KR100705618B1 - Liquid crystal display and method for fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반투과형 액정표시장치 및 그 제조방법을 개시한다. 개시된 발명은, 상,하부 기판; 상기 하부기판상에 형성된 엠보싱패턴을 구비한 반사부와 투과부; 상기 반사부의 엠보싱패턴표면에 형성된 반사전극과 투과부전극상에 각각 형성된 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트 배향막; 상기 상부기판아래에 형성된 RGB수지층과 투명전극; 상기 투명전극아래에 형성되고 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트 배향막과 각각 대응되는 제2고프리틸트 배향막과 제2저프리틸트배향막; 및 상기 상하부 기판사이에 배열되는 액정층;을 포함하여 구성되며, 기존의 셀갭을 감소시키지 않고 액정의 굴절율 이방성값을 감소시켜 반사부의 위상지연값을 투과부의 절반이 되도록 한 것이다.The present invention discloses a transflective liquid crystal display and a method of manufacturing the same. The disclosed invention, the upper and lower substrates; A reflection part and a transmission part having an embossing pattern formed on the lower substrate; A first high pretilt alignment film and a first low pretilt alignment film formed on the reflective electrode and the transmissive electrode formed on the surface of the embossed pattern of the reflective part, respectively; An RGB resin layer and a transparent electrode formed under the upper substrate; A second high pretilt alignment layer and a second low pretilt alignment layer formed under the transparent electrode and respectively corresponding to the first high pretilt alignment layer and the first low pretilt alignment layer; And a liquid crystal layer arranged between the upper and lower substrates. The liquid crystal layer is configured to reduce the refractive index anisotropy value of the liquid crystal without reducing the existing cell gap so that the phase delay value of the reflector is half of the transmissive part.

Description

반투과형 액정표시장치 및 그 제조방법{Liquid crystal display and method for fabricating the same}Semi-transmissive liquid crystal display device and manufacturing method therefor {Liquid crystal display and method for fabricating the same}

도 1은 종래기술에 따른 반투과형 광학설계 개념도,1 is a conceptual diagram of a semi-transmissive optical design according to the prior art,

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 개략도,2 is a schematic diagram of a transflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치에 있어서, 반사부의 액정의 굴절율을 나타낸 도면,3 is a view showing a refractive index of a liquid crystal of a reflector in the transflective liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention;

도 4a 내지 도 4h는 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도,4A to 4H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 개략도,5 is a schematic diagram of a transflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 등가회로도,6 is an equivalent circuit diagram of a transflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 제2실시예에 있어서, 투과부와 반사부의 전압에 따른 투과특성을 나타낸 도면,7 is a view showing transmission characteristics according to voltages of a transmission part and a reflection part in the second embodiment of the present invention;

[도면부호의설명][Description of Drawing Reference]

31 : 하부기판 33 : 투과부 투명전극31: lower substrate 33: transparent electrode transparent part

35 : 고분자수지층 37 : 반사전극35: polymer resin layer 37: reflective electrode

39a, 57 : 고프리틸트 배향막 43a, 59 : 저프리틸트 배향막39a, 57: high pretilt alignment film 43a, 59: low pretilt alignment film

51 : 상부기판 53 : RGB수지층51: upper substrate 53: RGB resin layer

55 : 상부 투명전극 55: upper transparent electrode

본 발명은 반투과형 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기존의 셀갭을 감소시키지 않고 액정의 굴절율 이방성값을 감소시켜 반사부의 위상지연값을 투과부의 절반이 되도록한 반투과성 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a semi-transmissive liquid crystal display device, and more particularly, a semi-transmissive liquid crystal display device in which the phase delay value of the reflecting part is made to be half of the transmissive part by reducing the refractive index anisotropy value of the liquid crystal without reducing the existing cell gap. It relates to a manufacturing method of.

종래기술에 따른 반투과형 액정표시장치의 제조방법에 대해 설명하면 다음과 같다.Referring to the manufacturing method of the transflective liquid crystal display device according to the prior art as follows.

도 1은 종래기술에 따른 반투과형 액정표시장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a transflective liquid crystal display device according to the prior art.

종래기술에 따른 반투과형 액정표시장치는, 도 1에 도시된 바와같이, 하부기판(11)과 상부기판(21)이 배치되고 이들 기판사이에 액정(미도시)이 삽입된 구조로 되어 있다.As shown in FIG. 1, the transflective liquid crystal display device according to the related art has a structure in which a lower substrate 11 and an upper substrate 21 are disposed and a liquid crystal (not shown) is inserted between these substrates.

여기서, 상기 하부기판(11)상에 투과부 투명전극(13)이 형성되어 있고, 그 위의 일정부분상에 고분자수지층(15)이 형성되어 있으며, 상기 고분자수지층(15)표면상에 반사전극(17)이 형성되어 있다.Here, the transparent transparent electrode 13 is formed on the lower substrate 11, and the polymer resin layer 15 is formed on a predetermined portion thereon, and is reflected on the surface of the polymer resin layer 15. The electrode 17 is formed.

