KR100725316B1 - Apparatus for prevention strip surface defection of phosphate treatment line - Google Patents

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Abstract

본 발명은 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치에 관한 것으로, 복수개의 인산용액 딥핑구역이 댐롤 사이에 위치하며, 상기 댐롤에 의해 스트립이 진행되며 인산처리가 이루어지는 인산작업라인에 있어서, 연속적으로 배치되는 상기 딥핑구역이 상기 댐롤을 경계로 양측으로 위치하여, 상기 딥핑구역이 댐롤의 경계로 연속적으로 이어지도록 배치되고, 상기 딥핑구역 중 전측으로 위치하는 딥핑구역의 앞쪽 경계를 이루는 댐롤 중 하부 댐롤의 전방으로, 상기 하부 댐롤의 회전에 의해 비산되는 인산용액이 스트립으로 진행하는 것을 방지하는 비산방지판을 구비한 비산방치장치가 설치된다. 이러한 구성에 의해, 본 발명은 인산 작업에서 롤의 회전에 따라 비산되는 인산용액이 스트립의 표면에 접촉하여 비산 마크가 형성되는 것과, 하부 댐롤에 부착된 이물질에 의한 스트립 표면에 불량이 생기는 것을 방지할 수 있다. The present invention relates to a strip surface failure prevention apparatus of a phosphoric acid working line, wherein a plurality of phosphoric acid solution dipping zones are located between dam rolls, and the strips are advanced by the dam rolls, and the phosphoric acid working line in which the phosphoric acid treatment is performed is disposed continuously. The dipping zone is located on both sides of the dam roll boundary, the dipping zone is arranged so as to continue continuously to the boundary of the dam roll, the lower of the dam roll of the dam roll forming a front boundary of the dipping zone located in front of the dipping zone In front, a scattering apparatus is provided with a scattering preventing plate which prevents the phosphate solution scattered by the rotation of the lower dam roll from proceeding to the strip. With this configuration, the present invention prevents the phosphate solution scattered by the rotation of the roll in the phosphate operation in contact with the surface of the strip to form scattering marks, and the occurrence of defects on the surface of the strip due to foreign matter attached to the lower dam roll. can do.

인산, 스트립 Phosphoric Acid, Strip

Description

인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치{APPARATUS FOR PREVENTION STRIP SURFACE DEFECTION OF PHOSPHATE TREATMENT LINE} Strip surface defect prevention device of phosphoric acid work line {APPARATUS FOR PREVENTION STRIP SURFACE DEFECTION OF PHOSPHATE TREATMENT LINE}

도 1 은 종래의 인산 작업 라인을 도시한 도면이다. 1 shows a conventional phosphoric acid working line.

도 2 는 본 발명에 의한 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치의 인산용액 딥핑구역과 댐롤의 배치를 설명하기 위한 도면이다. 2 is a view for explaining the arrangement of the phosphate solution dipping area and the dam roll of the strip surface failure prevention apparatus of the phosphate working line according to the present invention.

도 3 는 본 발명에 의한 비산방지장치의 설치 상태도이다. 3 is an installation state diagram of the scattering prevention apparatus according to the present invention.

도 4 는 본 발명에 의한 비산방지장치의 분해 조립도이다. 4 is an exploded view of the scattering prevention device according to the present invention.

도 5 는 본 발명에 의한 이물질 제거장치의 사시도이다. 5 is a perspective view of the foreign material removing apparatus according to the present invention.

도 6 은 본 발명에 의한 이물질 제거장치의 분해 조립도이다. 6 is an exploded assembly view of the foreign matter removing apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10: 댐롤 12: 하부 댐롤10: dam roll 12: lower dam roll

15: 인산용액 저장조 16,17: 밀봉 플레이트15: phosphate reservoir 16, 17: sealing plate

20: 이물질제거장치 21: 회전 샤프트20: debris removal device 21: rotating shaft

34: 브러쉬 40: 비산방지장치34: Brush 40: Shatterproof Device

47: 비산방지판 49: 브러쉬47: shatterproof plate 49: brush

본 발명은 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 스트립을 전기도금 및 용융아연도금한 후 도금층 표면의 도장성을 향상시키기 위해 수행되는 인산 작업에서, 스트립의 표면의 비산 마크의 생성을 방지하고 롤 표면 불량에 따라 스트립의 표면에 불량이 발생하는 것을 방지 가능한 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for preventing strip surface defects of a phosphoric acid working line, and more particularly, in the phosphoric acid operation performed to improve the paintability of the surface of a plated layer after electroplating and hot dip galvanizing the strip, The present invention relates to a strip surface failure prevention device of a phosphate working line, which can prevent the generation of marks and prevent the occurrence of defects on the surface of the strip due to the roll surface failure.

일반적으로 냉연제품에 전기도금 또는 용융아연도금을 행한 후, 도금층의 표면에 도장성을 향상시키기 위하여 인산작업이 수행된다.Generally, after electroplating or hot dip galvanizing the cold rolled product, a phosphoric acid operation is performed to improve paintability on the surface of the plating layer.

