KR100713873B1 - 가변형 광 감쇄기 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 클래드 부분을 에칭한 광섬유와 광학 광학용 폴리머, 광학용 폴리머의 온도를 변화시키는 수단으로써의 국부 히터를 이용한 소형 광 감쇄기에 관한 것이다.
이러한 본 발명에 따른 광 감쇄기는 기판 상에 소정의 구성 소자를 배치하여 구성된 광감쇄기에 있어서, 입사된 광신호를 통과시키며, 일부 클래드를 에칭한 에칭부를 갖는 단일모드 광섬유와 ; 상기 광섬유의 에칭부에 코팅된 광학용 폴리머와 ; 상기 광학용 폴리머를 국부적으로 가열하는 가열 수단을 포함하여 구성되어
상기 에칭부에 코팅된 광학용 폴리머의 굴절률을 조절함으로서 광 신호의 감쇄량의 변화를 유발할 수 있고, 국부 히터를 이용 국부적인 가열을 실시함으로써 빠른 응답 속도를 얻을 수 있다.
광 감쇄기, 파이버 에칭, 광학용 폴리머, 금속 히터, 광학용 폴리머 히터, TEC쿨러

Description

가변형 광 감쇄기{A variable optical attenuator}
도1 본 발명에 의하여 구현된 광 감쇄기의 예시도
도2 본 발명의 또 하나의 실시 예에 따른 가변형 광 감쇄기의 예시도
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
100 : 기판 101 : 코아
102 : 클래드 103: 고정용 에폭시
105 : 1차 광학용 폴리머 107 : 2차 광학용 폴리머
108 : 1차 국부 히터 109 : 보호용 폴리머
110 : 2차 국부 히터
본 발명은 광섬유 통신에서 광선의 세기를 감쇄시키는 가변형 광 감쇄기에 관련된 것으로서 보다 상세하게는 광섬유의 클래드 부위를 에칭하여 얇게 한 후, 에칭부에 광학용 폴리머를 코팅하고, 광학용 폴리머의 온도를 변화시킴으로 온도 변화에 따른 광학용 폴리머의 굴절률 변화을 이용한 가변형 광 감쇄기에 관한 것이다.
최근 정보 통신사회로 진입하며 초고속 인터넷에 대한 요구 케이블 텔레비전, 휴대통신에서의 광 중계기등 요구되는 정보의 양이 기하급수적으로 팽창하고 있으며, 이에 따라 기존의 동 케이블에서 제공할 수 있는 정보량의 한계를 넘어서고 있다.
따라서 한 선로에 많은 정보를 전송할 수 있고 원거리 통신이 가능하고 무게도 가벼운 광섬유에 의한 통신이 증대되고 있다.
가변형 광 감쇄기는 이러한 광섬유 통신에 있어서 채널간의 광선의 세기를 일정하게 해줌으로써 모든 채널간의 통신 품질을 일정하게 해주고, 입력 신호의 변화에 대하여 출력 신호를 일정하게 유지시켜 통신 품질을 향상시키는 역할을 한다.
가변 광 감쇄기는 전기적 또는 기계적인 방법으로 광신호의 크기를 외부에서 조절하는 역할을 한다. 광 감쇄기의 용도는 시스템 또는 소자의 광 세기에 대한 특성 분석 뿐 아니라 파장 다중 통신(WDM) 기반의 광 교차 접속에 이르는 다양한 적용 범위를 가지고 있다.
파장 다중 통신의 경우 다수의 파장이 다중화되어 전송되며, 각 파장 별로 그 신호의 세기가 특정 수준 내에서 균일한 크기를 가져야 하나 신호 전달 과정 중 파장 별로 증폭되거나 감소되어 통신 품질의 열화를 가져온다.
따라서 가변형 광 감쇄기를 이용하여 각 파장의 신호의 세기를 균일화 시켜 줌으로써 통신 품질을 향상시키게 되는 것이다.
기존의 가변형 광 감쇄기는 초기 기계식을 필두로 하여 여러 가지 형태로 발전되어 왔으며, 최근 일렬로 정렬된 두 광섬유 사이에 작은 셔터를 이용하여 감쇄량으로 조정하는 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 방식이 제안되어 왔다.
이러한 가변형 광 감쇄기는 높은 감쇄량을 얻을 수 있으나, 자체의 삽입 손실이 크고, 광섬유 정렬상의 난점 등 여러 가지 공정상의 난점을 가지고 있다.
