KR100697164B1

KR100697164B1 - Method for delivery of substrate to film forming device for disk-like substrate, substrate delivery mechanism and substrate holder used for the method, and method of manufacturing disk-like recording medium using the method

Info

Publication number: KR100697164B1
Application number: KR1020047020496A
Authority: KR
Inventors: 고시까와마사또; 와따나베히데아끼
Original assignee: 티디케이가부시기가이샤
Priority date: 2002-06-20
Filing date: 2003-06-16
Publication date: 2007-03-21
Also published as: KR20050021018A

Abstract

본 발명은, 대기 중에 있어서 중앙 구멍이 존재하지 않는 원판형 기판 등을 보유 지지하고, 또한 스패터링 장치에 대해 용이하게 이동 탑재 가능하게 하는 기판의 교환 방법에 관한 것이다. 이의 달성을 위해, 본 발명에 있어서는 원판형 기판의 양면 중앙부에 돌기부를 설치하고 또한 상기 기판은 그 외주단부와 중앙부를 덮는 마스크 및 기판 중앙을 협지하고 이에 고정되는 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트가 일체화되어 반송 등이 이루어진다. 교환 기구에 있어서는 자력에 의한 외부 마스크의 보유 지지를 행하는 것으로 하고, 기판이 교환되는 기판 홀더에 있어서도 자력에 의한 외부 마스크의 보유 지지가 동시에 행해져 교환시에 있어서는, 교환 기구측의 자력 저감이 이루어지는 것으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for replacing a substrate, which holds a disk-shaped substrate or the like in which no center hole exists in the air, and which can be easily mounted on a sputtering device. In order to achieve this, in the present invention, the projections are provided at both sides of the disc-shaped substrate, and the substrate has a mask covering the outer periphery and the center portion, and an inner mask and a magnet for fixing the inner mask sandwiching and fixed thereto. It is integrated and conveyance etc. are performed. In the exchange mechanism, the external mask is held by magnetic force, and in the substrate holder where the substrate is exchanged, the external mask is held by magnetic force at the same time, and at the time of exchange, the magnetic force on the exchange mechanism side is reduced. do.

스패터링 장치, 마스크, 마그네트, 교환 기구, 원판형 기판Sputtering Device, Mask, Magnet, Exchange Mechanism, Disc Substrate

Description

TECHNICAL FOR DELIVERY OF SUBSTRATE TO FILM FORMING DEVICE FOR DISK- A substrate exchange method for a film-forming apparatus for a disc-shaped substrate, a substrate exchange mechanism and a substrate holder used in the method, and a disc-shaped recording medium using the method. LIKE SUBSTRATE, SUBSTRATE DELIVERY MECHANISM AND SUBSTRATE HOLDER USED FOR THE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DISK-LIKE RECORDING MEDIUM USING THE METHOD}

본 발명은, 원판형의 기판에 대해 박막을 형성하는 박막 형성 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 상기 장치를 이용하여 박막 형성을 행할 때에 상기 장치에 대해 상기 장치에 있어서 이용되는 원판형 기판의 교환을 행하는 방법, 상기 방법에 이용되는 기구에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 기구와 함께 이용되는 소위 기판 홀더 및 상기 기구를 이용하여 소위 광디스크 등의 디스크형의 기록 매체를 제조하는 디스크형 기록 매체의 제조 방법에도 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film forming apparatus for forming a thin film on a disc-shaped substrate. More particularly, the present invention relates to the exchange of a disc-shaped substrate used in the above apparatus when the thin film is formed using the apparatus. And a mechanism used in the method. The present invention also relates to a so-called substrate holder to be used with the above mechanism and a manufacturing method of a disc-shaped recording medium for producing a disc-shaped recording medium such as an optical disc by using the above mechanism.

원판형의 기판에 대해 각종 박막을 형성하여 제조되는 기록 매체, 특히 디스크형의 형상을 갖는 것으로 하고, 예를 들어 CD, CD-R, CD-RW 등의 CD계 디스크, 혹은 DVD-ROM, DVD-R 등의 DVD계 디스크 등의 광디스크, 혹은 MO, MD 등의 광자기 디스크 등 다양한 디스크가 존재한다. 이들 디스크는, 예를 들어 폴리카보네이트 등의 소재로 이루어지는 기판에 대해 스패터링법, 스핀 코팅법 등의 다양한 방법을 이용하여 박막을 적층함으로써 제조되어 있다. A recording medium produced by forming various thin films on a disc-shaped substrate, in particular, having a disc shape, for example, a CD-based disc such as CD, CD-R, CD-RW, or DVD-ROM, DVD Various disks such as optical disks such as DVD-based disks such as -R or magneto-optical disks such as MO and MD exist. These disks are manufactured by laminating | stacking a thin film with respect to the board | substrate which consists of materials, such as polycarbonate, for example using various methods, such as a sputtering method and a spin coating method.

일반적으로, 이들 디스크의 소재가 되는 기판에는 실제로 상기 디스크를 기록 매체로서 이용할 때에 디스크 핸들링에 이용하기 위해, 그 공급시에 있어서, 이미 중앙부에 관통 구멍이 형성되어 있다. 이후의 박막 형성 공정에서는, 통상 이 중앙 구멍을 이용하여 성막 장치 등에의 반입 및 반출 및 성막 장치 등에 있어서의 기판의 위치 결정 등의 핸들링이 행해진다. 그러나, 이 중앙 구멍의 존재는 성막시에 있어서, 예를 들어 기판 상에 있어서의 박막의 막두께 혹은 막질의 분포를 저하시킬 우려가 있다. 이로 인해, 일반적으로는 중앙 구멍에 대해 캡 등을 덮어 그 존재가 성막 공정에 부여하는 영향을 최대한 작게 한 상태에서의 성막이 행해진다.In general, through-holes are already formed in the center portion at the time of supplying the substrates used as raw materials of the disks for use in the disk handling when the disks are actually used as recording media. In the subsequent thin film formation step, handling such as carrying out and carrying out of the film forming apparatus and the like and positioning of the substrate in the film forming apparatus and the like is performed using this center hole. However, the presence of this central hole may reduce the film thickness or the distribution of the film quality of the thin film on the substrate, for example. For this reason, generally, film formation is performed in the state which covered the cap etc. with respect to the center hole, and made the influence which the presence affect to a film-forming process as small as possible.

예를 들어, DVD계의 디스크 제조시에 있어서는 스핀 코팅법을 이용하여 자외선 경화 수지로 이루어지는 박막이 그 구성막의 하나로서 형성된다. 구체적으로는, 우선 회전 가능한 테이블 상에 그 중심과 테이블의 회전 중심을 일치시키도록 기판이 탑재된다. 이로 인해, 중앙 구멍을 관통하는 회전축을 이용하거나, 혹은 테이블의 회전 중심에 대해 동심형으로 고정되는 캡을 디스크의 중심 구멍에 배치하는 등의 조작에 의해 기판의 테이블에 대한 위치 결정과 고정이 이루어진다. For example, at the time of manufacture of a DVD-based disk, a thin film made of an ultraviolet curable resin is formed as one of the constituent films by using a spin coating method. Specifically, the substrate is first mounted on the rotatable table so that its center coincides with the rotational center of the table. For this reason, positioning and fixation of the board | substrate with respect to a board | substrate are performed by using the rotating shaft which penetrates a center hole, or arrange | positioning the cap which is concentrically fixed with respect to the center of rotation of a table to the center hole of a disk. .

다음에, 회전 중의 디스크에 대해 중심 구멍 근방 혹은 캡단부로부터 디스크 외주를 향해 연속적으로 수지의 적하가 이루어진다. 적하된 수지는 디스크의 회전에 수반하는 원심력에 의해 확산되고, 그 결과 기판 표면 상에 수지 박막의 형성이 행해진다. 또한, 박막이 된 수지는 그 후 자외선의 조사 등의 공정을 경유하여 안 정된 막구조가 된다. Next, the dropping of the resin is continuously performed from the vicinity of the center hole or the cap end to the disc outer circumference with respect to the disc in rotation. The dropped resin is diffused by the centrifugal force accompanying the rotation of the disk, and as a result, the resin thin film is formed on the substrate surface. In addition, the resin which has become a thin film then becomes a stable film structure via a process such as irradiation of ultraviolet rays.

이 경우, 회전 중심으로부터 떨어진 위치에 수지의 적하를 행할 수밖에 없으므로, 이 것에 기인한 막두께의 분포가 생기고 있었다. 그러나, 현재 일반적으로 기록의 판독 등에 이용되고 있는 적색 레이저광은 비교적 파장이 길기 때문에 이 분포는 허용할 수 있는 범위의 것이었다. 또한, 금후, 광디스크의 기록 밀도를 보다 높이기 위해 파장이 짧은, 예를 들어 청색 레이저광을 이용한 경우에는 보다 균일성이 높은 박막을 얻는 것이 필요해진다. In this case, since the dropping of the resin is inevitably carried out at a position away from the rotation center, the film thickness distribution resulting from this has been generated. However, since the red laser light, which is generally used for reading a record and the like, is relatively long in wavelength, this distribution was in an acceptable range. Further, in the future, when a shorter wavelength, for example, blue laser light, is used in order to further increase the recording density of the optical disk, it is necessary to obtain a thinner film with higher uniformity.

본 출원인은 이상의 과제를 해결하는 수단으로서, 즉 상기 스핀 코팅법을 이용하는 공정에 있어서 막두께 분포를 보다 개선하는 방법으로서 중앙부에 구멍을 마련하지 않은 기판을 이용한 제조 공정을 제안하고 있다. 상기 제조 공정에 있어서는 각종 박막을 기판 상에 형성한 후, 그 중앙부에 관통 구멍이 형성된다. The present applicant proposes a manufacturing process using a substrate having no hole in the center as a means of solving the above problems, that is, a method of further improving the film thickness distribution in the process using the spin coating method. In the said manufacturing process, after forming various thin films on a board | substrate, a through hole is formed in the center part.

