KR100675276B1 - Gas Supplying Apparatus for Semiconductive Manufacturing Equipment - Google Patents

Gas Supplying Apparatus for Semiconductive Manufacturing Equipment Download PDF

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Abstract

개시된 반도체 제조설비용 가스공급장치는 반응실을 갖는 적어도 하나의 챔버를 포함하는 반도체 제조설비에 있어서, TMA등의 반응가스를 공급하기 위해 설치된 공급라인과, 공급라인과 착탈식으로 설치되는 케이스와, 케이스 내에 설치되어 공급라인과 연결되되, 4000cc이상 용량의 반응가스가 저장되고, 반응가스를 단속하는 밸브가 설치된 적어도 하나의 가스공급용기 및 가스공급용기내에 저장된 상기 반응가스의 누설을 감지하여 공정을 중단하는 안전장치를 구비한다.The disclosed gas supply apparatus for semiconductor manufacturing equipment includes: a semiconductor manufacturing equipment including at least one chamber having a reaction chamber, a supply line installed to supply a reactive gas such as a TMA, a case installed detachably from the supply line, Installed in the case and connected to the supply line, the reaction gas of the capacity of more than 4000cc is stored, and at least one gas supply vessel and the reaction gas stored in the gas supply vessel with a valve is installed to control the reaction gas to detect the process Have a safety device to stop.

TMA, 누설TMA, leakage

Description

반도체 제조설비용 가스공급장치{Gas Supplying Apparatus for Semiconductive Manufacturing Equipment}Gas Supplying Apparatus for Semiconductive Manufacturing Equipment

도 1은 종래의 화학기상증착장치를 보여주는 개략도,1 is a schematic view showing a conventional chemical vapor deposition apparatus,

도 2는 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 보여주는 도면,2 shows a preferred embodiment according to the invention,

도 3은 도 2에 도시된 가스공급용기를 보여주는 도면,3 is a view showing a gas supply container shown in FIG.

도 4는 본 발명에 따른 가스공급장치의 작동을 보여주는 블럭도이다.Figure 4 is a block diagram showing the operation of the gas supply apparatus according to the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호설명 ><Explanation of Signs of Major Parts of Drawings>

100 : 챔버 200 : 가스공급장치100: chamber 200: gas supply device

210 : 가스공급용기 220 : 케이스210: gas supply container 220: case

230 : 제어부 240 : 수위감지기230: control unit 240: water level detector

300 : 제어부 410 : 경보기300: control unit 410: alarm

450 : 교체알림경보기 470 : 밸브구동부450: replacement alarm alarm 470: valve drive unit

600 : 안전장치 700 : 교체알림장치600: safety device 700: replacement notification device

본 발명은 반도체 제조설비용 가스공급장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게 는 유전막형성장치의 챔버로 반응가스공급시, 가스저장용량을 충분히 갖는 가스공급용기를 별도로 설치하고, 그에 따른 가스누설을 감지하는 누설감지기가 설치된 반도체 제조설비용 가스공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply device for semiconductor manufacturing equipment, and more particularly, when a reaction gas is supplied to a chamber of a dielectric film forming apparatus, a gas supply container having sufficient gas storage capacity is separately installed, and gas leakage is detected accordingly. The present invention relates to a gas supply device for semiconductor manufacturing equipment provided with a leak detector.

일반적으로, 유전막형성장치를 사용하여 웨이퍼 상에 유전체막을 형성하기 위한 공정에서, 산화막을 형성하기 위해 Al2O3 와, O3를 공급받아 공정을 진행하게 된다.In general, in a process for forming a dielectric film on a wafer using a dielectric film forming apparatus, Al 2 O 3 and O 3 are supplied to process an oxide film to form an oxide film.

도 1은 상기와 같은 산화막을 형성하기 위한 CVD(Chemical Vapor Deposition)장치등의 종래의 반도체 제조설비를 보여주고 있다.1 shows a conventional semiconductor manufacturing equipment such as a chemical vapor deposition (CVD) apparatus for forming an oxide film as described above.

도 1을 참조 하면, 다수개의 챔버(100)가 형성되고, 각 챔버(100)에는 소정의 반응가스와 반응하기 위한 반응실(110)과, 반응실(110)과 다수개의 공급라인(152)으로 연결되어 반응가스를 공급하는 착탈식의 가스공급용기(150)가 설치된다.Referring to FIG. 1, a plurality of chambers 100 are formed, and each chamber 100 includes a reaction chamber 110 for reacting with a predetermined reaction gas, a reaction chamber 110, and a plurality of supply lines 152. Removable gas supply vessel 150 is connected to supply the reaction gas is installed.