도 1 에는 종래의 인산 작업 라인이 도시되어 있는 데, 도장성을 향상시키기 위한 수행되는 인산 작업은 표면처리 구역에서 PL-F 알카리 계통의 용액에 스트립이 잠기면서 통과하는 방식으로 진행된다. A conventional phosphoric acid work line is shown in FIG. 1, wherein the phosphoric acid work performed to improve paintability proceeds in such a way that the strip is submerged in a solution of the PL-F alkali system in the surface treatment zone.

인산용액은 라인은 라인의 속도에 따라 대응하기 위하여 3개의 딥핑구역(110)으로 나뉘어져 있으며, 필요에 따라 2~3개의 딥핑구역이 사용된다. 댐롤(2 내지 7)에 의해 잠겨 있는 용액 사이를 스트립(100)이 통과하며, 댐롤의 하부와 측면은 밀봉 플레이트에 의해 용액의 리크(leak)를 최소화할 수 있도록 구성되어 있다. The phosphoric acid solution is divided into three dipping zones 110 to correspond to the speed of the line, and two to three dipping zones are used as necessary. The strip 100 passes between the solutions immersed by the dam rolls 2 to 7, and the lower and side surfaces of the dam roll are configured to minimize the leak of the solution by the sealing plate.

그러나 인산용액과 접하고 있는 댐롤(2,4,6)이 회전함으로 완전한 밀봉이 불가능한바, 인산 용액의 일부가 댐롤(2,4,6)의 회전에 의해 밀봉 플레이트와 댐롤 사이의 간격으로 빠져나오게 되며, 댐롤의 회전력에 의해 빠져나온 용액이 스트립(100)의 표면에 비산된다. 스트립(100)이 댐롤 사이를 통과하여 인산용액에 잠기기 전에 비산된 인산용액이 스트립(100)의 표면과 접촉하여 먼저 반응을 하게 되므로 스트립(100) 전면에 걸쳐 비산 마크가 발생하게 된다. 특히, 인산 작업 라인의 전측으로 설치된 댐롤(2) 부분에서는 스트립(100)이 도금처리된 후 인산용액과 접촉하기 전에 미리 스트립(100)의 표면에 인산용액이 비산되므로 비산 마크의 생성이 현저하며, 각 딥핑구역의 전측으로 위치하는 댐롤(4,6) 부분에서도 인산용액 비산에 의해 비산 마크의 생성이 일어나고 있다. However, due to the rotation of the dam rolls (2, 4, 6) in contact with the phosphate solution, it is impossible to completely seal the portion of the phosphate solution so that the gap between the sealing plate and the dam roll is caused by the rotation of the dam rolls (2, 4, 6). The solution escaped by the rotational force of the dam roll is scattered on the surface of the strip 100. Before the strip 100 passes between the dam rolls and is immersed in the phosphate solution, the scattered phosphate solution contacts the surface of the strip 100 and reacts first, so that scattering marks are generated over the entire surface of the strip 100. In particular, in the part of the dam roll 2 installed at the front side of the phosphoric acid working line, since the phosphoric acid solution is scattered on the surface of the strip 100 before contact with the phosphoric acid solution after the strip 100 is plated, the generation of scattering marks is remarkable. In the dam rolls 4 and 6 located at the front side of each dipping zone, scattering marks are generated by the phosphate solution.

또한, 종래의 인산 작업 라인의 경우 댐롤 사이에 인산용액이 담지된 구역 사이로 링거롤(1,wringer roll)이 설치되어 여분의 액을 스트립(100) 표면에서 닦아내도록 구성되어 있는바, 링거롤(1)에 의해 스트립(100) 표면에서 인산용액이 닦아내진 후 인산용액이 다시 비산되므로 비산 마크의 생성을 확대시키는 문제점이 있다. In addition, in the case of the conventional phosphate working line, a ringer roll (1, wringer roll) is installed between the areas in which the phosphate solution is loaded between the dam rolls, and is configured to wipe off the excess liquid from the surface of the strip 100. Since the phosphoric acid solution is wiped off from the surface of the strip 100 by 1), the phosphoric acid solution is scattered again, thereby increasing the generation of scattering marks.

