KR100670004B1 - Ink jet printhead - Google Patents

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KR100670004B1
KR100670004B1 KR1020050016061A KR20050016061A KR100670004B1 KR 100670004 B1 KR100670004 B1 KR 100670004B1 KR 1020050016061 A KR1020050016061 A KR 1020050016061A KR 20050016061 A KR20050016061 A KR 20050016061A KR 100670004 B1 KR100670004 B1 KR 100670004B1
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박병하
하용웅
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삼성전자주식회사
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Abstract

잉크젯 프린트헤드가 개시된다. 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드는 에폭시 수지; 광 개시제; 및 용매를 포함하고, 상기 에폭시 수지는 다음 화학식으로 표현되고,An inkjet printhead is disclosed. An inkjet printhead according to the present invention comprises an epoxy resin; Photoinitiator; And a solvent, wherein the epoxy resin is represented by the following formula,

Figure 112005010277781-pat00001
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다작용성의 칼릭스[4]레조시나렌(calix[4]resocinarene)인 광 경화성 수지 조성물을 포함한다. 본 발명에 따르면, 경화에 따른 기계적 강도가 우수한 광 경화성 수지 조성물을 제조하고 이를 사용하여 정밀도가 향상된 잉크젯 프린트헤드를 제공할 수 있는 효과가 있다. And a photocurable resin composition which is a multifunctional calix [4] resocinarene. According to the present invention, there is an effect of providing an inkjet printhead with improved precision by preparing a photocurable resin composition having excellent mechanical strength due to curing and using the same.

에폭시, 광경화, 잉크젯 프린트헤드 Epoxy, Photocuring, Inkjet Printheads

Description

잉크젯 프린트헤드 {Ink jet printhead}Inkjet printheads {Ink jet printhead}

본 발명은 잉크젯 프린트헤드에 대한 것이다. 더욱 상세하게는 특정한 화학 구조를 갖는 에폭시 수지를 포함하여 광에 대한 감도, 내화학성과 내구성이 향상된 광 경화성 수지 조성물을 이용하여 정밀도와 내구성이 향상된 잉크젯 프린트 헤드에 대한 것이다. The present invention relates to an inkjet printhead. More particularly, the present invention relates to an inkjet print head having improved precision and durability by using a photocurable resin composition having improved sensitivity to light, chemical resistance, and durability, including an epoxy resin having a specific chemical structure.

잉크젯 프린터는 헤드의 잉크 토출 방법에 있어서, 압전체를 이용하여 잉크를 토출하는 피아조 방식, 및 발열체로 잉크를 순간 가열할 때 발생하는 기포를 이용해서 잉크를 토출하는 열전사 방식으로 구분할 수 있다. 최근에는 이들 중에서 소형 잉크젯 프린트 헤드의 제공이 용이한 열전사 방식의 잉크젯 프린터가 널리 이용되고 있다. An inkjet printer can be classified into a head ejection method, a piazo method for ejecting ink using a piezoelectric body, and a thermal transfer method for ejecting ink by using bubbles generated when the ink is momentarily heated by a heating element. In recent years, thermal transfer type inkjet printers in which small inkjet printheads are easily provided are widely used.

잉크젯 프린터에서 프린트 헤드는 잉크가 공급되는 메니폴드를 구비하고 그 표면에 히터 및 이를 보호하는 페시베이션층이 형성된 기판과 기판 상에 잉크 유로 및 잉크 챔버를 형성하는 유로판과 이 유로판 상에 형성되며 잉크 챔버에 대응하는 오리피스가 형성된 노즐판을 구비하여 형성되는 것이 일반적이다. 최근, 유로판과 노즐판을 단일층으로서 형성하는 제조 방법이 일반화 되고 있다. In an inkjet printer, a print head is formed on a substrate having a manifold to which ink is supplied and a heater and a passivation layer protecting the surface thereof, and a flow path plate forming an ink flow path and an ink chamber on the substrate, It is generally formed with a nozzle plate having an orifice corresponding to the ink chamber. In recent years, the manufacturing method which forms a flow path board and a nozzle board as a single layer has become common.

이러한 잉크젯 프린트헤드에서 유로판과 노즐판의 형성은 대개 반도체 제조 공정과 같이 기판 상에 포토리소그래피 기술을 적용하여 코팅된 감광성 수지에 패터닝을 하여 형성한다. In such an inkjet printhead, the flow path plate and the nozzle plate are usually formed by patterning a photosensitive resin coated by photolithography on a substrate as in a semiconductor manufacturing process.

