KR100714794B1 - Low temperature and rapid curable anisotropic conductive film, and method for preparing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이방성 도전 필름, 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 아크릴레이트 수지, (메타)아크릴레이트 모노머, 라디칼 개시제, 및 도전성 입자를 포함하는 이방성 도전 필름의 수축 방지와 접속신뢰성 확보를 위하여 페녹시 수지, 및 고무수지를 더 포함하는 이방성 도전 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an anisotropic conductive film and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to an anisotropic conductive film for preventing shrinkage and securing connection reliability of an anisotropic conductive film comprising an acrylate resin, a (meth) acrylate monomer, a radical initiator, A phenoxy resin, and a rubber resin, and a method for producing the same.

본 발명의 이방성 도전 필름은 내열성 및 내습성이 높은 페녹시 수지와 고무 수지를 포함하여, 저온에서 빠른 경화반응을 일으키고, 고온 및 고습 조건(85℃ x 85%RH)에서 신뢰성 평가시 수축 현상이 개선되는 장점이 있어, 접착강도 및 접속저항 유지의 효과가 우수하다.The anisotropic conductive film of the present invention contains a phenoxy resin and a rubber resin having high heat resistance and moisture resistance and causes a rapid curing reaction at a low temperature and exhibits a shrinkage phenomenon during reliability evaluation under high temperature and high humidity conditions (85 DEG C x 85% RH) There is an advantage that the adhesive strength and the connection resistance holding effect are excellent.

저온 속경화형, 이방성 도전 필름, 접착강도, 접속저항, 수축 Low temperature fast curing type, anisotropic conductive film, adhesion strength, connection resistance, shrinkage

Description

저온 속경화형 이방성 도전 필름, 및 그 제조방법{LOW TEMPERATURE AND RAPID CURABLE ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic conductive film and a method for manufacturing the same,

도 1은 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 4에 따른 이방성 도전필름의 85℃ x 85%RH x 100hr처리 후의 사진.1 is a photograph of the anisotropic conductive film according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 after treatment at 85 ° C x 85% RH x 100 hr.

[산업상 이용분야][Industrial Applications]

본 발명은 이방성 도전 필름, 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고온, 고습에서의 신뢰성 및 물성이 우수한 이방성 도전 필름, 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, and more particularly, to an anisotropic conductive film excellent in reliability and physical properties at high temperature and high humidity, and a method for producing the same.

[종래기술]BACKGROUND ART [0002]

오늘날에는 거의 모든 영역에서 디지털 정보 네트워크가 구성되어 있으며, 이를 통한 대용량의 멀티미디어정보의 이동이 끊임없이 이루어지고 있다. Today, digital information networks are composed in almost all areas, and the massive transfer of multimedia information is constantly being carried out.

이러한 현시점에서 액정표시장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 등으로 대변되는 평판형 디스플레이(Flat Panel Display, FPD)는 멀티미디어 시대에서 가장 핵심적인 위치를 점하고 있다. At this time, a flat panel display (FPD), which is represented by a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) or the like, has the most important position in the multimedia age.

FPD는 박형, 경량, 저소비전력을 무기로 모바일형(mobile) 상품을 중심으로 다양한 방면에서 응용상품이 개발, 상품화되고 있는데, 향후 차량탑재 TV와 비디오에 있어서도 더욱 경박단소 및 저전력소비화가 기대되고 있다. In FPD, application products are developed and commercialized in various aspects, mainly in mobile products, in the form of thin, lightweight, and low power consumption devices. In the future, it is expected that more and more thinner and smaller power consumption is expected in vehicle-mounted TV and video .

이에 따라 FPD 모듈의 디바이스 구성과 프로세스에 있어서도 대폭적인 합리화가 요구되고 있다. 이와 같은 요구에 부응하고자 FPD 모듈에 있어서 드라이버(LSI)의 실장방식은 QFP(Quad Flat Package) 방식으로부터 TAB(Tape Automated Bonding)방식, 그리고 COG(Chip On Glass) 방식으로 옮겨가게 되었으며, 이러한 실장 방식의 진화에 있어서 핵심적인 요소는 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film, ACF)의 적용이다. Accordingly, a significant rationalization is required for the device configuration and the process of the FPD module. To meet this demand, the mounting method of driver (LSI) in FPD module has been shifted from QFP (Quad Flat Package) method to TAB (Tape Automated Bonding) method and COG (Chip On Glass) Is the application of anisotropic conductive film (ACF).

이방성 도전 필름은 액정 표시장치 패널의 유리 기판상에 ITO 단자와 칩 접속 전극 단자 사이를 접착시키고, 이를 전기적으로 접속시키는 데에 이용되어 왔으며, 최근에는 컴퓨터 모니터, 텔레비전, 핸드폰, 반도체 등의 발전에 따라 점차 단자간의 간격이 세밀화 되어 가고 있다. The anisotropic conductive film has been used for bonding an ITO terminal and a chip connection electrode terminal on a glass substrate of a liquid crystal display panel and electrically connecting the ITO terminal and the chip connection electrode terminal. Recently, anisotropic conductive films have been used for power generation of computer monitors, televisions, As a result, the distance between the terminals gradually becomes smaller.

이에 따라 이방성 도전 필름의 내열성, 및 내습성에 대한 개선이 요구되고 있으며, 통상적으로는 ACF의 절연성 바인더(binder)로서, 열경화성 수지와 잠재성 경화제를 이용하는 것(이하 '고온경화형 ACF')과 열가소성 수지와 라디칼 개시제 경화 시스템을 이용하는 것(이하 '저온경화형 ACF')이 알려져 있다. Accordingly, improvement of the heat resistance and moisture resistance of the anisotropic conductive film is demanded. Normally, as an insulating binder of ACF, a thermosetting resin and a latent curing agent (hereinafter, referred to as a 'high temperature curing type ACF') and a thermoplastic Resin and a radical initiator curing system (hereinafter referred to as " low-temperature curing type ACF ").