또한, 상기 상부기판(23)표면에 RGB 수지층(23)이 형성되어 있고, 상기 RGB수지층(23)상에는 상부투명전극(25)이 형성되어 있다.In addition, an RGB resin layer 23 is formed on the upper substrate 23 surface, and an upper transparent electrode 25 is formed on the RGB resin layer 23.

위와 같은 구성에서, 광의 일부는 반사전극(17)을 통해 반사되어지고, 나머지 일부는 상부기판(21)을 통해 투과되어진다.In the above configuration, part of the light is reflected through the reflective electrode 17 and the other part is transmitted through the upper substrate 21.

상기와 같은 구성에서와 같이, 일반적으로 광효율을 증가시키기 위해서는 투과부는 최대투과 조건인 위상지연(△nd)값을 0.48μm으로 설계하고, 반사부는 광경로가 액정층을 2번 걸쳐 지나가는 이유로 액정셀의 △nd가 투과부의 1/2가 되도록 설계한다.As in the above configuration, in general, in order to increase the light efficiency, the transmissive part is designed with a phase delay (Δnd) value of 0.48 μm, which is the maximum transmission condition, and the reflecting part is a liquid crystal cell because the optical path passes through the liquid crystal layer twice. Δnd is designed to be 1/2 of the transmission portion.

또한, 액정의 △n(굴절률 이방성)을 고정하고 셀갭(d)을 투과부의 1/2이 되게 광학설계를 하는 것이 일반적이다.Moreover, it is common to design optically so that Δn (refractive anisotropy) of the liquid crystal is fixed and the cell gap d is 1/2 of the transmission portion.

그러나, 투과부와 반사부가 한 단위화소내에 형성되어야 하고, 이 경우 한 단위화소내에 큰 단차에 의한 러빙불균일이 발생하게 되어 결과적으로 화면품위를 떨어 뜨리는 문제점을 안고 있다.However, the transmissive part and the reflecting part should be formed in one unit pixel, and in this case, rubbing unevenness occurs due to a large step in one unit pixel, resulting in a problem of degrading the screen quality.

이에 본 발명은 상기 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 기존의 셀갭을 감소시키지 않고 액정의 굴절율 이방성값을 감소시켜 반사부의 위상지연값을 투과부의 절반이 되도록한 반투과성 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and a semi-transmissive liquid crystal display device which reduces the refractive index anisotropy value of the liquid crystal so that the phase delay value of the reflector is half the transmissive part without reducing the existing cell gap; The purpose is to provide a method for producing the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시 장치는, 상,하부 기판;A semi-transmissive liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention for achieving the above object, the upper and lower substrates;

상기 하부기판위에 투명전극으로 형성된 투과전극;A transmissive electrode formed of a transparent electrode on the lower substrate;

상기 하부기판상의 투과전극위에 형성된 엠보싱패턴을 구비한 반사부와 수지층이 없는 투과부;A reflection portion having an embossed pattern formed on the transmission electrode on the lower substrate and a transmission portion having no resin layer;

상기 반사부의 엠보싱패턴표면에 형성된 반사전극과 투과부전극상에 각각 형성된 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트 배향막;A first high pretilt alignment film and a first low pretilt alignment film formed on the reflective electrode and the transmissive electrode formed on the surface of the embossed pattern of the reflective part, respectively;

상기 상부기판아래에 형성된 RGB수지층과 투명전극;An RGB resin layer and a transparent electrode formed under the upper substrate;

상기 투명전극아래에 형성되고 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트배향막과 각각 대응되는 제2고프리틸트 배향막과 제2저프리틸트배향막; A second high pretilt alignment layer and a second low pretilt alignment layer formed under the transparent electrode and respectively corresponding to the first high pretilt alignment layer and the first low pretilt alignment layer;

상기 상하부 기판사이에 배열되는 액정층;A liquid crystal layer arranged between the upper and lower substrates;

상기 상하부 기판의 외측에 부착된 각각의 편광판;Respective polarizing plates attached to an outer side of the upper and lower substrates;

상기 상부기판의 편광판에 포함된 위상보상필름을 포함하여 구성되는 것을 특징으로한다.Characterized in that it comprises a phase compensation film contained in the polarizing plate of the upper substrate.

또한, 본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치는,In addition, a semi-transmissive liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention,

상,하부 기판;Upper and lower substrates;

상기 하부기판상에 형성된 투과전극부;A transmissive electrode formed on the lower substrate;

상기 투과전극부상에 형성되고 엠보싱패턴을 구비한 고분자수지층으로 구성된 반사부와 평탄한 고분자수지층이 남아 있는 투과부;A transmissive part formed on the transmissive electrode part and having a reflecting part composed of a polymer resin layer having an embossing pattern and a flat polymer resin layer remaining;

상기 반사부의 엠보싱패턴상에 형성된 반사전극;A reflection electrode formed on the embossing pattern of the reflection part;

상기 상부기판에 형성된 RGB수지층과 상부투명전극;An RGB resin layer and an upper transparent electrode formed on the upper substrate;

상기 하부기판에 있는 반사부와 투과부 및 상기 상부기판상에 있는 투명전극상에 형성된 각각의 배향막; 및Respective alignment layers formed on the reflective and transmissive portions of the lower substrate and the transparent electrodes on the upper substrate; And

상기 상하부기판사이에 배열되는 액정층을 포함하여 구성되며, It comprises a liquid crystal layer arranged between the upper and lower substrates,

상기 상하부 기판의 외측면에 부착된 편광판과A polarizing plate attached to an outer surface of the upper and lower substrates;

상부기판의 편광판은 위상보상판을 포함하는 것을 특징으로한다.The polarizing plate of the upper substrate is characterized in that it comprises a phase compensation plate.