또한, 인산은 산성용액이므로 댐롤 등의 롤(1 내지 7)은 장시간 사용시 표면이 오염되고, 이러한 롤(1 내지 7) 표면의 오염은 스트립(100)의 표면 불량으로 이어지게 되는 데, 종래의 인산 작업 라인의 경우 스트립(100)의 진행 중에라도 상부 롤이 오염 제거는 비교적 용이하나 하부롤은 공간의 협소성 및 진행 스트립 때문에 롤의 오염을 제거하기가 어려운 단점이 있었다. 따라서 종래에는 연속적인 불량 발생시, 라인을 스톱시킨 후 이를 제거한 바, 생산성 악화의 원인이 되었다. In addition, since phosphoric acid is an acid solution, the rolls 1 to 7 such as dam rolls are contaminated with the surface for a long time, and the contamination of the surfaces of the rolls 1 to 7 leads to a poor surface of the strip 100. In the case of the work line, the upper roll is relatively easy to decontaminate even while the strip 100 is in progress, but the lower roll has a disadvantage in that it is difficult to decontaminate the roll due to the narrowness of the space and the traveling strip. Therefore, conventionally, when a continuous failure occurs, the line is stopped and then removed, which causes deterioration in productivity.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 안출된 것으로, 그 목적은 스트립을 전기도금 및 용융아연도금 후 도금층 표면의 도장성을 향상시키기 위해 수행되는 인산 작업에서 롤의 회전에 따라 비산되는 인산용액이 스트립의 표면에 접촉하는 것을 방지하고 스트립의 진행 중에 롤 표면을 세척할 수 있도록 하여 스트립의 표면 불량이 방지될 수 있도록 구성된 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치를 제공하는 데 있다. The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, the object of which is that the phosphoric acid solution which is scattered with the rotation of the roll in the phosphoric acid operation is performed to improve the paintability of the surface of the coating layer after the electroplating and hot dip galvanizing strips It is an object of the present invention to provide a strip surface failure prevention apparatus of a phosphate working line configured to prevent contact with the surface of the strip and to clean the surface of the roll during the progress of the strip to prevent surface defects of the strip.

상술한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치는 복수개의 인산용액 딥핑구역이 댐롤 사이에 위치하며, 상기 댐롤에 의해 스트립이 진행되며 인산처리가 이루어지는 인산작업라인에 있어서, 연속적으로 배치되는 상기 딥핑구역이 상기 댐롤을 경계로 양측으로 위치하여, 상기 딥핑구역이 댐롤의 경계로 연속적으로 이어지도록 배치되고, 상기 딥핑구역 중 전측으로 위치하는 딥핑구역의 앞쪽 경계를 이루는 댐롤 중 하부 댐롤의 전방으로, 상기 하부 댐롤의 회전에 의해 비산되는 인산용액이 스트립으로 진행하는 것을 방지하는 비산방지판을 구비한 비산방치장치가 설치되는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a device for preventing a surface failure of a strip of a phosphoric acid working line, wherein a plurality of phosphoric acid solution dipping zones are positioned between dam rolls, and the strip is processed by the dam rolls, and the phosphoric acid working line undergoes phosphoric acid treatment. The dam rolls arranged in succession are positioned on both sides of the dam roll so that the dipping zone is continuously connected to the boundary of the dam roll, and the dam roll forms a front boundary of the dipping zone located in the front side of the dipping zone. The front of the lower dam roll, characterized in that the scattering apparatus having a scattering prevention plate for preventing the phosphate solution scattered by the rotation of the lower dam roll to proceed to the strip.

여기서, 상기 비산방지장치는, 상기 비산방지판의 좌우 양측 하부로 설치되며 각각의 조절부가 로드를 통해 서로 연결되어 동시로 승하강하는 스크류잭; 상기 스큐잭의 상부로 각각 설치되는 베이스; 상기 베이스에 고정적으로 설치되는 샤프트 지지부; 상기 비산방지판이 고정부착되어 지지되며, 양단이 상기 샤프트 지지부에 고정적으로 지지되는 방지판 고정 샤프트를 포함하여 구성되며, 상기 비산방지판의 전단에는 하부 롤의 표면에 접촉하여 상기 하부 롤 표면을 세척가능한 브러쉬가 고정된다.Here, the scattering prevention device, the screw jack is installed in the lower left and right sides of the scattering prevention plate and each control unit is connected to each other through a rod to move up and down at the same time; A base installed at each of the skew jacks; A shaft support fixedly mounted to the base; The shatterproof plate is fixedly attached and supported, and includes an antiplate plate fixing shaft, both ends of which are fixedly supported on the shaft support, wherein the front of the shatterproof plate contacts the surface of the lower roll to wash the lower roll surface. The brush is fixed as much as possible.

또한, 본 발명은 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치는 상기 댐롤의 길이에 대응하는 길이의 브러쉬가 부착되어 상기 브러쉬가 회전하는 하부 댐롤의 주면에 접촉하여 상기 하부 댐롤의 표면에 고착된 이물질을 제거가능하는 이물질제거장치를 포함한다. In addition, the present invention is a strip surface failure prevention apparatus of the phosphate working line is attached to the brush of the length corresponding to the length of the dam roll is attached to the foreign material adhered to the surface of the lower dam roll in contact with the main surface of the lower dam roll to rotate the brush. And a removable debris removal device.

여기서 상기 이물질제거장치는, 핸들에 의해 회전조작 가능하게 설치되는 회전 샤프트; 상기 회전 샤프트에 하단이 고정되고 상기 회전 샤프트에 교차 방향으로 연장되는 복수개의 이음대; 및 상기 이음대의 상단에 고정 지지되며 상기 회전 샤프트의 연장방향으로 연장 형성된 베이스 플레이트를 구비하여, 상기 브러쉬가 상기 베이스 플레이트에 브러쉬홀더를 매개로 설치되는 것을 특징으로 한다. Here, the debris removal device, the rotary shaft is installed rotatably by the handle; A plurality of joints fixed to the rotary shaft and extending in the cross direction to the rotary shaft; And a base plate fixedly supported at an upper end of the joint and extending in an extension direction of the rotating shaft, wherein the brush is installed on the base plate via a brush holder.