포토리소그래피 기술을 적용하여 유로판과 노즐판을 형성하는 데 있어서 고도의 정밀성과 고도의 수율을 요구하기 때문에 유로판과 노즐판의 형성에 사용되는 코팅 조성물은 경화된 필름으로서 기판에 대한 접착력이 우수할 것이 요구되고, 또한 경화시 기계적 강도와 내구성이 우수하여야 하며, 패터닝시에 감광도와 해상도가 우수할 것이 요구된다. Since the application of photolithography technology requires high precision and high yield in forming the flow path plate and the nozzle plate, the coating composition used for the formation of the flow path plate and the nozzle plate is a cured film, which has excellent adhesion to the substrate. It is required to have excellent mechanical strength and durability at the time of curing, and excellent sensitivity and resolution at the time of patterning.

한편, 열전사 방식의 잉크젯 프린터는 히터로 잉크를 가열하여 그 내부에 기포를 발생시키고, 이에 의해서 잉크의 압력이 상승하게 되면 노즐판의 오리피스를 통해서 잉크가 토출되는 원리를 이용하므로 이 캐비테이션에 견딜 수 있을 정도로 충분한 내구성이 요구된다. 따라서 유로판과 노즐판에 적용될 수지는 부식성이 강한 잉크와 반응하지 않도록 내화학성 및 내부식성이 강할 것이 요구된다. On the other hand, thermal transfer inkjet printers withstand the cavitation because the ink is heated by a heater to generate bubbles therein, and when the ink pressure rises, ink is ejected through the orifice of the nozzle plate. Sufficient durability is required. Therefore, the resin to be applied to the flow path plate and the nozzle plate is required to have strong chemical resistance and corrosion resistance so as not to react with highly corrosive ink.

본 발명은 상기와 같은 요구에 부응하기 위해서 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 감도가 우수하고 내구성 및 내화학성이 향상된 광 반응성 수지 조성물을 제조하여 이를 이용함으로써 정교하고 신뢰도가 높으며 내구성이 우수한 잉크젯 프린트 헤드를 제공하고자 하는 것이다.  The present invention has been made to meet the above demands, the object of the present invention is to produce a photosensitive resin composition having excellent sensitivity and improved durability and chemical resistance, by using the fine, reliable and excellent inkjet print To provide the head.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드는 에폭시 수지; 광 개시제; 및 용매를 포함하고,Inkjet printhead according to the present invention for achieving the above object is an epoxy resin; Photoinitiator; And a solvent,

상기 에폭시 수지는 다음 화학식으로 표현되고,The epoxy resin is represented by the following formula,

Figure 112005010277781-pat00002
Figure 112005010277781-pat00002

다작용성의 칼릭스[4]레조시나렌(calix[4]resocinarene)인 광 경화성 수지 조성물을 포함한다. And a photocurable resin composition which is a multifunctional calix [4] resocinarene.

상기 광 경화성 수지 조성물은 실란 커플링제, 염료, 계면 활성제 중에서 선택되는 첨가제를 하나 이상 더 포함할 수 있다. The photocurable resin composition may further include at least one additive selected from a silane coupling agent, a dye, and a surfactant.

상기 에폭시 수지의 함량은 상기 광 경화성 수지 조성물에 대해서 60중량% 내지 80중량%의 범위 이내;The content of the epoxy resin is within the range of 60% by weight to 80% by weight relative to the photocurable resin composition;

상기 광 개시제의 함량은 상기 광 경화성 수지 조성물에 대해서 2중량% 내지 10중량%의 범위 이내; 및The content of the photoinitiator is within the range of 2% by weight to 10% by weight based on the photocurable resin composition; And

상기 용매의 함량은 상기 광 경화성 수지 조성물에 대해서 10중량% 내지 40중량%의 범위 이내;이다. The content of the solvent is within the range of 10% by weight to 40% by weight based on the photocurable resin composition.

상기 광 개시제는 주기율표 VA족 원소의 오늄염, 주기율표 VIA족 원소의 오늄염, 방향족 할로늄 염 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 방향족 착염 광 개시제인 것이 바람직하다. The photoinitiator is preferably an aromatic complex salt photoinitiator selected from the group consisting of an onium salt of a group VA element of the periodic table, an onium salt of an element of the group VIA of the periodic table, an aromatic halonium salt, and a mixture thereof.