그리고, 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 제조방법은, In addition, the manufacturing method of the transflective liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention,

상,하부 기판을 제공하는 단계;Providing an upper and lower substrate;

상기 하부기판위에 투명전극으로 된 투과전극을 형성하는 단계;Forming a transparent electrode formed of a transparent electrode on the lower substrate;

상기 하부기판상의 투과전극위에 엠보싱패턴을 구비한 반사부와 수지층이 없는 투과부를 형성하는 단계;Forming a reflective part having an embossed pattern and a transparent part having no resin layer on the transparent electrode on the lower substrate;

상기 반사부의 엠보싱패턴표면에 형성된 반사전극과 투과부전극상에 각각 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트 배향막을 형성하는 단계;Forming a first high pretilt alignment layer and a first low pretilt alignment layer on the reflective electrode and the transmissive electrode formed on the surface of the embossing pattern of the reflecting unit;

상기 상부기판아래에 RGB수지층과 투명전극을 형성하는 단계;Forming an RGB resin layer and a transparent electrode under the upper substrate;

상기 투명전극아래에, 제1고프리틸트 배향막 및 제1저프리틸트배향막과 각각 대응되는 제2고프리틸트 배향막과 제2저프리틸트배향막을 형성하는 단계; Forming a second high pretilt alignment layer and a second low pretilt alignment layer respectively corresponding to the first high pretilt alignment layer and the first low pretilt alignment layer under the transparent electrode;

상기 상하부 기판사이에 액정층을 배열하는 단계;Arranging a liquid crystal layer between the upper and lower substrates;

상기 상하부 기판의 외측에 편광판을 부착하는 단계; 및Attaching a polarizing plate to an outer side of the upper and lower substrates; And

상기 상부기판의 편광판에 위상보상필름을 포함시키는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로한다.It characterized in that it comprises a step of including a phase compensation film on the polarizing plate of the upper substrate.

더우기, 본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치 제조방법은, Furthermore, a method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention,

상,하부 기판을 제공하는 단계;Providing an upper and lower substrate;

상기 하부기판상에 투과전극부를 형성하는 단계;Forming a transmissive electrode on the lower substrate;

상기 투과전극부상에 형성되는 고분차층을 구비하며, 고분자층의 일부는 엠보싱패턴을 형성하여 반사부 위치가 되고, 일부는 엠보싱패턴없이 평평한 고분자층으로 남아 투과부 위치가 되게 형성하는 단계;A high difference layer formed on the transmissive electrode portion, wherein a portion of the polymer layer forms an embossed pattern to become a reflecting position, and a portion of the polymer layer remains as a flat polymer layer without the embossing pattern to form a transmissive portion;

상기 반사부의 엠보싱패턴상에 반사전극을 형성하는 단계;Forming a reflective electrode on the embossed pattern of the reflective part;

상기 상부기판에 RGB수지층과 상부투명전극을 형성하는 단계;Forming an RGB resin layer and an upper transparent electrode on the upper substrate;

상기 하부기판의 반사부와 투과부 및 상부기판의 투명전극상에 배향막을 형성하는 단계; 및Forming an alignment layer on the reflective and transmissive portions of the lower substrate and the transparent electrode of the upper substrate; And

상기 상하부기판사이에 액정층을 배열하는 단계를 포함하여 구성되며,It comprises a step of arranging the liquid crystal layer between the upper and lower substrates,

상기 상하부 기판의 외측면에 부착된 각각의 편광판과 Each polarizer attached to an outer surface of the upper and lower substrates;

상부기판의 편광판은 외상보상판을 포함하는 것을 특징으로한다.The polarizing plate of the upper substrate is characterized in that it comprises a trauma compensation plate.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명의 실시예에 따른 반투과형 액정표시장치 및 그 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a transflective liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 반사부의 액정의 굴절율을 나타낸 도면이며, 도 4a 내지 도 4h는 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.2 is a cross-sectional view of a transflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. 4A to 4H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치에 대해 설명하면, 도 2에 도시된 바와같이, 하부기판(31)과 상부기판(51)이 일정한 공간을 사이에 두고 배열되어 있고 이들 사이에 액정층(71)이 배열된 구조로 되어 있다.Referring to the transflective liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, the lower substrate 31 and the upper substrate 51 are arranged with a predetermined space therebetween. The liquid crystal layer 71 is arranged in a structure.

여기서, 상기 하부기판(31)상에는 투과부 투명전극(33)이 배열되어 있고, 상기 투과부 투명전극(33)의 일부분상에 다수의 엠보싱(35a)을 가진 고분자수지층 (35)이 형성되어 있으며, 상기 고분자수지층(35)표면에 반사전극(37)이 형성되어 있다.Here, a transparent transparent electrode 33 is arranged on the lower substrate 31, and a polymer resin layer 35 having a plurality of embossing 35a is formed on a portion of the transparent transparent electrode 33. The reflective electrode 37 is formed on the surface of the polymer resin layer 35.