상기 고온경화형 ACF는 내열성, 및 내습성이 우수한 장점이 있으나, 단자간의 확실한 접착력과 접속 신뢰성을 얻기 위해서는 180 ℃ 이상에서 대략 15초 이상의 시간동안 열압착하여야 하며, 이처럼 고온에서 장시간 열압착을 가할 경우, 액 정 표시장치 패널의 단자와 및 칩 접속단자가 열적 스트레스를 받을 염려가 있다. The high temperature curing type ACF is advantageous in heat resistance and moisture resistance. However, in order to obtain reliable adhesion and reliable connection between terminals, the ACF should be thermally pressed at a temperature of 180 ° C or higher for about 15 seconds or longer. , The terminals of the liquid crystal display panel and the chip connection terminals may be subjected to thermal stress.

또한, 일반적인 저온경화형 ACF는 저온 단시간에 압착이 가능하며, 리페어성이 우수한 장점이 있으나, 압착시의 용융점도가 높고 내열성이 취약하여 수축 및 팽창 현상이 발생하고, 압착 후에는 접속저항이 상승하여 환경 신뢰성에 한계가 있었다. The general low-temperature curing type ACF can be pressed at a low temperature for a short period of time and has an excellent repairing property. However, the ACF has a high melt viscosity at the time of compression and is low in heat resistance, causing shrinkage and expansion, Environmental reliability was limited.

따라서, 140 내지 160℃의 저온에서 7 내지 10초의 빠른 반응시간을 가지면서도 내열성, 및 내습성이 우수한 ACF에 대한 개발이 필요하다. Therefore, it is necessary to develop an ACF having excellent heat resistance and moisture resistance while having a rapid reaction time of 7 to 10 seconds at a low temperature of 140 to 160 캜.

대한민국 특허 공보 제341316호, 및 제423237호에는 액정 표시장치 패널과 접속 후 접착강도 향상 및 저온에서 경화가 가능한 이방성 도전 필름에 대해서 기술되어 있다. 그러나, 상기 공보에 기재된 ACF는 아크릴레이트(acrylate) 수지와 과산화물(peroxide) 또는 아조계 화합물로 이루어진 것이며, 신뢰성 평가(85℃ x 85%RH)시 고온/고습 하에서 표면적 수축으로 인한 절연 접착제 층의 불량으로 이방성 도전 필름의 특성인 접착강도와 접속 신뢰성이 저하될 염려가 있다. Korean Patent Publication Nos. 341316 and 423237 disclose an anisotropic conductive film capable of improving adhesion strength after curing with a liquid crystal display panel and curing at a low temperature. However, the ACF described in the above publication is composed of an acrylate resin and a peroxide or an azo compound. When the reliability (85 캜 x 85% RH) of the insulating adhesive layer due to surface contraction occurs under high temperature / The adhesive strength and the connection reliability, which are characteristics of the anisotropic conductive film, may deteriorate.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 저온경화형 이방성 도전필름의 수지조성물에 페녹시 수지 및 고무수지를 첨가하여 고온, 고습하에서의 신뢰성과 물성이 향상되고, 수축현상이 개선된 이방성 도전 필름을 제공하는 것이다. The object of the present invention is to provide a resin composition for an anisotropic conductive film of low temperature curing type which is improved in reliability and physical properties under high temperature and high humidity by adding phenoxy resin and rubber resin, And to provide an improved anisotropic conductive film.

본 발명의 다른 목적은 상기 이방성 도전 필름의 제조방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method for producing the anisotropic conductive film.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여, 아크릴레이트 수지, (메타)아크릴레이트 모노머, 라디칼 개시제, 도전성 입자, 페녹시 수지, 고무수지, 및 유기용제를 포함하는 이방성 도전 필름을 제공한다.The present invention provides an anisotropic conductive film comprising an acrylate resin, a (meth) acrylate monomer, a radical initiator, conductive particles, a phenoxy resin, a rubber resin, and an organic solvent.

본 발명은 또한, a) 아크릴레이트 수지, (메타)아크릴레이트 모노머, 라디칼 개시제, 도전성 입자, 페녹시 수지, 고무수지, 및 유기용제를 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하는 단계; b) 상기 코팅용 조성물을 이형필름 위에 도포하는 단계; 및 c) 상기 도포된 코팅용 조성물을 건조하는 단계를 포함하는 이방성 도전 필름의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method for preparing a coating composition, comprising: a) preparing a coating composition by mixing an acrylate resin, a (meth) acrylate monomer, a radical initiator, a conductive particle, a phenoxy resin, a rubber resin, and an organic solvent; b) applying the coating composition onto a release film; And c) drying the applied coating composition. The present invention also provides a method for producing an anisotropic conductive film.

이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 명세서에서 '(메타)아크릴레이트'는 '메타크릴레이트'와 '아크릴레이트'를 통칭하는 의미로 사용된다. In the present specification, '(meth) acrylate' is used to collectively mean 'methacrylate' and 'acrylate'.

본 발명의 이방성 도전 필름은 아크릴레이트 수지, (메타)아크릴레이트 모노머, 라디칼 개시제, 도전성 입자, 페녹시 수지, 및 고무수지를 포함하며, 보다 바람직하게는 아크릴레이트 수지 10 내지 40 중량부, (메타)아크릴레이트 모노머 1 내지 10 중량부, 라디칼 개시제 1 내지 10 중량부, 도전성 입자 1 내지 10 중량부, 페녹시 수지 10 내지 50 중량부, 및 고무수지 10 내지 40 중량부를 포함한다. The anisotropic conductive film of the present invention comprises an acrylate resin, a (meth) acrylate monomer, a radical initiator, a conductive particle, a phenoxy resin and a rubber resin, more preferably 10 to 40 parts by weight of an acrylate resin, ) Acrylate monomer, 1 to 10 parts by weight of a radical initiator, 1 to 10 parts by weight of a conductive particle, 10 to 50 parts by weight of a phenoxy resin, and 10 to 40 parts by weight of a rubber resin.

상기 아크릴레이트 수지의 함량이 10 중량부 미만인 경우에는 배선 간의 기포를 충분히 밀어낼 수 없으며, 40 중량부 초과인 경우에 필름의 도막이 진득진득해질 염려가 있다. 또한, 상기 아크릴레이트 수지의 함량은 15 내지 35 중량부인 것이 더 바람직하다. If the content of the acrylate resin is less than 10 parts by weight, the bubbles between the wires can not be sufficiently pushed out. If the content of the acrylate resin is more than 40 parts by weight, the film may be damaged. The content of the acrylate resin is more preferably 15 to 35 parts by weight.