상기 용매는 감마-부티로락톤(γ-butyrolactone), 싸이클로펜타논(Cyclopentanone), C1 -6 아세테이트, 테트라히드로퓨란, 자일렌 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 것이 바람직하다. The solvent is gamma-butyrolactone is preferably (γ-butyrolactone), cyclo pentanone (Cyclopentanone), C 1 -6 acetate, tetrahydrofuran, xylene, and selected from the group consisting of a mixture thereof.

이하 본 발명에 대해서 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물은 에폭시 수지와 광 개시제, 용매 및 선택적으로 첨가제를 더 포함한다. The photocurable resin composition according to the present invention further comprises an epoxy resin, a photoinitiator, a solvent, and optionally an additive.

에폭시 수지는 불안정한 옥실란 고리를 갖고 있으며, 이 옥실란 고리는 광라디칼에 의해 생성된 프로톤에 의해서 쉽게 고리가 열리며, 반응성이 높아서 에폭시 수지 분자간 중합 반응을 하게 된다. Epoxy resins have unstable oxirane rings, which are easily opened by protons produced by photoradicals, and have high reactivity to cause intermolecular polymerization of epoxy resins.

본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물은 상기 화학식 1을 갖는 다작용성 에폭시 화합물인 칼릭스[4]레조시나렌을 포함하는 것을 특징으로 한다. The photocurable resin composition according to the present invention is characterized in that it comprises calix [4] resornarene which is a multifunctional epoxy compound having the formula (1).

에폭시 수지는 상술한 바와 같이 분자간 중합 반응을 통해서 가교결합을 하게 된다. 가교 결합에 대해서는 다음 반응식 1에 나타내었다. The epoxy resin is crosslinked through the intermolecular polymerization reaction as described above. Crosslinking is shown in Scheme 1 below.

Figure 112005010277781-pat00003
Figure 112005010277781-pat00003

상기 반응식 1에서 광 개시제로 부터 발생한 프로톤에 의해서 옥실란 고리가 깨지고, 이에 의해서 생긴 하이드록시기와 자유 전자를 갖는 산소가 서로 분자간에 결합을 하면서 가교를 형성하면서 경화하게 된다. In the reaction scheme 1, the oxirane ring is broken by the proton generated from the photoinitiator, and the hydroxy group and the oxygen having free electrons thus formed are cured while forming crosslinks while binding to each other between molecules.

특히, 본 발명에 사용되는 칼릭스[4]레조시나렌은 8개의 에폭시기를 갖고 있으며, 본 발명자의 실험에 따르면 에폭시기가 8개인 에폭시 수지가 경화성, 반응 속도, 물성 등을 고려할 때 가장 적절한 것으로 밝혀졌다. In particular, Calix [4] resornarene used in the present invention has eight epoxy groups, and according to the experiments of the present inventors, it is found that the epoxy resin having eight epoxy groups is most suitable when considering the curability, reaction rate, and physical properties. lost.

상기 화학식 1의 에폭시 수지는 원형에 가까운 구조를 하고 있기 때문에 선형의 에폭시 수지에 비해서 가교 반응이 더 용이하게 일어날 수 있다. Since the epoxy resin of Formula 1 has a structure close to a circular shape, a crosslinking reaction may occur more easily than a linear epoxy resin.

또한, 수지 조성물을 제조한 후 이를 잉크젯 프린트 헤드의 유로판과 노즐판의 제조에 사용할 경우, 노광 전후 코팅된 조성물의 경화 전후 두께 변화가 없이 일정하기 때문에 잉크젯 프린트헤드의 유로판과 노즐판의 제조시 고도의 정밀성과 높은 신뢰도를 유지할 수 있는 장점이 있다. In addition, when the resin composition is prepared and then used in the production of the flow path plate and the nozzle plate of the inkjet print head, the flow path plate and the nozzle plate of the inkjet print head are uniform because the thickness of the coated composition is constant without before and after curing. It has the advantage of maintaining high precision and high reliability.