한편 광학용 폴리머를 이용한 평면도파로 가변형 광 감쇄기는 기계식이나 MEMS 방식의 가변형 광 감쇄기에 비하여 저가이며, 소모 전력이 낮은 장점을 가지고 있으나, 광섬유 연결시 큰 손실을 갖으며, 편광 의존 손실이 크다는 문제점을 가지고 있다.
광섬유를 절단하지 않고 제작이 가능한 전 광섬유 가변 감쇄기의 제조 방법 중 측면 연마형 가변형 광 감쇄기가 소개되고 있다. 이러한 종류의 가변형 광 감쇄기는 삽입 손실이 적은 장점을 가지고 있으나, 편광 특성 등 기타 특성이 좋지 않은 단점이 있고, 가변 속도가 기존의 광 감쇄기를 따라가지 못하는 단점을 가지고 있다. 또한 광섬유의 측면을 연마하는 방식 자체가 상당히 비싼 공정이므로 이러한 공정을 적용한 제품은 가격이 높아질 수밖에 없다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서 편광 의존 손실이 거의 없고, 삽입 손실이 작으며, 제조가 용이하고, 응답 속도 가 빠른 소형의 가변형 광 감쇄기를 제공함을 목적으로 한다.
본 발명은 이와 같은 특성을 만족하기 위하여 광섬유의 일부 클래드를 에칭하여 제거하고 이 에칭된 부분에 온도에 따라 굴절률의 변화가 큰 광학용 폴리머를 코팅하며, 국부 히터를 이용하여 폴리머를 가열함으로서 광학용 폴리머 코딩 영역을 통과하는 광 신호의 감쇄량의 변화를 유발하는 가변형 광 감쇄기를 제공함을 목적으로 한다.
또한 습식 에칭법을 이용하여 광섬유의 클래드 부분을 에칭하기 때문에 공정이 간단하고, 광섬유의 코어를 중심으로 에칭 후 남은 클래드 및 코팅된 광학용 폴리머가 등방성을 가지고 배치되어 있기 때문에 광학적으로 편광 의존 손실이 발생하지 않으며, 국부 히터를 이용 국부적인 가열을 실시함으로써 응답 속도가 빠른 가변형 광 감쇄기를 제공함을 목적으로 한다.
또한 TEC쿨러를 설치하여 감쇄기 패키지(package)의 온도가 항상 일정한 온도로 유지시켜줌으로서 외기의 온도 변화에 영향을 받지 않는 가변형 광 감쇄기를 제공함을 목적으로 한다.
상기와 같은 본 발명의 목적은 기판 상에 소정의 구성 소자를 배치하여 구성된 광감쇄기에 있어서, 입사된 광신호를 통과시키며, 일부 클래드를 에칭한 에칭부를 갖는 단일모드 광섬유와 ; 상기 광섬유의 에칭부에 코팅된 광학용 폴리머와 ; 상기 광학용 폴리머를 국부적으로 가열하는 가열 수단을 포함하여 구성됨을 특징으 로 하는 가변형 광 감쇄기에 의해 이루어진다.
또한 본 발명의 목적은 상기 단일모드 광섬유의 에칭부 길이를 1mm내지 20mm로 형성하고, 에칭후 남은 클래드의 두께를 0.5um내지 20um로 형성하며, 상기 코팅된 광학용 폴리머는 에칭부의 양 단부에 코팅된 1차 광학용 폴리머와, 상기 1차광학용 폴리머 사이에 코팅된 2차 광학용 폴리머로 구성하고, 상기 2차 광학용 폴리머는 두께를 5um내지 200um로 형성함에 의해 이루어진다.
더욱이 본 발명의 목적은 상기 1차 광학용 폴리머와, 상기 2차 광학용 폴리머는 서로 다른 굴절률을 갖으며, 상기 1차 광학용 폴리머의 굴절률은 광섬유의 클래드보다 낮은 굴절률을 갖고, 상기 2차 광학용 폴리머의 굴절률은 광섬유의 클래드보다 높은 굴절률을 갖게 하고, 상기 가열 수단은 1차국부히터와 2차국부히터 중 최소한 하나의 국부히터를 선택적으로 구성하고, 전체의 온도를 조절하기 위한 온도 조절기가 더 설치함에 의해 이루어진다.
이하, 본 발명에 따른 광감쇄기의 일예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.
본 발명에서 구현하고자 하는 가변형 광 감쇄기의 한 실시예에 따른 개략도를 도 1에 묘사하였다.