예를 들어, 반사막 등에 이용되는 금속 박막 등은 스패터링법을 이용하여 형성된다. 상기 방법에 있어서는, 원판형 기판은 진공 용기 중에서 타겟 정면에 고정, 보유 지지된다. 일반적으로는 이 타겟에 대해 일정 전압이 부여되고, 이에 의해 타겟과 기판 사이에 방전이 발생하여 플라즈마가 생긴다. 상기 플라즈마 중의 이온에 의해 타겟 표면의 타겟 구성 원소가 스패터되고, 이 스패터 입자가 기판 표면에 부착함으로써 막형성이 행해진다. For example, the metal thin film used for a reflecting film etc. is formed using the sputtering method. In the above method, the disk-shaped substrate is fixed and held in front of the target in a vacuum container. In general, a constant voltage is applied to this target, whereby a discharge occurs between the target and the substrate, thereby generating a plasma. The target constituent elements on the target surface are sputtered by the ions in the plasma, and the spatter particles adhere to the substrate surface to form a film.

이 스패터링법에 의해 금속 박막을 형성하는 경우, 플라즈마로부터의 복사열 혹은 기판으로 입사하는 이온 등의 에너지에 의해 기판의 온도 상승이 생겨 버린다. 이 온도 상승에 의해 기판에는 열팽창 혹은 열변형이 생긴다. 성막시에 있어 서의 기판은 그 외주부에 소위 외부 마스크에 의해 대략 고정되어 있다. 이로 인해, 이 열팽창 등이 이 외부 마스크에 의해 규제되어 기판 중앙에 있어서 가장 변형량이 커지는 휨이 생길 가능성이 있다.When forming a metal thin film by this sputtering method, the temperature of a board | substrate rises by energy, such as radiant heat from plasma or the ion which injects into a board | substrate. This temperature rise causes thermal expansion or thermal deformation of the substrate. At the time of film formation, the substrate is substantially fixed to the outer peripheral portion by a so-called outer mask. For this reason, this thermal expansion etc. are regulated by this external mask, and there exists a possibility that the curvature which the deformation amount which is the largest in the center of a board | substrate becomes large may arise.

통상, 기판은 그 이면에 있어서 기판 홀더와 밀착하고 있고, 이 기판 홀더를 거쳐서 어느 정도의 열량이 방출되므로, 열의 큰 축적은 생기지 않아, 이와 같은 휨이 문제가 될 우려는 작다. 그러나, 성막 조건에 따라서는 이 열량 방출에 상관없이 휨에 의해 기판 중앙부가 기판을 보유 지지하는 기판 홀더로부터 떨어져 열의 전달 대상이며 홀더와 떨어지는 것도 고려된다. 이 경우, 열방출의 양이 감소되므로, 기판 온도는 더욱 상승하여 기판의 변형량을 증가시킨다. Usually, since the board | substrate is in close contact with the board | substrate holder on the back surface, and a certain amount of heat is discharged | emitted through this board | substrate holder, large accumulation of heat does not generate | occur | produce, and there exists little possibility that such a curvature will become a problem. However, depending on the film formation conditions, regardless of this heat release, it is also considered that the center portion of the substrate is transferred away from the substrate holder holding the substrate by the warpage and is separated from the holder. In this case, since the amount of heat dissipation is reduced, the substrate temperature is further raised to increase the amount of deformation of the substrate.

대책의 하나로서, 기판에 있어서 가장 변형될 가능이 큰 중앙 부분을 기판 홀더에 대해 강제적으로 압박하는 기구를 설치하는 것이 고려된다. 이 방법은, 중앙부에 관통 구멍을 갖는 종래의 기판을 이용하는 경우에는 중앙부를 덮는 소위 내부 마스크를 이용함으로써 비교적 쉽게 실시하는 것이 가능했다. As one of the countermeasures, it is conceivable to provide a mechanism for forcing the center portion which is most deformable in the substrate against the substrate holder. This method was relatively easy by using a so-called inner mask covering the center part when using a conventional substrate having a through hole in the center part.

본 발명자는 스핀 코팅법에 의해 형성되는 박막의 막두께의 균일성 개선을 목적으로 하여 중앙에 관통 구멍을 갖지 않는 기판 대상으로 한 스패터링 장치 내에 있어서의 새로운 기판의 처킹 방법을 안출하여 제안하고 있다. 또한, 일련의 성막 공정을 자동화하기 위해, 이 기판에다가 기판 및 그 외주부를 덮는 외부 마스크도 포함한 이송 등을 확실하게 행할 수 있는 기판 반송 기구 등에 대해서도 제안하고 있다. 그러나, 전술한 바와 같이 이들 기구를 이용하여 스패터링 장치에서 성막 공정을 행하는 경우, 기판 중앙부가 휘어지는 문제가 생길 가능성이 있고, 장 래적으로 이 문제의 대책을 강구할 필요가 있다고 생각된다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor devised and proposed the method of chucking a new board | substrate in the sputtering apparatus for the board | substrate which does not have a through hole in the center for the purpose of improving the uniformity of the film thickness of the thin film formed by spin coating method. . Moreover, in order to automate a series of film-forming processes, the board | substrate conveyance mechanism etc. which can reliably perform the transfer etc. which included this board | substrate and the outer mask which covers the outer peripheral part are also proposed. However, as mentioned above, when performing the film-forming process in a sputtering apparatus using these mechanisms, there exists a possibility that the center part of a board | substrate may arise, and it is thought that it is necessary to take countermeasures for this problem in the future.

본 발명에 관한 기판의 교환 방법은 상술한 요청에 착안하여 이루어진 것으로, 기판의 반송시에 상기 외부 마스크 등 및 기판의 상대적 관계에 대해서도 확실한 유지를 가능하게 하는 것을 목적으로 하고 있다. 또한, 본 발명은 상기 교환 방법을 구현화한 스패터링 장치 등의 박막 형성 장치에 있어서의 기판의 교환 기구 및 상기 장치를 이용한 디스크형 기록 매체의 제조 방법을 제공하는 것이다. The substrate replacement method according to the present invention has been made in view of the above-described request, and an object thereof is to enable reliable maintenance of the relative relationship between the external mask and the substrate at the time of conveyance of the substrate. The present invention also provides a substrate exchange mechanism in a thin film forming apparatus such as a sputtering apparatus embodying the above replacement method, and a method of manufacturing a disc-shaped recording medium using the apparatus.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 기판의 교환 방법은 원판형의 기판을, 기판의 표면 중앙부를 덮기 위한 자성을 갖는 내부 마스크 및 기판의 표면 외주부를 덮기 위한 자성을 가진 외부 마스크와 함께 기판 홀더로 교환하는 방법이며, 미리 반송 아암에 있어서의 마스크 보유 지지면 상의 소정 위치에 있어서, 내부 마스크 및 외부 마스크에 대해 자력을 미침으로써 내부 마스크 및 외부 마스크의 표면을 고정, 보유 지지하는 동시에 마스크 보유 지지면 상에 보유 지지된 내부 마스크 및 외부 마스크에 대해 상기 기판을 적재하고, 기판의 이면의 대략 중앙부에 내부 마스크 고정용 마그네트를 배치하여 기판에 대해 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트를 고정하고, 내부 마스크 고정용 마그네트, 내부 마스크 및 외부 마스크 및 기판을 보유 지지한 반송 아암에 있어서의 마스크 보유 지지면에 기판 홀더를 대향시켜 내부 마스크 고정용 마그네트를 기판 홀더 중앙에 마련된 오목부에 삽입하면 대략 동시에 기판 홀더 내에 설치된 마그네트에 의해 외부 마스크에 대해 자력을 미쳐 반송 아암으로부터 외부 마스크에 미치는 자력의 저감을 행하 고, 기판 홀더로부터 미치는 자력에 의해 홀더에 대해 외부 마스크의 이면을 고정, 보유 지지하고, 이에 의해 기판을 기판 홀더로 교환하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the substrate replacement method according to the present invention comprises a disc-shaped substrate with an inner mask having a magnet for covering the surface center of the substrate and an outer mask having a magnet for covering the surface outer periphery of the substrate. It is a method of exchanging with a holder, and fixes and holds the surface of an inner mask and an outer mask at the predetermined position on the mask holding surface of a conveyance arm beforehand by holding a magnetic force with respect to an inner mask and an outer mask, and simultaneously holds a mask. The substrate is loaded with respect to the inner mask and the outer mask held on the supporting surface, and the inner mask fixing magnet is fixed to the substrate at an approximately center portion of the rear surface of the substrate to fix the inner mask and the inner mask fixing magnet to the substrate, Inner mask fixing magnet, inner mask and outer mask and board When the substrate holder is opposed to the mask holding surface of the holding arm, the magnet for fixing the inner mask is inserted into the recess provided in the center of the substrate holder, and at the same time, the magnet provided in the substrate holder exerts a magnetic force on the outer mask. The magnetic force applied to the external mask from the transfer arm is reduced, and the back surface of the external mask is fixed to and held by the holder by the magnetic force applied from the substrate holder, thereby replacing the substrate with the substrate holder.

또한, 상술한 교환 방법에 있어서는, 기판은 외부 마스크에 설치된 마스크 내 기판 고정 수단에 의해 외부 마스크에 대해 고정되어 있고, 기판의 교환은 기판과 외부 마스크가 일체적으로 행해지는 것이 바람직하다. 또한, 기판 홀더 내에 설치된 마그네트는 기판 홀더의 대략 중앙부 부분 및 그 주위이며 외부 마스크에 대략 대응하여 위치하는 부분에 배치되는 것이 바람직하다. In the above-mentioned exchange method, the substrate is fixed to the external mask by means of an in-mask substrate fixing means provided in the external mask, and it is preferable that the substrate and the external mask are integrally performed for the exchange of the substrate. In addition, the magnet provided in the substrate holder is preferably disposed in a substantially central portion of the substrate holder and in a portion that is located around and approximately corresponding to the outer mask.

