is a partial cross-sectional view taken along the line IV-IV of the plasma display panel shown in FIG.

도 3을 참조하면, 어드레스 전극(22)을 덮는 제1 유전층(24)상에 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)이 형성된다. 이들 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)의 횡단면은 기판(10, 20)에 수직한 방향(z 축 방향)으로의 길이(h)가 기판(10, 20)에 평행한 방향(y 축 방향)으로의 길이(W)보다 길게 형성될 수 있다. 다시 말하면, 유 지 전극(25) 및 주사 전극(26)의 전면기판(20) 면으로부터의 높이가 더 높게 형성될 수 있다. 이렇게 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)의 높이를 높임으로써, 고정세 디스플레이를 구현하기 위해 방전셀의 평면방향 크기가 감소되어야 할 경우에도 그 크기의 감소량이 보상될 수 있다. 또한, 유지 전극(25)과 주사 전극(26) 사이의 대향면의 면적을 증가시킴으로써, 면 방전 구조에 비해 더욱 높은 발광효율이 얻어질 수 있다.Referring to FIG. 3, the storage electrode 25 and the scan electrode 26 are formed on the first dielectric layer 24 covering the address electrode 22. The cross sections of the sustain electrodes 25 and the scan electrodes 26 have a direction (y-axis) in which a length h in a direction perpendicular to the substrates 10 and 20 (z-axis direction) is parallel to the substrates 10 and 20. Direction) may be formed longer than the length (W). In other words, the height from the front substrate 20 surface of the sustain electrode 25 and the scan electrode 26 can be formed higher. By increasing the heights of the sustain electrodes 25 and the scan electrodes 26, the amount of reduction in the size of the discharge cells may be compensated even when the size of the discharge cells is to be reduced in order to realize the high-definition display. Further, by increasing the area of the opposing surface between the sustain electrode 25 and the scan electrode 26, higher luminous efficiency can be obtained compared to the surface discharge structure.

한편, 유지 전극(25) 및 주사 전극(26)의 외면에는 제2 유전층(28)이 형성된다. 이 제2 유전층(28)과, 어드레스 전극(22)을 덮는 제1 유전층(24)은 서로 같은 물질로 이루어질 수 있으며, 기체 방전시 생성되는 전하들의 충돌로부터 각 전극들을 보호하는 역할을 수행한다. 또한, 어드레스 방전시 제1 유전층(24) 및 제2 유전층(28)상에는 벽전하가 축적될 수 있으며, 이렇게 축적된 벽전하들은 유지 전극(25)과 주사 전극(26) 사이의 유지방전시 방전개시전압을 낮추는 역할을 수행한다.On the other hand, the second dielectric layer 28 is formed on the outer surfaces of the sustain electrode 25 and the scan electrode 26. The second dielectric layer 28 and the first dielectric layer 24 covering the address electrode 22 may be made of the same material, and serve to protect each electrode from collision of electric charges generated during gas discharge. In addition, wall charges may accumulate on the first dielectric layer 24 and the second dielectric layer 28 during the address discharge, and the wall charges thus accumulated may be discharged during the sustain discharge between the sustain electrode 25 and the scan electrode 26. It lowers the voltage.

또한, 제1 유전층(24) 및 제2 유전층(28)의 표면에 보호막(29)이 더 형성될 수 있으며, 기체 방전에 노출되는 유전층의 표면에 형성되는 것이 바람직하다. 보호막(29)의 예로는 MgO 보호막(29)이 사용될 수 있다. 이 MgO 보호막(29)은 기체 방전시 전리된 이온의 충돌로부터 유전층을 보호하는 역할을 수행한다. 또한, MgO 보호막(29)은 이온이 부딪혔을 때 이차전자의 방출계수도 높기 때문에 방전효율이 향상될 수 있다.In addition, a protective film 29 may be further formed on the surfaces of the first dielectric layer 24 and the second dielectric layer 28, and is preferably formed on the surface of the dielectric layer exposed to gas discharge. As an example of the protective film 29, an MgO protective film 29 may be used. The MgO protective film 29 serves to protect the dielectric layer from collision of ionized ions during gas discharge. In addition, the discharge efficiency of the MgO passivation layer 29 may be improved because the emission coefficient of the secondary electrons is also high when ions collide with each other.