실리콘, 알루미나 등 열전달 특성이 뛰어나며 리지드한 기판(100)에 일반적인 단일 모드 광섬유의 양쪽을 에폭시(103, 104)를 이용하여 부착한다.
이 때 양쪽에 부착한 에폭시(103, 104) 사이의 거리를 1mm내지 10mm 정도의 간격을 가지게 하였다.
코아(101)과 클래드(102)로 이루어진 단일 모드 광섬유의 작동 영역의 클래드 부분을 에칭하여 에칭부(102a)를 형성하였다.
상기 광섬유의 클래드(102) 에칭은 증류수에 불산을 20% 이하로 희석하여 사용한다.
상기 에칭부(102a)의 에칭된 후 남은 클래드(102)의 두께는 1um내지 20um가 된다.
상기 에칭부(102a)에는 광학용 폴리머를 코팅한다.
상기 에칭부(102a)에 코팅되는 광학용 폴리머는 에칭부(102a)의 양쪽 부분에 코팅되는 1차 광학용 폴리머(105)와 에칭부(102a)의 중간 영역에 코팅되는 2차 광학용 폴리머(107)로 구성된다.
상기 1차 광학용 폴리머(105)는 상온에서의 굴절률이 클래드(102)의 굴절률 보다 작으며, 이에 따라 1차 광학용 폴리머(105)가 코팅된 부분은 차후에 광 신호 감쇄에 영향을 미치지 않게 된다.
상기 1차 광학용 폴리머의 끝 부분을 포함하여 1차 광학용 폴리머가(105) 코팅되지 않은 광섬유의 에칭부(102a)에 2차 광학용 폴리머(107)를 코팅한다.
상기 2차 광학용 폴리머(107)는 두께를 10um내지 100um가 되도록 하였고, 굴절률은 상온에서 클래드(102)나 광섬유 코아(101)의 굴절률에 비하여 높은 굴절률을 갖으며, 온도가 올라가면 굴절률이 떨어져 궁극적으로 클래드(102)의 굴절률과 같거나 더 작은 굴절률을 갖는다.
상기 2차 광학용 폴리머(107) 위에 1차 국부히터(108)를 설치한다.
상기 1차국부히터(108)는 금속 박막 전극으로 형성하거나, 전도성 에폭시를 이용하여 형성한다.
상기 1차국부히터(108)의 바깥쪽에 보호 에폭시(109)를 코팅하고 그 바깥쪽에 다시 2차국부히터(110)를 설치한다.
상기 2차국부히터(110)는 진공 증착 혹은 후막 인쇄를 이용하여 금속 박막 전극으로 형성하거나, 전도성 에폭시를 증착 또는 인쇄하여 형성된다.
상기와 같이 구성된 광감쇄기를 구성하는 각 구성 요소에 대하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
일반적으로 광섬유의 코아(101)의 굴절률은 1.48이고 클래드(102)의 굴절률은 1.46 정도로 구성되어 있어 광섬유 내를 통과하는 광 신호는 코아(101)와 클래드(102)의 경계면에서 전반사 작용에 의하여 손실 없이 전파하게 된다.
광섬유 축을 횡단하는 평면상의 광 세기의 변화를 횡측 모드 패턴이라 한다. 횡측 모드 패턴을 관찰하면 코아(101) 내에서는 광신호의 세기가 정현적인(sinusoidal) 모양을 하고 있으나, 클래드(102) 부분에서는 지수적으로 감소하는 (exponentially decay) 형상을 가진다.
즉, 모든 광신호가 코아(101) 내에 존재하는 것이 아니라 클래드(102) 부분에도 일부 존재하게 된다는 것이다.
즉, 광섬유의 코아(101)와 클래드(102)의 기하학적 구조가 광신호를 가두는 포텐샬 우물의 형태를 가지게 되며, 광섬유의 클래드(102)의 두께가 충분히 두껍게 설계되어있기 때문에 코아(101)와 경계 부분의 클래드(102)에 존재하는 광신호는 클래드(102)의 바깥쪽으로 빠져나가지 못하고 다시 코아(101)의 중심으로 반사 작용을 일으키며 광섬유 내를 손실없이 전파한다.