또한, 상기 반사전극(37)상에는 큰 프리틸트각의 배향막(39a)이 형성되어 있고, 상기 반사전극(37)이 형성되어 있지 않은 투과부 투명전극(33)의 일부분상에는 작은 프리틸트각을 갖는 배향막(43a)이 형성되어 있다.Further, an alignment film having a large pretilt angle is formed on the reflective electrode 37, and an alignment film having a small pretilt angle on a portion of the transparent transparent electrode 33 in which the reflective electrode 37 is not formed. 43a is formed.

한편, 상기 상부기판(51)상에는 RGB수지층(53)이 형성되어 있고, 상기 RGB수지층(53)상에는 상부투명전극(55)이 형성되어 있으며, 상기 상부투명전극(55)표면에는 상기 큰 프리틸트각을 갖는 배향막(39a)과 작은 프리틸트각을 갖는 배향막(43a)과 각각 대응되는 큰 프리틸트각을 갖는 배향막(57)과 작은 프리틸틸트각을 갖는 배향막(59)이 형성되어 있다.On the other hand, an RGB resin layer 53 is formed on the upper substrate 51, an upper transparent electrode 55 is formed on the RGB resin layer 53, and the large transparent electrode 55 is formed on the surface of the upper transparent electrode 55. An alignment film 39a having a pretilt angle, an alignment film 43a having a small pretilt angle, an alignment film 57 having a large pretilt angle corresponding to each other, and an alignment film 59 having a small pretilt angle are formed. .

이러한 구성을 통해, 큰 프리틸트각을 갖는 배향막(39a) 부분을 통해 반사되어지고, 나머지 일부는 상부기판(51)에 배열된 작은 프로틸트각을 갖는 배향막(59)부분을 통해 투과되어진다.Through this configuration, it is reflected through the portion of the alignment film 39a having the large pretilt angle, and the remaining part is transmitted through the portion of the alignment film 59 having the small protilt angle arranged on the upper substrate 51.

이러한 구성을 갖는 반투과성 액정표시장치의 제조방법에 대해 설명하면 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing a semi-transmissive liquid crystal display device having such a configuration will be described below with reference to the accompanying drawings.

도 4a 내지 도 4h는 본 발명의 제1실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.4A to 4H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a transflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

본 발명의 제1실시예에 따른 반투과성 액정표시장치의 제조방법은, 도 4a에 도시된 바와같이, 반투과성 기판(31)상에 투과부 투명전극(33)을 배열하고, 상기 투과부 투명전극(33)의 일부분상에 다수의 엠보싱(35a)을 가진 고분자수지층(35)을 형성한다. 이때, 상기 고분자층의 두께는 투과부의 제거된 수지층과의 단차를 고려하여 최소가 되게 형성한다음, 상기 고분자수지층(35)표면에 반사전극(37)을 형성한다.In the method of manufacturing a transflective liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4A, the transparent transparent electrode 33 is arranged on the translucent substrate 31, and the transparent transparent electrode 33 is transparent. A polymer resin layer 35 having a plurality of embossing 35a is formed on a portion of the. At this time, the thickness of the polymer layer is formed to be the minimum in consideration of the step with the removed resin layer of the transmission portion, and then the reflective electrode 37 is formed on the surface of the polymer resin layer (35).

그다음, 도 4b에 도시된 바와같이, 상기 전체 구조의 상면에 고 프리틸트용 배향제(39)를 코팅한다. Then, as shown in Figure 4b, a high pretilt alignment agent 39 is coated on the upper surface of the entire structure.

이어서, 도 4c에 도시된 바와같이, 투과부에 해당하는 상기 고프리틸트용 배향제(39)부분을 제1노광마스크(41)를 차단한 다음 노광공정을 진행한다.Subsequently, as shown in FIG. 4C, the portion of the high pretilt alignment agent 39 corresponding to the transmissive portion is blocked by the first exposure mask 41, and then the exposure process is performed.

그다음, 도 4d에 도시된 바와같이, 상기 노광공정 진행후 현상공정을 통해 광이 차단된 지역의 고프리틸트용 배향제(39)부분을 제거한다.Next, as shown in FIG. 4D, the high pretilt alignment agent 39 in the region where the light is blocked is removed through the developing process after the exposure process is performed.

이어서, 도 4e에 도시된 바와같이, 상기 반사부에 위치하는 고프리틸트용 배향제패턴(39a)부분을 포함한 전체 구조의 상면에 저 프리틸트용 배향제(43)를 코팅한다.Subsequently, as shown in FIG. 4E, the low pretilt alignment agent 43 is coated on the upper surface of the entire structure including the portion of the high pretilt alignment agent pattern 39a positioned in the reflecting portion.