한편, 제2 방전공간(21)에 대응하는 제1 유전층(24)에는 복수개의 홀(23)이 형성된다. 이 홀(23)들은 서로 소정의 간격을 유지하며 제1 유전층(24)의 표면에 형성된다. 홀(23)들 사이의 간격은 전극 구조 및 방전 특성에 따라 조절될 수 있다. 이러한 홀(23)이 제1 유전층(24)에 형성됨으로써, 낮은 방전개시전압으로 어드레스 방전이 수행될 수 있다. Meanwhile, a plurality of holes 23 are formed in the first dielectric layer 24 corresponding to the second discharge space 21. These holes 23 are formed on the surface of the first dielectric layer 24 with a predetermined distance from each other. The spacing between the holes 23 can be adjusted according to the electrode structure and the discharge characteristics. Since the holes 23 are formed in the first dielectric layer 24, address discharge may be performed at a low discharge start voltage.

더욱 구체적으로 설명하면, 어드레스 방전을 위해 어드레스 전극(22) 및 주사전극(26)에 각각 소정의 전압이 인가된다. 본 실시예에서는 어드레스 전극(22)과 주사 전극(25)의 방전 경로 사이에 홀(23)이 위치하기 때문에, 일반적인 어드레 방전개시전압보다 낮은 전압이 인가되었을 때에, 홀(23) 내부에서 먼저 방전(모세관 방전, capillary discharge)이 개시된다.More specifically, a predetermined voltage is applied to each of the address electrode 22 and the scan electrode 26 for address discharge. In this embodiment, since the hole 23 is located between the discharge path of the address electrode 22 and the scan electrode 25, when the voltage lower than the general address discharge start voltage is applied, the hole 23 is discharged first. (Capillary discharge) is disclosed.

즉, 제2 방전공간(21)에 대응하는 제1 유전층(24)의 두께보다 홀(23)과 전면 기판(20) 사이의 제1 유전층(24)의 두께가 더 얇게 형성되어 강한 전기장이 형성되고, 또한, 홀(23)의 측면에서는 이 측면으로부터 수직한 방향으로 전기장이 형성되어 홀(23)의 중심부로 모이기 때문에 더욱 강한 전기장이 형성되어, 낮은 전압에서 모세관 방전이 먼저 일어나게 된다.That is, the thickness of the first dielectric layer 24 between the hole 23 and the front substrate 20 is thinner than the thickness of the first dielectric layer 24 corresponding to the second discharge space 21 to form a strong electric field. Further, on the side of the hole 23, an electric field is formed in a direction perpendicular to the side of the hole 23 and gathers to the center of the hole 23, thereby forming a stronger electric field, and capillary discharge occurs first at a low voltage.

그리고, 이 방전에 의해 홀(23) 내부에 플라즈마가 생성되고, 이 플라즈마는 제1 방전공간(21) 쪽으로 확산되면서 어드레스 전극(22)과 주사 전극(26) 사이에 방전이 일어나게 된다. 즉, 제1 유전층(24)상에 홀(23)이 형성되지 않았을 때 어드레스 전극(22)과 주사전극(26) 사이의 방전개시전압보다, 홀(23)이 제1 유전층(24)상에 형성되었을 때 어드레스 전극(22)과 주사전극(26) 사이의 방전개시전압이 더 낮게 형성될 수 있다. The discharge generates plasma in the hole 23, and the plasma diffuses toward the first discharge space 21 to generate a discharge between the address electrode 22 and the scan electrode 26. That is, when the hole 23 is not formed on the first dielectric layer 24, the hole 23 is formed on the first dielectric layer 24 than the discharge start voltage between the address electrode 22 and the scan electrode 26. When formed, the discharge start voltage between the address electrode 22 and the scan electrode 26 may be lower.