또한, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 기판 홀더는 대략 원판 형상의 기판의 표면에 막형성을 행할 때에 기판 및 기판의 표면 외주부를 덮는 외부 마스크를 보유 지지하는 기판 홀더이며, 기판의 이면에 따르는 대략 환형의 기판 받침부와, 기판 받침면의 중심 부분에 설치된 대략 원통 형상의 오목부와, 기판 받침면의 주위에 설치된 기판 받침면보다 오목하게 들어간 외부 마스크 받침면을 갖는 것을 특징으로 하고 있다. Moreover, in order to solve the said subject, the board | substrate holder which concerns on this invention is a board | substrate holder which hold | maintains the board | substrate and the outer mask which covers the outer peripheral part of the board | substrate when forming a film on the surface of a substantially disk-shaped board | substrate, and the back surface of a board | substrate And a substantially annular substrate support portion, a substantially cylindrical recess provided in the center portion of the substrate support surface, and an outer mask support surface recessed more concave than the substrate support surface provided around the substrate support surface. .

또한, 상술한 기판 홀더에 있어서는, 대략 원통 형상의 오목부에 대해서는 기판의 표면 중앙부를 덮는 자성을 갖는 내부 마스크와 함께 기판을 보유 지지함으로써 기판에 대해 고정되는 내부 마스크 고정용 마그네트가 끼워지는 것이 바람직하다. 또한, 대략 원통 형상의 오목부의 바닥면에는 마그네트가 배치되는 것이 바람직하다.Further, in the above-described substrate holder, it is preferable that the magnet for fixing the internal mask fixed to the substrate is fitted by holding the substrate together with the internal mask having magnetic properties covering the surface center portion of the substrate with respect to the substantially cylindrical concave portion. Do. Moreover, it is preferable that a magnet is arrange | positioned at the bottom surface of the substantially cylindrical recessed part.

또한, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 기판의 교환 기구는 대략 원판 형상의 기판, 기판의 외주부를 덮는 외부 마스크, 기판의 중앙부를 덮는 내부 마스크 및 내부 마스크와 함께 기판을 보유 지지하는 내부 마스크 고정용 마그네트를 보유 지지하여 기판, 내부 마스크, 외부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트를 다른 기판 보유 지지 기구에 이동 탑재하는 기판 교환 기구이며, 내부 마스크를 지지하는 내부 마스크 받침면과, 내부 마스크 받침면 하부에 배치되어 내부 마스크 받침면에 대해 접근 및 이격이 가능한 내부 마스크용 마그네트와, 외부 마스크를 지지하는 외부 마스크용 받침면과, 외부 마스크 받침면 하부에 배치되어 외부 마스크 받침면에 대해 접근 및 이격이 가능한 내부 마스크용 마그네트를 갖고, 내부 마스크용 마그네트가 발하는 자력에 의해 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트를 소정 위치에 고정 보유 지지하는 동시에, 외부 마스크 고정용 마그네트가 발하는 자력에 의해 외부 마스크를 소정 위치에 고정, 보유 지지하고, 이에 의해 기판을 소정 위치에 보유 지지하여 내부 마스크용 마그네트 및 외부 마스크용 마그네트를 내부 마스크용 받침면 및 외부 마스크용 받침면 각각으로부터 이격시킴으로써 내부 마스크, 내부 마스크 고정용 마그네트 및 외부 마스크의 이동을 가능하게 하는 것을 특징으로 하고 있다. Moreover, in order to solve the said subject, the board | substrate exchange mechanism which concerns on this invention is a board | substrate of a substantially disk shape, the outer mask which covers the outer peripheral part of a board | substrate, the internal mask which covers the center part of a board | substrate, and the inside which hold | maintains a board | substrate together with an inner mask. A substrate exchange mechanism for holding a mask fixing magnet to move and mount a substrate, an inner mask, an outer mask, and an inner mask fixing magnet to another substrate holding mechanism, wherein the inner mask support surface for supporting the inner mask and the inner mask support An inner mask magnet disposed under the surface and accessible to and separated from the inner mask support surface, an outer mask support surface for supporting the outer mask, and an outer mask support surface disposed under the outer mask support surface to access and access the outer mask support surface. Magnets for internal masks, with magnets for internal masks that can be spaced apart The internal mask and the magnet for fixing the internal mask are fixedly held at a predetermined position by the magnetic force generated, and the external mask is fixed and held at the predetermined position by the magnetic force generated by the magnet for the external mask fixing, thereby fixing the substrate. It is held in position to separate the inner mask magnet and the outer mask magnet from the inner mask support surface and the outer mask support surface, respectively, thereby enabling movement of the inner mask, the inner mask fixing magnet and the outer mask. Doing.

또한, 상술한 기판의 교환 기구에 있어서는, 내부 마스크 받침면 및 외부 마스크 받침면은 동일 평면 내에 존재하는 것이 바람직하다. In the above-described substrate exchange mechanism, the inner mask receiving surface and the outer mask receiving surface are preferably in the same plane.

또한, 본 발명에 관한 제조 방법은 디스크형 기록 매체의 제조 방법이며, 대략 디스크형의 기판을 이용하여 기판 반송용 아암에 있어서의 마스크 보유 지지면에 대해 자력에 의해 기판의 표면 중앙부를 덮는 내부 마스크, 내부 마스크와 함께 기판을 협지하는 내부 마스크 고정용 마그네트 및 기판의 외주부를 덮는 외부 마스 크를 각각 고정, 보유 지지하는 동시에, 외부 마스크의 이면에 있어서 기판 표면의 소정 부위를 지지하여 내부 및 외부 마스크 및 기판을 보유 지지한 반송 아암에 있어서의 마스크 보유 지지면에 기판 홀더를 대향시키고, 기판 홀더로부터 내부 마스크, 내부 마스크 고정용 마그네트 및 외부 마스크에 대해 자력을 미치고, 반송 아암으로부터 내부 마스크, 내부 마스크 고정용 마그네트 및 외부 마스크에 미치는 자력의 저감을 행하고, 기판 홀더로부터 발하게 되는 자력에 의해 기판 홀더에 대해 외부 마스크 이면을 고정, 보유 지지하고, 이에 의해 외부 마스크와 기판 홀더에 의해 기판을 협지하여 기판, 내부 마스크, 내부 마스크 고정용 마그네트 및 외부 마스크를 보유 지지한 기판 홀더를 박막 형성 장치에 있어서의 박막 형성 위치로 반송하여 기판 상에 박막을 형성하는 것을 특징으로 하고 있다. Moreover, the manufacturing method which concerns on this invention is a manufacturing method of a disk-type recording medium, An internal mask which covers the surface center part of a board | substrate by magnetic force with respect to the mask holding surface in the board | substrate conveyance arm using a substantially disk-shaped board | substrate. The inner mask fixing magnet for holding the substrate together with the inner mask and an outer mask covering the outer circumference of the substrate, respectively, and holding a predetermined portion of the substrate surface on the rear surface of the outer mask so as to support the inner and outer masks. And opposing the substrate holder to the mask holding surface of the transfer arm holding the substrate, and exerting a magnetic force from the substrate holder to the inner mask, the magnet for fixing the inner mask, and the outer mask, and from the conveyance arm to the inner mask and the inner mask. To reduce the magnetic force on the fixing magnet and the external mask The external mask is fixed and held by the magnetic force generated from the substrate holder, thereby holding and holding the substrate by the outer mask and the substrate holder, thereby holding the substrate, the inner mask, the magnet for fixing the inner mask, and the outer mask. The board | substrate holder which hold | maintained this is conveyed to the thin film formation position in a thin film formation apparatus, and it forms a thin film on a board | substrate, It is characterized by the above-mentioned.

또한, 상술한 제조 방법에 있어서는 기판과, 상기 기판에 있어서의 성막면의 외주단부를 덮는 마스크를 마스크에 마련된 마스크 내 기판 고정 수단에 의해 일체화되고, 반송 아암으로부터 박막 형성 장치까지의 이송이 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 기판 홀더에는 내부 마스크 고정용 마그네트를 수용하는 대략 원통 형상의 오목부가 마련되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 대략 원통 형상의 오목부 바닥면에는 내부 마스크 고정용 마그네트를 흡입하는 작용을 갖는 다른 마그네트가 배치되어 있는 것이 바람직하다.In the above-described manufacturing method, the substrate and the mask covering the outer circumferential end of the film formation surface in the substrate are integrated by an in-mask substrate fixing means provided in the mask, and the transfer from the transfer arm to the thin film forming apparatus is performed. desirable. Moreover, it is preferable that the board | substrate holder is provided with the substantially cylindrical recessed part which accommodates the magnet for internal mask fixing. In addition, it is preferable that another magnet having a function of sucking the magnet for fixing the inner mask is disposed on the bottom of the substantially cylindrical concave.

도1은 본 발명에 관한 기판의 교환 기구에 관한 것으로, 기판 및 마스크를 보유 지지한 기판 홀더의 단면에 있어서의 개략 구성을 도시하는 도면이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the schematic structure in the cross section of the board | substrate holder holding a board | substrate and a mask which concerns on the board | substrate exchange mechanism which concerns on this invention.

도2는 본 발명에 관한 기판의 교환 기구로, 대기 중 반송 아암의 단면에 있어서의 개략 구성을 도시하는 도면이다. FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration in a cross section of a transport arm in the air, with a substrate exchange mechanism according to the present invention. FIG.

도3은 본 발명에 관한 기판의 교환의 방법을 나타내는 도면이다. 3 is a diagram showing a method of replacing a substrate according to the present invention.

도4는 본 발명에 관한 기판의 교환의 방법을 나타내는 도면이다.4 is a diagram showing a method of replacing a substrate according to the present invention.

도5는 본 발명에 관한 기판의 교환의 방법을 나타내는 도면이다. 5 is a diagram showing a method of replacing a substrate according to the present invention.

도6은 본 발명에 관한 기판의 교환의 방법을 나타내는 도면이다. 6 is a diagram showing a method of replacing a substrate according to the present invention.