통상, 챔버(100) 내부공간에 놓이는 웨이퍼(미도시) 표면에 유전체막을 형성하기 위해서, 반응실로 소스 반응가스인 TMA(TriMethylAluminum) 또는 TEA(TriEthylAluminum)와 산소를 포함하는 오존(O3)등과 같은 반응기체를 반응실(110) 내부로 공급하여 반응시킨뒤, 웨이퍼 상에 분사함으로써 유전체막이 형성된다.In general, in order to form a dielectric film on the surface of a wafer (not shown) placed in the inner space of the chamber 100, a source reaction gas, such as TMA (TriMethylAluminum) or TEA (TriEthylAluminum) and ozone (O 3 ) containing oxygen, etc., is used as the reaction chamber. After supplying the reactant to the reaction chamber 110 and reacting, the dielectric film is formed by spraying on the wafer.

이때, 소스반응가스의 가스공급용기(150)는 각각의 챔버(100) 내부에 착탈식으로 설치되기 때문에 용량의 제한이 따른다.At this time, since the gas supply vessel 150 of the source reaction gas is detachably installed in each chamber 100, the capacity is limited.

통상적으로, 1000cc정도의 용량을 갖는 가스공급용기(150)가 설치되며, 또 한, 오존등의 반응기체도 상기와 마찬가지로 공급된다.Typically, a gas supply container 150 having a capacity of about 1000 cc is provided, and a reactor body such as ozone is also supplied in the same manner as above.

여기서, 상기 가스공급용기(150)는 반응가스의 저장용량이 적은 이유로 공정진행시 잦은 교체 작업이 이루어지는 문제점이 있었다.Here, the gas supply container 150 has a problem that frequent replacement work is performed during the process due to the low storage capacity of the reaction gas.

또한, 새로운 가스공급용기(150)를 반응실(110)과 연결 설치시, 정확히 결합이 되지 않으면, 공급라인(152) 또는 밸브(151)부분등에서 미량의 반응가스가 누설될 수 있고, 그에 따라 상기의 TMA등의 인화성을 갖는 반응가스가 공기에 노출되면 화재가 발생하는 문제점이 있었다.In addition, when the new gas supply container 150 is connected to the reaction chamber 110 and is not correctly coupled, a small amount of reaction gas may leak from the supply line 152 or the valve 151, and thus, When the reaction gas having flammability such as TMA is exposed to air, a fire occurs.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로써, 본 발명의 제 1목적은 챔버로의 반응가스공급시 가스공급용기를 복수개로 구비한 가스공급장치를 챔버외부로 착탈이 가능하도록 설치하여 충분한 양의 반응가스를 저장하도록 하며,Therefore, the present invention has been made to solve the above problems, the first object of the present invention can be attached and detached to the outside of the chamber of the gas supply device having a plurality of gas supply container when supplying the reaction gas to the chamber. Installed in order to store a sufficient amount of reaction gas,

제 2목적은 상기 가스공급장치 내에 상기 가스공급용기의 공급라인 및 밸브부분등에서 가스 누설을 감지하도록 누설감지기를 설치하여 화재를 방지할 수 있는 반도체 제조설비의 가스공급장치를 제공하는데 있다.A second object of the present invention is to provide a gas supply apparatus of a semiconductor manufacturing facility which can prevent a fire by installing a leak detector in the gas supply apparatus to detect gas leakage in a supply line and a valve portion of the gas supply vessel.

본 발명의 반도체 제조설비용 가스공급장치는 반응실을 갖는 적어도 하나의 챔버를 포함하는 반도체 제조설비에 있어서, 상기 반응실로 소정의 반응가스를 공급하기 위해 설치된 공급라인과; 상기 공급라인과 착탈식으로 설치되되, 상기 챔버 외부에 설치되는 케이스; 및 상기 케이스 내에 설치되어 상기 공급라인과 연결되 되, 소정 용량의 상기 반응가스가 저장되고, 상기 반응가스를 단속하는 밸브가 설치된 가스공급용기를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a gas supply apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus, comprising: a supply line provided to supply a predetermined reaction gas to the reaction chamber; A case installed detachably with the supply line and installed outside the chamber; And a gas supply container installed in the case and connected to the supply line, in which the reaction gas having a predetermined capacity is stored, and a valve for controlling the reaction gas is installed.