본 발명에 따른 에폭시 수지의 함량은 광 경화성 수지 조성물 전체에 대해서 60중량% 내지 80중량%의 범위 이내인 것이 바람직하다. 에폭시 수지의 함량이 60중량%보다 작으면 점도가 낮아서 잉크젯 프린터헤드에 사용시 접착력이 떨어지게 되고, 에폭시 수지의 함량이 80중량%보다 많으면 가교 반응이 과해져서 부서짐 현상이 생길 수 있다. The content of the epoxy resin according to the present invention is preferably within the range of 60% by weight to 80% by weight based on the entire photocurable resin composition. When the content of the epoxy resin is less than 60% by weight, the viscosity is low, the adhesive strength is lowered when used in the inkjet printhead, and when the content of the epoxy resin is more than 80% by weight, the crosslinking reaction may be excessively broken may occur.

광 개시제는 화학선에 노출되면 이온이나 자유 라디칼을 생성함으로써 중합 반응을 개시할 수 있다. The photoinitiator can initiate the polymerization reaction by generating ions or free radicals when exposed to actinic radiation.

본 발명에 따른 광 개시제는 주기율표 VA족 원소의 오늄염, 설포늄염과 같은 주기율표 VIA족 원소의 오늄염, 방향족 요도늄염과 같은 방향족 할로늄 염이나 이들의 혼합물인 방향족 착염 광 개시제를 사용할 수 있다. The photoinitiator according to the present invention may use an aromatic complex salt photoinitiator which is an onium salt of a periodic table group element, an onium salt of a periodic table group element such as a sulfonium salt, an aromatic halonium salt such as an aromatic iodonium salt, or a mixture thereof.

설포늄염의 구체적인 예를 들면, 트리페닐설포늄 테트라플루오로보레이트(triphenylsulfonium tetrafluoroborate), 메틸디페닐설포늄 테트라플루오로보레이트(methyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate), 디메틸디페닐설포늄 헥사플루오로포스페이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오로포스페이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오로안티모네이트(triphenylsulfonium hexafluoroantimonate), 디페닐나프틸설포늄 헥사플루오로아르세네이트(dipenylnaphthylsulfonium hexafluoroarsenate), 트리톨리설포늄 헥사플루오로포스페이트(tritolysulfonium hexafluorophosphate), 아니실디페닐설포늄 헥사플루오로안티모네이트(anisyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate), 4-부톡시페닐디페닐설포늄 테트라플루오로보레이트, 4-클로로페닐디페닐설포늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리스(4-페녹시페닐)설포늄 헥사플루오로포스페이트, 디(4-에톡시페닐)메틸설포늄 헥사플루오로아르세네이트, 4-아세톡시-페닐디페닐설포늄 테트라플루오로보레이트, 트리스(4-티오메톡시페닐)설포늄 헥사플루오로포스페이트, 디(메톡시설포닐페닐)메틸설포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디(메톡시나프틸)메틸설포늄 테트라플루오로보레이트, 디(카르보메톡시페닐)메틸설포늄 헥사플루오로포스페이트, 4-아세트아미도페닐디페닐설포늄 테트라플루오로보레이트, 디메틸나프틸설포늄 헥사플루오로포스페이트, 트리플루오로메틸디페닐설포늄 테트라플루오로보레이트, 메틸(n-메틸페노티아지닐)설포늄 헥사플루오로안티모네이트, 페닐메틸벤질설포늄 헥사플루오로포스페이트 및 이와 동종의 화합물이 있다. Specific examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium tetrafluoroborate, methyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, dimethyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, and triphenylsulfonium hexa Fluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenylnaphthylsulfonium hexafluoroarsenate, tritolysulfonium hexafluorophosphate, tritolysulfonium hexafluorodifonate Phenylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-butoxyphenyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (4-phenoxyphenyl Sulfonium hexafluorophosphate , Di (4-ethoxyphenyl) methylsulfonium hexafluoroarsenate, 4-acetoxy-phenyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, tris (4-thiomethoxyphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, Di (methoxysulfonylphenyl) methylsulfonium hexafluoroantimonate, di (methoxynaphthyl) methylsulfonium tetrafluoroborate, di (carbomethoxyphenyl) methylsulfonium hexafluorophosphate, 4-acet Amidophenyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, dimethylnaphthylsulfonium hexafluorophosphate, trifluoromethyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, methyl (n-methylphenothiazinyl) sulfonium hexafluoroantimo Nate, phenylmethylbenzylsulfonium hexafluorophosphate and the like compounds.