상기 (메타)아크릴레이트 모노머의 함량이 1 중량부 미만인 경우에는 반응성이 충분하지 못하여 도전 접착제로서의 충분한 분자량을 얻을 수 없으며, 10 중량부를 초과하는 경우에는 반응에 참여하지 못한 모노머로 인한 경화 속도 저하가 발생할 수 있다.When the content of the (meth) acrylate monomer is less than 1 part by weight, sufficient reactivity is not obtained and a sufficient molecular weight as a conductive adhesive can not be obtained. When the content is more than 10 parts by weight, Lt; / RTI >

상기 라디칼 개시제의 함량이 1 중량부 미만인 경우에는 반응이 개시되기 어려우며, 10 중량부를 초과하는 경우에는 순간적인 반응으로 인한 접착강도 저하가 발생할 수 있다. 상기 라디칼 개시제의 함량은 2 내지 5 중량부인 것이 더 바람직하다. If the amount of the radical initiator is less than 1 part by weight, the reaction is difficult to initiate. If the amount is more than 10 parts by weight, the bonding strength may be deteriorated due to an instantaneous reaction. The content of the radical initiator is more preferably 2 to 5 parts by weight.

상기 도전성 입자의 함량이 1 중량부 미만인 경우에는 낮은 접속저항을 얻기 어려우며, 10 중량부를 초과하는 경우에는 전기 전도성 입자의 밀착으로 인한 쇼트가 발생할 수 있다. If the content of the conductive particles is less than 1 part by weight, it is difficult to obtain a low connection resistance. If the amount is more than 10 parts by weight, shot due to adhesion of the electroconductive particles may occur.

상기 페녹시 수지의 함량이 10 중량부 미만인 경우에는 내열성 및 내습성의 저하로 인한 접착강도 및 접속저항이 저하가 발생할 수 있으며, 50 중량부를 초과하는 경우에는 도막이 딱딱해지고, 접착성이 저하될 수 있다. 상기 페녹시 수지의 함량은 15 내지 40 중량부인 것이 더 바람직하다.If the content of the phenoxy resin is less than 10 parts by weight, the adhesive strength and the connection resistance may be lowered due to the decrease in heat resistance and moisture resistance. If the content is more than 50 parts by weight, the coating film may become hard, have. The content of the phenoxy resin is more preferably 15 to 40 parts by weight.

상기 고무수지의 함량이 10 중량부 미만인 경우에는 압착시 충격에 의한 이방성 도전 필름의 손상이 일어날 수 있으며, 40 중량부를 초과하는 경우에는 절연성 접착제층의 내열성, 및 내습성을 유지하기 어렵다. 상기 고무수지의 함량은 15 내지 35 중량부인 것이 더 바람직하다. When the content of the rubber resin is less than 10 parts by weight, the anisotropic conductive film may be damaged due to impact upon compression. When the amount exceeds 40 parts by weight, heat resistance and moisture resistance of the insulating adhesive layer are difficult to maintain. The content of the rubber resin is more preferably 15 to 35 parts by weight.

상기 아크릴레이트 수지, (메타)아크릴레이트 모노머, 라디칼 개시제, 및 도전성 입자는 통상적인 저온 속경화형 이방성 도전 필름의 성분이며, 상기 페녹시 수지와 고무수지는 이방성 도전 필름의 내습성 및 내열성을 보강하기 위하여 첨가된 것이다. The above-mentioned acrylate resin, (meth) acrylate monomer, radical initiator, and conductive particles are components of a conventional low temperature fast curing type anisotropic conductive film. The phenoxy resin and the rubber resin reinforce moisture resistance and heat resistance of the anisotropic conductive film .

상기 아크릴레이트 수지는 관능기 수가 2 이상인 비스페놀 A계, 또는 F계 에폭시아크릴레이트 수지, 우레탄아크릴레이트 수지, 및 폴리에스테르아크릴레이트 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다. The acrylate resin is preferably at least one selected from the group consisting of bisphenol A-based or F-based epoxy acrylate resin, urethane acrylate resin, and polyester acrylate resin having two or more functional groups.

상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 트리시클로데칸디메타놀디메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 아크릴로일옥시에틸석시네이트, 페녹시에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 우레탄모노아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 및 메톡시에틸렌글리콜아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.  The (meth) acrylate monomer may be selected from the group consisting of methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, tricyclodecane dimethanol dimethacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobornyl acrylate At least one member selected from the group consisting of acryloyloxyethyl succinate, phenoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, urethane monoacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and methoxyethylene glycol acrylate .

상기 라디칼 개시제는 가열에 의해 라디칼기로 활성화되는 과산화물류인 것이 바람직하고, 퍼옥사이드계 화합물(peroxides, ROOR'), 하이드로 퍼옥사이드계 화합물(hydroperoxides, ROOH), 또는 이들의 혼합물인 것이 더 바람직하다. The radical initiator is preferably a peroxides which are activated by radicals by heating, more preferably peroxides (ROOR '), hydroperoxides (ROOH), or a mixture thereof.

상기 퍼옥사이드계 화합물의 바람직한 예로는 벤조일퍼옥사이드(benzoylperoxide), 라우로일퍼옥사이드(lauroylperoxide), 디아세틸퍼옥사이드(diacetylperoxide), t-부틸퍼옥사이드, 및 하이드로퍼옥사이드 등이 있고, 상기 하이드로 퍼옥사이드계 화합물의 바람직한 예로는 큐밀하이드로퍼옥사이드 (cumylhydroperoxide) 등이 있다. Preferable examples of the peroxide compound include benzoylperoxide, lauroylperoxide, diacetylperoxide, t-butylperoxide, and hydroperoxide, and the hydroperoxide Preferred examples of the compound include cumylhydroperoxide and the like.

상기 라디칼 개시제는 라우로일퍼옥사이드와 벤조일퍼옥사이드의 혼합물인 것이 더 바람직하며, 경우에 따라 디아세틸 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥사이드, 하이드로 퍼옥사이드, 큐밀 퍼옥사이드 등을 혼합하여 사용할 수도 있다. The radical initiator is more preferably a mixture of lauroyl peroxide and benzoyl peroxide. In some cases, diacetyl peroxide, t-butyl peroxide, hydroperoxide, cumyl peroxide and the like may be mixed and used.