한편, 전면 기판(20)과 평행한 방향으로 측정되는 홀(23)의 최대 폭(D) 의 크기는, 전면 기판(20)에 수직한 방향으로 측정되는 홀(23)의 최대 깊이(T1)와 같거나 작게 형성될 수 있으며, 바람직하게는 실질적으로 서로 동일하게 형성된다. 홀(23)의 최대 폭(D)이 홀의 최대 깊이(T1)보다 크게 형성되는 경우에는, 모세관 방전 현상이 일어나기 어렵게 되고, 어드레스 방전 개시 전압 또한 상승하게 된다.On the other hand, the maximum width D of the hole 23 measured in the direction parallel to the front substrate 20 is the maximum depth T 1 of the hole 23 measured in the direction perpendicular to the front substrate 20. It may be formed equal to or smaller than), preferably formed substantially the same as each other. When the maximum width D of the hole 23 is formed larger than the maximum depth T 1 of the hole, capillary discharge phenomenon becomes less likely to occur, and the address discharge start voltage also increases.

도 3에 및 도 4에 도시된 바와 같이, 홀(23)들은 제1 유전층(24)상에서 유지 전극(25)보다 주사전극(26)에 더 가깝게 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 전면기판(20)과 평행한 방향으로 측정되는 홀(23)과 주사전극(26) 사이의 거리(L1)는 같은 방향으로 측정되는 홀(23)과 유지전극(25) 사이의 거리(L2)보다 짧게 형성된다. 더욱 구체적으로 설명하면, 어드레스 방전은 어드레스전극(22)과 유지전극(25) 사이에서 일어나는 것이 아니라 어드레스전극(22)과 주사전극(26) 사이에서 일어나게 된다. 따라서, 본 실시예에서와 같이 홀(23)들이 유지 전극(25)보다 주사 전극(26)에 더 가깝게 형성되게 되면, 주사전극(26)과 어드레스전극(22)의 방전 경로 사이에 위치하는 홀(23)들 주위에 강한 전기장이 형성된다. 그리고, 이 강한 전기장에 의해 홀(23)들 주위에는 다른 영역보다 상대적으로 전자밀도가 증가하게 된다. 따라서, 어드레스 방전시에 전자밀도가 향상되어 벽전하의 형성에 도움이 되고, 어드레스의 효율이 향상될 수 있다.As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the holes 23 are preferably formed closer to the scan electrode 26 than the sustain electrode 25 on the first dielectric layer 24. That is, the distance L 1 between the hole 23 and the scan electrode 26 measured in the direction parallel to the front substrate 20 is the distance between the hole 23 and the sustain electrode 25 measured in the same direction. It is formed shorter than (L 2 ). More specifically, the address discharge does not occur between the address electrode 22 and the sustain electrode 25, but occurs between the address electrode 22 and the scan electrode 26. Therefore, when the holes 23 are formed closer to the scan electrode 26 than the sustain electrode 25 as in the present embodiment, the holes located between the discharge paths of the scan electrode 26 and the address electrode 22 are formed. A strong electric field is formed around the 23. This strong electric field causes electron density to increase around the holes 23 in comparison with other areas. Therefore, the electron density is improved at the time of address discharge, which helps in the formation of wall charges, and the efficiency of the address can be improved.