이러한 구성에 의해, 본 발명은 인산 작업에서 롤의 회전에 따라 비산되는 인산용액이 스트립의 표면에 접촉하여 비산 마크가 형성되는 것과, 하부 댐롤에 부착된 이물질에 의한 스트립 표면에 불량이 생기는 것을 방지할 수 있다. With this configuration, the present invention prevents the phosphate solution scattered by the rotation of the roll in the phosphate operation in contact with the surface of the strip to form scattering marks, and the occurrence of defects on the surface of the strip due to foreign matter attached to the lower dam roll. can do.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 는 본 발명에 의한 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치의 인산용액 딥핑구역의 연속 배치 구조를 도시하고 있다. Figure 2 shows the continuous arrangement of the phosphoric acid solution dipping zone of the strip surface failure prevention apparatus of the phosphoric acid working line according to the present invention.

도면을 참조하면, 상하부 댐롤(11,12)로 구성된 댐롤(10)을 경계로 하여 딥핑구역이 연속적으로 이어지도록 배치됨을 알 수 있다. Referring to the drawings, it can be seen that the dipping area is continuously connected to the dam roll 10 composed of upper and lower dam rolls 11 and 12 as a boundary.

댐롤(10)의 전후측으로 인산용액을 저장하여 상하부 댐롤(11,12) 사이를 진행하는 스트립이 인산용액에 잠겨 표면 처리가 가능하도록 인산용액 저장조(15)가 설치되며, 하부 밀봉 플레이트(16)와 측면 밀봉 플레이트(17)에 의해 댐롤(10)의 회전에 따른 인산용액 누설을 최소화하고 있다. The phosphate solution reservoir 15 is installed to store the phosphate solution in the front and rear sides of the dam roll 10 so that the strip traveling between the upper and lower dam rolls 11 and 12 is immersed in the phosphate solution so that surface treatment is possible, and the lower sealing plate 16 is disposed. The side seal plate 17 minimizes the leakage of the phosphate solution due to the rotation of the dam roll 10.

이러한 구성에 의해 두 쌍의 댐롤과 그 사이에 위치하는 한 쌍의 링가롤에 의해 각 딥핑구역이 이격된 종래 구조에서, 딥핑구역이 댐롤(10) 전후측으로 연속적 구조로 변경되며, 이로 인해 딥핑구역을 통과한 스트립이 다음 딥핑구역으로 진입하기 전에 비산되는 인산용액과 접촉되는 것이 방지됨으로 스트립이 2~3개의 딥핑구역을 순차적으로 통과하는 과정에서 비산 마크가 형성되는 것을 방지할 수 있게 된다. In this configuration, in the conventional structure in which each dipping zone is spaced apart by two pairs of dam rolls and a pair of ringa rolls positioned therebetween, the dipping zone is changed into a continuous structure in front of and behind the dam roll 10, and thus, the dipping zone. Since the strip passing through is prevented from contacting the phosphate solution which is scattered before entering the next dipping zone, it is possible to prevent the scatter marks from being formed in the course of passing the strip through two or three dipping zones sequentially.

또한, 하부 댐롤(12)의 하부에는 이물질 제거장치(20)가 설치된다. 이물질 제거장치(20)는 댐롤(10)의 길이에 대응하는 브러쉬(34)를 구비하여 이 브러쉬(34)가 하부 댐롤(12)의 주면에 접촉할 수 있도록 구성되어 있으며, 이로 인해 하부 댐롤(12)이 회전하면 브러쉬(34)에 의해 하부 댐롤(12)의 주면에 고작된 이물질이 제거되면서 세척이 이루어진다, 이물질 제거장치(20)는 댐롤(10) 표면에 순수(純水)를 공급하는 순수공급장치(미도시)와 함께 사용될 수 있다. In addition, a foreign material removal device 20 is installed below the lower dam roll 12. The debris removing device 20 is provided with a brush 34 corresponding to the length of the dam roll 10 so that the brush 34 can contact the main surface of the lower dam roll 12. 12 is rotated and the washing is performed while removing foreign matters on the main surface of the lower dam roll 12 by the brush 34. The foreign substance removing device 20 supplies pure water to the dam roll 10 surface. Can be used with a pure water supply device (not shown).

도 3 은 본 발명에 의한 비산방지장치의 설치 상태도이며, 도 4 는 본 발명에 의한 비산방지장치의 분해 조립도이다. 3 is an installation state diagram of the scattering prevention apparatus according to the present invention, Figure 4 is an exploded assembly view of the scattering prevention apparatus according to the present invention.