상기 도전성 입자는 니켈 입자, 금도금 니켈입자, 금도금 수지입자, 은입자, 구리입자, 및 알루미늄입자로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하며, 상기 도전성 입자의 입경은 2 내지 10 ㎛인 것이 바람직하다. The conductive particles are preferably at least one selected from the group consisting of nickel particles, gold-plated nickel particles, gold-plated resin particles, silver particles, copper particles and aluminum particles, and the particle diameter of the conductive particles is preferably 2 to 10 μm Do.

상기 페녹시 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 비스페놀 A형 페녹시 수지인 것이 바람직하다.The phenoxy resin is preferably a bisphenol A phenoxy resin containing a repeating unit represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112005040751602-pat00001
Figure 112005040751602-pat00001

상기 식에서, n은 25 내지 60의 정수이다. In the above formula, n is an integer of 25 to 60.

상기 페녹시 수지는 7,000 내지 17,000 g/mol의 수평균분자량을 가지는 것이 바람직하며, 80 내지 100 ℃의 유리전이온도를 가지는 것이 바람직하다. The phenoxy resin preferably has a number average molecular weight of 7,000 to 17,000 g / mol, and preferably has a glass transition temperature of 80 to 100 ° C.

또한, 상기 고무수지는 말단에 에폭시기를 가지는 부틸아크릴레이트-에틸아크릴레이트-아크릴로니트릴 고무, 에틸렌 수지, 부틸계 고무수지, 부타디엔수지, 아크릴로니트릴 부타디엔 공중합체, 및 실리콘 고무상 수지로 이루어진 군에서 선 택되는 1종 이상인 것이 바람직하다. The rubber resin is preferably a resin composition comprising a butyl acrylate-ethyl acrylate-acrylonitrile rubber having an epoxy group at its end, an ethylene resin, a butyl rubber resin, a butadiene resin, an acrylonitrile butadiene copolymer and a silicone rubber- It is preferable to use at least one species selected from the group consisting of

본 발명의 이방성 도전필름의 두께는 사용되는 모듈 및 전극의 종류에 따라 다양하게 선택될 수 있는 것으로서, 특별히 한정되지 않으나, 디스플레이용 이방성 도전필름의 경우 10 내지 45 ㎛의 두께를 가지는 것이 바람직하다. The thickness of the anisotropic conductive film of the present invention may be variously selected depending on the type of module and electrode used, and is not particularly limited, but it is preferable that the anisotropic conductive film for display has a thickness of 10 to 45 μm.

또한, 본 발명의 이방성 도전필름은 140 내지 160℃의 저온에서도 7 내지 10초의 빠른 반응시간을 가진다.In addition, the anisotropic conductive film of the present invention has a fast reaction time of 7 to 10 seconds even at a low temperature of 140 to 160 캜.

본 발명의 이방성 도전필름은 TCP (pitch 250 ㎛, STEMCO사 제품)과 ITO 유리 사이에 이방성 도전필름을 위치시키고, 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착한 후에 측정한 접착강도가 1000 gf/cm 이상이며, 바람직하게는 1000 내지 2000 gf/cm이다. The anisotropic conductive film of the present invention was obtained by placing an anisotropic conductive film between TCP (pitch: 250 mu m, manufactured by STEMCO) and ITO glass and pressing at a pressure of 2 MPa for 10 seconds at a temperature of 150 DEG C, cm, preferably 1000 to 2000 gf / cm.

또한, 상기 이방성 도전필름은 하기 수학식 1로 나타나는 접착강도 변화율이 30 % 이하인 것이 바람직하다. It is also preferable that the anisotropic conductive film has a rate of change in adhesive strength represented by the following formula (1): 30% or less.

[수학식 1][Equation 1]

접착강도 변화율(%) = (F0 - F1000)/F0 × 100Bond strength change rate (%) = (F 0 - F 1000 ) / F 0 × 100

상기 수학식 1에서, 상기 F0은 TCP (pitch 250 ㎛, STEMCO사 제품)와 ITO 유리 사이에 이방성 도전필름을 위치시키고, 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착한 후에 측정한 접착강도이고, 상기 F1000은 85 RH%, 85℃ 조건에서 1000시간 에이징 후의 접착강도이다. In the above formula (1), F 0 is an adhesive strength measured after positioning an anisotropic conductive film between TCP (pitch 250 μm, product of STEMCO) and ITO glass and pressing at a temperature of 150 ° C. for 10 seconds at a pressure of 2 MPa , And F 1000 is the bonding strength after 1000 hours of aging at 85 RH and 85 캜.

본 발명의 이방성 도전필름은 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착 시의 실온 접속저항이 3 Ω 이하인 것이 바람직하며, 하기 수학식 2로 나타나는 접속저항 변화율이 100 % 이하인 것이 바람직하다. The anisotropic conductive film of the present invention preferably has a room temperature connection resistance of 3 Ω or less at the time of compression at a temperature of 150 캜 for 10 seconds under a pressure of 2 MPa, and preferably has a connection resistance change rate represented by the following formula (2)

[수학식 2]&Quot; (2) "

접속저항 변화율(%) = (R1000 - R0)/R0 × 100Connection resistance change rate (%) = (R 1000 - R 0 ) / R 0 100

상기 수학식 2에서, 상기 R0은 TCP (pitch 250 ㎛, STEMCO사 제품)와 ITO 유리 사이에 이방성 도전필름을 위치시키고, 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착한 후에 측정한 접속저항이고, 상기 R1000은 85 RH%, 85℃ 조건에서 1000시간 에이징 후의 접속저항이다. In the formula (2), R 0 is a connection resistance measured after placing an anisotropic conductive film between TCP (pitch 250 μm, manufactured by STEMCO) and ITO glass and pressing the film at a temperature of 150 ° C. for 10 seconds at a pressure of 2 MPa , And R 1000 is the connection resistance after 1000 hours aging at 85 RH% and 85 캜.