또한, 홀(23)들이 제1 방전 공간(21)에 대응하는 제1 유전층(24)상에서 유지전극(25)보다 주사전극(26)측과 가깝게 형성됨으로써, 제1 유전층(24)의 절연 파괴가 최소화될 수 있다. 더욱 구체적으로 설명하면, 본 실시예의 경우에는, 어드레스 전극(22)이 전면기판(20)상에 배치되고, 주사전극(26)이 전면기판(20)과 배면기판(10)사이에 배치됨으로써, 어드레스 전극(22)과 주사전극(26)사이의 거리가 일반적인 면방전 3 전극 구조보다 더 짧게 형성된다. 이 경우, 제1 방향(도면의 y 축 방향)으로 이웃하는 방전셀들 사이의 경계부분에서 주사 전극(26)과 어드레스 전극(22) 사이의 최단 거리가 형성된다. 이로 인해, 어드레스 방전시에, 이 최단 거리를 형성하는 주사 전극(26)과 어드레스 전극(22) 사이에서 제1 유전층(24)의 절연파괴가 일어날 수 있다. 하지만, 본 실시예에서와 같이, 홀(23)들이 제1 유전층(24)상에 형성됨으로써, 주사 전극(26)과 어드레스전극(22) 사이의 최단 거리에 형성되는 제1 유전층(24)이 절연 파괴를 일으키기 전에, 홀(23)들 내부에서 방전이 개시된다. 그리고, 홀(23)들 내부에서 발생한 방전은 제1 방전 공간(21)으로 방전이 유도되고, 이로 인해 제1 유전층(24)의 절연 파괴의 위험성이 최소화될 수 있다.In addition, the holes 23 are formed closer to the scanning electrode 26 side than the sustain electrode 25 on the first dielectric layer 24 corresponding to the first discharge space 21, thereby causing dielectric breakdown of the first dielectric layer 24. Can be minimized. More specifically, in the present embodiment, the address electrode 22 is disposed on the front substrate 20, and the scan electrode 26 is disposed between the front substrate 20 and the rear substrate 10. The distance between the address electrode 22 and the scan electrode 26 is shorter than that of the general surface discharge three electrode structure. In this case, the shortest distance between the scan electrode 26 and the address electrode 22 is formed at the boundary between neighboring discharge cells in the first direction (y-axis direction in the drawing). For this reason, at the time of address discharge, insulation breakdown of the first dielectric layer 24 may occur between the scan electrode 26 and the address electrode 22 which form this shortest distance. However, as in this embodiment, the holes 23 are formed on the first dielectric layer 24, so that the first dielectric layer 24 formed at the shortest distance between the scan electrode 26 and the address electrode 22 is formed. Before causing breakdown, discharge is initiated inside the holes 23. In addition, the discharge generated in the holes 23 may be induced into the first discharge space 21, thereby minimizing the risk of dielectric breakdown of the first dielectric layer 24.

또한, 본 실시예에서 제1 유전층(24)의 표면으로부터 어드레스전극(22)까지의 거리(T2)는 홀(23)의 깊이(T1)이보다 더 크게 형성된다. 즉, 홀(23)들의 바닥면과 어드레스 전극(22) 사이에 제1 유전층(24)이 위치한다. 이로 인해, 홀(23)의 깊이(T1)가 제1 유전층(24)의 표면으로부터 어드레스전극(22)까지의 거리(T2)와 같게 되는 경우, 즉 어드레스 전극(22)이 제1 방전공간(21)에 노출되는 경우보다, 제1 유전층(24)의 절연 파괴의 위험성이 줄어들게 된다.In addition, in the present embodiment, the distance T 2 from the surface of the first dielectric layer 24 to the address electrode 22 is greater than the depth T 1 of the hole 23. That is, the first dielectric layer 24 is positioned between the bottom surface of the holes 23 and the address electrode 22. Thus, when the depth T 1 of the hole 23 is equal to the distance T 2 from the surface of the first dielectric layer 24 to the address electrode 22, that is, the address electrode 22 is discharged firstly. Rather than being exposed to the space 21, the risk of dielectric breakdown of the first dielectric layer 24 is reduced.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 홀의 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 5 is a view schematically showing the planar shape of the hole of the plasma display panel according to the first embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 제1 유전층(24)상에 형성되는 홀(23)들의 평면 형상은 원형으로 형성되고, 제1 방향(도면의 y 축 방향)으로 유지 전극(25)보다 주사 전극(26)측에 더 가깝게 형성된다. 홀(23)의 평면 형상이 원형으로 형성됨으로써, 어드레스 방전시에 홀 내에서 일어나는 방전이 더욱 효율적으로 개시될 수 있다. 또한, 홀(23)의 평면 형상은 원형이 아닌 타원형으로 형성될 수도 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.Referring to FIG. 5, the planar shape of the holes 23 formed on the first dielectric layer 24 may be formed in a circular shape, and the scan electrode 26 may be formed in the first direction (y-axis direction in the drawing) rather than the storage electrode 25. It is formed closer to the side. By forming the planar shape of the hole 23 in a circular shape, the discharge occurring in the hole at the address discharge can be started more efficiently. In addition, the planar shape of the hole 23 may be formed in an elliptical shape rather than a circular shape, which also belongs to the scope of the present invention.