도7은 대기측 반송 아암, 기판 등 공급 아암 등의 개략 구성을 도시하는 대략 단면도이다. Fig. 7 is a schematic cross sectional view showing a schematic configuration of a supply arm such as an atmospheric side transport arm, a substrate, and the like.

본 발명에 관한 기판 홀더 및 기반의 교환 기구 등에 대해 이하에 상세하게 서술한다. 상기 교환 기구에 의해 기판과 함께 보유 지지 가능하고 또한 스패터링 장치 등에 있어서 성막 중에 실제로 기판을 보유 지지하는 기판 홀더 및 상기 홀더에 의해 보유 지지된 기판, 외부 마스크, 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트의 대략 단면도를 도1에 도시한다. 또한, 기판을 보유 지지한 기판 홀더와 대략 정면으로 마주 대하여 상기 기판 홀더와의 사이에서 기판 및 마스크의 교환을 행하는 기판 교환 기구를 갖는 대기측 반송 아암의 대략 단면도를 도2에 도시한다. 또한, 이들 구성에 의해 기판의 교환이 행해지는 상태의 각 대략 단면도를 도3 내지 도6에 각각 도시한다. 또한, 대기측 반송 아암으로부터 기판, 외부 마스크, 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트를 기판 이동 탑재 스테이지 등으로 반송하는 기판 등 공급 아암과, 대기측 반송 아암과의 사이에 있어서의, 기판의 이동 탑재 상태를 도시하는 각각의 아암의 개략 단면을 도7에 도시한다. The substrate holder, base exchange mechanism, and the like according to the present invention will be described in detail below. Of the substrate holder which can be held together with the substrate by the exchange mechanism and which is actually held during film formation in a sputtering apparatus or the like, and the substrate held by the holder, the outer mask, the inner mask and the magnet for fixing the inner mask. A schematic cross section is shown in FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the atmospheric conveyance arm having a substrate exchange mechanism for exchanging a substrate and a mask between the substrate holder and the substrate holder holding the substrate approximately in front. 3 to 6 show respective cross-sectional views of the state in which the substrates are replaced by these configurations. In addition, the movement mounting of the substrate between the supply arm such as a substrate for transporting the substrate, the outer mask, the inner mask, and the magnet for fixing the inner mask to the substrate movement mounting stage and the like from the atmospheric side transport arm and the atmospheric side transport arm. A schematic cross section of each arm showing the state is shown in FIG.

본 발명에 있어서 이용되는 기판(10)은 대략 원판형의 형상으로 이루어지고, 성막면의 중앙부에 제1 돌기부(9)가, 또한 성막면의 이면 중앙부에 제2 돌기부(11)가 형성되어 있다. 상기 돌기부는 기판 중심과 그 축심이 일치한 대략 원주 형상을 갖고 있다. 스패터링 장치에 있어서의 도시되지 않은 진공측 반송 아암 등에 의해 보유 지지되는 기판 홀더(21)는 기판 이면에 대응하는 대략 환형의 기판 받침부(22), 그 외주에 배치되어 기판 받침부보다 오목하게 들어간 배치로 된 외부 마스크 받침부(26) 및 내부 마스크 고정용 마그네트(24)를 수용하기 위해 기판 홀더 중앙부에 마련된 오목부(23)로 구성된다. The board | substrate 10 used in this invention is formed in substantially disk shape, The 1st protrusion part 9 is formed in the center part of film-forming surface, and the 2nd protrusion part 11 is formed in the center part of the back surface of film-forming surface. . The protrusion has a substantially cylindrical shape in which the center of the substrate coincides with the axis of the substrate. The substrate holder 21 held by the vacuum side conveyance arm etc. which are not shown in the sputtering apparatus is arrange | positioned in the substantially annular board | substrate support part 22 corresponding to the back surface of the board | substrate, and the outer periphery, and concave rather than a board | substrate support part. It consists of the recessed part 23 provided in the center part of a board | substrate holder for accommodating the outer mask support part 26 and the inner mask fixing magnet 24 in a recessed arrangement.

내부 마스크 고정용 마그네트(24)는 기판 이면측에 개구(24a)를 갖고, 또한 그 반대측에 바닥부(24b)를 갖는 원통 형상으로 이루어진다. 상기 마그네트(24)는 이 개구(24a)에 대해 기판 이면의 제2 돌기부(11)가 삽입되도록 상기 개구(24a)단부를 기판 이면측을 향해 배치된다. 또한, 바닥부(24b)는 마그네트(24)의 원통부의 외경보다 직경이 큰 플랜지를 형성하고 있다. 상기 플랜지를 후술하는 마그네트 고정용 척에 의해 파지함으로써, 이 내부 마스크 고정용 마그네트(24)를 독립하여 이동 탑재하는 것이 가능해진다. The inner mask fixing magnet 24 has a cylindrical shape having an opening 24a on the back side of the substrate and a bottom portion 24b on the opposite side thereof. The magnet 24 is disposed at the end of the opening 24a toward the substrate back side such that the second protrusion 11 on the back surface of the substrate is inserted with respect to the opening 24a. Moreover, the bottom part 24b forms the flange whose diameter is larger than the outer diameter of the cylindrical part of the magnet 24. As shown in FIG. By holding the said flange by the magnet fixing chuck mentioned later, it becomes possible to move and mount this internal mask fixing magnet 24 independently.

내부 마스크(18)는 단부에 근접함에 따라서 기판(10) 표면과 밀착하는 면으로부터의 높이가 줄어드는 대략 원판 형상을 갖고 있고, 기판(10)과의 밀착면의 중앙에 있어서 기판 표면의 제1 돌기부(9)를 수용하는 수용 오목부(19)가 마련되어 있다. 상기 수용 오목부(19)에 제1 돌기부(9)가 끼워 넣어짐으로써 기판(10)과 내 부 마스크의 위치 맞춤이 행해진다. 내부 마스크(18)는 자성 재료로 구성되어 있고, 내부 마스크 고정용 마그네트(24)와 함께 기판의 표리로부터 이을 협지함으로써 기판(10)에 있어서의 소정 위치에 고정되게 된다. 이상과 같이 내부 마스크(18)가 기판(10) 표면의 중앙부를 덮음으로써 스패터링 중에, 기판(10)에 중앙부에 대한 열에너지의 입사를 방지하여 열팽창의 저감을 도모하는 것이 가능해진다.The inner mask 18 has a substantially disc shape in which the height from the surface in close contact with the surface of the substrate 10 decreases as it approaches the end, and has a first protrusion on the surface of the substrate at the center of the contact surface with the substrate 10. An accommodating recess 19 for accommodating 9 is provided. Positioning of the substrate 10 and the internal mask is performed by fitting the first protrusion 9 into the accommodation recess 19. The inner mask 18 is made of a magnetic material, and is fixed to a predetermined position on the substrate 10 by sandwiching it from the front and back of the substrate together with the inner mask fixing magnet 24. As described above, the inner mask 18 covers the center portion of the surface of the substrate 10 to prevent incidence of thermal energy on the center portion during the sputtering, thereby reducing thermal expansion.

또한, 도1에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서는 기판(10)과 내부 마스크 고정용 마그네트(24)의 상대적인 위치 관계를 일정하게 하기 위해 기판 이면에 있어서의 제2 돌기부(9)의 주위에 내부 마스크 고정용 마그네트(24)의 기판측 단부가 끼워 넣어지는 환형 홈(12)이 마련되어 있다. 즉, 내부 마스크 고정용 마그네트(24)의 높이는, 내부 마스크 고정용 마그네트(24)의 기판측 단부가 이 환형 홈(12)에는 끼워 넣어지고 또한 기판 홀더(21)에 마련된 오목부(23)의 바닥면에 도달하지 않도록 조절되어 있다. In addition, as shown in FIG. 1, in this embodiment, in order to make the relative positional relationship of the board | substrate 10 and the internal mask fixing magnet 24 constant, the circumference | surroundings of the 2nd protrusion part 9 on the back surface of a board | substrate are constant. An annular groove 12 into which the substrate side end of the internal mask fixing magnet 24 is fitted is provided. In other words, the height of the inner mask fixing magnet 24 is that the substrate-side end portion of the inner mask fixing magnet 24 is inserted into the annular groove 12 and the recess 23 provided in the substrate holder 21. It is adjusted to not reach the bottom.

또한, 이와 같은 구성으로 함으로써 기판 중앙의 두께가 감소되어 내부 마스크 고정용 마그네트(24)가 내부 마스크에 미치는 자력을 보다 강한 것으로 하고, 또한 기판(10)이 열변형되는 경우의 중앙부에서의 변형력을 작은 것으로 하는 효과를 얻을 수 있다. 그러나, 내부 마스크(18) 및 내부 마스크 고정용 마그네트(24)에 의해 열에너지의 입사를 충분히 억제하는 것이 가능해지고, 기판 중앙부의 휨의 발생을 확실하게 억제할 수 있는 것이면 이 환형 홈(12)은 특별히 마련하지 않아도 좋다. In this configuration, the thickness of the center of the substrate is reduced, so that the magnetic force applied to the internal mask by the magnet 24 for fixing the internal mask is made stronger, and the deformation force at the center part in the case where the substrate 10 is thermally deformed. A small effect can be obtained. However, as long as the inner mask 18 and the inner mask fixing magnet 24 can sufficiently suppress the incidence of thermal energy, the annular groove 12 is capable of reliably suppressing the occurrence of warpage in the center portion of the substrate. It is not necessary to prepare in particular.