도면을 참조하면, 비산방지장치(40)는 인산 작업 라인에서 딥핑구역 중 가장 앞쪽으로 위치하는 딥핑구역 즉, 전측 딥핑구역의 앞쪽 경계를 이루는 댐롤(10)의 전방으로 설치되어, 하부 댐롤(12)에 의해 비산하는 인산용액에 의해 스트립이 오염되는 것을 방지할 수 있도록 구성된다. Referring to the drawings, the shatterproof device 40 is installed in front of the dam roll 10 that forms the front boundary of the dipping zone that is located in the front of the dipping zone, that is, the front dipping zone in the phosphoric work line, the lower dam roll 12 It is configured to prevent the strip from being contaminated by the phosphate solution scattering by).

비산방지장치(40)는 비산방지판(47)의 좌우 양측 하부로 설치되는 스크류잭 (41)을 포함한다. 스크류잭(41)은 측면으로 형성된 조절부 축(41a) 조작을 통해 승하강하면서 높낮이 조절된다. 본 발명에 의하면 좌우 양측의 스크류잭(41)은 로드(45)를 통해 서로 연결되어 동시 동작하도록 설치된다. 도면에 도시된 바와 같이, 조절부 축(42a) 각각이 커플링(44)을 통해 로드(45)로 연결되어 있다. 따라서, 조작핸들(미도시)을 통해 조절부 축(41a)을 돌리면 좌,우 양측의 스크류잭(41)은 동시적으로 승하강된다. Shatterproof device 40 includes a screw jack 41 is installed in the lower left and right sides of the shatterproof plate 47. The screw jack 41 is adjusted up and down while moving up and down through the operation of the adjuster shaft 41a formed on the side. According to the present invention, the left and right screw jacks 41 are connected to each other through the rod 45 and are installed to operate simultaneously. As shown in the figure, each of the adjuster shafts 42a is connected to the rod 45 via a coupling 44. Accordingly, when the adjusting unit shaft 41a is turned through the operation handle (not shown), the screw jacks 41 on both the left and right sides are simultaneously raised and lowered.

스크류잭(41)의 상부에는 베이스(42)가 설치되고, 베이스(42)에는 샤프트 지지부(43)가 설치되어 볼트로 고정된다. 샤프트 지지부(43)는 베이스(42)에 고정되는 플레이트(43a)와 플레이트(43a)의 상면으로 부착된 사각고정홈(43c)을 가진 블럭(43b)으로 형성된다. A base 42 is installed on the top of the screw jack 41, and a shaft support 43 is installed on the base 42 to be fixed by bolts. The shaft support 43 is formed of a block 43b having a plate 43a fixed to the base 42 and a square fixing groove 43c attached to the upper surface of the plate 43a.

양측으로 위치하는 사각고정홈(43c)에는 방지판 고정 샤프트(46)의 양단이 삽입 고정된다. 방지판 고정 샤프트(46)의 양단은 사각고정홈(43c)에 대응하는 사각단면을 가진다. 따라서 방지판 고정 샤프트(46)는 회전이 불가능한 상태로 샤프트 지지부(43)에 고정되는 것이 가능하다. Both ends of the prevention plate fixing shaft 46 are inserted and fixed in the square fixing groove 43c positioned at both sides. Both ends of the prevention plate fixing shaft 46 have a square cross section corresponding to the square fixing groove 43c. Therefore, the preventive plate fixing shaft 46 can be fixed to the shaft support 43 in a state in which rotation is impossible.

방지판 고정 샤프트(46)의 주면을 따라 비산방지판(47)의 일측이 경사방향으로 고정적으로 결합된다. 비사방지판(47)의 선단에는 브러쉬홀더(48)가 볼트로 고정되고, 브러쉬홀더(48)에 의해 브러쉬(49)가 고정된다. One side of the shatterproof plate 47 is fixed in the inclined direction along the main surface of the preventive plate fixing shaft 46. The brush holder 48 is fixed to the tip of the anti-reflection plate 47 by a bolt, and the brush 49 is fixed by the brush holder 48.

이러한 구성의 비산방지장치에 의해 하부 댐롤(12)의 회전력에 의해 비산되는 인산용액이 스트립으로 진행하여 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 스크류잭(41)에 의해 비산방지판의 설치 높이가 자유롭게 조절되며, 하부 댐롤(12)이 오염된 경 우 스크류잭(41)에 의해 높이를 조절하여 브러쉬(49)가 하부 댐롤(12)의 주면에 접촉하도록하여 하부 댐롤(12)의 회전에 의해 하부 댐롤(12)에 부착된 이물질을 제거하는 세척이 이루어진다. By the scattering prevention device of such a configuration, it is possible to prevent the phosphoric acid solution scattered by the rotational force of the lower dam roll 12 from advancing to the strip and contacting. The installation height of the shatterproof plate is freely adjusted by the screw jack 41, and when the lower dam roll 12 is contaminated, the height of the lower dam roll 12 is adjusted by the screw jack 41 so that the brush 49 of the lower dam roll 12 Cleaning is performed to remove foreign substances attached to the lower dam roll 12 by the rotation of the lower dam roll 12 in contact with the main surface.