여기서, 상기 케이스 내부에는 상기 케이스 내에 설치되어 상기 반응가스를 감지하는 누설감지기와, 상기 누설감지기로 부터 소정의 신호를 전달받아 공정을 중지시키는 제어부로 구성되는 안전장치가 추가로 설치되는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that a safety device is installed in the case and is further provided with a leakage detector installed in the case and detecting the reaction gas, and a controller for stopping a process by receiving a predetermined signal from the leak detector. .

그리고, 상기 안전장치에는 상기 제어부를 통해 공정이 중단될 경우, 상기 제어부로 부터 소정의 신호를 받아 알람을 발생시키는 경보기가 추가로 설치되는 것이 바람직하다.And, when the process is interrupted through the control unit, the safety device is preferably provided with an alarm for generating an alarm by receiving a predetermined signal from the control unit.

또한, 상기 케이스에는 상기 가스공급용기내에 설치되어 상기 가스공급용기내에 저장된 액체상태의 상기 반응가스의 양을 감지하는 수위감지기와, 상기 반응가스의 양이 소정의 양으로 줄어들 경우 상기 수위감지기로 부터 소정의 신호를 받는 제어부 및 상기 제어부로 부터 소정의 신호를 전달받아 상기 밸브를 닫는 밸브구동부로 구성되는 교체알림수단이 추가로 설치되는 것이 바람직하다.In addition, the case is installed in the gas supply vessel is a level sensor for detecting the amount of the reaction gas in the liquid state stored in the gas supply vessel, and when the amount of the reaction gas is reduced to a predetermined amount from the level sensor Preferably, a replacement notification means comprising a control unit receiving a predetermined signal and a valve driving unit receiving the predetermined signal from the control unit to close the valve.

그리고, 상기 교체알림수단은 상기 제어부로 부터 소정의 신호를 전달받아 상기 가스공급용기를 교체하기 위한 알람을 발생시키는 교체알림경보기가 추가로 설치된 것이 바람직하다.In addition, the replacement notification means is preferably provided with a replacement notification alarm for generating an alarm for replacing the gas supply container by receiving a predetermined signal from the control unit.

여기서, 상기 가스공급용기의 용량은 4000cc이상인 것이 바람직하다.Here, the capacity of the gas supply vessel is preferably 4000cc or more.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2를 참조하면, 본 발명의 반도체 제조설비용 가스공급장치는 반응실(110)을 갖는 적어도 하나의 챔버(100)를 포함하는 반도체 제조설비에 있어서, TMA등의 반응가스를 공급하기 위해 설치된 공급라인(212)과, 공급라인(212)과 착탈식으로 설치되는 케이스(220)와, 케이스(220) 내에 설치되어 공급라인(212)과 연결되되, 소정 용량의 반응가스가 저장되고, 공급라인(212)을 통해 공급되는 반응가스를 단속하는 밸브(211)가 설치된 가스공급용기(210) 및 가스공급용기(210)내에 저장된 상기 반응가스의 누설을 감지하여 공정을 중단하는 안전장치(600)를 포함한다.Referring to FIG. 2, a gas supply apparatus for a semiconductor manufacturing apparatus of the present invention is provided in a semiconductor manufacturing apparatus including at least one chamber 100 having a reaction chamber 110 to supply a reaction gas such as a TMA. Supply line 212, the case 220 is detachably installed with the supply line 212, and installed in the case 220 is connected to the supply line 212, the reaction gas of a predetermined capacity is stored, supply line Safety device 600 for stopping the process by detecting the leakage of the reaction gas stored in the gas supply container 210 and the gas supply container 210 is installed, the valve 211 to control the reaction gas supplied through 212 It includes.

도 4를 참조하면, 케이스(220)내부에는 케이스(220) 내부 소정 위치에 설치되어 상기 반응가스를 감지하는 누설감지기(230)와, 누설감지기(230)로부터 소정의 신호를 전달받는 제어부(300)로 구성되는 안전장치(600)가 추가로 설치된다.Referring to FIG. 4, the case 220 includes a leak detector 230 installed at a predetermined position inside the case 220 to detect the reaction gas, and a controller 300 receiving a predetermined signal from the leak detector 230. Safety device 600 is configured to be additionally installed.