외부 마스크(15)는 기판 외경보다 큰 내경을 갖는 링형의 외부 마스크 본체 (17)와, 그 한 쪽 단부면으로부터 내주측으로 돌출된 기판(10)의 외주단부를 덮기 위한 외부 마스크 플랜지부(16)를 갖고 있다. 또한, 외부 마스크 본체(17) 내부에는 기판(10)을 외부 마스크 플랜지부(16)에 의해 협지하고, 외부 마스크(15)에 대해 기판을 보유 지지, 고정하기 위한 기판 보유 지지 수단으로서 마스크 내 볼 플랜저(27)가 링 내주면을 향해 배치되어 있다. The outer mask 15 has a ring-shaped outer mask body 17 having an inner diameter larger than the outer diameter of the substrate, and an outer mask flange portion 16 for covering the outer circumferential end of the substrate 10 protruding from one end face to the inner circumferential side. Have In addition, a ball in the mask is provided inside the outer mask main body 17 as a substrate holding means for holding the substrate 10 by the outer mask flange 16 and holding and fixing the substrate with respect to the outer mask 15. The flanger 27 is arrange | positioned toward the ring inner peripheral surface.

상기 외부 마스크 플랜지부(16)는 이를 지지하는 외부 마스크 본체(17)와 기판(10)이 스패터링에 의한 성막시에 이상 방전을 일으키지 않는 충분한 간격을 두는 폭인 것을 필요로 한다. 또한, 성막시에 전계에 미치는 영향을 최대한 작게 하기 위해 그 내주단부에 근접함에 따라서 외부 마스크 본체(17)의 다른 쪽 단부면측으로 경사지도록 테이퍼부가 설치되어 있다. The outer mask flange portion 16 needs to have a width at which the outer mask main body 17 and the substrate 10 supporting the outer mask flange portion 16 have sufficient intervals so as not to cause abnormal discharge during film formation by sputtering. In order to minimize the influence on the electric field at the time of film formation, the taper portion is provided so as to be inclined toward the other end surface side of the outer mask body 17 as the inner peripheral end thereof is approached.

또한, 외부 마스크 플랜지부(16)의 내주단부는 기판(10)의 표면과의 사이에서 스패터링에 의한 성막시에 있어서의 이상 방전의 발생을 방지하기 위해 소정치 이하의 미소 간격을 두고, 또한 이들의 접촉을 피할 필요가 있다. 이로 인해, 외부 마스크 받침부(26)에 있어서 외부 마스크(15)를 지지할 때에 이들 요건을 만족시키도록 외부 마스크 본체(17)의 두께 및 외부 마스크 플랜지부(16)의 두께, 혹은 외부 마스크(15)의 지지 방법 등을 방전 조건에 따라서 정하는 것을 필요로 한다. 또한, 여기서 서술한 마스크 플랜지부의 형상에 관한 조건 등은 내부 마스크(18)의 외주단부에 대해서도 마찬가지로 적응된다. In addition, the inner circumferential end of the outer mask flange portion 16 has a minute spacing of less than or equal to a predetermined value in order to prevent occurrence of abnormal discharge during film formation by sputtering between the surface of the substrate 10 and It is necessary to avoid these contacts. For this reason, the thickness of the outer mask main body 17 and the thickness of the outer mask flange part 16, or the outer mask (s) are satisfied so as to satisfy these requirements when supporting the outer mask 15 in the outer mask support part 26. It is necessary to determine the supporting method of 15) according to the discharge conditions. In addition, the conditions regarding the shape of the mask flange part described here are similarly adapted to the outer peripheral end of the inner mask 18.

또한, 마스크 내 기판 고정 수단인 마스크 내 볼 플랜저(27)는 마스크 내 스프링(28)에 의해 기판(10)을 외부 마스크(15)에 대해 그 중심을 일치시키도록 압박 한다. 마스크 내 볼 플랜저(27)는 동시에 외부 마스크 플랜지부(16)에 의해 기판(10)의 단부를 협지하고, 이에 의해 외부 마스크(15)와 기판(10)의 상대적인 위치 관계를 항상 일정한 것으로 하고 있다. In addition, the in-mask ball flanger 27, which is a substrate fixing means in the mask, presses the substrate 10 to the center of the outer mask 15 by the spring 28 in the mask. The ball flanger 27 in the mask simultaneously sandwiches the end of the substrate 10 by the outer mask flange portion 16, whereby the relative positional relationship between the outer mask 15 and the substrate 10 is always constant. .

본 실시 형태에 있어서는 외부 마스크 받침부(26)에 위치된 외부 마스크 고정용 마그네트(도시되지 않음)가 발하는 자력에 의해 외부 마스크 받침부(26)에 밀착하여 외부 마스크(15)는 고정, 보유 지지된다. 기판(10) 이면은 상기 마그네트에 의해 외부 마스크(15)가 기판 홀더(21)에 밀착함으로써 기판 받침부(22)로서 형성된 대략 환형의 평탄면에 밀착하여 보유 지지된다. 또한, 외부 마스크 받침부(26)에는 그 외주 근방에 있어서, 정밀하게 평면도가 유지된 영역이 형성되어 있다. 상기 영역은 다른 부분으로부터 외부 마스크(15)측으로 약간 돌출된 외부 마스크 받침면(26a)으로서 형성되어 있고, 상기 외부 마스크 받침면(26a)이 실제로 외부 마스크(15)를 지지하게 된다. 상기 구조로 함으로써, 고정밀도의 가공이 요구되는 부분을 적게 하면서 외부 마스크(15)를 정밀도 좋게 보유 지지하는 것이 가능해진다.In the present embodiment, the outer mask 15 is fixed and held in close contact with the outer mask support 26 by a magnetic force generated by an external mask fixing magnet (not shown) located in the outer mask support 26. do. The back surface of the substrate 10 is held in close contact with a substantially annular flat surface formed as the substrate support portion 22 by the outer mask 15 being in close contact with the substrate holder 21 by the magnet. Moreover, the area | region in which the top view was precisely maintained is formed in the outer mask support part 26 near the outer periphery. The region is formed as an outer mask support surface 26a which protrudes slightly toward the outer mask 15 from another portion, and the outer mask support surface 26a actually supports the outer mask 15. With the above structure, it is possible to hold the outer mask 15 with high accuracy while reducing the portion requiring high precision processing.

도2에 도시한 바와 같이, 기판의 교환 기구인 대기측 반송 아암(30)은 대략 평탄한 마스크 받침면(33), 이 마스크 받침면 하부에 배치된 마스크 받침면에 대해 이동 가능한 외부 마스크용 및 내부 마스크용 마그네트(35, 37), 이들 마그네트를 마스크 받침면(33)에 대해 접근 및 이격시켜 얻기 위한 외부 마스크용 및 내부 마스크용 에어 실린더(36, 38)를 갖고 있다. 또한, 본 실시예에 있어서는, 내부 마스크(18) 및 외부 마스크(15)는 기판(10)과 일체가 된 상태에서 그 상단부면(기판 홀더측과는 반대측의 면)이 동일 평면 상의 존재하는 구성으로 하고 있다. 따라서, 마스크 받침면(33)은 대략 평면형으로 유지됨으로써 기판 등을 안정적으로 보유 지지하는 것이 가능해진다.As shown in Fig. 2, the atmospheric conveyance arm 30, which is an exchange mechanism of the substrate, has an approximately flat mask support surface 33, which is movable for an outer mask and an inner surface of the mask support surface disposed below the mask support surface. The mask magnets 35 and 37 and the air masks 36 and 38 for outer masks and inner masks for obtaining these magnets near and away from the mask support surface 33 are provided. In the present embodiment, the inner mask 18 and the outer mask 15 are configured such that their upper end surfaces (surfaces opposite to the substrate holder side) are coplanar in a state of being integrated with the substrate 10. I am doing it. Therefore, the mask support surface 33 is kept substantially planar, and can hold | maintain a board | substrate etc. stably.

내부 마스크용 마그네트(35)는 마스크 받침면(33)의 대략 중앙부에 따른 위치에 배치되고, 외부 마스크용 마그네트(37)는 내부 마스크용 마그네트(35)를 중심으로 하여 대략 링 형상의 외부 마스크(15)의 마스크 본체부(17)와 대략 대응하는 위치에 배치된다. 또한, 외부 마스크용 마그네트(37)는 내부 마스크용 마그네트(35)를 중심으로 하여 대칭이 되는 위치에 한 쌍 설치하거나, 방사형으로 복수 설치하거나, 혹은 대략 환형이 되는 배치로 설치하는 등 다양한 배치로 하는 것이 가능하다. The inner mask magnet 35 is disposed at a position along an approximately center portion of the mask support surface 33, and the outer mask magnet 37 has a ring-shaped outer mask centered on the inner mask magnet 35. It is arrange | positioned in the position substantially corresponded with the mask main-body part 17 of 15). In addition, the outer mask magnet 37 is provided in a variety of arrangements, such as a pair installed at a position symmetrical with respect to the inner mask magnet 35, a plurality of radial installations, or a substantially annular arrangement. It is possible to do

대기측 반송 아암(30)에 보유 지지된 기판(10)을 기반 홀더(21)에 대해 교환할 때의 동작에 대해 이하에 서술한다. 또한, 본 발명에 있어서의 기판(10)의 이송에 있어서, 기판(10)과 마스크(15)는 마스크 내 볼 플랜저(27)의 작용에 의해 위치적 관계가 정해져 항상 일체적으로 그 이송이 행해진다. 또한, 내부 마스크 고정용 마그네트(24) 및 내부 마스크(18)는 미리 기판(10)의 소정 위치에 있어서 이를 협지하여 배치되어 있고, 이들도 기판(10)과 일체적으로 그 이송이 행해진다. 우선 도3에 도시한 바와 같이, 기판 등을 보유 지지하지 않는 기판 홀더(21)와, 마그네트(35)의 작용에 의해 마스크 보유 지지부(33)에 있어서 마스크(15)를 보유 지지한 대기측 반송 아암(30)이 정면으로 마주 대한다. 또한, 도면의 이해를 쉽게 하기 위해 기판 홀더를 지지하고 또한 이를 진공 장치 내로 반송하는 진공 반송 아 암에 대해서는 생략하는 것으로 한다. The operation | movement at the time of replacing | exchanging the board | substrate 10 hold | maintained by the atmospheric side conveyance arm 30 with respect to the base holder 21 is demonstrated below. In the transfer of the substrate 10 in the present invention, the positional relationship is determined between the substrate 10 and the mask 15 by the action of the ball flanger 27 in the mask, and the transfer is always performed integrally. All. In addition, the internal mask fixing magnet 24 and the internal mask 18 are arranged so as to be sandwiched at a predetermined position of the substrate 10 in advance, and these are also integrated with the substrate 10. First, as shown in FIG. 3, the atmospheric conveyance which hold | maintained the mask 15 in the mask holding | maintenance part 33 by the action | action of the board | substrate holder 21 which does not hold a board | substrate etc., and the magnet 35. FIG. Arms 30 face to face. In addition, the vacuum conveyance arm which supports a board | substrate holder and conveys it into a vacuum apparatus is abbreviate | omitted for easy understanding of drawing.