클래드(102) 부분의 두께를 에칭 혹은 연마 등 어떤 수단을 이용하여 얇게 형성시키고, 그 외부에 클래드(102)의 굴절률 보다 굴절률이 큰 물질을 코팅하게 되면, 클래드(102) 부분에 입사되는 광신호는 굴절률이 큰 코팅 물질 쪽으로 전달되고 다시는 코아(101) 쪽으로 돌아오지 못하여 광신호의 감쇄가 발생한다.
이러한 원리를 이용하여 본 발명이 안출되었으며, 도 1에 나타난 2차 광학용 폴리머(107)는 상온에서 클래드(102)의 굴절률, 혹은 코아(101)의 굴절률 보다 높게 설계되었다.
따라서 에칭부(102a)에 남아 있는 클래드(102) 부분만이 실제의 클래드(102) 역할을 하며, 그 위에 코팅된 2차 광학용 폴리머(107)는 클래드(102)의 역할을 하지 못하며, 이에 따라 에칭부(102a)에 남아있는 클래드(102)만이 실제의 클래드 역할을 하기 때문에 포텐샬 우물은 매우 얇은 구조를 가지고 있다.
광섬유 내를 전파하는 광신호는 에칭부(102a)의 얇은 클래드(102)가 형성하는 얇은 포텐샬 우물을 통과하여 2차 광학용 폴리머(107)의 외부로 누출되어 결과적으로 광섬유 내를 통과하는 광신호의 누설이 발생하여 광신호의 감쇄가 이루어진다.
상기 1차 국부히터(108)를 이용하여 2차 광학용 폴리머(107)의 온도를 상승 시키면 2차 광학용 폴리머(107)의 굴절률이 감소하게 되며, 2차 광학용 폴리머(107)의 굴절률이 감소할수록 외부로 누설되는 광신호의 양을 줄어들게 된다.
즉, 1차 국부히터(108)의 동작에 의해 온도를 더욱 상승시키면 2차 광학용 폴리머(107)의 굴절률이 클래드(102)의 굴절률과 같아지게 된다.
따라서, 에칭을 통하여 클래드(102)의 두께가 얇아졌음에도 불구하고 클래드(102)의 외부에 코팅된 2차 광학용 폴리머(107)가 클래드(102)의 역할을 하기 때문에 두꺼운 클래드(102)를 갖는 정상적인 광섬유와 같은 굴절률 구조를 갖으며, 이에 따라 광신호는 손실은 없이 광섬유 내를 통과한다.
1차 국부히터(108)가 지속적으로 작동하여 온도가 상승되면 2차 광학용 폴리머(107)의 굴절률은 더욱 낮아지기 때문에 더 이상의 변화는 없이 삽입손실이 없는 광신호 전달이 이루어지며, 1차 국부 히터(108)에 인가된 전압을 조절함으로써 광신호의 감쇄량을 원하는 수준으로 조절 할 수 있는 가변형 광 감쇄기가 구현된다.
이러한 원리로 만들어진 가변형 광감쇄기는 온도 조절을 통해 광신호의 크기를 조정하는데, 온도를 조절하기 위하여 TEC쿨러(thermal electric cooler)(210) 등을 이용할 수 있으나, TEC 쿨러(210)는 열 용량이 크기 때문에 온도를 변화시키는데 많은 시간이 필요하여 종래의 감쇄기의 구조로는 빠른 감쇄 응답 특성을 얻기 어려웠다.
본 발명은 상기의 단점을 극복하기 위하여 1차 국부히터(108)를 구비하고 있으며, 상기 1차 국부히터(108)는 광섬유 코아(101)의 중심에서 최소 15um내지 최대 150um까지 접근시켜 설치하였다.
이와 같이 1차국부히터(108)를 코아(101)과 인접되게 형성하기 위해 진공 증착을 이용한 금속 박막 히터를 형성시키거나, 광학용 폴리머 복합 전극을 후막 인쇄법을 이용하여 형성하였다.
상기 1차 국부히터(108)를 광섬유 코아(101)의 중심 쪽으로 접근시키면 시킬수록 가열해야하는 부피가 줄어들기 때문에 응답속도를 빠르게 할 수 있지만 1차 국부히터(108)를 광섬유 코아(101)의 중심쪽으로 접근시켜 코아(101)의 중심으로부터 62.5um 이내로 접근하기 위해서는 1차국부히터(108)의 위치가 에칭되지 않은 클래드(102)의 외경보다 더욱 안쪽에 위치하여야 하며, 이렇게 할 경우 단차에 의하여 에칭부(102a)를 둘러 사고 있는 광학용 폴리머(107) 전체에 1차국부히터(108)를 형성할 수 없다.