이하, 본 발명의 제2 실시예 및 제3 실시예에 대해 설명한다. 제2 실시예 및 제3 실시예는 제1 실시예와 다른 그 구성 및 작용이 서로 동일 또는 유사하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. 다만, 홀의 평면 형상이 제1 실시예와 다르게 형성되어 있으므로, 이를 중심으로 설명한다.Hereinafter, the second embodiment and the third embodiment of the present invention will be described. The second embodiment and the third embodiment are the same or similar to each other in the configuration and operation different from the first embodiment, detailed description thereof will be omitted. However, since the plane shape of the hole is formed differently from the first embodiment, it will be described with reference to this.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 홀의 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다. 즉, 도 6에 도시된 제2 실시예는 제1 실시예와 비교할 때, 홀(223)의 평면 형상이 다각형으로 구성된다. 더욱 구체적으로 설명하면, 제2 실시예에서 홀(223)의 평면 형상은 정육각형으로 형성된다. 하지만, 정육각형 이외의 다른 다각형 평면 형상을 갖는 홀(223)도 본 발명에 적용될 수 있다. 이와 같은 경우, 어드레스 방전시에 홀(223) 주위로 강한 전기장이 형성되고, 이 홀(223) 주위에 전자 밀도가 상승하게 되며, 이로 인해, 어드레스의 효율이 향상될 수 있다.6 is a view schematically showing the planar shape of the hole according to the second embodiment of the present invention. That is, compared with the first embodiment, the second embodiment shown in FIG. 6 has a polygonal planar shape of the hole 223. More specifically, in the second embodiment, the planar shape of the hole 223 is formed into a regular hexagon. However, a hole 223 having a polygonal planar shape other than a regular hexagon may also be applied to the present invention. In such a case, a strong electric field is formed around the hole 223 at the time of address discharge, and the electron density increases around the hole 223, whereby the efficiency of the address can be improved.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 홀의 평면 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.7 is a view schematically showing the planar shape of the hole according to the third embodiment of the present invention.

도 7에 도시된 제3 실시예는 제1 실시예와 비교할 때, 홀(323)의 평면 형상이 슬릿 형상으로 형성된다. 제3 실시예에서는 홀(323)이 슬릿 형상으로 이루어진다. 즉, 홀(323)은 각 방전셀에 대응하면서 제2 방향(도면의 x 축 방향)으로 긴 축을 갖는 슬릿 형상으로 형성된다.In the third embodiment shown in Fig. 7, the planar shape of the hole 323 is formed in a slit shape when compared with the first embodiment. In the third embodiment, the hole 323 has a slit shape. That is, the hole 323 is formed in a slit shape having a long axis in the second direction (x-axis direction in the drawing) while corresponding to each discharge cell.

이와 같은 경우에도, 어드레스 방전시에 슬릿 형상의 홀(323) 주위로 강한 전기장이 형성되고, 이 홀(323) 주위에 전자 밀도가 상승하게 되며, 이로 인해, 어드레스의 효율이 향상될 수 있다.Even in such a case, a strong electric field is formed around the slit-shaped hole 323 at the time of address discharge, and the electron density increases around this hole 323, whereby the efficiency of the address can be improved.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형 또는 변경하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications or changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. It goes without saying that it belongs to the scope of the present invention.

이상 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 의하면, 어드레스전극을 덮는 유전층상에 복수의 홀들이 형성됨으로써, 어드레스 방전시에 방전개시전압이 낮아지고, 원활한 어드레스 방전이 수행될 수 있다.According to the plasma display panel according to the present invention as described above, by forming a plurality of holes on the dielectric layer covering the address electrode, the discharge start voltage is lowered during the address discharge, the smooth address discharge can be performed.