그다음, 도 4f에 도시된 바와같이, 상기 반사부 지역에 해당하는 상기 고프리틸트용 배향제패턴(39a) 상측에 제2노광마스크(43)을 배치한 상태에서 노광공정을 진행하여 투과부지역에 해당하는 저 프리틸트용 배향제(43)부분에 광을 조사한다.Next, as shown in FIG. 4F, the exposure process is performed in a state where the second exposure mask 43 is disposed above the high pretilt alignment agent pattern 39a corresponding to the reflecting area. Light is irradiated to the said low pretilt aligning part 43 part.

이어서, 도 4g에 도시된 바와같이, 상기 현상공정을 진행하여 상기 광이 조사되지 않은 반사부지역의 저 프리틸트용 배향제(43)부분을 제거하여 상기 투과부 지역에 저 프리틸트용 배향제(43a)를 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 4G, the development process is performed to remove the portion of the low pretilt aligning agent 43 in the reflecting region where the light is not irradiated to remove the low pretilt aligning agent in the transmissive region ( 43a).

그다음, 도 4h에 도시된 바와같이, 상기 고 프리틸트용 배향제패턴(39a)과 저 프리틸트용 배향제패턴(43a)이 형성된 상,하기판을 경화(cure)처리한후 러빙하여 단위화소내에 프리틸트각이 다른 기판을 얻는다.Next, as shown in FIG. 4H, the upper and lower substrates on which the high pretilt alignment agent pattern 39a and the low pretilt alignment agent pattern 43a are formed are cured and rubbed to form a unit pixel. A substrate having different pretilt angles is obtained in the inside.

상기와 같은 구조의 액정셀은 반사부에서 액정분자들이 고 프리틸트를 갖고 정렬되어지며, 투과부는 저 프리틸트를 갖고 정렬된다. 여기서, 고 프리틸트란 프리틸트각이 8도 이상, 더 바람직하게는 10도 이상을 의미하며, 저 프리틸트란 프리틸트각이 6도 이하, 더 바람직하게는 5도 이하를 의미한다.In the liquid crystal cell having the above structure, the liquid crystal molecules are aligned with high pretilt in the reflection part, and the transmission part is aligned with low pretilt. Here, high pretilt means a pretilt angle of 8 degrees or more, more preferably 10 degrees or more, and a low pretilt angle of pretilt angle of 6 degrees or less, more preferably 5 degrees or less.

상기 한 화소내에 고 프리틸트각과 저 프리틸트각을 형성하는 일 예를 보인 것이고, 또 다른 방법으로는 동일 배향제를 코팅한후 광배향의 배향조건을 달리하여 고 프리틸트각 영역과 저 프리틸트각 영역을 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로는 DLC(diamond like carbon) 배향층을 증착한후 이온빔 조건을 조절하여 한 화소내에 고프리틸트영역과 저 프리틸트영역을 형성할 수 있다.An example of forming a high pretilt angle and a low pretilt angle in the pixel, and another method is to coat the same alignment agent and then to change the orientation conditions of the photo-alignment high and high pretilt angle region and low pretilt Each region may be formed. Alternatively, a high pretilt region and a low pretilt region may be formed in one pixel by depositing a DLC (diamond like carbon) alignment layer and adjusting ion beam conditions.

도 3은 반사부의 액정의 굴절율에 관한 개략도로서, 이 경우 반사부의 액정의 굴절율 이방성(△n) 값은 경사배열된 액정의 그림자에 해당하는 △n'에 해당한다. 다시 말하면, 동일 굴절율을 갖는 액정으로 반사부의 액정배열 경사각을 조절하여 액정의 굴절율이방성(△n)을 낮추는 효과를 얻을 수 있고, 결과적으로 반사부의 위상지연(△nd)값을 낮추어 투과부의 1/2 수준으로 설계할 수 있다.3 is a schematic diagram of the refractive index of the liquid crystal of the reflecting unit, in which case the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal of the reflecting unit corresponds to Δn 'corresponding to the shadow of the inclined array liquid crystal. In other words, the liquid crystal having the same refractive index can control the liquid crystal array inclination angle of the reflecting portion to reduce the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal. Can design at 2 levels.

이 경우에 광효율을 증대시키면서 단위화소의 평탄화에 의한 균일 러빙으로 단위화소내의 러빙 불균일을 방지하여 결과적으로 화면품위를 향상시키게 된다.In this case, the rubbing unevenness in the unit pixels is prevented by uniform rubbing by flattening the unit pixels while increasing the light efficiency, thereby improving the screen quality.

한편, 본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치에 대해 설명하면 다음과 같다. Meanwhile, the transflective liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention will be described.

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치에 대해 설명하기 위한 단면도이고, 도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치의 등가회로구성도이다. 5 is a cross-sectional view for describing a transflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of a transflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2실시예에 따른 반투과형 액정표시장치에 대해 설명하면, 도 5에 도시된 바와같이, 하부기판(81)과 상부기판(91)이 일정한 공간을 사이에 두고 배열되어 있고, 이들 사이에 액정층(101)이 배열된 구조로 되어 있다.Referring to the transflective liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, the lower substrate 81 and the upper substrate 91 are arranged with a predetermined space therebetween. The liquid crystal layer 101 is arranged in between.