도 5 는 도 2 에서 보이는 이물질제거장치의 사시도이며, 도 6 은 도 5 에 도시된 이물질 제거장치의 분해 조립도이다. FIG. 5 is a perspective view of the foreign matter removing device shown in FIG. 2, and FIG. 6 is an exploded assembly view of the foreign material removing device shown in FIG. 5.

도면을 참조하면, 이물질제거장치(20)는 전측 하부 댐롤의 후측으로 위치하는 하측 하부 댐롤(12)의 하부에 설치된다. 베어링 고정 너트(26)를 매개로 베어링(25)이 장착된 좌우 양측의 베어링블럭(24)에 의해 지지되어 회전가능하게 장착되는 회전 샤프트(21)를 포함한다. 베어링블럭(24)에는 베어링 커버(27)가 장착되어 이물질의 침입이 방지되도록 구성된다. Referring to the drawings, the foreign matter removing device 20 is installed in the lower portion of the lower lower dam roll 12 located to the rear side of the front lower dam roll. It includes a rotating shaft 21 is supported by the bearing block 24 on both the left and right sides in which the bearing 25 is mounted via the bearing fixing nut 26 to be rotatably mounted. The bearing block 24 is equipped with a bearing cover 27 is configured to prevent intrusion of foreign matter.

회전 샤프트(21)의 일측 단부는 사각형의 단면을 구비하며, 베어링 커버(27) 외측으로 상기 사각형 단면의 회전 샤프트(21)의 단부와 결합하는 핸들(28)을 구비한다. 핸들(28)의 조작에 의해 회전 샤프트(21)의 회전이 조절된다. One end of the rotary shaft 21 has a rectangular cross section and has a handle 28 that engages with an end of the rectangular rotary shaft 21 out of the bearing cover 27. The rotation of the rotating shaft 21 is adjusted by the operation of the handle 28.

회전 샤프트(21)에는 교차 방향으로 연장되는 3개의 이음대가 구비된다. 이음대는 제1이음대(22)와 제2이음대(23)의 결합으로 이루어지는 데, 제1이음대(22)는 하단이 회전 샤프트(21)에 고정적으로 결합되고, 길이 방향으로 제1슬롯(22a)이 형성되어 있다. The rotary shaft 21 is provided with three joints extending in the cross direction. The joint is composed of a combination of the first joint 22 and the second joint 23, the first joint 22 is the lower end is fixedly coupled to the rotary shaft 21, the first slot in the longitudinal direction 22a is formed.

제2이음대(23)는 상단으로 베이스 플레이트(30)가 설치되며, 길이방향으로 제2슬롯(23a)이 형성되어 있다. 제1이음대(22)의 제1슬롯(22a)과, 제2이음대(23)의 제2슬롯(23a)이 적어도 부분적으로 연통하도록 배열된 상태에서 볼트가 제1슬롯 (22a) 및 제2슬롯(23a)을 관통하여 체결됨으로 인해 제1이음대(22)와 제2이음대(23)가 길이조절가능하게 서로 고정된다. The second joint 23 is provided with a base plate 30 at an upper end thereof, and a second slot 23a is formed in the longitudinal direction. The first slot 22a and the first slot 22a of the first joint 22 and the second slot 23a of the second joint 23 are arranged so that the bolts are at least partially in communication with the first slot 22a and the first slot 22. The first joint 22 and the second joint 23 are fixed to each other to be adjustable in length by being fastened through the two slots 23a.

베이스 플레이트(30)의 상단에는 브러쉬 고정 레일(31-1,31-2)이 설치되며, 브러쉬 고정 레일(33-1,33-2)에 브러쉬홀더(33)에 고정된 브러쉬(34)가 결합된다. Brush fixing rails 31-1 and 31-2 are installed at the upper end of the base plate 30, and brushes 34 fixed to the brush holders 33 are attached to the brush fixing rails 33-1 and 33-2. Combined.

브러쉬홀더(33)는 브러쉬 고정 레일(31-1,31-2)에 의해 형성되는 안내홈을 따라 측면방향으로 삽입되고, 이에 의해 베이스 플레이트(30)에 브러쉬(34)가 설치된다. 베이스 플레이트(30)의 측면으로 상기 안내홈에 삽입된 브러쉬홀더(33)의 측면을 지지하는 측면고정 플레이트(32)가 장착된다. 이에 의해 브러쉬홀더(33)가 브러쉬 고정 레일(31-1,31-2) 및 측면고정 플레이트(32)에 지지되면서 유동이 방지된다. 이러한 구성에 의해 브러쉬홀더(33)와 일체로 결합된 브러쉬(34)의 교체가 측면방향으로 이루어지게 되므로 브러쉬(34)의 마모시 하부 댐롤(12) 하측의 협소한 공간에서도 브러쉬(34)의 교체가 용이하다. The brush holder 33 is inserted in the lateral direction along the guide grooves formed by the brush fixing rails 31-1 and 31-2, whereby the brush 34 is installed in the base plate 30. The side fixing plate 32 supporting the side of the brush holder 33 inserted into the guide groove to the side of the base plate 30 is mounted. As a result, the brush holder 33 is supported by the brush fixing rails 31-1 and 31-2 and the side fixing plate 32, thereby preventing flow. Since the replacement of the brush 34 integrally combined with the brush holder 33 is made in the lateral direction by such a configuration, the brush 34 may be used even in a narrow space below the lower dam roll 12 when the brush 34 is worn. Easy to replace