또한, 어드레스 방전시에 홀들 주위의 전자밀도가 다른 영역보다 상대적으로 높아지게 되어, 어드레스 효율이 향상될 수 있다.In addition, the electron density around the holes becomes relatively higher than other areas during address discharge, so that the address efficiency can be improved.

또한, 홀이 형성됨으로써 실질적으로 방전이 일어나는 방전공간으로 방전이 용이하게 유도될 수 있고, 이로 인해 어드레스전극과 주사전극 사이의 최단 거리에 형성되는 유전층의 절연파괴가 최소화될 수 있다.In addition, since the hole is formed, the discharge can be easily induced into the discharge space in which the discharge is substantially generated, thereby minimizing the dielectric breakdown of the dielectric layer formed at the shortest distance between the address electrode and the scan electrode.

또한, 어드레스 전극이 전면기판상에 형성됨으로써, 형광체 위에 전하가 쌓이면서 이온 스퍼터링 등에 의해 형광체 수명이 감소되는 것을 방지할 수 있다.In addition, since the address electrode is formed on the front substrate, it is possible to prevent the phosphor lifetime from being reduced by ion sputtering or the like while charges are accumulated on the phosphor.

또한, 유지 전극과 주사 전극 사이에서 대향 방전이 일어남으로써 발광효율이 우수한 것으로 알려진 롱갭 방전이 가능하게 되어, 종래의 면 방전 구조에 비해 더욱 높은 발광 효율이 얻어질 수 있다.In addition, a long gap discharge, which is known to be excellent in luminous efficiency, becomes possible by opposing discharge between the sustain electrode and the scan electrode, whereby a higher luminous efficiency can be obtained than in the conventional surface discharge structure.

Claims (16)