여기서, 상기 하부기판(81)의 단위화소내에 반사부(A)와 투과부(B)가 정의되어 이들 지역에 투과부 투명전극(83)이 배열되어 있고, 상기 투과부 투명전극(83)의 일부분 즉, 반사부(A)상에 다수의 엠보싱(85a)이 형성된 고분자수지층(85)이 형성되어 있으며, 상기 고분자수지층(85)표면에 반사전극(87)이 형성되어 있는 한편, 상기 투과부(B)지역에는 엠보싱이 없는 투명한 고분자수지층(85)이 형성되어 있다.Here, the reflecting portion A and the transmissive portion B are defined in the unit pixel of the lower substrate 81 so that the transmissive portion transparent electrode 83 is arranged in these areas, that is, a part of the transmissive portion transparent electrode 83, A polymer resin layer 85 having a plurality of embossing 85a is formed on the reflective portion A, and a reflective electrode 87 is formed on the surface of the polymer resin layer 85, while the transmissive portion B is formed. ) Is a transparent polymer resin layer 85 is formed without embossing.

또한, 상기 반사부(A)측의 고분자 엠보싱(85a)위에 알루미늄 계열 또는 은 계열의 반사율이 좋은 불투명금속으로 구성된 반사전극(87)이 형성되어 있다.In addition, a reflective electrode 87 made of an opaque metal having a good reflectance of aluminum series or silver series is formed on the polymer embossing 85a on the reflection portion A side.

그리고, 상기 하부기판(81)상에 형성된 화소전극인 상기 투과전극(83)과 반사전극(87)은 모두 소스전극과 연결되어 있다.The transmissive electrode 83 and the reflective electrode 87, which are pixel electrodes formed on the lower substrate 81, are connected to a source electrode.

또한, 상부기판(91)에는 패터닝된 BM층(미도시)과 RGB수지층(93), 그 위에 상대전극인 투명전극(95)이 형성되어 있다.In addition, a patterned BM layer (not shown) and an RGB resin layer 93 are formed on the upper substrate 91, and a transparent electrode 95 serving as a counter electrode is formed thereon.

한편, 상기 상, 하기판(81)(91)에는 배향막(89)(99)이 코팅되어 있으며, 이 들 배향막(89)(97)표면은 러빙되어 있다.On the other hand, the upper and lower substrates 81 and 91 are coated with alignment films 89 and 99, and the surfaces of these alignment films 89 and 97 are rubbed.

상기와 같은 구성으로 제조된 상하기판(81)(91)사이에 액정을 주입하는 공정을 진행하여 액정셀을 완성한후 상, 하기판(81(91)에 도면에는 도시하지 않았지만 각각의 편광판과 상부기판에 보상필름을 부착하여 반투과형 액정셀을 완성한다.After the process of injecting the liquid crystal between the upper and lower substrates 81 and 91 manufactured as described above to complete the liquid crystal cell, the upper and lower substrates 81 and 91 are not shown in the drawings, but the respective polarizing plates and the upper Compensation film is attached to the substrate to complete the transflective liquid crystal cell.

도 6은 도 5의 본 발명의 제2실시예에 따른 등가회로로서, 반사부와 투과부는 화소전극과 상대전극간에 형성된 캐패시턴스가 다르다. FIG. 6 is an equivalent circuit according to a second embodiment of the present invention of FIG. 5, wherein the reflecting portion and the transmitting portion have different capacitances formed between the pixel electrode and the counter electrode.

반사부의 직렬 연결된 전체 전위차 V반사는 다음과 같이 표현되어진다.The total potential difference V reflection connected in series with the reflector is expressed as follows.

V반사 = VPI + VLC + VPI 이고, q = CV에 의해 V반사 = q(1/CPI + 1/CLC + 1/CPI) 로 표현할 수 있다.V reflection = V PI + V LC + V PI , and q = CV can be expressed as V reflection = q (1 / C PI + 1 / C LC + 1 / C PI ).

마찬가지로, 투과부의 직렬연결된 전체 전위차 V투과는 다음과 같다.Similarly, the series connected total potential difference V transmission of the transmission is as follows.

V투과 = VPI + VLC + VPI + V레진 이고, q = CV에 의해 V투과 = q(1/CPI + 1/CLC + 1/CPI + 1/C레진) 로 표현할 수 있다.V transmission = V PI + V LC + V PI + V resin , and q = CV can be expressed as V transmission = q (1 / C PI + 1 / C LC + 1 / C PI + 1 / C resin ). .

여기서, 투과영역은 화소전극과 상대전극사이에 저유전율 및 막 두께가 일반적으로 두꺼운 고분자 수지층이 삽입되어 더 많은 전압이 필요하고, 반대로 전압이 일정할 경우 전압손실이 발생한다.Here, in the transmission region, a polymer resin layer having a high dielectric constant and a thick film thickness is inserted between the pixel electrode and the counter electrode, and thus requires more voltage. On the contrary, when the voltage is constant, voltage loss occurs.