그리고, 안전장치(600)에는 제어부(300)로 부터 소정의 신호를 전달받아 반응가스의 누설을 알리는 알람을 발생시키는 경보기(410)가 더 설치될 수도 있다.In addition, the safety device 600 may be further provided with an alarm 410 for receiving an alarm from the control unit 300 to generate an alarm indicating the leakage of the reaction gas.

도 3 및 도 4를 참조하면, 케이스(220)에는 가스공급용기(210)내에 저장된 액체상태의 반응가스의 양을 감지하기 위해 설치된 수위감지기(240)와, 반응가스의 양이 잔존량이 적을 경우 이를 감지한 상기 수위감지기(240)로 소정의 신호를 받는 제어부(300)와, 제어부(300)로 부터 소정의 신호를 전달받아 상기 가스공급용기(210)에 설치된 밸브(211)를 닫도록 하는 밸브구동부(470)와, 제어부(300)로 부터 소정의 신호를 전달받아 가스공급용기(210)의 교체시기를 알리는 알람을 발생시키는 교체알림경보기(450)로 구성된 교체알림장치(700)가 추가로 설치된다.3 and 4, the case 220 has a level sensor 240 installed to detect the amount of the reaction gas in the liquid state stored in the gas supply container 210, and the amount of the reaction gas is small. The control unit 300 receives a predetermined signal from the water level sensor 240 and the control unit 300 receives the predetermined signal to close the valve 211 installed in the gas supply container 210. Replacement notification device 700 consisting of a valve driving unit 470, a replacement notification alarm 450 for generating an alarm informing the replacement time of the gas supply container 210 receives a predetermined signal from the control unit 300 is added Is installed.

도 2를 참조하면, 가스공급용기(210)는 적어도 하나로 설치되되, 복수개로 설치되어 각각 4000cc이상의 반응가스를 저장할 수 있는 용량을 갖도록 형성될 수도 있고, 하나의 가스공급용기(210)로 설치되어 예를들어 4000cc이상의 용량을 갖게 형성하여 케이스(220) 내에 설치할 수도 있다.Referring to Figure 2, the gas supply vessel 210 is installed at least one, it may be formed to have a plurality to be installed to have a capacity for storing the reaction gas of more than 4000cc, respectively, it is installed as one gas supply vessel 210 For example, it may be formed to have a capacity of 4000cc or more and installed in the case 220.

다음은 본 발명의 가스공급장치의 작동 및 효과를 설명하도록 한다.Next will be described the operation and effect of the gas supply device of the present invention.

도 2를 참조하면, 소정의 용량, 예컨데 4000cc의 반응가스를 저장할 수 있는 용량을 갖는 각각의 가스공급용기(210)로 부터 어느 일측의 밸브(211)가 개방되면, 상기 반응가스는 공급라인(212)을 통해 상기에 언급된 챔버(110)내의 반응실(150)로 공급된다.Referring to FIG. 2, when one side valve 211 is opened from each gas supply container 210 having a predetermined capacity, for example, a capacity capable of storing 4000 cc of reaction gas, the reaction gas is supplied to a supply line ( Via 212 to the reaction chamber 150 in the chamber 110 mentioned above.

이때, 가스공급용기(210)에 설치되어 반응가스를 단속하는 밸브(211)와, 밸브 (211) 및 가스공급용기(210)사이에 연결설치된 공급라인(212) 연결부등에서 반응가스가 미량 누설될 경우, TMA등의 반응가스는 공기와 반응하여 스파크를 발생시킴과 동시에 연기가 발생한다.At this time, a small amount of reaction gas may leak from the valve 211 installed in the gas supply container 210 to control the reaction gas, and the supply line 212 connected to the valve 211 and the gas supply container 210. In this case, the reaction gas such as TMA reacts with air to generate sparks and at the same time smoke.

상기와 같이 연기가 발생한 경우, 누설감지기(230)는 이를 감지하여 제어부(300)로 신호를 전달시키고, 제어부(300)는 교체알림경보기(450)로 신호를 주어 반응가스의 누설을 알림과 동시에 즉시 공정을 중단하기 위해 전원부(500)로 부터의 전원을 차단하여 공정을 중단시킨다.When the smoke occurs as described above, the leak detector 230 detects this and delivers a signal to the control unit 300, the control unit 300 gives a signal to the replacement notification alarm 450 and at the same time notifying the leakage of the reaction gas In order to stop the process immediately, the power is cut off from the power supply unit 500 to stop the process.