이 상태에서 대기측 반송 아암(30)은 기판 홀더(21)에 근접하여 소정 간격이 된 상태에서 정지한다. 이 상태를 도4에 도시한다. 그 때, 기판(10)의 이면 중앙부에 배치되어 있는 내부 마스크 고정용 마그네트(24)는 기판 홀더(21)에 있어서의 중앙의 오목부(23)에 삽입되고, 내부 마스크 고정용 마그네트(24)의 단부가 오목부(23)에는 끼워 넣어진 상태가 된다. In this state, the atmospheric | carrier side conveyance arm 30 stops in the state which became predetermined distance close to the substrate holder 21. As shown in FIG. This state is shown in FIG. In that case, the internal mask fixing magnet 24 arrange | positioned at the center part of the back surface of the board | substrate 10 is inserted in the recessed part 23 of the center in the board | substrate holder 21, and the internal mask fixing magnet 24 is carried out. The end portion of is in a state of being fitted into the recess 23.

이 상태에 있어서도 도시되지 않은 외부 마스크 고정용 마그네트로부터 외부 마스크(15)에 미치는 자력은 작용하고 있다. 그러나, 대기측 반송 아암(30)에 있어서의 외부 마스크용 마그네트(37)가 외부 마스크(15)에 미치는 자력이 그것들보다 강하기 때문에, 외부 마스크(15)는 마스크 받침면(33)에 보유 지지된 상태를 유지하고 있다. 또한, 내부 마스크용 마그네트(35)에 의해 내부 마스크(18) 및 내부 마스크 고정용 마그네트(24)도 마스크 받침면(33) 상에 고정, 보유 지지된 상태를 유지하고 있다. Also in this state, the magnetic force applied to the external mask 15 from the external mask fixing magnet which is not shown in figure acts. However, since the magnetic force exerted on the outer mask 15 by the magnet for outer mask 37 in the atmospheric conveyance arm 30 is stronger than those, the outer mask 15 is held on the mask support surface 33. Maintaining state In addition, the inner mask 18 and the inner mask fixing magnet 24 are also fixed and held on the mask support surface 33 by the inner mask magnet 35.

계속해서, 도5에 도시한 바와 같이 내부 마스크용 및 외부 마스크용 에어 실린더(36, 38)에 의해 내부 마스크용 마그네트(35) 및 외부 마스크용 마그네트(37)가 대략 동시에 각각 기판 받침면(33)으로부터 이격된다. 이 조작에 의해 내부 마스크용 및 외부 마스크용 마그네트(35, 37)가 내부 마스크(18) 및 외부 마스크(15) 각각에 미치는 자력이 감소된다. 이 상태에서 외부 마스크(15)는 기판 홀더(21)에 있어서의 도시되지 않은 외부 마스크 고정용 마그네트로부터 미치는 자력에 의해 그 보유 지지 상태가 유지되고, 내부 마스크(18) 및 내부 마스크 고정용 마그네트 (24)는 기판을 협지한 상태가 유지되게 된다. Subsequently, as shown in FIG. 5, the inner mask magnet 35 and the outer mask magnet 37 are substantially simultaneously provided with the substrate support surface 33 by the inner mask and outer mask air cylinders 36 and 38, respectively. Spaced apart). This operation reduces the magnetic force applied to the inner mask 18 and the outer mask 15 by the magnets 35 and 37 for the inner mask and the outer mask, respectively. In this state, the outer mask 15 is held in a holding state by a magnetic force applied from an outer mask fixing magnet not shown in the substrate holder 21, and the inner mask 18 and the inner mask fixing magnet ( 24) the state which pinched the board | substrate is maintained.

도시되지 않은 외부 마스크 고정용 마그네트는 대기측 반송 아암(30)의 외부 마스크용 마그네트(37)와 대략 대응하는 위치에 배치되고, 내부 마스크는 복수 배치된 외부 마스크 고정용 마그네트로부터의 자력이 대략 균등하게 미치는 장소에 배치되어 있다. 이로 인해, 대기측 반송 아암(30)으로부터 미치는 자력에 의해 보유 지지되어 있던 내부 및 외부 마스크(15, 18)가 기판 홀더(21)측으로부터 미치는 자력에 의해 보유 지지되게 되어도 그 보유 지지 위치, 자세 등은 기본적으로 변화되지 않는다. The outer mask fixing magnet (not shown) is disposed at a position substantially corresponding to the outer mask magnet 37 of the atmospheric transfer arm 30, and the inner mask is substantially equal in magnetic force from the outer mask fixing magnets in which a plurality of inner masks are arranged. It is placed in a mad place. For this reason, even if the inner and outer masks 15 and 18 held by the magnetic force from the atmospheric conveyance arm 30 are held by the magnetic force from the substrate holder 21 side, the holding position and attitude The back is basically unchanged.

그 후, 도6에 도시한 바와 같이 대기측 반송 아암(30)은 퇴피하고, 기판(10) 및 마스크(15)를 보유 지지한 기판 홀더(21)는 도시되지 않은 진공측 반송 아암에 의해 스패터링 장치에 대해 반송되어 성막 프로세스가 실행된다. 성막 프로세스 종료 후, 성막이 완료된 기판(10)을 보유 지지한 기판 홀더(21)는 대기측 반송 아암(30)과 정면으로 마주 대하는 위치로 복귀되고, 상술한 기판(10)의 교환과는 반대의 순서에 의해 진공측 반송 아암으로부터 대기측 반송 아암(30)에의 기판(10) 등의 교환이 행해진다. Thereafter, as shown in FIG. 6, the atmospheric conveyance arm 30 is evacuated, and the substrate holder 21 holding the substrate 10 and the mask 15 is spade by a vacuum conveyance arm (not shown). It is conveyed with respect to a turing apparatus and a film-forming process is performed. After completion of the film formation process, the substrate holder 21 holding the film 10 on which the film formation was completed is returned to a position facing the front conveyance arm 30 in front, and is opposed to the exchange of the substrate 10 described above. The substrate 10 or the like is exchanged from the vacuum side transport arm to the atmospheric side transport arm 30 by the following procedure.

또한, 대기측 반송 아암(30)에 대한 기판(10) 등의 공급은 대기측 반송 아암(30)과 도시되지 않은 기판 이동 탑재 스테이지 사이에 배치된 기판 등 공급 아암(40)에 의해 행해진다. 본 발명에 있어서는 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트(24)가 기판에 대해 각각에 독립되어 공급될 필요가 있다. 따라서, 이 기판 등 공급 아암에 관해서도 내부 마스크 고정용 마그네트(24)에 대응 가능한 구성 으로 할 필요가 있다. 이하, 도7을 참조하여 기판 공급 아암에 관하여 상세하게 서술한다. In addition, supply of the board | substrate 10 etc. to the atmospheric side conveyance arm 30 is performed by the supply arm 40 etc. which are arrange | positioned between the atmospheric side conveyance arm 30 and the substrate movement mounting stage not shown. In the present invention, the inner mask and the inner mask fixing magnet 24 need to be supplied to the substrate independently of each other. Therefore, it is necessary to set it as the structure which can respond to the internal mask fixing magnet 24 also regarding supply arms, such as this board | substrate. Hereinafter, the substrate supply arm will be described in detail with reference to FIG.

도7은 기판(10), 외부 마스크(15), 내부 마스크(18) 및 내부 마스크 고정용 마그네트(24)를 기판 이동 탑재 스테이지 등으로 반송하는 기판 등 공급 아암(40)과, 대기측 반송 아암(30) 사이에 있어서의 기판(10)의 이동 탑재 상태를 도시하는 각각의 아암의 개략 단면을 도시하고 있다. 기판 등 공급 아암(40)은 대략 평탄한 공급 아암 내부 마스크 받침면(43), 이 공급 아암 내부 마스크 받침면의 하부에 배치된 마스크 받침면에 대해 이동 가능한 공급 아암 내외 마스크용 마그네트(47), 이들 마그네트를 마스크 받침면(43)에 대해 접근 및 이격시키기 위한 공급 아암 내 에어 실린더(48) 및 마스크 받침면(43)의 대략 중앙에 배치된 내부 마스크 고정용 마그네트를 파지 가능한 척(45)을 갖고 있다. Fig. 7 shows a supply arm 40 such as a substrate for transporting the substrate 10, the outer mask 15, the inner mask 18, and the magnet 24 for fixing the inner mask to a substrate movement mounting stage, and an atmospheric side transport arm. The schematic cross section of each arm which shows the movement mounting state of the board | substrate 10 between 30 is shown. The supply arm 40, such as a substrate, includes a substantially flat supply arm inner mask support surface 43, a supply magnet inner and outer mask magnets 47 that are movable relative to the mask support surface disposed below the supply arm inner mask support surface. With a chuck 45 capable of gripping an inner mask fixing magnet disposed approximately in the center of the air cylinder 48 and the mask support surface 43 in the supply arm for accessing and separating the magnet against the mask support surface 43. have.