이하 첨부 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예의 작용을 설명한다.Hereinafter, the operation of the embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

인산 작업시 전측 하부 댐롤(12)에 의한 용액의 비산은 도 2 에 도시된 바와 같이 비산방지장치의 비산방지판(47)에 의해 차단되기 때문에 스트립 까지 진행하지 못하고 하부 흘러내리게 된다. During the phosphoric acid operation, the scattering of the solution by the front lower dam roll 12 is blocked by the scattering preventing plate 47 of the scattering preventing device as shown in FIG.

또한, 비산방지판(47)의 높낮이는 스크류잭(41)에 의해 자유롭게 조절가능한 바, 하부 댐롤(12)에 이물질이 부착되었을 경우 스크류잭(41)을 조정하여 비산방지판(47)의 선단부에 부착되어 있는 브러쉬(48)가 하부 댐롤(12)의 주면에 맞닿아 하부 댐롤(12) 표면의 이물질을 제거한다. In addition, the height of the anti-scattering plate 47 is freely adjustable by the screw jack 41. When foreign matter is attached to the lower dam roll 12, the tip of the anti-scattering plate 47 is adjusted by adjusting the screw jack 41. The brush 48 attached to the lower surface of the lower dam roll 12 contacts the main surface of the lower dam roll 12 to remove foreign substances.

한편, 본 발명에 의하면 딥핑구역이 댐롤(10)의 경계로 하여 연속적으로 배치됨으로 종래와 같이 링가롤을 통과한 스트립이 다음 딥핑구역으로 진입할 때 하부 댐롤의 회전에 의해 비산하는 인산용액과 접촉하여 비산 마크가 발생하는 것이 원천적으로 발생된다. Meanwhile, according to the present invention, since the dipping zone is continuously disposed as a boundary of the dam roll 10, the strip passing through the ringer roll, as in the prior art, contacts with the phosphate solution scattered by the rotation of the lower dam roll when entering the next dipping zone. The generation of the scattering mark is basically generated.

댐롤(10)의 하측으로 설치되는 이물질 제거장치(20)는 일상 작업시에는 사용되지 않지만, 하부 댐롤(12)에 이물질이 부착되어 부착된 이물질에 의해 스트립 표면 불량이 발생하는 경우 사용된다. 핸들(28)을 돌려 회전 샤프트(21)에 조립되어 이음대를 통하여 브러쉬(34)가 하부 댐롤(12)과 맞닿게 조정되며, 브러쉬(34)는 하부 댐롤(12) 표면의 이물질을 한꺼번에 제거가능하다. The foreign material removal device 20 installed below the dam roll 10 is not used in daily work, but is used when a bad surface of the strip is caused by foreign matter attached to the lower dam roll 12. The handle 28 is assembled to the rotary shaft 21 to adjust the brush 34 to abut against the lower dam roll 12 through the joint, and the brush 34 removes foreign substances on the surface of the lower dam roll 12 at once. It is possible.

브러쉬(34) 마모시에는 측면고정 플레이트(32)를 분해하여 브러쉬홀더(34)를 측방으로 꺼내고, 브러쉬(34)를 교환한 후 다시 삽입하고 측면고정 플레이트(32)를 체결하는 방식으로 교체할 수 있어 유지 관리의 편의성이 확보된다. When the brush 34 is worn, the side fixing plate 32 is disassembled and the brush holder 34 is pulled out to the side, the brush 34 is replaced, reinserted, and the side fixing plate 32 is fastened. It can ensure the convenience of maintenance.

본 발명에 의하면, 인산 작업에서 롤의 회전에 따라 비산되는 인산용액이 스트립의 표면에 접촉하는 것을 방지가능하다. 이로 인해 스트립 표면에 비산 마크가 형성되는 것을 방지하여 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량을 해소할 수 있게 된다. According to the present invention, it is possible to prevent the phosphoric acid solution which is scattered with the rotation of the roll in the phosphoric acid operation in contact with the surface of the strip. This prevents the formation of scattering marks on the strip surface, thereby eliminating the strip surface defect of the phosphoric acid working line.

또한, 본 발명에 의하면 스트립의 진행 중에 하부 댐롤에 부착된 이물질 제거가 가능하여 하부 댐롤에 부착된 이물질에 의한 스트립 표면 불량을 해소할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention it is possible to remove the foreign matter attached to the lower dam roll during the progress of the strip to eliminate the surface defect of the strip due to the foreign matter attached to the lower dam roll.