도 7은 제2실시예의 투과부와 반사부의 전압에 따른 투과특성을 나타낸 그래프인데, 도 7에서 알 수 있는 바와같이, 동일 전압 인가시에 반사부가 투과부보다 전압손실이 적어 액정에 더 높은 전압이 인가되고, 결과적으로 투과부의 투과율 변 곡점 부근을 화이트전압(white voltage)으로 설정시에 반사부(A)는 액정분자가 경사지게 된다.FIG. 7 is a graph showing transmission characteristics according to voltages of the transmission part and the reflection part according to the second embodiment. As can be seen from FIG. 7, when the same voltage is applied, a higher voltage is applied to the liquid crystal due to less voltage loss than the transmission part. As a result, when the vicinity of the transmittance inflection point of the transmission part is set to the white voltage, the reflection part A is inclined to the liquid crystal molecules.

상기에서 설명한 바와같이, 본 발명에 따른 반투과형 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 동일 굴절율을 갖는 액정으로 반사부의 액정배열 경사각을 조절하여 액정의 굴절율 이방성(△n)을 낮추는 효과를 얻을 수 있고, 결과적으로 반사부의 위상지연(△nd)값을 낮추어 투과부의 1/2 수준으로 설계할 수 있다. 이 경우에 광효율을 증대시키면서 단위화소의 평탄화에 의한 균일 러빙으로 단위화소내의 러빙 불균일을 방지하여 결과적으로 화면품위를 향상시키게 된다.As described above, according to the semi-transmissive liquid crystal display according to the present invention and a method of manufacturing the same, the liquid crystal having the same refractive index can be adjusted to reduce the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal by adjusting the inclination angle of the liquid crystal array of the reflector As a result, the phase delay value (Δnd) of the reflector can be lowered to design the half level of the transmissive part. In this case, the rubbing unevenness in the unit pixels is prevented by uniform rubbing by flattening the unit pixels while increasing the light efficiency, thereby improving the screen quality.

또한, 반투과형 광학설계의 또 다른 방법적인 접근으로 투과부와 반사부의 광효율을 극대화하면서 단위화소내의 단차에 의한 러빙 불균일의 문제점을 해결할 할 수 있다.In addition, another method approach of the semi-transmissive optical design can solve the problem of rubbing nonuniformity due to the step in the unit pixel while maximizing the light efficiency of the transmissive part and the reflecting part.

한편, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.On the other hand, the present invention is not limited to the above-described specific preferred embodiments, and various changes can be made by those skilled in the art without departing from the gist of the invention claimed in the claims. will be.

Claims (14)