소정의 간격을 두고 대향 배치되며, 그 사이공간에서 다수로 구획되는 방전셀이 구비되는 제1 기판 및 제2 기판; A first substrate and a second substrate disposed to face each other at predetermined intervals, the discharge cells being divided into a plurality of spaces therebetween; 상기 방전셀 내에 형성되는 형광체층;A phosphor layer formed in the discharge cell; 상기 제2 기판에서 제1 방향을 따라 벋어 형성되는 어드레스 전극; An address electrode formed along the first direction in the second substrate; 상기 어드레스 전극을 덮으면서 제2 기판상에 형성되는 제1 유전층; A first dielectric layer formed on a second substrate while covering the address electrode; 상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에서, 상기 제1 방향과 수직되게 교차하는 제2 방향을 따라 벋어 형성되며, 상기 제2 기판으로부터 멀어지는 방향으로 상기 제1 기판을 향해 돌출되어 그 사이에 공간을 두고 서로 대향하도록 형성되는 제1 전극 및 제2 전극; 및A space between the first substrate and the second substrate is formed along a second direction perpendicular to the first direction and protrudes toward the first substrate in a direction away from the second substrate and spaces therebetween A first electrode and a second electrode which are formed to face each other with respect to each other; And 상기 제1 전극 및 제2 전극의 외면에 형성되는 제2 유전층;을 포함하고, And a second dielectric layer formed on outer surfaces of the first electrode and the second electrode. 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극의 횡단면에서 상기 제2 기판에 평행한 방향으로의 길이보다 상기 제2 기판에 수직한 방향으로의 길이가 더 길게 상기 제1 기판을 향해 돌출되며, The first electrode and the second electrode have a longer length in a direction perpendicular to the second substrate than a length in a direction parallel to the second substrate in a cross section of the first electrode and the second electrode. Protrudes toward the first substrate, 상기 방전셀 내부 공간으로 노출되는 상기 제1 유전층의 표면에 홀(hole)이 형성되고,A hole is formed in a surface of the first dielectric layer exposed to the inner space of the discharge cell, 상기 홀은,The hole, 상기 제2 기판에 평행한 방향으로 측정되는 상기 홀의 최대 폭의 크기를 D, 상기 제2 기판에 수직한 방향으로 측정되는 상기 홀의 최대 깊이를 T 라 할 때, 다음의 조건을 만족하는 플라즈마 디스플레이 패널.A plasma display panel that satisfies the following conditions when D is the maximum width of the hole measured in the direction parallel to the second substrate and D is the maximum depth of the hole measured in the direction perpendicular to the second substrate. . D ≤ TD ≤ T 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2 기판과 평행한 방향으로, 상기 홀은 제1 전극보다 제2 전극에 더 가깝게 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.And the hole is formed closer to the second electrode than the first electrode in a direction parallel to the second substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 유전층의 표면상에는 복수개의 홀이 형성되고, 상기 제2 기판과 평행한 방향으로, 상기 방전셀 내부공간에 대응하여 적어도 2개이상으로 구비되는 복수개의 홀들은 제1 전극보다 제2 전극에 더 가깝게 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널. A plurality of holes are formed on the surface of the first dielectric layer, and in the direction parallel to the second substrate, the plurality of holes provided in at least two corresponding to the inner space of the discharge cell have a second electrode rather than a first electrode. Plasma display panel formed closer to the. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 유전층의 표면으로부터 상기 제2 기판에 수직한 방향으로 측정되는 상기 어드레스 전극까지의 거리는, 상기 제1 유전층의 표면으로부터 상기 제2 기판에 수직한 방향으로 측정되는 상기 홀의 깊이보다 더 크게 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.The distance from the surface of the first dielectric layer to the address electrode measured in the direction perpendicular to the second substrate is greater than the depth of the hole measured from the surface of the first dielectric layer in the direction perpendicular to the second substrate. Plasma display panel. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 D 와 상기 T 가 서로 동일하게 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.And the D and the T are formed to be the same. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 홀의 평면 형상은 원형으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.And a planar shape of the hole is circular. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 홀의 평면 형상은 다각형으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.And a planar shape of the hole is polygonal. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 홀은 각 방전셀에 대응하면서 제2 방향으로 긴 축을 갖는 슬릿 형상으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.And said hole has a slit shape corresponding to each discharge cell and having a long axis in a second direction. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 각각은 상기 제1 방향을 따라 이웃하는 방전셀들의 경계를 지나도록 배치되고, 상기 제1 방향을 따라 교대로 배열되는 플라즈마 디스플레이 패널.Each of the first electrode and the second electrode is disposed to cross a boundary of neighboring discharge cells along the first direction, and is alternately arranged along the first direction. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 유전층 및 상기 제2 유전층의 표면에 보호막이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.And a passivation layer formed on surfaces of the first dielectric layer and the second dielectric layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 유전층은 상기 제1 방향을 따라 형성되는 제1 유전층부와, 이 제1 유전층부와 수직되게 교차하는 방향으로 형성되는 제2 유전층부를 포함하며, The second dielectric layer includes a first dielectric layer portion formed along the first direction and a second dielectric layer portion formed in a direction perpendicular to the first dielectric layer portion. 이 제1 유전층부 및 제2 유전층부에 의해 다수의 제1 방전공간이 구획되는 플라즈마 디스플레이 패널.And a plurality of first discharge spaces defined by the first dielectric layer portion and the second dielectric layer portion. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 제1 기판상에는 상기 제1 방전공간에 대향하는 제2 방전공간을 구획하는 격벽이 형성되고, 이 제1 방전공간 및 제2 방전공간이 하나의 방전셀을 이루는 플라즈마 디스플레이 패널.A partition wall for partitioning a second discharge space facing the first discharge space is formed on the first substrate, wherein the first discharge space and the second discharge space form a discharge cell. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 격벽은 상기 제1 유전층부에 대응하면서 상기 제1 방향을 따라 형성되는 제1 격벽부재와, 상기 제2 유전층부에 대응하면서 상기 제1 격벽부재와 수직되게 교차하는 방향으로 형성되는 제2 격벽부재를 포함하고,The partition wall may include a first partition member formed along the first direction while corresponding to the first dielectric layer part, and a second partition wall formed perpendicularly to the first partition member while corresponding to the second dielectric layer part. Including members, 상기 제1 격벽부재 및 상기 제2 격벽부재는 상기 제1 기판과 동일한 재질로 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.The first barrier member and the second barrier member are formed of the same material as the first substrate.
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