본 발명의 이방성 도전필름은 필요에 따라 에폭시 수지를 더 포함할 수 있으며, 바람직하게는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 및 페놀노볼락 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함할 수 있다. The anisotropic conductive film of the present invention may further comprise an epoxy resin, if necessary, and preferably at least one selected from the group consisting of a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, and a phenol novolak resin .

본 발명의 이방성 도전필름은 또한, 반응촉진제, 실란커플링제, 고무변성수지, 에폭시기가 있는 접착 강화제, 및 습윤 분산제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 첨가제는 당업계에서 통상적으로 사용되는 것이므로, 그 함량이 특별히 한정되지 않으며, 용도에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.The anisotropic conductive film of the present invention may further include at least one additive selected from the group consisting of a reaction promoter, a silane coupling agent, a rubber-modified resin, an adhesion promoter having an epoxy group, and a wetting and dispersing agent. Since the additive is ordinarily used in the art, its content is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the application.

또한, 본 발명의 이방성 도전필름은 경화 반응이 일어나기 전에는 형태 유지 특성이 좋지 못하므로, 상기 이방성 도전필름의 일면 또는 양면에 부착된 이형필름을 더 포함할 수 있다. 상기 이형필름은 실장시에 제거되는 부분이므로, 특별히 한정되지 않으나, 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하다. Further, since the anisotropic conductive film of the present invention has poor shape-retaining characteristics before the curing reaction, the anisotropic conductive film may further include a release film attached to one or both sides of the anisotropic conductive film. The release film is a part to be removed at the time of mounting, and is not particularly limited, but a polyester film is preferable.

본 발명의 이방성 도전 필름의 제조방법은 a) i)아크릴레이트 수지 10 내지 40 중량부, ii) (메타)아크릴레이트 모노머 1 내지 10 중량부, iii) 라디칼 개시제 1 내지 10 중량부, iv) 도전성 입자 1 내지 10 중량부, v) 페녹시 수지 10 내지 50 중량부, vi) 고무수지 10 내지 40 중량부를 vii) 유기용제 40 내지 60 중량부에 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하는 단계; b) 상기 코팅용 조성물을 이형필름 위에 도포하는 단계; 및 c) 상기 도포된 코팅용 조성물을 건조하는 단계를 포함한다. The process for producing an anisotropic conductive film according to the present invention comprises the steps of: a) 10 to 40 parts by weight of an i) acrylate resin, ii) 1 to 10 parts by weight of a (meth) acrylate monomer, iii) 1 to 10 parts by weight of a radical initiator, iv) 1 to 10 parts by weight of particles, v) 10 to 50 parts by weight of a phenoxy resin, vi) 10 to 40 parts by weight of a rubber resin, vii) 40 to 60 parts by weight of an organic solvent to prepare a coating composition; b) applying the coating composition onto a release film; And c) drying the applied coating composition.

상기 유기용제는 이방성 도전 필름의 접착성과 균일성을 돕기 위한 것으로서, 특별히 한정되지 않으며, 통상적으로 이방성 도전 필름에 사용되는 것이면 어느 것이라도 가능하다. 다만, 상기 유기용제는 톨루엔, 메틸에틸케톤, 에틸아세테이트, 또는 이들 중 둘 이상의 혼합물인 것이 바람직하다. The organic solvent is not particularly limited and can be any one as long as it is usually used for an anisotropic conductive film to facilitate adhesion and uniformity of the anisotropic conductive film. However, it is preferable that the organic solvent is toluene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, or a mixture of two or more thereof.

또한, 상기 코팅용 조성물을 제조하는 단계는 필요에 따라 에폭시 수지를 더 첨가하여 제조할 수 있으며, 바람직하게는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 및 페놀노볼락 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 첨가할 수 있다. In addition, the step of preparing the coating composition may be prepared by further adding an epoxy resin, if necessary, and is preferably selected from the group consisting of a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, and a phenol novolak resin May be further added.

또한, 상기 코팅용 조성물의 제조단계는 반응촉진제, 실란커플링제, 고무변성수지, 에폭시기가 있는 접착 강화제, 및 습윤 분산제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 첨가할 수 있다. 상기 첨가제는 당업계에서 통상적으로 사용되는 것이므로, 그 함량이 특별히 한정되지 않으며, 용도에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.In addition, the step of preparing the coating composition may further include at least one additive selected from the group consisting of a reaction promoter, a silane coupling agent, a rubber-modified resin, an epoxy resin-containing adhesion promoter, and a wetting and dispersing agent. Since the additive is ordinarily used in the art, its content is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the application.

상기 제조방법에 있어서, 각 성분의 종류 및 함량에 관한 사항은 앞서 기재한 것과 동일하며, 이하 상세한 설명을 생략한다.In the above production method, the kinds and content of each component are the same as those described above, and a detailed description thereof will be omitted.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[실시예][Example]

실시예 1Example 1

벤조일 퍼옥사이드와 라우로일퍼옥사이드를 1:1의 중량비로 포함하는 라디칼 개시제 2 중량부, 2 관능성 에폭시 아크릴레이트(Bisphenol-A epoxy acrylate) 25 중량부, 페녹시에틸렌글리콜아크릴레이트 (SHIN-NAKAMURA CHEMICAL 제품) 2.2 중량부, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 (SHIN-NAKAMURA CHEMICAL제품) 3.3 중량부, 평균입경 10 ㎛의 금 도금 수지 입자 2.5 중량부, 페녹시 수지인 PKHH (Inchem Corporation 제품) 20 중량부, 에틸아크릴레이트-부틸아크릴레이트-아크릴로니트릴 고무수지 30 중량부를 메틸에틸케톤 30 중량부와 톨루엔 20 중량부에 혼합한 후, 40분간 교반하여 코팅용 조성물을 제조하였다. 2 parts by weight of a radical initiator containing benzoyl peroxide and lauroyl peroxide in a weight ratio of 1: 1, 25 parts by weight of bifunctional epoxy acrylate, 25 parts by weight of phenoxyethylene glycol acrylate (SHIN-NAKAMURA 3.3 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate (product of SHIN-NAKAMURA CHEMICAL), 2.5 parts by weight of gold-plated resin particles having an average particle diameter of 10 mu m, 20 parts by weight of PKHH (manufactured by Inchem Corporation) 30 parts by weight of ethyl acrylate-butyl acrylate-acrylonitrile rubber resin were mixed with 30 parts by weight of methyl ethyl ketone and 20 parts by weight of toluene, and the mixture was stirred for 40 minutes to prepare a coating composition.