상,하부 기판;Upper and lower substrates; 상기 하부기판위에 투명전극으로 형성된 투과전극;A transmissive electrode formed of a transparent electrode on the lower substrate; 상기 하부기판상의 투과전극위에 형성된 엠보싱패턴을 구비한 반사부와 수지층이 없는 투과부;A reflection portion having an embossed pattern formed on the transmission electrode on the lower substrate and a transmission portion having no resin layer; 상기 반사부의 엠보싱패턴표면에 형성된 반사전극과 투과부전극상에 각각 형성된 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트 배향막;A first high pretilt alignment film and a first low pretilt alignment film formed on the reflective electrode and the transmissive electrode formed on the surface of the embossed pattern of the reflective part, respectively; 상기 상부기판아래에 형성된 RGB수지층과 투명전극;An RGB resin layer and a transparent electrode formed under the upper substrate; 상기 투명전극아래에 형성되고 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트배향막과 각각 대응되는 제2고프리틸트 배향막과 제2저프리틸트배향막; A second high pretilt alignment layer and a second low pretilt alignment layer formed under the transparent electrode and respectively corresponding to the first high pretilt alignment layer and the first low pretilt alignment layer; 상기 상하부 기판사이에 배열되는 액정층; 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치.A liquid crystal layer arranged between the upper and lower substrates; Semi-transmissive liquid crystal display device comprising a. 제1항에 있어서, 상기 반사부의 엠보싱패턴은 고분자수지로 형성되어 있는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치.The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the embossing pattern of the reflecting portion is made of a polymer resin. 제1항에 있어서, 상기 상하부기판에 편광판과 상부기판에 보상필름이 부착되어 있는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치.The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein a compensation film is attached to the upper and lower substrates on the polarizer and the upper substrate. 제1항에 있어서, 상기 반사부의 프리틸트각은 투과부의 프리틸트각보다 큰 것을 특징으로 하는 반투과형 액정표시장치.The transflective liquid crystal display of claim 1, wherein the pretilt angle of the reflector is greater than the pretilt angle of the transmissive part. 제1항에 있어서, 상기 고 프리틸트 배향막의 프리틸트각은 10도 이상이고 저 프리틸트 배향막의 프리틸트각이 5도 이하인 것을 특징으로 하는 반투과형 액정표시장치.The semi-transmissive liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pretilt angle of the high pretilt alignment layer is 10 degrees or more and the pretilt angle of the low pretilt alignment layer is 5 degrees or less. 상,하부 기판;Upper and lower substrates; 상기 하부기판상에 형성된 투과전극부;A transmissive electrode formed on the lower substrate; 상기 투과전극부상에 형성되고 엠보싱패턴을 구비한 고분자수지층으로 구성된 반사부와 평탄한 고분자수지층이 남아 있는 투과부;A transmissive part formed on the transmissive electrode part and having a reflecting part composed of a polymer resin layer having an embossing pattern and a flat polymer resin layer remaining; 상기 반사부의 엠보싱패턴상에 형성된 반사전극;A reflection electrode formed on the embossing pattern of the reflection part; 상기 상부기판에 형성된 RGB수지층과 상부투명전극;An RGB resin layer and an upper transparent electrode formed on the upper substrate; 상기 하부기판에 있는 반사부와 상기 상부기판에 형성된 투명전극상에 형성된 배향막; 및An alignment layer formed on the reflective part of the lower substrate and the transparent electrode formed on the upper substrate; And 상기 상,하부기판사이에 배열되는 액정층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치.And a liquid crystal layer arranged between the upper and lower substrates. 제6항에 있어서, 상기 상하부기판에 편광판과 상부기판에 위상보상필름이 부착되어 있는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치.The transflective liquid crystal display device according to claim 6, wherein a phase compensation film is attached to the upper and lower substrates on the polarizer and the upper substrate. 상,하부 기판을 제공하는 단계;Providing an upper and lower substrate; 상기 하부기판위에 투명전극으로 된 투과전극을 형성하는 단계;Forming a transparent electrode formed of a transparent electrode on the lower substrate; 상기 하부기판상의 투과전극위에 엠보싱패턴을 구비한 반사부와 수지층이 없는 투과부를 형성하는 단계;Forming a reflective part having an embossed pattern and a transparent part having no resin layer on the transparent electrode on the lower substrate; 상기 반사부의 엠보싱패턴표면에 형성된 반사전극과 투과부전극상에 각각 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트 배향막을 형성하는 단계;Forming a first high pretilt alignment layer and a first low pretilt alignment layer on the reflective electrode and the transmissive electrode formed on the surface of the embossing pattern of the reflecting unit; 상기 상부기판아래에 RGB수지층과 투명전극을 형성하는 단계;Forming an RGB resin layer and a transparent electrode under the upper substrate; 상기 투명전극아래에, 제1고프리틸트 배향막과 제1저프리틸트배향막과 각각 대응되는 제2고프리틸트 배향막과 제2저프리틸트배향막을 형성하는 단계; 및Forming a second high pretilt alignment layer and a second low pretilt alignment layer respectively corresponding to the first high pretilt alignment layer and the first low pretilt alignment layer under the transparent electrode; And 상기 상하부 기판사이에 액정층을 배열하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치 제조방법.Arranging the liquid crystal layer between the upper and lower substrates; semi-transmissive liquid crystal display device manufacturing method comprising a. 제8항에 있어서, 상기 반사부의 엠보싱패턴은 고분자수지로 형성하는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치 제조방법.The method of claim 8, wherein the embossing pattern of the reflector is formed of a polymer resin. 제8항에 있어서, 상기 상하기판에 편광판과 상부기판에 보상필름을 부착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치 제조방법.10. The method of claim 8, further comprising attaching a compensation film to the upper and lower polarizers and the upper substrate. 제8항에 있어서, 상기 반사부의 프리틸트각은 투과부의 프리틸트각보다 큰 것을 특징으로 하는 반투과형 액정표시장치 제조방법.The method of claim 8, wherein the pretilt angle of the reflector is greater than the pretilt angle of the transmissive part. 제8항에 있어서, 상기 고 프리틸트 배향막의 프리틸트각은 10도 이상이고 저 프리틸트 배향막의 프리틸트각이 5도 이하인 것을 특징으로 하는 반투과형 액정 표시장치 제조방법.The method of claim 8, wherein the pretilt angle of the high pretilt alignment layer is 10 degrees or more and the pretilt angle of the low pretilt alignment layer is 5 degrees or less. 상,하부 기판을 제공하는 단계;Providing an upper and lower substrate; 상기 하부기판상에 투과전극부를 형성하는 단계;Forming a transmissive electrode on the lower substrate; 상기 투과전극부상에 형성되는 고분차층을 구비하며, 고분자층의 일부는 엠보싱패턴을 형성하여 반사부 위치가 되도록하고, 일부는 엠보싱패턴없이 평평한 고분자층으로 남아 투과부 위치가 되게 형성하는 단계;A high difference layer formed on the transmissive electrode portion, wherein a portion of the polymer layer forms an embossed pattern to be a reflecting portion position, and a portion of the polymer layer remains as a flat polymer layer without the embossing pattern to form a transmissive portion; 상기 반사부의 엠보싱패턴상에 반사전극을 형성하는 단계;Forming a reflective electrode on the embossed pattern of the reflective part; 상기 상부기판에 RGB수지층과 상부투명전극을 형성하는 단계;Forming an RGB resin layer and an upper transparent electrode on the upper substrate; 상기 하부기판의 반사부와 투과부 및 상부투명전극상에 배향막을 형성하는 단계; 및Forming an alignment layer on the reflecting portion, the transmitting portion, and the upper transparent electrode of the lower substrate; And 상기 상하부기판사이에 액정층을 배열하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치 제조방법.And arranging a liquid crystal layer between the upper and lower substrates. 제13항에 있어서, 상기 상하부기판에 편광판과 상부기판에 위상보상필름을 부착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 반투과형 액정표시장치 제조방법.15. The method of claim 13, further comprising attaching a phase compensation film to the upper and lower substrates to the polarizer and the upper substrate.
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