방향족 요도늄염의 예를 들면, 디페닐요도늄 테트라플루오로보레이트, 디(4-메틸페닐)요도늄 테트라플루오로보레이트, 페닐-4-메틸페닐요도늄 테트라플루오로보레이트, 디(4-헵틸페닐)요도늄 테트라플루오로보레이트, 디(3-니트로페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(4-클로로페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(나프틸)요도늄 테트라플루오로보레이트, 디페닐요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(4-메틸페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요도늄 헥사플루오로아르세네이트, 디(4-페녹시페닐)요도늄 테트라플루오로보레이트, 페닐-2-티에닐요도늄 헥사플루오로포스페이트, 3,5-디메틸피라졸릴-4-페닐요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요도늄 헥사플루오로안티모네이트, 2,2'-디페닐요도늄 테트라플루오로보레이 트, 디(2,4-디클로로페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(4-브로모페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(4-메톡시페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(3-카르복시페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(3-메톡시카르보닐페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(3-메톡시설포닐페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(4-아세트아미도페닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트, 디(2-벤조에티에닐)요도늄 헥사플루오로포스페이트 및 이와 동종의 화합물이 있다. Examples of aromatic iodonium salts include diphenyliodonium tetrafluoroborate, di (4-methylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, phenyl-4-methylphenyliodonium tetrafluoroborate, di (4-heptylphenyl) uredo Tetrafluoroborate, Di (3-nitrophenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-chlorophenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (naphthyl) iodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium Hexafluorophosphate, di (4-methylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, diphenylyodonium hexafluoroarsenate, di (4-phenoxyphenyl) iodonium tetrafluoroborate, phenyl-2-thienyl Iodonium hexafluorophosphate, 3,5-dimethylpyrazolyl-4-phenyl iodonium hexafluorophosphate, diphenylyodonium hexafluoroantimonate, 2,2'-diphenyliodonium tetrafluoroborate , Di (2,4-dichloro Rophenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-bromophenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-methoxyphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (3-carboxyphenyl) iodonium hexa Fluorophosphate, di (3-methoxycarbonylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (3-methoxysulfonylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-acetamidophenyl) iodonium hexafluoro Phosphate, di (2-benzoethenyl) iodonium hexafluorophosphate, and the like.

이 외에도 벤조페논 및 이의 유도체, 티오크산톤(thioxanthone)과 같은 화합물을 본 발명에 따른 광 개시제로 사용할 수 있다. In addition, compounds such as benzophenone and derivatives thereof, thioxanthone, and the like can be used as the photoinitiator according to the present invention.

이러한 광 개시제는 중합에 사용될 광의 파장에 따라서 최적의 중합반응을 제공할 수 있는 개시제를 선택할 수 있다. Such photoinitiators may select an initiator capable of providing an optimal polymerization reaction depending on the wavelength of light to be used for the polymerization.

특히, 감도와 콘트라스트의 면에서 더 좋은 물성을 나타낼 수 있는 트리플레이트(triflate, trifluoromethanesulfonate,CF3SO3 -)계 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 트리플레이트계 광 개시제로는 다음 화학식 2 및 화학식 3과 같은 트리안트라센설포늄(triantrancenesulfonium) 트리플레이트가 있다. It is preferable to use an initiator system, particularly, sensitivity and triflate can exhibit better properties in terms of contrast (triflate, trifluoromethanesulfonate, CF 3 SO 3). Such triflate-based photoinitiators include triantrancenesulfonium triflate such as the following Chemical Formulas 2 and 3.

Figure 112005010277781-pat00004
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Figure 112005010277781-pat00005
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이러한 광 개시제는 본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물에 대해서 2중량% 내지 10중량%의 범위 이내인 것이 바람직하다. It is preferable that such a photoinitiator exists in the range of 2 weight%-10 weight% with respect to the photocurable resin composition which concerns on this invention.

본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물에 사용되는 용매는 광에 대해서 반응하지 않는 용매이어야 하며, 에폭시 수지와 개시제가 용해될 수 있는 성질을 갖고 있어야 한다. The solvent used in the photocurable resin composition according to the present invention should be a solvent that does not react to light, and should have properties such that the epoxy resin and the initiator can be dissolved.