상기 제조된 코팅용 조성물을 폴리에틸렌테레프탈레이트 이형필름 위에 도포하고, 70℃에서 건조하여 25㎛의 두께를 가지는 이방성 도전필름 을 제조하였다. The coating composition prepared above was applied onto a polyethylene terephthalate release film and dried at 70 캜 to produce an anisotropic conductive film having a thickness of 25 탆.

실시예 2Example 2

페녹시 수지 함량을 30 중량부, 고무수지의 함량을 20 중량부로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that the phenoxy resin content was changed to 30 parts by weight and the rubber resin content was changed to 20 parts by weight.

실시예 3Example 3

페녹시 수지의 함량을 40 중량부, 고무수지의 함량을 15 중량부로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the content of the phenoxy resin was changed to 40 parts by weight and the content of the rubber resin was changed to 15 parts by weight.

비교예 1Comparative Example 1

페녹시 수지의 함량을 50 중량부, 고무수지의 함량을 5 중량부로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that the content of the phenoxy resin was changed to 50 parts by weight and the content of the rubber resin was changed to 5 parts by weight.

비교예 2Comparative Example 2

페녹시 수지의 함량을 60 중량부로 하고, 고무수지를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that the content of the phenoxy resin was changed to 60 parts by weight and no rubber resin was added.

비교예 3Comparative Example 3

페녹시 수지의 함량을 5 중량부, 고무수지의 함량을 50 중량부로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1, except that the content of the phenoxy resin was changed to 5 parts by weight and the content of the rubber resin was changed to 50 parts by weight.

비교예 4Comparative Example 4

페녹시 수지 및 고무 수지를 첨가하지 않고, 2 관능성 에폭시 아크릴레이트(Bisphenol-A epoxy acrylate) 30 중량부, 비스페놀 A형 에폭시 수지인 YD-019 (국도화학 제품)을 45 중량부로 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 이방성 도전 필름을 제조하였다. Except that 30 parts by weight of bifunctional epoxy acrylate and 45 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin YD-019 (Kukdo Chemical Co., Ltd.) were added without adding phenoxy resin and rubber resin , An anisotropic conductive film was prepared in the same manner as in Example 1.

하기 표 1에 실시예 1 내지 3, 및 비교예 1 내지 4의 배합비율을 나타내었다. Table 1 shows the blending ratios of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4.

[표 1][Table 1]

단위 (중량부)Unit (parts by weight) 실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 1One 22 33 44 아크릴레이트 수지Acrylate resin 25.025.0 25.025.0 25.025.0 25.025.0 25.025.0 25.025.0 30.030.0 에폭시 수지Epoxy resin -- -- -- -- -- -- 45.045.0 페녹시 수지Phenoxy resin 2020 3030 4040 5050 6060 55 -- 고무 수지Rubber resin 3030 2020 1515 55 -- 5050 -- 아크릴레이트 모노머Acrylate monomer 5.55.5 5.55.5 5.55.5 5.55.5 5.55.5 5.55.5 5.55.5 과산화물peroxide 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 도전입자Conductive particle 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 메틸에틸케톤Methyl ethyl ketone 3030 3030 3030 3030 3030 3030 3030 톨루엔toluene 2020 2020 2020 2020 2020 2020 2020 system 135135 135135 140140 140140 145145 140140 135135

(접착강도 평가)(Evaluation of Adhesive Strength)

실시예 1 내지 3, 및 비교예 1 내지 4에 따라 제조된 이방성 도전 필름을 TCP (pitch 250 ㎛, STEMCO사 제품)와 ITO 유리(glass)기판 사이에 가압착 한 후, 150℃에서 2MPa의 압력으로 10초간 압착하여 시편을 제조하였다. The anisotropic conductive films prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were pressed between TCP (pitch 250 탆, manufactured by STEMCO) and an ITO glass substrate, and then pressed at 150 캜 at a pressure of 2 MPa For 10 seconds to prepare specimens.

상기 TCP (pitch 250 ㎛, STEMCO사 제품)를 폭 10mm로 절단한 후, Tensilon기(Simazu, Auto Graph, Japan)를 이용하여 실온에서 900 (Y축) 방향으로 50mm/min의 속도로 잡아당겨 접착강도(F0)를 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 정리하였다. After cutting the TCP (pitch 250 μm, manufactured by STEMCO) into 10 mm width, pulling it at a rate of 50 mm / min in a direction of 90 ° (Y axis) at room temperature using a Tensilon machine (Simazu, Auto Graph, Japan) The adhesive strength (F 0 ) was measured and the results are summarized in Table 2 below.

(접착강도 신뢰성 평가)(Evaluation of adhesive strength reliability)

접착강도 평가시에 제조된 시편을 85℃x85%RH의 조건에서 1000시간 에이징(aging)한 것을 제외하고는 상기 접착강도 평가와 동일한 방법으로 접착강도(F1000)를 측정하였으며, 상기 수학식 1에 따라 점착강도 변화율을 계산하였다. 상기 접착강도 변화율을 하기 표 2에 정리하였다. The adhesive strength (F 1000 ) was measured in the same manner as in the evaluation of the adhesive strength, except that the specimen produced in the evaluation of the adhesive strength was aged for 1000 hours under the condition of 85 캜 x 85% RH. The rate of change of the adhesive strength was calculated. The bond strength change rates are summarized in Table 2 below.

(접속저항 평가)(Evaluation of connection resistance)

접착강도 평가시에 제조된 시편의 TCP와 ITO 전극 사이에 Multimeter(Keithley社, Model 2000)로 1mA의 전류를 인가한 후, TCP와 ITO 전극 사이의 접속저항(R0)을 측정하였으며, 상기 측정 결과를 하기 표 2에 정리하였다. A current of 1 mA was applied between a TCP and an ITO electrode of a prepared specimen at the time of evaluating the bonding strength with a multimeter (Keithley, Model 2000), and a connection resistance (R 0 ) between the TCP and the ITO electrode was measured. The results are summarized in Table 2 below.