즉, 척(45)은 마스크 받침면(33)의 대략 중앙부에 따른 위치에 배치되어 있다. 또한, 공급 아암 내외 마스크용 마그네트(47)는 척(45)을 중심으로 하여 대략 링 형상의 외부 마스크(15)의 마스크 본체부(17)와 대략 대응하는 위치에 배치된다. 또한, 외부 마스크용 마그네트(47)는 척(45)을 중심으로 하여 대칭이 되는 위치에 한 쌍 설치하거나, 방사형으로 복수 설치하거나, 혹은 대략 환형이 되는 배치에 설치하는 등 다양한 배치로 하는 것이 가능하다. That is, the chuck 45 is arrange | positioned in the position along the substantially center part of the mask base surface 33. In addition, the supply magnet inside and outside the mask magnet 47 is disposed at a position substantially corresponding to the mask body portion 17 of the substantially ring-shaped outer mask 15 about the chuck 45. In addition, the outer mask magnet 47 can be provided in a variety of arrangements, such as a pair provided at symmetrical positions about the chuck 45, a plurality of radial installations, or a substantially annular arrangement. Do.

척(45)은 도시되지 않은 구동 기구에 의해 내부 마스크 고정용 마그네트를 파지하기 위해 척 개폐 동작이 가능하게 되어 있다. 동시에, 공급 아암 내 에어 실린더(48) 혹은 공급 아암(40)의 대기측 반송 아암에 대한 이격 동작과는 독립되 어 대기측 반송 아암에 대한 접근 및 이격의 동작이 가능하게 되어 있다. 상기 구성에 의해, 공급 아암(40)을 이용하여 내부 마스크 고정용 마그네트(24) 단일 부재의 공급 및 제거의 조작이 가능해진다.The chuck 45 is capable of opening and closing the chuck in order to hold the magnet for fixing the inner mask by a driving mechanism (not shown). At the same time, independent of the separation operation with respect to the atmospheric conveyance arm of the air cylinder 48 or the supply arm 40 in the supply arm, the approach and separation operation with respect to the atmospheric conveyance arm is made possible. With the above configuration, the supply and removal operations of the single member of the magnet 24 for fixing the inner mask can be performed using the supply arm 40.

이상의 구성으로 이루어지는 기판 등 공급 아암(40)을 이용하여 대기측 반송 아암(30)에 대해 내부 마스크(18), 외부 마스크(15) 및 이것에 보유 지지된 상태의 기판(10), 내부 마스크 고정용 마그네트(24)의 순서로 대기측 반송 아암(40)에 대한 기판(10) 등의 공급이 행해진다. 또한, 기판(10) 등을 대기측 반송 아암(30)으로부터 제거하는 경우에는, 공급의 경우와 반대의 동작이 기판 등 공급 아암(40)에 의해 이루어지는 것이 된다. The internal mask 18, the external mask 15, and the substrate 10 in the state held by the internal mask 18 and the internal mask are fixed to the atmospheric side transport arm 30 by using the supply arm 40 such as a substrate having the above configuration. In the order of the magnet 24 for supply, the board | substrate 10 etc. are supplied to the atmospheric side conveyance arm 40. As shown in FIG. In addition, when removing the board | substrate 10 etc. from the atmospheric side conveyance arm 30, the operation | movement opposite to the case of a supply is performed by supply arms 40, such as a board | substrate.

이상의 구성의 채용에 의해, 중앙 구멍을 갖지 않는 기판을 이용해도 기판 홀더(21)에 대한 기판(10)의 탑재 및 이들에 대한 외부 마스크(15) 및 내부 마스크(18)의 설치를 용이하고 또한 확실하게 행하는 것이 가능해진다. 또한, 마스크 내주단부와 기판 표면의 간격을 소정치로 하는 것이 용이해져 이상 방전 등을 감소시키는 것도 가능해진다. By employing the above configuration, even when a substrate having no center hole is used, mounting of the substrate 10 to the substrate holder 21 and installation of the outer mask 15 and the inner mask 18 thereon are easy and easy. It becomes possible to perform reliably. Moreover, it becomes easy to make the space | interval of a mask inner peripheral part and a board | substrate surface into a predetermined value, and it becomes possible to reduce abnormal discharge etc.

또한, 본 실시 형태에 있어서는, 내부 마스크(18)는 단일의 자성체로 이루어지는 것으로 하고 있지만, 그 내부에 자성체를 수지 등에 의해 포함한 구성으로 해도 좋다. 또한, 내부 마스크(18) 및 외부 마스크(15)의 상단부면이 동일 평면 내에 존재하는 것으로 하고, 또한 마스크 받침면(33)을 평탄면으로 이루어지는 구성으로 하고 있다. 그러나, 예를 들어 마스크 받침면에 각각의 마스크에 따른 오목부를 마련하고, 여기서 마스크를 보유 지지함으로써 각 마스크의 위치 결정을 보다 확실한 것으로 하는 구성으로 해도 좋고, 또한 내부 마스크 및 외부 마스크의 상단부면을 다른 평면에 포함되는 것으로 하고, 마스크 받침면을 내부 마스크용 받침면과 외부 마스크용 받침면으로 구성하거나, 혹은 이들 마스크에 따른 오목부를 마련하는 것으로 해도 좋다. In addition, in this embodiment, although the internal mask 18 is comprised from a single magnetic body, you may make it the structure which included the magnetic body in resin inside etc. in it. In addition, the upper end surface of the inner mask 18 and the outer mask 15 exists in the same plane, and the mask support surface 33 is set as the flat surface. However, for example, a concave portion corresponding to each mask may be provided on the mask support surface, and the mask holding surface may be configured to make the positioning of each mask more reliable, and the upper end surfaces of the inner mask and the outer mask may be It is good also as what is contained in another plane, and the mask support surface may be comprised from the internal mask support surface and the external mask support surface, or you may provide the recessed part according to these masks.

또한, 각 도면 중 오목부(23)는 내부 마스크 고정용 마그네트의 외주보다 충분한 공간을 보유 지지하도록 형성되어 있다. 그러나, 성막시에 있어서의 기판의 온도 상승을 보다 효과적으로 방지하는 데 있어서, 이 공간은 최대한 작게 하고 기판 이면과 밀착하는 영역을 크게 하는 것이 바람직하다. 또한, 오목부의 바닥면에 마그네트를 더 배치함으로써 내부 마스크 고정용 마그네트, 또는 내부 마스크를 기판 홀더측으로 흡입하는 것으로 해도 좋다. 상기 구성으로 함으로써, 기판 중앙의 변형을 보다 효율적으로 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 본 실시 형태에 있어서는 마스크 받침면의 외주 근방에 평탄도가 확보된 영역을 형성하는 것으로 하고 있지만, 이 형성 위치는 전술한 외주 근방에 한정되지 않는다. 구체적인 가공의 편의 혹은 마스크를 지지하는 편의에 따라서 임의로 형성하거나, 혹은 형성하지 않는 것이 가능하다. In addition, in each figure, the recessed part 23 is formed so that it may hold enough space rather than the outer periphery of the magnet for fixing an internal mask. However, in order to prevent the temperature rise of the substrate at the time of film formation more effectively, it is preferable to make this space as small as possible and to increase the area in close contact with the back surface of the substrate. In addition, the magnet may be sucked to the substrate holder side by the magnet for fixing the internal mask or the internal mask by further disposing the magnet on the bottom surface of the recess. By setting it as the said structure, it becomes possible to suppress distortion of the center of a board | substrate more efficiently. In addition, in this embodiment, although the area | region where flatness was ensured is formed in the outer periphery vicinity of a mask base surface, this formation position is not limited to the outer periphery vicinity mentioned above. It is possible to form arbitrarily or not to form according to the convenience of a specific process, or the convenience of supporting a mask.

또한, 각 도면 중 대기측 반송 아암에 있어서의 내부 마스크용 마그네트와 외부 마스크용 마그네트의 외경은 동일한 치수로 설정되어 있다. 그러나, 각 위치에서 요구되는 자력에 따라서 이들 크기 혹은 종류는 적절하게 선택되는 것이 바람직하다. 또한, 에어 실린더의 구동 범위를 각각의 자석에 관해서 다르게 함으로써 필요한 자력의 조절을 행하는 것으로 해도 좋다. 또한, 본 실시예에 있어서는 취 급의 용이함 및 장치 구성의 단순함 등의 관점으로부터 이들 각 마그네트의 구동에는 2위치에만 제어하는 에어 실린더를 이용하는 것으로 하고 있다. 그러나, 예를 들어 마그네트의 정지 위치를 복수로 설정하여 자력을 단계적으로 조절할 필요가 있는 경우 등에 대해서는 복수의 정지 위치를 갖는 에어 실린더 혹은 스텝핑 모터 등의 구동 장치를 이용하는 것도 가능하다. In addition, in each figure, the outer diameter of the magnet for internal masks and the magnet for external masks in an atmospheric conveyance arm is set to the same dimension. However, it is preferable that these sizes or types are appropriately selected according to the magnetic force required at each position. It is also possible to adjust the required magnetic force by varying the driving range of the air cylinder with respect to each magnet. In this embodiment, from the viewpoint of ease of handling, simplicity of device configuration, and the like, an air cylinder controlling only two positions is used for driving each of these magnets. However, for example, when it is necessary to adjust the magnetic force step by step by setting a plurality of stop positions of the magnet, it is also possible to use a driving device such as an air cylinder or a stepping motor having a plurality of stop positions.

또한, 본 실시 형태에 있어서는 그 표면에도 돌기부를 갖는 기판을 이용하는 것으로 하고, 내부 마스크에도 이 돌기부에 따른 수용 오목부를 마련하는 것으로 하고 있다. 그러나, 기판 표면이 평탄한 경우에는 이들 오목부를 마련할 필요는 없다. 또한, 기판 중앙에, 예를 들어 위치 결정용 오목부가 마련되어 있는 경우에는, 마스크 이면에 이 오목부에 따른 돌기를 설치하여 위치 결정을 행하는 구성으로 해도 좋다. 또한, 내부 마스크 및 내부 마스크 고정용 마그네트의 고정을 정밀도 좋게 행하는 것이 가능하면, 이면에 돌기부를 갖지 않는 형상의 기판을 이용하는 것도 가능하다. In addition, in this embodiment, the board | substrate which has a protrusion part also in the surface is used, and the accommodating recessed part according to this protrusion part is also provided also in the inner mask. However, when the substrate surface is flat, it is not necessary to provide these recesses. In addition, when the recess for a positioning is provided in the center of a board | substrate, you may make it the structure which performs positioning by providing the processus | protrusion along this recessed part in the back surface of a mask. If the internal mask and the magnet for fixing the internal mask can be fixed with high accuracy, it is also possible to use a substrate having a shape having no projection on the back surface.