본 발명에 사용할 수 있는 용매는 감마-부티로락톤(γ-butyrolactone), 싸이클로펜타논(Cyclopentanone), C1-6 아세테이트, 테트라히드로퓨란, 자일렌 또는 이들의 혼합물 중에서 선택할 수 있다. 용매의 함량은 수지 조성물에 대해서 10중량% 내지 40중량%의 범위 이내인 것이 바람직하다. 용매의 함량은 용매에 용해될 수지와 개시제의 함량 비율에 따라서 정해진다. The solvent that can be used in the present invention may be selected from gamma-butyrolactone, cyclopentanone, C 1-6 acetate, tetrahydrofuran, xylene or mixtures thereof. The content of the solvent is preferably within the range of 10% by weight to 40% by weight with respect to the resin composition. The content of the solvent is determined according to the content ratio of the resin and the initiator to be dissolved in the solvent.

본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물은 상술한 성분 외에도 실란 커플링제, 염료, 계면 활성제 등과 같은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이 외에도, 황산바륨, 탈크, 유리 기포와 같은 충전제, 실리카와 같은 점도 개질제를 포함할 수도 있으며, 그 외에 본 발명이 속하는 분야에서 광 경화성 수지 조성물의 물성을 개선하기 위해서 첨가될 수 있는 첨가제를 포함할 수 있다. The photocurable resin composition according to the present invention may further include additives such as a silane coupling agent, a dye, a surfactant, and the like in addition to the above components. In addition, it may include fillers such as barium sulfate, talc, glass bubbles, viscosity modifiers such as silica, and other additives that may be added to improve physical properties of the photocurable resin composition in the field of the present invention. can do.

본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물의 제조 및 이를 잉크젯 프린트 헤드에 적용하는 구체적인 방법은 다음과 같다. Preparation of the photocurable resin composition according to the present invention and a specific method for applying the same to an inkjet print head are as follows.

먼저, 상기한 에폭시 수지의 적정량과 광 개시제의 적정량을 적정 용매에 용해 시킨 후 첨가제를 선택적으로 첨가하고 균질하게 혼합하여 광 경화성 수지 조성물을 제조한다. First, the appropriate amount of the epoxy resin and the appropriate amount of the photoinitiator are dissolved in a suitable solvent, and then additives are selectively added and homogeneously mixed to prepare a photocurable resin composition.

그 다음, 실리콘 웨이퍼 등을 사용하여 기판을 제조하고, 이 기판 상에 제조된 광 경화성 수지 조성물을 코팅한다. Then, a substrate is prepared using a silicon wafer or the like, and the photocurable resin composition prepared on the substrate is coated.

잉크 챔버와 채널을 형성하기 위해서 포토리소그래피를 이용해서 비노광된 부분을 제거하여 잉크 챔버와 채널이 형성된 유로층을 형성한다. In order to form an ink chamber and a channel, an unexposed portion is removed using photolithography to form a flow path layer in which the ink chamber and the channel are formed.

그 다음, 이 유로층 상부에 노즐을 포함하는 노즐층을 형성하기 위해서 광 경화성 수지 조성물을 다시 코팅한다. 오리피스(또는 노즐홀)를 형성하기 위해서 포토리소그래피를 이용하여 비노광된 부분을 제거한다. Then, the photocurable resin composition is again coated to form a nozzle layer including a nozzle on the flow path layer. Photolithography is used to remove the unexposed portions to form an orifice (or nozzle hole).

그 다음, 잉크 비아를 형성하기 위해서 챔버층까지 실리콘 웨이퍼를 통해서 드라이 에칭 공정을 행한다. Then, a dry etching process is performed through the silicon wafer to the chamber layer to form ink vias.

상술한 공정을 통해서 잉크젯 프린트헤드를 제조한다. An inkjet printhead is manufactured through the above process.

본 발명에 따른 잉크젯 프린트헤드는 잉크젯 헤드의 유로층을 칼릭스[4]레조시나렌 구조의 에폭시 수지를 포함하는 광 경화성 수지 조성물을 이용하여 포토리소그래피 공정을 통해 광 경화 반응으로 형성되므로, 잉크젯 프린트헤드의 유로 및 노즐을 정밀하게 형성할 수 있고 기계적 강도가 강한 효과가 있다. 또한, 본 발명에 사용되는 광 경화성 수지 조성물은 우수한 내화학성이 보유하므로 잉크와의 접촉에 의해서 부식되지 않는 효과가 있다. The inkjet printhead according to the present invention is formed by a photocuring reaction through a photolithography process using a photocurable resin composition containing an epoxy resin of a Calix [4] resornarene structure in the flow path layer of the inkjet head. The flow path and the nozzle of the head can be formed precisely, and the mechanical strength is strong. In addition, since the photocurable resin composition used in the present invention has excellent chemical resistance, there is an effect that it does not corrode by contact with ink.