(접속저항 신뢰성 평가)(Evaluation of Connection Resistance Reliability)

접착강도 평가시에 제조된 시편을 85℃ x 85%RH의 조건에서 1000시간 에이징(aging)한 것을 제외하고는 상기 접속저항 평가와 동일한 방법으로 접속저항(R1000)을 측정하였으며, 상기 수학식 2에 따라 접속저항 변화율을 계산하였다. 상기 접속저항 변화율을 하기 표 2에 정리하였다. The connection resistance (R 1000 ) was measured in the same manner as in the evaluation of the connection resistance, except that the specimen produced during the evaluation of the bonding strength was aged for 1000 hours under the condition of 85 캜 x 85% RH. 2, the change rate of the connection resistance was calculated. The connection resistance change rates are summarized in Table 2 below.

(표면적 수축률 평가) (Surface Shrinkage Rate Evaluation)

실시예 1 내지 3, 및 비교예 1 내지 4에 따라 제조된 이방성 도전필름을 가로 3cm x 세로 3cm의 샘플로 만들어 85℃ x 85%RH 조건에서 100시간 동안 에이징(aging)한 후에 이방성 도전 필름의 절연성 접착제 층의 수축 여부를 확인하였다. The anisotropic conductive films prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were made into samples of 3 cm × 3 cm in length and aged at 85 ° C. × 85% RH for 100 hours, The shrinkage of the insulating adhesive layer was confirmed.

도 1은 실시예 1 내지 3, 및 비교예 1 내지 4에 따라 제조된 이방성 도전필름의 수축상태를 나타낸 사진이며, 수축이 일어나지 않은 시료를 ○, 수축이 일어난 시료를 X 로 표시하여 하기 표 2에 정리하였다. Fig. 1 is a photograph showing the shrinkage state of the anisotropic conductive film produced according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, in which shrinkage-free samples and shrinkage- Respectively.

[표 2][Table 2]

실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 1 One 22 33 44 F0(gf/cm)F 0 (gf / cm) 15031503 15201520 15821582 12381238 10211021 998998 13391339 F1000(gf/cm)F 1000 (gf / cm) 10921092 12071207 13181318 870870 451451 591591 704704 접착강도 변화율(%)Bond strength change rate (%) 27.427.4 20.520.5 16.716.7 29.729.7 55.855.8 40.740.7 47.447.4 R0(Ω)R 0 (Ω) 2.132.13 2.022.02 2.282.28 2.472.47 3.053.05 3.113.11 2.202.20 R1000(Ω)R 1000 (Ω) 3.213.21 2.982.98 3.393.39 5.015.01 7.107.10 6.976.97 5.625.62 접속저항 변화율(%)Connection resistance change rate (%) 50.750.7 47.547.5 48.748.7 102.8102.8 132.8132.8 124.1124.1 155.5155.5 표면적 수축Surface contraction XX XX

상기 표 2에서 보는 것처럼, 본 발명의 실시예 1 내지 3에 따라 제조된 이방성 도전필름은 고온 고습조건에 장시간 방치하여도 표면적 수축현상이 없으며, 단자에 대한 접착강도와 접속저항 변화율이 적어서 고온/고습에서도 접착강도와 접속저항의 안정성이 우수한 것을 알 수 있다. As shown in Table 2, the anisotropic conductive films prepared according to Examples 1 to 3 of the present invention had no surface shrinkage even after being left in a high temperature and high humidity condition for a long time, It can be seen that the bonding strength and the stability of the connection resistance are excellent even in high humidity.

이에 반하여, 페녹시 수지의 다량 첨가한 비교예 1의 이방성 도전필름과 고무수지를 첨가하지 않은 비교예 2의 이방성 도전필름은 TCP와 ITO 유리 사이의 안정적인 접촉면적을 확보할 수 있으나, 이방성 도전 필름이 딱딱해지고, 또한 표면 접착성이 떨어져, 압착시에는 접착강도가 저하되고, 도전입자의 압착이 어려워 접속저항에 대한 고온/고습에 신뢰성이 떨어지는 것을 알 수 있다. On the other hand, the anisotropic conductive film of Comparative Example 1, to which a large amount of phenoxy resin was added, and the anisotropic conductive film of Comparative Example 2, to which no rubber resin was added, provided a stable contact area between TCP and ITO glass, The adhesive strength is lowered at the time of pressing, and it is difficult to press the conductive particles, so that the reliability is low at high temperature / high humidity against connection resistance.

또한, 페녹시 수지를 소량 첨가하고, 고무수지를 다량 첨가한 비교예 3의 이방성 도전필름은 압착시 TCP와 ITO 유리 사이에서 이방성 도전 필름이 밀려나가는 현상이 발생하였으며, 고온/고습 조건에서의 신뢰성 평가시 수축이 발생하여 접착강도와 접속저항의 변화율이 큰 것으로 나타났다. In addition, the anisotropic conductive film of Comparative Example 3 in which a small amount of phenoxy resin was added and a large amount of rubber resin was added caused a phenomenon that the anisotropic conductive film was pushed out between the TCP and the ITO glass upon compression, and the reliability in high temperature / The evaluation showed that the shrinkage occurred and the bond strength and the change rate of the connection resistance were large.

또한, 에폭시 수지를 첨가한 비교예 4의 경우에는 실온 접착강도가 높았으나, 고온/고습 조건에서의 신뢰성 평가시 수축이 발생하여 접착강도와 접속저항의 변화율이 큰 것을 알 수 있다. In addition, in the case of Comparative Example 4 in which an epoxy resin was added, the adhesive strength at room temperature was high, but shrinkage occurred in the reliability evaluation under high temperature / high humidity conditions, and the adhesive strength and the rate of change in connection resistance were large.

본 발명의 이방성 도전 필름은 내열성 및 내습성이 높은 페녹시 수지와 고무 수지를 포함하여, 저온에서 빠른 경화반응을 일으키고, 고온 및 고습 조건(85℃ x 85%RH)에서 신뢰성평가시 접착강도 및 접속 신뢰성의 유지효과가 우수하고, 수축 현상이 개선되는 장점이 있다.  The anisotropic conductive film of the present invention includes a phenoxy resin and a rubber resin having high heat resistance and moisture resistance and causes a rapid curing reaction at a low temperature and exhibits an adhesive strength and an adhesive strength at a high temperature and high humidity condition (85 캜 x 85% RH) There is an advantage that the effect of maintaining the connection reliability is excellent and the shrinkage phenomenon is improved.