또한, 본 실시 형태에 있어서는 마스크 본체(17)에 설치된 마스크 내 볼 플랜저(27)의 작용 방향이 그 링 형상의 중심부가 되도록 균형있게 설치되어 있다. 그러나, 그 개수는 특별히 규정되지 않고, 링 형상의 대략 중앙에 기판(10)을 고정하고 또한 이를 지지하는 것이면 좋고, 예를 들어 1개의 볼 플랜저와 위치 결정용 돌기를 링 내주에 설치하는 것만으로도 좋다. 또한, 기판(10)의 고정, 보유 지지에 볼 플랜저를 이용하고 있지만, 같은 작용을 갖는 것이면, 상기 구성은 볼 플랜저로 한정되지 않는다. In addition, in this embodiment, it is provided in balance so that the acting direction of the ball flanger 27 in the mask provided in the mask main body 17 may become the center part of the ring shape. However, the number thereof is not particularly defined, and it is only necessary to fix the substrate 10 at the center of the ring shape and to support it. For example, only one ball plunger and a positioning projection are provided in the ring inner circumference. Also good. In addition, although the ball flanger is used for fixing and holding the board | substrate 10, if it has the same effect, the said structure is not limited to a ball flanger.

또한, 본 발명을 이용할 때에 대상이 되는 박막 형성 장치로서 스패터링 장치를 들 수 있었지만, 본 발명의 적응은 이에 한정되지 않고, 증착 장치, CVD 장치 등 다양한 박막 형성 장치에 대해 적응하는 것이 가능하다. 또한, 본 발명은 단순히 광디스크 등의 제조 방법으로서 이용될 뿐만 아니라, 중앙부의 제거 공정이 후에 실시되는 제품, 예를 들어 하드디스크 등 원판형의 부재 전체의 제조 공정에 대해서도 적응 가능하다. Moreover, although the sputtering apparatus was mentioned as a thin film forming apparatus used as an object at the time of using this invention, adaptation of this invention is not limited to this, It is possible to adapt to various thin film forming apparatuses, such as a vapor deposition apparatus and a CVD apparatus. In addition, the present invention is not only used as a manufacturing method such as an optical disk, but can also be applied to a manufacturing process of a whole disc-shaped member such as a product, for example, a hard disk, in which a removal process at the center portion is performed later.

본 발명의 실시에 의해 중앙 구멍이 존재하지 않는 원판형 기판을 홀더에 대해 안정적으로 밀착시켜 보유 지지하는 것이 가능해진다. 이에 의해, 스핀 코팅법에 의한 성막 공정뿐만 아니라, 스패터링법에 의한 성막 공정에 있어서 중앙 구멍이 존재하지 않는 원판형 기판에 대해 박막 형성을 행하는 것이 가능해지고, 막두께, 막질의 균일성이 보다 높은 박막을 얻는 것이 가능해진다. According to the practice of the present invention, it is possible to stably hold and hold a disk-shaped substrate in which no center hole exists. This makes it possible to perform thin film formation not only on the film forming step by the spin coating method but also on the disk-shaped substrate having no central hole in the film forming step by the sputtering method, and the film thickness and film quality are more uniform. It becomes possible to obtain a high thin film.

또한, 본 발명의 실시에 의해 대기 중에 있어서 기판을 확실하게 보유 지지하고, 이송하여 스패터링 장치와의 기판의 수수 등을 안전하게 행하는 것이 가능해져 일련의 성막 공정의 자동화가 용이해진다. 또한, 기판과 내부 마스크 및 외부 마스크와의 상대적인 위치 관계를 고정한 후에 스패터링 장치에 대한 이들의 반입, 반출 등이 행해지므로, 마스크에 의한 이상 방전의 발생, 혹은 막두께 등의 분포에 대한 마스크의 영향 등의 발생을 쉽게 억제하는 것이 가능해진다.In addition, according to the practice of the present invention, it is possible to reliably hold the substrate in the air, to transfer it, and to safely carry out the substrate and the like with the sputtering apparatus, thereby facilitating the automation of a series of film forming processes. In addition, since the relative positional relationship between the substrate, the inner mask, and the outer mask is fixed, their loading and unloading to the sputtering device is performed. Therefore, the mask for the occurrence of abnormal discharge by the mask or distribution of the film thickness, etc. It is possible to easily suppress the occurrence of influences and the like.

Claims

A disc-shaped substrate is replaced with a substrate holder with an inner mask having a magnet for covering a surface center portion of the substrate and an outer mask having a magnet for covering a surface outer peripheral portion of the substrate,

At a predetermined position on the mask holding surface of the transfer arm, the surfaces of the inner mask and the outer mask are fixed and held by applying a magnetic force to the inner mask and the outer mask, and the mask holding surface Load the substrate against the inner mask and the outer mask held on the substrate,

An inner mask fixing magnet is disposed at an approximately center portion of the rear surface of the substrate, and the inner mask and the inner mask fixing magnet are fixed to the substrate;

The substrate holder is opposed to the mask holding surface of the transfer arm holding the inner mask fixing magnet, the inner mask and outer mask, and the substrate;

When the magnet for fixing the inner mask is inserted into the recess provided in the center of the substrate holder, the magnet is provided to the outer mask by the magnet installed in the substrate holder at about the same time.

The magnetic force applied from the conveyance arm to the external mask is reduced,

And holding the back surface of the outer mask with respect to the holder by a magnetic force exerted from the substrate holder, thereby replacing the substrate with the substrate holder.

2. The substrate according to claim 1, wherein the substrate is fixed to the outer mask by an in-mask substrate fixing means provided in the outer mask, and the exchange of the substrate is performed integrally with the substrate and the outer mask. Board exchange method.

2. The method of claim 1, wherein the magnet provided in the substrate holder is disposed at a substantially central portion of the substrate holder and a portion thereof around and positioned substantially corresponding to the outer mask.

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It is a board | substrate holder holding a said outer mask which covers the said board | substrate and the surface outer periphery of the said board | substrate when forming a film on the surface of a substantially disk-shaped board | substrate,

A substantially annular substrate support portion along the back surface of the substrate,

A substantially cylindrical recess provided in a central portion of the substrate support surface;

It has an outer mask support surface recessed more than the said board support surface provided around the said board support surface,

And a magnet for fixing an inner mask fixed to the substrate by sandwiching the substrate with an inner mask having a magnet covering the surface center portion of the substrate.

The substrate holder according to claim 5, wherein a magnet is arranged on a bottom surface of the substantially cylindrical concave portion.

Holding a substantially disc-shaped substrate, an outer mask covering the outer periphery of the substrate, an inner mask covering the central portion of the substrate, and an inner mask fixing magnet for holding the substrate together with the inner mask, wherein the substrate, the inner mask, It is a board exchange mechanism which moves and mounts the magnet for fixing an outer mask and an inner mask to another board | substrate holding mechanism,

An inner mask support surface for supporting the inner mask;

An inner mask magnet disposed under the inner mask support surface and accessible and spaced apart from the inner mask support surface;

A support surface for an outer mask for supporting the outer mask,

Is disposed below the outer mask support surface has a magnet for the inner mask that is accessible and spaced apart from the outer mask support surface,

The internal mask and the magnet for fixing the internal mask are fixedly held at a predetermined position by the magnetic force generated by the magnet for the internal mask, and the external mask is fixed at the predetermined position by the magnetic force generated by the external mask fixing magnet. Holding the substrate in a predetermined position so that the magnet for the inner mask and the magnet for the outer mask are spaced apart from each of the inner mask support surface and the outer mask support surface, thereby preventing the inner mask and the inner mask. A substrate exchange mechanism for enabling movement of a fixing magnet and an outer mask.

8. The substrate exchange mechanism of claim 7, wherein the inner mask support surface and the outer mask support surface are in the same plane.

It is a manufacturing method of a disk-shaped recording medium, using a substantially disk-shaped board | substrate

An inner mask that covers the center portion of the surface of the substrate by magnetic force with respect to the mask holding surface of the substrate carrying arm, an inner mask fixing magnet that holds the substrate together with the inner mask, and an outer mask that covers the outer peripheral portion of the substrate. While fixing and holding the respective parts, and supporting a predetermined portion of the surface of the substrate on the rear surface of the outer mask,

A substrate holder is opposed to the mask holding surface in the transfer arm holding the inner and outer masks and the substrate.

Magnetic force from the substrate holder against the inner mask, the inner mask fixing magnet and the outer mask,

From the conveyance arm, the magnetic force applied to the inner mask, the inner mask fixing magnet and the outer mask is reduced,

Fix and hold the outer mask back surface with respect to the substrate holder by magnetic force generated from the substrate holder, thereby holding the substrate by the outer mask and the substrate holder,

The substrate holder holding the substrate, the inner mask, the magnet for fixing the inner mask and the outer mask is conveyed to the thin film forming position in the thin film forming apparatus,

A method of manufacturing a disc-shaped recording medium, wherein a thin film is formed on the substrate.

The said board | substrate and the mask which covers the outer peripheral end of the film-forming surface in the said board | substrate are integrated by the in-mask substrate fixing means provided in the said mask, and the transfer from the said transfer arm to the said thin film formation apparatus is performed. A method of manufacturing a disk-type recording medium, characterized in that the.

10. The method of manufacturing a disc-shaped recording medium according to claim 9, wherein the substrate holder is provided with a substantially cylindrical recess for accommodating the magnet for fixing the inner mask.

12. The method of manufacturing a disc-shaped recording medium according to claim 11, wherein a magnet having a function of sucking the magnet for fixing the inner mask is further disposed on the bottom surface of the substantially cylindrical recess.