또한 노즐판의 오리피스가 잉크가 토출되는 방향을 따라서 외부로 접하는 부분의 직경이 잉크 챔버 부분의 직경보다 좁도록 구비되어야 하는데, 본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물을 사용하여 제조하는 경우 경사면이 매끄럽고 효율적으로 제조되었다. In addition, the orifice of the nozzle plate should be provided such that the diameter of the portion in contact with the outside along the direction in which the ink is discharged is narrower than the diameter of the ink chamber portion, the slanted surface is smooth and efficient when manufactured using the photocurable resin composition according to the present invention. Was prepared.

상술한 바와 같은 본 발명에 따른 광 경화성 수지 조성물은 감도가 우수하고 내구성 및 내화학성이 우수하기 때문에 이를 이용하여 내구성 및 정밀도가 향상되고 신뢰도가 높은 잉크젯 프린트헤드를 제조할 수 있는 효과가 있다. Since the photocurable resin composition according to the present invention as described above is excellent in sensitivity and excellent in durability and chemical resistance, there is an effect of improving the durability and precision and manufacturing an inkjet printhead using high reliability.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.  While the above has been shown and described with respect to preferred embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the specific embodiments described above, it is usually in the technical field to which the invention belongs without departing from the spirit of the invention claimed in the claims. Various modifications may be made by those skilled in the art, and these modifications should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention.

Claims (5)

에폭시 수지;Epoxy resins; 광 개시제; 및 Photoinitiator; And 용매를 포함하고,Containing a solvent, 상기 에폭시 수지는 다음 화학식으로 표현되고,The epoxy resin is represented by the following formula,
Figure 112005010277781-pat00006
Figure 112005010277781-pat00006
다작용성의 칼릭스[4]레조시나렌(calix[4]resocinarene)인 광 경화성 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린트헤드.An inkjet printhead comprising a photocurable resin composition which is a multifunctional calix [4] resocinarene.
제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 광 경화성 수지 조성물은 실란 커플링제, 염료, 계면 활성제 중에서 선택되는 첨가제를 하나 이상 더 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린트헤드. The photocurable resin composition further comprises at least one additive selected from a silane coupling agent, a dye, and a surfactant. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 에폭시 수지의 함량은 상기 광 경화성 수지 조성물에 대해서 60중량% 내지 80중량%의 범위 이내;The content of the epoxy resin is within the range of 60% by weight to 80% by weight relative to the photocurable resin composition; 상기 광 개시제의 함량은 상기 광 경화성 수지 조성물에 대해서 2중량% 내지 10중량%의 범위 이내; 및The content of the photoinitiator is within the range of 2% by weight to 10% by weight based on the photocurable resin composition; And 상기 용매의 함량은 상기 광 경화성 수지 조성물에 대해서 10중량% 내지 40중량%의 범위 이내;인 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린트헤드.The content of the solvent is within the range of 10% by weight to 40% by weight relative to the photocurable resin composition. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 광 개시제는 주기율표 VA족 원소의 오늄염, 주기율표 VIA족 원소의 오늄염, 방향족 할로늄 염 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 방향족 착염 광 개시제인 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린트헤드.And the photoinitiator is an aromatic complex salt photoinitiator selected from the group consisting of onium salts of group VA elements of the periodic table, onium salts of group VIA elements of the periodic table, aromatic halonium salts and mixtures thereof. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 용매는 감마-부티로락톤(γ-butyrolactone), 싸이클로펜타논(Cyclopentanone), C1 -6 아세테이트, 테트라히드로퓨란, 자일렌 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린트헤드.The solvent is gamma-jet printhead characterized in that the butyrolactone (γ-butyrolactone), cyclo pentanone (Cyclopentanone), C 1 -6 acetate, tetrahydrofuran, xylene, and mixtures thereof selected from the group consisting of .
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