설령 단차를 극복하여 에칭부(102a)을 둘러싸고 있는 광학용 폴리머(107) 전역을 포함하도록 1차국부히터(108)를 설치한다 하더라도, 구조상 에칭부(102a) 양 끝단을 에칭부(102a)의 중심 부분과 같은 온도로 가열시킬 수 없으며, 에칭부(102a)의 중심 부분이 원하는 온도까지 올라 중심 부분에서 삽입손실이 없다 하더라도, 에칭부(102a)의 양 끝부분)의 온도는 원하는 수준까지 올라가지 못한다.
결과적으로 에칭부(102a)의 양 끝부분은 에칭부(102a)의 중앙 부분의 굴절률보다 높은 상태를 유지하여야 하며 이러한 문제를 해소하기 위해 에칭부(102a)의 양 끝단에 굴절률이 낮은 1차 광학용 폴리머(105)를 코팅하였다.
상기 에칭부(102a)의 양 끝단에 코팅한 1차 광학용 폴리머(105) 굴절률은 최고 가열 온도 영역에서도 클래드(102)의 굴절률보다 낮아 마치 에칭을 실시하지 않 은 전형적인 광섬유의 굴절률 분포를 갖고 있기 때문에 광신호는 이 1차광학용 폴리머(105) 코팅 부분을 아무런 손실이 없이 통과한다.
또한 히터를 설치한 중심 부분에서만 온도에 따른 광손실이 발생하여, 온도를 상승시키면 삽입 손실이 없는 상태가 된다.
따라서, 히터를 광섬유 코아(101)의 중심에 최대한 가깝게 형성할 수 있고, 온도변화를 유발해야하는 부피가 최소한으로 줄어들기 때문에 응답속도가 빠르면서도 삽입손실이 발생하지 않는 가변형 광 감쇄기를 제조할 수 있다.
상기와 같이 구성된 가변형 광 감쇄기는 1차 국부히터(108)에 일정한 전압을 인가하였더라도 외부 온도의 변화에 따라 감쇄량이 바뀐다. 즉 일정한 감쇄 상황을 유지하기 위하여 일정한 전압을 가하고 있는 동안 외기의 온도가 변하면 1차 국부히터(108)의 온도도 따라 변하기 때문에 2차 광학용 폴리머(107)의 굴절률이 변하게 되고, 감쇄량도 변한다.
이러한 문제점을 극복하기 위한 하나의 방법으로 도 1에 도시한 바와 같이, 2차 국부히터(110)를 설치하였다.
또한 서미스터 등 온도센서(미도시)를 장착하여, 주위의 온도 변화를 감지하여 2차 국부히터(110)의 전압을 가변시켜 주변의 온도를 향상 일정하게 유지시켜 외기의 온도 변화와 무관하게 전압 변화에 따른 감쇄량 조절이 가능하게 하였다.
도 2는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 가변형 광 감쇄기의 단면도이다.
실리콘, 혹은 단단한 광학용 폴리머 기판(200)에 재킷을 제거한 광섬유를 올 려 놓고, 양 끝단을 에폭시(103)로 고정한다.
이때 에폭시(103)에 의해 덮이지 않은 광섬유의 길이가 1mm내지 10mm가 되게 한다.
광섬유의 한쪽 끝에 광신호원을 연결하여 광신호를 광섬유 내로 입사하고, 광섬유의 다른 한쪽 끝을 광파워 메타에 연결하며, 5%내지 20%의 불산을 이용하여 광섬유의 클래드(102)의 일 부분을 에칭하여 에칭부(102a)를 형성한다. 에칭하는 동안 광 파워 메타를 이용하여 광신호의 감쇄량을 측정한다.
광 감쇄량이 원하는 수준에 이르렀을 때 증류수를 이용하여 세척함으로 써 에칭을 정지하고, 건조후 에칭부(102a)의 양 끝단에 클래드(102)의 굴절률에 비하여 상온에서의 굴절률이 같거나 약간 작은 1차 광학용 폴리머(105)를 코팅한 후 경화한다.
경화 후 상온에서의 굴절률이 클래드(102)의 굴절률에 비하여 약간 큰 2차 광학용 폴리머(107)를 최소 5um내지 최대 200um까지 코팅한다.
1차광학용 폴리머(107)를 코팅 후 그 위에 박막 증착법을 이용하거나, 후막 인쇄법을 이용하여 국부히터(208)를 설치하고 그 외부에 전체 보호를 위하여 새로운 에폭시(109)를 코팅하였다.