따라서, 반응가스가 상기와 같은 부분에서 누설될 경우, 즉시 공정을 중단시켜, 제품수율 하락에 미치는 영향을 최소화 할 수 있다.Therefore, when the reaction gas leaks in the above part, the process can be stopped immediately, thereby minimizing the impact on product yield drop.

그리고, 상기와 같이 복수개로 설치된 가스공급용기(210)의 용량이 각각 4000cc정도의 용량을 갖고 있기 때문에 가스공급용기(210)를 자주 교체하지 않아도 되므로, 장기간 사용할 수 있다.In addition, since the capacity of the plurality of gas supply vessels 210 installed as described above each has a capacity of about 4000 cc, the gas supply vessel 210 does not need to be replaced frequently, so that it can be used for a long time.

이때, 복수개로 가스공급용기(210)를 설치한 경우, 어느 일측의 가스공급용기(210)의 반응가스가 줄어들 경우, 교체알림장치(700)가 이를 감지하여 작업자에게 알려준다.At this time, when a plurality of gas supply container 210 is installed, when the reaction gas of any one of the gas supply container 210 is reduced, the replacement notification device 700 detects this and informs the worker.

도 3을 참조하면, 가스공급용기(210) 내에 승/하강축(241)에 끼워져 반응가스수위에 따라 승/하강하는 마그네틱볼(242)은 가스공급용기(210) 내측 벽면 상/하측 기준위치, 즉, 상측은 A, 하측은 B위치에 설치된 마그네틱(243)을 감지함에 따라서 그 위치에서의 위치신호를 제어부로 전달시켜준다.Referring to FIG. 3, the magnetic ball 242 inserted into the up / down shaft 241 in the gas supply container 210 to move up / down according to the reaction gas level is located at an upper / lower reference position of the inner wall of the gas supply container 210. That is, as the upper side detects the magnetic 243 installed at the A position and the lower side B position, the position signal at the position is transmitted to the controller.

따라서, 일측의 가스공급용기(210)내에 저장된 반응가스의 수위가 A 위치까지 줄어든 경우, 수위감지기(230)는 그 위치신호를 제어부(300)로 보내주게 되고, 제어부(300)는 밸브구동부(470)를 통해 밸브(211)를 닫고, 그와 아울러 교체알림경보기(450)를 통해 알람을 발생시킴으로써 작업자가 가스공급용기(210)를 교체할 수 있도록 한다.Therefore, when the level of the reaction gas stored in the gas supply container 210 of one side is reduced to the A position, the water level detector 230 sends the position signal to the control unit 300, the control unit 300 is a valve drive unit ( Close the valve 211 through 470, and at the same time to generate an alarm through the replacement notification alarm 450 to enable the operator to replace the gas supply container 210.

그리고, 밸브구동부(470)는 타측의 가스공급용기(210)의 밸브(211)를 열어 챔버(110)로의 반응가스 공급이 끊기지 않도록 연속적으로 공급할 수 있게 한다.In addition, the valve driving unit 470 opens the valve 211 of the other gas supply container 210 to continuously supply the supply of the reaction gas to the chamber 110.

본 발명의 반도체 제조설비의 가스공급장치에 의하면, 4000cc의 반응가스 저장용량을 갖는 가스공급용기를 복수개로 설치하여, 반응실을 통해 챔버로 공급함으로써 적은 용량의 가스공급용기를 사용함으로써 자주 교체하는 공정상의 문제점을 해결할 수 있다. According to the gas supply apparatus of the semiconductor manufacturing equipment of the present invention, a plurality of gas supply vessels having a reactive gas storage capacity of 4000 cc are installed and frequently replaced by using a small capacity gas supply vessel by supplying them to the chamber through the reaction chamber. Process problems can be solved.                     

또한, 케이스 내에 반응가스의 누설을 감지할 수 있는 안전장치를 설치함으로써, 공정 진행시 또는 가스공급용기의 설치 오류시 반응가스가 누설되는 것을 즉시 감지하여 공정을 중단 시킴으로써, 화재로 인한 인적, 물적 피해를 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, by installing a safety device to detect the leakage of the reaction gas in the case, by stopping the process by immediately detecting the leakage of the reaction gas during the process progress or installation of the gas supply container, human and physical properties due to fire There is an effect that can prevent damage.