Claims (7)

a) 아크릴레이트 수지 10 내지 40 중량부, a) 10 to 40 parts by weight of an acrylate resin, b) (메타)아크릴레이트 모노머 1 내지 10 중량부,b) 1 to 10 parts by weight of a (meth) acrylate monomer, c) 라디칼 개시제 1 내지 10 중량부,c) from 1 to 10 parts by weight of a radical initiator, d) 도전성 입자 1 내지 10 중량부,d) 1 to 10 parts by weight of conductive particles, e) 페녹시 수지 10 내지 50 중량부, 및e) 10 to 50 parts by weight of a phenoxy resin, and f) 고무수지 10 내지 40 중량부 f) 10 to 40 parts by weight of a rubber resin 를 포함하는 이방성 도전 필름.≪ / RTI > 제1항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 e) 페녹시 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 비스페놀 A형 페녹시수지이고, E) the phenoxy resin is a bisphenol A-type phenoxy resin containing a repeating unit represented by the following formula (1) [화학식 1][Chemical Formula 1]
Figure 112005040751602-pat00002
Figure 112005040751602-pat00002
상기 식에서, n은 25 내지 60의 정수임.In the above formula, n is an integer of 25 to 60. 상기 f) 고무수지는 말단에 에폭시기를 가지는 부틸아크릴레이트-에틸아크릴 레이트-아크릴노리트릴 고무, 에틸렌 수지, 부틸계 고무수지, 부타디엔수지, 아크릴노니트릴 부타디엔 공중합체, 및 실리콘 고무상 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 이방성 도전 필름.The f) rubber resin is preferably a resin composition comprising a butyl acrylate-ethyl acrylate-acrylonitrile rubber having an epoxy group at the terminal, an ethylene resin, a butyl rubber resin, a butadiene resin, an acrylonitrile butadiene copolymer, ≪ / RTI >
제2항에 있어서, 상기 페녹시 수지는 7,000 내지 17,000 g/mol의 수평균분자량을 가지는 것인 이방성 도전 필름. The anisotropic conductive film according to claim 2, wherein the phenoxy resin has a number average molecular weight of 7,000 to 17,000 g / mol. 제1항에 있어서, 상기 이방성 도전필름은 하기 수학식 1로 나타나는 접착강도 변화율이 30 % 이하인 이방성 도전 필름:The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film has an adhesive strength change rate of 30% [수학식 1][Equation 1] 접착강도 변화율(%) = (F0 - F1000)/F0 × 100Bond strength change rate (%) = (F 0 - F 1000 ) / F 0 × 100 상기 수학식 1에서, 상기 F0은 TCP(pitch 250 ㎛)와 ITO 유리 사이에 이방성 도전필름을 위치시키고, 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착한 후에 측정한 접착강도이고, 상기 F1000은 85 RH%, 85℃ 조건에서 1000시간 에이징 후의 접착강도이다. In the equation (1), wherein F 0 is a bond strength measured after positioning the anisotropic conductive film between the TCP (pitch 250 ㎛) and ITO glass and, 10 seconds pressed at a temperature of 150 ℃ to 2MPa pressure, the F 1000 Is the adhesive strength after 1000 hours of aging under the conditions of 85 RH% and 85 캜. 제1항에 있어서, 상기 이방성 도전필름은 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착시의 실온 접속저항이 3 Ω 이하인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film has a room-temperature connection resistance of 3 Ω or less at the time of compression at a pressure of 2 MPa and a temperature of 150 ° C. for 10 seconds. 제1항에 있어서, 상기 이방성 도전필름은 하기 수학식 2로 나타나는 접속저항 변화율이 100 % 이하인 이방성 도전 필름:The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film has a change rate of contact resistance represented by the following formula (2): 100% [수학식 2]&Quot; (2) " 접속저항 변화율(%) = (R1000 - R0)/R0 × 100Connection resistance change rate (%) = (R 1000 - R 0 ) / R 0 100 상기 수학식 2에서, 상기 R0은 TCP(pitch 250 ㎛)와 ITO 유리 사이에 이방성 도전필름을 위치시키고, 2MPa압력으로 150 ℃의 온도에서 10 초간 압착한 후에 측정한 접속저항이고, 상기 R1000은 85 RH%, 85℃ 조건에서 1000시간 에이징 후의 접속저항이다. In the above equation (2), wherein R 0 is TCP (pitch 250 ㎛) and ITO, and placing an anisotropic conductive film between the glass and the connection measured by the 2MPa pressure after the compression at a temperature of 150 ℃ 10 chogan resistance, the R 1000 Is the connection resistance after 1000 hours aging at 85 RH% and 85 캜. a) i) 아크릴레이트 수지 10 내지 40 중량부, a) i) 10 to 40 parts by weight of an acrylate resin, ii) (메타)아크릴레이트 모노머 1 내지 10 중량부, ii) 1 to 10 parts by weight of a (meth) acrylate monomer, iii) 라디칼 개시제 1 내지 10 중량부, iii) 1 to 10 parts by weight of a radical initiator, iv) 도전성 입자 1 내지 10 중량부, iv) 1 to 10 parts by weight of conductive particles, v) 페녹시 수지 10 내지 50 중량부, 및v) 10 to 50 parts by weight of a phenoxy resin, and vi) 고무수지 10 내지 40 중량부를 vi) 10 to 40 parts by weight of a rubber resin vii) 유기용제 40 내지 60 중량부에 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하는 단계; vii) mixing 40 to 60 parts by weight of the organic solvent to prepare a coating composition; b) 상기 코팅용 조성물을 이형필름 위에 도포하는 단계; 및 b) applying the coating composition onto a release film; And c) 상기 도포된 코팅용 조성물을 건조하는 단계를 포함하는 이방성 도전 필 름의 제조방법.c) drying the applied coating composition to form an anisotropic conductive film.
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