제작된 모듈(module)을 에폭시를 이용하여 TEC쿨러(210) 위에 장착하였으며, TEC쿨러(210) 위에 온도 센싱을 위한 서미스터 등의 온도 센서(211)를 장착하고, 전체 모듈을 습기, 각종 유기물, 산소 등의 외부 환경으로부터 보호하기 위하여 패키징한다.
온도 센서(211)와 TEC쿨러(210)를 이용하여 항상 일정한 온도를 유지하게 하고, 국부 히터(208) 이용하여 광신호의 감쇄량을 조절한다.
이와 같이 제작된 가변형 광 감쇄기의 0dB내지 15dB 변화에 대한 응답 속도는 10msec 이하로 관측되었으며, 삽입손실은 0.1dB 이하 , 15dB 감쇄시 편광 의존 손실도 0.1 dB 이하로 관측되었다.
본 발명에 의한 가변형 광 감쇄기는 광섬유의 클래드 중 일 부분을 에칭하여 동작 부위를 형성하기 때문에 기하학적으로 대칭인 구조를 가짐으로 편광 의존 손실이 매우 작은 가변형 광 감쇄기를 제공한다.
본 발명에 의한 가변형 광 감쇄기는 광섬유를 절단하지 않고 감쇄기를 제작함으로 삽입손실이 매우 낮은 고성능의 가변형 광 감쇄기를 제공할 수 있으며, 광섬유의 정렬 등의 까다롭고 값비싼 공정을 제거할 수 있기 때문에 저가의 가변형 광 감쇄기를 제공한다.
본 발명을 박막 증착법 혹은 도전성 광학용 폴리머의 후막 인쇄법을 이용한 극히 작은 1차 국부 히터와 2종의 광학용 폴리머를 이용하여 미세 부분의 국부 가열 만으로 0dB 삽입 손실부터 수십 dB의 삽입손실을 변화시킬 수있는 구조를 갖게 함으로써, 매우 빠른 응답 속도를 갖는 가변형 광 감쇄기를 제공한다.
본 발명에 의한 가변형 광 감쇄기는 TEC쿨러나 2차 국부 가열 히터 등을 설치함으로써 외부 온도변화에 영향을 받지 않는 안정적인 가변형 광 감쇄기를 제공한다.

Claims (6)

  1. 기판 상에 소정의 구성 소자를 배치하여 구성된 광감쇄기에 있어서,
    입사된 광신호를 통과시키며, 일부 클래드를 에칭한 에칭부를 갖는 단일모드 광섬유와 ;
    상기 광섬유의 에칭부에 코팅된 광학용 폴리머와 ;
    상기 광학용 폴리머를 국부적으로 가열하는 가열 수단을 포함하여 구성되되,
    상기 단일모드 광섬유의 에칭부 길이는 1mm내지 20mm 이고, 에칭후 남은 클래드의 두께는 0.5um내지 20um이며,
    상기 코팅된 광학용 폴리머는 에칭부의 양 단부에 코팅된 1차 광학용 폴리머와, 상기 1차광학용 폴리머 사이에 코팅된 2차 광학용 폴리머로 이루어지며, 상기 2차 광학용 폴리머는 두께가 5um내지 200um이며,
    상기 1차 광학용 폴리머와, 상기 2차 광학용 폴리머는 서로 다른 굴절률을 갖으며, 상기 1차 광학용 폴리머의 굴절률은 광섬유의 클래드보다 낮은 굴절률을 갖고, 상기 2차 광학용 폴리머의 굴절률은 광섬유의 클래드보다 높은 굴절률을 가지며,
    상기 가열 수단은 1차국부히터와 1차국부히터 중 최소한 하나의 국부히터이고, 상기 1차국부히터는 상기 광학용 폴리머의 외부에 구성되고, 상기 2차국부히터는 상기 1차국부히터의 외부에 코팅된 보호용 폴리머의 외부에 형성되며, 상기 국부히터들은 금속박막 또는 전도성 에폭시를 증착 또는 인쇄하여 형성되며,
    상기 광감쇄기의 일측에는 전체의 온도를 조절하기 위한 온도 조절기가 더 설치되고, 상기 온도 조절기는 TEC 쿨러나 저항식 히터 중 어느 하나임을 특징으로 하는 가변형 광 감쇄기.
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