Claims (6)

복수개의 인산용액 딥핑구역이 댐롤 사이에 위치하며, 상기 댐롤에 의해 스트립이 진행되며 인산처리가 이루어지는 인산작업라인에 있어서,In the phosphoric acid working line is a plurality of phosphoric acid solution dipping zone is located between the dam roll, the strip proceeds by the dam roll and the phosphoric acid treatment, 연속적으로 배치되는 상기 딥핑구역이 상기 댐롤을 경계로 양측으로 위치하여, 상기 딥핑구역이 댐롤의 경계로 연속적으로 이어지도록 배치되고,The dipping zones which are continuously arranged are located at both sides of the dam roll so that the dipping zone is continuously connected to the boundary of the dam roll, 상기 딥핑구역 중 전측으로 위치하는 딥핑구역의 앞쪽 경계를 이루는 댐롤 중 하부 댐롤의 전방으로, 상기 하부 댐롤의 회전에 의해 비산되는 인산용액이 스트립으로 진행하는 것을 방지하는 비산방지판을 구비한 비산방치장치가 구비된 것을 특징으로 하는 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치.Scattering stand with scattering prevention plate which prevents the phosphate solution scattered by the rotation of the lower dam roll to the strip from the dam roll forming the front boundary of the dipping zone located in the front of the dipping zone to the front of the lower dam roll. Device for preventing strip surface failure of phosphate working line, characterized in that the device is provided. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비산방지장치는,The scattering prevention device, 상기 비산방지판의 좌우 양측 하부로 설치되며 각각의 조절부가 로드를 통해 서로 연결되어 동시로 승하강하는 스크류잭;Screw jacks are installed at the lower left and right sides of the scattering prevention plate and each control unit is connected to each other through a rod to move up and down simultaneously; 상기 스큐류잭의 상부로 각각 설치되는 베이스;A base installed on each of the skew flow jacks; 상기 베이스에 고정적으로 설치되는 샤프트 지지부;A shaft support fixedly mounted to the base; 상기 비산방지판이 고정부착되어 지지되며, 양단이 상기 샤프트 지지부에 고정적으로 지지되는 방지판 고정 샤프트를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 인산작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치.The scattering prevention plate is fixedly attached and supported, both ends of the strip surface failure prevention device of the phosphate work line, characterized in that it comprises a prevention plate fixed shaft which is fixedly supported on the shaft support. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 비산방지판의 전단에는 하부 롤의 표면에 접촉하여 상기 하부 롤 표면을 세척가능한 브러쉬가 고정된 것을 특징으로 하는 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치.The front surface of the shatterproof plate in contact with the surface of the lower roll, the surface of the strip surface of the phosphate working line, characterized in that the brush for cleaning the lower roll surface is fixed. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 댐롤의 길이에 대응하는 길이의 브러쉬가 부착되어 상기 브러쉬가 회전하는 하부 댐롤의 주면에 접촉하여 상기 하부 댐롤의 표면에 고착된 이물질을 제거가능하는 이물질제거장치가 상기 하부 댐롤 하부에 설치된 것을 특징으로 하는 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치.The foreign matter removing device is attached to the lower dam roll lower portion is attached to a brush having a length corresponding to the length of the dam roll to remove the foreign matter stuck to the surface of the lower dam roll in contact with the main surface of the lower dam roll rotates the brush. Strip surface failure prevention device of phosphoric acid working line. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 이물질제거장치는 The debris removal device 핸들에 의해 회전조작 가능하게 설치되는 회전 샤프트;A rotating shaft rotatably installed by the handle; 상기 회전 샤프트에 하단이 고정되고 상기 회전 샤프트에 교차 방향으로 연장되는 복수개의 이음대; 및A plurality of joints fixed to the rotary shaft and extending in the cross direction to the rotary shaft; And 상기 이음대의 상단에 고정 지지되며 상기 회전 샤프트의 연장방향으로 연장 형성된 베이스 플레이트를 구비하여,A base plate fixedly supported at an upper end of the joint and extending in an extension direction of the rotating shaft, 상기 브러쉬가 상기 베이스 플레이트에 브러쉬홀더를 매개로 설치된 것을 특징으로 하는 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치.And the brush is installed on the base plate via a brush holder. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 베이스 플레이트의 상면에는 브러쉬 고정 레일이 설치되고,The brush fixing rail is installed on the upper surface of the base plate, 상기 브러쉬 고정 레일에 의해 형성되는 안내홈을 따라 상기 브러쉬홀더가 측면방향으로 삽입되도록 구성되며, The brush holder is configured to be inserted in the lateral direction along the guide groove formed by the brush fixing rail, 상기 베이스 플레이트의 측면으로 상기 브러쉬홀더의 측면을 지지하는 측면고정 플레이트가 장착되어 상기 브러쉬홀더를 상기 안내홈에 고정시키는 것을 특징으로 인산 작업 라인의 스트립 표면 불량 방지 장치.Side fixing plate for supporting the side of the brush holder to the side of the base plate is fixed to the strip surface of the phosphate work line, characterized in that for fixing the brush holder in the guide groove.
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