Claims (6)

유전체막 형성 공정이 진행되는 반응실을 갖는 적어도 하나의 챔버;At least one chamber having a reaction chamber in which the dielectric film forming process is performed; 상기 반응실로 소정의 반응가스를 공급하기 위해 설치된 공급라인과;A supply line installed to supply a predetermined reaction gas to the reaction chamber; 상기 공급라인과 착탈식으로 설치되되, 상기 챔버 외부에 설치되는 케이스;A case installed detachably with the supply line and installed outside the chamber; 상기 케이스 내에 설치되어 상기 공급라인과 연결되되, 소정 용량의 상기 반응가스가 저장되고, 상기 반응가스를 단속하는 밸브가 각각 설치된 복수개의 가스공급용기; 및A plurality of gas supply containers installed in the case and connected to the supply line, the reaction gas having a predetermined capacity stored therein, and valves intermittently regulating the reaction gas; And 상기 반응가스의 누설을 감지하여 상기 공정을 제어하는 안전장치를 포함하되,It includes a safety device for controlling the process by detecting the leakage of the reaction gas, 상기 안전장치는 상기 케이스 내에 설치되어 상기 반응가스의 누설을 감지하는 누설감지기와, 상기 누설감지기로부터 전기적 신호를 전달받아 상기 공정을 중지시키는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비용 가스공급장치.The safety device is installed in the case, the leak detector for detecting the leakage of the reaction gas and the gas supply device for semiconductor manufacturing equipment, characterized in that it comprises a control unit for receiving the electrical signal from the leak detector to stop the process . 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제어부는 경보기와 전기적으로 연결되되, 상기 경보기는 상기 제어부를 통해 상기 공정이 중단될 경우, 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전달받아 알람을 발생시키는 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비용 가스공급장치.The control unit is electrically connected to an alarm, the alarm is a gas supply device for a semiconductor manufacturing equipment, characterized in that when the process is interrupted through the control unit, receiving an electrical signal from the control unit to generate an alarm. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스공급용기는 교체알림수단을 더 구비하되, The gas supply container is further provided with a replacement notification means, 상기 교체알림수단은 상기 가스공급용기들 각각의 내부에 설치되어, 상기 가스공급용기들 각각에 저장된 액체상태의 상기 반응가스의 양을 감지하여, 상기 감지된 반응가스의 양을 상기 제어부로 전송하는 수위감지기와, 상기 제어부로부터 전기적 신호를 전달받아 상기 밸브를 닫는 밸브구동부를 구비하며,The replacement notification means is installed inside each of the gas supply vessels, and detects the amount of the reaction gas in the liquid state stored in each of the gas supply vessels, and transmits the detected amount of reaction gas to the controller It is provided with a water level detector, and a valve driving unit for receiving the electrical signal from the control unit to close the valve, 상기 제어부는 상기 반응가스의 양이 일정량으로 줄어들 경우에, 상기 밸브구동부로 전기적 신호를 전송하여 상기 반응가스의 양이 일정량으로 줄어든 상기 가스공급용기의 상기 밸브를 닫고, 상기 반응가스의 양이 일정량으로 줄어들지 않은 상기 가스공급용기의 상기 밸브를 개방하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비용 가스공급장치.When the amount of the reaction gas is reduced to a certain amount, the control unit transmits an electrical signal to the valve driving unit to close the valve of the gas supply container in which the amount of the reaction gas is reduced to a certain amount, and the amount of the reaction gas is a certain amount. Gas supply device for semiconductor manufacturing equipment, characterized in that for opening the valve of the gas supply vessel is not reduced. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제어부는 교체알림경보기와 전기적으로 연결되되, 상기 제어부로부터 상기 반응가스의 양이 일정량으로 줄어들은 경우에, 상기 교체알림경보기는 상게 제어부로부터 전기적 신호를 전송받아 상기 가스공급용기를 교체하기 위한 알람을 발생시키는 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비용 가스공급장치.The control unit is electrically connected to the replacement notification alarm, when the amount of the reaction gas is reduced by a certain amount from the control unit, the replacement notification alarm is an alarm for replacing the gas supply container by receiving an electrical signal from the controller. Gas supply device for semiconductor manufacturing equipment, characterized in that for generating. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스공급용기의 용량은 4000cc이상인 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비용 가스공급장치.The gas supply device for a semiconductor manufacturing equipment, characterized in that the capacity of the gas supply container is 4000cc or more.
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